JP2001221739A - 透過率測定装置 - Google Patents
透過率測定装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エキシマレーザを光源として硝子部品の透過
率を高精度に測定することができる透過率測定装置を得
ること。 【解決手段】 エキシマレーザからのレーザ光を信号光
と参照光とに分割する光分割手段と、該信号光の光路中
に被測定物を挿脱可能に設けた挿脱手段と、参照光を測
定する測定手段Ｆと、被測定物を光路中に配置したとき
の透過光及び被測定物を光路中より取り出したときの信
号光より該参照光の偏光度と同じ偏光度とする偏光手段
と該偏光手段を有した光束の光量を測定する測定手段Ｐ
とを有し、該測定手段Ｆと測定手段Ｐから得られる信号
を用いて、該被測定物の透過率を測定していること。
率を高精度に測定することができる透過率測定装置を得
ること。 【解決手段】 エキシマレーザからのレーザ光を信号光
と参照光とに分割する光分割手段と、該信号光の光路中
に被測定物を挿脱可能に設けた挿脱手段と、参照光を測
定する測定手段Ｆと、被測定物を光路中に配置したとき
の透過光及び被測定物を光路中より取り出したときの信
号光より該参照光の偏光度と同じ偏光度とする偏光手段
と該偏光手段を有した光束の光量を測定する測定手段Ｐ
とを有し、該測定手段Ｆと測定手段Ｐから得られる信号
を用いて、該被測定物の透過率を測定していること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透過率測定装置に関
し、エキシマレーザ等の短波長のパルス光を放射するレ
ーザを光源として用い、石英や螢石等の硝材の透過率を
測定する際に好適なものである。
し、エキシマレーザ等の短波長のパルス光を放射するレ
ーザを光源として用い、石英や螢石等の硝材の透過率を
測定する際に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＬＳＩなどの集積回路の高集積化
に伴い、集積回路の製造装置として１μｍ以下の微細パ
ターンを正確にウエハ上に形成することができる高解像
度の露光装置が使用されている。また、露光装置で形成
されるパターン像の解像線幅を更に細かくするために、
遠紫外域で出力強度の大きな光を放射するエキシマレー
ザを露光用光源として搭載した露光装置の開発も盛んに
行なわれている。このような露光装置に使用される硝子
やミラー等の光学部品のうち、屈折部材としては、高透
過率で且つ長時間の露光に対しても透過率の低下の少な
い耐紫外線性のある光学部品が要求されている。
に伴い、集積回路の製造装置として１μｍ以下の微細パ
ターンを正確にウエハ上に形成することができる高解像
度の露光装置が使用されている。また、露光装置で形成
されるパターン像の解像線幅を更に細かくするために、
遠紫外域で出力強度の大きな光を放射するエキシマレー
ザを露光用光源として搭載した露光装置の開発も盛んに
行なわれている。このような露光装置に使用される硝子
やミラー等の光学部品のうち、屈折部材としては、高透
過率で且つ長時間の露光に対しても透過率の低下の少な
い耐紫外線性のある光学部品が要求されている。
【０００３】こうした光学部品（硝材）の透過率の測定
方法は大きく分けて以下の２通りの方式がある。 （ア−１）レーザ照射中の透過率を測定する方式。 (ア-1-1)エキシマレーザを照射中にエキシマレーザに非
常に近い波長の光をプローブ光としてレーザの入射角度
とは別の角度から照射し、硝材への入射前と入射後のプ
ローブ光強度を測定することでエキシマレーザ照射中の
透過率変動を計測する方式。 (ア-1-2)エキシマレーザを光源として硝材への入射前と
透過後のエキシマレーザ光の光量を計測することで、硝
材の透過率を測定する方式。 （ア−２）長時間レーザ照射する前後の透過率を分光高
度計で測定し比較する方式。
方法は大きく分けて以下の２通りの方式がある。 （ア−１）レーザ照射中の透過率を測定する方式。 (ア-1-1)エキシマレーザを照射中にエキシマレーザに非
常に近い波長の光をプローブ光としてレーザの入射角度
とは別の角度から照射し、硝材への入射前と入射後のプ
ローブ光強度を測定することでエキシマレーザ照射中の
透過率変動を計測する方式。 (ア-1-2)エキシマレーザを光源として硝材への入射前と
透過後のエキシマレーザ光の光量を計測することで、硝
材の透過率を測定する方式。 （ア−２）長時間レーザ照射する前後の透過率を分光高
度計で測定し比較する方式。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】先に述べた方式に於い
て、（ア−２）の方式ではレーザ照射中の透過率変化を
分析することができない。また、(ア-1-1)の方式の場
合、エキシマレーザ光の波長に非常に近い波長をプロー
ブ光としてはいるもののエキシマレーザの波長に対する
特性とは完全に等しいわけではないこと、また、レーザ
の入射角度・位置における硝子部品の表面特性・内部特
性を分析することはできない。
て、（ア−２）の方式ではレーザ照射中の透過率変化を
分析することができない。また、(ア-1-1)の方式の場
合、エキシマレーザ光の波長に非常に近い波長をプロー
ブ光としてはいるもののエキシマレーザの波長に対する
特性とは完全に等しいわけではないこと、また、レーザ
の入射角度・位置における硝子部品の表面特性・内部特
性を分析することはできない。
【０００５】(ア-1-2)の方式に関しては、入射前のレー
ザ光量を計測するために、光路中にハーフミラーを設
け、レーザ光を参照光と露光光に分離する。このハーフ
ミラーの反射率（透過率）は、露光光のＰ偏光成分とＳ
偏光成分に対して異なった値を示す。従って、ハーフミ
ラーに入射する露光光の偏光状態が時々刻々と変化する
場合には、硝材へ入射前のレーザ光光量を計測する受光
素子に入射する光量とハーフミラーにより分離した露光
光の光量の比が変動することになり、受光素子で正確に
露光量を計測することができない。また、同様に硝材か
らの透過光光量に関しても正確に計測することはできな
い。
ザ光量を計測するために、光路中にハーフミラーを設
け、レーザ光を参照光と露光光に分離する。このハーフ
ミラーの反射率（透過率）は、露光光のＰ偏光成分とＳ
偏光成分に対して異なった値を示す。従って、ハーフミ
ラーに入射する露光光の偏光状態が時々刻々と変化する
場合には、硝材へ入射前のレーザ光光量を計測する受光
素子に入射する光量とハーフミラーにより分離した露光
光の光量の比が変動することになり、受光素子で正確に
露光量を計測することができない。また、同様に硝材か
らの透過光光量に関しても正確に計測することはできな
い。
【０００６】本発明はエキシマレーザを光源として、光
学部材の透過率を高精度に測定することができる透過率
測定装置の提供を目的とする。
学部材の透過率を高精度に測定することができる透過率
測定装置の提供を目的とする。
【０００７】この他本発明は、エキシマレーザ装置を光
源とし、偏光度のばらつきの影響を受けることなく、光
学部材の透過率を高精度に測定することができる透過率
測定装置の提供を目的とする。
源とし、偏光度のばらつきの影響を受けることなく、光
学部材の透過率を高精度に測定することができる透過率
測定装置の提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の透過率
測定装置は、エキシマレーザからのレーザ光を信号光と
参照光とに分割する光分割手段と、該信号光の光路中に
被測定物を挿脱可能に設けた挿脱手段と、参照光を測定
する測定手段Ｆと、被測定物を光路中に配置したときの
透過光及び被測定物を光路中より取り出したときの信号
光より該参照光の偏光度と同じ偏光度とする偏光手段と
該偏光手段を有した光束の光量を測定する測定手段Ｐと
を有し、該測定手段Ｆと測定手段Ｐから得られる信号を
用いて、該被測定物の透過率を測定していることを特徴
としている。
測定装置は、エキシマレーザからのレーザ光を信号光と
参照光とに分割する光分割手段と、該信号光の光路中に
被測定物を挿脱可能に設けた挿脱手段と、参照光を測定
する測定手段Ｆと、被測定物を光路中に配置したときの
透過光及び被測定物を光路中より取り出したときの信号
光より該参照光の偏光度と同じ偏光度とする偏光手段と
該偏光手段を有した光束の光量を測定する測定手段Ｐと
を有し、該測定手段Ｆと測定手段Ｐから得られる信号を
用いて、該被測定物の透過率を測定していることを特徴
としている。
【０００９】請求項２の発明は請求項１の発明におい
て、前記測定手段Ｐは、偏光子を使用することで、測定
手段Ｆと同じ偏光度のレーザ光の光量を受光することを
特徴としている。
て、前記測定手段Ｐは、偏光子を使用することで、測定
手段Ｆと同じ偏光度のレーザ光の光量を受光することを
特徴としている。
【００１０】請求項３の発明は請求項１の発明におい
て、前記測定手段Ｐは、ローションプリズムを使用する
ことで被測定物からの光束をＰ偏光とＳ偏光に分離し、
各偏光を２個の受光手段で測定し、前記測定手段Ｆと同
じ偏光度で測定し、該２個の受光手段の出力から被測定
物の透過光量を算出することを特徴としている。
て、前記測定手段Ｐは、ローションプリズムを使用する
ことで被測定物からの光束をＰ偏光とＳ偏光に分離し、
各偏光を２個の受光手段で測定し、前記測定手段Ｆと同
じ偏光度で測定し、該２個の受光手段の出力から被測定
物の透過光量を算出することを特徴としている。
【００１１】請求項４の発明は請求項１の発明におい
て、前記測定手段Ｐは、被測定物からの光束に対し入射
角がブリュースタ角となる１個のビームスプリッタを配
置することで、一方の偏光のみの光束を反射させ、この
ビームスプリッタの反射光と透過光をもとに、ビームス
プリッタへのＰ偏光光量、Ｓ偏光光量を測定すること
で、前記測定手段Ｆへの入射するレーザの偏光度と同じ
偏光度のレーザ光の光量を算出することを特徴としてい
る。
て、前記測定手段Ｐは、被測定物からの光束に対し入射
角がブリュースタ角となる１個のビームスプリッタを配
置することで、一方の偏光のみの光束を反射させ、この
ビームスプリッタの反射光と透過光をもとに、ビームス
プリッタへのＰ偏光光量、Ｓ偏光光量を測定すること
で、前記測定手段Ｆへの入射するレーザの偏光度と同じ
偏光度のレーザ光の光量を算出することを特徴としてい
る。
【００１２】請求項５の発明は請求項１の発明におい
て、前記測定手段Ｐは、被測定物からの光束に対して入
射角がブリュースタ角となる２個のビームスプリッタを
配置することで、それぞれがＳ偏光、Ｐ偏光のみを反射
させ、２個のビームスプリッタからの反射光強度を測定
する測定手段を持ち、その測定手段からの結果を元に前
記測定手段Ｆへの入射するレーザの偏光度と同じ偏光度
のレーザ光の光量を算出することを特徴としている。
て、前記測定手段Ｐは、被測定物からの光束に対して入
射角がブリュースタ角となる２個のビームスプリッタを
配置することで、それぞれがＳ偏光、Ｐ偏光のみを反射
させ、２個のビームスプリッタからの反射光強度を測定
する測定手段を持ち、その測定手段からの結果を元に前
記測定手段Ｆへの入射するレーザの偏光度と同じ偏光度
のレーザ光の光量を算出することを特徴としている。
【００１３】
【発明の実施の形態】［実施形態１］図１は本発明の透
過率測定装置の実施形態１の構成を示す概略図である。
図において両矢印はＳ偏光を示し、Ｏ印はＰ偏光を示し
ている。図１において、エキシマレーザ等のパルス光を
放射する光源１からの光束は光分割手段としてのハーフ
ミラー２で透過光と反射光の２つの光束に分割され、透
過光はステージ（挿脱手段）３上に固定された硝材（被
測定物）４を透過する。ハーフミラー２により分割され
た参照光としての反射光束は、Ｆセンサ８（測定手段
Ｆ）で受光される。一方、硝材４を透過した信号光とし
てのレーザ光は偏光子であるグラムトムソンプリズム５
を透過する。このとき、グラムトムソンプリズム５は透
過光がハーフミラー２での反射光と同じ偏光度となるよ
うに調整している。これにより、先に分離した偏光成分
と同偏光成分のみがグラムトムソンプリズム５を透過
し、Ｐセンサ７（測定手段Ｐ）で受光される。レーザ制
御系１０１は所望の露光量に応じてトリガー信号２０１
と放電電圧信号２０２をレーザ１に入力することによ
り、レーザ１からのパルスエネルギ、及び、発光間隔を
制御する。レーザ制御系１０１はトリガー信号２０１や
放電電圧信号２０２を生成している。これらを生成する
際には、露光量演算器１０３からの照度モニター信号２
０３やステージ駆動制御系１０２からのステージの現在
位置信号，主制御系１０４からの履歴情報などがパラメ
ータとして用いられている。
過率測定装置の実施形態１の構成を示す概略図である。
図において両矢印はＳ偏光を示し、Ｏ印はＰ偏光を示し
ている。図１において、エキシマレーザ等のパルス光を
放射する光源１からの光束は光分割手段としてのハーフ
ミラー２で透過光と反射光の２つの光束に分割され、透
過光はステージ（挿脱手段）３上に固定された硝材（被
測定物）４を透過する。ハーフミラー２により分割され
た参照光としての反射光束は、Ｆセンサ８（測定手段
Ｆ）で受光される。一方、硝材４を透過した信号光とし
てのレーザ光は偏光子であるグラムトムソンプリズム５
を透過する。このとき、グラムトムソンプリズム５は透
過光がハーフミラー２での反射光と同じ偏光度となるよ
うに調整している。これにより、先に分離した偏光成分
と同偏光成分のみがグラムトムソンプリズム５を透過
し、Ｐセンサ７（測定手段Ｐ）で受光される。レーザ制
御系１０１は所望の露光量に応じてトリガー信号２０１
と放電電圧信号２０２をレーザ１に入力することによ
り、レーザ１からのパルスエネルギ、及び、発光間隔を
制御する。レーザ制御系１０１はトリガー信号２０１や
放電電圧信号２０２を生成している。これらを生成する
際には、露光量演算器１０３からの照度モニター信号２
０３やステージ駆動制御系１０２からのステージの現在
位置信号，主制御系１０４からの履歴情報などがパラメ
ータとして用いられている。
【００１４】また、所望の露光量は入力装置１０５によ
り入力され、Ｆセンサ８、Ｐセンサ７から得られ、算出
された結果、及び、各種パラメータの経過は表示部１０
６により表示している。
り入力され、Ｆセンサ８、Ｐセンサ７から得られ、算出
された結果、及び、各種パラメータの経過は表示部１０
６により表示している。
【００１５】硝材４の透過率Ｔは硝材４を光路中に入れ
たときと入れないときのＰセンサ７からの出力を各々Ｉ
R1，ＩR0、硝材４を光路中に入れたときと入れないとき
のＦセンサ８からの出力を各々ＩF1，ＩF0としたとき、 Ｔ＝（ＩR1／ＩR0）／（ＩF0／ＩF1） より求めている。
たときと入れないときのＰセンサ７からの出力を各々Ｉ
R1，ＩR0、硝材４を光路中に入れたときと入れないとき
のＦセンサ８からの出力を各々ＩF1，ＩF0としたとき、 Ｔ＝（ＩR1／ＩR0）／（ＩF0／ＩF1） より求めている。
【００１６】また、評価する硝材４と同様の評価装置に
使用されるハーフミラー、偏光子などの硝子部品の透過
率変動やエキシマレーザの波長によっては測定器内部の
雰囲気（気体）によってレーザ光が吸収され、正確な透
過率測定を損なう場合がある。ステージ３はこのような
場合に定期的にサンプル（被測定物）を光路中から出し
入れするための挿脱手段として使用し、定期的にサンプ
ルを入れない状態でのＦセンサ８、Ｐセンサ７からの出
力比率の変動をモニタすることで、サンプルに対しレー
ザを照射しない場合のオフセットをキャンセルする。
使用されるハーフミラー、偏光子などの硝子部品の透過
率変動やエキシマレーザの波長によっては測定器内部の
雰囲気（気体）によってレーザ光が吸収され、正確な透
過率測定を損なう場合がある。ステージ３はこのような
場合に定期的にサンプル（被測定物）を光路中から出し
入れするための挿脱手段として使用し、定期的にサンプ
ルを入れない状態でのＦセンサ８、Ｐセンサ７からの出
力比率の変動をモニタすることで、サンプルに対しレー
ザを照射しない場合のオフセットをキャンセルする。
【００１７】このような装置の構成でレーザ照射中の硝
材の透過率を測定することで、偏光に影響されない高精
度な透過率測定を行っている。
材の透過率を測定することで、偏光に影響されない高精
度な透過率測定を行っている。
【００１８】以上のように本実施形態は、エキシマレー
ザを光源とした透過率測定装置であり、光路中における
サンプル（被測定物）４の出し入れを可能にする挿脱手
段、サンプルに照射する光量とサンプルから透過した光
量を計測する測定手段７，８を備えている。そしてレー
ザ光を参照光と信号光に分離する光分割手段と参照光の
光強度を検出する測定手段８と信号光がサンプル５を透
過した後の光強度を検出する測定手段７を備えている。
ザを光源とした透過率測定装置であり、光路中における
サンプル（被測定物）４の出し入れを可能にする挿脱手
段、サンプルに照射する光量とサンプルから透過した光
量を計測する測定手段７，８を備えている。そしてレー
ザ光を参照光と信号光に分離する光分割手段と参照光の
光強度を検出する測定手段８と信号光がサンプル５を透
過した後の光強度を検出する測定手段７を備えている。
【００１９】そして２つの測定手段７，８は同一の偏光
成分（偏光度）の光量のみを計測するようにしている。
これによって被測定物５の透過率を高精度に測定してい
る。
成分（偏光度）の光量のみを計測するようにしている。
これによって被測定物５の透過率を高精度に測定してい
る。
【００２０】［実施形態２］図２は本発明の透過率測定
装置の実施形態２の要部概略図である。実施形態１では
グラムトムソンプリズム（偏光子）５でＰセンサ７の受
光光の偏光度を調整していた。これに対して本実施形態
では、硝子材（被測定物）４を透過したレーザ光をロー
ションプリズム１１を使用することで、Ｓ偏光とＰ偏光
に分離し、それぞれの強度をＳセンサ６とＰセンサ７で
受光することにより、各偏光成分の変化量を測定し、Ｆ
センサ８の受光光と同じ偏光度のレーザ光を硝子材４に
照射している。これによって硝子材４を透過する透過光
量を算出している。この他の構成は図１の実施形態１と
同様である。本実施形態における透過光量の算出方法の
概略を以下に示す。
装置の実施形態２の要部概略図である。実施形態１では
グラムトムソンプリズム（偏光子）５でＰセンサ７の受
光光の偏光度を調整していた。これに対して本実施形態
では、硝子材（被測定物）４を透過したレーザ光をロー
ションプリズム１１を使用することで、Ｓ偏光とＰ偏光
に分離し、それぞれの強度をＳセンサ６とＰセンサ７で
受光することにより、各偏光成分の変化量を測定し、Ｆ
センサ８の受光光と同じ偏光度のレーザ光を硝子材４に
照射している。これによって硝子材４を透過する透過光
量を算出している。この他の構成は図１の実施形態１と
同様である。本実施形態における透過光量の算出方法の
概略を以下に示す。
【００２１】◎算出方法 エキシマレーザ１からの光束をハーフミラー２で透過光
（信号光）と反射光（参照光）の２つの光束に分離す
る。信号光が硝子材４を透過した後、ローションプリズ
ム１１を透過させることで、Ｐ偏光とＳ偏光の２つの光
束に分離する。この分離した光をそれぞれＳセンサ６と
Ｐセンサ７により受光し、Ｐ偏光を受光するＰセンサ７
からの出力をSpout、Ｓ偏光を受光するＳセンサ６から
の出力をSsoutとする。この時、各センサは事前に感度
補正されている。また、ローションプリズム１１のＳ偏
光の透過率をTrs、Ｐ偏光の透過率をTrpとする。ローシ
ョンプリズム１１に入射する前のレーザ強度Poutは、以
下の様に表すことができる。
（信号光）と反射光（参照光）の２つの光束に分離す
る。信号光が硝子材４を透過した後、ローションプリズ
ム１１を透過させることで、Ｐ偏光とＳ偏光の２つの光
束に分離する。この分離した光をそれぞれＳセンサ６と
Ｐセンサ７により受光し、Ｐ偏光を受光するＰセンサ７
からの出力をSpout、Ｓ偏光を受光するＳセンサ６から
の出力をSsoutとする。この時、各センサは事前に感度
補正されている。また、ローションプリズム１１のＳ偏
光の透過率をTrs、Ｐ偏光の透過率をTrpとする。ローシ
ョンプリズム１１に入射する前のレーザ強度Poutは、以
下の様に表すことができる。
【００２２】Pout=Spout/Trp+Ssout/Trs (式１） 硝子材４へのレーザがほぼ垂直入射するとして、その硝
子材４の透過率はＳ偏光、Ｐ偏光に対し等しくなり、そ
の透過率をＴ４とする。また、ハーフミラー２のＰ偏光
とＳ偏光の反射率をＲ２ｐ，Ｒ２ｓ、Ｐ偏光とＳ偏光の
透過率をＴ２ｐ，Ｔ２ｓとするとＳセンサ６からの出力
Sfoutは、 Sfout=[R2s＊Ssout/(Trs＊T2s)+R2p＊Spout/(Trp＊T2p)]/T4 （式２） と表すことができる。これから、硝子材４の透過率は、 T4=[R2s＊Ssout/(Trs＊T2s)+R2p＊Spout/(Trp＊T2p)]/Sfout （式３） と求めることができる。
子材４の透過率はＳ偏光、Ｐ偏光に対し等しくなり、そ
の透過率をＴ４とする。また、ハーフミラー２のＰ偏光
とＳ偏光の反射率をＲ２ｐ，Ｒ２ｓ、Ｐ偏光とＳ偏光の
透過率をＴ２ｐ，Ｔ２ｓとするとＳセンサ６からの出力
Sfoutは、 Sfout=[R2s＊Ssout/(Trs＊T2s)+R2p＊Spout/(Trp＊T2p)]/T4 （式２） と表すことができる。これから、硝子材４の透過率は、 T4=[R2s＊Ssout/(Trs＊T2s)+R2p＊Spout/(Trp＊T2p)]/Sfout （式３） と求めることができる。
【００２３】この様に、硝子材４の透過率を求めること
により偏光に影響されない高精度な透過率測定を実現し
ている。
により偏光に影響されない高精度な透過率測定を実現し
ている。
【００２４】［実施形態３］図３は本発明の実施形態３
の要部概略図である。
の要部概略図である。
【００２５】本実施形態では、図１の実施形態１に比べ
てハーフミラー２で分離し、被測定物４を通過した信号
光を更にハーフミラー９により２つの光束に分離する点
が異なっており、その他の構成は同じである。このハー
フミラー９の反射角は、Ｐ偏光の反射率がほぼ０になる
ブリュースタ角に設定し、Ｓ偏光のみを反射させＳセン
サ６でＳ偏光の強度を測定する。同時に、ハーフミラー
９の透過光をＰセンサ７で透過光強度を測定する。この
場合のＰのセンサ７はＰ偏光とＳ偏光の両方を測定して
いることになる。この時のＳセンサ６、Ｐセンサ７から
の出力をそれぞれSsout、Spoutとする。ハーフミラー９
へ入射するレーザ光強度Poutは、 Pout=Ssout/R9s+(Spout-Ssout＊T9s/R9s)/T9p （式４） となる。
てハーフミラー２で分離し、被測定物４を通過した信号
光を更にハーフミラー９により２つの光束に分離する点
が異なっており、その他の構成は同じである。このハー
フミラー９の反射角は、Ｐ偏光の反射率がほぼ０になる
ブリュースタ角に設定し、Ｓ偏光のみを反射させＳセン
サ６でＳ偏光の強度を測定する。同時に、ハーフミラー
９の透過光をＰセンサ７で透過光強度を測定する。この
場合のＰのセンサ７はＰ偏光とＳ偏光の両方を測定して
いることになる。この時のＳセンサ６、Ｐセンサ７から
の出力をそれぞれSsout、Spoutとする。ハーフミラー９
へ入射するレーザ光強度Poutは、 Pout=Ssout/R9s+(Spout-Ssout＊T9s/R9s)/T9p （式４） となる。
【００２６】ここで、ハーフミラー９のＳ偏光に対する
反射率をＲ９ｓ、Ｓ偏光に対する透過率をＴ９ｓ、Ｐ偏
光に対する透過率をＴ９ｐとした。実施形態２同様に被
測定物（硝子材）４の透過率を算出すると、硝子材の透
過率Ｔ４は以下の様に導出される。
反射率をＲ９ｓ、Ｓ偏光に対する透過率をＴ９ｓ、Ｐ偏
光に対する透過率をＴ９ｐとした。実施形態２同様に被
測定物（硝子材）４の透過率を算出すると、硝子材の透
過率Ｔ４は以下の様に導出される。
【００２７】 T4=[R2s＊Ssout/(T2s＊R9s)+R2p＊(Spout-Ssout＊(T9s＊R9s))/(T9p＊T2p)]/S fout （式５） 本実施形態ではハーフミラー９でＳ偏光のみを取り出
し、Ｐ偏光強度、Ｓ偏光強度を求めたが、ハーフミラー
９でＰ偏光のみを取り出し、ハーフミラー９の透過光強
度からＰ偏光成分の強度を差し引くことで、Ｓ偏光強度
を求めても良い。
し、Ｐ偏光強度、Ｓ偏光強度を求めたが、ハーフミラー
９でＰ偏光のみを取り出し、ハーフミラー９の透過光強
度からＰ偏光成分の強度を差し引くことで、Ｓ偏光強度
を求めても良い。
【００２８】［実施形態４］図４は本発明の透過率測定
装置の実施形態４の要部概略図である。本実施形態は図
１の実施形態１に比べてハーフミラー２で分離し被測定
物４を透過した信号光を更にハーフミラー９で分離し、
更に一方の光束をハーフミラー１０により分離する。こ
のハーフミラー９の反射角は、Ｐ偏光の反射率がほぼ０
になるブリュースタ角に設定しＳ偏光のみを反射させ、
Ｓセンサ６で、Ｓ偏光強度を測定する。次にハーフミラ
ー９で透過した光をハーフミラー１０でＳ偏光の反射率
がほぼ０になるようにブリュースタ角を設定しＰ偏光の
みを反射させ、Ｐセンサ７でＰ偏光強度を測定する。こ
の時のＳセンサ６、Ｐセンサ７からの出力をSsout、Spo
utとする。硝子材４を透過するレーザ光強度Poutは以下
のように表すことができる。
装置の実施形態４の要部概略図である。本実施形態は図
１の実施形態１に比べてハーフミラー２で分離し被測定
物４を透過した信号光を更にハーフミラー９で分離し、
更に一方の光束をハーフミラー１０により分離する。こ
のハーフミラー９の反射角は、Ｐ偏光の反射率がほぼ０
になるブリュースタ角に設定しＳ偏光のみを反射させ、
Ｓセンサ６で、Ｓ偏光強度を測定する。次にハーフミラ
ー９で透過した光をハーフミラー１０でＳ偏光の反射率
がほぼ０になるようにブリュースタ角を設定しＰ偏光の
みを反射させ、Ｐセンサ７でＰ偏光強度を測定する。こ
の時のＳセンサ６、Ｐセンサ７からの出力をSsout、Spo
utとする。硝子材４を透過するレーザ光強度Poutは以下
のように表すことができる。
【００２９】 Pout=Ssout/R9s+Spout/(R10p＊T9p) （式６） ここで、ハーフミラー９のＳ偏光に対する反射率をＲ９
ｓ、Ｐ偏光に対する透過率をＴ９ｐ、ハーフミラー１０
のＰ偏光に対する反射率をＲ１０ｐとした。実施形態
２，３同様に、硝子材４の透過率Ｔ４は以下の様に導出
される。
ｓ、Ｐ偏光に対する透過率をＴ９ｐ、ハーフミラー１０
のＰ偏光に対する反射率をＲ１０ｐとした。実施形態
２，３同様に、硝子材４の透過率Ｔ４は以下の様に導出
される。
【００３０】 T4=[R2s＊Ssout/(T2s＊R9s)+R2p＊Spout/(R10p＊T9p＊T2p)]/Sfout （式７） 本実施形態では、Ｓ偏光を分離測定後にＰ偏光を分離測
定して、露光光強度を求めたが、Ｐ偏光を分離測定後に
Ｓ偏光を分離測定し、露光光強度を求めても良い。
定して、露光光強度を求めたが、Ｐ偏光を分離測定後に
Ｓ偏光を分離測定し、露光光強度を求めても良い。
【００３１】以上のように本発明に係る各実施形態では
エキシマレーザからの光束を光分割手段としてのハーフ
ミラーにより信号光と参照光とを分離し、サンプル（被
測定物）を透過した後の信号光から参照光の偏光度と同
じ偏光度の光量を測定、算出することにより、大出力の
エキシマレーザを光源を用いて硝子部品（光学部材）の
透過率を高精度に測定することができる。
エキシマレーザからの光束を光分割手段としてのハーフ
ミラーにより信号光と参照光とを分離し、サンプル（被
測定物）を透過した後の信号光から参照光の偏光度と同
じ偏光度の光量を測定、算出することにより、大出力の
エキシマレーザを光源を用いて硝子部品（光学部材）の
透過率を高精度に測定することができる。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、エキシマレーザを光源
として、光学部材の透過率を高精度に測定することがで
きる透過率測定装置を達成することができる。
として、光学部材の透過率を高精度に測定することがで
きる透過率測定装置を達成することができる。
【００３３】この他本発明によれば、エキシマレーザ装
置を光源とし、偏光度のばらつきの影響を受けることな
く、光学部材の透過率を高精度に測定することができる
透過率測定装置を達成することができる。
置を光源とし、偏光度のばらつきの影響を受けることな
く、光学部材の透過率を高精度に測定することができる
透過率測定装置を達成することができる。
【図１】 本発明の透過率測定装置の実施形態１の要部
概略図
概略図
【図２】 本発明の透過率測定装置の実施形態２の要部
概略図
概略図
【図３】 本発明の透過率測定装置の実施形態３の要部
概略図
概略図
【図４】 本発明の透過率測定装置の実施形態４の要部
概略図
概略図
１ エキシマレーザ ２ 光分割手段（ハーフミラー） ３ ステージ ４ 被測定物 ５ グラムトムソンプリズム ６，７ 測定手段 ９，１０ ハーフミラー １１ ローションプリズム １０１ レーザ制御系 １０２ ステージ駆動制御系 １０３ 露光量演算器 １０４ 主制御系 １０５ 入力装置
Claims (5)
- 【請求項１】 エキシマレーザからのレーザ光を信号光
と参照光とに分割する光分割手段と、該信号光の光路中
に被測定物を挿脱可能に設けた挿脱手段と、参照光を測
定する測定手段Ｆと、被測定物を光路中に配置したとき
の透過光及び被測定物を光路中より取り出したときの信
号光より該参照光の偏光度と同じ偏光度とする偏光手段
と該偏光手段を有した光束の光量を測定する測定手段Ｐ
とを有し、該測定手段Ｆと測定手段Ｐから得られる信号
を用いて、該被測定物の透過率を測定していることを特
徴とする透過率測定装置。 - 【請求項２】 前記測定手段Ｐは、偏光子を使用するこ
とで、測定手段Ｆと同じ偏光度のレーザ光の光量を受光
することを特徴とする請求項１の透過率測定装置。 - 【請求項３】 前記測定手段Ｐは、ローションプリズム
を使用することで被測定物からの光束をＰ偏光とＳ偏光
に分離し、各偏光を２個の受光手段で測定し、前記測定
手段Ｆと同じ偏光度で測定し、該２個の受光手段の出力
から被測定物の透過光量を算出することを特徴とする請
求項１の透過率測定装置。 - 【請求項４】 前記測定手段Ｐは、被測定物からの光束
に対し入射角がブリュースタ角となる１個のビームスプ
リッタを配置することで、一方の偏光のみの光束を反射
させ、このビームスプリッタの反射光と透過光をもと
に、ビームスプリッタへのＰ偏光光量、Ｓ偏光光量を測
定することで、前記測定手段Ｆへの入射するレーザの偏
光度と同じ偏光度のレーザ光の光量を算出することを特
徴とする請求項１の透過率測定装置。 - 【請求項５】 前記測定手段Ｐは、被測定物からの光束
に対して入射角がブリュースタ角となる２個のビームス
プリッタを配置することで、それぞれがＳ偏光、Ｐ偏光
のみを反射させ、２個のビームスプリッタからの反射光
強度を測定する測定手段を持ち、その測定手段からの結
果を元に前記測定手段Ｆへの入射するレーザの偏光度と
同じ偏光度のレーザ光の光量を算出することを特徴とす
る請求項１の透過率測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000028970A JP2001221739A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | 透過率測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000028970A JP2001221739A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | 透過率測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001221739A true JP2001221739A (ja) | 2001-08-17 |
Family
ID=18554301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000028970A Pending JP2001221739A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | 透過率測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001221739A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103234909A (zh) * | 2013-04-26 | 2013-08-07 | 北京理工大学 | 一种快速脉冲激光偏振度测量装置 |
| CN114371151A (zh) * | 2020-10-15 | 2022-04-19 | 深圳莱宝高科技股份有限公司 | 一种透过率测试方法及透过率测试系统 |
-
2000
- 2000-02-07 JP JP2000028970A patent/JP2001221739A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103234909A (zh) * | 2013-04-26 | 2013-08-07 | 北京理工大学 | 一种快速脉冲激光偏振度测量装置 |
| CN114371151A (zh) * | 2020-10-15 | 2022-04-19 | 深圳莱宝高科技股份有限公司 | 一种透过率测试方法及透过率测试系统 |
| CN114371151B (zh) * | 2020-10-15 | 2024-04-19 | 深圳莱宝高科技股份有限公司 | 一种透过率测试方法 |
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