JP2001219183A - Water quality control apparatus of sewerage equipment - Google Patents
Water quality control apparatus of sewerage equipmentInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、下水管、ポンプ
場、貯留管、滞水池等の下水道設備に設置された下水道
設備の水質制御装置に係り、とりわけ硫化水素等の臭気
物質の発生を抑制することができ、かつ有機物低減を抑
制することができる水質制御装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a water quality control device for a sewerage system installed in a sewerage system such as a sewer pipe, a pumping station, a storage pipe, a reservoir, and the like, and particularly suppresses generation of odorous substances such as hydrogen sulfide. The present invention relates to a water quality control device capable of controlling the reduction of organic substances.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の下水道設備について、図７により
説明する。図７は、ポンプ場の水フロー図であり、下水
管１を流れる下水７は、ゲート３を有するポンプ井２へ
流入する。ポンプ井２内の下水７は、揚水ポンプ４によ
り下水管５を通って下水処理場６へ送られる。2. Description of the Related Art A conventional sewer system will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a water flow diagram of the pumping station. The sewage 7 flowing through the sewage pipe 1 flows into the pump well 2 having the gate 3. The sewage 7 in the pump well 2 is sent to the sewage treatment plant 6 by the pump 4 through the sewage pipe 5.
【０００３】通常は揚水ポンプ４に対して、揚水量一定
制御を行なったり、ポンプ井２内に水位計を配置してこ
の水位計を一定にするような水位一定制御を行なってい
る。Normally, the pump 4 is controlled to keep the pumping amount constant, or a water level meter is arranged in the pump well 2 so as to keep the water level meter constant.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】このような従来の下水
道設備においては次の問題が発生した。The following problems have occurred in such a conventional sewer system.
【０００５】まず下水７中のＤＯが変動すると、これに
より硫化水素等の臭気物質発生したり、下水７中の有機
物分解が促進される。このような場合は、臭気発生抑制
を行なうことができず、また窒素・リン除去能力向上を
維持することが困難となる。これらの問題を、以下に具
体的に説明する。[0005] First, when the DO in the sewage 7 fluctuates, odor substances such as hydrogen sulfide are generated, and the decomposition of organic substances in the sewage 7 is promoted. In such a case, odor generation cannot be suppressed, and it is difficult to maintain an improved nitrogen / phosphorus removal ability. These problems will be specifically described below.
【０００６】（１）下水７中において、ＤＯ（溶存酸素
濃度）が不足すると、嫌気反応が起こり、液中のＳＯ４
２−（硫酸イオン）が還元されて、Ｈ２Ｓ（硫化水素）
が発生する。この硫化水素は下水管１やポンプ井２など
の土木、配管を腐食させる。また硫化水素は臭気物質で
あるので、下水管１やポンプ井２の外部へ漏出して、環
境悪化の問題となる。(1) When DO (dissolved oxygen concentration) is insufficient in the sewage 7, an anaerobic reaction occurs, and SO 4 in the liquid is
2- (sulfate ion) is reduced to H 2 S (hydrogen sulfide)
Occurs. The hydrogen sulfide corrodes civil engineering and piping such as the sewer pipe 1 and the pump well 2. In addition, since hydrogen sulfide is an odorous substance, it leaks to the outside of the sewer pipe 1 or the pump well 2 and causes a problem of environmental deterioration.
【０００７】（２）逆に、下水７中において、ＤＯが過
剰に存在すると、好気反応が起こり、下水中の有機物が
好気分解される。この場合は、下水処理場６内での窒素
（Ｎ）、リン（Ｐ）除去反応に必要な有機物が不足し、
下水処理場６での水処理が不十分となって窒素、リンの
水質が悪化するといった問題がある。(2) Conversely, if DO is excessively present in the sewage 7, an aerobic reaction occurs, and organic substances in the sewage are aerobically decomposed. In this case, the organic matter necessary for the nitrogen (N) and phosphorus (P) removal reaction in the sewage treatment plant 6 is insufficient,
There is a problem that the water treatment in the sewage treatment plant 6 becomes insufficient and the quality of nitrogen and phosphorus deteriorates.
【０００８】これらの関係を図８に示す。図８におい
て、有機物分解とＨ２Ｓ生成の２つの反応は、下水中の
ＤＯと相関関係にある。FIG. 8 shows these relationships. In FIG. 8, two reactions of decomposition of organic matter and generation of H 2 S are correlated with DO in sewage.
【０００９】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、下水道設備において、硫化水素等の臭気物
質の発生を抑制すると同時に、有機物低減を抑制して、
下水道設備の臭気対策のみならず下水処理場内の窒素・
リン除去能力を高めることができる下水道設備の水質制
御装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in consideration of the above points, and suppresses the generation of odorous substances such as hydrogen sulfide and the reduction of organic substances in sewerage facilities.
Not only odor control of sewerage equipment but also nitrogen and
An object of the present invention is to provide a water quality control device for sewage equipment capable of increasing the phosphorus removal capacity.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、下水処理場上
流側に配置され、内部に下水を収納した下水道設備の水
質制御装置において、下水道設備内に設置され、下水中
に酸素を供給する酸素供給装置と、下水道設備内に設置
され、下水の嫌気反応を測定する嫌気反応測定部と、嫌
気反応測定部からの信号に基づいて酸素供給装置を制御
する酸素供給制御装置と、を備えたことを特徴とする下
水道設備の水質制御装置である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a water quality control device for a sewage system which is disposed upstream of a sewage treatment plant and stores sewage therein, which is installed in the sewage system and supplies oxygen to the sewage. An oxygen supply device, an anaerobic reaction measurement unit that is installed in the sewage facility and measures an anaerobic reaction of sewage, and an oxygen supply control device that controls the oxygen supply device based on a signal from the anaerobic reaction measurement unit This is a water quality control device for sewerage facilities.
【００１１】本発明は、下水処理場上流側に配置され、
内部に下水を収納した下水道設備の水質制御装置におい
て、下水道設備内に設置され、下水中に酸素を供給する
酸素供給装置と、下水の水質を測定する水質測定部と、
水質測定部からの信号に基づいて酸素供給装置を制御す
る酸素供給制御装置と、を備えたことを特徴とする下水
道設備の水質制御装置である。[0011] The present invention is arranged upstream of a sewage treatment plant,
In a water quality control device of a sewage system containing sewage therein, an oxygen supply device installed in the sewage system and supplying oxygen to the sewage, and a water quality measurement unit for measuring sewage water quality,
An oxygen supply control device that controls the oxygen supply device based on a signal from the water quality measurement unit.
【００１２】本発明は、下水処理場上流側に配置され、
内部に下水を収納した下水道設備の水質制御装置におい
て、下水道設備内に設置され、下水中に酸素を供給する
酸素供給装置と、下水道設備内に設置され、下水の嫌気
反応を測定する嫌気反応測定部と、下水の水質を測定す
る水質測定部と、嫌気反応測定部からの信号および水質
測定部からの信号に基づいて酸素供給装置を制御する酸
素供給制御装置と、を備えたことを特徴とする下水道設
備の水質制御装置である。[0012] The present invention is arranged upstream of a sewage treatment plant,
In the water quality control device of the sewage equipment containing sewage inside, an oxygen supply device installed in the sewage equipment and supplying oxygen to the sewage, and an anaerobic reaction measurement installed in the sewage equipment to measure the anaerobic reaction of the sewage Unit, a water quality measurement unit that measures the quality of sewage, and an oxygen supply control device that controls the oxygen supply device based on a signal from the anaerobic reaction measurement unit and a signal from the water quality measurement unit, It is a water quality control device of the sewerage equipment that performs
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】第１の実施の形態 以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明
する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１４】図１は本発明による下水道設備の水質制御
装置の第１の実施の形態を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a water quality control device for sewage equipment according to the present invention.
【００１５】図１に示すように、下水管１を流れる下水
７は、ゲート３を有するポンプ場のポンプ井２へ流入す
る。ポンプ井２内の下水７は、揚水ポンプ４により下水
管５を経て下水処理場６へ流入する。図１において、ポ
ンプ井２は下水処理場６の上流に位置する下水道設備を
構成している。As shown in FIG. 1, sewage 7 flowing through a sewage pipe 1 flows into a pump well 2 of a pumping station having a gate 3. The sewage 7 in the pump well 2 flows into the sewage treatment plant 6 via the sewage pipe 5 by the pump 4. In FIG. 1, a pump well 2 constitutes a sewerage facility located upstream of a sewage treatment plant 6.
【００１６】ポンプ井２内の底部には、水中ポンプ１１
が配置されている。この水中ポンプ１１はポンプ井２内
の下水７全体を循環させて水流１４を形成し、下水７中
に酸素を供給する酸素供給装置として機能する。なお、
この水中ポンプ１１の設置位置は前述した底部のみに特
に限定されることはなく、下水７の水面近傍に設置して
攪拌効果を高めてもよい。A submersible pump 11 is provided at the bottom of the pump well 2.
Is arranged. The submersible pump 11 circulates the entire sewage 7 in the pump well 2 to form a water flow 14 and functions as an oxygen supply device that supplies oxygen into the sewage 7. In addition,
The installation position of the submersible pump 11 is not particularly limited only to the above-described bottom portion, and may be installed near the surface of the sewage 7 to enhance the stirring effect.
【００１７】またポンプ井２内には、下水７中のＤＯを
測定することにより嫌気反応の程度を求めるＤＯ計（嫌
気反応測定部）１２が設けられている。ＤＯ計１２は酸
素供給制御装置１３へ接続され、この酸素供給制御装置
１３により水中ポンプ１１が制御される。なお、ポンプ
井２の下水７より上方は、気相部１５を形成している。In the pump well 2, there is provided a DO meter (anaerobic reaction measuring section) 12 for measuring DO in the sewage 7 to determine the degree of anaerobic reaction. The DO meter 12 is connected to an oxygen supply control device 13, which controls the submersible pump 11. Above the sewage 7 of the pump well 2, a gas phase part 15 is formed.
【００１８】次にこのような構成からなる本実施の形態
の作用について説明する。まず、下水管１内の下水７が
ポンプ井２内へ流入する。ポンプ井２内の下水７は揚水
ポンプ４により下水管５を経て下水処理場６へ送られ、
この下水処理場６において処理される。Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described. First, the sewage 7 in the sewage pipe 1 flows into the pump well 2. The sewage 7 in the pump well 2 is sent to the sewage treatment plant 6 through the sewage pipe 5 by the pump 4.
The wastewater is treated in the sewage treatment plant 6.
【００１９】この間水中ポンプ１１は、駆動してポンプ
井２内の下水７を攪拌し、水流１４を発生させるととも
に、水面近傍で気相部１５内の酸素を取り込む。その結
果、ポンプ井２内の下水７中のＤＯが増加する。またＤ
Ｏ計１２により、常時、ポンプ井２の下水７内部のＤＯ
［ＰＶＤＤ］が計測される。During this time, the submersible pump 11 is driven to stir the sewage 7 in the pump well 2 to generate a water flow 14 and take in oxygen in the gas phase 15 near the water surface. As a result, DO in the sewage 7 in the pump well 2 increases. Also D
The O total 12 indicates that the DO inside the sewage 7 of the pump well 2 is always
[PV DD ] is measured.
【００２０】酸素供給制御装置１３は［ＰＶＤＤ］と、
予め設定したＤＯ設定値［ＳＶＤＤ］を比較して、
（１）式のように水中ポンプ１１をＯＮ−ＯＦＦ制御す
る。また［ＳＶＤＤ］は、（２）式のように設定され
る。The oxygen supply control device 13 includes [PV DD ],
By comparing the preset DO setting value [SV DD ],
The on / off control of the submersible pump 11 is performed as in the equation (1). [SV DD ] is set as in equation (2).
【００２１】 ｉｆ［ＰＶＤＤ］＜［ＳＶＤＤ］ ｔｈｅｎ（水中ポンプ１１ ＯＮ） ｅｌｓｅ（水中ポンプ１１ ＯＦＦ） ………（１）式 ［ＳＶＤＤ］＝０．５ｍｇ／Ｌ ………（２）式 酸素供給制御装置１３により［ＰＶＤＤ］が［Ｓ
ＶＤＤ］以上になるように、水中ポンプ１１が制御され
るので、［ＰＶＤＤ］が［ＳＶＤＤ］に近傍に制御され
る。したがって、ポンプ井２内の下水７中のＤＯが一定
値に安定する。このためＤＯが不足することはなく、ポ
ンプ井２内における下水７中の嫌気反応を防止すること
ができ、これにより臭気物質となるＨ２Ｓの発生を抑え
ることができる。またＤＯが過剰に存在することはな
く、このため下水７中において有機物の好気分解を抑え
ることができる。If [PV DD ] <[SV DD ] then (submersible pump 11 ON) else (submersible pump 11 OFF) (1) Equation [SV DD ] = 0.5 mg / L (2) Expression [PV DD ] is changed to [S
Since the submersible pump 11 is controlled so as to be equal to or higher than [V DD ], [PV DD ] is controlled to be close to [SV DD ]. Therefore, DO in the sewage 7 in the pump well 2 is stabilized at a constant value. For this reason, DO does not run short, and an anaerobic reaction in the sewage 7 in the pump well 2 can be prevented, thereby suppressing the generation of H 2 S, which is an odorant. Further, DO is not excessively present, and therefore, aerobic decomposition of organic substances in the sewage 7 can be suppressed.
【００２２】以上のように、本実施の形態によれば、以
下の効果がある。As described above, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
【００２３】（１）水中ポンプ１１のＯＮ−ＯＦＦ制御
により、下水中の臭気発生の抑制および有機物分解の抑
制を行なうことができる。(1) The ON-OFF control of the submersible pump 11 can suppress the generation of odor in the sewage and the decomposition of organic substances.
【００２４】（２）水中ポンプ１１を用いたので、臭気
発生抑制、有機物分解抑制のみならず、ポンプ井２にお
けるゴミやヘドロの沈殿、底部蓄積が防止され、臭気発
生抑制速度がさらに増加する。(2) Since the submersible pump 11 is used, not only the suppression of odor generation and the suppression of organic matter decomposition but also the sedimentation and accumulation of dirt and sludge in the pump well 2 are prevented, and the odor generation suppression speed is further increased.
【００２５】（３）水中ポンプ１１をポンプ井２の底部
に配置した場合は、ポンプ井２全体を攪拌でき、下水処
理場６へ供給する下水の水質が均一となり、下水処理場
６の運転が安定化する。(3) When the submersible pump 11 is arranged at the bottom of the pump well 2, the entire pump well 2 can be agitated, the quality of the sewage supplied to the sewage treatment plant 6 becomes uniform, and the operation of the sewage treatment plant 6 is improved. Stabilize.
【００２６】（４）ＤＯ計１２を制御計測値として使用
したので、直接、目的とする臭気発生と有機物分解の特
性が把握できる。(4) Since the DO meter 12 is used as a control measurement value, the intended characteristics of odor generation and organic matter decomposition can be directly grasped.
【００２７】（５）ＤＯ計１２のみによる１入力１出力
系の制御としたので、制御構成がシンプルとなり、制御
の安定性が向上する。(5) Since the one-input one-output system is controlled only by the DO meter 12, the control configuration is simplified and the control stability is improved.
【００２８】（６）酸素供給制御装置１３の制御方式と
して、シンプルなＯＮ−ＯＦＦ制御としたので、制御シ
ステムが容易に構築できる。(6) Since a simple ON-OFF control is used as a control method of the oxygen supply control device 13, a control system can be easily constructed.
【００２９】（７）対象設備として、各下水道幹線の中
核であるポンプ場のポンプ井２を利用したので、下水道
全般を広域的に制御することができる。つまり、ポンプ
井２のみで効率的に、目的となる「臭気物質抑制および
有機物分解抑制」が達成できる。(7) As the target equipment, the pump well 2 of the pump station, which is the core of each sewer main line, is used, so that the entire sewer can be controlled in a wide area. That is, the objective “suppression of odorous substances and suppression of decomposition of organic substances” can be efficiently achieved only by the pump well 2.
【００３０】次に本実施の形態の変形例について説明す
る。Next, a modification of this embodiment will be described.
【００３１】（変形例１）図２に示すように、酸素供給
手段として水中ポンプ１１の他、開閉弁１８を有する戻
し管１７を用いてもよい。すなわち図２において、下水
管５のうち揚水ポンプ４より下流の分岐点１６に、開閉
弁１８を有するとともに下水をポンプ井２へ戻す戻し管
１７が接続されている。(Modification 1) As shown in FIG. 2, a return pipe 17 having an on-off valve 18 may be used as the oxygen supply means in addition to the submersible pump 11. That is, in FIG. 2, a return pipe 17 having an on-off valve 18 and returning sewage to the pump well 2 is connected to a branch point 16 of the sewage pipe 5 downstream of the pump 4.
【００３２】図２に示すように、開閉弁１８を有する戻
し管１７により下水７がポンプ井２内へ戻される。この
ため、ポンプ井２内の下水７の表面付近に水流１９が発
生し、この水流１９が気相部１５内の酸素を溶解させ
る。As shown in FIG. 2, the sewage 7 is returned into the pump well 2 by a return pipe 17 having an on-off valve 18. For this reason, a water flow 19 is generated near the surface of the sewage 7 in the pump well 2, and the water flow 19 dissolves oxygen in the gas phase portion 15.
【００３３】（変形例２）また、図２のように、揚水ポ
ンプ４より下流側の下水管５を分岐しなくても、循環用
の別のポンプおよび配管を設けてもよい。(Modification 2) As shown in FIG. 2, another pump and piping for circulation may be provided without branching the sewer pipe 5 downstream of the pump 4.
【００３４】さらに図３に示すように、空気管２２およ
び散気管２３を順次介して、ブロア２１をポンプ井２の
底部に接続してもよい。このことにより、空気中の酸素
を直接ポンプ井２内の下水７中に供給することができ、
ポンプ井２内の下水７中のＤＯを瞬時に上昇させること
ができる。Further, as shown in FIG. 3, the blower 21 may be connected to the bottom of the pump well 2 via an air pipe 22 and a diffuser pipe 23 in order. This allows oxygen in the air to be directly supplied to the sewage 7 in the pump well 2,
DO in sewage 7 in pump well 2 can be raised instantaneously.
【００３５】（変形例３）また、嫌気反応測定部とし
て、ＤＯ計１２で測定するＤＯ以外の嫌気反応の指標を
測定するセンサを利用することができる。すなわち、以
下のようなセンサが使用可能である。(Modification 3) As the anaerobic reaction measuring section, a sensor for measuring an index of an anaerobic reaction other than DO measured by the DO meter 12 can be used. That is, the following sensors can be used.
【００３６】（３−１）液相のＯＲＰ計 （３−２）気相の酸素計 （３−３）気相のメタン計 （３−４）気相の硫化水素計 その他として、他の悪臭物質のメルカプタン、低級脂肪
酸、アンモニア等の計測値を嫌気反応測定部として使用
してもよい。(3-1) ORP meter in liquid phase (3-2) Oxygen meter in gas phase (3-3) Methane meter in gas phase (3-4) Hydrogen sulfide meter in gas phase The measurement values of the substances such as mercaptan, lower fatty acid, and ammonia may be used as the anaerobic reaction measuring section.
【００３７】（変形例４）さらにＤＯ計１２からの計測
値のみに基づく制御ではなく、ＤＯ計１２と硫化水素計
の双方からの測定値を入力値として用い、ＤＯと硫化水
素が所定の値となるように酸素供給量を制御してもよ
い。この場合の制御方式としては、２入力１出力系とな
る。また、これらの組合せおよび数は限定されない。(Modification 4) In addition to the control based on only the measured value from the DO meter 12, the measured values from both the DO meter 12 and the hydrogen sulfide meter are used as input values, and the DO and hydrogen sulfide are set to predetermined values. The supply amount of oxygen may be controlled so that The control method in this case is a two-input one-output system. Further, the combination and the number of these are not limited.
【００３８】（変形例５）また酸素供給制御装置１３の
制御式は、（１）式のようなＯＮ−ＯＦＦ制御のみでは
なく、以下のような制御方法を使用することができる。
例えば、（３）式のような比例制御や、それらに積分操
作、微分操作を加えたＰＩＤ制御も使用可能である。(Modification 5) The control formula of the oxygen supply control device 13 can use not only the ON-OFF control as in the formula (1) but also the following control method.
For example, it is possible to use proportional control as shown in equation (3), or PID control in which an integral operation and a differential operation are added thereto.
【００３９】 ＜比例制御＞ ＳＶ［Ｑ］＝Ｋｐ＊（［ＳＶＤＤ］−［ＰＶＤＤ］） ………（３）式 ＜記号＞ ＳＶ［Ｑ］：水中ポンプ１１の流量 Ｋｐ：比例ゲイン ［ＳＶＤＤ］：ＤＯ目標値 ［ＰＶＤＤ］：ＤＯ計測値 （変形例６）対象設備として、ポンプ場のポンプ井２以
外にも、以下のような下水道設備に適用できる。<Proportional control> SV [Q] = Kp * ([SV DD ]-[PV DD ]) Expression (3) <Symbol> SV [Q]: Flow rate of submersible pump 11 Kp: Proportional gain [ SV DD ]: DO target value [PV DD ]: DO measurement value (Modification 6) As a target facility, the present invention can be applied to the following sewage facilities other than the pump well 2 of the pump station.
【００４０】（６−１）幹線下水管 （６−２）雨水貯留管 （６−３）雨水滞水池 （６−４）雨水調整池 （６−５）雨水ます 図４および図５により、ポンプ井２の上流側に位置する
幹線下水管３０に本発明を適用した例を示す。(6-1) Main sewer pipe (6-2) Rainwater storage pipe (6-3) Rainwater reservoir (6-4) Rainwater regulating pond (6-5) Rainwater tank According to FIG. 4 and FIG. An example in which the present invention is applied to a main sewer pipe 30 located on the upstream side of the well 2 is shown.
【００４１】図４および図５に示すように、幹線下水管
３０に上方に位置する第１下水管３１が接続され、また
第１下水管３１の下方には第１下水管３１から分岐する
第２下水管３２が設けられ、この第２下水管３２は幹線
下水管３０に接続されている。第１下水管３１および第
２下水管３２には、酸素供給制御装置１３に接続された
開閉弁３３、３４が取付けられている。As shown in FIGS. 4 and 5, a first sewer pipe 31 located above the main sewer pipe 30 is connected to the main sewer pipe 30, and a lower part of the first sewer pipe 31 is branched below the first sewer pipe 31. Two sewer pipes 32 are provided, and the second sewer pipe 32 is connected to the main sewer pipe 30. On / off valves 33 and 34 connected to the oxygen supply control device 13 are attached to the first drain pipe 31 and the second drain pipe 32.
【００４２】ＤＯ計１２、または酸素計等の計測値によ
り、下水７中のＤＯが少ない時には開閉弁３４を閉じ
（ＯＦＦ）、開閉弁３３を開けて（ＯＮ）、上方に配置
された第１下水管３１から下水７を幹線下水管３０に供
給する。この場合、下方に配置された第２下水管３２か
らの供給時よりも高低差が大きくなり、下水７中に水流
３５が形成され、このため、下水７中のＤＯが増加され
る。When the amount of DO in the sewage 7 is low, the on-off valve 34 is closed (OFF), the on-off valve 33 is opened (ON), and the first valve disposed above the first meter is measured by the DO meter 12 or the oxygen meter. The sewage 7 is supplied from the sewage pipe 31 to the main sewage pipe 30. In this case, the height difference becomes larger than when the water is supplied from the second sewer pipe 32 disposed below, and the water flow 35 is formed in the sewage 7, so that the DO in the sewage 7 is increased.
【００４３】（変形例７）ＤＯ設定値［ＳＶＤＤ］は、
（２）式の０．５ｍｇ／Ｌの数値に限定されない。臭気
発生と有機物分解が抑制される条件であればいずれの数
値も用いることができる。ＤＯ計１２を用いる場合、概
ね、両者の条件を満たす［ＳＶＤＤ］は０．０〜１．０
ｍｇ／Ｌの範囲に設定される。(Modification 7) The DO set value [SV DD ] is
The value is not limited to the value of 0.5 mg / L in the expression (2). Any numerical value can be used as long as odor generation and organic matter decomposition are suppressed. When the DO meter 12 is used, [SV DD ] that satisfies both conditions is approximately 0.0 to 1.0.
mg / L.
【００４４】第２の実施の形態 次に図６により本発明の第２の実施の形態について説明
する。図６に示す第２の実施の形態は、ＤＯ計１２を設
ける代わりに、下水処理場６の最初沈殿池４０にＵＶ計
４１（水質測定部）を設け、このＵＶ計４１からの信号
に基づいて酸素供給制御装置１３により水中ポンプ１１
が制御される。Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the second embodiment shown in FIG. 6, instead of providing the DO meter 12, a UV meter 41 (water quality measuring unit) is provided in the first sedimentation basin 40 of the sewage treatment plant 6, and based on a signal from the UV meter 41. Pump 11 by the oxygen supply control device 13
Is controlled.
【００４５】図６において、他の構成は図１に示す第１
の実施の形態と同一である。図６において、図１に示す
第１の実施例と同一部分には同一符号を付して詳細な説
明は省略する。In FIG. 6, another structure is the first structure shown in FIG.
This is the same as the embodiment of FIG. 6, the same parts as those of the first embodiment shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the detailed description will be omitted.
【００４６】また図６に示すように、最初沈殿池４０に
は、連結管４２を介して曝気槽４３が接続されている。As shown in FIG. 6, an aeration tank 43 is connected to the first settling tank 40 via a connecting pipe 42.
【００４７】次に図６に示す実施の形態の作用について
説明する。酸素供給制御装置１３において、最初沈殿池
４０内に配されたＵＶ計４１の計測値［ＰＶＵＶ］と、
予め設定したＵＶ目標値［ＳＶＵＶ］が比較され、
（４）式の条件式に基づいて水中ポンプ１１のＯＮ−Ｏ
ＦＦ制御が実施される。Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 6 will be described. In the oxygen supply control device 13, the measurement value [PV UV ] of the UV meter 41 arranged in the first settling tank 40,
The preset UV target value [SV UV ] is compared,
ON-O of the submersible pump 11 based on the conditional expression (4)
FF control is performed.
【００４８】 ｉｆ［ＰＶＵＶ］＜［ＳＶＵＶ］ ｔｈｅｎ（水中ポンプ１１ ＯＮ） ｅｌｓｅ（水中ポンプ１１ ＯＦＦ） ………（４）式 （４）式において ［ＳＶＵＶ］：ＵＶ目標値 ［ＰＶＵＶ］：ＵＶ計測値である。If [PV UV ] <[SV UV ] then (submersible pump 11 ON) else (submersible pump 11 OFF) Expression (4) In expression (4), [SV UV ]: UV target value [PV UV] ]: UV measurement value.
【００４９】本実施の形態によれば、以下の効果があ
る。According to the present embodiment, the following effects can be obtained.
【００５０】（１）下流側の下水処理場内の水質計測手
段として、有機物との相関性が高いＵＶ計４１を用いた
ので、瞬時に有機物濃度を把握できる。このため、下水
処理場６内での窒素・リン除去能力を高く維持できる。(1) Since the UV meter 41 having a high correlation with the organic matter is used as the water quality measuring means in the sewage treatment plant on the downstream side, the organic matter concentration can be grasped instantaneously. For this reason, the capability of removing nitrogen and phosphorus in the sewage treatment plant 6 can be maintained at a high level.
【００５１】（２）水質計測手段の１つであるＵＶ計４
１を、最初沈殿池４０内に浸せき配置することにより、
オンラインモニタリング可能となり、制御の応答性が向
上する。(2) UV meter 4 which is one of water quality measuring means
1 is first immersed in the sedimentation basin 40 and
Online monitoring is possible, and control responsiveness is improved.
【００５２】次に本実施の形態の変形例について説明す
る。Next, a modified example of this embodiment will be described.
【００５３】（変形例１）水質計測手段として、ＵＶ計
４１の他に、以下のような計測手段を用いることが可能
である。（１−６）の呼吸速度は、有機物の中でも窒素
・リン除去効果が大きい易分解性有機物との相関性が高
いものである。(Modification 1) In addition to the UV meter 41, the following measuring means can be used as the water quality measuring means. The respiration rate of (1-6) has a high correlation with easily decomposable organic substances having a large nitrogen / phosphorus removal effect among organic substances.
【００５４】 ＜センサ＞ ＜計測対象＞ ＜制御方法＞ (1-1): TOC計、 BOD計、 COD計 有機物 左記大の時に、酸素供給小 (1-2): TN 計、 NH 計 窒素 左記大の時に、酸素供給大 (1-3): TP 計、 PO4計 リン 左記大の時に、酸素供給大 (1-4): SS 計 ＳＳ 左記大の時に、酸素供給小 (1-5):濁度計 濁度 左記大の時に、酸素供給小 (1-6):呼吸速度計 呼吸速度 左記大の時に、酸素供給小 （変形例２）ＵＶ計４１は最初沈殿池４０以外にも、以
下のような下水システム、下水処理場水処理プロセスに
配置することができる。<Sensor><Measurementtarget><Controlmethod> (1-1): TOC meter, BOD meter, COD meter Organic matter When oxygen is large, oxygen supply is small (1-2): TN meter, NH meter Nitrogen Large, oxygen supply large (1-3): TP meter, PO4 total phosphorus Large, oxygen supply large (1-4): SS total SS Large, left oxygen supply small (1-5): Turbidity meter Turbidity When the left is large, oxygen supply is small (1-6): Respiration rate meter Respiration rate When left is large, oxygen supply is small (Modification 2) The UV meter 41 is the following in addition to the first sedimentation tank 40 Such as sewage systems, sewage treatment plants can be located in the water treatment process.
【００５５】（２−１）下水管１内部 （２−２）ポンプ井２内 （２−３）下水管５内 （２−４）連結管４２内部 （２−５）曝気槽４３内部 （２−６）曝気槽４３より下流側の下水処理プロセス内
（最終沈殿池、放流水路） （２−７）曝気槽４３より下流側の簡易放流管内部 （変形例３）なお、図６において、ポンプ井２内にＤＯ
計１２を設置するとともに、最初沈殿池４０にもＵＶ計
４１を設け、これらＤＯ計１２およびＵＶ計４１からの
信号に基づいて酸素供給制御装置１３により水中ポンプ
１１を制御してもよい。(2-1) Inside the drain pipe 1 (2-2) Inside the pump well 2 (2-3) Inside the drain pipe 5 (2-4) Inside the connecting pipe 42 (2-5) Inside the aeration tank 43 -6) Inside the sewage treatment process downstream of the aeration tank 43 (final sedimentation basin, discharge channel) (2-7) Inside the simple discharge pipe downstream of the aeration tank 43 (Modification 3) In FIG. DO in well 2
A total meter 12 may be provided, and a UV meter 41 may also be provided in the first sedimentation tank 40, and the submersible pump 11 may be controlled by the oxygen supply controller 13 based on signals from the DO meter 12 and the UV meter 41.
【００５６】[0056]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、下水道設
備において臭気物質である硫化水素の発生を抑制するこ
とができ、かつ有機物低減を抑制することができる。こ
のため下水道設備における臭気対策を有効に図ることが
でき、同時に下水処理場内において有機物を有効に用い
て窒素・リンを確実に除去することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to suppress the generation of odorous hydrogen sulfide in sewerage facilities, and to suppress the reduction of organic substances. Therefore, it is possible to effectively take measures against odors in the sewage facilities, and at the same time, it is possible to reliably remove nitrogen and phosphorus by effectively using organic substances in the sewage treatment plant.
【図１】本発明による下水道設備の水質制御装置の第１
の実施の形態を示す概略図。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a water quality control device for a sewer system according to the present invention.
FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment.
【図２】本発明による下水道設備の水質制御装置の変形
例を示す概略図。FIG. 2 is a schematic view showing a modified example of the water quality control device of the sewerage facility according to the present invention.
【図３】本発明による下水道設備の水質制御装置の他の
変形例を示す概略図。FIG. 3 is a schematic diagram showing another modified example of the water quality control device for sewerage equipment according to the present invention.
【図４】本発明による下水道設備の水質制御装置の他の
変形例を示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view showing another modification of the water quality control device for the sewerage system according to the present invention.
【図５】図４に示す実施の形態の側面図。FIG. 5 is a side view of the embodiment shown in FIG.
【図６】本発明による下水道設備の水質制御装置の第２
の実施の形態を示す概略図。FIG. 6 shows a second embodiment of the water quality control device for sewage equipment according to the present invention.
FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment.
【図７】従来の下水道設備を示す概略図。FIG. 7 is a schematic diagram showing a conventional sewer system.
【図８】下水中のＤＯと有機物分解およびＨ２Ｓ生成と
の関係を示す図。FIG. 8 is a diagram showing the relationship between DO in sewage, decomposition of organic matter, and H 2 S generation.
１ 下水管 ２ ポンプ井 ４ 揚水ポンプ ５ 下水管 ６ 下水処理場 ７ 下水 １１ 水中ポンプ １２ ＤＯ計 １３ 酸素供給制御装置 １７ 戻し管 １８、３３、３４ 開閉弁 ２１ ブロア ２２ 空気管 ２３ 散気管 ４０ 最初沈殿池 ４１ ＵＶ計 Reference Signs List 1 sewage pipe 2 pump well 4 pump 5 sewage pipe 6 sewage treatment plant 7 sewage 11 submersible pump 12 DO meter 13 oxygen supply control device 17 return pipe 18, 33, 34 on-off valve 21 blower 22 air pipe 23 diffuser pipe 40 first sedimentation Pond 41 UV meter
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長 岩 明 弘 東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 堀 江 一 宏 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝本社事務所内 (72)発明者 仲 田 雅司郎 東京都港区芝浦一丁目１番１号 株式会社 東芝本社事務所内 Ｆターム(参考） 2D063 EA03 4D027 CA07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Akihiro Chowa 1 Toshiba-cho, Fuchu-shi, Tokyo Inside the Fuchu Plant, Toshiba Corporation (72) Inventor Kazuhiro Horie 1-1-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo Toshiba Corporation Head Office (72) Inventor Masashiro Nakata 1-1-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo F-term (Reference) 2D063 EA03 4D027 CA07
Claims (3)
を収納した下水道設備の水質制御装置において、 下水道設備内に設置され、下水中に酸素を供給する酸素
供給装置と、 下水道設備内に設置され、下水の嫌気反応を測定する嫌
気反応測定部と、 嫌気反応測定部からの信号に基づいて酸素供給装置を制
御する酸素供給制御装置と、 を備えたことを特徴とする下水道設備の水質制御装置。1. A water quality control device for a sewerage facility disposed upstream of a sewage treatment plant and containing sewage therein, comprising: an oxygen supply device installed in the sewage facility to supply oxygen to the sewage; An anaerobic reaction measurement unit that measures anaerobic reaction of sewage, and an oxygen supply control device that controls an oxygen supply device based on a signal from the anaerobic reaction measurement unit. Water quality control device.
を収納した下水道設備の水質制御装置において、 下水道設備内に設置され、下水中に酸素を供給する酸素
供給装置と、 下水の水質を測定する水質測定部と、 水質測定部からの信号に基づいて酸素供給装置を制御す
る酸素供給制御装置と、 を備えたことを特徴とする下水道設備の水質制御装置。2. A water quality control device for a sewage system disposed upstream of a sewage treatment plant and containing sewage therein, comprising: an oxygen supply device installed in the sewage system to supply oxygen to the sewage; A water quality control device for sewage equipment, comprising: a water quality measurement unit that measures the water quality; and an oxygen supply control device that controls the oxygen supply device based on a signal from the water quality measurement unit.
を収納した下水道設備の水質制御装置において、 下水道設備内に設置され、下水中に酸素を供給する酸素
供給装置と、 下水道設備内に設置され、下水の嫌気反応を測定する嫌
気反応測定部と、 下水の水質を測定する水質測定部と、 嫌気反応測定部からの信号および水質測定部からの信号
に基づいて酸素供給装置を制御する酸素供給制御装置
と、 を備えたことを特徴とする下水道設備の水質制御装置。3. A water quality control device for a sewage system disposed upstream of a sewage treatment plant and containing sewage therein, comprising: an oxygen supply device installed in the sewage system to supply oxygen to the sewage; An anaerobic reaction measurement section installed in the sewage system to measure the anaerobic reaction of sewage, a water quality measurement section to measure the sewage water quality, and controls the oxygen supply device based on signals from the anaerobic reaction measurement section and signals from the water quality measurement section A water quality control device for sewage equipment, comprising: an oxygen supply control device;
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|---|---|---|---|
| JP2000033960A JP2001219183A (en) | 2000-02-10 | 2000-02-10 | Water quality control apparatus of sewerage equipment |
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