JP2001216620A

JP2001216620A - 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置

Info

Publication number: JP2001216620A
Application number: JP2000022312A
Authority: JP
Inventors: Teruaki Takeuchi; 輝明竹内; Fumiyoshi Kirino; 文良桐野; Nobuyuki Inaba; 信幸稲葉; Koichiro Wakabayashi; 康一郎若林; Tetsuo Mizumura; 哲夫水村; Masaki Sekine; 正樹関根; Harumi Sakamoto; 晴美坂本; Tomoko Sotani; 朋子曽谷; Takeshi Konuma; 剛小沼; Norio Ota; 憲雄太田
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 2000-01-31
Filing date: 2000-01-31
Publication date: 2001-08-10

Abstract

(57)【要約】【課題】高密度記録に伴う磁気記録減磁を緩和する補
助層を設けながらも、再生感度の高いＭＲ素子あるいは
ＧＭＲ素子を用いた記録再生が可能な磁気記録媒体を提
供する。【解決手段】少なくとも基板と磁気記録層とを有する
磁気記録媒体において、基板と磁気記録層との間に補助
層を配設し、補助層のキュリー温度を磁気記録層のキュ
リー温度よりも５０℃以上低くする。好ましくは、磁気
記録層及び補助層が共に面内磁化膜であり、補助層のキ
ュリー温度が１００℃〜３００℃の範囲内であり、前記
補助層のキュリー温度と前記磁気記録層のキュリー温度
との差が５０℃〜３５０℃の範囲内である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は高密度記録に好適な
磁気記録媒体及び磁気記録装置に関する。更に詳細に
は、本発明は光アシスト方式の高密度記録用磁気記録媒
体および記録再生装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】情報ネットワークの進展及びマルチメデ
ィアの普及に伴い、これを支える主要な情報記録装置で
ある磁気ディスク装置においては、装置の小型化、低価
格化の要求に伴い、高密度化が重要な課題である。

【０００３】ところで、現在実用化されている磁気ディ
スク装置は、面内磁気記録方式を用いたものである。す
なわち、ディスク面と平行な方向に磁化しやすい磁性膜
を用い、面内方向の磁区を形成して記録を行うものであ
る。面内磁気記録において高密度記録を進めると、磁化
方向の異なる磁区の境界から生じる磁界が微小磁区の形
成を阻害する。すなわち、反磁界の増加により高密度記
録が困難となる。反磁界は、記録層の厚さを減少させる
と低下するため、記録密度を向上させるには、磁性膜厚
を減少させることが必須である。しかし、磁性膜が非常
に薄くなると、室温においても、磁化の熱揺らぎによ
り、時間の経過に伴い記録磁化が減少し、再生出力が低
下するという問題が生じる。

【０００４】このような問題点を解決する技術として、
キーパー層を配置した記録媒体を用いた磁気記録方式が
特許第２７０４９５７号公報に開示されている。図９に
示すように、基板９０の上面に磁気記録層９２が配設さ
れ、この磁気記録層９２の上面にキーパー層９４が配設
されている。キーパー層９４は軟磁性体からなる補助層
である。磁気記録層９２が記録磁化状態にある時、キー
パー層９４は軟磁性層であるため、磁気記録層９２の磁
化反転領域からの漏洩磁界により、キーパー層９４は磁
気記録層９２と逆方向に磁化する。これにより磁気記録
層９２に働く反磁界が減少するため、記録密度を増加し
ても反磁界の影響が緩和され、これに基づく減磁も緩和
される。

【０００５】しかし、特許第２７０４９５７号公報に開
示されたキーパー層９４は重大な問題点を有することが
認められた。その問題点とは、キーパー層９４に対し
て、現在のハードディスク装置で広く用いられている磁
気抵抗効果(MR)磁気ヘッドをそのまま用いることができ
ないということである。

【０００６】前記のキーパー層９４の役割から明らかな
ように、磁気記録層９２に対しては、キーパー層９４は
一種のシールドとなるため、記録時あるいは再生時には
このシールドを破る必要がある。そのために、磁気ヘッ
ド９６に直流のバイアス電流を流し、磁気ヘッド９６の
空隙直下の領域に直流磁界を印加し、この領域のキーパ
ー層９４を磁気的に飽和させて実効的にシールドに窓を
開ける。磁気ヘッド９６の再生素子としては、再生感度
の高い磁気抵抗効果(MR)素子あるいは巨大磁気抵抗効果
(GMR)素子を用いることが望ましい。しかし、これらの
素子は、それ自体、磁界印加機能を有していないため、
通常のＭＲ素子あるいはＧＭＲ素子をそのまま用いて
も、前記キーパー層９４を設けた磁気記録媒体の再生を
行うことはできない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、高密度記録に伴う磁気記録減磁を緩和するキーパー
層を設けながらも、再生感度の高いＭＲ素子あるいはＧ
ＭＲ素子を用いた再生が可能な、高密度の磁気記録再生
装置を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題は、磁気記録層
が磁性を有する温度範囲内で、光ビーム照射等の方法で
温度を上昇させると磁性を失う特性を有する補助層を使
用し、このような特性を有する補助層を磁気記録層と基
板との間に配設することにより解決される。

【０００９】本発明の磁気記録媒体を用いれば、記録あ
るいは再生動作において、収束した光ビームを照射して
記録媒体の温度を局所的に上昇させ、該当個所の補助層
の磁性を失わせることにより、ＭＲ素子あるいはＧＭＲ
素子をそのまま用いても、高密度な磁気記録と再生が可
能となる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の磁気記録媒体について具体的に説明する。図１は本発
明の磁気記録媒体の一例の概要断面図である。本発明の
磁気記録媒体１０は基本的には、基板１と、その上面に
配設された補助層２と、この補助層２の上面に配設され
た磁気記録層４からなる。

【００１１】基板１は光透過性の材料からなる非磁性基
板である。このような非磁性基板は例えば、ガラス、強
化ガラス、石英、又は合成樹脂類（例えば、アクリル樹
脂）などから構成されている。本発明の磁気記録媒体に
おける基板としては、光透過性の透明な石英、ガラス又
は強化ガラスが好ましい。基板の厚さ自体は用途に応じ
て適宜選択することができる。

【００１２】基板１の上面には補助層２が配設されてい
る。本発明の磁気記録媒体においては、補助層２のキュ
リー温度は室温よりも高く、磁気記録層（下記で詳細に
説明する）のキュリー温度よりも十分に低くなければな
らない。補助層のキュリー温度は一般的に、１００℃〜
３００℃の範囲内であり、使用される磁気記録層のキュ
リー温度よりも５０℃以上低いことが好ましい。補助層
のキュリー温度と磁気記録層のキュリー温度との差が５
０℃未満の場合、記録あるいは再生動作において、収束
した光を照射して記録媒体の温度を局所的に上昇させ、
該当個所の補助層の磁性のみを失わせることが困難とな
る。従って、本発明の磁気記録媒体では、補助層のキュ
リー温度と磁気記録層のキュリー温度との差が大きいほ
ど好ましいが、温度差の上限値は一般的に、３５０℃程
度である。これ以上の温度差があっても本発明の所期の
効果は飽和し、得るべきものはない。

【００１３】補助層２の形成材料としては、キュリー温
度の調整が容易な非晶質材料を使用することが好まし
い。特に、補助層２は非晶質構造の磁性層であることが
好ましい。補助層２は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉの内の少なく
とも１種類の元素と、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、
Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙ
ｂ、Ｌｕ、Ｙ及びＣｕの内の少なくとも１種類の元素か
ら形成することが好ましい。この様な目的に適する非晶
質材料は例えば、ＥｒＦｅＣｏ、ＴｍＦｅＣｏ、ＹｂＦ
ｅＣｏ、ＬｕＦｅＣｏ、ＳｍＦｅＣｏ、ＥｕＦｅＣｏ、
ＮｉＣｕなどである。これら以外の材料も使用できる。
これらの各元素の組成比を変化させることにより補助層
２のキュリー温度を調整することができる。従って、使
用される磁気記録層のキュリー温度が決定されたら、こ
の磁気記録層のキュリー温度に基づき、補助層形成材料
の組成を適宜選択して所望のキュリー温度に設定するこ
とができる。補助層２は多結晶構造の金属磁性層である
こともできる。

【００１４】補助層２は例えば、スパッタ法あるいは真
空蒸着法といつた常用のベーパデポジション法により形
成することができる。このような薄膜形成方法の詳細は
当業者に公知である。本発明の補助層２は例えば、直流
マグネトロンスパッタ法により形成することが好まし
い。成膜される補助層２の膜厚は一般的に、１０ｎｍ〜
１００ｎｍの範囲内である。補助層２の膜厚が１０ｎｍ
未満の場合、高密度記録に伴う磁気記録減磁を緩和する
キーパー層としての機能を十分に果たすことができな
い。一方、補助層２の膜厚が１００ｎｍ超の場合、収束
した光を照射して記録媒体の温度を局所的に上昇させて
も該当個所の補助層の熱応答性が低すぎて高密度記録に
伴う磁気記録減磁を緩和するキーパー層としての機能を
十分に果たすことができない。補助層２は１０ｎｍ〜３
０ｎｍの範囲内の膜厚を有することが好ましい。

【００１５】磁気記録層４は通常に磁気記録媒体で使用
される磁性層と同様なものであるが、通常の磁気ヘッド
が適用できるという観点から、面内磁気異方性を有する
面内磁化膜であることが好ましい。従って、本発明の磁
気記録媒体における磁気記録層４の形成材料は、通常の
磁気記録媒体の磁性層形成に使用される強磁性体類と同
様な材料である。磁気記録層４は多結晶構造を有する金
属磁性層であることが好ましい。このような材料は例え
ば、Ｃｏを主体とし、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ及
びＳｉからなる群から選択される少なくとも２種類の元
素を含有する合金類であることが好ましい。磁気記録層
４は例えば、多結晶構造を有するＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔから
なる強磁性層であることが好ましい。

【００１６】磁気記録層４の形成材料を選択する際、磁
気記録層４のキュリー温度を考慮して選択すべきであ
る。磁気記録層４のキュリー温度が低すぎると、補助層
２のキュリー温度との差が５０℃未満となり、本発明の
所期の効果が得られない恐れがある。従って、磁気記録
層４の形成材料を選択する際、磁気記録層４のキュリー
温度が補助層２のキュリー温度よりも５０℃以上、好ま
しくは１００℃以上高くなるように、選択し、また必要
に応じて、選択された各元素の組成を調整することが好
ましい。

【００１７】磁気記録層４の成膜方法は特に限定されな
い。常用の薄膜形成方法ならば全て使用できる。磁気記
録層４は、例えばスパッタ法あるいは真空蒸着法といつ
た常用のベーパデポジション法により製造することがで
きる。このような成膜方法の詳細は当業者に公知であ
る。別法として、磁気記録層４はパルスメッキ法によっ
ても形成することができる。磁気記録層４の膜厚は特に
限定されない。磁気記録層４の膜厚は一般的に、８ｎｍ
〜４０ｎｍの範囲内である。

【００１８】図２は本発明の磁気記録媒体の別の例の概
要断面図である。図２に示された磁気記録媒体１１は、
補助層２と磁気記録層４との間に中間層３を有し、更
に、磁気記録層４の上面に保護層５と潤滑層６を有す
る。

【００１９】補助層２の上面の中間層３は、磁気記録層
４が面内磁気異方性を有するように、磁気記録層４の結
晶配向性を制御するために使用される。中間層３を使用
することにより、磁気記録層４のＣｏを高密度記録に適
した方向、例えば、（１１．０）面に配向させることが
できる。しかし、中間層３の使用自体は本発明の必須要
件ではない。中間層３も例えば、スパッタ法あるいは真
空蒸着法といつた常用のベーパデポジション法により形
成することができる。中間層３の形成材料は例えば、Ｃ
ｒ、ＣｒＴｉなどである。中間層３は非磁性であること
が好ましい。中間層３の膜厚は特に限定されないが、一
般的に、５ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であることが好まし
い。中間層３の膜厚が５ｎｍ未満の場合、磁気記録層４
の結晶配向性を制御することが困難となる。一方、中間
層３の膜厚が４０ｎｍ超の場合、結晶配向性制御効果が
飽和し、不経済となる。

【００２０】保護層５は非磁性であり、例えばカーボン
膜、ＳｉＯ₂膜、ＳｉＮ膜などの保護膜が使用される。
保護層５も例えば、スパッタ法あるいは真空蒸着法とい
つた常用のベーパデポジション法により形成することが
できる。

【００２１】潤滑層６は例えば、当業者に公知の脂肪族
系，アミン系又はフッ素系潤滑剤を保護層５に塗布する
ことにより形成される。保護層５及び潤滑層６の膜厚は
特に限定されない。このような膜厚は当業者に公知であ
る。

【００２２】次に、図３〜図６を参照しながら、本発明
の磁気記録媒体における補助層２の作用機序と、その効
果を説明する。

【００２３】図３は、本発明の磁気記録媒体の基板１側
から収束した光ビームを照射した状態を示す模式的説明
図である。符号３４は光ビーム照射領域を示す。ビーム
の中央部付近の補助層２は加熱され高温領域となる。補
助層２は、磁気記録層４が磁性を有する温度範囲内で、
光ビーム照射などの方法で温度を上昇させると磁性を失
う特性を有する。本発明の磁気記録媒体における記録あ
るいは再生動作は、収束した光を照射して磁気記録媒体
の温度を局所的に上昇させた状態で磁気ヘッドを動作さ
せて行う。

【００２４】記録動作において、図４に示すように、記
録ビット位置（図中の符号２００で示される位置）に光
を照射して磁気記録媒体の温度を上昇させると、補助層
２は符号２００で示される斜線を施した高温領域におい
て磁性を失う。このため、磁気記録媒体は、磁気記録層
４のみがある通常の磁気記録媒体と実効的に同様なもの
となる。したがって、符号２２１と２２４で示される部
材から成る磁気ヘッドの記録素子を用いて記録動作を行
なうと、記録ビット位置２００において、それに対応し
た記録磁化状態が形成される(図中の白抜き矢印)。

【００２５】次に、図５に示すように、上述の記録ビッ
ト位置２０２が光照射領域３４から外れると、そこでの
温度が低下し、補助層２は磁性を有するようになる。そ
の際に、磁気記録層４の磁化反転領域すなわち磁化方向
の異なる領域の境界から生じる磁界により、補助層２の
磁化方向は磁気記録層４の磁化方向と逆方向になる。ビ
ット位置２０２以外のビット位置２０４においても同様
であり、補助層２の磁化方向は、磁気記録層４の磁化方
向と反対方向となる。

【００２６】このように、磁気記録層４の磁化反転領域
の磁極と補助層２の磁化反転領域の磁極とが逆極性とな
るめ、反磁界が減少する。このため、高密度記録を行な
っても長期間経過後の減磁が抑制される。

【００２７】前記情報保持状態においては、補助層２の
磁極が磁気記録層４の磁極を打ち消す配置になっている
ため、磁気記録層の磁化反転領域からの漏洩磁界は小さ
い。したがって、この状態で磁気ヘッドの再生素子を動
作させても、再生出力は小さい。このため、再生動作に
おいては、図６に示すように、再生すべきビット位置近
傍に光を照射し、補助層２の斜線部を非磁性化する。補
助層２が非磁性となると、磁気記録層４の磁化反転領域
の磁極から生じる漏洩磁界は、補助層２を設けない通常
の磁気記録媒体と同様に大きいため、この上を符号２２
２、２２３及び２２４で示される部材から成るＭＲヘッ
ドが通過すると、通常の再生出力が得られる。

【００２８】以上説明したように、本発明の磁気記録媒
体１０においては、基板１と磁気記録層４との間に配設
された補助層２の働きにより記録状態の安定性が高く、
更に、ＭＲ磁気ヘッドあるいはＧＭＲ磁気ヘッドが利用
できるため、高い再生出力が得られる。

【００２９】

【実施例】以下、実施例により本発明の磁気記録媒体を
具体的に例証する。

【００３０】実施例１図２に示される構造を有する磁気記録媒体１１を次のよ
うにして作製した。先ず、基板１として、直径２．５イ
ンチの強化ガラス基板を使用した。この基板上に直流マ
グネトロンスパッタ法で以下の層を順次形成した。ター
ゲットは６インチのもので、放電用のアルゴンガス圧を
１千分の３トールとし、１ｋＷの電力を投入した。補助
層２には、キュリー温度の調整が容易な非晶質磁性材料
を用い、面内磁化のＥｒＦｅＣｏ層を膜厚８ｎｍとし
て、基板を加熱せずに形成した。この補助層２のキュリ
ー温度は、組成を調整し、２００℃に設定した。補助層
２から上の層は、いずれも基板温度を２５０℃として形
成した。中間層３は、膜厚３０ｎｍのＣｒＴｉ層で、磁
気記録層４が面内磁気異方性を有するように磁気記録層
の結晶配向を制御する層である。中間層３上の磁気記録
層４は、多結晶構造のＣｏＣｒＰｔ層であり、膜厚を１
２ｎｍとした。この上の保護膜５は炭素の層で、膜厚５
ｎｍとして形成した。潤滑層６としてフッ素系潤滑剤を
塗布した。

【００３１】前記のようにして作製された磁気記録媒体
１１の記録再生方式を図７を参照しながら説明する。

【００３２】図７において、磁気ヘッド２０は、セラミ
ックスから成るスライダ２１と記録再生素子２２から構
成され、支持バネ２３で固定されている。磁気記録媒体
１１の加熱は、レーザ光源３１を用いて局所的に行な
う。すなわち、レーザ光源３１から射出した光は、光フ
ァイバ３２で集光レンズ３３に導かれ、磁気記録媒体１
１の基板１を透過して磁気記録層４の所定の領域に集光
される。光ファイバ以外のレーザ光導波手段（例えば、
ミラー）も使用できる。

【００３３】上記のような配置構成における磁気ヘッド
の記録再生素子位置と光が集光された領域との関係を図
８に示す。これは、磁気ヘッドの底部を基板１側から見
たものである。図８において、符号２２２の部材は再生
用の磁気抵抗効果(MR)素子であり、ＭＲ素子２２２を挟
むシールド２２３および２２４と共に再生素子を構成す
る。符号２２１は記録用磁極を示し、シールド２２４と
共に記録素子を形成する。すなわち、この実施例で使用
する磁気ヘッドは誘導型記録素子とＭＲ方式の再生素子
を複合した磁気ヘッドであり、ハードディスク装置で現
在一般的に用いられているものである。レーザ光の集光
領域は円形の領域３４であり、その大きさは磁気ヘッド
の記録用磁極の幅、ＭＲ素子の幅およびシールドを含む
各磁極間の間隔に比べ大きい。

【００３４】以上の構成において、記録は以下のように
行なった。磁気記録媒体１１の基板１表面への集光によ
り、磁気記録媒体１１上で光照射領域３４に対向する領
域の温度が約２５０℃に上昇する。補助層２のキュリー
温度は２００℃であるため、この温度上昇により、前記
の図４に示すように、補助層２は光照射領域直下では非
磁性となり、この領域では磁気的には補助層２が存在し
ないのと等価である。この状態で、記録用磁極２２１と
シールド２２４で構成される記録素子により磁気記録媒
体１１に磁界を印加することにより磁気記録層４への記
録動作を行なった。

【００３５】光照射を止めるか、または上記記録された
領域が光照射領域を外れると、温度が室温近傍にまで低
下するので、補助層２は磁性を有し面内磁化層となる。
この面内磁化層は、磁気記録層４の磁化反転領域から発
生する漏洩磁界により、前記の図５における光照射領域
からはずれた領域で見られるように、磁気記録層４の磁
化方向と逆方向となる。このような磁化配置により、磁
気記録層４の反磁界が低下するため、記録の安定性が向
上される。

【００３６】再生動作においては、磁気記録媒体１１の
基板１の表面に光を集光し、局所的に温度を上昇させ
る。これにより磁気記録媒体１１上で光照射領域３４に
相当する領域の温度が約２５０℃に上昇する。補助層２
のキュリー温度は２００℃であるため、この温度上昇に
より、前記の図６に示すように、補助層２は光照射領域
直下では非磁性となり、この領域では磁気的には補助層
が存在しないのと等価である。この状態で、ＭＲ素子２
２２を挟むシールド２２３及び２２４で構成される記録
素子を用いて再生を行った。すなわち、磁性が消失した
補助層２の直上の磁気記録層４における磁化反転の境界
から生じる漏洩磁界をＭＲ素子２２２により検出した。
ここでは、ＭＲ素子を用いたが、ＧＭＲ素子を用いれ
ば、さらに高い検出感度が得られる。

【００３７】上記実施例で作製された磁気記録媒体１１
の記録再生特性を測定した結果、線記録密度２５０kFCI
で記録した場合の１００時間後の再生出力の減衰量は２
％であった。比較のために、補助層２を設けない磁気記
録媒体に対して測定したところ、２５０kFCI記録におけ
る１００時間後の減衰量は４％であり、本発明における
補助層２の使用効果が確認できた。

【００３８】上記実施例においては、補助層２の形成材
料としてＥｒＦｅＣｏを用いたが、補助層として、Ｔｍ
ＦｅＣｏ、ＹｂＦｅＣｏ、ＬｕＦｅＣｏ、ＳｍＦｅＣ
ｏ、ＥｕＦｅＣｏ、ＮｉＣｕなども同様に使用すること
ができる。また、レーザ光以外の加熱手段も使用でき
る。

【００３９】実施例２補助層２の形成材料としてＮｉＣｕを使用したこと及び
補助層２の膜厚を５０ｎｍとしたこと以外は、前記の実
施例１と同様にして、図２に示される構造を有する磁気
記録媒体１１を作製した。ＮｉＣｕの組成に関しては、
キュリー温度が２００℃となるように組成比を選んだ。
したがって、室温では十分大きな磁化を有するが、キュ
リー温度である２００℃を超えると磁性を失う。

【００４０】本実施例で作製された磁気記録媒体１１の
記録再生特性を、前記実施例１で述べた方法と同様の方
法で測定した。その結果、線記録密度２５０kFCIで記録
した場合の１００時間後の再生出力の減衰量は１％であ
った。すなわち、再生出力の減衰量は、前記実施例１に
おける減衰量よりも小さく、特性が良好である。その理
由は、補助層２の室温での透磁率が前記実施例１よりも
大きいことに基づき、磁気記録層４の磁化反転領域から
の磁束が効率的に補助層２を通り、磁気記録層４の反磁
界を弱める効果が大きいためと推定される。

【００４１】本発明の磁気記録再生装置はフレキシブル
ディスク装置であることもできるが、高密度記録及び高
速記録再生の観点からハードディスク装置として使用す
ることが好ましい。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板と磁気記録層との間に補助層を設けることにより、
高密度記録を行った場合においても記録状態の安定性を
向上させることができる。また、再生感度の高い磁気抵
抗効果(MR)素子を用いた再生が可能となり、高密度の磁
気記録再生が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一例の概要断面図であ
る。

【図２】本発明の磁気記録媒体の別の例の概要断面図で
ある。

【図３】図１に示された磁気記録媒体の基板側から光を
照射した状態を示す模式的説明図である。

【図４】図１に示された磁気記録媒体の基板側から光を
照射した状態で磁気ヘッドにより磁気記録する概念を示
す模式的説明図である。

【図５】図１に示された磁気記録媒体の基板側から光を
照射した状態で磁気ヘッドにより磁気記録する概念を示
す別の模式的説明図である。

【図６】図１に示された磁気記録媒体の基板側から光を
照射した状態で磁気ヘッドにより磁気再生する概念を示
す模式的説明図である。

【図７】本発明の実施例１で得られた磁気記録媒体を記
録再生するための機構を示す概念的構成図である。

【図８】本発明の磁気記録媒体の記録再生に使用される
磁気ヘッド底部の構造を示す平面図である。

【図９】特許第２７０４９７５号公報に記載された磁気
記録方式を説明する模式図である。

【符号の説明】

１基板２補助層３中間層４磁気記録層５保護層６潤滑層１０本発明による磁気記録媒体１１本発明による別の磁気記録媒体２０磁気ヘッド２１スライダ２２記録再生素子２３支持バネ３１レーザ光源３２光ファイバ３３集光レンズ３４光照射領域２００補助層内の高温領域２０２記録ビット位置２０４記録ビット位置２２１記録用磁極２２２ＭＲ素子２２３シールド２２４シールド

フロントページの続き (72)発明者稲葉信幸大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者若林康一郎大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者水村哲夫大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者関根正樹大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者坂本晴美大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者曽谷朋子大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者小沼剛大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者太田憲雄大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内Ｆターム(参考） 5D006 BB01 BB07 BB08 CB07 DA03 5D075 AA03 CC07 CC39 CD06 5D091 AA10 CC05 CC30 DD03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、基板と磁気記録層とを有す
る磁気記録媒体において、前記基板と前記磁気記録層との間に補助層が配設されて
おり、前記補助層のキュリー温度が前記磁気記録層のキ
ュリー温度よりも５０℃以上低いことを特徴とする磁気
記録媒体。
【請求項２】前記磁気記録層及び前記補助層が共に面
内磁化膜であり、前記補助層のキュリー温度が１００℃
〜１３０℃の範囲内であり、前記補助層のキュリー温度
と前記磁気記録層のキュリー温度との差が５０℃〜３５
０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の
磁気記録媒体。
【請求項３】前記補助層と前記磁気記録層との間に非
磁性の中間層が更に配設されていることを特徴とする請
求項１又は２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記磁気記録層が多結晶構造の金属磁性
層であり、前記補助層が非晶質構造の磁性層であること
を特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の磁気記録媒
体。
【請求項５】前記磁気記録層がＣｏを主体とし、Ｃ
ｒ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ及びＳｉからなる群から選
択される少なくとも２種類の元素を含有する合金の強磁
性層であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記
載の磁気記録媒体。
【請求項６】前記補助層がＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉの内の少
なくとも１種類の元素と、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ
ｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔ
ｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ及びＣｕの内の少なくとも１種類の
元素とを含有することを特徴とする請求項１〜４の何れ
かに記載の磁気記録媒体。
【請求項７】前記磁気記録層及び前記補助層が何れも
多結晶構造の金属磁性層であることを特徴とする請求項
１〜３の何れかに記載の磁気記録媒体。
【請求項８】前記磁気記録層がＣｏを主体とし、Ｃ
ｒ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ及びＳｉからなる群から選
択される少なくとも２種類の元素を含有する合金の強磁
性層であることを特徴とする請求項７に記載の磁気記録
媒体。
【請求項９】前記補助層がＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉの内の少
なくとも１種類の元素と、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ
ｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔ
ｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ及びＣｕの内の少なくとも１種類の
元素とを含有することを特徴とする請求項７に記載の磁
気記録媒体。
【請求項１０】前記基板が光透過性材料から構成され
ていることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載の
磁気記録媒体。
【請求項１１】磁気ヘッドと、該磁気ヘッドに対峙し
て配置された光照射手段とからなり、前記磁気ヘッドと
前記光照射手段との間に磁気記録媒体が配置され、前記
磁気記録媒体の基板側から前記光照射手段により局所的
に光を照射して該磁気記録媒体の光照射部分の温度を上
昇させ、その照射時間内に前記磁気ヘッドを動作させ
て、前記磁気記録媒体の磁気記録層に対する記録または
再生動作を行うことを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１２】前記光照射手段は、レーザ光源と、レ
ーザ光導波手段と、集光レンズとからなり、前記磁気ヘ
ッドはＭＲ磁気ヘッド又はＧＭＲ磁気ヘッドであること
を特徴とする請求項１１に記載の磁気記録再生装置。
【請求項１３】ハードディスク装置であることを特徴
とする請求項１１または１２に記載の磁気記録再生装
置。