JP2001215714A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000025548A JP2001215714A (ja) | 2000-02-02 | 2000-02-02 | 感放射線性樹脂組成物 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000025548A JP2001215714A (ja) | 2000-02-02 | 2000-02-02 | 感放射線性樹脂組成物 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2001215714A JP2001215714A (ja) | 2001-08-10 |
JP2001215714A5 true JP2001215714A5 (de) | 2005-12-22 |
Family
ID=18551395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000025548A Abandoned JP2001215714A (ja) | 2000-02-02 | 2000-02-02 | 感放射線性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001215714A (de) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4295937B2 (ja) * | 2000-12-05 | 2009-07-15 | 株式会社Kri | 活性成分及びそれを用いた感光性樹脂組成物 |
JP4534371B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2010-09-01 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2003186198A (ja) * | 2001-12-19 | 2003-07-03 | Sony Corp | レジスト材料及び露光方法 |
JP2003186197A (ja) * | 2001-12-19 | 2003-07-03 | Sony Corp | レジスト材料及び露光方法 |
KR100853054B1 (ko) | 2003-10-07 | 2008-08-19 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 방사선 경화성 조성물, 그 보존방법, 경화막 형성방법,패턴 형성방법, 패턴 사용방법, 전자부품 및 광도파로 |
WO2005036270A1 (ja) | 2003-10-07 | 2005-04-21 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路 |
JP4488215B2 (ja) | 2004-08-19 | 2010-06-23 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP2006106311A (ja) | 2004-10-05 | 2006-04-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ケイ素含有レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP4626758B2 (ja) | 2005-07-07 | 2011-02-09 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 |
JP4600678B2 (ja) | 2006-02-13 | 2010-12-15 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP4687898B2 (ja) | 2006-03-14 | 2011-05-25 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素ケイ素化合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 |
JP4844695B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2011-12-28 | Jsr株式会社 | 吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法 |
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2000
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