JP2001215714A5 - - Google Patents

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4295937B2 (ja) * 2000-12-05 2009-07-15 株式会社Kri 活性成分及びそれを用いた感光性樹脂組成物
JP4534371B2 (ja) * 2001-03-16 2010-09-01 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP2003186198A (ja) * 2001-12-19 2003-07-03 Sony Corp レジスト材料及び露光方法
JP2003186197A (ja) * 2001-12-19 2003-07-03 Sony Corp レジスト材料及び露光方法
KR100853054B1 (ko) 2003-10-07 2008-08-19 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 방사선 경화성 조성물, 그 보존방법, 경화막 형성방법,패턴 형성방법, 패턴 사용방법, 전자부품 및 광도파로
WO2005036270A1 (ja) 2003-10-07 2005-04-21 Hitachi Chemical Co., Ltd. 放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路
JP4488215B2 (ja) 2004-08-19 2010-06-23 信越化学工業株式会社 レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法
JP2006106311A (ja) 2004-10-05 2006-04-20 Shin Etsu Chem Co Ltd ケイ素含有レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法
JP4626758B2 (ja) 2005-07-07 2011-02-09 信越化学工業株式会社 含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法
JP4600678B2 (ja) 2006-02-13 2010-12-15 信越化学工業株式会社 レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法
JP4687898B2 (ja) 2006-03-14 2011-05-25 信越化学工業株式会社 含フッ素ケイ素化合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法
JP4844695B2 (ja) * 2010-04-28 2011-12-28 Jsr株式会社 吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法

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