JP2001202650A - 光ピックアップ装置、およびそれを用いた光ディスク装置 - Google Patents

光ピックアップ装置、およびそれを用いた光ディスク装置

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JP2001202650A
JP2001202650A JP2000009036A JP2000009036A JP2001202650A JP 2001202650 A JP2001202650 A JP 2001202650A JP 2000009036 A JP2000009036 A JP 2000009036A JP 2000009036 A JP2000009036 A JP 2000009036A JP 2001202650 A JP2001202650 A JP 2001202650A
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laser light
wavelength
laser
pickup device
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JP2000009036A
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Seiji Kajiyama
清治 梶山
Masato Ogata
正人 尾形
Yoshikuni Matsumura
吉晋 松村
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 2つの半導体レーザを用いた場合にも2つの
レーザ光の光軸ずれをなくして光記録媒体に信号を記録
および/または再生できる光ピックアップ装置およびそ
れを用いた光ディスク装置を提供する。 【解決手段】 光ピックアップ装置10は、レーザ光源
1と、選択性回折格子2と、コリメータレンズ3と、光
学素子4と、ハーフミラー5と、対物レンズ6と、集光
レンズ8と、光検出器9とを備える。レーザ光源1は、
第1の半導体レーザ1Aと、第2の半導体レーザ1Bと
を含む。光学素子4は、レーザ光を屈折することにより
第1の半導体レーザ1Aから出射された波長650nm
のレーザ光の光軸と、第2の半導体レーザ1Bから出射
された波長780nmのレーザ光の光軸とを実質的に一
致させる。また、光ピックアップ装置10を用いた光デ
ィスク装置により基板厚0.6mmの光記録媒体7と基
板厚1.2mmの光記録媒体70とに信号を記録および
/または再生を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光軸の異なる2つ
のレーザ光の光軸を一致させて複数の光ディスクに信号
を記録および/または再生できる光ピックアップ装置お
よびそれを用いた光ディスク装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】CD−ROMのように半導体レーザを用
いて情報を読み出す約1.2mmの厚さの光ディスクが
提供されている。この種の光ディスクではピックアップ
用対物レンズにフォーカスサーボ及びトラッキングサー
ボを行うことにより、信号記録面のピット列にレーザビ
ームを照射させ、信号を再生している。
【0003】また、CDと同じ記録密度を有し、1回だ
け記録が可能なCD−Rが実用化され、その信号の記録
や再生には波長780nmのレーザ光が用いられてい
る。更に、最近では長時間の動画を記録するための高密
度が進んでいる。例えば、CD−ROMと同じ直径12
cmの光ディスクに、片面で4.7Gbytesの情報
を記録するDVDが発売されている。DVDのディスク
厚は約0.6mmであり、これを両面貼り合わせること
により、1枚で9.4Gbytesの情報を記録でき
る。
【0004】また、更に、書き換え可能で、記憶容量が
大きく、且つ、信頼性の高い記録媒体として光磁気記録
媒体が注目されており、コンピュータメモリ等として実
用化され始めており、最近では、記録容量が6.0Gb
ytesの光磁気記録媒体の規格化も進められ(AS−
MO(Advanced Storaged Magn
eto Optical disk)規格)、実用化さ
れようとしている。この光磁気記録媒体からの信号の再
生は、レーザ光を照射することにより、光磁気記録媒体
の記録層の磁区を再生層へ転写すると共に、その転写し
た磁区だけを検出できるように再生層に検出窓を形成
し、その形成した検出窓から転写した磁区を検出するM
SR(Magnetically Induced S
uperresolution)法により行われてい
る。そして、この光磁気記録媒体への信号の記録および
/または再生には、波長600〜700nmのレーザ光
が用いられている。
【0005】これらの状況に鑑みれば、将来、CD、C
D−R、DVD、および光磁気記録媒体が併存すること
が想定され、これらの光ディスクを互換再生し、記録可
能な光ディスクには信号を記録できる光ピックアップ装
置が必要となり、現在、CD−RとDVDとを互換再生
できる光ピックアップ装置が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、現在、提案さ
れているCD−R/DVD互換ピックアップは、DVD
の再生用の波長635nmのレーザ光を生成する半導体
レーザと、CD−Rの記録、再生用の波長780nmの
レーザ光を生成する半導体レーザとを1つのパッケージ
に含めるため、2つのレーザ光の光軸はずれる。
【0007】その結果、2つのレーザ光を1つの光検出
器で検出することは困難であるという問題が生じてい
た。また、2つのレーザ光に対応して2つの光検出器を
設けることも考えられるが、その場合は部品点数が増加
し、光ピックアップ装置の低コスト化とコンパクト化を
妨げるという問題があった。そこで、本願発明は、かか
る問題を解決し、2つの半導体レーザを用いた場合にも
2つのレーザ光の光軸ずれをなくして光記録媒体に信号
を記録および/または再生できる光ピックアップ装置お
よびそれを用いた光ディスク装置を提供することを目的
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段および発明の効果】請求項
1に係る発明は、対物レンズによりレーザ光を光記録媒
体に集光照射して光記録媒体に信号を記録および/また
は再生する光ピックアップ装置であって、レーザ光源
と、光学素子とを含む光ピックアップ装置である。レー
ザ光源は、第1の波長を有する第1のレーザ光と、第1
の波長と異なる第2の波長を有する第2のレーザ光とを
光軸を相違させて選択的に生成する。
【0009】また、光学素子は、第1のレーザ光を入射
し、屈折して第1のレーザ光を対物レンズに入射させる
第1の屈折率と、第2のレーザ光を入射し、屈折するこ
とにより第2のレーザ光の光軸を第1のレーザ光の光軸
と実質的に一致させて出射する第2の屈折率とを有す
る。請求項1に記載された光ピックアップ装置において
は、レーザ光源から波長の異なる第1のレーザ光と第2
のレーザ光とが光軸を相違されて選択的に生成される。
そして、第1のレーザ光が光学素子を通過する際には、
第1の屈折率を有する光学素子により屈折されて通過
し、第2のレーザ光が光学素子を通過する際には、第2
の屈折率を有する光学素子により屈折されて第1のレー
ザ光の光軸と実質的に一致させられて通過する。その結
果、第1のレーザ光と第2のレーザ光とは、その光軸を
一致させられて光記録媒体に照射され、その反射光が検
出される。
【0010】従って、請求項1に記載された発明によれ
ば、光軸の異なる2つのレーザ光をその光軸を一致させ
て光記録媒体に信号を記録および/または再生を行うこ
とができる。また、請求項2に係る発明は、第1の基板
厚を有する第1の光記録媒体と、第1の基板厚より厚い
第2の基板厚を有する第2の光記録媒体とに信号を記録
および/または再生する光ピックアップ装置であって、
レーザ光源と、対物レンズと、光学素子と、波長選択性
光学素子とを含む光ピックアップ装置である。
【0011】レーザ光源は、第1の波長を有する第1の
レーザ光と、第1の波長と異なる第2の波長を有する第
2のレーザ光とを光軸を相違させて選択的に生成する。
また、対物レンズは、第1の光記録媒体の第1の基板厚
に適合して設計される。また、光学素子は、第1のレー
ザ光を入射し、屈折して第1のレーザ光を対物レンズに
入射させる第1の屈折率と、第2のレーザ光を入射し、
屈折することにより第2のレーザ光の光軸を第1のレー
ザ光の光軸と実質的に一致させて出射する第2の屈折率
とを有する。
【0012】また、波長選択性光学素子は、光学素子を
通過した第1のレーザ光をそのまま透過して対物レンズ
に導き、光学素子を通過した第2のレーザ光を光軸から
外周側に回折して所定の内周部を対物レンズに導く。請
求項2に記載された光ピックアップ装置においては、レ
ーザ光源から生成された第1のレーザ光は第1の屈折率
を有する光学素子を屈折して通過し、波長選択性光学素
子をそのまま透過して対物レンズにより集光され、第1
の光記録媒体に集光照射される。
【0013】また、レーザ光源から生成された第2のレ
ーザ光は、屈折することにより第1のレーザ光の光軸と
実質的に一致して第2の屈折率を有する光学素子を通過
し、波長選択性光学素子で外周部に回折され、所定の内
周部だけ対物レンズに入射する。そして、対物レンズに
より第2の光記録媒体に集光照射される。つまり、対物
レンズは第1の光記録媒体の第1の基板厚に適合して設
計されているので、第2のレーザ光を対物レンズにより
第2の光記録媒体に集光照射した場合、収差が発生す
る。従って、収差が発生しないように第2のレーザ光を
第2の光記録媒体に集光照射するために波長選択性光学
素子により外周部へ回折するとともに所定の内周部のみ
を対物レンズに導く。
【0014】従って、請求項2に記載された発明によれ
ば、光軸の異なる2つのレーザ光を、光軸を実質的に一
致させて基板厚の異なる光記録媒体に収差なく照射でき
る。また、請求項3に係る発明は、請求項1または請求
項2に記載された光ピックアップ装置において、レーザ
光源は、第1のレーザ光を生成する第1の半導体レーザ
と、第2のレーザ光を生成する第2の半導体レーザとを
含む光ピックアップ装置である。
【0015】請求項3に記載された光ピックアップ装置
においては、レーザ光源は、第1の半導体レーザと第2
の半導体レーザとから構成される。従って、請求項3に
記載された発明によれば、2つの半導体レーザを所望の
距離に設定してレーザ光源を組み立てることができる。
また、請求項4に係る発明は、請求項1から請求項3の
いずれか1項に記載の光ピックアップ装置において、光
学素子は、第1の透明電極と、第2の透明電極と、第1
および第2の透明電極により挟持された液晶とを含み、
第1および第2の透明電極間に第1の電圧を印加するこ
とにより液晶は第1の屈折率を有し、第1および第2の
透明電極間に第2の電圧を印加することにより液晶は第
2の屈折率を有する光ピックアップ装置である。
【0016】請求項4に記載された光ピックアップ装置
においては、レーザ光源から第1のレーザ光が生成され
た場合は、光学素子に含まれる液晶に第1の電圧が印加
されて、液晶の屈折率が第1の屈折率に設定される。そ
して、レーザ光源から第2のレーザ光が生成された場合
は、光学素子に含まれる液晶に第2の電圧が印加され
て、液晶の屈折率が第2の屈折率に設定される。
【0017】従って、請求項4に記載された発明によれ
ば、液晶に第1または第2の電圧を印加することによ
り、第1のレーザ光の光軸と第2のレーザ光の光軸とを
電気的に一致させることができる。また、請求項5に係
る発明は、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載
の光ピックアップ装置と、レーザ光源に含まれる第1お
よび第2の半導体レーザを選択的に駆動するレーザ駆動
回路とを含む光ディスク装置である。
【0018】請求項5に記載された光ディスク装置にお
いては、レーザ駆動回路により光ピックアップ装置のレ
ーザ光源に含まれる第1または第2の半導体レーザが選
択駆動され、第1のレーザ光と第2のレーザ光とを、そ
の光軸を実質的に一致させて光記録媒体に信号を記録お
よび/または再生が行なわれる。従って、請求項5に記
載された発明によれば、光軸の異なる2つのレーザ光を
その光軸を一致させて光記録媒体に信号を記録および/
または再生を行うことができる。
【0019】また、請求項6に係る発明は、請求項3に
記載の光ピックアップ装置と、光学素子の第1および第
2の透明電極間に第1または第2の電圧を印加する液晶
駆動回路とを含む光ディスク装置である。請求項6に記
載された光ディスク装置においては、液晶駆動回路によ
り第1または第2の電圧が光ピックアップ装置の光学素
子に含まれる液晶に印加され、液晶の屈折率が第1また
は第2の屈折率に設定される。
【0020】従って、請求項6に記載された発明によれ
ば、電気的に第1のレーザ光の光軸と第2のレーザ光の
光軸とを実質的に一致させて光記録媒体に信号を記録お
よび/または再生を行うことができる。また、請求項7
に係る発明は、請求項3に記載の光ピックアップ装置
と、光ピックアップ装置から出射される第1のレーザ光
の光軸と第2のレーザ光の光軸との間隔を検出する光軸
間距離検出手段と、光軸間距離検出手段の検出結果に基
づいて光学素子の第1および第2の透明電極間に第1の
電圧または第2の電圧を印加する液晶駆動回路とを含む
光ディスク装置である。
【0021】請求項7に記載された光ディスク装置にお
いては、光軸間距離検出手段により第1のレーザ光の光
軸と第2のレーザ光の光軸との距離が検出され、その検
出結果に基づいて第2のレーザ光を使用する際に、光ピ
ックアップ装置の光学素子に含まれる液晶に印加すべき
第2の電圧が決定される。そして、液晶駆動回路は、第
1のレーザ光がレーザ光源から生成されたときは、液晶
に第1の電圧を印加し、第2のレーザ光がレーザ光源か
ら生成されたときは、液晶に第2の電圧を印加する。
【0022】従って、請求項7に記載された発明によれ
ば、レーザ光源から生成された第1のレーザ光の光軸
と、第2のレーザ光の光軸とを自動的に補正できる。ま
た、請求項8に係る発明は、対物レンズによりレーザ光
を光記録媒体に集光照射して光記録媒体に信号を記録お
よび/または再生する光ピックアップ装置であって、レ
ーザ光源と、光学素子とを含む光ピックアップ装置であ
る。
【0023】レーザ光源は、第1の波長を有する第1の
レーザ光と、第1の波長と異なる第2の波長を有する第
2のレーザ光と、第1の波長および第2の波長と異なる
第3の波長を有する第3のレーザ光とを光軸を相違させ
て選択的に生成する。また、光学素子は、第1のレーザ
光を入射し、屈折して第1のレーザ光を対物レンズに入
射させる第1の屈折率と、第2のレーザ光を入射し、屈
折することにより第2のレーザ光の光軸を第1のレーザ
光の光軸と実質的に一致させて出射する第2の屈折率
と、第3のレーザ光を入射し、屈折することにより第3
のレーザ光の光軸を第1のレーザ光の光軸と実質的に一
致させて出射する第3の屈折率とを有する。
【0024】請求項8に記載された光ピックアップ装置
においては、レーザ光源から波長の異なる第1のレーザ
光、第2のレーザ光、および第3のレーザ光が光軸を相
違されて選択的に生成される。そして、第1のレーザ光
が光学素子を通過する際には、第1の屈折率を有する光
学素子により屈折されて通過し、第2のレーザ光が光学
素子を通過する際には、第2の屈折率を有する光学素子
により屈折されて第1のレーザ光の光軸と実質的に一致
させられて通過し、第3のレーザ光が光学素子を通過す
る際には、第3の屈折率を有する光学素子により屈折さ
れて第1のレーザ光の光軸と実質的に一致させられて通
過する。その結果、第1のレーザ光、第2のレーザ光、
および第3のレーザ光は、その光軸を一致させられて光
記録媒体に照射され、その反射光が検出される。
【0025】従って、請求項8に記載された発明によれ
ば、光軸の異なる3つのレーザ光をその光軸を一致させ
て光記録媒体に信号を記録および/または再生を行うこ
とができる。
【0026】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図を参照し
つつ説明する。図1を参照して、本願発明に係る光ピッ
クアップ装置について説明する。本願発明に係る光ピッ
クアップ装置10は、レーザ光源1と、選択性回折格子
2と、コリメータレンズ3と、光学素子4と、ハーフミ
ラー5と、対物レンズ6と、集光レンズ8と、光検出器
9とを備える。
【0027】レーザ光源1は、第1の半導体レーザ1A
と、第2の半導体レーザ1Bとを含む。そして、第1の
半導体レーザ1Aは波長650nm(許容誤差±15n
m)のレーザ光を生成し、第2の半導体レーザ1Bは波
長780nm(許容誤差±15nm)のレーザ光を生成
する。従って、レーザ光源1は、レーザ駆動回路20に
より駆動され、波長650nmのレーザ光と波長780
nmのレーザ光とを光軸を相違させて選択的に出射する
ものである。第1の半導体レーザ1Aと第2の半導体レ
ーザ1Bとの距離は100〜300μmの範囲に設定さ
れる。
【0028】選択性回折格子2は、波長650nmのレ
ーザ光をそのまま透過し、波長780nmのレーザ光を
回折してメインビームと2つのサブビームを出射する。
この場合、選択性回折格子2は、レーザ光の波長の相違
に基づいて波長780nmのレーザ光のみを回折しても
よく、レーザ光の偏光面の相違に基づいて波長780n
mのレーザ光のみを回折しても良い。レーザ光の偏光面
に基づいて波長780nmのレーザ光のみを回折する場
合は、波長780nmのレーザ光の偏光面と波長650
nmのレーザ光の偏光面とが異なるように第1の半導体
レーザ1Aと第2の半導体レーザ1Bとを設置する。
【0029】コリメータレンズ3は、波長780nmの
レーザ光と波長650nmのレーザ光とを平行光にす
る。光学素子4は、後述するように第1の半導体レーザ
1Aから生成された波長650nmのレーザ光と第2の
半導体レーザ1Bから生成された波長780nmのレー
ザ光の光軸とを実質的に一致させるものである。つま
り、光学素子4は液晶を含み、液晶駆動回路21から液
晶に印加する電圧を変えることにより波長650nmの
レーザ光に対する液晶の屈折率と波長780nmのレー
ザ光に対する液晶の屈折率とを変えて2つのレーザ光の
光軸を実質的に一致させるものである。ハーフミラー5
は、光学素子4からの波長650nmのレーザ光と波長
780nmのレーザ光とを透過し、2つのレーザ光の光
記録媒体7または70の信号記録面7aまたは70aで
の反射光の半分を光検出器9の方向へ反射する。
【0030】対物レンズ6は、波長650nmのレーザ
光を基板厚0.6mmの光記録媒体6の信号記録面7a
に集光し、波長780nmのレーザ光を基板厚1.2m
mの光記録媒体70の信号記録面70aに集光照射す
る。即ち、対物レンズ6は、基板厚0.6mmの光記録
媒体7、および基板厚1.2mmの光記録媒体70に集
光照射できるように設計されている。このような対物レ
ンズは、例えば、特開平10−143905号公報に開
示されている。
【0031】集光レンズ8は、ハーフミラー5で反射さ
れたレーザ光を集光し、光検出器9は、集光レンズ8で
集光されたレーザ光を検出する。レーザ駆動回路20
は、レーザ光源1に含まれる第1の半導体レーザ1Aと
第2の半導体レーザ1Bとを選択駆動する。液晶駆動回
路21は、光学素子4に含まれる液晶に電圧を印加す
る。
【0032】光ピックアップ装置10が、選択性回折格
子2を有しているのは、基板厚1.2mmの光記録媒体
であるCD、CD−Rに信号を記録、または再生する際
の対物レンズ6のフォーカスサーボは、CD、CD−R
に3ビームを照射し、その3ビームの反射光を検出して
フォーカスエラー信号を生成する、いわゆるDPP(D
ifferential Push Pull)法を用
い、基板厚0.6mmの光記録媒体であるDVDから信
号を再生する際の対物レンズ6のフォーカスサーボは、
DVDに1ビームを照射し、その1ビームの反射光を検
出してフォーカスエラー信号を生成する、いわゆる非点
収差法を用いるからである。
【0033】光ピックアップ装置10における動作につ
いて説明する。レーザ光源1から出射された波長650
nmのレーザ光は、選択性回折格子2をそのまま透過
し、コリメータレンズ3で平行光にされた後、光学素子
4を屈折して通過し、ハーフミラー5を透過して対物レ
ンズ6に入射する。そして、対物レンズ6で集光され、
光記録媒体7の信号記録面7aに集光照射される。信号
記録面7aで反射された波長635nmのレーザ光は、
対物レンズ6を介してハーフミラー5まで戻り、ハーフ
ミラー5で半分反射されて、集光レンズ8で集光され、
光検出器9で検出される。
【0034】また、レーザ光源1から出射された波長7
80nmのレーザ光は、選択性回折格子2でメインビー
ムと2つのサブビームとに回折されて、コリメータレン
ズ3で平行光にされた後、屈折することにより波長65
0nmのレーザ光の光軸と実質的に一致して光学素子4
を通過し、ハーフミラー5を透過して対物レンズ6に入
射する。そして、対物レンズ6で集光され光記録媒体7
0の信号記録面70aに集光照射される。信号記録面7
0aで反射された波長780nmのレーザ光は、対物レ
ンズ6を介してハーフミラー5まで戻り、ハーフミラー
5で半分反射されて、集光レンズ8で集光され、光検出
器9で検出される。
【0035】図2を参照して、光ピックアップ装置10
の光学素子4の詳細について説明する。光学素子4は、
ガラス板41と、ガラス板41に形成された第1の透明
電極42と、TN型液晶43と、ガラス板45に形成さ
れた第2の透明電極44と、ガラス板45とを備える。
第1および第2の透明電極42、44は、ITO、Zn
O、SnO2等から成り、膜厚は1μm程度である。ま
た、ガラス板41、45の厚さは、0.5mm〜1mm
である。更に、TN型液晶43の厚さtは4〜6mmで
ある。
【0036】波長650nmのレーザ光の光軸LB1O
および波長780nmのレーザ光の光軸LB2Oと、光
学素子4の法線方向とが角度θを成すように光学素子4
が設置される。光学素子4は、ガラス板41に第1の透
明電極42を形成し、ガラス板45に第2の透明電極4
4を形成し、第1および第2の透明電極42、44に接
するようにTN型液晶43をガラス板41とガラス45
とにより挟持したものである。この場合、TN型液晶4
3は、第1の透明電極42と第2の透明電極44との間
で液晶分子が90度ねじれるように配置されるのではな
く、単に第1および第2の透明電極42、44に接して
挟持される。従って、第1の透明電極42と第2の透明
電極との間に電圧を印加しても波長650nmまたは波
長780nmのレーザ光の偏光面が回転されることはな
く、単にTN型液晶43の屈折率が変化するのみであ
る。
【0037】つまり、本願発明においては、波長650
nmのレーザ光が光学素子4を通過する際のTN型液晶
43の屈折率と、波長780nmのレーザ光が光学素子
4を通過する際のTN型液晶43の屈折率とを変えるこ
とにより、波長650nmのレーザ光の光軸と波長78
0nmのレーザ光の光軸とを実質的に一致させるように
2つのレーザ光を屈折するものである。
【0038】図3は、波長650nmのレーザ光および
波長780nmのレーザ光が光学素子4に入射する角θ
を45度一定とし、波長650nmのレーザ光に対する
TN型液晶43の屈折率を1.5一定として、TN型液
晶43の厚さを4mm、5mm、6mmと変化させ、波
長780nmのレーザ光に対するTN型液晶43の屈折
率を1.52から1.70まで変化させたときの補正可
能な光軸間の距離を示したものである。
【0039】図3によれば、例えば、TN型液晶43の
厚さが4mmの場合、波長780nmのレーザ光に対す
るTN型液晶43の屈折率を1.52に設定すれば、2
5.43μmの光軸ずれを補正でき、波長780nmの
レーザ光に対するTN型液晶43の屈折率を1.70に
設定すれば、218.17μmの光軸ずれを補正でき
る。また、TN型液晶43の厚さが5mmの場合、3
1.79μmから272.71μmの範囲で光軸ずれを
補正でき、TN型液晶43の厚さが6mmの場合、3
8.15μmから327.25μmの範囲で光軸ずれを
補正できる。
【0040】図4は、波長650nmのレーザ光および
波長780nmのレーザ光が光学素子4に入射する角θ
を30度一定とし、波長650nmのレーザ光に対する
TN型液晶43の屈折率を1.5一定として、TN型液
晶43の厚さを4mm、5mm、6mmと変化させ、波
長780nmのレーザ光に対するTN型液晶43の屈折
率を1.52から1.70まで変化させたときの補正可
能な光軸間の距離を示したものである。
【0041】図4によれば、例えば、TN型液晶43の
厚さが4mmの場合、波長780nmのレーザ光に対す
るTN型液晶43の屈折率を1.52に設定すれば、1
8.09μmの光軸ずれを補正でき、波長780nmの
レーザ光に対するTN型液晶43の屈折率を1.70に
設定すれば、158.74μmの光軸ずれを補正でき
る。また、TN型液晶43の厚さが5mmの場合、2
2.61μmから198.43μmの範囲で光軸ずれを
補正でき、TN型液晶43の厚さが6mmの場合、2
7.13μmから238.11μmの範囲で光軸ずれを
補正できる。
【0042】図5は、波長650nmのレーザ光および
波長780nmのレーザ光が光学素子4に入射する角θ
を60度一定とし、波長650nmのレーザ光に対する
TN型液晶43の屈折率を1.5一定として、TN型液
晶43の厚さを4mm、5mm、6mmと変化させ、波
長780nmのレーザ光に対するTN型液晶43の屈折
率を1.52から1.70まで変化させたときの補正可
能な光軸間の距離を示したものである。
【0043】図5によれば、例えば、TN型液晶43の
厚さが4mmの場合、波長780nmのレーザ光に対す
るTN型液晶43の屈折率を1.52に設定すれば、2
7.64μmの光軸ずれを補正でき、波長780nmの
レーザ光に対するTN型液晶43の屈折率を1.70に
設定すれば、230.21μmの光軸ずれを補正でき
る。また、TN型液晶43の厚さが5mmの場合、3
4.55μmから287.76μmの範囲で光軸ずれを
補正でき、TN型液晶43の厚さが6mmの場合、4
1.46μmから345.31μmの範囲で光軸ずれを
補正できる。
【0044】図6は、TN型液晶43の屈折率とTN型
液晶43に印加する電圧との関係を示したものである。
印加電圧0〜4Vの範囲ではTN型液晶43の屈折率は
1.50であり、印加電圧4〜10Vの範囲では、TN
型液晶43の屈折率は印加電圧に比例して増加し、印加
電圧10VでTN型液晶43の屈折率は1.70とな
る。そして、印加電圧10V以上ではTN型液晶43の
屈折率は飽和する。
【0045】図7は、図6のTN型液晶43の屈折率と
印加電圧とが比例する領域を拡大して示したものであ
り、本願においては、図7に示す関係を用いる。即ち、
波長635nmのレーザ光の光軸と波長780nmのレ
ーザ光の光軸とのずれ量は第1の半導体レーザ1Aと第
2の半導体レーザ1Bとを設置する際に分かっているの
で、図3、4、5に示す関係から光軸ずれを補正するた
めに波長780nmのレーザ光が光学素子4を通過する
際のTN型液晶43の屈折率を決定し、その屈折率を実
現するためにTN型液晶43に印加すべき電圧を図7に
示す関係から決定する。また、波長650nmのレーザ
光が光学素子4を通過する際のTN型液晶43の屈折率
は1.50であるので、TN型液晶43には0〜4Vの
電圧が印加される。これにより、波長650nmのレー
ザ光の光軸と波長780nmのレーザ光の光軸とを実質
的に一致させることができる。
【0046】なお、本願においては、波長650nmの
レーザ光が光学素子4を通過する際にTN型液晶43に
印加すべき電圧を「第1の電圧」と言い、波長780n
mのレーザ光が光学素子4を通過する際にTN型液晶4
3に印加すべき電圧を「第2の電圧」と言う。再び、図
2を参照して、波長650nmのレーザ光の光軸と波長
780nmのレーザ光の光軸との距離が約200μmで
あり、TN型液晶43の厚さが5mmであり、波長65
0nmおよび波長780nmのレーザ光が光学素子4に
入射する角度θが45度の場合、図3から波長780n
mのレーザ光が光学素子4を通過する際に設定すべきT
N型液晶43の屈折率は1.64である。そして、TN
型液晶43の屈折率を1.64に設定するためにTN型
液晶43に印加すべき電圧は、図7から8.2Vであ
る。
【0047】従って、波長650nmのレーザ光が光学
素子4を通過する際には、第1の透明電極42と第2の
透明電極44との間に4Vの電圧が印加され、TN型液
晶43の屈折率が1.50に設定され、波長780nm
のレーザ光が光学素子4を通過する際には、第1の透明
電極42と第2の透明電極44との間に8.2Vの電圧
が印加され、TN型液晶43の屈折率が1.64に設定
される。その結果、波長650nmのレーザ光は屈折し
て光学素子4を通過し、波長780nmのレーザ光は、
屈折することによりその光軸が波長650nmのレーザ
光の光軸と実質的に一致して光学素子4を通過する。
【0048】以上、説明したように光学素子4を用いる
ことにより波長650nmのレーザ光と波長780nm
のレーザ光との光軸ずれを電気的に補正することができ
る。2つのレーザ光の光軸ずれを電気的に補正できるこ
とは、光ピックアップ装置10において機械的摩耗がな
く、長期信頼性を保持するために重要である。図8を参
照して、光ピックアップ装置10を用いて基板厚0.6
mmの光記録媒体7から信号を再生する場合の動作につ
いて説明する。基板厚0.6mmの光記録媒体7から信
号が再生される場合には、液晶駆動回路21により光学
素子4のTN型液晶43に4Vの電圧が印加され、TN
型液晶43の屈折率が1.50に設定される。レーザ駆
動回路20によりレーザ光源1中の第1の半導体レーザ
1Aが選択駆動され、第1の半導体レーザ1Aから波長
650nmのレーザ光が出射される。出射された波長6
50nmのレーザ光は、選択性回折格子2をそのまま透
過し、コリメータレンズ3で平行光にされた後、上記説
明したように光学素子4を通過し、ハーフミラー5を透
過して対物レンズ6に入射する。対物レンズ6に入射し
た波長650nmのレーザ光は、対物レンズ6で集光さ
れ、光記録媒体7の信号記録面7aに集光照射される。
信号記録面7aで反射された波長650nmのレーザ光
は、対物レンズ6を介してハーフミラー5まで戻り、ハ
ーフミラー5で半分反射される。ハーフミラー5で反射
された波長6505nmのレーザ光は集光レンズ8で集
光され光検出器9で検出される。これにより光記録媒体
7から信号が再生される。
【0049】図9を参照して、光ピックアップ装置10
を用いて基板厚1.2mmの光記録媒体60に信号を記
録および/または再生する動作を説明する。まず、信号
を記録する動作について説明する。基板厚1.2mmの
光記録媒体70に波長780nmのレーザ光を照射する
場合には、液晶駆動回路21により光学素子4のTN型
液晶43に波長650nmのレーザ光と波長780nm
のレーザ光の光軸ずれを補正するために必要な電圧が印
加され、TN型液晶43の屈折率が所定の屈折率に設定
される。そして、レーザ駆動回路20によりレーザ光源
1に含まれる第2の半導体レーザ1Bが選択駆動され
る。この場合、第2の半導体レーザ1Bは記録信号によ
り変調された駆動信号に基づいて駆動される。第2の半
導体レーザ1Bを出射した波長780nmのレーザ光
は、選択性回折格子2でメインビームと2つのサブビー
ムとに回折され、コリメータレンズ3で平行光にされた
後、上記説明したようにその光軸が波長650nmのレ
ーザ光の光軸と実質的に一致させられて光学素子4を通
過し、ハーフミラー5を透過して対物レンズ6に入射す
る。対物レンズ6に入射した波長780nmのレーザ光
は、対物レンズ6で集光されて光記録媒体70の信号記
録面70aに集光照射される。これにより光記録媒体7
0に信号が記録される。
【0050】次に、光記録媒体70から信号が再生され
る動作について説明する。第2の半導体レーザ1Bがレ
ーザ駆動回路20により選択駆動され、光記録媒体70
の信号記録面70aに集光照射されるまでの動作は、記
録動作の場合と同じである。信号記録面70aで反射さ
れた波長780nmのレーザ光は、対物レンズ6を介し
てハーフミラー5まで戻り、ハーフミラー5で半分反射
される。ハーフミラー5で反射された波長780nmの
レーザ光は、集光レンズ8で集光され、光検出器9で検
出される。これにより光記録媒体70から信号が再生さ
れる。
【0051】光ピックアップ装置10に用いられるレー
ザ光源は、第1の半導体レーザ1Aと第2の半導体レー
ザ1Bの2つの半導体レーザから成るものに限らず、図
10に示すように1つの半導体レーザから成るレーザ光
源30であってもよい。レーザ光源30は、第1の素子
31と第2の素子32とを絶縁体33を介して形成した
ものである。第1の素子31は、アノード311と、活
性層312と、カソード313とから成り、活性層31
2は、アノード311とカソード313とで挟み込まれ
ている。また、第2の素子32は、アノード321と、
活性層322と、カソード323とから成り、活性層3
22は、アノード321とカソード323とで挟み込ま
れている。第1の素子31は活性層312から波長65
0nmのレーザ光を出射し、第2の素子32は活性層3
22から波長780nmのレーザ光を出射する。
【0052】レーザ光源30を用いた場合には、第1の
素子31の活性層312と第2の素子32の活性層32
2との距離は、第1の素子31、第2の素子32を構成
する半導体を結晶成長させる場合に所定の距離に設定さ
れる。従って、レーザ光源30を光ピックアップ装置1
0に用いた場合には、半導体を結晶成長させる際に設定
された活性層312と活性層322との距離が波長65
0nmのレーザ光の光軸と波長780nmのレーザ光の
光軸との距離になるので、図3、4、5の関係から波長
780nmのレーザ光が光学素子4を通過する際に設定
すべきTN型液晶43の屈折率を決定し、図7の関係か
らその屈折率を実現するためにTN型液晶43に印加す
べき電圧を決定し、その決定した電圧を液晶駆動回路2
1はTN型液晶43に印加する。これにより、レーザ光
源30を用いた場合にも、基板厚0.6mmの光記録媒
体7と基板厚1.2mmの光記録媒体70とに信号を記
録および/または再生を行うことができる。
【0053】図11を参照して、本願発明に係る光ピッ
クアップ装置の他の例を説明する。光ピックアップ装置
40は、図1に示す光ピックアップ装置10に光軸間距
離検出手段71を追加したものであり、その以外は光ピ
ックアップ装置10と同じである。光軸間距離検出手段
71は、第1の半導体レーザ1Aから出射される波長6
50nmのレーザ光の光軸と第2の半導体レーザ1Bか
ら出射される波長780nmのレーザ光の光軸との距離
を検出するものである。図12を参照して、光軸間距離
検出手段71は、第1および第2の半導体レーザ1A、
1Bが配置される方向に配置したn個のセンサ711、
712、・・・・71n−1、71nを備える。第1お
よび第2の半導体レーザ1A、1Bが配置される方向に
おけるn個のセンサ711、712、・・・・71n−
1、71nのサイズは、出射されるレーザ光の広がり角
と、光軸間距離検出手段71と第1および第2の半導体
レーザ1A、1Bとの距離とで決定される。レーザ光の
広がり角が20度、光軸間距離検出手段71と第1およ
び第2の半導体レーザ1A、1Bとの距離が0.1mm
の場合、光軸間距離検出手段71に照射されるレーザ光
の径は72μmとなる。第1および第2の半導体レーザ
1A、1Bが配置される方向におけるn個のセンサ71
1、712、・・・・71n−1、71nのサイズを7
0μm程度に設定すれば、1つのセンサでレーザ光を検
出できるが、それでは検出する距離に精度がないので、
例えば、3つのセンサでレーザ光を検出するようにす
る。この場合、各センサ711、712、・・・・71
n−1、71nの第1および第2の半導体レーザ1A、
1Bが配置される方向におけるサイズは24μmとな
り、精度良く2つのレーザ光の光軸間距離を検出でき
る。
【0054】第1の半導体レーザ1Aから出射された波
長650nmのレーザ光はセンサ711、712、71
3で検出され、第2の半導体レーザ1Bから出射された
波長780nmのレーザ光はセンサ71n−2、71n
−1、71nで検出されるとすると、センサ712とセ
ンサ71n−1で検出される光強度が最も強くなる。そ
して、センサ712で検出された光強度のうち、最も強
度が強い位置とセンサ71nで検出された光強度のう
ち、最も強度が強い位置との距離が波長650nmのレ
ーザ光の光軸と波長780nmのレーザ光の光軸との距
離に相当する。従って、光軸間距離検出手段71により
波長650nmのレーザ光の光軸と波長780nmのレ
ーザ光の光軸との距離を検出できる。精度を更に向上さ
せるには、センサ71n−2、71n−1、71nの第
1および第2の半導体レーザ1A、1Bが配置される方
向におけるサイズを更に小さくすれば良い。
【0055】再び、図11を参照して、光軸間距離検出
手段71により第1の半導体レーザ1Aから出射される
波長650nmのレーザ光の光軸と第2の半導体レーザ
1Bから出射される波長780nmのレーザ光の光軸と
の距離が、上記説明した方法により検出され、その検出
結果が液晶駆動回路21へ出力される。メモリ22は、
図3、4、5に示す関係と、図7に示す関係を記憶して
いる。従って、液晶駆動回路21は、入力した波長65
0nmのレーザ光の光軸と第2の半導体レーザ1Bから
出射される波長780nmのレーザ光の光軸との距離を
メモリ22へ出力し、メモリ22は、入力した光軸間距
離に基づいて図3、4、5、7の関係から波長780n
mのレーザ光が光学素子4を通過する際にTN型液晶4
3に印加すべき電圧を決定し、液晶駆動回路21へ出力
する。液晶駆動回路21はめメモリ22から入力した電
圧をTN型液晶43に印加する。
【0056】光ピックアップ装置40においては、波長
650nmのレーザ光の光軸と波長780nmのレーザ
光の光軸との距離が検出され、その検出された距離に基
づいて波長780nmのレーザ光が光学素子4を通過す
る際にTN型液晶43に印加すべき電圧が自動的に決定
され、波長780nmのレーザ光の光軸を波長650n
mのレーザ光の光軸に自動的に一致させる動作が、図1
に示す光ピックアップ装置10の動作に追加されるだけ
である。従って、レーザ光源1から出射された波長65
0nmのレーザ光または波長780nmのレーザ光が光
記録媒体7または光記録媒体70に照射され、その反射
光が光検出器9で検出される動作は、図1の説明と同じ
である。光ピックアップ装置40においても、レーザ光
源1の代わりに図10に示すレーザ光源30を用いるこ
とができる。
【0057】図13を参照して、光ピックアップ装置4
0を用いて基板厚0.6mmの光記録媒体7から信号を
再生する動作について説明する。この場合、液晶駆動回
路21は、光軸間距離検出手段71から2つのレーザ光
の光軸間距離を入力せず、光学素子4のTN型液晶43
に4Vの電圧を印加し、TN型液晶43の屈折率を1.
50に設定する。そして、レーザ駆動回路20によりレ
ーザ光源1の第1の半導体レーザ1Aが駆動され、波長
650nmのレーザ光が出射される。その後の動作は、
図8の説明と同じである。
【0058】図14を参照して、光ピックアップ装置4
0を用いて基板厚1.2mmの光記録媒体70に信号を
記録および/から信号を再生する動作について説明す
る。レーザ駆動回路20によりレーザ光源1の第2の半
導体レーザ1Bが駆動され、波長780nmのレーザ光
が出射される。そうすると、光軸間距離検出手段71
は、上記説明したように波長650nmのレーザ光の光
軸と波長780nmのレーザ光の光軸との距離を検出
し、その結果を液晶駆動回路21へ出力する。液晶駆動
回路21は、検出された距離をメモリ22へ出力し、メ
モリ22から光学素子4のTN型液晶43に印加すべき
電圧を入力し、その電圧をTN型液晶43に印加する。
波長780nmのレーザ光が光記録媒体70に照射され
光記録媒体70に信号が記録される動作、および光記録
媒体70から信号が再生される動作は図9の説明と同じ
である。
【0059】図15を参照して、本願発明に係る光ピッ
クアップ装置の更に他の例を説明する。光ピックアップ
装置50は、図1に示す光ピックアップ装置10に波長
選択性光学素子600を追加し、対物レンズ6の代わり
に対物レンズ66を用いたものであり、それ以外の構成
は光ピックアップ装置10と同じである。対物レンズ6
6は、基板厚0.6mmの光記録媒体7に波長650n
mのレーザ光を集光照射できるように設計された対物レ
ンズであり、波長780nmのレーザ光を基板厚1.2
mmの光記録媒体70に照射した場合には収差が発生す
るレンズである。即ち、対物レンズ66は、設計に用い
られた基板厚と異なる基板厚を有する光記録媒体にレー
ザ光を照射する場合には収差が発生するレンズである。
なお、対物レンズ66の開口数は0.6(許容誤差±
0.05)である。
【0060】そこで、光ピックアップ装置50において
は、波長780nmのレーザ光を基板厚1.2mmの光
記録媒体70に集光照射する場合に発生する収差を除去
するために波長選択性光学素子600が用いられてい
る。波長選択性光学素子600は、後述するように、波
長650nmのレーザ光をその入射強度を保持しつつ透
過して対物レンズ66に入射し、波長780nmのレー
ザ光を、その入射強度を保持しつつ所望の方向のレーザ
光に回折して所定の内周部のみを対物レンズ66に入射
する。
【0061】光ピックアップ装置50は、特に、後述す
るようにCD−Rに信号を記録するときは、第2の半導
体レーザ1Bから出射された波長780nmのレーザ光
のパワーを殆ど低下させることなくCD−Rの信号記録
面70aに集光照射し、信号を記録することを特徴とす
る。図16、17を参照して、波長選択性光学素子60
0の詳細について説明する。図16を参照して、波長選
択性光学素子600は、ガラス等の透光性基板601の
表面に第1の材料602を形成し、その第1の材料60
2を覆うように第2の材料603を形成した構造であ
る。第1の材料602は、光軸L0に対して略同心円状
に所定の間隔で形成され、例えば、ホログラムにより構
成される。従って、第1の材料602は、波長650n
mのレーザ光と波長780nmのレーザ光とに対して同
じ2.3の屈折率を有する。一方、第2の材料603
は、例えば、シリコンナイトライド(SiN)により構
成され、波長650nmのレーザ光に対して2.3の屈
折率を有し、波長780nmのレーザ光に対しては1.
8の屈折率を有する。
【0062】図17の(a)を参照して、光軸L0を含
む任意の平面における波長選択性光学素子600の断面
構造を説明する。透光性基板601の表面に直角三角形
の形状をした第1の材料602が所定の間隔で光軸L0
に対して対称的に形成されている。第1の材料602の
高さは、0.337μm、その間隔は最内周部で29
6.43μm、最外周部で31.256μmであり、内
周部から外周部へ向かうに従って徐々に間隔が狭くなっ
ている。また、第2の材料603は、透光性基板601
と接すると共に、第1の材料6012を覆うように形成
されている。
【0063】図17の(b)は、波長選択性光学素子6
00の平面構造図である。第1の材料6012は、透光
性基板601の表面に、略同心円状に形成されている。
また、同心円の間隔は外周部ほど狭いことが明らかであ
る。図18を参照して、光学素子600の光学特性につ
いて説明する。図18の(a)を参照して、波長650
nmのレーザ光に対して、第1の材料602は屈折率
2.3を有し、第2の材料603も屈折率2.3を有す
るので、光学素子600に入射した波長650nmのレ
ーザ光LB1は、波長選択性光学素子600で回折され
ることなく、そのまま、レーザ光LB1として透過す
る。その結果、波長650nmのレーザ光は、波長選択
性光学素子600を通過してもそのパワーが低下するこ
とがない。
【0064】一方、図18の(b)を参照して、波長7
80nmのレーザ光に対して、第1の材料602は屈折
率2.3を有し、第2の材料603は屈折率1.8を有
し、更に、第1の材料602は第2の材料603との界
面になだらかな斜面604を有するので、光学素子60
0に入射した波長780nmのレーザ光LB2は、前記
斜面604を介して第1の材料602から第2の材料6
03へ入射する際に光軸から外周側へ回折され、回折光
LB3として波長選択性光学素子600を透過する。
【0065】第1の材料602が第2の材料603との
界面で階段状になった材料700である場合、波長78
0nmのレーザ光LB2は、第1の材料700から第2
の材料603へ入射するときに0次光LB20と、+1
次光LB21と、−1次光LB22とに回折される。従
って、これら3つの回折光LB20、LB21、LB2
2のうちの1つの回折光を利用する場合は、レーザ光の
パワーが低下する。しかし、本願の波長選択性光学素子
600では、第1の材料602は、なだらかな斜面60
4を有するため、波長780nmのレーザ光LB2は、
例えば、1次光LB3に殆ど100%回折される。従っ
て、レーザ光LB2が波長選択性光学素子600を通過
することによるパワーの低下は殆どない。
【0066】図19を参照して、波長選択性光学素子6
00に入射した波長780nmのレーザ光LB2は、波
長選択性光学素子600で所望の方向に回折され、回折
光LB3として波長選択性光学素子600を通過する。
波長選択性光学素子600を通過した回折光LB3のう
ち、外周部LB3EXは対物レンズ50に入射せず、所
定の内周部LB3INのみが対物レンズ66に入射す
る。従って、波長選択性光学素子600は、波長780
nmのレーザ光LB2に対しては、所望の方向の回折光
LB3に回折すると共に、所定の内周部LB3INのみ
を対物レンズ66に入射させる。また、波長選択性光学
素子600の第1の材料602の相互の間隔は、内周部
から外周部に向かうに従って徐々に狭くなっているの
で、内周部と外周部とで回折角が異なり、波長選択性光
学素子600はレンズを用いてレーザ光を回折させるの
と同じ機能を有する。
【0067】図20を参照して、光ピックアップ装置5
0を用いて基板厚0.6mmのDVDを再生する場合の
動作について説明する。DVDが再生される場合は、レ
ーザ駆動回路20によりレーザ光源1の第1の半導体レ
ーザ1Aが選択駆動される。また、液晶駆動回路21に
より光学素子4のTN型液晶43に4Vの電圧が印加さ
れる。レーザ光源1を出射した波長650nmのレーザ
光は、選択性回折格子2をそのまま透過し、コリメータ
レンズ3で平行光にされ、上記説明したように屈折して
光学素子4を通過し、ハーフミラー4を透過して波長選
択性光学素子600に入射する。この場合、レーザ光
は、光学素子4およびハーフミラー5を約98%の透過
率で通過するため、光学素子4とハーフミラー5とを通
過することによるパワーの低下は殆どない。
【0068】波長選択性光学素子600に入射した波長
650nmのレーザ光は、その入射強度を保持しつつそ
のまま通過し、対物レンズ66に入射する。対物レンズ
66に入射した波長650nmのレーザ光は、対物レン
ズ66で集光されDVD7の信号記録面7aに照射され
る。信号記録面7aで反射された反射光は、対物レンズ
66、および波長選択性光学素子600を介してハーフ
ミラー5まで戻り、ハーフミラー5で半分反射されて集
光レンズ8に入射する。そして、集光レンズ8で集光さ
れ、光検出器9に集光照射され、光検出器9で検出され
る。
【0069】図21を参照して、光ピックアップ装置5
0を用いて基板厚1.2mmのCD−Rに信号を記録お
よび/または再生する場合の動作について説明する。C
D−Rに信号を記録および/または再生する場合は、レ
ーザ駆動回路20によりレーザ光源1の第2の半導体レ
ーザ1Bが選択駆動される。また、上記説明したよう
に、液晶駆動回路21により光学素子4のTN型液晶4
3に波長650nmのレーザ光と波長780nmのレー
ザ光の光軸ずれを補正するために必要な電圧が印加さ
れ、TN型液晶43の屈折率が所定の屈折率に設定され
る。
【0070】まず、信号の記録動作について説明する。
CD−Rに信号を記録する場合は、第2の半導体レーザ
1Bから70mWの強度のレーザ光を出射する。レーザ
光源1を出射した波長780nmのレーザ光は、選択性
回折格子2でメインビームと2つのサブビームとに回折
され、コリメータレンズ3で平行光にされ、屈折するこ
とによりその光軸が波長650nmのレーザ光の光軸と
一致されて光学素子4を通過し、ハーフミラー5を透過
して波長選択性光学素子600に入射する。この場合
も、レーザ光は、光学素子4とハーフミラー5とを約9
8%の透過率で通過するため、光学素子4とハーフミラ
ー5とを通過することによるパワーの低下は殆どない。
【0071】波長選択性光学素子600に入射した波長
780nmのレーザ光は、その入射強度を保持しつつ回
折され、所定の内周部のみが対物レンズ66に入射す
る。対物レンズ66に入射した波長780nmのレーザ
光は、対物レンズ66で集光されCD−R60の信号記
録面70aに照射される。信号を記録する場合は、レー
ザ光は記録信号により変調されているため、その変調さ
れた波長780nmのレーザ光が信号記録面70aに照
射されることにより信号が記録される。
【0072】70mWの強度で第2の半導体レーザ1B
を出射した波長780nmのレーザ光は、光学素子4と
ハーフミラー5とで約2%強度が低下し、波長選択性光
学素子600に入射する。そして、波長選択性光学素子
600を強度を保持しつつ回折されて通過し、所定の内
周部のみが対物レンズ66に入射する。この場合、所定
の内周部は、開口数0.6の対物レンズ66の実効的開
口数が0.50〜0.53の範囲となる領域である。波
長780nmのレーザ光の有効光束を4.46mmとし
た場合、対物レンズ66の実効的開口数が0.50〜
0.53の範囲となる所定の内周部の直径は、3.2〜
3.4mmである。従って、対物レンズ66に入射する
レーザ光の強度は、70mW×0.98×(有効利用す
る内周部の直径/レーザ光の有効光束)=49〜52m
Wとなる。その結果、光ピックアップ装置50を用いれ
ば、第2の半導体レーザ1Bの出射直後の強度を殆ど低
下させることなく、CD−Rの信号記録面70aに波長
780nmのレーザ光を波長650nmのレーザ光の光
軸と実質的に一致させて照射でき、正確な信号記録を行
うことができる。
【0073】次に、信号再生の動作について説明する。
CD−Rから信号を再生する場合は、第2の半導体レー
ザ1Bから12mWの強度のレーザ光を出射する。レー
ザ光源1を出射した波長780nmのレーザ光は、上記
説明したように、その強度を殆ど低下させることなく、
CD−R70の信号記録面70aに照射される。そし
て、信号記録面70aで反射された反射光は、図20の
説明と同じようにして光検出器9に導かれ、信号が再生
される。
【0074】また、光ピックアップ装置50にレーザ光
源30を用いても良い。図22を参照して、本願発明に
係る光ピックアップ装置のまた更に他の例について説明
する。光ピックアップ装置60は、図15に示す光ピッ
クアップ装置50に光軸間距離検出手段71を追加した
ものであり、それ以外の構成は光ピックアップ装置50
と同じである。光軸間距離検出手段71における波長6
50nmのレーザ光と波長780nmのレーザ光との光
軸間距離の検出方法は、上記図12を参照して説明した
のと同じ方法である。光ピックアップ装置60において
は、波長780nmのレーザ光を使用する場合、上記説
明したように波長650nmのレーザ光との光軸間距離
が検出され、その検出結果に基づいて光学素子4のTN
型液晶43に印加すべき電圧が決定され、液晶駆動回路
21により決定された電圧がTN型液晶43に印加され
る。
【0075】図23を参照して、光ピックアップ装置6
0を用いて基板厚0.6mmの光記録媒体7から信号を
再生する動作について説明する。液晶駆動回路21は光
学素子4のTN型液晶43に4Vの電圧が印加され、T
N型液晶43の屈折率が1.50に設定される。また、
レーザ駆動回路20によりレーザ光源1の第1の半導体
レーザ1Aが選択駆動され、波長650nmのレーザ光
が出射される。波長650nmのレーザ光が光記録媒体
7に照射され、その反射光が光検出器9で検出される動
作は図21の説明と同じである。
【0076】図24を参照して、光ピックアップ装置6
0を用いて基板厚1.2mmの光記録媒体70に信号を
記録および/から信号を再生する動作について説明す
る。レーザ駆動回路20はレーザ光源1の第2の半導体
レーザ1Bを選択駆動し、波長780nmのレーザ光が
出射される。そうすると、光軸間距離検出手段71によ
り波長650nmのレーザ光の光軸と波長780nmの
レーザ光の光軸との距離が検出され、検出された距離が
液晶駆動回路21へ出力される。そして、上記説明した
ように、液晶駆動回路21により光学素子4のTN型液
晶43に波長650nmのレーザ光と波長780nmの
レーザ光の光軸ずれを補正するために必要な電圧が印加
され、TN型液晶43の屈折率が所定の屈折率に設定さ
れる。波長780nmのレーザ光が光記録媒体70に照
射されて光記録媒体70に信号が記録される動作、およ
び光記録媒体70に照射され、反射された波長780n
mのレーザ光が光検出器9で検出される動作は図22の
説明と同じである。
【0077】従って、光ピックアップ装置60を用いる
ことにより、波長650nmのレーザ光と波長780n
mのレーザ光との光軸ずれを自動的に補正して基板厚の
異なる光記録媒体7、70にレーザ光を照射できると共
に、本来設定に用いられた基板厚と異なる基板厚を有す
る光記録媒体にレーザ光を照射する場合にも、収差なく
レーザ光を集光照射できる。光ピックアップ装置60に
おいては、レーザ光源1に代えてレーザ光源30を用い
ても良い。
【0078】上記説明においては、波長650nmのレ
ーザ光を使用する場合、液晶駆動回路21が光学素子4
のTN型液晶43に印加する電圧は4Vとして説明した
が、これに限らず、0〜4Vの範囲であれば良い。ま
た、使用する液晶はTN型液晶であるとして説明した
が、これに限らず、STN型液晶であっても良い。
【0079】更に、液晶の屈折率と液晶に印加する電圧
との関係は、図7に示すものに限らず、各液晶により異
なる場合もあるが、本願においては、液晶の屈折率と液
晶に印加する電圧との関係が比例関係になる領域を用い
て液晶の屈折率を電気的に制御することを特徴とする。
また更に、光学素子4に用いられる材料は液晶に限ら
ず、波長の異なる2つのレーザ光に対して、レーザ光を
屈折させることにより光軸間距離を補正できるものであ
ればどんな材料であっても良い。即ち、光学素子4に外
部から電圧を印加して屈折率を制御するのみならず、使
用するレーザ光の波長に対して光軸ずれを補正するため
の2つの屈折率を有する材料であっても良い。
【0080】また更に、上記説明においては、光ピック
アップ装置10、40、50、60に含まれる第1の半
導体レーザ1Aを用いた場合には、信号の再生のみを行
うとして説明したが、再生に限らず、記録可能な光ディ
スクである光磁気記録媒体に信号を記録および/または
再生を行うこともできる。図25を参照して、光ピック
アップ装置10または50を用いた光ディスク装置10
0について説明する。光ディスク装置100は、光ピッ
クアップ装置10または50と、再生信号増幅回路11
と、サーボ回路12と、サーボ機構13と、スピンドル
モータ14と、波形等化回路15と、A/D変換回路1
6と、復号回路17と、エンコーダ18と、変調回路1
9と、レーザ駆動回路20と、液晶駆動回路21とを備
える。
【0081】光ピックアップ装置10または50は、上
記説明したように第1の半導体レーザ1Aからのレーザ
光と、第2の半導体レーザ1Bからのレーザ光とを、そ
の光軸を実質的に一致させて光記録媒体7または70に
照射し、その反射光を検出する。再生信号増幅回路11
は、光ピックアップ装置10または50が検出したフォ
ーカスエラー信号、トラッキングエラー信号、および再
生信号を所定のレベルに増幅し、フォーカスエラー信号
とトラッキングエラー信号とをサーボ回路12へ出力
し、再生信号を波形等化回路15へ出力する。
【0082】サーボ回路12は、入力したフォーカスエ
ラー信号およびトラッキングエラー信号に基づいて光ピ
ックアップ装置10または50の対物レンズ6または6
6のフォーカスサーボおよびトラッキングサーボを行う
ようにサーボ機構13を制御すると共に、スピンドルモ
ータ14を所定の回転数で回転する。サーボ機構13
は、サーボ回路12からの制御に基づいて光ピックアッ
プ装置10または50中の対物レンズ6または66のフ
ォーカスサーボおよびトラッキングサーボを行う。スピ
ンドルモータ14は、光記録媒体7または70を所定の
回転数で回転させる。
【0083】波形等化回路15は、再生信号増幅回路1
1から入力した再生信号の高周波数側のレベルを低周波
数側と同程度にする波形等化を行う。A/D変換回路1
6は、波形等化回路15から入力した再生信号をデジタ
ル信号に変換する。復号回路17は、入力したデジタル
信号を復号して再生データとして出力する。エンコーダ
18は、記録データをエンコードする。変調回路19
は、エンコードされた記録信号を所定の方式に変調す
る。レーザ駆動回路20は、信号の記録時には変調回路
19から入力された記録信号に基づいて光ピックアップ
装置10または50中の第2の半導体レーザ1Bを駆動
する。また、信号の再生時には、レーザ駆動回路20は
光ピックアップ装置10または50中の第1または第2
の半導体レーザ1A、1Bを所定強度のレーザ光を出射
するように駆動する。液晶駆動回路21は、光ピックア
ップ装置10または50の光学素子4に含まれるTN型
液晶43に電圧を印加する。
【0084】基板厚0.6mmの光記録媒体7が光ディ
スク装置100に装着されると、光記録媒体7はスピン
ドルモータ14により所定の回転数で回転され、図示省
略した記録媒体の判別回路により装着された光記録媒体
が基板厚0.6mmの光記録媒体7であると判別され、
その判別結果に基づいて光ピックアップ装置10または
50の第1の半導体レーザ1Aを駆動するように図示省
略した制御回路からレーザ駆動回路20へ制御信号が出
力されると共に、判別結果が液晶駆動回路21へ出力さ
れる。
【0085】そうすると、液晶駆動回路21は光学素子
4のTN型液晶43に所定の電圧を印加し、レーザ駆動
回路20は、光ピックアップ装置10または50中の第
1の半導体レーザ1Aを駆動する。そして、第1の半導
体レーザ1Aは波長650nmのレーザ光を生成し、光
ピックアップ装置10または50は、上記説明したよう
に波長650nmのレーザ光を光記録媒体7に照射し、
その反射光を検出する。光ピックアップ装置10または
50によりフォーカスエラー信号およびトラッキングエ
ラー信号が検出されると、上記説明したように光ピック
アップ装置10または50中の対物レンズ6または66
のフォーカスサーボおよびトラッキングサーボがONさ
れる。その後、光ピックアップ装置10または50は、
光記録媒体7に形成されたピットに基づく反射光強度の
変化を検出することにより再生信号を検出する。検出さ
れた再生信号は、再生信号増幅回路11、波形等化回路
15、A/D変換回路16、および復号回路17を介し
て、上記説明したように再生データとして出力される。
【0086】次に、基板厚1.2mmの光記録媒体70
が光ディスク装置100に装着されると、光記録媒体7
0はスピンドルモータ14により所定の回転数で回転さ
れ、図示省略した記録媒体の判別回路により装着された
光記録媒体が基板厚1.2mmの光記録媒体であると判
別され、その判別結果に基づいて光ピックアップ装置1
0または50の第2の半導体レーザ1Bを駆動するよう
に図示省略した制御回路からレーザ駆動回路20へ制御
信号が出力されると共に、判別結果が液晶駆動回路21
へ出力される。
【0087】そうすると、液晶駆動回路21は光学素子
4のTN型液晶43に波長650nmのレーザ光と波長
780nmのレーザ光との光軸ずれを補正するための所
定の電圧を印加し、レーザ駆動回路20は、光ピックア
ップ装置10または50中の第2の半導体レーザ1Bを
駆動する。そして、第2の半導体レーザ1Bは波長78
0nmのレーザ光を生成し、光ピックアップ装置10ま
たは50は、上記説明したように波長780nmのレー
ザ光を光記録媒体70に照射し、その反射光を検出す
る。その後の動作は0.6mm厚の光記録媒体7が装着
された場合と同じであるので、その説明を省略する。
【0088】更に、基板厚1.2mmの光記録媒体70
に信号を記録する場合について説明すると、基板厚1.
2mmの光記録媒体70が装着され、対物レンズ6また
は66のフォーカスサーボおよびトラッキングサーボが
ONされるまでの動作は、再生動作の場合と同じであ
る。その後、記録データはエンコーダ18でエンコード
され、変調回路19へ所定の方式に変調された後、レー
ザ駆動回路20へ入力される。また、光ピックアップ装
置10または50中の第2の半導体レーザ1Bを駆動す
るように、図示省略した制御回路からレーザ駆動回路2
0へ制御信号が入力されているので、レーザ駆動回路2
0は記録信号に基づいてレーザ光強度が変化するように
第2の半導体レーザ1Bを駆動する。これにより光ピッ
クアップ装置10または50は、記録信号に基づいて強
度が変化する波長780nmのレーザ光を光記録媒体7
0に照射し、信号が光記録媒体70に記録される。
【0089】図26を参照して、光ピックアップ装置4
0または60を用いた光ディスク装置200について説
明する。光ディスク装置200は、光ディスク装置10
0の光ピックアップ装置10または50を光ピックアッ
プ装置40または60に代え、メモリ22を追加したも
のであり、その他の構成は光ディスク装置100と同じ
である。光ディスク装置200は、光ピックアップ装置
40または60のレーザ光源1を構成する第1の半導体
レーザ1Aから出射されるレーザ光と第2の半導体レー
ザ1Bから出射されるレーザ光との光軸ずれを自動的に
調整できる光ディスク装置である。
【0090】光記録媒体7が光ディスク装置200に装
着されると、光記録媒体7はスピンドルモータ14によ
り所定の回転数で回転され、図示省略した記録媒体の判
別回路により装着された光記録媒体が基板厚0.6mm
の光記録媒体であると判別され、その判別結果に基づい
て光ピックアップ装置40または60の第1の半導体レ
ーザ1Aがレーザ駆動回路20により選択駆動される。
そして、光ピックアップ装置40または60中の対物レ
ンズ6または66のフォーカスサーボおよびトラッキン
グサーボがONされると、液晶駆動回路21は光ピック
アップ装置40または60の光学素子4に含まれるTN
型液晶43に所定の電圧を印加する。その後の動作は図
25の説明と同じである。
【0091】光記録媒体70が光ディスク装置200に
装着されると、光記録媒体70はスピンドルモータ14
により所定の回転数で回転され、図示省略した記録媒体
の判別回路により装着された光記録媒体が基板厚1.2
mmの光記録媒体であると判別され、その判別結果に基
づいて光ピックアップ装置40または60の第2の半導
体レーザ1Bがレーザ駆動回路20により選択駆動され
る。そして、光ピックアップ装置40または60中の対
物レンズ6または66のフォーカスサーボおよびトラッ
キングサーボがONされると、光軸間距離検出手段71
により2つのレーザ光の光軸間距離が検出され、その検
出結果が液晶駆動回路21へ出力される。そして、液晶
駆動回路21は入力した光軸間距離に基づいて光ピック
アップ装置40または60の光学素子4に含まれるTN
型液晶43に印加すべき電圧をメモリ22から入力し、
その入力した電圧を印加する。その後の動作は図25の
説明と同じである。
【0092】以上、説明したように光ピックアップ装置
10、40、50、60または光ディスク装置100、
200を用いることにより、2つのレーザ光の光軸を実
質的に一致させて基板厚0.6mmの光記録媒体と基板
厚1.2mmの光記録媒体とに信号を記録および/また
は再生を行うことができる。なお、上記において光ピッ
クアップ装置10、40、50、60に含まれる光学素
子4は、波長650nmのレーザ光の光軸と波長780
nmのレーザ光の光軸とを実質的に一致させるとして説
明したが、「実質的に一致させる」とは、2つのレーザ
光の光軸を完全に一致させる場合のみならず、1つの光
検出器により2つのレーザ光を検出できるような距離に
2つのレーザ光の光軸間距離を保持する場合も含むこと
を意味するものである。従って、2つのレーザ光の光軸
が完全に一致しない場合には、2つのレーザ光の光軸ず
れの方向が光記録媒体のトラック方向(または「トラッ
クのタンジェンシャル方向」とも言う。)に第1の半導
体レーザ1Aと第2の半導体レーザ1Bとを設置するこ
とが好ましい。
【0093】また、本願発明に係る光ピックアップ装置
10、40、50、60に用いられるレーザ光は、波長
650nmのレーザ光と波長780nmのレーザ光とに
限らず、これ以外の波長のレーザ光、例えば、波長40
5〜410nmのレーザ光と波長650nmのレーザ光
との組み合わせでも良いし、波長405〜410nmの
レーザ光と波長780nmのレーザ光との組み合わせで
あっても良い。このような波長のレーザ光の組み合わせ
てにおいても、上記図3、4、5からそれぞれの波長の
レーザ光に対する屈折率を決定し、図7の関係からTN
型液晶43に印加すべき電圧を決定すれば良い。
【0094】また、更に、本願発明に係る光ピックアッ
プ装置は、波長の異なる2つのレーザ光を用いた光ピッ
クアップ装置に限らず、波長の異なる3つのレーザ光を
用いた光ピックアップ装置であっても良い。例えば、波
長405〜410nmのレーザ光、波長650nmのレ
ーザ光、および波長780nmのレーザ光を用いた光ピ
ックアップ装置において、3つのレーザ光の光軸を一致
させるための屈折率は上記図3、4、5から決定され
る。例えば、図3を参照して、波長405〜410nm
のレーザ光と波長650nmのレーザ光との光軸間の距
離が約118μmであり、波長405〜410nmのレ
ーザ光と波長780nmのレーザ光との光軸間の距離が
約218μmの場合、波長405〜410nmのレーザ
光に対するTN型液晶43の屈折率を1.5、波長65
0nmのレーザ光に対するTN型液晶の屈折率を1.6
0、および波長780nmのレーザ光に対する屈折率を
1.70に設定する。従って、図6、7の関係から波長
405〜410nmのレーザ光を使用する場合はTN型
液晶43には0〜4Vの電圧を印加し、波長650nm
のレーザ光を使用する場合は7Vの電圧を印加し、およ
び波長780nmのレーザ光を使用する場合は10Vの
電圧を印加する。波長の異なる3つのレーザ光を搭載し
た光ピックアップ装置を用いて光記録媒体に信号を記録
および/または再生する場合にも上記図25、26の光
ディスク装置100、200が用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明に係る光ピックアップ装置の構成図で
ある。
【図2】図1の光学素子の断面図である。
【図3】図1の光学素子に入射するレーザ光の入射角が
45度、光学素子に含まれるTN型液晶の厚さが4m
m、5mm、6mmの場合に、波長650nmのレーザ
光の光軸と波長780nmのレーザ光の光軸との補正可
能な光軸間距離と、TN型液晶の波長780nmのレー
ザ光に対する屈折率との関係を示す図表である。
【図4】図1の光学素子に入射するレーザ光の入射角が
30度、光学素子に含まれるTN型液晶の厚さが4m
m、5mm、6mmの場合に、波長650nmのレーザ
光の光軸と波長780nmのレーザ光の光軸との補正可
能な光軸間距離と、TN型液晶の波長780nmのレー
ザ光に対する屈折率との関係を示す図表である。
【図5】図1の光学素子に入射するレーザ光の入射角が
60度、光学素子に含まれるTN型液晶の厚さが4m
m、5mm、6mmの場合に、波長650nmのレーザ
光の光軸と波長780nmのレーザ光の光軸との補正可
能な光軸間距離と、TN型液晶の波長780nmのレー
ザ光に対する屈折率との関係を示す図表である。
【図6】TN型液晶の屈折率とTN型液晶に印加する電
圧との関係図である。
【図7】図6の直線領域を示すグラフである。
【図8】図1に示す光ピックアップ装置を用いて、基板
厚0.6mmの光記録媒体から信号を再生する動作を説
明する図である。
【図9】図1に示す光ピックアップ装置を用いて、基板
厚1.2mmの光記録媒体に信号を記録および/から信
号を再生する動作を説明する図である。
【図10】図1に示す光ピックアップ装置に用いる他の
レーザ光源の断面図である。
【図11】本願発明に係る光ピックアップ装置の他の構
成図である。
【図12】図11の光軸間距離検出手段の詳細を説明す
る図である。
【図13】図11に示す光ピックアップ装置を用いて、
基板厚0.6mmの光記録媒体から信号を再生する動作
を説明する図である。
【図14】図11に示す光ピックアップ装置を用いて、
基板厚1.2mmの光記録媒体に信号を記録および/か
ら信号を再生する動作を説明する図である。
【図15】本願発明に係る光ピックアップ装置の更に他
の構成図である。
【図16】図15の波長選択性光学素子の斜視図であ
る。
【図17】図15の波長選択性光学素子の断面図と平面
図である。
【図18】図15の波長選択性光学素子の光学特性を説
明する図である。
【図19】波長780nmのレーザ光の波長選択性光学
素子から対物レンズへの経路を説明する図である。
【図20】図15に示す光ピックアップ装置を用いた基
板厚0.6mmの光ディスクの記録または再生動作を説
明する図である。
【図21】図15に示す光ピックアップ装置を用いた基
板厚1.2mmの光ディスクの記録または再生動作を説
明する図である。
【図22】本願発明に係る光ピックアップ装置のまた更
に他の構成図である。
【図23】図22に示す光ピックアップ装置を用いた基
板厚0.6mmの光ディスクの記録または再生動作を説
明する図である。
【図24】図22に示す光ピックアップ装置を用いた基
板厚1.2mmの光ディスクの記録または再生動作を説
明する図である。
【図25】図1に示す光ピックアップ装置、または図1
5に示す光ピックアップ装置を用いた光ディスク装置の
構成図である。
【図26】図11に示す光ピックアップ装置、または図
22に示す光ピックアップ装置を用いた光ディスク装置
の構成図である。
【符号の説明】
1 レーザ光源、1A 第1の半導体レーザ、1B 第
2の半導体レーザ、2選択性回折格子、 3 コリメー
タレンズ、4 光学素子、5 ハーフミラー、 6、
対物レンズ、7 光記録媒体、7a 信号記録面、78
集光レンズ、9 光検出器、10 光ピックアップ装
置、11 再生信号増幅回路、12 サーボ回路、13
サーボ機構、14 スピンドルモータ、15 波形等
化回路、16 A/D変換回路、17 復号回路、18
エンコーダ、19 変調回路、20 レーザ駆動回
路、21 液晶駆動回路、22 メモリ、30 レーザ
光源、31 第1の素子、32 第2の素子、 33
絶縁体、40 光ピックアップ装置、41 ガラス板、
42 第1の透明電極、 43 TN型液晶、44第2
の透明電極、45 ガラス板、50、60 光ピックア
ップ装置、66 対物レンズ、70 光記録媒体、70
a 信号記録面、71 光軸間距離検出手段、100、
200 光ディスク装置、311、321 アノード、
312、322 活性層、313、323 カソード、
600 波長選択性光学素子、711、712、71
3、・・・71n−2、71n−1、71n センサ、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松村 吉晋 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 Fターム(参考) 5D075 AA03 CD07 CD18 5D119 AA41 BA01 EC22 EC47 FA05 FA08 JA70 JB03

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対物レンズによりレーザ光を光記録媒体
    に集光照射して光記録媒体に信号を記録および/または
    再生する光ピックアップ装置であって、 第1の波長を有する第1のレーザ光と、前記第1の波長
    と異なる第2の波長を有する第2のレーザ光とを光軸を
    相違させて選択的に生成するレーザ光源と、 前記第1のレーザ光を入射し、屈折して前記第1のレー
    ザ光を前記対物レンズに入射させる第1の屈折率と、 前記第2のレーザ光を入射し、屈折することにより前記
    第2のレーザ光の光軸を前記第1のレーザ光の光軸と実
    質的に一致させて出射する第2の屈折率とを有する光学
    素子とを含む光ピックアップ装置。
  2. 【請求項2】 第1の基板厚を有する第1の光記録媒体
    と、前記第1の基板厚より厚い第2の基板厚を有する第
    2の光記録媒体とに信号を記録および/または再生する
    光ピックアップ装置であって、 第1の波長を有する第1のレーザ光と、前記第1の波長
    と異なる第2の波長を有する第2のレーザ光とを光軸を
    相違させて選択的に生成するレーザ光源と、 前記第1の光記録媒体の前記第1の基板厚に適合して設
    計された対物レンズと、 前記第1のレーザ光を入射し、屈折して前記第1のレー
    ザ光を前記対物レンズに入射させる第1の屈折率と、 前記第2のレーザ光を入射し、屈折することにより前記
    第2のレーザ光の光軸を前記第1のレーザ光の光軸と実
    質的に一致させて出射する第2の屈折率とを有する光学
    素子と、 前記光学素子を通過した前記第1のレーザ光をそのまま
    透過して前記対物レンズに導き、前記光学素子を通過し
    た前記第2のレーザ光を光軸から外周側に回折して所定
    の内周部を前記対物レンズに導く波長選択性光学素子と
    を含む光ピックアップ装置。
  3. 【請求項3】 前記レーザ光源は、前記第1のレーザ光
    を生成する第1の半導体レーザと、 前記第2のレーザ光を生成する第2の半導体レーザとを
    含む請求項1または請求項2に記載の光ピックアップ装
    置。
  4. 【請求項4】 前記光学素子は、第1の透明電極と、第
    2の透明電極と、前記第1および第2の透明電極により
    挟持された液晶とを含み、 前記第1および第2の透明電極間に第1の電圧を印加す
    ることにより前記液晶は前記第1の屈折率を有し、 前記第1および第2の透明電極間に第2の電圧を印加す
    ることにより前記液晶は前記第2の屈折率を有する請求
    項1から請求項3のいずれか1項に記載の光ピックアッ
    プ装置。
  5. 【請求項5】 前記請求項1から請求項4のいずれか1
    項に記載の光ピックアップ装置と、 前記レーザ光源に含まれる前記第1および第2の半導体
    レーザを選択的に駆動するレーザ駆動回路とを含む光デ
    ィスク装置。
  6. 【請求項6】 前記請求項3に記載の光ピックアップ装
    置と、 前記光学素子の前記第1および第2の透明電極間に前記
    第1または第2の電圧を印加する液晶駆動回路とを含む
    光ディスク装置。
  7. 【請求項7】 前記請求項3に記載の光ピックアップ装
    置と、 前記光ピックアップ装置から出射される前記第1のレー
    ザ光の光軸と前記第2のレーザ光の光軸との間隔を検出
    する光軸間距離検出手段と、 前記光軸間距離検出手段の検出結果に基づいて前記光学
    素子の前記第1および第2の透明電極間に前記第1の電
    圧または前記第2の電圧を印加する液晶駆動回路とを含
    む光ディスク装置。
  8. 【請求項8】 対物レンズによりレーザ光を光記録媒体
    に集光照射して光記録媒体に信号を記録および/または
    再生する光ピックアップ装置であって、 第1の波長を有する第1のレーザ光と、前記第1の波長
    と異なる第2の波長を有する第2のレーザ光と、前記第
    1の波長および前記第2の波長と異なる第3の波長を有
    する第3のレーザ光とを光軸を相違させて選択的に生成
    するレーザ光源と、 前記第1のレーザ光を入射し、屈折して前記第1のレー
    ザ光を前記対物レンズに入射させる第1の屈折率と、 前記第2のレーザ光を入射し、屈折することにより前記
    第2のレーザ光の光軸を前記第1のレーザ光の光軸と実
    質的に一致させて出射する第2の屈折率と、 前記第3のレーザ光を入射し、屈折することにより前記
    第3のレーザ光の光軸を前記第1のレーザ光の光軸と実
    質的に一致させて出射する第3の屈折率とを有する光学
    素子とを含む光ピックアップ装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006006381A1 (ja) * 2004-07-13 2006-01-19 Konica Minolta Opto, Inc. 光ピックアップ装置
WO2007086332A1 (ja) * 2006-01-24 2007-08-02 Pioneer Corporation 光ピックアップ装置

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