JP2001202032A - アクティブマトリクス型表示装置 - Google Patents

アクティブマトリクス型表示装置

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JP2001202032A
JP2001202032A JP2000007292A JP2000007292A JP2001202032A JP 2001202032 A JP2001202032 A JP 2001202032A JP 2000007292 A JP2000007292 A JP 2000007292A JP 2000007292 A JP2000007292 A JP 2000007292A JP 2001202032 A JP2001202032 A JP 2001202032A
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Masashi Jinno
優志 神野
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  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 蛍光表示装置に有機EL表示装置のTFT基
板を流用し、アクティブマトリクス型蛍光表示装置の開
発コストを低減する。 【解決手段】 蛍光表示装置と有機EL表示装置とで
は、画素ピッチが異なるので、TFT基板をそのまま流
用することはできない。そこで、本発明では、画素電極
7を複数のTFT6に跨って配置し、それらのTFT6
に接続することによって、有機EL表示装置のTFT基
板を蛍光表示装置に流用した。これによって、全ての画
素において選択信号線2、データ信号線3、電流供給線
4、第1、電流供給TFT5、6など、全ての回路が冗
長となるので、歩留まりが向上するという副次的効果も
奏する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は蛍光表示装置に関
し、更に詳しくは、画素毎に独立した画素電極を有し、
スイッチング素子である薄膜トランジスタ(Thin Film
Transistor、以下TFTと表記する。)を用いて表示を
制御するアクティブマトリクス型の表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】蛍光表示装置は、全面に形成された陰極
(カソード)から熱電子を陽極(アノード)に放出さ
せ、画素電極に塗布した蛍光体を発光させることによっ
て表示を行う表示装置の一種である。アクティブマトリ
クス型の蛍光表示装置は例えば特開昭52−10576
8号公報などに記載されている。以下に従来のアクティ
ブマトリクス型蛍光表示装置について説明する。
【0003】図5は従来のアクティブマトリクス型蛍光
表示装置の平面図である。第1の基板101上に行方向
に複数の選択信号線102が配置され、これに直交する
ようにデータ信号線103、電流供給線104が配置さ
れている。選択信号線102とデータ信号線103の交
点近傍には、選択信号線102にゲートが接続され、デ
ータ信号線103にドレインが接続された選択TFT1
05が配置されている。そして、選択TFT105のソ
ースにゲート電極が接続され、電流供給線104にドレ
インが接続された電流供給TFT106が配置されてい
る。電流供給TFTのソースには陽極である画素電極1
07が接続されている。
【0004】選択信号線102がハイになると選択TF
T105が導通となる。すると、データ信号線103の
電圧に応じて電流供給TFT106が導通となるので、
画素電極107に電流供給線104からデータ信号線1
03の電圧に応じた電流が供給される。それぞれの電流
供給TFT106のゲートには、データ信号を所定期間
保持するためのコンデンサが接続されている。
【0005】図6は従来のアクティブマトリクス型蛍光
表示装置の断面図である。第1の基板101上に、デー
タ信号線103と電流供給線104が配置され、それら
を覆って絶縁膜110が形成されている。絶縁膜110
にはコンタクトホールが設けられており、半導体膜10
6aが電流供給線104に接続されて配置されている。
半導体膜106a上にはゲート絶縁膜106bを介して
ゲート電極106cが配置され、電流供給TFT106
を構成している。電流供給TFT106を覆って平坦化
絶縁膜111が形成されている。以上でTFT基板10
0が構成される。TFT基板100の平坦化絶縁膜11
1にはコンタクトホールが設けられ、半導体膜106a
に接続されて画素電極107が配置されている。
【0006】第1の基板101に対向して第2の基板1
12が配置され、第1の基板101と第2の基板112
との間は真空となっている。第2の基板112の第1の
基板101に対抗する面は、第2の基板112と絶縁さ
れて陰極114が配置されている。更に、陰極114と
絶縁されてグリッド115が配置されている。画素電極
107上には蛍光体116が塗布されている。
【0007】次に蛍光表示装置の動作について説明す
る。陰極114には所定の電圧が印加され、陰極114
からは、熱電子が放出される。放出された熱電子は、陰
極114と画素電極107の電位差によって画素電極の
方に向かって飛び、グリッド115によって経路を制御
されて、蛍光体116に衝突する。蛍光体116は熱電
子によって励起発光し、画面表示が行われる。
【0008】ところで、近年、有機エレクトロルミネッ
センス(Electro Luminescence、以下ELと表記。)表
示装置のアクティブマトリクス型の研究が進展してい
る。有機EL表示装置は、発光層に輝度に応じた電流を
供給して発光する表示装置であり、その点で蛍光表示装
置と類似する表示装置である。そして、有機EL表示装
置は、蛍光表示装置とほぼ同様のTFT基板を有する。
アクティブマトリクス型EL表示装置に関しては、例え
ば特開平8−241048等に記載されているので詳述
は省略する。
【0009】蛍光表示装置は、有機EL表示装置に比較
して長寿命、高輝度、高い信頼性等のメリットがある反
面、蛍光体116を焼成して形成するため、画素を微細
化することが困難である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】現在の蛍光表示装置の
蛍光体は、粒径が約7μmあり、画素間隔を15μm以
上、好ましくは20μm程度確保する必要がある。画素
間隔よりは大きな画素を配置しなければならないので、
蛍光表示装置では、画素ピッチを数十μm以下にするこ
とには困難がある。蛍光表示装置は、通常200μm程
度の画素ピッチである。これに対し、有機EL表示装置
の画素ピッチは10μm程度でも形成可能ある。EL表
示装置は、通常60μm程度のピッチである。従って、
蛍光表示装置と有機EL表示装置とでは、画素ピッチが
大きく異なるので、例え周辺回路の等価回路が同様であ
っても有機EL表示装置のTFT基板をそのまま蛍光表
示装置のTFT基板として流用することはできない。
【0011】このため、アクティブマトリクス型の蛍光
表示装置を開発するためには、蛍光表示装置のためのT
FT基板を別途設計する必要が生じ、開発コストの増大
を招いていた。
【0012】また、蛍光表示装置に限らず、従来のアク
ティブマトリクス表示装置は、画面サイズが異なる機
種、即ち画素ピッチが異なる機種毎にそれぞれTFT基
板を開発する必要があり、開発コストの増大、開発期間
の長期化を招いていた。
【0013】また、アクティブマトリクス型の表示装置
は、一般的に一つの画素電極に対して一つの選択回路を
有するのみであるので、選択回路の中に不良素子が含ま
れていると、その画素は点灯しない(もしくは常時点灯
してしまう)不良画素となってしまい、歩留まりの低下
を招いていた。
【0014】そこで、本発明は、アクティブマトリクス
型の表示装置において、歩留まりを向上させうる表示装
置を提供すると共に、画素ピッチの異なる表示装置でT
FT基板を共有することのできる表示装置を提供するこ
とを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたものであり、基板と、それぞれ選
択薄膜トランジスタを有し、基板上に第1のピッチでマ
トリクス状に配列された複数の選択回路と、選択薄膜ト
ランジスタ上に第2のピッチで配列された複数の画素電
極とを有し、第2のピッチは、行方向もしくは/及び列
方向に第1のピッチに比較して2倍以上大きく、画素電
極のそれぞれに、複数の選択回路が対応して配置されて
いるアクティブマトリクス型表示装置である。
【0016】また、nを2以上の自然数とし、第2のピ
ッチは、行方向もしくは/及び列方向に第1のピッチの
n倍である。
【0017】また、行方向に延在する複数の選択信号線
と、列方向に延在する複数のデータ信号線とを更に有
し、複数の選択薄膜トランジスタそれぞれは、ゲートが
選択信号線のうちの一つに接続され、ドレインがデータ
信号線のうちの一つに接続されている。
【0018】また、第1のピッチと第2のピッチは列方
向で互いに等しい。
【0019】また、列方向に延在する複数の電流供給線
と、選択薄膜トランジスタに対応して配置された電流供
給薄膜トランジスタとを更に有し、電流供給薄膜トラン
ジスタは、選択薄膜トランジスタのソースがゲートに接
続され、電流供給線がドレインに接続され、画素電極が
ソースに接続されている。
【0020】また、画素電極に対向して配置された陰極
と、画素電極上に形成された蛍光体とを更に有し、陰極
から放出した電子が蛍光体にあたることによって発光し
て表示を行う。
【0021】また、画素電極は少なくとも1本のデータ
信号線もしくは/及び電流供給線に跨って配置されてい
る。
【0022】
【発明の実施の形態】図1は本発明の実施形態である蛍
光表示装置の平面図である。第1の基板1上に行方向に
複数の選択信号線2、列方向に複数のデータ信号線3、
電流供給線4がそれぞれ配置されている。選択信号線2
にゲートが接続され、データ信号線3にドレインが接続
された選択TFT5が配置され、選択TFT5のソース
にゲート電極が接続され、電流供給線4にドレインが接
続された電流供給TFT6が配置されている。以上の点
は従来の蛍光表示装置と同様である。選択TFT5、電
流供給TFT6及びそれらの間の配線を総称して選択回
路と称する。
【0023】本実施形態は、画素電極7の接続に特徴を
有する。即ち、画素電極7は、データ信号線3と、電流
供給線4に跨って配置され、それぞれの画素電極7に、
行方向に並んだ二つの選択回路に対応しており電流供給
TFT6に接続されている点が従来と大きく異なってい
る。即ち選択TFT5、電流供給TFT6、データ信号
線3、電流供給線4は一つの画素電極に対して全て二つ
ずつ配置されている。換言すれば、画素電極7の行方向
のピッチは、選択回路のピッチの2倍である。
【0024】図2は本実施形態である蛍光表示装置の断
面図である。第1の基板1上に、データ信号線3、電流
供給線4が配置され、それらを覆って絶縁膜10が形成
されている。絶縁膜10にはコンタクトホールが設けら
れており、半導体膜6aが電流供給線4に接続されて配
置されている。半導体膜6a上にはゲート絶縁膜6bを
介してゲート電極6cが配置され、電流供給TFT6を
構成している。電流供給TFT6を覆って平坦化絶縁膜
11が形成されている。平坦化絶縁膜11にはコンタク
トホールが設けられ、半導体膜6aに接続されて画素電
極7が配置されている。画素電極7はデータ信号線3
と、電流供給線4に跨って配置され、それぞれの画素電
極7は、行方向に並んだ二つの電流供給TFT6に接続
されている。
【0025】第1の基板1に対向して第2の基板12が
配置され、その間は真空となっている。第2の基板12
の内面は、第2の基板12とは絶縁されて陰極14が配
置されている。更に、陰極14と絶縁されてグリッド1
5が配置されている。画素電極7上には蛍光体16が塗
布されている。
【0026】本実施形態において、TFT基板100
は、有機EL表示装置のTFT基板を用いている。即
ち、有機EL表示装置の画素ピッチ60μmにあわせて
各TFT及び各配線が配置されている。そして、画素電
極7は、有機EL表示装置の2画素分の領域にわたって
配置されている。従って、有機EL表示装置のTFT基
板をそのまま流用し、蛍光表示装置としているのであ
る。
【0027】従って、アクティブマトリクス型蛍光表示
装置を開発するに際して、画素電極7以外の全てのレイ
ヤを有機EL表示装置のTFT基板と共通とすることが
でき、開発コストを大幅に削減することができる。ま
た、製品化にあたっても、有機EL表示装置と蛍光表示
装置とで同一のTFT基板を共有することができるの
で、量産効果によって、製造コストも削減することがで
きる。
【0028】次に本実施形態の動作について説明する。
一つの画素電極7に対応する二つのデータ信号線3、選
択TFT5をそれぞれデータ信号線3a、3b、選択T
FT5a、5bと区別する。二つの選択TFT5a、b
は同一の選択信号線2に接続されているので、オン、オ
フは同じタイミングで行われる。そして、データ信号線
3a、3bは、図示しない画面外の領域で接続されてお
り、同じ信号が入力される。従って、二つの電流供給T
FT6a、6bは同様に動作し、同じ大きさの電流を画
素電極7に供給する。
【0029】このように、一つの画素に第1、電流供給
TFT5、6等の回路が全て2つずつ存在するので、い
ずれか一つに不良が生じ、例えば電流駆動TFT6aが
全く動作しなくなったとしても、もう片方の電流駆動T
FT6bによって動作するので、従来不良品となってい
たTFT基板であっても良品として扱うことができる。
従って、TFT基板の歩留まりが向上し、製造コストを
抑えることができる。
【0030】また、一つの画素に電流供給線4に接続さ
れた電流供給TFT6が2つずつ存在するので、一つの
電流供給TFT6の電流容量が小さくても、その2倍の
電流を画素電極7に供給することができる。
【0031】図3は本発明の第2の実施形態を示す平面
図である。第1の実施形態との違いは、第1の実施形態
では画素電極7が選択回路に対して行方向に2倍のピッ
チを有していたのに対し、本実施形態では、画素電極1
7が選択回路に対して行方向に3倍のピッチを有する点
である。一般的に、カラー表示装置は、RGB3原色で
発色するため、一つの絵素を3分割する。その配置は、
一つの絵素を列方向に分割して配置するため、RGBそ
れぞれの画素は列方向に長い形状となる。従って、カラ
ー有機EL表示装置の行方向のピッチは列方向のピッチ
に比較して小さくなる。従って、画素電極17のピッチ
を選択回路のピッチに対して行方向にのみ3倍のピッチ
とすれば、ちょうどよいサイズの画素電極17とするこ
とができる。
【0032】本実施形態において、3つの選択TFT5
a、5b、5cは、同一の選択信号線2に接続されてい
るので、それぞれのオン、オフは同時に行われる。ま
た、3本のデータ信号線3a、3b、3cは、図示しな
い領域で互いに接続されている。従って、3つの電流供
給TFT6a、6b、6cは同様に動作し、それぞれか
ら、同じ大きさの電流が画素電極17に供給される。
【0033】従って、例えば電流供給TFT6のうち、
二つまでが不良により動作しなかったとしても、残りの
一つが動作するので、不良品とならない。
【0034】図4は本発明の第3の実施形態を示す平面
図である。第1の実施形態との違いは、第1の実施形態
では画素電極7が選択回路に対して行方向のみに2倍の
ピッチを有していたのに対し、本実施形態においては画
素電極27が選択回路に対して行方向及び列方向に2倍
のピッチを有する点である。
【0035】本実施形態では、選択TFT5a、5bと
選択TFT5c、5dがそれぞれ別の選択信号線2a、
2bに接続されている。選択信号線2a、2bは図示し
ない領域で互いに接続されており、2本の選択信号線2
a、2bに接続された選択TFTそれぞれのオン、オフ
は同時に行われる。そして、第1の実施形態と同様、デ
ータ信号線3a、3bは図示しない領域で互いに接続さ
れているので、4つの電流供給TFT6a、6b、6
c、6dは、それぞれ同じ大きさの電流を画素電極27
に供給する。
【0036】従って、例えば電流供給TFT6のうち、
三つまでが不良により動作しなかったとしても、残りの
一つが動作するので、不良品とならない。
【0037】また、図示しない領域で接続せず、別途選
択するようにすると、各選択TFT5a、bと5c、d
が完全に独立して動作することができるので、以下のよ
うな利点が生じる。即ち、その画素が選択されるとき、
まず選択TFT5a、5bがオンし、画素電極27に電
流を供給する。次に選択TFT5c、dがオンすると、
画素電極27は既に一定電圧に昇圧されているため、上
昇させなければならない電位差が小さい。つまり、いわ
ば前段の選択TFT5a、bによってプリチャージして
おくことができる。従って、表示品位を向上させること
ができる。
【0038】第2、第3の実施形態で示したように、よ
り小さいピッチで選択回路が配列されたTFT基板を用
い、選択回路のピッチの任意倍のピッチで画素電極7、
17、27を配置し、駆動させることができる。
【0039】なお、上記実施形態は、蛍光表示装置に有
機EL表示装置のTFT基板を流用したが、本発明の要
は、画素ピッチが小さい表示装置に用いるTFT基板
を、画素電極を複数接続することによって画素ピッチが
大きい表示装置に流用するところにある。従って、例え
ば画素ピッチの大きい反射型液晶表示装置(Liquid Cry
stal Display、以下LCDと表記。)のTFT基板に、
画素ピッチの小さい透過型LCDのTFT基板を流用す
るなど、あらゆる種類の表示装置に適用可能である。た
だし、現在の表示装置の研究開発の方向性としては、画
素ピッチの縮小化、微細化にある。これに対し、上述の
ように、蛍光表示装置には、画素ピッチを縮小できない
理由が存在するため、アクティブマトリクス型蛍光表示
装置は異なる種類の表示装置のTFT基板を流用するの
に適しているといえる。
【0040】また、透過型LCDは画素電極を光が透過
して表示するので、透過型LCDに本発明を適用する
と、画素の開口率が低下する問題が生じる。これに対
し、蛍光表示装置では、金属製の画素電極7上に設けら
れた蛍光体16が第2の基板12を透過して表示するの
で、画素電極7の下にTFTや配線を配置しても開口率
の低下のような問題は生じない。その観点から、本発明
は、蛍光表示装置、有機EL表示装置、反射型LCD等
のように、画素電極に光を透過させないで表示するタイ
プの表示装置に適用してより有効であると言える。
【0041】
【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
それぞれの画素電極は、複数のTFTに接続されている
ので、互いに冗長TFTとして機能するので、その内の
一つに不良が生じても他のTFTがカバーするため、回
路全体としては不良品とならない。
【0042】また、第2のピッチは、第1のピッチの整
数倍である。即ち、画素電極の配列はTFTの配列より
も粗く、小さいピッチのTFT基板を用いて大きいピッ
チの表示装置に対応することができる。従って、画素ピ
ッチの異なる表示装置の開発コストが低減できる。
【0043】また、画素電極に対向して配置された陰極
と、画素電極上に形成された蛍光体とを更に有し、陰極
から放出した電子が蛍光体にあたることによって発光す
ることによって表示を行う蛍光表示装置であれば、特
に、例えば既に開発されているEL表示装置のTFT基
板を、画素電極のレイヤーを変更するだけで蛍光表示装
置に流用することができるため、アクティブマトリクス
型蛍光表示装置の開発コストを削減することができると
いう特段の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態のアクティブマトリク
ス型表示装置を示す平面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態のアクティブマトリク
ス型表示装置を示す断面図である。
【図3】本発明の第2の実施形態のアクティブマトリク
ス型表示装置を示す平面図である。
【図4】本発明の第3の実施形態のアクティブマトリク
ス型表示装置を示す平面図である。
【図5】従来の蛍光表示装置を示す平面図である。
【図6】従来の蛍光表示装置を示す断面図である。
【符号の説明】
1,101 第1の基板、 2,102
選択信号線、3,103 データ信号線、
4,104 電流供給線、5,105 選択TF
T、 6,106 電流供給TFT、
7,17,27,107 画素電極、 12,112
第2の基板、14,114 陰極、
15,115 グリッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 31/15 H01J 31/15 D

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、それぞれ選択薄膜トランジスタ
    を有し、前記基板上に第1のピッチでマトリクス状に配
    列された複数の選択回路と、前記選択薄膜トランジスタ
    上に第2のピッチで配列された複数の画素電極とを有
    し、前記第2のピッチは、行方向もしくは/及び列方向
    に前記第1のピッチに比較して2倍以上大きく、前記画
    素電極のそれぞれに、複数の前記選択回路が対応して配
    置されていることを特徴とするアクティブマトリクス型
    表示装置。
  2. 【請求項2】 nを2以上の自然数とし、前記第2のピ
    ッチは、行方向もしくは/及び列方向に前記第1のピッ
    チのn倍であることを特徴とする請求項1に記載のアク
    ティブマトリクス型表示装置。
  3. 【請求項3】 行方向に延在する複数の選択信号線と、
    列方向に延在する複数のデータ信号線とを更に有し、前
    記複数の選択薄膜トランジスタそれぞれは、ゲートが前
    記選択信号線のうちの一つに接続され、ドレインが前記
    データ信号線のうちの一つに接続されていることを特徴
    とする請求項1に記載のアクティブマトリクス型表示装
    置。
  4. 【請求項4】 前記第2のピッチは行方向で前記第1の
    ピッチと比較して2倍以上であり、列方向で互いに等し
    いことを特徴とする請求項3に記載のアクティブマトリ
    クス型表示装置。
  5. 【請求項5】 列方向に延在する複数の電流供給線と、
    前記選択薄膜トランジスタに対応して配置された電流供
    給薄膜トランジスタとを更に有し、前記電流供給薄膜ト
    ランジスタは、前記選択薄膜トランジスタのソースがゲ
    ートに接続され、前記電流供給線がドレインに接続さ
    れ、前記画素電極がソースに接続されていることを特徴
    とする請求項3に記載のアクティブマトリクス型表示装
    置。
  6. 【請求項6】 前記画素電極に対向して配置された陰極
    と、前記画素電極上に形成された蛍光体とを更に有し、
    前記陰極から放出した電子が前記蛍光体にあたることに
    よって発光して表示を行うことを特徴とする請求項5に
    記載のアクティブマトリクス型表示装置。
  7. 【請求項7】 前記画素電極は少なくとも1本の前記デ
    ータ信号線もしくは/及び前記電流供給線に跨って配置
    されていることを特徴とする請求項5に記載のアクティ
    ブマトリクス型表示装置。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006189852A (ja) * 2004-12-29 2006-07-20 Dupont Displays Inc ピクセルを含む有機電子デバイス
CN100451791C (zh) * 2003-11-28 2009-01-14 东芝松下显示技术有限公司 有源矩阵型显示器及其制造方法
US7701420B2 (en) 2004-12-08 2010-04-20 Hitachi Displays, Ltd. Display device and driving method thereof
JP2015014793A (ja) * 2014-07-14 2015-01-22 Nltテクノロジー株式会社 表示装置
JP2016006524A (ja) * 2015-08-03 2016-01-14 Nltテクノロジー株式会社 表示装置
US10008165B2 (en) 2006-10-13 2018-06-26 Nlt Technologies, Ltd. TFT display device including unit circuits, pixel circuits and a display element
JP2020027270A (ja) * 2018-08-13 2020-02-20 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置および電子機器
US10909922B2 (en) 2018-08-13 2021-02-02 Seiko Epson Corporation Electro-optical device and electronic apparatus

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100451791C (zh) * 2003-11-28 2009-01-14 东芝松下显示技术有限公司 有源矩阵型显示器及其制造方法
US7701420B2 (en) 2004-12-08 2010-04-20 Hitachi Displays, Ltd. Display device and driving method thereof
US8547306B2 (en) 2004-12-08 2013-10-01 Hitachi Displays, Ltd. Display device and driving method thereof
JP2006189852A (ja) * 2004-12-29 2006-07-20 Dupont Displays Inc ピクセルを含む有機電子デバイス
US10008165B2 (en) 2006-10-13 2018-06-26 Nlt Technologies, Ltd. TFT display device including unit circuits, pixel circuits and a display element
US10235954B2 (en) 2006-10-13 2019-03-19 Tianma Japan, Ltd. Surface display device with a non-rectangular display surface shape and electronic device including same
US10453408B2 (en) 2006-10-13 2019-10-22 Tianma Japan, Ltd. Surface display device with a non-rectangular display surface shape and electronic device including same
JP2015014793A (ja) * 2014-07-14 2015-01-22 Nltテクノロジー株式会社 表示装置
JP2016006524A (ja) * 2015-08-03 2016-01-14 Nltテクノロジー株式会社 表示装置
JP2020027270A (ja) * 2018-08-13 2020-02-20 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置および電子機器
CN110827761A (zh) * 2018-08-13 2020-02-21 精工爱普生株式会社 电光装置以及电子设备
TWI713009B (zh) * 2018-08-13 2020-12-11 日商精工愛普生股份有限公司 電性光學裝置及電子機器
US10909922B2 (en) 2018-08-13 2021-02-02 Seiko Epson Corporation Electro-optical device and electronic apparatus

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