JP2001201500A - Photosetting resin and solid channel member - Google Patents

Photosetting resin and solid channel member

Info

Publication number
JP2001201500A
JP2001201500A JP2000014251A JP2000014251A JP2001201500A JP 2001201500 A JP2001201500 A JP 2001201500A JP 2000014251 A JP2000014251 A JP 2000014251A JP 2000014251 A JP2000014251 A JP 2000014251A JP 2001201500 A JP2001201500 A JP 2001201500A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow path
resin
dimensional
photocurable resin
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000014251A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3548069B2 (en
Inventor
Toshihiro Onose
俊宏 小野瀬
Koji Tamaoki
康二 玉置
Ryosaku Chikaoka
良作 近岡
Mitsuru Ehashi
満 江橋
Masayuki Muranaka
昌幸 村中
Norio Goto
典雄 後藤
Junichi Tamura
順一 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Nabtesco Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Teijin Seiki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Teijin Seiki Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2000014251A priority Critical patent/JP3548069B2/en
Publication of JP2001201500A publication Critical patent/JP2001201500A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3548069B2 publication Critical patent/JP3548069B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable compact and multi water quality meter by providing a light mold member with resistance to heat and moisture and mechanical strength (tensile modulus of elasticity) and using a photosetting resin which can be used for a solid channel member. SOLUTION: In the channel member, in which a solid channel is formed through the use of a photosetting resin, the photosetting resin containing (A) an urethane-based compound expressed by general formula and (B) an imide- based compound with a photopolymerizing functional group or polyimide precursor is used for the solid channel member and water quality meter. The general formula is A-CONH-R-NHCO-Y-CONH-R-NHCO-A, where A is a (meta)acroyl residue, R is an isocyanate component residue, and Y is a diol component residue.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、耐湿性、
機械強度の優れた光硬化樹脂を用いた立体流路部材及び
該立体流路部材を用いた水質計に関する。
The present invention relates to heat resistance, moisture resistance,
The present invention relates to a three-dimensional flow path member using a photocurable resin having excellent mechanical strength, and a water quality meter using the three-dimensional flow path member.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光造形は光重合化合物を含んだ樹
脂に紫外線レーザを照射して、照射部分を硬化させ第1
層を完成させ、その上層に未硬化の樹脂を導入して、さ
らに硬化操作を繰り返すことで第2層、第3層、…第n
層を形成して立体部材を製作する。
2. Description of the Related Art Conventionally, in stereolithography, a resin containing a photopolymerization compound is irradiated with an ultraviolet laser to cure an irradiated portion and to cure the resin.
The layer is completed, an uncured resin is introduced into the upper layer, and the curing operation is repeated to form a second layer, a third layer,.
A three-dimensional member is manufactured by forming a layer.

【0003】上記のような樹脂成形型の製作には、三次
元CADに入力されたデータに基づいて光硬化性樹脂を
光学的立体造形する方法が開示されている。
[0003] For the production of a resin mold as described above, a method of optically three-dimensionally molding a photocurable resin based on data input to a three-dimensional CAD is disclosed.

【0004】光硬化性樹脂としては特開平6−1999
62号公報、特開平7−26060号公報、特開平7−
26062号公報に各種が提案されている。しかし、こ
れらの光硬化性樹脂は光学的立体造形して得られる樹脂
成形型の熱変形温度は約70℃以下、引張弾性率は約8
GPa以下で耐熱性及び機械強度が不充分であり樹脂成
形型の変形や破損が著しく製品化の障害となっている。
As a photocurable resin, JP-A-6-1999
No. 62, JP-A-7-26060, JP-A-7-260
Various types are proposed in JP-A-26062. However, these photocurable resins have a heat deformation temperature of about 70 ° C. or less and a tensile modulus of about 8 in a resin mold obtained by optical three-dimensional molding.
At GPa or less, heat resistance and mechanical strength are insufficient, and deformation and breakage of the resin mold are remarkable and hinder commercialization.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】光硬化性樹脂を用いて
作成される光学的立体造形部材(以下、光造形部材とい
う)は、機械加工品やモールド品の形状,寸法の確認や
開発品への一時的な組込み等の用途に使用されている。
光造形部材は精度良く形状を再現でき、機械強度が優れ
ていることが要求される。ところが、光硬化樹脂は紫外
線により硬化させるため、造形した光造形部材の機械的
強度はアクリル樹脂、硬質塩化ビニル樹脂などの一般プ
ラスチックより劣る。
SUMMARY OF THE INVENTION An optical three-dimensional molded member (hereinafter, referred to as an optical molded member) made using a photocurable resin is used to confirm the shape and dimensions of a machined product or a molded product or to develop a product. It is used for applications such as temporary assembly.
The optical shaping member is required to be able to accurately reproduce the shape and have excellent mechanical strength. However, since the photocurable resin is cured by ultraviolet light, the mechanical strength of the molded optical molding member is inferior to that of general plastics such as acrylic resin and hard vinyl chloride resin.

【0006】また、光硬化性樹脂を用いた光学的立体造
形部材を流路部材として長期間使用する場合樹脂の吸水
による物性劣化のため、水質計などへ適用するには課題
があった。
Further, when an optical three-dimensional molding member using a photocurable resin is used as a flow path member for a long period of time, there is a problem in application to a water quality meter or the like due to deterioration of physical properties due to water absorption of the resin.

【0007】更に、従来の水流路システムに使用してい
たオンライン水質計は、浄水場で使用している分析計等
のように、大型且つ高価で広い設置場所の確保が必要
で、充分な測定項目、測定個所を得ることが困難であっ
た。 そのため、分析部を小形化、マルチ化した水質計
とする必要があり、そのためには小体積内に複数の流路
を形成した立体流路部材のニーズが高まっている。
Further, the on-line water quality meter used in the conventional water flow path system requires a large, expensive, and wide installation space, such as an analyzer used in a water purification plant, and requires sufficient measurement. It was difficult to obtain items and measurement points. Therefore, it is necessary to reduce the size of the analysis unit and make it a multi-purpose water quality meter. For this purpose, there is an increasing need for a three-dimensional flow path member having a plurality of flow paths formed in a small volume.

【0008】これを実現するために複雑な立体部材を簡
単に作成できる光硬化樹脂を用いた光造形法よる水質計
の開発が必要である。即ち、立体流路部材を用いた水質
計を実現するためには、耐熱性、耐湿(水)性、機械強
度に優れた光硬化樹脂が必要である。
In order to realize this, it is necessary to develop a water quality meter by an optical shaping method using a photocurable resin which can easily form a complicated three-dimensional member. That is, in order to realize a water quality meter using a three-dimensional flow channel member, a photocurable resin having excellent heat resistance, moisture resistance (water) resistance, and mechanical strength is required.

【0009】また、流路部材の流路の径、断面積を小さ
くするには、光硬化樹脂は光造形後の未硬化部分の除去
が容易で、未硬化時の粘度が適度に低く樹脂の取扱い性
が良いことが重要である。
Further, in order to reduce the diameter and cross-sectional area of the flow path of the flow path member, the photocurable resin is easy to remove the uncured portion after the optical molding, and the viscosity at the time of uncured is appropriately low. It is important that the handleability is good.

【0010】本発明は立体流路部材を水質計に適用する
ために、光造形部材に耐熱性、耐湿(水)性、機械強度
(引張弾性率)を持たせ、流路部材として使用可能な光
硬化性樹脂を提供する。該光硬化性樹脂を用いることに
より上記の立体流路部材の課題を解決し、小形化、マル
チ化した水質計を提供する。
According to the present invention, in order to apply the three-dimensional channel member to a water quality meter, the stereolithographic member has heat resistance, moisture (water) resistance, and mechanical strength (tensile modulus), and can be used as a channel member. Provide a photocurable resin. By using the photocurable resin, the problem of the three-dimensional flow channel member is solved, and a miniaturized and multi-purpose water quality meter is provided.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の状況に鑑
みなされたものである。即ち、紫外線で硬化可能な耐熱
性、耐湿性、機械強度に優れた光硬化性樹脂について検
討した結果、、ウレタン系化合物(樹脂)とイミド系化
合物(樹脂)を基本とする樹脂系、更にこれにエポキシ
系化合物(樹脂)を加えてなる樹脂系が有望であること
を見出した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above situation. That is, as a result of examining a photocurable resin having excellent heat resistance, moisture resistance, and mechanical strength that can be cured by ultraviolet light, a resin based on a urethane-based compound (resin) and an imide-based compound (resin) was obtained. It has been found that a resin system obtained by adding an epoxy-based compound (resin) to the above is promising.

【0012】その要旨は以下の通りである。The gist is as follows.

【0013】[1] 光硬化性樹脂を用いて内部に立体的
な流路が形成された流路部材において、該光硬化性樹脂
が、(A)一般式[1]
[1] In a flow path member in which a three-dimensional flow path is formed using a photocurable resin, the photocurable resin is represented by the following general formula (A):

【0014】[0014]

【化4】 Embedded image

【0015】[式中、Aは(メタ)アクロイル残基、R
はイソシアネ‐ト成分残基、Yはジオール成分残基であ
る。]で表されるウレタン系化合物と、(B)光重合性
の官能基を有するイミド系化合物或いはポリイミド前駆
体を含む光硬化性樹脂である。
Wherein A is a (meth) acryloyl residue, R
Is an isocyanate component residue, and Y is a diol component residue. And (B) a photocurable resin containing an imide compound having a photopolymerizable functional group or a polyimide precursor.

【0016】前記項[1]の光硬化性樹脂に、(C)光重
合性の官能基を有するエポキシ系化合物を含む光硬化性
樹脂である。
The photocurable resin according to item [1], further comprising (C) an epoxy compound having a photopolymerizable functional group.

【0017】前記において、一般式[1]で表されるウレ
タン化合物が10〜80重量%含まれていることが好ま
しい。前記光硬化性樹脂は紫外線を用いて硬化すること
で耐熱性(熱変形温度)、耐湿性(吸水率)、機械強度
(引張弾性率)に優れた硬化樹脂を得ることができる。
In the above, it is preferable that the urethane compound represented by the general formula [1] is contained in an amount of 10 to 80% by weight. The photocurable resin can be cured by using ultraviolet rays to obtain a cured resin having excellent heat resistance (thermal deformation temperature), moisture resistance (water absorption), and mechanical strength (tensile modulus).

【0018】また、前記流路部材の流路内面にハードコ
ート処理を施したこと、流路内面にフッ素樹脂または弗
化ビニリデンをコーティング処理したことを特徴とする
立体流路部材である。更に、1個以上の分岐又は複数の
流路、容器部を有する立体流路部材であり、流路の径が
2mm未満もしく流路の断面積が4mm未満である立
体流路部材である。
Further, the three-dimensional flow channel member is characterized in that a hard coat treatment is performed on the inner surface of the flow channel of the flow channel member, and a coating process is performed on the inner surface of the flow channel with a fluororesin or vinylidene fluoride. Furthermore, a three-dimensional flow channel member having one or more branches or a plurality of flow channels and a container portion, wherein the diameter of the flow channel is less than 2 mm or the cross-sectional area of the flow channel is less than 4 mm 2. .

【0019】[2] 排水システムの排水経路に取り付け
可能な水質計において、該水質計は水導入部と該導入さ
れた水を分析する分析部とが光硬化性樹脂で形成された
流路を有する流路部材で連通され、該流動部材の前記光
硬化性樹脂が、前記項[1]のウレタン化合物と、イミド
系化合物或いはポリイミド前駆体を含む樹脂系又はこれ
に更にエポキシ樹脂を含む樹脂系であることを特徴とす
る水質計である。
[2] In a water quality meter which can be attached to a drainage path of a drainage system, the water quality meter includes a water introduction section and an analysis section for analyzing the introduced water, a flow path formed of a photocurable resin. Wherein the photocurable resin of the flow member is a resin system containing the urethane compound of the above item [1] and an imide compound or a polyimide precursor, or a resin system containing an epoxy resin further. It is a water quality meter characterized by being.

【0020】本発明の光硬化性樹脂は、光造形に用いる
樹脂成分の親水基又は極性基を減少或いは実質的に取除
き耐湿(水)性を向上させ、ウレタン系化合物、イミド
系化合物、エポキシ系化合物をバランス良く添加して耐
熱性、機械強度を向上させる。
The photocurable resin of the present invention improves the moisture resistance (water) resistance by reducing or substantially removing hydrophilic groups or polar groups of the resin component used for stereolithography, and improves urethane compounds, imide compounds and epoxy resins. Heat resistance and mechanical strength are improved by adding a system compound in a well-balanced manner.

【0021】更に、樹脂硬化時の反応率を適切にして強
度の向上と未硬化部分の反応進行を抑制させる添加剤を
添加して、未硬化時の粘度を適度に低くすることで造形
された部材内から容易に未硬化樹脂を取り除くことが可
能となり、流路部材の流路の径、断面積は小さくするこ
とができる以上により光造形法により流路部材としての
耐熱性(熱変形温度)、耐湿性(吸水率)、機械強度
(引張弾性率)を満足した立体流路部材を得ることがで
きる。
Further, an additive is added to improve the strength at the time of curing the resin and to suppress the progress of the reaction of the uncured portion by appropriately setting the reaction rate at the time of curing the resin. The uncured resin can be easily removed from the inside of the member, and the diameter and cross-sectional area of the flow passage member can be reduced. Thus, a three-dimensional flow path member satisfying moisture resistance (water absorption rate) and mechanical strength (tensile modulus) can be obtained.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明において、(A)成分の一
般式[1]で表されるウレタン系化合物としては、例えば
不飽和ウレタンとビニル単量体とからなり、且つ該不飽
和ウレタン/該ビニル単量体=80/20〜40/60
(重量比)の割合からなる混合物等がある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the urethane compound represented by the general formula [1] as the component (A) includes, for example, an unsaturated urethane and a vinyl monomer. The vinyl monomer = 80/20 to 40/60
(Weight ratio).

【0023】不飽和ウレタンとしては、例えば分子中に
ラジカル重合性基としてメタクリロイル基とアクリロイ
ル基とをこれらの合計で3個以上有し、且つ該ラジカル
重合性基1個当たりの分子量が平均150〜250であ
る不飽和ウレタンである。
As the unsaturated urethane, for example, the molecule has three or more methacryloyl groups and acryloyl groups as radical polymerizable groups in a molecule, and the molecular weight per radical polymerizable group is 150 to 150 on average. 250 is an unsaturated urethane.

【0024】具体的には、(1)n価のポリイソシアネ
ート1モルと、ポリオール及び(メタ)アクリル酸との
エステル化によって得られる分子中に1個の水酸基を有
するポリオール(メタ)アクリル酸部分エステルnモル
(以下、(メタ)アクリルエステルモノオールという)
とから得られる不飽和ウレタン、(2)n価のポリオー
ル1モルと、ジイソシアネートnモルと、前記した(メ
タ)アクリルエステルモノオールnモルとから得られる
不飽和ウレタン、(3)n価のポリオール1モルと、イ
ソシアナトアルキル(メタ)アクリレートnモルとから
得られる不飽和ウレタン、(4)分子中にn個の遊離の
水酸基を有するポリオール(メタ)アクリレート1モル
と、イソシアナトアルキル(メタ)アクリレートnモル
とから得られる不飽和ウレタン、上記の不飽和ウレタン
の混合物等が挙げられる。
Specifically, (1) a polyol (meth) acrylic acid moiety having one hydroxyl group in a molecule obtained by esterifying 1 mol of an n-valent polyisocyanate with a polyol and (meth) acrylic acid; Ester nmol (hereinafter referred to as (meth) acrylic ester monol)
Unsaturated urethane obtained from (2) 1 mol of n-valent polyol, n mol of diisocyanate, and n mol of (meth) acrylic ester monol, and (3) n-valent polyol 1 mole of an unsaturated urethane obtained from 1 mole of an isocyanatoalkyl (meth) acrylate, (4) 1 mole of a polyol (meth) acrylate having n free hydroxyl groups in a molecule, and 1 mole of an isocyanatoalkyl (meth) acrylate And unsaturated urethane obtained from n moles of acrylate, a mixture of the above unsaturated urethanes, and the like.

【0025】本発明は分子中にラジカル重合性基として
メタクリロイル基とアクリロイル基とをこれらの合計で
3個以上有し、且つかかるラジカル重合性基の含有濃度
の指標としてラジカル重合性基1個当たりの分子量が平
均150〜250である不飽和ウレタンを用いるもので
あるが、かかるラジカル重合性基の含有濃度を有する不
飽和ウレタンは、不飽和ウレタンの合成に供する原料を
適宜選択することにより得ることができる。
The present invention has a methacryloyl group and an acryloyl group as radical polymerizable groups in the molecule in a total of three or more of them, and as an index of the content of such radical polymerizable groups per radical polymerizable group. The unsaturated urethane having a molecular weight of 150 to 250 on average is used, and the unsaturated urethane having such a concentration of the radical polymerizable group can be obtained by appropriately selecting a raw material to be used for the synthesis of the unsaturated urethane. Can be.

【0026】例えば、ポリイソシアネートの場合にはそ
の分子量及びイソシアネート官能基数、ポリオールの場
合にはその分子量及びヒドロキシ官能基数,ポリオール
(メタ)アクリレート部分エステルの場合には(メタ)ア
クリロイル官能基数等を適宜に選択して組み合わせるこ
とにより得ることができる。
For example, in the case of a polyisocyanate, its molecular weight and the number of isocyanate functional groups, in the case of a polyol, its molecular weight and the number of hydroxy functional groups,
In the case of a (meth) acrylate partial ester, it can be obtained by appropriately selecting and combining the number of (meth) acryloyl functional groups and the like.

【0027】本発明において、不飽和ウレタンは、前記
したように分子中にラジカル重合性基としてメタクリロ
イル基とアクリロイル基とをこれらの合計で3個以上有
するものであり、分子中にラジカル重合性基としてメタ
クリロイル基/アクリロイル基=1/3〜3/1(モル
比)の割合で有し、且つかかるラジカル基合性基を3〜
8個有するものが好ましい。
In the present invention, the unsaturated urethane has three or more methacryloyl groups and acryloyl groups as radical polymerizable groups in the molecule as described above, and the radical polymerizable group is contained in the molecule. As a methacryloyl group / acryloyl group = 1/3 to 3/1 (molar ratio), and the radical-compatible group is 3 to
Those having eight are preferred.

【0028】このような不飽和ウレタンとしては、例え
ば(1)ジイソシアネート/トリオールモノメタクリレ
ート・モノアクリレート=1/2(モル比)の反応物、ジ
イソシアネート/トリオールモノメタクリレート・モノ
アクリレート/ジオールモノメタクリレート=1/1/
1(モル比)の反応物、ジイソシアネート/トリオール
モノメタクリレート・モノアクリレート/ジオールモノ
アクリレート=1/1/1(モル比)の反応物、(2)
ジイソシアネート/トリオールモノメタクリレート・モ
ノアクリレート/トリオールジメタクリレート=1/1
/1(モル比)の反応物、ジイソシアネート/トリオー
ルモノメタクリレート・モノアクリレート/トリオール
ジアクリレート=1/1/1(モル比)の反応物、
(3)トリオール/ジイソシアネート/トリオールモノ
メタクリレート・モノアクリレート=1/3/3(モル
比)の反応物、トリオール/ジイソシアネート/トリオ
ールモノメタクリレート・モノアクリレート/ジオール
モノメタクリレート=1/3/2/1(モル比)又は1
/3/1/2(モル比)の反応物、トリオール/ジイソ
シアネート/トリオールモノメタクリレート・モノアク
リレート/ジオールモノアクリレート=1/3/2/1
又は1/3/1/2(モル比)の反応物、(4)テトラオ
ール/ジイソシアネート/トリオールモノメタクリレー
ト・モノアクリレート=1/4/4(モル比)の反応
物、テトラオール/ジイソシアネート/トリオールモノ
メタクリレート・モノアクリレート/ジオールモノメタ
クリレート=1/4/3/1(モル比)及び1/4/2
/2(モル比)の反応物、テトラオール/ジイソシアネ
ート/トリオールモノメタクリレート・モノアクリレー
ト/ジオールモノアクリレート=1/4/3/1(モル
比)及び1/4/2/2(モル比)の反応物、(5)テ
トラオール/ジイソシアネート/トリオールモノメタク
リレート/ジオールモノアクリレート=1/4/2/2
(モル比)及び1/4/3/1(モル比)の反応物等が
挙げられる。
Examples of such unsaturated urethanes include (1) a reaction product of diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate = 1/2 (molar ratio), diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate / diol monomethacrylate = 1. / 1 /
1 (molar ratio), diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate / diol monoacrylate = 1/1/1 (molar ratio), (2)
Diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate / triol dimethacrylate = 1/1
/ 1 (molar ratio), diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate / triol diacrylate = 1/1/1 (molar ratio),
(3) Reaction product of triol / diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate = 1/3/3 (molar ratio), triol / diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate / diol monomethacrylate = 1/3/2/1 ( Molar ratio) or 1
/ 3/1/2 (molar ratio), triol / diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate / diol monoacrylate = 1/3/2/1
Or a reactant of 1/3/1/2 (molar ratio), (4) a reactant of tetraol / diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate = 1/4/4 (molar ratio), tetraol / diisocyanate / triol Monomethacrylate / monoacrylate / diol monomethacrylate = 1/4/3/1 (molar ratio) and 1/4/2
/ 2 (molar ratio), tetraol / diisocyanate / triol monomethacrylate / monoacrylate / diol monoacrylate = 1/4/3/1 (molar ratio) and 1/4/2/2 (molar ratio) Reactant, (5) tetraol / diisocyanate / triol monomethacrylate / diol monoacrylate = 1/4/2/2
(Molar ratio) and 1/4/3/1 (molar ratio).

【0029】本発明によれば、前記した不飽和ウレタン
のうちでも、芳香族ジイソシアネートを用いた前記
(1)、(3)及び(4)の中の不飽和ウレタンであっ
て、ラジカル重合性基1個当たりの分子量が平均150
〜215のものが特に好ましい。
According to the present invention, among the above-mentioned unsaturated urethanes, the unsaturated urethanes in the above (1), (3) and (4) using an aromatic diisocyanate, wherein the radically polymerizable group The average molecular weight per piece is 150
To 215 are particularly preferred.

【0030】前記した不飽和ウレタンの合成に用いる原
料としては、(1)エチレングリコール、プロピレング
リコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサン
ジオール等の2価アルコール及びこれらのモノ(メタ)
アクリレート、(2)グリセリン、トリメチロールプロ
パン等の3価アルコール、これらのエチレンオキサイド
やプロピレンオキサイド付加物等のポリエーテルトリオ
ール等のトリオール及びこれらのモノメタクリレート・
モノアクリレート、(3)ペンタエリスリトール及びペ
ンタエリスリトールのエチレンオキサイドやプロピレン
オキサイド付加物等のポリエーテルテトラオール等が有
利に使用できる。また芳香族ジイソシアネートとして
は、公知のものが適用できるが、トリレンジイソシアネ
ート,メタレン−ビス−(4−フェニルイソシアネー
ト)等が有利に利用できる。
The raw materials used for the synthesis of the unsaturated urethane include (1) dihydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexanediol;
Acrylates, (2) trihydric alcohols such as glycerin and trimethylolpropane, triols such as polyether triols such as ethylene oxide and propylene oxide adducts, and monomethacrylates and the like
Monoacrylates, (3) pentaerythritol, and polyethertetraols such as ethylene oxide and propylene oxide adducts of pentaerythritol can be advantageously used. As the aromatic diisocyanate, known ones can be applied, but tolylene diisocyanate, metalene-bis- (4-phenyl isocyanate) and the like can be advantageously used.

【0031】本発明において、不飽和ウレタンに含まれ
るラジカル重合性基1個当たりの分子量が150未満の
不飽和ウレタンを用いると得られる樹脂成形型は内部の
歪み応力に起因する変形や微細クラック等の発生が著し
くなり、逆にラジカル重合性基1個当たりの分子量が2
50を超えると樹脂成形型はその熱的物性や機械的物性
が低下する。
In the present invention, when an unsaturated urethane having a molecular weight of less than 150 per radically polymerizable group contained in the unsaturated urethane is used, the resin mold obtained will be deformed due to internal strain stress, fine cracks, etc. And the molecular weight per radical polymerizable group is 2
If it exceeds 50, the thermal and mechanical properties of the resin mold deteriorate.

【0032】本発明の(B)成分である光重合性の官能
基を有するイミド系化合物或いはポリイミド前駆体とし
ては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物をオレ
フィン不飽和アルコールと反応させてオレフィン芳香族
テトラカルボン酸ジエステルを合成し、この化合物とジ
アミンとを、例えばカルボジイミドを用いて脱水縮合反
応により重合させ共有結合で感光基を導入したものや、
芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合
物を反応させイオン結合で感光基を導入したもの等が挙
げられる。
The imide compound having a photopolymerizable functional group or the polyimide precursor which is a component (B) of the present invention is, for example, an olefin obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride with an olefin unsaturated alcohol. An aromatic tetracarboxylic acid diester is synthesized, the compound and a diamine are polymerized by a dehydration condensation reaction using, for example, carbodiimide, and a photosensitive group is introduced by a covalent bond,
Those obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride with an aromatic diamine compound to introduce a photosensitive group by ionic bonding are exemplified.

【0033】これらは適当な有機溶媒に溶解したワニス
状態で基板に塗布し、乾燥して被膜とした後に、適当な
フォトマスクを介して紫外線を照射して露光部を硬化さ
せ、有機溶媒を用いて現像およびリンスすることによ
り、比較的膜厚の厚いレリーフパターンを得ることがで
きる。
These are applied to a substrate in the form of a varnish dissolved in an appropriate organic solvent, dried to form a film, and then irradiated with ultraviolet rays through an appropriate photomask to cure the exposed portions. By performing development and rinsing, a relief pattern having a relatively thick film thickness can be obtained.

【0034】また、(B)成分としては、光重合可能な
炭素−炭素二重結合を有するポリイミド前駆体と光開始
剤系としてヘキサアリールビイミダゾール化合物、チタ
ノセン化合物或いはアリールグリシン系化合物を含有し
てなる感光性ポリイミド前駆体組成物として用いること
ができる。
As the component (B), a polyimide precursor having a photopolymerizable carbon-carbon double bond and a hexaarylbiimidazole compound, a titanocene compound or an arylglycine compound as a photoinitiator system are contained. Can be used as a photosensitive polyimide precursor composition.

【0035】(B)成分100重量部に対して光開始剤
を0.1〜10重量部含有することが好ましい。 光開
始剤がフッ素原子を含むヘキサアリールビイミダゾール
化合物、チタノセン化合物或いはアリールグリシン系化
合物とすることにより、他の光開始剤を用いる場合に比
較して紫外線照射後も重合が進行し最終的な硬化率が向
上し、各層間の密着性が向上する。
The photoinitiator is preferably contained in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the component (B). The photoinitiator is a hexaarylbiimidazole compound containing a fluorine atom, a titanocene compound or an arylglycine-based compound, so that the polymerization proceeds even after irradiation with ultraviolet rays as compared with other photoinitiators and finally cures. The ratio is improved, and the adhesion between the layers is improved.

【0036】チタノセン系化合物としては、ビス(y5
−シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−
3−(1H−ピロ−1−イル)フェニル]−チタニウ
ム、ビス(y5−メチルシクロペンタジエニル)ビス
[2,6−ジフルオロフェニル]−チタニウム、ビス
(y5−メチルシクロペンタジエニル)ビス[2,3,
4,5,6−ペンタフルオロフェニル]−チタニウム等
が好ましい。
As the titanocene compound, bis (y5
-Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (1H-pyro-1-yl) phenyl] -titanium, bis (y5-methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluorophenyl] -titanium, bis (y5-methylcyclopentadienyl) bis [ 2,3
4,5,6-Pentafluorophenyl] -titanium and the like are preferable.

【0037】前記のヘキサアリールビイミダゾール化合
物及びチタノセン系化合物の含有量は、ポリイミド前駆
体100重量部に対して、0.1〜10重量部とするこ
とが好ましい。
The content of the hexaarylbiimidazole compound and the titanocene compound is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyimide precursor.

【0038】さらに本発明において、前記の開始剤系に
芳香族メルカプト化合物、メルカプトベンゾキサゾー
ル、メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンゾイ
ミダゾール、アミン、アリールグリシン系化合物などの
水素供与体を加えることにより、紫外線感度を高めるこ
とができる。
Further, in the present invention, by adding a hydrogen donor such as an aromatic mercapto compound, a mercaptobenzoxazole, a mercaptobenzothiazole, a mercaptobenzimidazole, an amine or an arylglycine compound to the above-mentioned initiator system, the ultraviolet sensitivity can be improved. Can be increased.

【0039】水素供与体としては、N−フェニルグリシ
ン(NPG)、N−(p−クロロフェニル)グリシン、
N−(p−ブロモフェニル)グリシン、N−(p−シア
ノフェニル)グリシン、N−(p−メチルフェニル)グ
リシン、N−メチル−N−フェニルグリシン、N−(p
−ブロモフェニル)−N−メチルグリシン、N−(p−
クロロフェニル)−N−エチルグリシン等のアリールグ
リシン系化合物が挙げられる。前記の水素供与体の含有
量は、ポリイミド前駆体(A)100重量部に対して、
0.1〜15重量部とすること好ましい。
Examples of the hydrogen donor include N-phenylglycine (NPG), N- (p-chlorophenyl) glycine,
N- (p-bromophenyl) glycine, N- (p-cyanophenyl) glycine, N- (p-methylphenyl) glycine, N-methyl-N-phenylglycine, N- (p
-Bromophenyl) -N-methylglycine, N- (p-
Aryl glycine compounds such as (chlorophenyl) -N-ethylglycine. The content of the hydrogen donor is based on 100 parts by weight of the polyimide precursor (A).
It is preferably 0.1 to 15 parts by weight.

【0040】上記の光重合可能な炭素−炭素二重結合を
有するポリイミド前駆体としては、光重合可能な炭素−
炭素二重結合を有する化合物がポリアミド酸の側鎖に共
有結合した構造を有するポリアミド酸不飽和エステル、
ポリアミド酸不飽和アミド、ポリアミド酸に炭素−炭素
二重結合を有するアミンを混合して、カルボキシル基と
アミノ基のイオン結合により炭素−炭素二重結合を導入
したもの等が挙げられる。炭素−炭素不飽和二重結合
は、アクリロイル基又はメタクリロイル基の形で含まれ
ることがより好ましい。
Examples of the polyimide precursor having a photopolymerizable carbon-carbon double bond include a photopolymerizable carbon-carbon double bond.
Polyamic acid unsaturated ester having a structure in which a compound having a carbon double bond is covalently bonded to a side chain of polyamic acid,
Examples thereof include unsaturated amides of polyamic acid and those obtained by mixing a polyamic acid with an amine having a carbon-carbon double bond to introduce a carbon-carbon double bond by an ionic bond between a carboxyl group and an amino group. More preferably, the carbon-carbon unsaturated double bond is included in the form of an acryloyl group or a methacryloyl group.

【0041】これらの中では、塩基性水溶液に対する溶
解性に優れ、本発明の(C)成分と組み合わせ用いるこ
とにより優れた感度と現像時間の短縮が図れることから
ポリアミド酸エステルが好ましい。
Of these, polyamic acid esters are preferred because they have excellent solubility in a basic aqueous solution and can be used in combination with the component (C) of the present invention to achieve excellent sensitivity and shorten development time.

【0042】例えば、メタクリロイルオキシアルキル基
及びアクリロイルオキシアルキル基は、高い紫外線感度
を実現するのみならず、合成も容易であるため本発明に
好適である。
For example, a methacryloyloxyalkyl group and an acryloyloxyalkyl group are suitable for the present invention because they not only realize high ultraviolet sensitivity but also are easy to synthesize.

【0043】本発明のポリイミド前駆体は、テトラカル
ボン酸二無水物、ジアミン及び炭素−炭素二重結合含有
化合物の種類と配合量により種々調整できる。
The polyimide precursor of the present invention can be variously adjusted by the types and amounts of the tetracarboxylic dianhydride, diamine and the compound containing a carbon-carbon double bond.

【0044】前記ポリアミド酸エステルは、テトラカル
ボン酸二無水物と不飽和基を有するヒドロキシ基含有化
合物を混合して反応させ、テトラカルボン酸のハーフエ
ステルを製造した後、塩化チオニルにより酸クロリド化
し、ついで、ジアミンと反応させる方法や、前記テトラ
カルボン酸ハーフエステルをカルボジイミド類を縮合剤
としてジアミンと反応させる方法等により合成できる。
The polyamic acid ester is mixed with a tetracarboxylic dianhydride and a hydroxy group-containing compound having an unsaturated group and reacted to produce a half ester of tetracarboxylic acid, which is then acid chlorided with thionyl chloride. Then, it can be synthesized by a method of reacting with a diamine or a method of reacting the tetracarboxylic acid half ester with a diamine using a carbodiimide as a condensing agent.

【0045】前記テトラカルボン酸二無水物としては、
例えば、オキシジフタル酸、ピロメリット酸、3,
3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、
1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、2,
3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,
5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、2,3,5,6
−ピリジンテトラカルボン酸、3,4,9,10−ペリ
レンテトラカルボン酸、スルホニルジフタル酸、m−タ
ーフェニル−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸、
p−ターフェニル−3,3′,4,4′−テトラカルボ
ン酸、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,
2−ビス(2,3−又は3,4−ジカルボキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(2,3−又は3,4−ジ
カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス{4′−
(2,3−又は3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェ
ニル}プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロ−2,2−ビス{4′−(2,3−又は3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)フェニル}プロパン等の芳香族
テトラカルボン酸の二無水物が挙げられ、これらは単独
で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
The tetracarboxylic dianhydride includes:
For example, oxydiphthalic acid, pyromellitic acid, 3,
3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid,
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid,
1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, 2,
3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,4
5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, 2,3,5,6
-Pyridinetetracarboxylic acid, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic acid, sulfonyldiphthalic acid, m-terphenyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid,
p-terphenyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,
2-bis (2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis {4'-
(2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} propane, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis {4 ′-(2,3- or 3, Examples thereof include dianhydrides of aromatic tetracarboxylic acids such as 4-dicarboxyphenoxy) phenyl} propane, and these are used alone or in combination of two or more.

【0046】また、ジアミンとしては、3,5−ジアミ
ノ安息香酸、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジア
ミノビフェニル、3,4−ジアミノ安息香酸、3,3’
−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,
3−ジアミノ−4−ヒドロキシピリジン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3−アミノフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,4−ジアミノフェノール、2,4−ジ
アミノ安息香酸、3−カルボキシ−4,4’−ジアミノ
ジフェニルエ−テル、3,3’−ジカルボキシ−4,
4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3−カルボキシ−
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジカ
ルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,
3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、
3,3’,5,5’−テトラカルボキシ−4,4’−ジ
アミノビフェニル、3−カルボキシ−4,4’−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3,3’−ジカルボキシ−4,
4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(3−カルボキ
シ−4−アミノフェニル)プロパン、4,4′−(又は
3,4′−、3,3′−、2,4′−、2,2′−)ジ
アミノジフェニルエーテル、4,4′−(又は3,4′
−、3,3′−、2,4′−、2,2′−)ジアミノジ
フェニルメタン、4,4′−(又は3,4′−、3,
3′−、2,4′−、2,2′−)ジアミノジフェニル
スルホン、4,4′−(又は3,4′−、3,3′−、
2,4′−、2,2′−)ジアミノジフェニルスルフィ
ド、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミ
ン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレンジアミ
ン、o−トリジン,o−トリジンスルホン、4,4′−
メチレン−ビス−(2,6−ジエチルアニリン)、4,
4′−メチレン−ビス−(2,6−ジイソプロピルアニ
リン)、2,4−ジアミノメシチレン、1,5−ジアミ
ノナフタレン、4,4′−ベンゾフェノンジアミン、ビ
ス−{4−(4′−アミノフェノキシ)フェニル}スル
ホン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,
2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビ
ス{4−(4′−アミノフェノキシ)フェニル}プロパ
ン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、ビス{4−(3′−
アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、2,2−ビス
(4−アミノフェニル)プロパン等が挙げられ、これら
は単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
Examples of the diamine include 3,5-diaminobenzoic acid, 4,4'-dihydroxy-3,3'-diaminobiphenyl, 3,4-diaminobenzoic acid, and 3,3 '
-Dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 2,
3-diamino-4-hydroxypyridine, 2,2-bis (4-hydroxy-3-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,4-diaminophenol, 2,4-diaminobenzoic acid, 3-carboxy-4,4 '-Diaminodiphenyl ether, 3,3'-dicarboxy-4,
4'-diaminodiphenyl ether, 3-carboxy-
4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,
3′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl,
3,3 ′, 5,5′-tetracarboxy-4,4′-diaminobiphenyl, 3-carboxy-4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-dicarboxy-4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 1,1,1,3
3,3-hexafluoro-2,2-bis (3-carboxy-4-aminophenyl) propane, 4,4 '-(or 3,4'-, 3,3'-, 2,4'-, , 2 '-) diaminodiphenyl ether, 4,4'-(or 3,4 '
-, 3,3 '-, 2,4'-, 2,2 '-) diaminodiphenylmethane, 4,4'- (or 3,4'-, 3,
3'-, 2,4'-, 2,2'-) diaminodiphenylsulfone, 4,4'- (or 3,4'-, 3,3'-,
2,4 '-, 2,2'-) diaminodiphenyl sulfide, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, o-tolidine, o-tolidine sulfone, 4,4'-
Methylene-bis- (2,6-diethylaniline), 4,
4'-methylene-bis- (2,6-diisopropylaniline), 2,4-diaminomesitylene, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4'-benzophenonediamine, bis- {4- (4'-aminophenoxy) Phenyl disulfone, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,
2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis {4- (4'-aminophenoxy) phenyl} propane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,
4'-diaminodiphenylmethane, bis {4- (3'-
Aminophenoxy) phenyl} sulfone; 2,2-bis (4-aminophenyl) propane; and the like, and these are used alone or in combination of two or more.

【0047】また、その他、ジアミン残基としては接着
性向上のために、ジアミノポリシロキサン等のジアミン
を使用することもできる。
In addition, as the diamine residue, a diamine such as diaminopolysiloxane can be used to improve the adhesiveness.

【0048】また、ジアミンとして、耐熱性向上のため
に、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル−3−スル
ホンアミド、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル−
4−スルホンアミド、3,4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル−3’−スルホンアミド、3,3’−ジアミノジ
フェニルエーテル−4−スルホンアミド、4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテル−3−カルボキサミド、3,
4’−ジアミノジフェニルエーテル−4−カルボキサミ
ド、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル−3’−カ
ルボキサミド、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル
−4−カルボキサミド等のスルホンアミド基又はカルボ
キサミド基を有するジアミン化合物を使用することもで
きる。これらを用いる場合、全アミン成分に対して、1
〜30モル%用いることが好ましい。
As diamines, 4,4'-diaminodiphenylether-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylether-
4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylether-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylether-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylether-3-carboxamide, 3,
Use of a diamine compound having a sulfonamide group or a carboxamide group such as 4'-diaminodiphenyl ether-4-carboxamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-3'-carboxamide, and 3,3'-diaminodiphenyl ether-4-carboxamide. Can also. When these are used, 1 to all amine components
Preferably, it is used in an amount of up to 30 mol%.

【0049】これらの、ジアミンは単独で又は2種類以
上を組み合わせて使用される。
These diamines are used alone or in combination of two or more.

【0050】本発明において、ポリイミド前駆体の分子
量としては、イミド化後の硬化膜特性の点から、重量平
均分子量で、10,000〜200,000が好まし
い。
In the present invention, the molecular weight of the polyimide precursor is preferably 10,000 to 200,000 in terms of weight average molecular weight from the viewpoint of the properties of the cured film after imidization.

【0051】本発明の感光性ポリイミド前駆体には、さ
らに、常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物を用いることが、より良好な流路(パター
ン)を形成できるので好ましい。ここで、常圧において
沸点が100℃より低いものでは系内に含有する溶剤を
乾燥等によって除去する際または紫外線を照射する際、
前記付加重合性化合物が揮散して特性上好ましくない。
前記付加重合性化合物は有機溶剤に可溶なものが好まし
い。
For the photosensitive polyimide precursor of the present invention, it is preferable to use an addition-polymerizable compound having a boiling point of 100 ° C. or more at normal pressure, since a better flow path (pattern) can be formed. Here, when the boiling point is lower than 100 ° C. at normal pressure, when the solvent contained in the system is removed by drying or the like or when irradiating with ultraviolet rays,
The addition polymerizable compound volatilizes, which is not preferable in characteristics.
The addition polymerizable compound is preferably soluble in an organic solvent.

【0052】このような付加重合性化合物としては、多
価アルコールとα,β−不飽和カルボン酸とを縮合して
得られる化合物、例えば、エチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート(ジアクリレート又はジメタクリレー
トの意味、以下同じ)、トリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、1,2−プロピレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジ(1,2−プロピレングリコール)ジ
(メタ)アクリレート、トリ(1,2−プロピレングリ
コール)ジ(メタ)アクリレート、テトラ(1,2−プ
ロピレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、ジメチ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル
(メタ)アクリレート、ジエチルアミノプロピル(メ
タ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート等)、スチレン、ジビニルベンゼン、4−ビニル
トルエン、4−ビニルピリジン、N−ビニルピロリド
ン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,
3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロ
パン、メチレンビスアクリルアミド、N,N−ジメチル
アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、テトラメチロー
ルプロパンテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられ、
これらは単独で又は2種以上を組み合わせて使用され
る。
As such an addition polymerizable compound, a compound obtained by condensing a polyhydric alcohol with an α, β-unsaturated carboxylic acid, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate (diacrylate or dimethacrylate) Meaning, the same shall apply hereinafter), triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 1,2-propylene glycol di (meth)
Acrylate, di (1,2-propylene glycol) di (meth) acrylate, tri (1,2-propylene glycol) di (meth) acrylate, tetra (1,2-propylene glycol) di (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (Meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate, diethylaminopropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth)
Acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, etc.), styrene, divinylbenzene, 4-vinyltoluene, 4-vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 1,
3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropane, methylenebisacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methylolacrylamide, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, tetramethylolpropanetetra (meth) acrylate, and the like.
These are used alone or in combination of two or more.

【0053】これらの常圧において100℃以上の沸点
を有する付加重合性化合物は、(B)成分100重量部
に対して5〜50重量部の割合で使用することが好まし
い。
The addition polymerizable compound having a boiling point of 100 ° C. or more at normal pressure is preferably used in a proportion of 5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the component (B).

【0054】本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物は
他の添加物、例えば、可塑剤、接着促進剤等の添加物を
含有しても良い。
The photosensitive polyimide precursor composition of the present invention may contain other additives, for example, additives such as a plasticizer and an adhesion promoter.

【0055】また、(B)成分の光重合可能な炭素−炭
素二重結合を有するポリイミドとしては、少なくとも1
個のN−置換不飽和イミド基を有する化合物が有用であ
る。例えば、モノ置換マレイミド、ビス置換マレイミ
ド、トリ置換マレイミド、テトラ置換マレイミド等があ
る。これらは1種以上併用することができる。これらの
中でも特に有用な化合物としては、N,N'−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド、N,N'−フェニレンビスマ
レイミド、N,N'−ジフェニルエーテルビスマレイミ
ド、N,N'−ジフェニルスルホンビスマレイミド、
N,N'−ジシクロヘキシルメタンビスマレイミド、
N,N'−キシレンビスマレイミド、N,N'−トリレン
ビスマレイミド、N,N'−キシリレンビスマレイミ
ド、N,N'−ジフェニルシクロヘキサンビスマレイミ
ド、N,N'−ジクロロージフェニルビスマレイミド、
N,N'−ジフェニルメタンビスメチルマレイミド、
N,N'−ジフェニルエーテルビスメチルマレイミド、
N,N'−ジフェニルスルホンビスマレイミド、2,2
−ビス−4〔−4−〔マレイミドフェノキシ〕フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス−4〔−4−〔マレイミド
フェノキシ〕フェニル〕ヘキサフルオロプロパン(それ
ぞれ異性体を含む)、N,N'−エチレンビスマレイミ
ド,N,N'−ヘキサメチレンビスマレイミド,N,N'
−ヘキサメチレンビスメチルマレイミド等のN,N'−
ビスマレイミド化合物,これらN,N'−ビスマレイミ
ド化合物とジアミン類を付加させて得られる末端がN,
N'−ビスマレイミド骨格を有するプレポリマー、アニ
リン、ホルマリン縮合物のマレイミド化物、メチルマレ
イミド化物などが挙げられる。
As the polyimide having a photopolymerizable carbon-carbon double bond as the component (B), at least 1
Compounds having two N-substituted unsaturated imide groups are useful. For example, there are mono-substituted maleimide, bis-substituted maleimide, tri-substituted maleimide, tetra-substituted maleimide and the like. One or more of these can be used in combination. Among these, particularly useful compounds include N, N'-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-phenylenebismaleimide, N, N'-diphenyletherbismaleimide, N, N'-diphenylsulfonebismaleimide,
N, N′-dicyclohexylmethanebismaleimide,
N, N′-xylenebismaleimide, N, N′-tolylenebismaleimide, N, N′-xylylenebismaleimide, N, N′-diphenylcyclohexanebismaleimide, N, N′-dichlorodiphenylbismaleimide,
N, N'-diphenylmethanebismethylmaleimide,
N, N′-diphenyl ether bismethylmaleimide,
N, N'-diphenylsulfonebismaleimide, 2,2
-Bis-4 [-4- [maleimidophenoxy] phenyl] propane, 2,2-bis-4 [-4- [maleimidophenoxy] phenyl] hexafluoropropane (including isomers), N, N'-ethylene Bismaleimide, N, N'-hexamethylenebismaleimide, N, N '
N, N'- such as hexamethylenebismethylmaleimide
Bismaleimide compounds, the terminal obtained by adding these N, N'-bismaleimide compounds and diamines are N,
Examples thereof include a prepolymer having an N′-bismaleimide skeleton, a maleimidated aniline, a formalin condensate, and a methylmaleimide.

【0056】本発明において、上記のイミド成分は光樹
脂硬化物の耐熱性、機械強度の向上に有効である。
In the present invention, the imide component is effective for improving the heat resistance and mechanical strength of the cured photoresin.

【0057】本発明は、上記の(A)成分及び(B)成
分に、更に(C)成分として光重合性の官能基を有する
エポキシ系化合物を配合してなる光硬化性樹脂を提供す
る。
The present invention provides a photocurable resin obtained by blending the above components (A) and (B) with an epoxy compound having a photopolymerizable functional group as component (C).

【0058】(C)成分のエポキシ系化合物としては、
例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルト
ークレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のフェノール
類とアルデヒド類を酸性触媒下で縮合反応して得られる
ノボラック樹脂とエピクロルヒドリンとを反応して得ら
れるエポキシ樹脂、ビスフェノールA,ビスフェノール
F,ビスフェノールS,水添ビスフェノールA等のグリ
シジルエーテル、フタル酸,ダイマー酸等の多塩基酸と
エピクロルヒドリンとの反応によって得られるグリシジ
ルエステル型エポキシ樹脂、パラ−フェニレンジアミ
ン,ジアミノジフェニルメタン等のポリアミンとエピク
ロルヒドリンとのとの反応によって得られるグリシジル
アミン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過
酸により酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂或い
は脂環式エポキシ樹脂、エポキシ(メタ)アクリレート
等がある。これらの中では特にエポキシ(メタ)アク
リレートが紫外線に対する感度に優れており好ましい。
As the epoxy compound of the component (C),
For example, an epoxy resin obtained by reacting a novolak resin obtained by a condensation reaction of a phenol and an aldehyde, such as a phenol novolak type epoxy resin and an orthotalkol novolak type epoxy resin, with an acidic catalyst and epichlorohydrin, bisphenol A, Glycidyl ethers such as bisphenol F, bisphenol S and hydrogenated bisphenol A; glycidyl ester type epoxy resins obtained by the reaction of epichlorohydrin with polybasic acids such as phthalic acid and dimer acid; polyamines such as para-phenylenediamine and diaminodiphenylmethane; Glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction with epichlorohydrin, linear aliphatic epoxy resin or alicyclic epoxy resin obtained by oxidizing olefin bond with peracid such as peracetic acid There epoxy (meth) acrylate. Of these, epoxy (meth) acrylate is particularly preferred because of its excellent sensitivity to ultraviolet light.

【0059】エポキシ(メタ)アクリレートは、前記エ
ポキシ樹脂に不飽和一塩基酸を反応させて得られる。例
えば、不飽和一塩基酸としてはアクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、けい皮酸、トリシクロ〔5.2.1.
2,6〕−4−デセン−8または9残基と不飽和二塩
基酸残基を構成要素として含む部分エステル化カルボン
酸等がある。
The epoxy (meth) acrylate is obtained by reacting the above epoxy resin with an unsaturated monobasic acid. For example, unsaturated monobasic acids include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and tricyclo [5.2.1.
0 2,6 ] -4-decene-8 or 9 residues and an unsaturated dibasic acid residue as a component.

【0060】部分エステル化カルボン酸の例としては、
8または9−ヒドロキシトリシクロデセン−4−〔5.
2.1.02,6〕1.00〜1.20モルおよび無水
マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸などの不飽和二
塩基酸1モルを不活性ガス気流下で70〜150℃で加
熱して得られる不飽和二塩基酸モノエステル、トリシク
ロデカジエン−4,8−〔5.2.1.02,6〕にマ
レイン酸、フマル酸、イタコン酸などの不飽和二塩基酸
を硫酸、ルイス酸などの触媒の存在下で付加して得られ
る不飽和二塩基酸モノエステル等が挙げられる。
Examples of partially esterified carboxylic acids include:
8 or 9-hydroxytricyclodecene-4- [5.
2.1.0 2,6 ] 1.00 to 1.20 mol and 1 mol of unsaturated dibasic acid such as maleic anhydride, itaconic acid, citraconic acid and the like are heated at 70 to 150 ° C. under a stream of inert gas. The unsaturated dibasic acid monoester, tricyclodecadiene-4,8- [5.2.1.0 2,6 ] obtained by the above method is treated with an unsaturated dibasic acid such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and the like. And unsaturated dibasic acid monoesters obtained by addition in the presence of a catalyst such as a Lewis acid.

【0061】前記エポキシ樹脂には、塗膜の靱性および
耐久性の点から、必要に応じて多塩基酸を反応させるこ
とができる。多塩基酸としては、マレイン酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シト
ラコン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸、無水
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、無水トリメリ
ット酸などが挙げられる。また必要に応じて用いられる
多塩基酸にはさらに炭素数が12個以上の二塩基酸を用
いることが好ましい。この二塩基酸の具体例としては、
トデカン二酸、炭素数16の不飽和二塩基酸の異性体の
混合物、炭素数20の飽和二塩基酸主体の混合物、トー
ル油脂肪酸を原料とする2量化脂肪酸(炭素数36のダ
イマー酸)等が挙げられる。
The epoxy resin may be reacted with a polybasic acid, if necessary, in view of the toughness and durability of the coating film. Polybasic acids include maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, adipic acid, azelaic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic anhydride, etc. Is mentioned. It is preferable to further use a dibasic acid having 12 or more carbon atoms as the polybasic acid used as necessary. Specific examples of this dibasic acid include:
Todecanedioic acid, a mixture of isomers of unsaturated dibasic acids having 16 carbon atoms, a mixture mainly composed of saturated dibasic acids having 20 carbon atoms, dimerized fatty acids derived from tall oil fatty acids (dimer acids having 36 carbon atoms), etc. Is mentioned.

【0062】(C)成分としてビニルエステル樹脂が好
ましく、特に、エポキシド樹脂と不飽和一塩基酸及び多
塩基酸との配合割合は、これらの酸成分のカルボキシル
基とエポキシド樹脂のエポキシ基が、当量比(カルボキ
シル基:エポキシ基)で1.0:0.9〜1.0:1.
3の範囲が好ましい。このエステル化反応に際してはト
リメチルベンジルアンモニウムクロリド、ピリジニウム
クロリドなどの第4級アンモニウム塩、トリエチルアミ
ン、ジメチルアニリンなどの第3級アミン、塩化第二
鉄、水酸化リチウム、塩化リチウム、塩化第二スズなど
のエステル化触媒を用いて反応時間を短縮することもで
きる。
The component (C) is preferably a vinyl ester resin. Particularly, the compounding ratio of the epoxide resin to the unsaturated monobasic acid or polybasic acid is such that the carboxyl group of these acid components and the epoxy group of the epoxide resin are equivalent. 1.0: 0.9 to 1.0: 1 in a ratio (carboxyl group: epoxy group).
A range of 3 is preferred. In this esterification reaction, quaternary ammonium salts such as trimethylbenzylammonium chloride and pyridinium chloride, tertiary amines such as triethylamine and dimethylaniline, ferric chloride, lithium hydroxide, lithium chloride, stannic chloride and the like The reaction time can be shortened by using an esterification catalyst.

【0063】また、(C)成分であるビニルエステル樹
脂には重合性単量体として、例えば、スチレン、クロル
スチレン、ジビニルベンゼン、ターシャリブチルスチレ
ン、臭化スチレン、ジアリルフタレート、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、β−ヒドロキシメタクリル酸エチル、β
−ヒドロキシアクリル酸エチル、アクリルアミド、フェ
ニルマレイミドなどが用いられる。また、エチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ートなどの多官能の(メタ)アクリル酸エステル類を用
いることもできる。これらは、単独で又は他の重合性単
量体と組み合わせて用いる個とができる。その配合量は
前記ビニルエステル樹脂100重量部に対して10〜2
00重量部が好ましく、30〜150重量部がより好ま
しい。
The vinyl ester resin as the component (C) includes, as polymerizable monomers, for example, styrene, chlorostyrene, divinylbenzene, tertiary butyl styrene, styrene bromide, diallyl phthalate, methyl methacrylate, methacrylic acid. Ethyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, β-hydroxyethyl methacrylate, β
-Ethyl hydroxyacrylate, acrylamide, phenylmaleimide and the like are used. Further, polyfunctional (meth) acrylates such as ethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, and trimethylolpropane trimethacrylate can also be used. These can be used alone or in combination with other polymerizable monomers. The compounding amount is 10 to 2 with respect to 100 parts by weight of the vinyl ester resin.
00 parts by weight is preferable, and 30 to 150 parts by weight is more preferable.

【0064】本発明の(C)成分であるエポキシ系化合
物には、更に硬化剤を添加して紫外線照射等により硬化
することもできる。該硬化剤としては、エポキシ樹脂と
硬化反応を示すものであれば特に制限されず、公知の硬
化剤が使用できる。例えば、無水フタル酸、メチルテト
ラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒ
ドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フ
タル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメ
リット酸、無水マレイン酸、無水ピロメリット酸等の酸
無水物、2-エチル-4-メチルイミダゾ-ル、2-ウンデシル
イミダゾ-ル、2-ヘプタデシルイミダゾ-ル、2-フェニル
イミダゾ-ル、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミ
ダゾ-ル、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾ-ル、1
-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウム・トリメリ
テート、2,4-ジアミノ-6-[2-エチル-4-メチルイミダゾ
リル-(1)]-エチル-S-トリアジン、2-フェニル-4,5-
ジヒドロキシメチルイミダゾ-ル、1-ドデシル-2-メチル
-3-ベンジルイミダゾリウム・クロライド等のイミダゾ
ール類、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニ
ルスルホン、ジシアンジアミド、前記一般式(2)で表
されるジアミン化合物等のジアミン類、トリフェニルホ
スフィンテトラフェニルボレート、トリエチルアミンテ
トラフェニルボレート、N-メチルモルホリンテトラフェ
ニルボレート、ピリジンテトラフェニルボレートなどの
カリボール塩、フェノールノボラック樹脂、クレゾール
ノボラック樹脂、ポリビニルフェノール等のフェノール
類、三フッ化ホウ素-アミンコンプレックス、有機酸ヒ
ドラジド、芳香族ジアゾニウム塩等が挙げられるがこれ
らに限定されるものではない。これらは単独、あるいは
2種類以上用いられる。硬化剤の配合量は特に限定され
るものではないが、良好な硬化物を得るためにエポキシ
基1当量に対して0.1〜1.0当量が好ましい。
The epoxy compound as the component (C) of the present invention can be further cured by adding a curing agent and irradiating ultraviolet rays. The curing agent is not particularly limited as long as it shows a curing reaction with the epoxy resin, and a known curing agent can be used. For example, phthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, maleic anhydride, pyromellitic anhydride and the like Acid anhydride, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazo -L, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1
-Cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2-ethyl-4-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-S-triazine, 2-phenyl-4,5-
Dihydroxymethylimidazole, 1-dodecyl-2-methyl
Imidazoles such as -3-benzylimidazolium chloride, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, dicyandiamide, diamines such as the diamine compound represented by the general formula (2), triphenylphosphine tetraphenylborate, triethylamine tetraphenylborate , Carbohydrate salts such as N-methylmorpholine tetraphenyl borate, pyridine tetraphenyl borate, phenol novolak resins, cresol novolak resins, phenols such as polyvinyl phenol, boron trifluoride-amine complex, organic acid hydrazide, aromatic diazonium salt, etc. But are not limited to these. These can be used alone or
Two or more types are used. The amount of the curing agent is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 1.0 equivalent to 1 equivalent of the epoxy group in order to obtain a good cured product.

【0065】また、本発明のエポキシ系化合物には、硬
化促進剤として例えば、アミン類、イミダゾ-ル類、カ
リボール塩、芳香族ジアゾニウム塩等を添加することが
できる。具体的に化合物を例示すると、1,8−ジアザ
ービシクロ(5,4,0)ウンデセンー7、トリエチレ
ンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノール
アミン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等
の第三級アミン類、2―メチルイミダゾール、2―フェ
ニルイミダゾール、2―フェニルー4―メチルイミダゾ
ール、1―ベンジルー2―フェニルイミダゾール等のイ
ミダゾール類、トリブチルフォスフィン、トリフェニル
フォスフィン、ジフェニルフォスフィン等の有機フォス
フィン類、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、トリフェニルフォスフィンテトラフェニルボ
レート、2―エチルー4―メチルイミダゾールテトラフ
ェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩(カリボー
ル塩)等が挙げられる。その配合量はその使用条件、用
途に合わせて適宜決められるが、通常、エポキシ樹脂1
00重量部に対して、0.05〜10重量部、好ましく
は0.1〜5重量部で用いればよい。
Further, to the epoxy compound of the present invention, for example, amines, imidazoles, caribol salts, aromatic diazonium salts and the like can be added as a curing accelerator. Specific examples of the compound include tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine and tris (dimethylaminomethyl) phenol. Imidazoles such as 2,2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, tetra Examples thereof include tetraphenylboron salts (caribole salts) such as phenylphosphonium tetraphenylborate, triphenylphosphine tetraphenylborate, and 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate. The compounding amount is appropriately determined according to the use conditions and applications.
It may be used in an amount of 0.05 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 00 parts by weight.

【0066】また、本発明の効果を損なわない限りフェ
ニルグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、ジグ
リシジルアニリン等の希釈剤、ポリグリシジルエーテ
ル、ポリオール、カルボキシル化合物、ウレタンプレポ
リマー、シリコーン系化合物、フッ素系化合物等の可撓
性付与剤や撥水材の配合も可能である。
As long as the effects of the present invention are not impaired, diluents such as phenylglycidyl ether, diglycidyl ether and diglycidylaniline, polyglycidyl ethers, polyols, carboxyl compounds, urethane prepolymers, silicone compounds, fluorine compounds, etc. And a water repellent material.

【0067】また、本発明の光硬化性樹脂には(メタ)
アクリル酸モルホリドの単独物又は(メタ)アクリル酸
モルホリドとジオールジ(メタ)アクリレートとの混合
物を添加して用いることもできる。
Further, the photocurable resin of the present invention contains (meth)
Acrylic acid morpholide alone or a mixture of (meth) acrylic acid morpholide and diol di (meth) acrylate can be used.

【0068】本発明の樹脂成形型用光硬化性樹脂は光硬
化性樹脂100重量部当たり充填材を50〜400重量
部の割合で含有してもよい。この場合の充填材は無機固
体微粒子と(メタ)アクリロイル変性シラン又はビニル
変性シラン(以下、これらをシランカプリング剤とい
う)で表面処理された平均繊維長1〜70μmの無機繊
維ウイスカーとの混合物が好ましい。
The photocurable resin for a resin mold of the present invention may contain a filler in an amount of 50 to 400 parts by weight per 100 parts by weight of the photocurable resin. In this case, the filler is preferably a mixture of inorganic solid fine particles and inorganic fiber whiskers having an average fiber length of 1 to 70 μm and surface-treated with (meth) acryloyl-modified silane or vinyl-modified silane (hereinafter, these are referred to as silane coupling agents). .

【0069】無機固体微粒子としては、平均粒子径が
0.1〜50μmのシリカ,アルミナ,クレイ,炭酸カ
ルシウム,ガラスビーズ等が挙げられるが、なかでもガ
ラスビーズが好ましく、シランカプリング剤で表面処理
された平均粒子径3〜30μmのガラスビーズが特に好
ましい。
Examples of the inorganic solid fine particles include silica, alumina, clay, calcium carbonate, glass beads and the like having an average particle diameter of 0.1 to 50 μm. Among them, glass beads are preferable, and the surface is treated with a silane coupling agent. Glass beads having an average particle diameter of 3 to 30 μm are particularly preferred.

【0070】無機繊維ウイスカーとしては、シランカプ
リング剤で表面処理された平均繊維長1〜70μmのチ
タン酸カリウム繊維,アルミナ繊維,硫酸マグネシウム
繊維,ホウ酸マグネシウム繊維,ホウ酸アルミニウム繊
維等が挙げられるが、なかでも繊維径0.3〜1μm及
び平均繊維長さ10〜20μmのホウ酸アルミニウム繊
維が好ましい。
Examples of the inorganic fiber whiskers include potassium titanate fibers, alumina fibers, magnesium sulfate fibers, magnesium borate fibers, and aluminum borate fibers having an average fiber length of 1 to 70 μm and surface-treated with a silane coupling agent. Among them, aluminum borate fibers having a fiber diameter of 0.3 to 1 μm and an average fiber length of 10 to 20 μm are preferred.

【0071】無機繊維ウイスカーやガラスビーズの表面
処理に用いるシランカプリング剤としては、1)(メ
タ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、
ジ(メタ)アクリロイルオキシプロピルジメトキシシラ
ン等の(メタ)アクリロイル変性アルコキシシラン類、
2)ビニルトリメトキシシラン、ジビニルジメトキシシ
ラン、ビニロキシプロピルトリメトキシシラン、ジビニ
ロキシプロピルジメトキシシラン等のビニル変性アルコ
シシラン類が挙げられる。かかるシランカプリング剤を
用いる無機繊維ウイカスカーやガラスビーズの表面処理
については、その処理方法や表面処理量を制限するもの
ではないが、表面処理量としては通常被処理体に対して
0.1〜20重量%とし、好ましくは1〜10重量%と
する。
Examples of silane coupling agents used for surface treatment of inorganic fiber whiskers and glass beads include 1) (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane,
(Meth) acryloyl-modified alkoxysilanes such as di (meth) acryloyloxypropyldimethoxysilane,
2) Vinyl-modified alkoxysilanes such as vinyltrimethoxysilane, divinyldimethoxysilane, vinyloxypropyltrimethoxysilane and divinyloxypropyldimethoxysilane. The surface treatment of inorganic fiber whiskers or glass beads using such a silane coupling agent does not limit the treatment method or the amount of surface treatment, but the surface treatment amount is usually 0.1 to 20 with respect to the object to be treated. % By weight, preferably 1 to 10% by weight.

【0072】本発明の樹脂成形型用光硬化性樹脂を光学
的立体造形に供する場合、これに予め光重合開始剤を含
有させる。本発明は用いる光重合開始剤の種類を特に制
限するものではない。光重合開光剤としては、例えば
(1)ベンゾイン、α−メタルベンゾイン、アントラキ
ノン、クロルアントラキノン、アセトフェノン等のカル
ボニル化合物、(2)ジフェニルスルフイド、ジフェニ
ルジスルフイド、ジチオカーバメイト等のイオウ化合
物、(3)α−クロルメチルナフタレン、アントラセン
等の多環芳香族化合物等が挙げられる。樹脂成形型用光
硬化性樹脂中におけるこれらの光重合開始剤の含有量
は、光硬化性樹脂100重量部当たり0.1〜10重量
部、好ましくは2〜5重量部である。光重合開始剤と共
に、n−ブチルアミン、トリエタノールアミン、N,N
−ジメチルアミノベンゼンスルホン酸ジアリルアミド、
N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の光増
感剤を用いることができる。
When the photocurable resin for a resin mold of the present invention is subjected to optical three-dimensional modeling, a photopolymerization initiator is previously contained therein. In the present invention, the kind of the photopolymerization initiator to be used is not particularly limited. Examples of the photopolymerization photoopening agent include (1) carbonyl compounds such as benzoin, α-metal benzoin, anthraquinone, chloranthraquinone, and acetophenone; (2) sulfur compounds such as diphenylsulfide, diphenyldisulfide, and dithiocarbamate; 3) Polycyclic aromatic compounds such as α-chloromethylnaphthalene and anthracene. The content of these photopolymerization initiators in the photocurable resin for a resin mold is 0.1 to 10 parts by weight, preferably 2 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the photocurable resin. N-butylamine, triethanolamine, N, N
-Dimethylaminobenzenesulfonic acid diallylamide,
A photosensitizer such as N, N-dimethylaminoethyl methacrylate can be used.

【0073】また、本発明の光硬化性樹脂には、酸化ア
ンチモン、酸化亜鉛、塩基性炭酸鉛、塩基性硫酸鉛、炭
酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミニウムシリカ、炭
酸マグネシウム、マグネシウムシリカ、クレー、タルク
等の耐湿顔料、クロム酸ストロンチウム、クロム酸鉛、
塩基性クロム酸鉛、鉛丹、ケイ酸鉛、塩基性ケイ酸鉛、
リン酸鉛、塩基性リン酸鉛、トリポリリン酸鉛、ケイク
ロム酸鉛、黄鉛、シアナミド鉛、鉛酸カルシウム、亜酸
化鉛、硫酸鉛等の防食顔料を用いることもできる。該顔
料と、エポキシ樹脂との配合比率は通常、固形分の重量
比で2/1〜7/1の範囲が好ましい。
The photocurable resin of the present invention includes antimony oxide, zinc oxide, basic lead carbonate, basic lead sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, aluminum silica, magnesium carbonate, magnesium silica, clay, talc and the like. Moisture resistant pigments, strontium chromate, lead chromate,
Basic Lead Chromate, Lead Tan, Lead Silicate, Basic Lead Silicate,
Anticorrosive pigments such as lead phosphate, basic lead phosphate, lead tripolyphosphate, lead silicate, lead, cyanamide lead, calcium lead oxide, lead suboxide and lead sulfate can also be used. Usually, the mixing ratio of the pigment and the epoxy resin is preferably in the range of 2/1 to 7/1 by weight ratio of solid content.

【0074】本発明は樹脂成形型を製作するための光学
的立体造形法は特に制限するものではなく公知の方法が
適用できる。例えば、最初に光硬化性組成物の硬化層を
形成させ、次に該硬化層の上に新たに光硬化性組成物を
供給してその硬化層を形成させるという操作を繰り返し
て行ない、所望の樹脂成形型を形成させる方法がある。
形成させた樹脂成形型は必要に応じて更にポストキュア
することもできる。硬化に用いるエネルギー線として
は、可視光線,紫外線,電子線等が挙げられるが、紫外
線が好ましい。
In the present invention, an optical three-dimensional molding method for producing a resin mold is not particularly limited, and a known method can be applied. For example, an operation of first forming a cured layer of the photocurable composition, then supplying a new photocurable composition on the cured layer to form the cured layer is repeatedly performed, and a desired layer is formed. There is a method of forming a resin mold.
The formed resin mold can be further post-cured if necessary. Examples of the energy beam used for curing include visible light, ultraviolet light, and electron beam, and ultraviolet light is preferable.

【0075】本発明の樹脂成形型用光硬化性樹脂を三次
元CADに入力されたデータに基づいて光学的立体造形
できる。これにより直接得られる本発明の樹脂成形型
は、マスターモデルを製作する必要がある一般の従来手
段に比べて、はるかに短時間で簡単に製作できる。また
公知の光硬化性樹脂を用いて光学的立体造形する従来手
段により得られる樹脂成形型に比べて、高い耐熱性、耐
湿性及び機械的強度を有し、成形型としての耐用性に優
れる。
The photocurable resin for a resin mold of the present invention can be optically three-dimensionally molded on the basis of data input to three-dimensional CAD. Thus, the resin mold of the present invention directly obtained can be manufactured in a much shorter time and easily than a general conventional means that requires the manufacture of a master model. In addition, it has higher heat resistance, moisture resistance, and mechanical strength than a resin mold obtained by a conventional means of optical three-dimensional molding using a known photocurable resin, and is excellent in durability as a mold.

【0076】本発明の光学的立体造形用樹脂を用いて光
学的立体造形を行うに当たっては、従来既知の光学的立
体造形方法および装置のいずれもが使用できる。本発明
では樹脂を光硬化させるための光エネルギーとして、A
rレーザー、He−Cdレーザー、キセノンランプ、メ
タルハライドランプ水銀灯、蛍光灯等から発生される活
性エネルギー光線を用いることができ、レーザー光線が
特に好ましい。レーザー光線を用いた場合には造形時間
を短縮することが可能であり、しかもレーザー光線の良
好な集光性を利用して、造形精度の高い立体造形物を得
ることができる。
In performing optical three-dimensional modeling using the optical three-dimensional modeling resin of the present invention, any of conventionally known optical three-dimensional modeling methods and apparatuses can be used. In the present invention, the light energy for photocuring the resin is A
An active energy beam generated from an r laser, a He-Cd laser, a xenon lamp, a metal halide lamp, a mercury lamp, a fluorescent lamp, or the like can be used, and a laser beam is particularly preferable. When a laser beam is used, the molding time can be shortened, and a three-dimensional object with high modeling accuracy can be obtained by utilizing the good light-condensing property of the laser beam.

【0077】光硬化性樹脂を用いて本発明の立体流路部
材を作成するには、従来既知の方法や従来既知の光造形
システム装置が採用でき特に制限されない。
In order to prepare the three-dimensional flow channel member of the present invention using the photocurable resin, a conventionally known method and a conventionally known stereolithography system device can be adopted, and there is no particular limitation.

【0078】本発明で用いられる光学的立体造形法の代
表例としては、光エネルギー吸収剤を含有する液状の光
硬化性樹脂に所望のパターンを有する硬化層が得られる
ように活性エネルギー光線を選択的に照射して硬化層を
形成し、次いでその硬化層に未硬化液状組成物を供給
し、同様に活性エネルギー光線を照射して前記の硬化層
と連続した硬化層を新たに形成する積層する操作を繰り
返すことによって最終的に目的とする立体流路部材を得
る方法がある。前記によって得られる立体流路部材はそ
のまま用いても、また更に光照射や熱によるポストキュ
アなどを行なって、その機械的性質や形状安定性等を高
くして使用してもよい。
As a typical example of the optical three-dimensional molding method used in the present invention, an active energy ray is selected so as to obtain a cured layer having a desired pattern in a liquid photocurable resin containing a light energy absorber. Irradiation to form a cured layer, and then supply the uncured liquid composition to the cured layer, and similarly irradiate with an active energy ray to newly form a cured layer continuous with the cured layer. There is a method of finally obtaining a target three-dimensional channel member by repeating the operation. The three-dimensional flow channel member obtained as described above may be used as it is, or may be used after further post-curing by light irradiation or heat to enhance its mechanical properties and shape stability.

【0079】本発明においては立体流路部材の構造、形
状、サイズ等は特に制限されず、各々の用途に応じて適
宜対応することができる。
In the present invention, the structure, shape, size, and the like of the three-dimensional flow path member are not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to each use.

【0080】以下、本発明の立体流路部材の最も好まし
い製造方法について説明する。
Hereinafter, the most preferable method for producing the three-dimensional flow channel member of the present invention will be described.

【0081】図1は、本発明に係わる光造形装置の一例
を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of an optical shaping apparatus according to the present invention.

【0082】図1において、1は所定容量の造形容器2
を着脱可能に支持するとともに後述する制御ユニット等
を装備した装置本体(支持体)であり、Lは造形容器2
内に収容された所定の光硬化性樹脂(例えばUV硬化性
樹脂)を含む流動性材料である。造形容器2の上部には
流動性材料10の水平な自由液面Lを形成している。前
記未硬化の流動性材料は、例えば本発明の光硬化性樹脂
に所定温度範囲内で実質的な非収縮性をもつ平均粒径3
〜70μm、好ましくは10〜60μm程度の微粒子
(例えばガラスビーズや樹脂製ビーズ)を5〜70容量
%、好ましくは10〜55容量%だけ配合したペースト
状(例えば粘度が5,000cps〜100,000cps)の
組成物であり、その微粒子は公知のシランカップリング
剤によって硬化後の機械的強度を増すよう処理されてい
る。あるいは、前記未硬化の流動性材料は、前記微粒子
に代え、直径が0.3 〜1μm、長さが10〜70μm
アスペクト比が10〜100の範囲にあるウイスカーを
用いる(その場合、液状光硬化性樹脂にこのウイスカー
を5〜30容量%配合する)ものであってもよい。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a molding container 2 having a predetermined capacity.
Is an apparatus main body (support) that detachably supports the apparatus and is equipped with a control unit and the like to be described later.
It is a fluid material containing a predetermined photocurable resin (e.g., a UV curable resin) stored in the inside. A horizontal free liquid surface L of the fluid material 10 is formed on the upper part of the modeling container 2. The uncured flowable material may be, for example, a photocurable resin of the present invention having a substantially non-shrinkage average particle size of 3 within a predetermined temperature range.
A paste (for example, having a viscosity of 5,000 cps to 100,000 cps) in which fine particles (for example, glass beads or resin beads) having a viscosity of about 5 to 70% by volume, preferably 10 to 55% by volume are blended. The fine particles are treated with a known silane coupling agent so as to increase the mechanical strength after curing. Alternatively, the uncured fluid material has a diameter of 0.3 to 1 μm and a length of 10 to 70 μm instead of the fine particles.
A whisker having an aspect ratio in the range of 10 to 100 may be used (in this case, the whisker is mixed with the liquid photocurable resin in an amount of 5 to 30% by volume).

【0083】また、造形容器2は図示しない公知の液面
調整手段により未硬化材料10の自由液面Lの高さを底
面から一定の高さに保つようになっており、この容器2
中には前記自由液面Lに対し略平行な上面部11aを有
する可動プラットホーム11が設けられている。プラッ
トホーム11は前記自由液面と略直交する鉛直方向に移
動するよう公知の昇降機構15(案内支持手段)によっ
て昇降可能に案内および支持されており、この案内支持
機構15がコントロールユニット30によって制御され
ることにより、プラットホーム11は後述する硬化層の
層厚に対応する所定の下降ピッチ量(所定移動量)を単
位として段階的に下降し、造形完了時に初期位置付近ま
で上昇するようになっている。
The height of the free liquid level L of the uncured material 10 is maintained at a constant level from the bottom surface of the molding container 2 by a known liquid level adjusting means (not shown).
A movable platform 11 having an upper surface 11a substantially parallel to the free liquid level L is provided therein. The platform 11 is guided and supported by a known lifting mechanism 15 (guide supporting means) so as to be able to move up and down in a vertical direction substantially perpendicular to the free liquid surface. The guide supporting mechanism 15 is controlled by the control unit 30. Thus, the platform 11 is lowered stepwise in units of a predetermined lowering pitch amount (predetermined moving amount) corresponding to the layer thickness of the hardened layer described later, and rises to near the initial position when the modeling is completed. .

【0084】また、プラットホーム11の上方には、レ
ーザ光走査装置20(露光手段)が設けられている。こ
の走査装置20は、例えばレーザ光源から出射したレー
ザ光を図示しない反射光学系を介して偏向しつつプラッ
トホーム11上の未硬化材料層の表面部に集光させ、そ
の光をプラットホーム11上の所定領域内での主・副両
走査方向(水平方向)に走査するようになっている。
A laser beam scanning device 20 (exposure means) is provided above the platform 11. The scanning device 20 focuses, for example, a laser beam emitted from a laser light source on a surface portion of an uncured material layer on the platform 11 while deflecting the laser beam through a reflection optical system (not shown), and Scanning is performed in both the main and sub scanning directions (horizontal direction) within the area.

【0085】この光走査装置20からの光による描画パ
ターンは、造形する3次元物体を硬化層13の積層体と
したときの各層の形状に対応するもので、その走査は装
置本体1内に格納されたコントロールユニット30によ
って制御される。そして、光走査装置20によって走査
される光(選択的露光)に曝されて自由液面から所定深
さまで流動性材料10の一部が硬化するとき、この一部
の材料が所定層厚の硬化層13を形成すると同時に下層
の硬化層上に積層される。
The drawing pattern by the light from the optical scanning device 20 corresponds to the shape of each layer when the three-dimensional object to be formed is a laminate of the hardened layers 13, and the scanning is stored in the device main body 1. Is controlled by the control unit 30. Then, when a part of the fluid material 10 is cured from the free liquid level to a predetermined depth by being exposed to light (selective exposure) scanned by the optical scanning device 20, the material is cured to a predetermined layer thickness. At the same time that the layer 13 is formed, it is laminated on the lower cured layer.

【0086】コントロールユニット30は、例えば3次
元CAD(computer aided design)システム35に接
続されており、この3次元CADシステム35からのモ
デリングデータに基づいて、可動プラットホーム11を
移動させる昇降機構15、図示しない材料供給用のディ
ッパーおよびスクレーパーを移動させるモータ、並びに
レーザ光走査装置20の作動を制御する造形制御を実行
することができる。
The control unit 30 is connected to, for example, a three-dimensional CAD (computer aided design) system 35, and based on modeling data from the three-dimensional CAD system 35, a lifting mechanism 15 for moving the movable platform 11. The shaping control for controlling the operation of the motor for moving the material supply dipper and scraper and the operation of the laser beam scanning device 20 can be executed.

【0087】また、コントロールユニット30は、光走
査装置20の作動を停止した状態で、昇降機構15を作
動させる攪拌制御を実行するようになっており、この攪
拌制御時に、前記下降ピッチより十分に大きいストロー
クをもって可動プラットホーム11を自由液面下で往復
移動させ、造形容器2内の未硬化の流動性材料10を可
動プラットホーム11によって攪拌させることができ
る。往復移動時の可動プラットホーム11の速度は造形
時より十分に大きい方が良いが、十分な往復ストローク
を設定する。
The control unit 30 executes a stirring control for operating the lifting mechanism 15 in a state where the operation of the optical scanning device 20 is stopped. The movable platform 11 can be reciprocated below the free liquid level with a large stroke, and the uncured fluid material 10 in the modeling container 2 can be stirred by the movable platform 11. The speed of the movable platform 11 at the time of reciprocating movement is preferably sufficiently higher than at the time of molding, but a sufficient reciprocating stroke is set.

【0088】次に、本発明の立体流路部材の別の製造法
について説明する。
Next, another method of manufacturing the three-dimensional channel member of the present invention will be described.

【0089】まず、支持基板表面に本発明の前記の
(A)成分と(B)成分とからなる光硬化性樹脂、或い
はこれらに更に(C)成分を加えてなる光硬化性樹脂を
用いて、被膜が形成されてもよい。なお、本発明の立体
流路部材の製造法では、被膜または加熱硬化後の樹脂被
膜と支持基板との接着性を向上させるため、あらかじめ
支持基板表面を接着助剤で処理しておいてもよい。
First, a photocurable resin comprising the above-mentioned components (A) and (B) of the present invention or a photocurable resin obtained by further adding the component (C) to the surface of a supporting substrate is used. A coating may be formed. In the method for producing a three-dimensional flow channel member of the present invention, the surface of the support substrate may be previously treated with an adhesion aid in order to improve the adhesion between the film or the heat-cured resin film and the support substrate. .

【0090】光硬化樹脂からなる被膜は、例えば、光硬
化性樹脂のワニスの膜を形成した後、これを乾燥させる
ことにより形成される。ワニスの膜の形成は、ワニスの
粘度などに応じて、スピンナを用いた回転塗布、浸漬、
噴霧印刷、スクリーン印刷などの手段から適宜選択され
た手段により行うことができる。なお、被膜の膜厚は、
塗布条件、本組成物の固形分濃度等によって調節でき
る。また、あらかじめ支持体上に形成した被膜を支持体
から剥離して光硬化性樹脂からなるシートを形成してお
き、このシートを上記支持基板の表面に貼り付けること
により、上述の被膜を形成してもよい。
The film made of the photo-curable resin is formed, for example, by forming a varnish film of the photo-curable resin and then drying it. The formation of the varnish film is performed by spin coating using a spinner, dipping,
It can be carried out by means appropriately selected from means such as spray printing and screen printing. The thickness of the coating is
It can be adjusted by the application conditions, the solid content concentration of the present composition and the like. In addition, a film made of a photocurable resin is formed by peeling the film formed on the support in advance from the support, and the sheet is attached to the surface of the support substrate to form the film. You may.

【0091】つぎに、この被膜に、所定のパターンのフ
ォトマスクを介して光(紫外線等)を照射した後、有機
溶剤または塩基性水溶液により未露光部を溶解除去し
て、所望のレリーフパターンを得る。該レリーフパター
ンの層を積み上げることにより本発明の立体流路部材を
作成することができる。
Next, after irradiating the film with light (such as ultraviolet rays) through a photomask having a predetermined pattern, the unexposed portion is dissolved and removed with an organic solvent or a basic aqueous solution to form a desired relief pattern. obtain. By stacking the layers of the relief pattern, the three-dimensional channel member of the present invention can be prepared.

【0092】前記の塩基性水溶液は、通常、塩基性化合
物を水に溶解した溶液である。塩基性化合物の濃度は、
通常0.1〜50重量%とするが、支持基板等への影響
などから好ましく、0.1〜30重量%とすることがよ
り好ましい。 また、ポリイミド前駆体の溶解性を改善
するため、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イ
ソプロピルアルコ−ル、N−メチル−2−ピロリドン、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド等の水溶性有機溶媒を、さらに含有していても
よい。
The above-mentioned basic aqueous solution is usually a solution in which a basic compound is dissolved in water. The concentration of the basic compound is
The content is usually 0.1 to 50% by weight, preferably from the influence on the supporting substrate and the like, and more preferably 0.1 to 30% by weight. Further, in order to improve the solubility of the polyimide precursor, methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol, N-methyl-2-pyrrolidone,
A water-soluble organic solvent such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide may be further contained.

【0093】上記塩基性化合物としては、例えば、アル
カリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウムイオン
の、水酸化物または炭酸塩や、アミン化合物などが挙げ
られ、具体的には、2−ジメチルアミノエタノール、3
−ジメチルアミノ−1−プロパノール、4−ジメチルア
ミノ−1−ブタノ−ル、5−ジメチルアミノ−1−ペン
タノ−ル、6−ジメチルアミノ−1−ヘキサノ−ル、2
−ジメチルアミノ−2−メチル−1−プロパノ−ル、3
−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−1−プロパノ−
ル、2−ジエチルアミノエタノ−ル、3−ジエチルアミ
ノ−1−プロパノ−ル、2−ジイソプロピルアミノエタ
ノ−ル、2−ジ−n−ブチルアミノエタノ−ル、N,N
−ジベンジル−2−アミノエタノ−ル、2−(2−ジメ
チルアミノエトキシ)エタノ−ル、2−(2−ジエチル
アミノエトキシ)エタノ−ル、1−ジメチルアミノ−2
−プロパノ−ル、1−ジエチルアミノ−2−プロパノ−
ル、N−メチルジエタノ−ルアミン、N−エチルジエタ
ノ−ルアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、N
−t−ブチルジエタノールアミン、N−ラウリルジエタ
ノールアミン、3−ジエチルアミノ−1,2−プロパン
ジオール、トリエタノールアミン、トリイソプロパノー
ルアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエ
タノールアミン、N−n−ブチルエタノールアミン、N
−t−ブチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、
ジイソプロパノールアミン、2−アミノエタノール、3
−アミノ−1−プロパノール、4−アミノ−1−ブタノ
ール、6−アミノ−1−ヘキサノール、1−アミノ−2
−プロパノール、2−アミノ−2,2−ジメチル−1−
プロパノール、1−アミノブタノール、2−アミノ−1
−ブタノール、N−(2−アミノエチル)エタノールア
ミン、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオ
ール、2−アミノ−2−エチル−1,3−プロパンジオ
ール、3−アミノ−1,2−プロパンジオール、2−ア
ミノ−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオー
ル、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモ
ニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニ
ウム、、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸
水素アンモニウム、テトラメチルアンモニムウヒドロキ
シド、テトラエチルアンモニムウヒドロキシド、テトラ
プロピルアンモニムウヒドロキシド、テトライソプロピ
ルアンモニムウヒドロキシド、アミノメタノ−ル、2−
アミノエタノ−ル、3−アミノプロパノ−ル、2−アミ
ノプロパノ−ル、メチルアミン、エチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリイソプロピルアミンなどを用いることが
好ましいが、水に可溶であり、水溶液が塩基性を呈する
ものであれば、これら以外の化合物を用いても構わな
い。
Examples of the basic compound include hydroxides or carbonates of alkali metals, alkaline earth metals or ammonium ions, amine compounds and the like. Specific examples include 2-dimethylaminoethanol, 3
-Dimethylamino-1-propanol, 4-dimethylamino-1-butanol, 5-dimethylamino-1-pentanol, 6-dimethylamino-1-hexanol, 2
-Dimethylamino-2-methyl-1-propanol, 3
-Dimethylamino-2,2-dimethyl-1-propano-
2-diethylaminoethanol, 3-diethylamino-1-propanol, 2-diisopropylaminoethanol, 2-di-n-butylaminoethanol, N, N
-Dibenzyl-2-aminoethanol, 2- (2-dimethylaminoethoxy) ethanol, 2- (2-diethylaminoethoxy) ethanol, 1-dimethylamino-2
-Propanol, 1-diethylamino-2-propano-
, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, N
-T-butyldiethanolamine, N-lauryldiethanolamine, 3-diethylamino-1,2-propanediol, triethanolamine, triisopropanolamine, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine, Nn-butylethanolamine, N
-T-butylethanolamine, diethanolamine,
Diisopropanolamine, 2-aminoethanol, 3
-Amino-1-propanol, 4-amino-1-butanol, 6-amino-1-hexanol, 1-amino-2
-Propanol, 2-amino-2,2-dimethyl-1-
Propanol, 1-aminobutanol, 2-amino-1
-Butanol, N- (2-aminoethyl) ethanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, 2-amino-2-ethyl-1,3-propanediol, 3-amino-1, 2-propanediol, 2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate , Ammonium hydrogen carbonate, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, aminomethanol, 2-
Aminoethanol, 3-aminopropanol, 2-aminopropanol, methylamine, ethylamine, propylamine, isopropylamine, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, diisopropylamine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, triisopropylamine It is preferable to use other compounds as long as they are soluble in water and the aqueous solution exhibits basicity.

【0094】得られたレリーフパターンは、好ましくは
150℃〜350℃の範囲から選ばれた温度で加熱処理
することにより、ポリイミドからなるパターンとするこ
とができる。このパターンは、高解像度であり、また、
耐熱性が高く、機械特性に優れる。
The resulting relief pattern can be formed into a pattern made of polyimide by performing a heat treatment at a temperature preferably selected from the range of 150 ° C. to 350 ° C. This pattern is high resolution,
High heat resistance and excellent mechanical properties.

【0095】以下に、本発明を実施例により具体的に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples.

【0096】(A)成分のウレタン系化合物として、ウレタンアクリレート系光硬化性樹脂組成物の調製 (1) 攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備え
た内容積20リットルの四つ口フラスコに、ビスフェノ
ールAのプロピレングリコール4モル付加物4600部
とイソホロンジイソシアネート4420部を入れ、これ
ら40〜50℃でラジウリン酸ジ−n−ブチルスズ2.
6部を加えて同じ温度で30分間反応させた。次いで、
反応温度を80〜90℃に上げて2時間反応させた後、
2−ヒドロキシエチルアクリレート2320部、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル5.5部を加えて同温度で
更に2時間反応させ、ビスフェノールAジオール骨格を
有するウレタンアクリレートオリゴマーを製造した。
Preparation of urethane acrylate-based photocurable resin composition as urethane compound (A) (1) Four-necked flask with inner volume of 20 liters equipped with stirrer, temperature controller, thermometer and condenser , 4600 parts of a 4-mol adduct of bisphenol A with propylene glycol and 4420 parts of isophorone diisocyanate were added, and di-n-butyltin radiurate was added at 40 to 50 ° C.
6 parts were added and reacted at the same temperature for 30 minutes. Then
After raising the reaction temperature to 80-90 ° C and reacting for 2 hours,
2320 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 5.5 parts of hydroquinone monomethyl ether were added and reacted at the same temperature for another 2 hours to produce a urethane acrylate oligomer having a bisphenol A diol skeleton.

【0097】(2) 上記(1)で得たウレタンアクリ
レートオリゴマー1320部、ポリエチレングリコール
200ジアクリレート(新中村化学株式会社製「NKエ
ステルA−200」)1080部及びエチレンオキサイ
ド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(新中
村化学株式会社製「A−TMPT−3EO」)480部
を5リットルの容器に仕込み、減圧脱気窒素置換した
後、内容物を50℃の温度で約1時間攪拌混合した。
(2) 1320 parts of the urethane acrylate oligomer obtained in the above (1), 1080 parts of polyethylene glycol 200 diacrylate (“NK ester A-200” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate 480 parts ("A-TMPT-3EO" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) were charged into a 5-liter container, and the contents were stirred under reduced pressure and degassed nitrogen for about 1 hour at a temperature of 50 ° C.

【0098】(3) 上記(2)で得られた混合物28
80部に、紫外線を遮断した環境下に、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン(チバガイギー株式
会社製「イルガキュアー651」;光ラジカル重合開始
剤)120部を添加し、完全に溶解するまで温度25℃
で混合攪拌して(混合攪拌時間約6時間)、ウレタンア
クリレート系液状光硬化性樹脂組成物を調製して、紫外
線の遮断下に25℃で保存した。
(3) The mixture 28 obtained in the above (2)
To 80 parts, 120 parts of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (“Irgacure 651” manufactured by Ciba-Geigy; photoradical polymerization initiator) is added in an environment where ultraviolet rays are blocked, until completely dissolved. Temperature 25 ° C
(Mixing and stirring time: about 6 hours) to prepare a urethane acrylate-based liquid photocurable resin composition, which was stored at 25 ° C. while blocking ultraviolet rays.

【0099】(B)成分のイミド系化合物として、ポリイミド前駆体(PI―1)の合成 (1)酸クロライドの合成 200mlの四つ口フラスコに、3,3’,4,4’ー
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)9.
42g(0.032モル)、2ーヒドロキシエチルメタ
クリレート(HEMA)8.32g(0.064モ
ル)、ピリジン5.06g(0.064モル)、tーブ
チルカテコール0.03g、Nーメチルー2ーピロリド
ン(NMP)70mlを入れ60℃で攪拌すると、2時
間で透明な溶液になった。この溶液を室温でその後7時
間攪拌した後、フラスコを氷で冷却し、塩化チオニル
9.88g(0.083モル)を10分で滴下した。そ
の後室温で1時間攪拌し、酸クロライドを含む溶液を得
た。
Synthesis of polyimide precursor (PI-1) as imide compound of component (B) (1) Synthesis of acid chloride 3,3 ', 4,4'-biphenyltetrahydrochloride was placed in a 200 ml four-necked flask. Carboxylic anhydride (BPDA) 9.
42 g (0.032 mol), 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA) 8.32 g (0.064 mol), pyridine 5.06 g (0.064 mol), t-butylcatechol 0.03 g, N-methyl-2-pyrrolidone ( NMP) was added and stirred at 60 ° C. to form a clear solution in 2 hours. After stirring the solution at room temperature for 7 hours, the flask was cooled with ice and 9.88 g (0.083 mol) of thionyl chloride was added dropwise over 10 minutes. Thereafter, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a solution containing acid chloride.

【0100】(2)ポリイミド前駆体(ポリアミド酸エ
ステル)の合成 別の200mlの四つ口フラスコに、3,5ージアミノ
安息香酸4.72g(0.031モル)、ピリジン5.
06g(0.064モル)、tーブチルカテコール0.
03g、Nーメチルー2ーピロリドン(NMP)50m
l入れフラスコを氷で冷却し攪拌しながら(10℃以下
を保って)、上記で得た酸クロライド溶液を1時間でゆ
っくりと滴下した。その後室温で1時間攪拌し、1リッ
トルの水へ投入して、析出したポリマを濾取して水で2
度洗い、真空乾燥したところ、ポリアミド酸エステルが
22g得られた。このポリアミド酸エステルの重量平均
分子量をGPC(ゲルパーミェーションクロマトグラフ
ィー)で測定したところ、ポリスチレン換算で44,0
00であった。
(2) Synthesis of polyimide precursor (polyamic acid ester) In another 200 ml four-necked flask, 4.72 g (0.031 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid and pyridine 5.
06 g (0.064 mol), t-butyl catechol 0.
03 g, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) 50 m
The acid chloride solution obtained above was slowly added dropwise over 1 hour while cooling the 1-liter flask with ice and stirring (keeping the temperature at 10 ° C. or lower). Thereafter, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, poured into 1 liter of water, and the precipitated polymer was collected by filtration.
After repeated washing and vacuum drying, 22 g of a polyamic acid ester was obtained. When the weight average molecular weight of this polyamic acid ester was measured by GPC (gel permeation chromatography), it was 44,0 in terms of polystyrene.
00.

【0101】(C)成分のエポキシ系化合物としてのエポキシ系光硬化性樹脂組成物の調製 (1) 攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備え
た内容積20リットルの四つ口フラスコに、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート4,000部、1,4−ブタ
ンジオールジグリシジルエーテル1,000部、2,2
−ビス[4−(アクリロキシジエトキシ)フェニルプロ
パン(新中村化学株式会社製「NKエステルA−BPE
−4」)2,500部、エチレンオキサイド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート(新中村化学株式会
社製「A−TMPT−3EO」)2,500部を加えて
20〜25℃の温度で約1時間攪拌混合した。
Preparation of Epoxy Photocurable Resin Composition as Epoxy Compound of Component (C) (1) A 20-liter four-necked flask equipped with a stirrer, a temperature controller, a thermometer, and a condenser is provided. 4,000 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,000 parts of 1,4-butanediol diglycidyl ether, 2,2
-Bis [4- (acryloxydiethoxy) phenylpropane ("NK ester A-BPE" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-4 ") 2,500 parts and ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate (" A-TMPT-3EO "manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 2,500 parts, and the mixture is stirred at a temperature of 20 to 25C for about 1 hour. Mixed.

【0102】(2) 上記(1)で得られた混合物30
00部に、紫外線を遮断した環境下に、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフエノン(チバガイギー株式
会社製「イルガキュアー651」;光ラジカル重合開始
剤)60部およびビス[4−(ジフェニルスルホニオ)
フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネー
ト(光カチオン重合開始剤)45部を添加し、完全に溶
解するまで温度25℃で混合攪拌して(混合撹拌時間約
6時間)、エポキシ系液状光硬化性樹脂組成物を調製
し、紫外線の遮断下に25℃で保存した。
(2) The mixture 30 obtained in the above (1)
00 parts, 60 parts of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (“IRGACURE 651” manufactured by Ciba-Geigy; photoradical polymerization initiator) and bis [4- (diphenyl) Sulfonio)
Phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate (photocationic polymerization initiator) (45 parts) was added, and mixed and stirred at a temperature of 25 ° C. until mixing was completely completed (mixing and stirring time: about 6 hours). The composition was prepared and stored at 25 ° C. with the exclusion of ultraviolet light.

【0103】《光硬化性樹脂及び光硬化性樹脂組成物の
作成》上記で得られた(A)成分、(B)成分及び(c)
成分を用い以下の8種類の光硬化性樹脂及び光硬化性樹
脂組成物を作成した。
<< Preparation of Photocurable Resin and Photocurable Resin Composition >> The components (A), (B) and (c) obtained above were obtained.
The following eight types of photocurable resins and photocurable resin compositions were prepared using the components.

【0104】[0104]

【実施例1】トリレンジイソシアネート/グリセリンモ
ノメタクリレート・モノアクリレート=1/2(モル
比)の割合で反応させて得られる不飽和ウレタン(a−
1:ラジカル重合基1個当たりの分子量151)を60
重量部と、(B)成分である前記のイミド前駆体(PI
―1)を40重量部の割合で混合した光硬化性樹脂を1
00重量部、充填材としてメタクリロイルオキシプロピ
ルトリメトキシシランで表面処理された平均粒子径17
μmのガラスビーズを200重量部とメタクリロイルオ
キシプロピルトリメトキシシランで表面処理された繊維
径0.8μm及び平均繊維長20μmのホウ酸アルミニ
ウム繊維を50重量部、リン酸エステル塩として平均分
子量2000のメトキシポリオキシプロピレンジオール
のリン酸エステル塩のモルホリン塩を2.5重量部から
成る光硬化性樹脂組成物[X−1]。
Example 1 Unsaturated urethane obtained by reacting tolylene diisocyanate / glycerine monomethacrylate / monoacrylate at a ratio of 1/2 (molar ratio) (a-
1: The molecular weight per radical polymerizable group (151) is 60
Parts by weight and the imide precursor (PI
-1) was mixed with 40 parts by weight of a photocurable resin,
00 parts by weight, average particle size 17 surface-treated with methacryloyloxypropyltrimethoxysilane as a filler
200 parts by weight of glass beads having a diameter of 200 μm, 50 parts by weight of aluminum borate fibers having a fiber diameter of 0.8 μm and an average fiber length of 20 μm, surface-treated with methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and 50 parts by weight. A photocurable resin composition [X-1] comprising 2.5 parts by weight of a morpholine salt of a polyoxypropylene diol phosphate ester salt.

【0105】[0105]

【実施例2】トリレンジイソシアネート/グリセリンモ
ノメタクリレート・モノアクリレート/ヒドロキシエチ
ルアクリレート=1/1/1(モル比)の割合で反応さ
せて得られる不飽和ウレタン(a−2:ラジカル重合基
1個当たりの分子量168)を60重量部と、前記のイ
ミド前駆体(PI―1)を40重量部の割合で混合した
光硬化性樹脂を100重量部、前記の無機固体微粒子を
200重量部と前記の無機繊維ウイスカーを50重量
部、前記のリン酸エステル塩を2.5重量部から成る光
硬化性樹脂組成物[X−2]。
Example 2 Unsaturated urethane (a-2: one radical polymerizable group) obtained by reacting tolylene diisocyanate / glycerin monomethacrylate / monoacrylate / hydroxyethyl acrylate at a 1/1/1 (molar ratio) ratio Per 100 parts by weight of a photocurable resin obtained by mixing 40 parts by weight of the imide precursor (PI-1) with 200 parts by weight of the inorganic solid fine particles. A photocurable resin composition [X-2] comprising 50 parts by weight of the inorganic fiber whiskers and 2.5 parts by weight of the above phosphate ester salt.

【0106】[0106]

【実施例3】不飽和ウレタン(a−2)を50重量部
と、前記のイミド前駆体(PI―1)を33重量部とジ
シクロペンチルジメチレン・ジアクリレートを17重量
部の割合で混合した光硬化性樹脂を100重量部、前記
の無機固体微粒子を200重量部とビニルトリメトキシ
シランで表面処理された繊維径1.0μm及び平均繊維
長40μmのホウ酸アルミニウム繊維を50重量部、前
記のリン酸エステル塩を2.5重量部から成る光硬化性
組成物[X−3]。
Example 3 50 parts by weight of unsaturated urethane (a-2), 33 parts by weight of the imide precursor (PI-1) and 17 parts by weight of dicyclopentyl dimethylene diacrylate were mixed. 100 parts by weight of the photocurable resin, 200 parts by weight of the inorganic solid fine particles, and 50 parts by weight of aluminum borate fiber having a fiber diameter of 1.0 μm and an average fiber length of 40 μm surface-treated with vinyltrimethoxysilane, A photocurable composition [X-3] comprising 2.5 parts by weight of a phosphate salt.

【0107】[0107]

【実施例4】不飽和ウレタン(a−2)を50重量部
と、前記のイミド前駆体(PI―1)を33重量部と、
エポキシ系化合物してビスフェノールAのメタクリレー
ト(エピコ―ト828とメタルクリル酸の反応物)を1
7重量部の割合で混合した光硬化性樹脂を100重量
部、前記の無機固体微粒子を200重量部と前記無機繊
維ウイスカーを50重量部、前記のリン酸エステル塩を
2.5重量部から成る光硬化性樹脂組成物[X−4]。
Example 4 50 parts by weight of unsaturated urethane (a-2), 33 parts by weight of the imide precursor (PI-1),
Bisphenol A methacrylate (reacted product of epicoat 828 and metal acrylic acid) as an epoxy compound
100 parts by weight of the photocurable resin mixed at a ratio of 7 parts by weight, 200 parts by weight of the inorganic solid fine particles, 50 parts by weight of the inorganic fiber whisker, and 2.5 parts by weight of the phosphate ester salt. Photocurable resin composition [X-4].

【0108】[0108]

【実施例5】イソホロンジイソシアネート/グリセリン
モノメタクリレート・モノアクリレート=1/2(モル
比)で反応させて得られる不飽和ウレタン(a‐3:ラ
ジカル重合基1個当たりの分子量163)を50重量部
と、イミド系化合物として
EXAMPLE 5 50 parts by weight of unsaturated urethane (a-3: molecular weight 163 per radical polymerization group) obtained by reacting isophorone diisocyanate / glycerin monomethacrylate / monoacrylate = 1/2 (molar ratio) And as an imide compound

【0109】[0109]

【化5】 Embedded image

【0110】の(a)及び(b)をそれぞれ20重量部
の計40重量部と、ネオペンチルグリコールヒドロキシ
ピバレート・ジアクリレートを10重量部の割合で混合
した光硬化性樹脂を100重量部、前記の無機固体微粒
子を200重量部と前記の無機繊維ウイスカーを50重
量部、前記のリン酸エステル塩F−1を2.5重量部か
ら成る光硬化性樹脂組成物[X−5]。
(A) and (b) were each 20 parts by weight, a total of 40 parts by weight, and 100 parts by weight of a photocurable resin obtained by mixing neopentyl glycol hydroxypivalate diacrylate in a ratio of 10 parts by weight. A photocurable resin composition [X-5] comprising 200 parts by weight of the inorganic solid fine particles, 50 parts by weight of the inorganic fiber whiskers, and 2.5 parts by weight of the phosphate ester F-1.

【0111】[0111]

【実施例6】イソホロンジイソシアネート/グリセリン
モノメタクリレート・モノアクリレート/ヒドロキシエ
チルアクリレート=1/1/1(モル比)の割合で反応
させて得られる不飽和ウレタン(a−4:ラジカル重合
基1個当たりの分子量184)を60重量部と、イミド
系化合物として前記のイミド前駆体(PI―1)を20
重量部と、
EXAMPLE 6 Unsaturated urethane obtained by reacting isophorone diisocyanate / glycerin monomethacrylate / monoacrylate / hydroxyethyl acrylate at a ratio of 1/1/1 (molar ratio) (a-4: per radical polymer group) Of 184) and 60 parts by weight of the imide precursor (PI-1) as an imide compound.
Parts by weight,

【0112】[0112]

【化6】 Embedded image

【0113】を20重量部の割合で混合した光硬化性樹
脂を100重量部、前記の無機固体微粒子を200重量
部と前記の無機繊維ウイスカーを50重量部、前記のリ
ン酸エステル塩を2.5重量部から成る光硬化性樹脂組
成物[X−6]。
100 parts by weight of a photocurable resin obtained by mixing 20 parts by weight of the above, 200 parts by weight of the inorganic solid fine particles, 50 parts by weight of the inorganic fiber whiskers, and 2.0 parts by weight of the phosphate ester salt. A photocurable resin composition [X-6] consisting of 5 parts by weight.

【0114】[0114]

【実施例7】ポリプロポキシ化グリセリン(平均分子量
270)/トリレンジイソシアネート/グリセリンモノ
メタクリレート・モノアクリレート=1/3/3(モル
比)の割合で反応させて得られる不飽和ウレタン(a−
5:ラジカル重合基1個当たりの分子量240)を50
重量部と、イミド系化合物として前記のイミド前駆体
(PI―1)を33重量部とメチルメタクリレートを1
7重量部の割合で混合した光硬化性液体を100重量
部、前記の無機固体微粒子を200重量部と前記の無機
繊維ウイスカーを50重量部、前記のリン酸エステル塩
を2.5重量部から成る光硬化性樹脂組成物[X−7]。
Example 7 Unsaturated urethane (a-) obtained by reacting polypropoxylated glycerin (average molecular weight: 270) / tolylene diisocyanate / glycerin monomethacrylate / monoacrylate = 1/3/3 (molar ratio)
5: 50 (molecular weight 240 per radical polymerizable group)
Parts by weight, 33 parts by weight of the imide precursor (PI-1) as an imide compound, and 1 part of methyl methacrylate.
100 parts by weight of the photocurable liquid mixed at a ratio of 7 parts by weight, 200 parts by weight of the inorganic solid fine particles, 50 parts by weight of the inorganic fiber whisker, and 2.5 parts by weight of the phosphate ester salt A photocurable resin composition [X-7].

【0115】[0115]

【実施例8】グリセリン/トリレンジイソシアネート/
グリセリンモノメタクリレート・モノアクリレート=1
/3/3(モル比)の割合て反応させて得られる不飽和
ウレタン(a−6:ラジカル重合基1個当たりの分子量
209)を60重量部と、イミド系化合物としてイミド
前駆体(PI―1)を10重量部と、エポキシ系化合物
として
Example 8 Glycerin / tolylene diisocyanate /
Glycerin monomethacrylate / monoacrylate = 1
/ 3/3 (molar ratio), 60 parts by weight of unsaturated urethane (a-6: molecular weight per one radical polymerizable group: 209) obtained by reacting with imide precursor (PI- 1) with 10 parts by weight as an epoxy compound

【0116】[0116]

【化7】 Embedded image

【0117】[式中、n,m及びyは1以上の整数であ
る。]を20重量部と前記のビニル単量体を10重量部
の割合で混合した光硬化性液体を100重量部、前記の
無機固体微粒子を200重量部と前記の無機繊維ウイス
カーを50重量部、前記のリン酸エステル塩を2.5重
量部から成る光硬化性樹脂組成物[X−8]。
[Wherein, n, m and y are integers of 1 or more. 100 parts by weight of a photocurable liquid obtained by mixing 20 parts by weight of the vinyl monomer and 10 parts by weight of the vinyl monomer, 200 parts by weight of the inorganic solid fine particles and 50 parts by weight of the inorganic fiber whisker, A photocurable resin composition [X-8] comprising 2.5 parts by weight of the above phosphate ester salt.

【0118】上記の光硬化性樹脂組成物[X−1]〜[X
−8]それぞれ100部に、0.01部の2−ヒドロキ
シ−4−n−オクトキシベンゾフェノン(光エネルギー
吸収剤)を添加して、25℃の温度で均一な液状物が得
られるまで約1時間充分に撹拌して、光学的立体造形用
樹脂組成物を作成した。
The photocurable resin compositions [X-1] to [X]
-8] Add 0.01 part of 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone (light energy absorber) to 100 parts of each, and add about 1 part at 25 ° C. until a uniform liquid is obtained. The mixture was sufficiently stirred for a time to prepare an optical three-dimensional modeling resin composition.

【0119】次いで、超高速光造形システム(帝人製機
株式会社製「SOLIFORM300」を使用して、水
冷Arレーザー光(出力400mW;波長354,36
5nm;ビーム径0.2mm;液面出力175mW)を
照射して、照射エネルギー50mJ/cmの条件下に
スライスピッチ(積層厚み)0.2mm、1層当たりの
平均造形時間2分で光造形を行った。
Next, a water-cooled Ar laser beam (output: 400 mW; wavelength: 354, 36, using an ultra-high-speed optical shaping system (“SOLIFORM 300” manufactured by Teijin Seiki Co., Ltd.)
5 nm; beam diameter: 0.2 mm; liquid level output: 175 mW), and at an irradiation energy of 50 mJ / cm 2 , a slice pitch (lamination thickness) of 0.2 mm, and an optical molding at an average molding time of 2 minutes per layer of 2 minutes. Was done.

【0120】また、上記の光硬化性樹脂組成物[X−1]
〜[X−8]を用いて、上記と同じ超高速光造形システム
を使用して、水冷Arレーザー光(出力400mW;波
長354.365nm)を照射して、照射エネルギー5
0mJ/cmの条件下にJIS K7113に準拠す
るダンベル試験片[X軸×Y軸×Z軸(厚さ)の最大サ
イズ=20.0mm×175.0mm×3.0mm]に相
当する立体造形物(硬化物)を作製した。
Further, the above-mentioned photocurable resin composition [X-1]
To [X-8], using the same ultra-high-speed stereolithography system as described above, irradiating a water-cooled Ar laser beam (output: 400 mW; wavelength: 354.365 nm), and an irradiation energy of 5
Three-dimensional modeling corresponding to a dumbbell specimen [maximum size of X axis × Y axis × Z axis (thickness) = 20.0 mm × 175.0 mm × 3.0 mm] in accordance with JIS K7113 under the condition of 0 mJ / cm 2. A product (cured product) was prepared.

【0121】該造形物(硬化物)を用いて、耐熱性(H
DT)、耐湿性(室温水中浸漬、PCT放置)、硬度
(ショアーD)、引っ張り弾性率(kg/mm2)を測
定した。測定結果を表1に示した。
Using the molded product (cured product), heat resistance (H
DT), moisture resistance (immersion in water at room temperature, PCT standing), hardness (Shore D), and tensile modulus (kg / mm 2 ). Table 1 shows the measurement results.

【0122】[0122]

【表1】 [Table 1]

【0123】《光硬化樹脂の特性評価》 (a)機械強度 JIS−K7113に定められた厚さ3.0mmのダンベ
ル形状を光学的立体造形し、その造形物をイソプロピル
アルコールで洗浄した後、98℃で2時間加熱してポス
トキュアーを行ない、試験片を作製した。試験片は同じ
ものを3本作製し、JIS−K7113にしたがい、引
張速度5mm/秒で、引張強度と引張弾性率を測定した。
強度は3本の試験片の平均値とした。
<< Evaluation of Characteristics of Photocurable Resin >> (a) Mechanical Strength A dumbbell shape having a thickness of 3.0 mm specified in JIS-K7113 is optically three-dimensionally formed, and the formed product is washed with isopropyl alcohol, and then subjected to a 98-degree cleaning. The specimen was heated at 2 ° C. for 2 hours and post-cured to prepare a test piece. The same three test pieces were prepared, and the tensile strength and the tensile modulus were measured at a tensile speed of 5 mm / sec according to JIS-K7113.
The strength was an average value of three test pieces.

【0124】(b)耐熱性(熱変形温度) JIS−K7207にしたがい、10×4×127mmの
角柱形の試験片を作成した。この試験片を用いて曲げ応
力181.4MPaにおける熱変形温度(HDT)を求
めた。
(B) Heat Resistance (Heat Deformation Temperature) According to JIS-K7207, a 10 × 4 × 127 mm prismatic test piece was prepared. Using this test piece, the heat distortion temperature (HDT) at a bending stress of 181.4 MPa was determined.

【0125】(c)硬度 上記で得られた立体造形物(硬化物)を前記の光造形シ
ステムから取り出して、付着している未硬化物をイソプ
ロピルアルコールで洗浄除去した後の立体造形物を3K
W紫外線ランプを用いて10分間ポストキュアして、シ
ョアD硬度をJIS K7113に準じて測定した本発
明の光硬化樹脂は何れもHDTが100℃以上であり、
ショアー硬度が89以上、引っ張り弾性率が200kg
/mm2以上を有している。
(C) Hardness The three-dimensional molded product (cured product) obtained above is taken out of the above-mentioned stereolithography system, and the three-dimensional molded product after washing and removing the uncured material attached thereto with isopropyl alcohol is 3K.
The photocurable resin of the present invention, which was post-cured for 10 minutes using a W ultraviolet lamp and the Shore D hardness was measured according to JIS K7113, had an HDT of 100 ° C. or more,
Shore hardness is 89 or more, tensile modulus is 200kg
/ Mm 2 or more.

【0126】(d)耐湿性 (i)吸水量の測定 50mm×50mm×3mmの試験片を各5個ずつ作成
した。該試験片を重量変化がなくなるまで真空状態で放
置した時の重量を初期重量とした。次いで各試験片は室
温の水道水槽に浸漬し、所定日数毎に水槽から試験片を
取り出して試験片の重量を測定し、吸水量(g/c
2)を求めた。
(D) Moisture resistance (i) Measurement of water absorption Five test pieces each of 50 mm × 50 mm × 3 mm were prepared. The weight when the test piece was left in a vacuum state until there was no change in weight was defined as the initial weight. Next, each test piece was immersed in a tap water tank at room temperature, the test piece was taken out of the water tank every predetermined number of days, the weight of the test piece was measured, and the water absorption (g / c) was measured.
m 2 ) was determined.

【0127】(ii)吸水率(PCTによる)の測定 50mm×50mm×3mmの試験片を各2個ずつ作成
した。該試験片を重量変化がなくなるまで真空状態で放
置した時の重量を初期重量とした。次いで該試験片をプ
レッシャー・クッカ―釜(121℃、2気圧過飽和水蒸
気中)に所定時間放置した後、取り出して、試験片の重
量を測定し、初期重量に対する重量の変化率を吸水率と
した。
(Ii) Measurement of Water Absorption (by PCT) Two test pieces of 50 mm × 50 mm × 3 mm were prepared. The weight when the test piece was left in a vacuum state until there was no change in weight was defined as the initial weight. Next, the test piece was left in a pressure cooker (121 ° C., 2 atmospheres supersaturated steam) for a predetermined time, then taken out, the weight of the test piece was measured, and the rate of change in weight relative to the initial weight was taken as the water absorption. .

【0128】図8は本発明の光硬化性樹脂組成物(X−
1)に紫外線を照射して硬化した樹脂硬化(成型)物を
室温の水道水槽に所定時間浸漬した場合の吸水量の経時
変化を示す。本発明の光硬化樹脂は従来の光硬化樹脂
(PMMA系)に比べて吸水量が少ない。
FIG. 8 shows the photocurable resin composition (X-
The change with time in the amount of water absorption when the resin cured (molded) product cured by irradiation with ultraviolet light in 1) is immersed in a tap water tank at room temperature for a predetermined time is shown. The photocurable resin of the present invention has a smaller water absorption than a conventional photocurable resin (PMMA type).

【0129】図9は本発明の光硬化性樹脂組成物(X−
1)に紫外線を照射して硬化した樹脂成型物を121
℃、2気圧過飽和水蒸気状態のPCT釜に所定時間浸漬
した場合の吸水量の経時変化を示す。本発明の光硬化樹
脂は従来の光硬化樹脂(PMMA系)に比べて吸水量が
少ない。
FIG. 9 shows the photocurable resin composition (X-
The resin molded product cured by irradiating the ultraviolet ray to 1) is 121
The change with time in the amount of water absorption when immersed in a PCT kettle in the supersaturated water vapor state at 2 ° C. for 2 hours. The photocurable resin of the present invention has a smaller water absorption than a conventional photocurable resin (PMMA type).

【0130】《立体流路部材の作製》立体流路部材図1
に示す装置を用いて作成した。操作手順は上記の通りで
ある。
<< Preparation of Three-Dimensional Channel Member >> Three-dimensional channel member FIG.
Was prepared by using the apparatus shown in FIG. The operating procedure is as described above.

【0131】容器を装着した三次元NCテーブルとヘリ
ウム・カドミウムレーザー光(出力25mW、波長32
50Å)制御システムとで主構成された光学的立体造形
装置を用いた。上記の容器に試験区分2で調製した光硬
化性組成物と光重合開始剤とを混合溶解したもの(以
下、混合液という)を充填し、該容器から水平面(X−
Y軸平面)に混合液を0.1mmの厚さで供給して、その
表面(X−Y軸平面)に対し垂直方向(Z軸方向)から
集束されたヘリウム・カドミウムレーザー光を三次元C
ADに入力しておいたデータに基づいて走査し、所定部
分を硬化させた。この硬化物の上に新たに混合液を0.
1mmの厚さで供給し、同様に硬化させた。以下、同様に
して、合計550層を積層し、本発明の立体流路部材を
光学的立体造形した。次いで、光学的立体造形型をイソ
プロピルアルコールで洗浄した後、3Kwの紫外線ラン
プで30分間照射し、更に100℃で2時間加熱してポ
ストキュアーを行ない、光学的立体造形を作製した。
A three-dimensional NC table equipped with a container and a helium / cadmium laser beam (output 25 mW, wavelength 32
50 °) An optical three-dimensional printing apparatus mainly including a control system was used. The above-mentioned container is filled with a mixture obtained by mixing and dissolving the photocurable composition prepared in Test Category 2 and the photopolymerization initiator (hereinafter, referred to as a mixture), and a horizontal surface (X-
The mixed solution is supplied to the Y-axis plane) at a thickness of 0.1 mm, and a helium-cadmium laser beam focused from the direction perpendicular to the surface (XY-axis plane) (Z-axis direction) is supplied to the three-dimensional C plane.
Scanning was performed based on the data input to the AD, and a predetermined portion was cured. A new mixture is added to the cured product at 0.
It was supplied in a thickness of 1 mm and was similarly cured. Hereinafter, similarly, a total of 550 layers were laminated, and the three-dimensional channel member of the present invention was optically three-dimensionally molded. Next, the optical three-dimensional model was washed with isopropyl alcohol, irradiated with a 3 Kw ultraviolet lamp for 30 minutes, further heated at 100 ° C. for 2 hours, and post-cured to prepare an optical three-dimensional model.

【0132】以下に本発明の立体流路部材を水質計に応
用した例を以下に示す。
An example in which the three-dimensional channel member of the present invention is applied to a water quality meter will be described below.

【0133】図2は、光造形法により造形した立体流路
部材(以下マザーボード101と称する)の機能部品を
搭載した構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram in which functional components of a three-dimensional flow path member (hereinafter, referred to as a motherboard 101) formed by an optical molding method are mounted.

【0134】マザーボード101にモジュール化された
分析部76,77,78と、分析部76,77,78へ
の試料水52、試薬82、洗浄水86、ゼロ水89の送
水をシーケンス制御させるためのポンプ、電磁弁をポン
プユニット153,154、電磁弁ユニット151,1
52として各ユニットは手回しねじ156,157,1
58,159にて直接組み付ける構造としている。分析
部76,77,78、ポンプユニット153,154、
電磁弁ユニット151,152を搭載したマザーボード
101は、分析部76,77,78への試料水52、試
薬82、洗浄水86、ゼロ水89の給排水を兼用した取
付ボード160に位置決め兼締め付け防止の取付ピン1
61の案内に従って取り付けし、手回しねじ155にて
取り付けされる。取付ピン161は、マザーボード10
1の高さと同一であるため手回しねじ155を締め過ぎ
てもマザーボード101を破損させることはない。ま
た、部品最小数で簡便に固定できる。このとき、同時に
分析部76,77,78への給排水の取り合いとなる流
路接続部168も各流路、取付ピン161の案に従って
取付ボード160の流路接続部173にシール材169
を介して接続される。
The analysis units 76, 77, 78 modularized on the motherboard 101 and the sequence control of the water supply of the sample water 52, the reagent 82, the washing water 86, and the zero water 89 to the analysis units 76, 77, 78. Pumps and solenoid valves are pump units 153 and 154, solenoid valve units 151 and 1
As for 52, each unit is a screw 156, 157, 1
At 58 and 159, the structure is directly assembled. Analysis units 76, 77, 78, pump units 153, 154,
The motherboard 101 on which the solenoid valve units 151 and 152 are mounted is used for positioning and preventing tightening on a mounting board 160 which also serves as a supply / drainage of the sample water 52, the reagent 82, the washing water 86, and the zero water 89 to the analysis units 76, 77 and 78. Mounting pin 1
It is attached according to the guidance of 61 and is attached with the screw 155. The mounting pins 161 are attached to the motherboard 10.
1, the motherboard 101 will not be damaged even if the screw 155 is tightened too much. Also, it can be easily fixed with the minimum number of parts. At this time, the flow path connecting section 168 for supplying and draining water to the analysis sections 76, 77, 78 at the same time also has a sealing material 169 on the flow path connecting section 173 of the mounting board 160 according to the plan of each flow path and the mounting pin 161.
Connected via

【0135】図3は、マザーボード外観図である。FIG. 3 is an external view of the motherboard.

【0136】マザーボード101には、分析計64の内
部にある全流路(流路65,68,70,72、92.
94他)は3次元マザーボード101の内部に立体的に
形成されている。外観は直方体を形成しており、その外
周面には、複数個のバルブ、ポンプ、分析計などを配管
を用いずに直接又はシール材を介して保持可能なように
複数個の流路開口部102や各ユニット取り付け用のネ
ジ穴103が形成されている。
In the motherboard 101, all the flow paths (flow paths 65, 68, 70, 72, 92.
94 etc.) are three-dimensionally formed inside the three-dimensional motherboard 101. Appearance is formed as a rectangular parallelepiped, and its outer peripheral surface is provided with a plurality of flow path openings so that a plurality of valves, pumps, analyzers, etc. can be held directly without using piping or through a sealing material. 102 and a screw hole 103 for mounting each unit.

【0137】図4は、具体的構成図である。FIG. 4 is a specific configuration diagram.

【0138】水道事業者側または需要家側の配水管51
内を流れる飲料水(試料水)52は、配管53を介して
サンプリングされ、手動弁54、配管55、減圧弁56
を経て、更に配管57、手動弁58、排水管59より排
水溝60に排水する。
[0138] Water distribution pipe 51 on the water utility or customer side
Drinking water (sample water) 52 flowing through the inside is sampled via a pipe 53, and a manual valve 54, a pipe 55, a pressure reducing valve 56
Through the pipe 57, the manual valve 58, and the drain pipe 59 to the drain 60.

【0139】前記配管57より、一定圧に保たれた試料
水52の一部は配管61により分岐され手動弁62を経
て試料水中の大きな異物を除去するフィルタ63を介し
て、分析計本体64中の流路65を介して脱泡槽66に
導かれる。該脱泡槽66の内部で前記試料水52中に含
まれる気泡67は脱泡槽66の上部に溜まり、随時流路
68、電磁弁69、流路70を介して分析計本体64か
ら前記排水溝60に廃棄される。
From the pipe 57, a part of the sample water 52 maintained at a constant pressure is branched by a pipe 61, passes through a manual valve 62, passes through a filter 63 for removing large foreign matter in the sample water, and passes through a main body 64 of the analyzer. Is led to the defoaming tank 66 through the flow path 65. Bubbles 67 contained in the sample water 52 in the defoaming tank 66 accumulate in the upper part of the defoaming tank 66 and drain from the analyzer main body 64 via a flow path 68, a solenoid valve 69, and a flow path 70 as needed. Discarded in the groove 60.

【0140】一方前記脱泡槽66中の気泡を取除いた試
料水71は、流路72、電磁弁73を介して定量ポンプ
74に導かれる。更に試料水71は複数個の電磁弁75
a,75b,75cを介してそれぞれが独立した項目を
分析する複数個の分析部76,77,78に選択的に送
出される。該分析部は取付け形状及び配管取り合いが共
通化され、他の分析部と全く同一かあるいは互換性を有
するように、0前記分析計本体64に着脱可能に保持さ
れている。また、該分析計本体の外側には液体を内蔵し
た複数個カートリッジ79,80,81が着脱可能に保
持されており、該カートリッジ内部の液体を分析計本体
64に供給している。カートリッジ79からの液体82
は、電磁弁83定量ポンプ84に導かれ、複数個の電磁
弁85a,85b,85cを介して、前記分析部76、
77、78に選択的に送出される。同様に、カートリッ
ジ80内の液体86はポンプ87を経た後、複数個の電
磁弁88a,88b,88を介して前記分析部へ、また
カートリッジ81内の液体89はポンプ90を経て電磁
弁91a,91b,91cを介して前記分析部76,7
7,78に選択的に送出される。
On the other hand, the sample water 71 from which the bubbles in the defoaming tank 66 have been removed is guided to a metering pump 74 via a flow path 72 and an electromagnetic valve 73. Further, the sample water 71 has a plurality of solenoid valves 75.
a, 75b, and 75c are selectively sent to a plurality of analysis units 76, 77, and 78 that analyze independent items. The analysis unit has a common mounting shape and pipe connection, and is detachably held on the analyzer main body 64 so as to be completely the same or compatible with other analysis units. A plurality of cartridges 79, 80, and 81 containing a liquid are detachably held outside the analyzer main body, and the liquid inside the cartridge is supplied to the analyzer main body 64. Liquid 82 from cartridge 79
Is led to a solenoid valve 83 metering pump 84, and the analysis unit 76, via a plurality of solenoid valves 85a, 85b, 85c.
77 and 78. Similarly, the liquid 86 in the cartridge 80 passes through the pump 87 and then to the analysis section via a plurality of solenoid valves 88a, 88b, 88, and the liquid 89 in the cartridge 81 passes through the pump 90 to the solenoid valves 91a, 91a. The analysis units 76 and 7 are connected via 91b and 91c.
7, 78 selectively.

【0141】上記の機能を満たす複雑な流路をマザーボ
ード101内部に形成している。
A complicated flow path satisfying the above functions is formed inside the motherboard 101.

【0142】図5は、マザボード101内部構造図で、
流路は立体に配置され、各バルブ、ポンプ、分析部の流
路口部間を3次元で配管構成している。
FIG. 5 is a diagram showing the internal structure of the motherboard 101.
The flow path is arranged in a three-dimensional manner, and a three-dimensional pipe is formed between each valve, pump, and flow path opening of the analysis unit.

【0143】本実施例では、紫外線硬化形プラスチック
を使用し、液体の樹脂に紫外線レーザ光を選択的に照射
し、紫外線の当たった部分のみを硬化させて形状を形成
せしめる光造形法を採用している。この光造形法で流路
に当たる部分には光を当てず未硬化の液体のまま残し、
成形後未硬化樹脂を洗い流すことによって任意の立体流
路を形成可能にしている。使用した樹脂は紫外線硬化形
で透明の樹脂を使用し、流路内部の状態が外部より観察
できる様にした。また光造形法は、特別の成形型を必要
とせずCAD(computer aided design)の3次元の
設計データのみで安価で迅速に実現でき、配管系接続部
の信頼性を向上できる長所がある。
In this embodiment, an ultraviolet curable plastic is used, and an optical laser forming method is employed in which a liquid resin is selectively irradiated with an ultraviolet laser beam, and only a portion irradiated with the ultraviolet light is cured to form a shape. ing. In this stereolithography method, the part that hits the flow path is not exposed to light and remains uncured liquid,
After the molding, the uncured resin is washed away, whereby an arbitrary three-dimensional channel can be formed. The resin used was an ultraviolet-curing transparent resin, so that the state inside the flow path could be observed from the outside. In addition, the stereolithography method has an advantage that it can be realized inexpensively and quickly with only CAD (computer aided design) three-dimensional design data without requiring a special molding die, and the reliability of the piping connection can be improved.

【0144】一般に光造形法に用いられる樹脂は未硬化
時は液状のものであり、用途に応じて硬化物の物性はさ
まざまである。通常、造形による硬化は機械加工品やモ
ールド品の形状、寸法確認や一時的な開発品への組込み
等に使用される。そのため、硬化物を組み上げ可能な適
度な強度と耐熱性、可視可するための透明性が望まれて
用途別に数種類の樹脂が整えられているのが現状であ
る。
In general, the resin used in the optical shaping method is a liquid when uncured, and the physical properties of the cured product vary depending on the application. Usually, hardening by shaping is used for checking the shape and dimensions of a machined product or a molded product, temporarily incorporating the product into a developed product, and the like. For this reason, at present, several types of resins are prepared for each application in view of desired strength, heat resistance, and transparency for making the cured product visible.

【0145】本発明では、それらの樹脂に含まれる組成
物である流体成分である水分と親和しやすい親水基(極
性基)を取除き、通常の光硬化樹脂を主体とされるウレ
タン系化合物、イミド系化合物及びエポキシ系化合物を
主組成としている。そのため、水に対する耐力が向上と
耐熱温度の確保された紫外線硬化樹脂でマザーボード1
01を造形している。
In the present invention, a urethane-based compound mainly composed of a usual photo-curable resin is removed by removing a hydrophilic group (polar group) which is likely to be compatible with water as a fluid component which is a composition contained in the resin. The main composition is an imide compound and an epoxy compound. For this reason, the motherboard 1 is made of an ultraviolet curable resin that has improved resistance to water and has a high heat resistant temperature.
01 is modeled.

【0146】また、光重合の反応を適切にするために吸
光剤を添加することで、樹脂の反応率を高め硬化物の機
械的物性を向上させ、さらに未硬化部分の硬化を防止し
し、硬化物内部の未硬化樹脂部分の除去操作を容易にし
ている。
Further, by adding a light absorbing agent to make the photopolymerization reaction appropriate, the reaction rate of the resin is increased, the mechanical properties of the cured product are improved, and the curing of the uncured portion is prevented. The operation of removing the uncured resin portion inside the cured product is facilitated.

【0147】以上のことにより、マザーボード101を
形成する硬化物の吸水率、強度は一般プラスチック材と
同等の性能を有している。特に吸水率2%以下とアクリ
ル材より低い特性が得られている。
As described above, the cured product of the mother board 101 has the same water absorption and strength as the general plastic material. In particular, a water absorption of 2% or less, which is lower than that of an acrylic material, is obtained.

【0148】また、適切な硬化により表面硬度HS80
以上と硬い表面が得られるため、流路を流れる流体、気
体への流路内面からの不純物の溶出あるいは流路内面へ
の吸着が低く抑えられる。
Also, the surface hardness HS80 can be obtained by appropriate curing.
Since a hard surface is obtained as described above, elution of impurities from the inner surface of the flow channel into the fluid or gas flowing through the flow channel or adsorption to the inner surface of the flow channel is suppressed to a low level.

【0149】更に、硬化物内部の未硬化樹脂を容易な除
去のために、未硬化時の粘度を比較的流動しやすい粘度
となる様に調整している。そのため、硬化物内に流路を
形成した場合では流路径が2mm以下(断面積4mm
以下)の小径な流路も容易に造形可能としている。
Further, in order to easily remove the uncured resin from the inside of the cured product, the viscosity at the time of uncuring is adjusted so as to be relatively easy to flow. Therefore, when the flow path is formed in the cured product, the flow path diameter is 2 mm or less (the cross-sectional area is 4 mm 2
The following small flow path can be easily formed.

【0150】そのため、小スペース内に複雑な分岐を持
つ複数の流路を設けることを可能としている。
Therefore, it is possible to provide a plurality of flow paths having complicated branches in a small space.

【0151】また、光照射による樹脂膜の積層により造
形された造形硬化物の各層間の接着性、密着性に優れて
おり,高温高湿(例えば、PCT状態)に長時間放置し
た後も各層間の剥離がなく、信頼性の高いマザーボード
及びそれを用いた水質計を提供できる。
Further, the cured product formed by laminating resin films by light irradiation has excellent adhesiveness and adhesion between the respective layers. Even after being left in a high-temperature and high-humidity state (for example, in a PCT state) for a long period of time, A highly reliable motherboard without delamination and a water quality meter using the same can be provided.

【0152】図6に流路内面にコーティングした断面図
を示す。
FIG. 6 is a cross-sectional view in which the inner surface of the flow channel is coated.

【0153】マザーボード101の流路内面に表面コート
剤301を塗布した断面で、流路内面に数〜数十μmの
膜厚で表面コート剤301の面を形成させ、流路内面の耐
薬品性、耐水性、溶出、吸着の抑制を図り、立体流路部
材の寿命を向上させる。また、流体の用途を広げられ
る。
On the cross section of the motherboard 101 in which the inner surface of the flow path is coated with the surface coating agent 301, the inner surface of the flow path is formed with a surface of the surface coating agent 301 with a thickness of several to several tens of μm. In addition, water resistance, elution and adsorption are suppressed, and the life of the three-dimensional channel member is improved. Further, the use of the fluid can be expanded.

【0154】表面コート剤301には、流動性の良いハ
ードコート剤、フッ素樹脂、塩化モリブデンがあげあ
れ、水質計に用いられるマザーボード101においては
溶出、吸着の抑止効果が得られる。
Examples of the surface coating agent 301 include a hard coating agent having good fluidity, a fluororesin, and molybdenum chloride. In the motherboard 101 used for the water quality meter, an effect of suppressing elution and adsorption is obtained.

【0155】また、表面コートするにあたり母材となる
マザーボード101の耐熱温度が表面コート剤301の
熱処理可能な温度以上であることも大きな特徴である。
Another feature of the present invention is that the heat resistant temperature of the motherboard 101 serving as the base material for the surface coating is higher than the temperature at which the surface coating agent 301 can be heat-treated.

【0156】また、図7に示す様な単純形状の流路部材
への応用としてはマスター部材から型、中子等を製作し
て、そこに光硬化樹脂を注入し紫外線を照射することで
容易に流路部材を得ることが可能である。
As an application to a flow path member having a simple shape as shown in FIG. 7, a mold, a core, and the like are manufactured from a master member, and a photocurable resin is injected into the mold and irradiated with ultraviolet rays. It is possible to obtain a flow path member.

【0157】本発明による立体流路部材を応用適応すれ
ば、流体・気体を扱う製品に適用することが可能であ
り、製品小形化、コスト低減が進められる。
If the three-dimensional flow channel member according to the present invention is applied, it can be applied to products handling fluids and gases, and the product can be reduced in size and cost can be reduced.

【0158】[0158]

【発明の効果】本発明によれば、流路部材として耐水性
に優れ、さらに小体積内に複雑で複数の流路をもつ立体
流路部材を光造形法により容易かつ迅速に造形すること
が可能となり、造形した部材は製品ベースの流路部材と
して使用することが可能となる。さらに、流路内面の表
面処理により流路部材の劣化および流体への影響を低減
させ製品性能、寿命の向上が図れる。
According to the present invention, it is possible to easily and rapidly form a three-dimensional flow path member having excellent water resistance as a flow path member and having a plurality of flow paths in a small volume by a stereolithography method. This allows the shaped member to be used as a product-based flow channel member. Furthermore, the surface treatment of the inner surface of the flow passage reduces the deterioration of the flow passage member and the influence on the fluid, thereby improving the product performance and the life.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わる光造形装置の一例を示す概略図
である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of an optical shaping apparatus according to the present invention.

【図2】本発明の立体流路部材による部材構成例であ
る。
FIG. 2 is an example of a member configuration using a three-dimensional flow channel member of the present invention.

【図3】本発明の立体流路部材の外観を示す。FIG. 3 shows an appearance of a three-dimensional flow channel member of the present invention.

【図4】本発明の水質計システムの構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a water quality meter system of the present invention.

【図5】流路が3次元立体に配置構成されているマザボ
ードの内部構造図である。
FIG. 5 is an internal structural view of a motherboard in which flow paths are arranged in a three-dimensional configuration.

【図6】流路内面にコーティングした流路の断面図であ
る。
FIG. 6 is a sectional view of a flow channel coated on the inner surface of the flow channel.

【図7】単純形状の流路部材への応用例である。FIG. 7 is an example of application to a flow path member having a simple shape.

【図8】本発明の光硬化樹脂を室温の水槽に浸漬した場
合の吸水量の経時変化を示す。
FIG. 8 shows a change over time in water absorption when the photocurable resin of the present invention is immersed in a water bath at room temperature.

【図9】本発明の光硬化樹脂をPCT釜に浸漬した場合
の吸水量の経時変化を示す。
FIG. 9 shows a change over time in water absorption when the photocurable resin of the present invention is immersed in a PCT kettle.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…装置本体、2…造形容器、10…流動性材料、11
…可動プラットホーム、15…昇降機構、20…光走査
装置、30…コントロールユニット(制御手段、昇降制
御手段)、35…3次元CADシステム、41…攪拌部
材、L…自由液面(自由表面)、55…配管、56…減
圧弁、51…配水管、52…飲料水、53…配管、54
…手動弁、55…配管、56…減圧弁、57…配管、5
8…手動弁、59…排水管、60…排水溝、61…配
管、62…手動弁、63…フィルタ、64…分析計本
体、65…流路、66…脱泡槽、67…気泡、68…流
路、69…電磁弁、70…流路、71…試料水、72…
流路、73…電磁弁、74…定量ポンプ、75…電磁弁
(a,b,c)、76、77、78…分析部、79…カ
ートリッジ、80…カートリッジ、81…カートリッ
ジ、82…液体、83…電磁弁、84…定量ポンプ、8
5…電磁弁(a,b,c)、86…液体、87…ポン
プ、88…電磁弁(a,b,c)、89…液体、90…
ポンプ、91…電磁弁(a,b,c)、92…廃体、9
3…電磁弁、94…流路、95…回収容器、101…3
次元マザーボード、102…流路開口部、103…ネジ
穴、152…バルブユニット、152a…バルブホル
ダ、153…ポンプユニット、153a…ポンプホル
ダ、154…ポンプユニット、154a…ポンプホル
ダ、155…手回しねじ、156…手回しねじ、157
…手回しねじ、160…取付ボード、161…取付ピ
ン、162…流路コネクタ、163…流路コネクタ、1
64…流路コネクタ、165…セルホルダ、166…固
定金具、167…ガイド、168…流路接続部、169
…シール材、170…取付穴、171…シール材、17
2…取付穴、173…流路接続部、301…表面コート
剤、302…流路、303…流路部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Device main body, 2 ... Modeling container, 10 ... Fluid material, 11
.. Movable platform, 15 lifting mechanism, 20 optical scanning device, 30 control unit (control means, lifting control means), 35 three-dimensional CAD system, 41 stirring member, L free liquid surface (free surface), 55 ... pipe, 56 ... pressure reducing valve, 51 ... water pipe, 52 ... drinking water, 53 ... pipe, 54
... Manual valve, 55 ... Piping, 56 ... Reducing valve, 57 ... Piping, 5
Reference numeral 8: manual valve, 59: drain pipe, 60: drain groove, 61: piping, 62: manual valve, 63: filter, 64: analyzer body, 65: flow path, 66: defoaming tank, 67: air bubble, 68 ... flow path, 69 ... solenoid valve, 70 ... flow path, 71 ... sample water, 72 ...
Flow path, 73: solenoid valve, 74: metering pump, 75: solenoid valve (a, b, c), 76, 77, 78: analysis unit, 79: cartridge, 80: cartridge, 81: cartridge, 82: liquid, 83 ... solenoid valve, 84 ... metering pump, 8
5 ... solenoid valves (a, b, c), 86 ... liquid, 87 ... pump, 88 ... solenoid valves (a, b, c), 89 ... liquid, 90 ...
Pump, 91: solenoid valve (a, b, c), 92: waste, 9
3 ... solenoid valve, 94 ... flow path, 95 ... collection container, 101 ... 3
Dimensional mother board, 102: flow path opening, 103: screw hole, 152: valve unit, 152a: valve holder, 153: pump unit, 153a: pump holder, 154: pump unit, 154a: pump holder, 155: screwdriver, 156: hand screw, 157
... Screwdriver screw, 160 ... Mounting board, 161 ... Mounting pin, 162 ... Flow path connector, 163 ... Flow path connector, 1
64 ... flow path connector, 165 ... cell holder, 166 ... fixing bracket, 167 ... guide, 168 ... flow path connection part, 169
... Seal material, 170 ... Mounting hole, 171 ... Seal material, 17
2: mounting hole, 173: flow path connection part, 301: surface coating agent, 302: flow path, 303: flow path member

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年2月21日(2000.2.2
1)
[Submission date] February 21, 2000 (200.2.2
1)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】発明の名称[Correction target item name] Name of invention

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【発明の名称】 光硬化性樹脂及び立体流路部材Patent application title: Photocurable resin and three-dimensional channel member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29C 67/00 B29C 67/00 B29K 105:24 B29K 105:24 (72)発明者 玉置 康二 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 (72)発明者 近岡 良作 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 計 測テクノロジー株式会社内 (72)発明者 江橋 満 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 (72)発明者 村中 昌幸 東京都千代田区神田駿河台四丁目6番地 株式会社日立製作所生産・環境統括部内 (72)発明者 後藤 典雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所デジタルメディア開発本 部内 (72)発明者 田村 順一 神奈川県川崎市高津区坂戸3−2−1 K SP、D棟8F 帝人製機株式会社内 Fターム(参考) 4F006 AA58 AB19 BA02 CA00 DA00 4F203 AA40 AA42 AH43 AR20 4F213 AA40 AA42 AH43 AR20 WA14 WA41 WA86 WA87 WB01 4J002 CD012 CD022 CD052 CD062 CD132 CD202 CM041 ET006 FD010 FD090 FD140 FD150 4J027 AD04 AE02 AE03 AE04 AE05 AE07 AG04 AG13 AG14 AG15 AG23 AG27 AG33 AH02 AJ01 AJ08 AJ09 BA08 BA13 BA15 BA17 BA19 BA21 BA26 CA14 CA16 CA18 CA19 CA34 CA36 CB10 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B29C 67/00 B29C 67/00 B29K 105: 24 B29K 105: 24 (72) Inventor Koji Tamaki Hitachinaka, Ibaraki 882, Omo, Oaza, Japan In the measuring instrument group of Hitachi, Ltd. (72) Inventor Ryosaku Chikaoka, 882, Oga, Oaza, Oita, Hitachinaka, Ibaraki Pref. 882 Hitachi, Ltd.Measuring Instruments Group (72) Inventor Masayuki Muranaka 4-6 Kanda Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo Hitachi, Ltd.Production and Environment Management Department (72) Inventor Norio Goto Totsuka, Yokohama, Kanagawa Prefecture 292 Yoshida-cho, Ward Inside Digital Media Development Division, Hitachi, Ltd. (72) Akiya Junichi Tamura 3-2-1 Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture KSP, D Building 8F Teijin Seiki Co., Ltd. F-term (reference) 4F006 AA58 AB19 BA02 CA00 DA00 4F203 AA40 AA42 AH43 AR20 4F213 AA40 AA42 AH43 AR20 WA14 WA41 WA86 WA87 WB01 4J002 CD012 CD022 CD052 CD062 CD132 CD202 CM041 ET006 FD010 FD090 FD140 FD150 4J027 AD04 AE02 AE03 AE04 AE05 AE07 AG04 AG13 AG14 AG15 AG23 AG27 AG33 AH02 AJ01 AJ08 AJ19 BA18 BA18 BA18 BA18

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光硬化性樹脂を用いて内部に立体的な流路
が形成された流路部材において、該光硬化性樹脂が
(A)一般式[1] 【化1】 [式中、Aは(メタ)アクロイル残基、Rはイソシアネ
‐ト成分残基、Yはジオール成分残基である。] で表さ
れるウレタン系化合物と、(B)光重合性の官能基を有
するイミド系化合物或いはポリイミド前駆体を含むこと
を特徴とする立体流路部材。
In a flow path member having a three-dimensional flow path formed therein using a photocurable resin, the photocurable resin is represented by the following general formula (A): [Wherein, A is a (meth) acryloyl residue, R is an isocyanate component residue, and Y is a diol component residue. ], And a (B) imide compound having a photopolymerizable functional group or a polyimide precursor.
【請求項2】光硬化性樹脂を用いて内部に立体的な流路
が形成された流路部材において、該光硬化性樹脂が
(A)一般式[1] 【化2】 [式中、Aは(メタ)アクロイル残基、Rはイソシアネ
‐ト成分残基、Yはジオール成分残基である。] で表さ
れるウレタン系化合物と、(B)光重合性の官能基を有
するイミド系化合物或いはポリイミド前駆体と、(C)
光重合性の官能基を有するエポキシ系化合物を含むこと
を特徴とする立体流路部材。
2. A flow path member in which a three-dimensional flow path is formed using a photo-curable resin, wherein the photo-curable resin is represented by the following general formula (A): [Wherein, A is a (meth) acryloyl residue, R is an isocyanate component residue, and Y is a diol component residue. A urethane compound represented by the formula: (B) an imide compound or a polyimide precursor having a photopolymerizable functional group, and (C)
A three-dimensional flow path member comprising an epoxy compound having a photopolymerizable functional group.
【請求項3】請求項1又は2において、前記光硬化性樹
脂は紫外線を用いて硬化して得られる硬化樹脂であるこ
とを特徴とする立体流路部材。
3. The three-dimensional flow path member according to claim 1, wherein the photocurable resin is a cured resin obtained by curing using ultraviolet rays.
【請求項4】請求項3において、硬化樹脂が吸水率2wt
%以下であることを特徴とする立体流路部材。
4. The method according to claim 3, wherein the cured resin has a water absorption of 2 wt.
% Or less.
【請求項5】請求項3において、硬化樹脂が耐熱温度
(熱変形温度)100℃以上であることを特徴とする立
体流路部材。
5. The three-dimensional flow path member according to claim 3, wherein the cured resin has a heat resistance temperature (heat deformation temperature) of 100 ° C. or higher.
【請求項6】請求項3において、硬化樹脂の表面硬度が
ショワー硬度80以上であることを特徴とする立体流路
部材。
6. The three-dimensional flow path member according to claim 3, wherein the surface hardness of the cured resin is 80 or more in Shore hardness.
【請求項7】請求項1〜6において、流路内面にハード
コート処理を施したことを特徴とする立体流路部材。
7. The three-dimensional channel member according to claim 1, wherein a hard coat treatment is applied to an inner surface of the channel.
【請求項8】請求項1〜6において、流路内面にフッ素
樹脂または弗化ビニリデンをコーティング処理したこと
を特徴とする立体流路部材。
8. A three-dimensional flow channel member according to claim 1, wherein the inner surface of the flow channel is coated with a fluororesin or vinylidene fluoride.
【請求項9】請求項1〜6において、1個以上の分岐又
は複数の流路、容器部を有することを特徴とする立体流
路部材。
9. A three-dimensional flow path member according to claim 1, comprising one or more branches or a plurality of flow paths and a container portion.
【請求項10】請求項1〜6において、流路の径が2m
m未満もしく流路の断面積が4mm未満であることを
特徴とする立体流路部材。
10. The method according to claim 1, wherein the diameter of the flow path is 2 m.
A three-dimensional flow path member, wherein the cross-sectional area of the flow path is less than 4 m 2 or less than 4 m 2 .
【請求項11】排水システムの排水経路に取り付け可能
な水質計において、該水質計は水導入部と該導入された
水を分析する分析部とが光硬化性樹脂で形成された流路
を有する流路部材で連通され、該流動部材の前記光硬化
性樹脂が(A)一般式[1] 【化3】 [式中、Aは(メタ)アクロイル残基、Rはイソシアネ
‐ト成分残基、Yはジオール成分残基である。]で表さ
れるウレタン系化合物と、(B)光重合性の官能基を有
するイミド系化合物或いはポリイミド前駆体を含むこと
を特徴とする水質計。
11. A water quality meter which can be attached to a drainage path of a drainage system, wherein the water quality meter has a water introduction part and an analysis part for analyzing the introduced water, a flow path formed of a photocurable resin. The photocurable resin of the flow member is communicated by a flow path member, and (A) a general formula [1] [Wherein, A is a (meth) acryloyl residue, R is an isocyanate component residue, and Y is a diol component residue. ] And a (B) imide compound having a photopolymerizable functional group or a polyimide precursor.
【請求項12】請求項11において、前記光硬化性樹脂
は紫外線を用いて硬化して得られる硬化樹脂であること
を特徴とする水質計。
12. A water quality meter according to claim 11, wherein said photocurable resin is a cured resin obtained by curing using ultraviolet rays.
JP2000014251A 2000-01-20 2000-01-20 Photocurable resin and three-dimensional channel member Expired - Lifetime JP3548069B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000014251A JP3548069B2 (en) 2000-01-20 2000-01-20 Photocurable resin and three-dimensional channel member

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000014251A JP3548069B2 (en) 2000-01-20 2000-01-20 Photocurable resin and three-dimensional channel member

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001201500A true JP2001201500A (en) 2001-07-27
JP3548069B2 JP3548069B2 (en) 2004-07-28

Family

ID=18541734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000014251A Expired - Lifetime JP3548069B2 (en) 2000-01-20 2000-01-20 Photocurable resin and three-dimensional channel member

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3548069B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010526978A (en) * 2007-03-30 2010-08-05 コーニング インコーポレイテッド Three-dimensional fine processing burner
JP2015208859A (en) * 2014-04-23 2015-11-24 セイコーエプソン株式会社 Method for manufacturing three-dimensional molded article and three-dimensional molded article
WO2016158468A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 日本電気硝子株式会社 Resin composition for three-dimensional forming
JP2019085523A (en) * 2017-11-09 2019-06-06 株式会社リコー Curable composition, cured product, method for producing cured product and apparatus for producing cured product
WO2019203134A1 (en) * 2018-04-17 2019-10-24 コニカミノルタ株式会社 Polymerizable composition and method for producing three-dimensional modeled object

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010526978A (en) * 2007-03-30 2010-08-05 コーニング インコーポレイテッド Three-dimensional fine processing burner
US8746013B2 (en) 2007-03-30 2014-06-10 Corning Incorporated Three dimensional micro-fabricated burners
JP2015208859A (en) * 2014-04-23 2015-11-24 セイコーエプソン株式会社 Method for manufacturing three-dimensional molded article and three-dimensional molded article
WO2016158468A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 日本電気硝子株式会社 Resin composition for three-dimensional forming
US10954362B2 (en) 2015-03-31 2021-03-23 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Resin composition for three-dimensional forming
JP2019085523A (en) * 2017-11-09 2019-06-06 株式会社リコー Curable composition, cured product, method for producing cured product and apparatus for producing cured product
JP7180068B2 (en) 2017-11-09 2022-11-30 株式会社リコー Curable liquid composition, cured product, method for producing cured product, and apparatus for producing cured product
JP7424434B2 (en) 2017-11-09 2024-01-30 株式会社リコー Curable liquid composition, cured product, and method for producing cured product
WO2019203134A1 (en) * 2018-04-17 2019-10-24 コニカミノルタ株式会社 Polymerizable composition and method for producing three-dimensional modeled object
JPWO2019203134A1 (en) * 2018-04-17 2021-05-20 コニカミノルタ株式会社 Method for producing polymerizable composition and three-dimensional model
JP7163958B2 (en) 2018-04-17 2022-11-01 コニカミノルタ株式会社 Polymerizable composition and method for producing three-dimensional shaped article

Also Published As

Publication number Publication date
JP3548069B2 (en) 2004-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004083855A (en) Fluorene-containing resin
JP4462500B2 (en) Photosensitive resin composition and cured product thereof
KR20140048250A (en) Resin composition for resists
TW200305581A (en) Photocurable compositions containing reactive particles
KR101289598B1 (en) Photocrosslinkable polyurethanes
KR20090038390A (en) Photosensitive, aqueous alkaline solution-soluble polyimide resin and photosensitive resin composition containing the same
JP2525216B2 (en) Resin composition for optical three-dimensional modeling
KR20100139018A (en) Optical imprint method, mold duplicating method, and mold duplicate
JP5449666B2 (en) Alkali-soluble resin and method for producing the same, and photosensitive resin composition, cured product, and color filter using alkali-soluble resin
JPH09194540A (en) Resin composition for forming optical three-dimensional article
EP0307918B1 (en) Resin composition curable with an active energy ray containing epoxy resin containing at least a compound having one or more of epoxy group in the molecule
JP3548069B2 (en) Photocurable resin and three-dimensional channel member
EP0307919B1 (en) Resin composition curable with an active energy ray containing epoxy resin and monomer with ethylenically unsaturated bond
EP0307920B1 (en) Resin composition curable with an active energy ray containing graft copolymerized polymer with trunk chain containing dicyclopentenyl group
EP0307922B1 (en) Resin composition curable with an active energy ray containing half-esterificated epoxy resin as a constituent
JP4033455B2 (en) Photosensitive resin composition and cured product thereof
JP2009186564A (en) Photosensitive resin composition and new acid radical-containing vinyl ester resin
JPS624719A (en) Actinic energy ray-curable resin composition
JP4257780B2 (en) Photosensitive resin composition, cured product thereof, and use thereof
JP4216009B2 (en) Fluorene-containing resin
JP2007219334A (en) Photosensitive resin composition and cured product thereof
JP3356557B2 (en) Optical three-dimensional molding resin composition
EP0307923B1 (en) Resin composition curable with an active energy ray containing half-esterificated epoxy resin and monomer having ethylenically unsaturated bond
KR100971095B1 (en) Epoxy resin composition containing fluorene
JP3593066B2 (en) Photosensitive resin for liquid crystal spacer and photosensitive resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040406

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040415

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3548069

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090423

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090423

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100423

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110423

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120423

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120423

Year of fee payment: 8

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120423

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120423

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term