JP2001199747A - Method for marking glass substrate having color filter and apparatus therefor - Google Patents

Method for marking glass substrate having color filter and apparatus therefor

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JP2001199747A
JP2001199747A JP2000008374A JP2000008374A JP2001199747A JP 2001199747 A JP2001199747 A JP 2001199747A JP 2000008374 A JP2000008374 A JP 2000008374A JP 2000008374 A JP2000008374 A JP 2000008374A JP 2001199747 A JP2001199747 A JP 2001199747A
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JP
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color filter
glass substrate
marking
laser
laser beam
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Application number
JP2000008374A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirotoshi Hayakawa
博敏 早川
Yasushi Yoshida
吉田  康
Hitoshi Wakisako
仁 脇迫
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Japan Science and Technology Agency
Yaskawa Electric Corp
Original Assignee
Yaskawa Electric Corp
Japan Science and Technology Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a marking apparatus and marking method for a glass substrate having a color filter, enabling the recognition code management from the initial stage of the production process, free from the formation of recess, etc., on the glass substrate and the generation of particles such as soot and fine removed material in the formation of the recognition code, forming the recognition code in a short time and enabling the marking at a low cost. SOLUTION: A laser beam LA is applied to a glass substrate having a color filter and composed of a glass plate 1 and a color filter membrane 2 and the relative position between the irradiation position of the laser beam and the glass substrate having the color filter is changed to form a prescribed letter, figure or mark on the glass substrate having the color filter. In the above marking method, the laser beam LA has a wavelength of 500-980 nm and the marking is carried out by melting the color filter membrane 2 by the irradiation of the laser beam to change the surface form of the color filter membrane 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶又はPDP
(プラズマディスプレイ)パネルの構成ガラス基板であ
るカラーフィルタ付ガラス基板に製品管理用2次元コー
ド等のIDマークを形成するマーキング方法および装置
に関するものである。
The present invention relates to a liquid crystal or PDP.
(Plasma display) The present invention relates to a marking method and apparatus for forming an ID mark such as a two-dimensional code for product management on a glass substrate with a color filter which is a glass substrate constituting a panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶又はPDPパネルのカラーフ
ィルタ付ガラスに製品管理用のバーコードまたは2次元
コードをマーキングする方法として特開平11−101
907号公報、特開平09−192875号公報、特開
平10−291840号公報、あるいは特開平11−0
77341号公報に開示された方法があった。特開平0
9−192875号公報に開示された技術は、感光レジ
ストがコーティングされたカラーフィルタ付ガラス基板
に、固有の識別コードパターンをレーザ描画して感光性
レジストの露光を行い、そのあとカラーフィルタ画素領
域のエッチングプロセスと共に識別パターンを形成する
ものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for marking a bar code or a two-dimensional code for product management on a glass with a color filter of a liquid crystal or PDP panel, see Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-101.
907, JP-A-09-192875, JP-A-10-291840, or JP-A-11-0
There is a method disclosed in Japanese Patent No. 77341. JP 0
The technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-192875 discloses a technique in which a unique identification code pattern is laser-drawn on a glass substrate with a color filter coated with a photosensitive resist to expose the photosensitive resist, and thereafter, a color filter pixel area is formed. The identification pattern is formed together with the etching process.

【0003】図9は識別コードの形成プロセスを示すも
のである。図9(1)に示すように、カラーフィルタ付
ガラス基板はガラス基板1とカラーフィルタ膜2からな
り、カラーフィルタ膜2には液晶パネルの画素が形成す
る画素領域(B)と識別コードが形成される非画素領域
(A)とがある。次に、図9(2)に示すように、ガラ
ス基板1のカラーフィルタ膜2には感光性レジスト3が
塗布され、さらに図9(3)に示すように、非画素領域
(A)にはHe−Cdレーザ、アルゴンレーザ等の紫外
線光を発するレーザ(UV−LA)によってバーコー
ド、2次元コード等の識別コードパターンが露光され
る。
FIG. 9 shows a process of forming an identification code. As shown in FIG. 9A, a glass substrate with a color filter includes a glass substrate 1 and a color filter film 2, and a pixel region (B) formed by pixels of a liquid crystal panel and an identification code are formed on the color filter film 2. And a non-pixel area (A). Next, as shown in FIG. 9 (2), a photosensitive resist 3 is applied to the color filter film 2 of the glass substrate 1, and as shown in FIG. 9 (3), the non-pixel region (A) is An identification code pattern such as a barcode or a two-dimensional code is exposed by a laser (UV-LA) that emits ultraviolet light such as a He-Cd laser or an argon laser.

【0004】その後、図9(4)に示すように、感光性
レジスト3が塗布されたカラーフィルタ付ガラス基板は
フォトマスク4を用いた紫外線による照射によって、画
素領域(B)に液晶パネルの画素パターンが露光され
る。感光性レジスト3に識別コード及び画素パターンが
露光されたカラーフィルタ付ガラス基板は、次の図9
(5)に示す現像工程において、露光された部分の感光
性レジストが現像溶液に溶け、識別コードの感光性パタ
ーンCと画素パターンの感光性パターンDが非画素領域
Aと画素領域Bにそれぞれ形成される。感光性レジスト
パターン301が形成されたカラーフィルタ付ガラス基
板はエッチング処理され、さらにレジスト剥離される。
図9(6)に示すように、カラーフィルタ膜2は、感光
性レジストパターン301と同様の識別コードと画素パ
ターンを有するカラーフィルタ膜201となる。
[0004] Thereafter, as shown in FIG. 9 (4), the glass substrate provided with the color filter coated with the photosensitive resist 3 is irradiated with ultraviolet rays using the photomask 4 so that the pixels of the liquid crystal panel are formed in the pixel area (B). The pattern is exposed. The glass substrate with the color filter in which the identification code and the pixel pattern are exposed on the photosensitive resist 3 is shown in FIG.
In the developing step shown in (5), the exposed portion of the photosensitive resist is dissolved in the developing solution, and the photosensitive pattern C of the identification code and the photosensitive pattern D of the pixel pattern are formed in the non-pixel region A and the pixel region B, respectively. Is done. The glass substrate with the color filter on which the photosensitive resist pattern 301 is formed is subjected to an etching treatment, and the resist is further stripped.
As shown in FIG. 9 (6), the color filter film 2 becomes a color filter film 201 having the same identification code and pixel pattern as the photosensitive resist pattern 301.

【0005】以上のように、識別マークは画素パターン
と共に形成され、以後のプロセスでは、かかる識別コー
ドによって製造のプロセス管理、製品管理が行われてい
た。また、特開平09−192875号公報に開示され
た技術では、図10のようにカラーフィルタ付ガラス基
板上のカラーフィルタ膜2の面を下にし、KrF又はA
rFエキシマレーザビームLAを下方からカラーフィル
タ膜2に直接照射し、マーキング等の加工を行うもので
ある。識別コードは、可動ステージやガルバノミラー等
でレーザの照射位置を変えてやれば、比較的容易に形成
できる。このとき、レーザビームLAがカラーフィルタ
膜2に照射されたとき発生する煤や微細な除去物202
は、重力よって下方に落下するか、ガス吸引手段5によ
って集塵されていた。
As described above, the identification mark is formed together with the pixel pattern, and in the subsequent processes, the manufacturing process and the product are managed by the identification code. According to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-192875, the color filter film 2 on a glass substrate with a color filter is turned downward as shown in FIG.
The color filter film 2 is directly irradiated with the rF excimer laser beam LA from below to perform processing such as marking. The identification code can be formed relatively easily by changing the irradiation position of the laser using a movable stage, a galvanometer mirror, or the like. At this time, soot and fine removals 202 generated when the laser beam LA is applied to the color filter film 2
Have fallen downward due to gravity or have been collected by the gas suction means 5.

【0006】以上のようなマーキング構成で、KrF又
はArFエキシマレーザをカラーフィルタ膜に直接照射
することで識別コードを形成することができた。また、
特開平10−291840号公報に開示されている技術
では、ガラスの表面に炭酸ガスレーザを照射し、刻印部
分に刻印される線幅を越えるようなクラックが発生しな
い強度に調整された炭酸ガスレーザを複数回繰り返し走
査するものであった。カラーフィルタ付ガラス基板に対
しては、同様の手法でカラーフィルタ膜のないガラス面
に炭酸ガスレーザを直接照射し、2次元コード等の識別
コード等をマーキングすることができた。
With the above-described marking configuration, an identification code can be formed by directly irradiating a color filter film with a KrF or ArF excimer laser. Also,
In the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-291840, a carbon dioxide laser is irradiated onto the surface of glass, and a plurality of carbon dioxide lasers adjusted to have an intensity that does not cause cracks exceeding the line width imprinted on the engraved portion are provided. It was to scan repeatedly. On a glass substrate with a color filter, a glass surface without a color filter film was directly irradiated with a carbon dioxide gas laser in the same manner to mark an identification code such as a two-dimensional code.

【0007】さらに、特開平11−077341号公報
に開示されている技術では、レーザマーキング用転写板
を利用し、ガラスに金属等の膜からなる識別コードを形
成するものである。図11はそのマーキング方法の過程
を示したもので、クロム薄膜等の金属膜601とガラス
等のレーザ透過体602からなるレーザマーキング用転
写板6を、カラーフィルタ付ガラス基板を構成するガラ
ス基板1のカラーフィルタ膜2が形成されていない面に
密着若しくは近接させ、レーザマーキング用転写板の背
後からYAGレーザYLAを照射し、レーザマーキング
用転写板の金属膜601を加熱し、これを瞬時に蒸発乃
至昇華させることにより、レーザマーキング用転写板6
上の金属膜をマーキング対象となるガラス基板1の表面
に所望のマーキング形状で転写させるものである。
Further, in the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-077341, an identification code made of a film of metal or the like is formed on glass using a transfer plate for laser marking. FIG. 11 shows a process of the marking method, in which a laser marking transfer plate 6 including a metal film 601 such as a chromium thin film and a laser transmitting body 602 such as glass is attached to a glass substrate 1 constituting a glass substrate with a color filter. The YAG laser YLA is irradiated from the back of the transfer plate for laser marking, and the metal film 601 of the transfer plate for laser marking is heated and instantaneously evaporated. Or sublimation, the transfer plate 6 for laser marking
The upper metal film is transferred in a desired marking shape onto the surface of the glass substrate 1 to be marked.

【0008】YAGレーザYLAは、図示していないガ
ルバノミラーとその制御装置等によって任意の軌跡を描
くよう制御され、マーキング形状を所望の識別コードに
形成できるものである。レーザマーキング用転写板をカ
ラーフィルタ付ガラス基板1から離すと、カラス基板1
には2次元コード等の識別コード形状のマーク603が
ガラス基板1の表面に形成されるものである。以上のよ
うに、カラーフィルタ付ガラス基板へ識別コードを形成
する技術として、感光性レジストを露光させる方法、カ
ラーフィルタ膜をエキシマレーザ加工する方法、炭酸ガ
スレーザをガラス面に繰り返し照射する方法、レーザマ
ーキング用転写板で転写マーキングする方法という代表
的な4つの方法があった。
The YAG laser YLA is controlled by a galvanomirror (not shown) and its control device to draw an arbitrary trajectory, and can form a marking shape into a desired identification code. When the transfer plate for laser marking is separated from the glass substrate 1 with a color filter, the crow substrate 1
The mark 603 in the shape of an identification code such as a two-dimensional code is formed on the surface of the glass substrate 1. As described above, techniques for forming an identification code on a glass substrate with a color filter include a method of exposing a photosensitive resist, a method of excimer laser processing of a color filter film, a method of repeatedly irradiating a glass surface with a carbon dioxide laser, and a method of laser marking. There are four typical methods of performing transfer marking with a transfer plate for use.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述
の、感光性レジストを露光させる方法では、次のような
問題点があった。 (1)識別コードと画素パターンを同時に現像、エッチ
ング、レジスト剥離を行うものであるために、画素パタ
ーンの現像及びエッチング工程を過ぎた後でなければ識
別マークがカラーフィルタ付ガラス基板に実際に存在し
ない。このため、感光性レジスト塗布工程におけるレジ
スト温度、スピン−回転数の製造管理、画素パターン露
光工程における露光量若しくは露光時間の製造管理、現
像工程における現像液温度、現像時間の製造管理、エッ
チング工程エッチャント温度および濃度、エッチング時
間の製造管理ができない。すなわち、レジスト塗布工
程、露光工程、現像工程並びにエッチング工程の製造管
理項目については、識別コードによる管理ができない。
However, the above-described method of exposing a photosensitive resist has the following problems. (1) Since the identification code and the pixel pattern are simultaneously developed, etched, and stripped of the resist, the identification mark actually exists on the glass substrate with the color filter only after the development and etching steps of the pixel pattern. do not do. Therefore, manufacturing control of the resist temperature and spin-rotation speed in the photosensitive resist coating process, manufacturing control of the exposure amount or exposure time in the pixel pattern exposure process, manufacturing control of the developing solution temperature and developing time in the developing process, etching process etchant Production control of temperature, concentration, and etching time cannot be performed. That is, the production control items of the resist coating step, the exposure step, the development step, and the etching step cannot be managed by the identification code.

【0010】また、特開平09−192875号公報に
開示された、カラーフィルタ膜をエキシマレーザ加工す
る方法は、発生する微細な除去物を完全に除去すること
が不可能であるため、次のような問題点があった。 (1)一般に、液晶パネル、PDPパネルは、フォトリ
ソグラフィ等の微細加工プロセスで作製されるためクリ
ーンルーム中で製造されるが、当該方法のように仮にガ
ス吸引手段を使用しても、識別コードの作成中にはパー
ティクルが発生し、クリームルームのクリーン度を低下
させ、最悪液晶パネル、PDPパネルの歩留まりの悪化
を招くことがある。 (2)さらに、当該方法では、ガス吸引手段によって発
生する微細除去物を完全に取り除くことができず、カラ
ーフィルタ付ガラス基板の上に微細除去物が残存するこ
とがある。特に、パターン幅の微細な液晶パネルライン
では、この影響は大きく、歩留まり低下の大きな要因の
ひとつである。 (3)当該方法では、ガラス基板に窪みを形成するた
め、ガラス基板の曲げ強度を低下させることがある。
Further, the method of excimer laser processing of a color filter film disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-192875 cannot completely remove fine removals generated. There were serious problems. (1) In general, a liquid crystal panel and a PDP panel are manufactured in a clean room because they are manufactured by a microfabrication process such as photolithography. Particles are generated during the production, which may lower the cleanliness of the cream room, and may worsen the yield of the liquid crystal panel and the PDP panel in the worst case. (2) Further, in the method, the finely removed matter generated by the gas suction means cannot be completely removed, and the finely removed matter may remain on the glass substrate with the color filter. Particularly, in a liquid crystal panel line having a fine pattern width, this effect is large, and is one of the major factors for lowering the yield. (3) In the method, since a depression is formed in the glass substrate, the bending strength of the glass substrate may be reduced.

【0011】また、特開平10−291840号公報に
開示された、炭酸ガスレーザをガラス面に繰り返し照射
する方法では、次のような問題点があった。 (1)識別コード等を形成する場合少なくとも10回程
度の上書きをする必要がある。したがって、一回のレー
ザビーム照射で識別コードを形成する場合に比べ、その
マーキング時間は10倍になる。液晶パネルラインに使
用される2次元コードは約20×20セグメント程度の
コードを使用することが多く、2次元コードを1回分走
査する時間は約3〜5を要する。よって、当該方法で
は、2次元コード10回分のレーザビーム走査が必要な
ため30〜50秒の作製時間が必要であった。 (2)また、本方法もガラス基板に窪みを形成するた
め、ガラス基板の曲げ強度を低下させることがあった。
The method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-291840, in which a glass surface is repeatedly irradiated with a carbon dioxide laser, has the following problems. (1) When forming an identification code or the like, it is necessary to overwrite at least about 10 times. Therefore, the marking time is ten times longer than when the identification code is formed by one laser beam irradiation. As a two-dimensional code used for a liquid crystal panel line, a code of about 20 × 20 segments is often used, and it takes about 3 to 5 times to scan the two-dimensional code for one time. Therefore, in this method, a laser beam scanning for ten times of the two-dimensional code is required, and thus a manufacturing time of 30 to 50 seconds is required. (2) In addition, this method also has a case where the bending strength of the glass substrate is reduced because a depression is formed in the glass substrate.

【0012】さらに、特開平11−077341号公報
に開示されている、レーザマーキング用転写板で転写マ
ーキングする方法では、次のような問題点があった。 (1)煤の発生が少ないマーキング方法ではあるが、発
生するパーティクルを完全に除去できないため微細配線
を使用する液晶パネルのカラーフィルタ付ガラス基板へ
は使用することができない。 (2)本方法で使用するレーザマーキング用転写板はガ
ラス基板にクロム膜を蒸着したものが使われ、価格が高
いためマーキングコストが高くなる。例をあげれば、バ
ーコードを形成する場合そのコストは、本従来技術が約
100円で、感光性レジストを露光させる方法が約5
円、カラーフィルタ膜をエキシマレーザ加工する方法が
約5円、炭酸ガスレーザをガラス面に繰り返し照射する
方法が約3円であった。すなわち、他のマーキング方法
に比べ、20倍以上コスト高となっていた。
Further, the method of transfer marking with a transfer plate for laser marking disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-077341 has the following problems. (1) Although it is a marking method in which the generation of soot is small, it cannot be used for a glass substrate with a color filter of a liquid crystal panel using fine wiring because generated particles cannot be completely removed. (2) The transfer plate for laser marking used in the present method uses a chromium film deposited on a glass substrate, and the marking cost is high due to its high price. For example, the cost of forming a barcode is about 100 yen for the conventional technique, and about 5 yen for the method of exposing a photosensitive resist.
The method of excimer laser processing of the color filter film was about 5 yen, and the method of repeatedly irradiating the glass surface with a carbon dioxide laser was about 3 yen. That is, the cost was more than 20 times higher than other marking methods.

【0013】本発明は、上述した従来のマーキング手法
の問題点を解決するものであり、製造プロセス初期から
識別コード管理ができ、識別コード形成時に煤、微細な
除去物等のパーティクルを発生させることがなく、ガラ
ス基板に窪み等を形成することがなく、しかも識別コー
ド形成時間が短く、さらに低コストでマーキングできる
カラーフィルタ付ガラス基板のマーキング装置およびマ
ーキング方法を提供することを目的とするものである。
The present invention solves the above-mentioned problems of the conventional marking method, and can manage an identification code from an early stage of a manufacturing process, and generate particles such as soot and finely removed matter at the time of forming the identification code. It is an object of the present invention to provide a marking device and a marking method for a glass substrate with a color filter, which does not form dents or the like on a glass substrate, has a short identification code formation time, and can be marked at a low cost. is there.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】そこで本発明のカラーフ
ィルタ付ガラス基板のマーキング方法は、レーザビーム
をガラス板及びカラーフィルタ膜からなるカラーフィル
タ付ガラス基板に照射し、レーザビームの照射位置と前
記カラーフィルタ付ガラス基板との相対位置を変え、前
記カラーフィルタ付ガラス基板に所定の文字、図形若し
くは記号を形成するマーキング方法において、前記レー
ザビームの波長を500〜980nmとし、かつ前記カ
ラーフィルタ膜を前記レーザビームの照射により溶融し
前記カラーフィルタ膜の表面形状を変化させてマーキン
グするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, a method of marking a glass substrate with a color filter according to the present invention is to irradiate a laser beam to a glass substrate with a color filter comprising a glass plate and a color filter film. In a marking method for changing a relative position with respect to a glass substrate with a color filter and forming a predetermined character, figure or symbol on the glass substrate with a color filter, the wavelength of the laser beam is set to 500 to 980 nm, and the color filter film is formed. The marking is performed by melting by irradiation of the laser beam and changing the surface shape of the color filter film.

【0015】これにより、製造プロセス初期から識別コ
ード管理ができ、識別コード形成時に煤、微細な除去物
等のパーティクルを発生させることがなく、ガラス基板
に窪み等を形成することがなく、しかも識別コード形成
時間が短く、さらに低コストでマーキングできる。ま
た、レーザビームの光源であるレーザ発振器を半導体レ
ーザとすることにより、製造プロセス初期から識別コー
ド管理ができ、識別コード形成時に煤、微細な除去物等
のパーティクルを発生させることがなく、ガラス基板に
窪み等を形成することがなく、しかも識別コード形成時
間が短く、さらに低コストでマーキングできる。前記文
字、図形若しくは記号をマトリックス型2次元コードと
することにより、識別コード形成時に煤、微細な除去物
等のパーティクルを発生させることがないため2次元コ
ード等の微細識別コードのマーキング方法に有効であ
る。前記カラーフィルタ膜をアクリル系樹脂、ポリイミ
ド系樹脂とすることにより、特に、識別コード形成時に
煤、微細な除去物等のパーティクル発生の低減に有効で
ある。
Thus, the identification code can be managed from the beginning of the manufacturing process, so that particles such as soot and finely removed matter are not generated at the time of formation of the identification code, and no depression or the like is formed on the glass substrate, and the identification code is not formed. The code forming time is short, and marking can be performed at low cost. In addition, by using a semiconductor laser as the laser oscillator, which is the light source of the laser beam, the identification code can be managed from the beginning of the manufacturing process, so that particles such as soot and fine removal are not generated when the identification code is formed, and the glass substrate is not generated. No markings or the like are formed, and the identification code forming time is short, so that marking can be performed at low cost. By forming the characters, figures or symbols into a matrix type two-dimensional code, particles such as soot and finely removed matter are not generated at the time of forming the identification code, which is effective for a method of marking a fine identification code such as a two-dimensional code. It is. By using an acrylic resin or a polyimide resin for the color filter film, it is particularly effective in reducing the generation of particles such as soot and finely removed matter when forming the identification code.

【0016】また、本発明のカラーフィルタ付ガラス基
板のマーキング装置は、レーザビームを発するレーザ発
振器と、レーザビームを走査するスキャナーと、レーザ
ビームを集光するFθ集光レンズとからなるレーザマー
キング装置と、ガラス板及びカラーフィルタ膜からなる
カラーフィルタ付ガラス基板を搬送する搬送機構と前記
カラーフィルタ付ガラス基板を所定の位置に位置決めす
る位置決め機構とからなる搬送装置とによって前記カラ
ーフィルタ付ガラス基板の所定の位置にレーザビームを
照射してカラーフィルタ付ガラス基板上に文字、図形、
若しくは記号からなるマークを形成するカラーフィルタ
付ガラス基板のマーキング装置において、前記レーザ発
振器を、レーザの波長が500〜980nmの光を出射
する半導体レーザとしたものである。これにより、製造
プロセス初期から識別コード管理ができ、識別コード形
成時に煤、微細な除去物等のパーティクルを発生させる
ことがなく、ガラス基板に窪み等を形成することがな
く、しかも識別コード形成時間が短く、さらに低コスト
でマーキングすることができる。
A marking apparatus for a glass substrate with a color filter according to the present invention is a laser marking apparatus comprising a laser oscillator for emitting a laser beam, a scanner for scanning the laser beam, and an Fθ condensing lens for condensing the laser beam. A transfer mechanism comprising a transfer mechanism for transferring a glass substrate with a color filter comprising a glass plate and a color filter film and a positioning mechanism for positioning the glass substrate with a color filter at a predetermined position; By irradiating a laser beam to a predetermined position, characters, figures,
Alternatively, in the apparatus for marking a glass substrate with a color filter for forming a mark composed of a symbol, the laser oscillator is a semiconductor laser that emits light having a laser wavelength of 500 to 980 nm. As a result, the identification code can be managed from the beginning of the manufacturing process, so that particles such as soot and finely removed matter are not generated at the time of forming the identification code, no dents or the like are formed on the glass substrate, and the identification code formation time is reduced. , And can be marked at a lower cost.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
に示す実施例および実施結果に基づいて詳細に説明す
る。図1は、本発明の実施例の構成を示すものである。
図1に示される7は半導体レーザで波長808nmのレ
ーザビームLAを発する。レーザビームLAは、コリメ
ータレンズ8によって平行光となり、ミラー91及びミ
ラー92によって反射し、スキャナモータ12aおよび
12b、並びにスキャナミラー13aおよび13bから
構成されるガルバノスキャナに導入される。さらに、ガ
ルバノスキャナから出たレーザビームLAは、Fθ集光
レンズ14によって集光され、カラーフィルタ付ガラス
基板のアクリル系樹脂からなるカラーフィルタ膜2を照
射する。スキャナモータ12aおよび12bは、図示し
ていないスキャナモータドライバによって予め決められ
た回転角に順次回転し、同時にスキャナミラー13aお
よび13bが回転する。その結果、カラーフィルタ膜2
上で集光されたレーザビームがx方向、y方向に走査さ
れる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the examples and the results shown in the drawings. FIG. 1 shows the configuration of an embodiment of the present invention.
Reference numeral 7 shown in FIG. 1 denotes a semiconductor laser which emits a laser beam LA having a wavelength of 808 nm. The laser beam LA is converted into parallel light by the collimator lens 8, reflected by the mirrors 91 and 92, and introduced into a galvano scanner including the scanner motors 12a and 12b and the scanner mirrors 13a and 13b. Further, the laser beam LA emitted from the galvano scanner is condensed by the Fθ condensing lens 14 and irradiates the color filter film 2 made of an acrylic resin on a glass substrate with a color filter. The scanner motors 12a and 12b sequentially rotate at a predetermined rotation angle by a scanner motor driver (not shown), and simultaneously the scanner mirrors 13a and 13b rotate. As a result, the color filter film 2
The laser beam focused above is scanned in the x and y directions.

【0018】なお、本実施例では、レーザビームの照射
位置とカラーフィルタ付ガラス基板(カラーフィルタ膜
2及びガラス基板1)との相対位置を変える手段として
ガルバノスキャナを使用したが、レーザビームLAを固
定しカラーフィルタ付ガラス基板をXYテーブル等に取
り付け、XYテーブルを移動させ、レーザビームの照射
位置とカラーフィルタ付ガラス基板との相対位置を変え
ても良い。本実施例でQRコード、データコード、ベリ
コード等の2次元コードとなるようにレーザビームLA
をスキャニングすると、2次元コードのセグメントは、
凹型形状の窪みとしてカラーフィルタ膜2上に形成され
る。なお、図1の10はミラー91からの漏れ光を検知
してレーザビームLAのパワーをセンシングするレーザ
パワー検知ヘッド、また、11はカラーフィルタ膜上の
マーキング位置を目視で確認するためのマーカ用レーザ
(波長680nm)である。
In this embodiment, a galvano scanner is used as a means for changing the relative position between the irradiation position of the laser beam and the glass substrate with the color filter (the color filter film 2 and the glass substrate 1). The glass substrate with the color filter may be fixed and attached to an XY table or the like, and the XY table may be moved to change the relative position between the irradiation position of the laser beam and the glass substrate with the color filter. In this embodiment, the laser beam LA is converted to a two-dimensional code such as a QR code, a data code, and a vericode.
Is scanned, the two-dimensional code segment becomes
It is formed on the color filter film 2 as a concave depression. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a laser power detection head that detects light leaked from the mirror 91 to sense the power of the laser beam LA. Reference numeral 11 denotes a marker for visually confirming a marking position on the color filter film. It is a laser (wavelength 680 nm).

【0019】かかる実施例のマーキング構成において、
カラーフィルタ膜上の2次元コードは、従来のマーキン
グ方法では達成し得ない格別のマーキング状態を供与で
きることを見いだした。図2は、半導体レーザをパワー
2WのCW出力で約0.01秒照射して2次元コードの
セグメントに相当するドットを形成したときのマーキン
グ形状を表面粗さ計で測定した結果である。ドットはレ
ーザの中心部分に相当する部分で窪みが生じ、またレー
ザビームのスポット径の外周部で凸状に盛り上がる。
In the marking configuration of this embodiment,
It has been found that a two-dimensional code on a color filter film can provide a special marking state that cannot be achieved by conventional marking methods. FIG. 2 shows the result of measuring the marking shape obtained by irradiating the semiconductor laser with a CW output of power of 2 W for about 0.01 second to form a dot corresponding to a segment of a two-dimensional code using a surface roughness meter. The dot has a dent at a portion corresponding to the center portion of the laser, and the dot rises in a convex shape at the outer peripheral portion of the spot diameter of the laser beam.

【0020】図3は2次元コードを認識するための反射
照明リーダの構成図であり、図中21はCCDカメラ、
22は照明、23は照明22からの光の一部を透過する
開口を設けたアパチャ、24は光を平行光に集光するレ
ンズ、25はレンズ24とカラーフィルタ付ガラス基板
1との間に設けたハーフミラーであり、カラーフィルタ
付ガラス基板1から反射した光は、ハーフミラー25で
反射して、CCDカメラ21により観察される。前記の
実施例で形成された形状のドットを図3に示す反射照明
を有するCCDカメラ21で見ると、図4のようにレー
ザの熱影響を受けていない領域(非熱影響部A)では、
反射光によって白く見え、また凸部の頂上で同様に白く
見える。それ以外の部分は光が反射されにくくなるため
黒く見える。すなわち、黒円形状内に白いリングBを有
するドットマークとなる。このドットマークで形成され
たデータコードは図5のようになり、コードリーダで十
分認識できるものである。
FIG. 3 is a block diagram of a reflection illumination reader for recognizing a two-dimensional code. In FIG.
22 is an illumination, 23 is an aperture provided with an opening for transmitting a part of the light from the illumination 22, 24 is a lens for condensing the light into parallel light, 25 is between the lens 24 and the glass substrate 1 with a color filter. The light reflected from the glass substrate 1 with the color filter is reflected by the half mirror 25 and is observed by the CCD camera 21. When the dots of the shape formed in the above embodiment are viewed by the CCD camera 21 having the reflection illumination shown in FIG. 3, in the area not affected by the heat of the laser as shown in FIG.
It looks white due to the reflected light and also looks white at the top of the protrusion. Other portions appear black because light is less likely to be reflected. That is, the dot mark has a white ring B within a black circle. The data code formed by the dot marks is as shown in FIG. 5 and can be sufficiently recognized by a code reader.

【0021】さらに本実施例に示すドットマークは、従
来技術で問題となっていた粉塵を全く発しないことがわ
かった。これは、除塵手段を使用せずデータコードを作
成し、その直後、フィールドエミッション型走査電子顕
微鏡によってカラーフィルタ膜の表面を観察したが、レ
ーザマーキングによる発塵は全く確認できなかった。本
実施例のマーキングがなぜ発塵を生じないかという理由
は定かでないが、カラーフィルタ膜はレーザの照射で溶
融状態を保ちながらレーザビームの照射による圧力によ
って溶融部分が押し広げられ、図2のようなマーキング
形状になるものと推測される。また、半導体レーザのガ
ラス基板への影響が懸念されるが、波長808nmのレ
ーザビームはガラス基板にほとんど吸収されないので、
ガラス基板にクラック等の損傷を与えることはない。
Further, it has been found that the dot marks shown in the present embodiment do not emit any dust which has been a problem in the prior art. In this method, a data code was created without using dust removing means, and immediately thereafter, the surface of the color filter film was observed with a field emission scanning electron microscope. However, no dust was generated by laser marking. The reason why the marking of this embodiment does not generate dust is not clear, but the molten portion is expanded by the pressure of the laser beam irradiation while the color filter film maintains the molten state by the laser irradiation, and FIG. It is assumed that such a marking shape is obtained. In addition, there is a concern that the semiconductor laser may affect the glass substrate. However, since the laser beam having a wavelength of 808 nm is hardly absorbed by the glass substrate,
There is no damage such as cracks on the glass substrate.

【0022】以上のように本発明のマーキング方法は、
発塵が全くないため従来技術で問題となっていたクリー
ムルーム内のクリーン度の低下、液晶パネルの製造歩留
まりの低下がない。また、ガラス基板を加工することが
ないのでガラス基板の曲げ強度の低下がない。また、カ
ラーフィルタ膜に直接マーキングできるので、画素パタ
ーンの露光工程の前に識別コード形成が可能になり製造
初期から各カラーフィルタ付ガラス基板の製造管理がで
きる。
As described above, the marking method of the present invention
Since there is no generation of dust, there is no reduction in cleanliness in the cream room and no reduction in the production yield of the liquid crystal panel, which are problems in the prior art. Further, since the glass substrate is not processed, there is no decrease in bending strength of the glass substrate. In addition, since the marking can be directly performed on the color filter film, the identification code can be formed before the exposure step of the pixel pattern, and the production control of the glass substrate with each color filter can be performed from the initial stage of the production.

【0023】また、カラーフィルタ膜は短時間のレーザ
ビーム照射で形成できるため、従来技術(特開平10−
291840号公報)のように上書きする必要がなく、
短時間で識別コードを形成できる。さらに、転写板等を
使う必要がないので、マーキングコストはレーザのラン
ニングコストだけとなり極めて低コストとなる。本実施
形態では、データコードを例に取り上げたが、マークす
るものは英数字など文字、会社のロゴマーク、商標マー
クおよびバーコードを含む識別コード等の図形、記号で
も良い。
Further, since the color filter film can be formed by irradiating a laser beam for a short time, a conventional technique (Japanese Patent Laid-Open No.
291840), there is no need to overwrite.
An identification code can be formed in a short time. Further, since there is no need to use a transfer plate or the like, the marking cost is only the running cost of the laser, which is extremely low. In the present embodiment, the data code is taken as an example, but the mark may be a character such as an alphanumeric character, a figure such as an identification code including a company logo mark, a trademark mark and a bar code, or a symbol.

【0024】上記の本実施例では、半導体レーザの波長
は808nmのものを使用したが、780nm、820
nm、970nmの半導体レーザを使用しても同様なセ
グメント形状を持つデータコードを形成できた。また、
YAGレーザの1/2波長レーザ(SHG−YAGレー
ザ)でも同様にデータコードを形成できた。
In this embodiment, the wavelength of the semiconductor laser is 808 nm.
A data code having a similar segment shape could be formed by using a semiconductor laser of 970 nm and 970 nm. Also,
Similarly, a data code could be formed with a half-wavelength laser (SHG-YAG laser) of a YAG laser.

【0025】本発明のマーキング方法は、レーザビーム
をカラーフィルタ膜に照射したとき煤の発生がなく、か
つ、ガラス基板を加工しなければよいので、ガラス基板
を加工しない下限付近の波長500nm以上から、有機
物であるカラーフィルタ膜から煤が発生しない波長98
0nm以下程度の範囲であればよいと考えられる。現
在、この波長に相当する比較的高出力のレーザは半導体
レーザとSHG−YAGレーザしかないが、将来発明、
発見されるであろう波長500〜980nmを有するハ
イパワーレーザが使用できることは明らかである。
According to the marking method of the present invention, since no soot is generated when the laser beam is irradiated on the color filter film and the glass substrate is not processed, a wavelength of 500 nm or more near the lower limit where the glass substrate is not processed. A wavelength 98 at which soot is not generated from the color filter film which is an organic substance.
It is considered that the range is about 0 nm or less. At present, the only relatively high-power lasers corresponding to this wavelength are semiconductor lasers and SHG-YAG lasers, but in the future,
Obviously, high power lasers with wavelengths between 500 and 980 nm that would be found can be used.

【0026】上記実施例では、データコードを対象にし
た実施形態を示したが、文字、図形若しくは記号がマト
リックス型2次元コードであると特に有効であることを
以下に述べる。
In the above embodiment, an embodiment in which a data code is used has been described. However, it will be described below that a character, a graphic or a symbol is particularly effective when it is a matrix type two-dimensional code.

【0027】上述したとおり、前記4つの従来方法でマ
ーキングした場合、いくつかの問題がある。この他に、
カラーフィルタ付ガラス基板に汎用のYAGレーザでマ
トリックス型2次元コードを形成すると、除去物がカラ
ーフィルタ付ガラス基板に残存し、歩留まりの低下を招
く。図6は、YAGレーザ(波長:1064nm)を直
接カラーフィルタ膜に照射して形成したデータコードの
写真である。写真からわかるように、コードのコントラ
ストは問題ないものの、左図に示す拡大写真のようにY
AGレーザでは、周囲に多数のパーティクルが飛散して
いた。このパーティクルは歩留まりを低下させる問題の
ほか、リーダで読みとるとき光を散乱させるため、パー
ティクルの存在位置によっては本来黒であるセグメント
を白セグメントと判断することがある。この影響は、マ
トリックス型2次元コードのセグメントが小さくなるほ
ど影響が大きく、YAGレーザによるカラーフィルタ膜
へのマトリックス型2次元コード形成は適用できなかっ
た。
As described above, there are some problems when the marking is performed by the above four conventional methods. In addition,
When a matrix type two-dimensional code is formed on a glass substrate with a color filter using a general-purpose YAG laser, the removed material remains on the glass substrate with a color filter, which causes a reduction in yield. FIG. 6 is a photograph of a data code formed by directly irradiating a color filter film with a YAG laser (wavelength: 1064 nm). As can be seen from the picture, the contrast of the code is not a problem, but as shown in the enlarged picture on the left, Y
In the AG laser, many particles scattered around. In addition to the problem of decreasing the yield, the particles scatter light when read by a reader. Therefore, a segment that is originally black may be determined as a white segment depending on the location of the particles. This effect is larger as the segment of the matrix type two-dimensional code becomes smaller, and the formation of the matrix type two-dimensional code on the color filter film by the YAG laser cannot be applied.

【0028】しかし、本発明の半導体レーザによるマー
キング方法は、カラーフィルタ膜を溶融しパーティクル
を発生させないため、微小なマトリックス型2次元コー
ドの形成に特に有効である。さらに、製造プロセス初期
から識別コード管理ができ、ガラス基板に窪み等を形成
することがなく、しかも識別コード形成時間が短く、さ
らに低コストでマーキングできる。
However, the marking method using a semiconductor laser according to the present invention is particularly effective for forming a fine matrix type two-dimensional code because the color filter film is melted and particles are not generated. Further, the identification code can be managed from the beginning of the manufacturing process, and no depression or the like is formed on the glass substrate. Further, the identification code formation time is short, and marking can be performed at a low cost.

【0029】また、本実施例では、カラーフィルタ付ガ
ラス基板のカラーフィルタ膜にアクリル樹脂を使用した
が、古い液晶プロセスではブラックマトリックス(B
M)にクロム膜を使ったものもある。このようなクロム
膜に半導体レーザを照射すると、本実施例とは違ったマ
ーキング形状となり、クロム膜では半導体レーザの熱に
より昇華し除去される。しかし、1ミクロン以下のパー
ティクルが発生し、カラーフィルタ付ガラス基板に残存
した。この場合、パーティクルサイズが小さいため液晶
パターンの線幅が10ミクロン以上では使用できるが、
パターン線幅が10ミクロン以上液晶パネル工程では適
用が難しくなる。
In this embodiment, the acrylic resin is used for the color filter film of the glass substrate with the color filter. However, the black matrix (B
M) also uses a chromium film. When such a chromium film is irradiated with a semiconductor laser, a marking shape different from that of the present embodiment is obtained, and the chromium film is sublimated and removed by the heat of the semiconductor laser. However, particles of 1 micron or less were generated and remained on the glass substrate with a color filter. In this case, although the particle size is small, it can be used when the line width of the liquid crystal pattern is 10 microns or more.
In a liquid crystal panel process having a pattern line width of 10 microns or more, application becomes difficult.

【0030】よって、本発明のマーキング方法は、カラ
ーフィルタ膜がアクリル樹脂等からなるカラーフィルタ
付ガラス基板に対して極めて有効である。また、アクリ
ル樹脂系カラーフィルタ膜の代わりにポリイミド系樹脂
カラーフィルタ膜を使用したカラーフィルタ付ガラス基
板に対しても同様のマーキングが可能であることが、実
施結果から明らかとなった。つまり、本発明はカラーフ
ィルタ膜が樹脂系の場合、識別コード形成時に煤、パー
ティクルの低減に有効である。
Therefore, the marking method of the present invention is extremely effective for a glass substrate with a color filter whose color filter film is made of an acrylic resin or the like. Further, it has been clarified from the results of the experiments that the same marking can be performed on a glass substrate with a color filter using a polyimide resin color filter film instead of the acrylic resin color filter film. That is, the present invention is effective in reducing soot and particles when forming an identification code when the color filter film is made of a resin.

【0031】本発明に係るマーキング装置は、本発明の
マーキング方法を実現するためのカラーフィルタ付ガラ
ス基板のマーキング装置であり、図7に示すように、レ
ーザ部の構成は図1に示した構成とほぼ同じ構成であ
る。図7のようにコリメートレンズによって平行にされ
たレーザビームは、コールドミラー93を通過してガル
バノスキャナから構成されるスキャニング機構に導入さ
れる。コールドミラー93は、ミラー面に垂直な808
nmの光を通過させ、ミラー面から45゜に入射する6
80nmの光は反射する性質を有する。また、カラーフ
ィルタ付ガラス基板のマーキング装置は、コロ15と架
台150から構成される搬送機構16と、カラーフィル
タ付ガラス基板を所定の位置に位置決めする図示してい
ない位置決め機構からなる搬送装置を有する。
The marking device according to the present invention is a marking device for a glass substrate with a color filter for realizing the marking method of the present invention. As shown in FIG. 7, the configuration of the laser unit is the same as that shown in FIG. It is almost the same configuration as. The laser beam collimated by the collimator lens as shown in FIG. 7 passes through a cold mirror 93 and is introduced into a scanning mechanism including a galvano scanner. The cold mirror 93 is 808 perpendicular to the mirror surface.
pass through the mirror surface and enter at 45 ° from the mirror surface.
80 nm light has the property of being reflected. Further, the marking device for a glass substrate with a color filter has a transport mechanism 16 including a roller 15 and a gantry 150, and a transport device including a positioning mechanism (not shown) for positioning the glass substrate with a color filter at a predetermined position. .

【0032】図8は位置決め機構の断面図で、コロ15
のころがりで搬送されてきたガラス基板1とカラーフィ
ルタ膜2とからなるカラーフィルタ付ガラス基板は、上
下方向に可動する固定ピン17によって停止し、同時に
コロのころがり動作を停止する。続いて、可動ピン18
を動作させ、カラーフィルタ付ガラス基板を固定ピン1
7に押し付ける。固定ピン及び可動ピンはX方向、Y方
向にそれぞれ1セット設置される。カラーフィルタ付ガ
ラス基板の位置決めが完了すると、レーザが出射され、
所定のデータコード等の識別コードがカラーフィルタ膜
に形成される。識別コードのマーキングが完了すると、
固定ピン17が下方に下がり、コロ15が回転してカラ
ーフィルタ付ガラス基板は次のレジスト塗布プロセスに
流れて行く。
FIG. 8 is a sectional view of the positioning mechanism.
The glass substrate 1 with the color filter, which is made up of the glass substrate 1 and the color filter film 2 that has been conveyed by rolling, is stopped by the vertically movable fixing pins 17 and at the same time stops the roller rolling operation. Subsequently, the movable pin 18
To fix the glass substrate with color filter
Press on 7. One set of the fixed pin and the movable pin is installed in each of the X direction and the Y direction. When the positioning of the glass substrate with the color filter is completed, the laser is emitted,
An identification code such as a predetermined data code is formed on the color filter film. When the identification code marking is completed,
The fixing pins 17 are lowered, and the rollers 15 rotate, and the glass substrate with the color filter flows to the next resist coating process.

【0033】本実施例のカラーフィルタ付ガラス基板の
マーキング装置によれば、上記マーキング方法で高品位
で、しかも、発塵が全くないためクリームルーム内のク
リーン度の低下、液晶パネルの製造歩留まりの低下がな
い。また、ガラス基板を加工することがないのでガラス
基板の曲げ強度の低下がない。また、カラーフィルタ膜
に直接マーキングできるので、画素パターンの露光工程
の前に識別コード形成が可能になり製造初期から各カラ
ーフィルタ付ガラス基板の製造管理ができる。また、カ
ラーフィルタ膜は短時間のレーザビーム照射で形成でき
るため、従来技術(特開平10−291840号公報)
のように上書きする必要がなく、短時間で識別コードを
形成できる。さらに、転写板等を使う必要がないので、
マーキングコストはレーザのランニングコストだけとな
り極めて低コストとなる。
According to the apparatus for marking a glass substrate with a color filter of the present embodiment, the above marking method is of high quality and has no dust, so that the cleanliness in the cream room is reduced and the production yield of the liquid crystal panel is reduced. There is no drop. Further, since the glass substrate is not processed, there is no decrease in bending strength of the glass substrate. In addition, since the marking can be directly performed on the color filter film, the identification code can be formed before the exposure step of the pixel pattern, and the production control of the glass substrate with each color filter can be performed from the initial stage of the production. Further, since the color filter film can be formed by short-time laser beam irradiation, the related art (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-291840) is used.
Thus, the identification code can be formed in a short time without overwriting. Furthermore, since there is no need to use a transfer plate,
The marking cost is only the running cost of the laser, which is extremely low.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ付ガラス基板の
マーキング方法およびマーキング装置によれば、レーザ
ビームの波長を500〜980nmとし、かつカラーフ
ィルタ膜をレーザビームの照射により溶融状態を保ちつ
つカラーフィルタ膜の表面形状を変化させてマーキング
することにより、発塵が全くないため、クリームルーム
内のクリーン度の低下、液晶パネルの製造歩留まりの低
下がない。また、前記波長のレーザを使用することによ
り、ガラス基板を加工することがないのでガラス基板の
曲げ強度の低下がない。
According to the method and apparatus for marking a glass substrate with a color filter according to the present invention, the color filter is maintained while the laser beam has a wavelength of 500 to 980 nm and the color filter film is kept in a molten state by irradiation with the laser beam. By marking by changing the surface shape of the film, no dust is generated, so that the cleanliness in the cream room is not reduced and the production yield of the liquid crystal panel is not reduced. In addition, by using a laser having the above wavelength, the glass substrate is not processed, so that the bending strength of the glass substrate does not decrease.

【0035】また、ガラス基板を加工せず、カラーフィ
ルタ膜に直接マーキングするので、画素パターンの露光
工程の前に識別コード形成が可能になり製造初期から各
カラーフィルタ付ガラス基板の製造管理ができる。ま
た、カラーフィルタ膜は短時間のレーザビーム照射で形
成できるため、従来のように上書きする必要がなく、短
時間で識別コードを形成できる。さらに、転写板等を使
う必要がないので、マーキングコストはレーザのランニ
ングコストだけとなり極めて低コストとなる。
Further, since the color is directly marked on the color filter film without processing the glass substrate, an identification code can be formed before the exposure step of the pixel pattern, and the production control of the glass substrate with each color filter can be performed from the initial stage of production. . Further, since the color filter film can be formed by irradiating the laser beam in a short time, it is not necessary to overwrite as in the prior art, and the identification code can be formed in a short time. Further, since there is no need to use a transfer plate or the like, the marking cost is only the running cost of the laser, which is extremely low.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のマーキング方法を示す斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing a marking method of the present invention.

【図2】 本発明のマーキング方法によってカラーフィ
ルタ膜上に形成したセグメントドットの表面形状を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing a surface shape of a segment dot formed on a color filter film by the marking method of the present invention.

【図3】 2次元コードを認識するための反射照明リー
ダの構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a reflection illumination reader for recognizing a two-dimensional code.

【図4】 本発明のマーキング方法によってカラーフィ
ルタ膜上に形成したセグメントドットの表面形状とマー
クの映像を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a surface image of a segment dot and an image of a mark formed on a color filter film by the marking method of the present invention.

【図5】 本発明のマーキング方法で形成した2次元コ
ードを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a two-dimensional code formed by the marking method of the present invention.

【図6】 YAGレーザでカラーフィルタ膜上に形成し
たデータコードである。
FIG. 6 shows a data code formed on a color filter film by a YAG laser.

【図7】 本発明のマーキング装置を示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view showing a marking device of the present invention.

【図8】 本発明のマーキング装置の位置決め機構を示
す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a positioning mechanism of the marking device of the present invention.

【図9】 露光による従来マーキング方法の製造構成を
示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic view showing a manufacturing configuration of a conventional marking method by exposure.

【図10】 エキシマレーザによる従来マーキング方法
の断面を示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic view showing a cross section of a conventional marking method using an excimer laser.

【図11】 レーザマーキング用転写板を用いた従来マ
ーキング法のプロセスを示す模式図である。
FIG. 11 is a schematic view showing a process of a conventional marking method using a transfer plate for laser marking.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ガラス基板 2:カラーフィルタ膜 201:カラーフィルタ膜パターン 202:除
去物 3:感光性レジスト 301:感光性レジストパ
ターン 4:フォトマスク 5:ガス吸引手段 6:レーザマーキング用転写板 601:クロム膜等の金属膜 602:レーザ透過
体 603:マーク 7:半導体レーザ 8:コリメータレン
ズ 91及び92:ミラー 10:レーザパワー
検知ヘッド 11:マーカ用レーザ 12aおよび12b:スキャナモータ 13aおよび13b:スキャナミラー 14:Fθ集光レンズ 15:コロ 16:架台 16:搬送装置 17:固定ピン 18:押付けピン 21:CCDカメラ 22:照明 23:アパチャ 24:レンズ 25:ハーフミラー
1: glass substrate 2: color filter film 201: color filter film pattern 202: removed material 3: photosensitive resist 301: photosensitive resist pattern 4: photomask 5: gas suction means 6: transfer plate for laser marking 601: chromium film Metal film 602: Laser transmitting body 603: Mark 7: Semiconductor laser 8: Collimator lens 91 and 92: Mirror 10: Laser power detection head 11: Marker laser 12a and 12b: Scanner motor 13a and 13b: Scanner mirror 14: Fθ condensing lens 15: roller 16: gantry 16: transport device 17: fixing pin 18: pressing pin 21: CCD camera 22: illumination 23: aperture 24: lens 25: half mirror

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 康 福岡県北九州市八幡西区黒崎城石2番1号 株式会社安川電機内 (72)発明者 脇迫 仁 福岡県北九州市八幡西区黒崎城石2番1号 株式会社安川電機内 Fターム(参考) 2H048 BA11 BB14 BB42 4E068 AB01 CA01 CA04 DA11 DB10 4G059 AA01 AB05 AC08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Yasushi Yoshida 2-1 Kurosaki Castle Stone, Yawatanishi-ku, Kitakyushu-city, Fukuoka Prefecture Inside Yaskawa Electric Co., Ltd. No. Yaskawa Electric Co., Ltd. F-term (reference) 2H048 BA11 BB14 BB42 4E068 AB01 CA01 CA04 DA11 DB10 4G059 AA01 AB05 AC08

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザビームをガラス板及びカラーフィ
ルタ膜からなるカラーフィルタ付ガラス基板に照射し、
レーザビームの照射位置と前記カラーフィルタ付ガラス
基板との相対位置を変え、前記カラーフィルタ付ガラス
基板に所定の文字、図形若しくは記号を形成するマーキ
ング方法において、 前記レーザビームの波長を500〜980nmとし、か
つ前記カラーフィルタ膜を前記レーザビームの照射によ
り溶融し前記カラーフィルタ膜の表面形状を変化させて
マーキングすることを特徴とするカラーフィルタ付ガラ
ス基板のマーキング方法。
1. A laser beam is applied to a glass substrate with a color filter comprising a glass plate and a color filter film,
In a marking method of changing a laser beam irradiation position and a relative position between the glass substrate with a color filter and a predetermined character, figure or symbol on the glass substrate with a color filter, the wavelength of the laser beam is set to 500 to 980 nm. And a method of marking a glass substrate with a color filter, characterized in that the color filter film is melted by irradiation with the laser beam and the surface shape of the color filter film is changed to perform marking.
【請求項2】 前記レーザビームの光源であるレーザが
半導体レーザである請求項1に記載のカラーフィルタ付
ガラス基板のマーキング方法。
2. The method for marking a glass substrate with a color filter according to claim 1, wherein the laser as a light source of the laser beam is a semiconductor laser.
【請求項3】 前記文字、図形若しくは記号がマトリッ
クス型2次元コードである請求項1または2に記載のカ
ラーフィルタ付ガラス基板のマーキング方法。
3. The method for marking a glass substrate with a color filter according to claim 1, wherein the character, figure or symbol is a matrix type two-dimensional code.
【請求項4】 前記カラーフィルタ膜がアクリル系樹
脂、ポリイミド系樹脂である請求項1ないし3のいずれ
か1項に記載のカラーフィルタ付ガラス基板のマーキン
グ方法。
4. The method for marking a glass substrate with a color filter according to claim 1, wherein the color filter film is made of an acrylic resin or a polyimide resin.
【請求項5】 レーザビームを発するレーザ発振器と、
レーザビームを走査するスキャナーと、レーザビームを
集光するFθ集光レンズとからなるレーザマーキング装
置と、ガラス板及びカラーフィルタ膜からなるカラーフ
ィルタ付ガラス基板を搬送する搬送機構と前記カラーフ
ィルタ付ガラス基板を所定の位置に位置決めする位置決
め機構とからなる搬送装置とによって前記カラーフィル
タ付ガラス基板の所定の位置にレーザビームを照射して
カラーフィルタ付ガラス基板上に文字、図形、若しくは
記号からなるマークを形成するカラーフィルタ付ガラス
基板のマーキング装置において、 前記レーザ発振器は、レーザの波長が500〜980n
mの光を出射する半導体レーザであることを特徴とする
カラーフィルタ付ガラス基板のマーキング装置。
5. A laser oscillator for emitting a laser beam,
A laser marking device comprising a scanner for scanning a laser beam, an Fθ focusing lens for focusing the laser beam, a transport mechanism for transporting a glass substrate with a color filter comprising a glass plate and a color filter film, and the glass with a color filter A mark formed of characters, graphics, or symbols on a glass substrate with a color filter by irradiating a laser beam to a predetermined position of the glass substrate with a color filter by a transfer device including a positioning mechanism for positioning the substrate at a predetermined position. In the apparatus for marking a glass substrate with a color filter, the laser oscillator has a laser wavelength of 500 to 980n.
m. A marking device for a glass substrate with a color filter, wherein the marking device is a semiconductor laser that emits light of m.
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