JP2001198427A - ケミカルフィルターユニットおよび半導体装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フィルターハウジングを分解することなく、
フィルターハウジング内のフィルター交換を容易におこ
なうことができ、フィルターの除去性能の劣化も短時間
で判定することができるケミカルフィルターユニットを
提供する。 【解決手段】 連結しているフィルターホルダーの、フ
ィルターハウジング外部のフィルターホルダーに、未使
用のフィルターを取り付け、フィルターハウジングの第
１の開口部から第２の開口部に向かって、フィルターホ
ルダーを移動させることで、フィルターハウジング内部
のフィルターホルダーに保持されている使用済みのフィ
ルターをフィルターハウジングの外部に排出し、未使用
のフィルターをフィルターハウジング内部に挿入する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体デバイス
を製造する半導体製造装置や半導体デバイスを保管する
保管設備、また、半導体デバイスを製造・保管するクリ
ーンルームに対して、半導体デバイスの品質に影響を与
える化学的な物質を除外したエアーを供給するケミカル
フィルターユニットと半導体装置の製造方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスを製造・保管する装置や
設備、またクリーンルーム内には、微量ではあるが半導
体デバイスの品質に影響を与える化学的な物質が存在し
ている。従来、ケミカルフィルターユニットを用いて、
このような化学的な物質を除去し、例えばクリーンルー
ム等にケミカル物質を供給している。また、定期的にエ
アーをサンプリングして、ケミカル物質の濃度を測定し
ている。

【０００３】図８は、従来のケミカルフィルターユニッ
トの一例を示す断面模式図である。ケミカルフィルター
ユニットは、エアー中のケミカル物質を除外するため
に、半導体デバイスを製造する製造装置、半導体デバイ
スを保管する保管設備、半導体デバイスを製造・保管す
るクリーンルームなどに対してエアーを供給するエアダ
クト中に設けられている装置である。

【０００４】以下、図８を参照して従来のケミカルフィ
ルターユニットについて説明する。図８において、３１
はエアダクト、３２はエアダクト３１の間に設けられた
フィルターハウジング、３３はケミカル物質を除去する
ためにフィルターハウジング３２内に設けられたフィル
ターである。また、Ａはフィルターハウジング３２に供
給されるケミカル物質含有エアー、Ｂはフィルターハウ
ジング３２から排出されるケミカル物質除去エアーであ
る。

【０００５】エアダクト３１から供給されたケミカル物
質含有エアーＡは、フィルターハウジング３２内に入
り、フィルター３３を通過する。フィルターハウジング
３２は、ケミカル物質含有エアーＡとフィルター３３と
の接触面積が大きくなるように、エアー流れ方向の断面
積がエアダクト３１より大きく設定されている。

【０００６】ケミカル物質含有エアーＡが、フィルター
３３を通過することによりケミカル物質含有エアーＡ中
のケミカル物質成分がフィルター３３に吸着され、ケミ
カル物質除去エアーＢとなってフィルターハウジング３
２よりエアダクト３１へ排出される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このケミカル物質を除
去するフィルター３３は、ケミカル物質の除去性能に限
界があり、一定量のケミカル物質を吸着するとそれ以上
のケミカル物質を吸着・除去しなくなるため、吸着性能
が劣化する前にフィルター交換する必要がある。よっ
て、従来のケミカルフィルターユニットでは、内部のフ
ィルター３３のケミカル物質除去性能の劣化を判断する
必要がある。

【０００８】しかし、フィルター３３の吸着限界を判断
するためには、エアー中のケミカル物質濃度を測定する
必要があるが、エアー中のケミカル物質濃度測定は、ケ
ミカル物質が微量で濃度が低いため、長時間エアーをサ
ンプルし、専用の分析装置のあるところでの分析をおこ
なわなければならない。そのため、吸着性能の劣化の判
断に時間がかかっており、的確なフィルター交換がおこ
なえない。

【０００９】また、フィルター３３は、フィルターハウ
ジング３２の内部に設けられているため、フィルター３
３の交換時にはフィルターハウジング３２を分解してフ
ィルター３３を取り出し、新たなフィルター３３を挿入
して再度フィルターハウジングを組立なくてはならない
ため、フィルター交換に時間を要し、その間にエアダク
トからのケミカル物質含有エアーＡの供給を停止させな
ければならない。

【００１０】この発明の一つの目的は、上記のような問
題点を解決するためになされたもので、フィルター交換
を容易におこない、フィルターの除去性能の劣化を短時
間で判定できるフィルターハウジングを得ることを目的
とする。また、この発明のもう一つの目的は、半導体装
置の信頼性に影響を与えるケミカル物質を除去したエア
ーの供給をおこない、信頼性の高い半導体装置を製造す
ることを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この発明に係るケミカル
フィルターユニットは、エアーを導入するエアダクトと
排出するエアダクトの間に設けられ、側面に第１の開口
部とこの側面に対向する側面に第２の開口部とを有する
フィルターハウジングと、フィルターハウジング内部の
気流全面に接している第１のフィルターを保持している
第１のフィルターホルダーと、第１のフィルターホルダ
ーに連結され、フィルターハウジング外部に設けられた
第２のフィルターホルダーとを備え、第２のフィルター
ホルダーに第２のフィルターを取り付け、フィルターハ
ウジングの第１の開口部から第２の開口部に向かって、
第２のフィルターホルダーを移動させることで、フィル
ターハウジング内部の第１のフィルターホルダーに保持
されている第１のフィルターをフィルターハウジングの
外部に排出し、第２のフィルターホルダーに保持されて
いる第２のフィルターがフィルターハウジング内部に挿
入されるものである。

【００１２】また、この発明に係るケミカルフィルター
ユニットは、エアーを導入するエアダクトと排出するエ
アダクトの間に設けられ、周囲側面に開口部を有するフ
ィルターハウジングと、フィルターハウジングの内部の
気流全面に接している第１のフィルター部を保持してい
る円盤状のフィルターホルダーと、円盤状のフィルター
ホルダー上のフィルターハウジング外部に配置された第
２のフィルター部と、円盤状のフィルターホルダーの中
心に設けられたフィルターホルダー回転軸とを備え、円
盤状のフィルターホルダーをフィルター回転軸を回転さ
せることで、フィルターハウジング内部の第１のフィル
ター部をフィルターハウジング外部に移動させ、第２の
フィルター部がフィルターハウジング内部に挿入される
ものである。

【００１３】さらにまた、この発明に係るケミカルフィ
ルターユニットは、エアーを導入するエアダクトと排出
するエアダクトの間に設けられ、側面とこの側面に対向
する側面に開口部を有するフィルターハウジングと、第
１のフィルター部と第２のフィルター部を保持して、フ
ィルターハウジングの開口部を貫通してフィルターハウ
ジング内部を循環するループ式のフィルターホルダー
と、フィルターホルダーを駆動させるフィルターホルダ
ー回転ローラーとを備え、フィルターホルダー回転ロー
ラーを駆動することにより、フィルターハウジング内部
の第１のフィルター部を、フィルターハウジング外部に
移動させ、第２のフィルター部がフィルターハウジング
内部に挿入されるものである。

【００１４】また、この発明に係るケミカルフィルター
ユニットは、フィルターハウジング外部に配置され、フ
ィルターハウジング外部に移動された第１のフィルター
部を、フィルターハウジング内部での第１のフィルター
部のエアー接触面積より大きいエアー接触面積で挟み込
むフィルター再生チャンバーをさらに備え、フィルター
再生チャンバーは、この内部に有機物分解手段を有して
おり、第１のフィルター部を有機物分解手段により再生
するものである。

【００１５】さらにまた、この発明に係るケミカルフィ
ルターユニットは、エアーを導入するエアダクトと排出
するエアダクトの間に設けられたフィルターハウジング
と、フィルターハウジング内部の気流全面に接している
フィルターを保持しているフィルターホルダーと、フィ
ルターハウジング内部のエアーの上流側に配置され、ケ
ミカルガスを注入するガス注入管と、フィルターハウジ
ング内部のエアーの下流側に配置され、ケミカルガスを
吸引するガス吸引管とを備えたものである。

【００１６】また、この発明に係るケミカルフィルター
ユニットは、フィルター再生チャンバー内部にケミカル
ガスを注入するガス注入管とケミカルガスを吸引するガ
ス吸引管とをさらに備えたものである。

【００１７】さらにまた、ケミカルフィルターユニット
により、エアー中のケミカル物質を除去したケミカル物
質除去エアーを半導体製造装置またはクリーンルームに
供給する工程と、ケミカル物質除去エアーの雰囲気下に
おいて、半導体装置を製造する工程とを備えたものであ
る。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。

【００１９】実施の形態１．まず、この発明の実施の形
態１におけるケミカルフィルターユニットの構成につい
て説明する。図１は、この発明の実施の形態１における
ケミカルフィルターユニットの断面構造図である。ま
た、図１においては、フィルターの交換状態も示してい
る。

【００２０】図１において、１は装置、設備、クリーン
ルーム等にエアーを供給するエアダクト、２はエアダク
ト１の間に設けられたフィルターハウジング、３はケミ
カル物質を除去するためにフィルターハウジング２内に
設けられたフィルター、４はフィルター３を保持するた
めのフィルターホルダーである。フィルターハウジング
２内に設けられた複数のフィルター３は、それぞれフィ
ルターホルダー４に保持されている。

【００２１】また、Ａはフィルターハウジング２に供給
されるケミカル物質含有エアー、Ｂはフィルターハウジ
ング２から排出されるケミカル物質除去エアー、Ｃはフ
ィルター３の交換時に、フィルターホルダー４を動かす
方向を示すフィルターホルダー移動方向、Ｄ１はフィル
ターホルダー４へフィルター３を取り付けるフィルター
取り付け方向、Ｄ２はフィルターホルダー４からフィル
ター３を取り外すフィルター取り外し方向である。

【００２２】フィルターホルダー４は、フィルター３を
保持する部分が２つ連結されており、一つは、フィルタ
ー３を保持した状態でフィルターハウジング２の側面の
開口部（図示せず）を通して、フィルターハウジング２
内部に挿入されている。もう一つは、フィルターハウジ
ング２外部に配置されおり、通常フィルターは保持され
ていない。フィルターホルダー４は、フィルターハウジ
ング２内部の側面に接しており、フィルターホルダー４
に保持されたフィルターハウジング２内部のフィルター
３は、フィルター面の全面が、フィルターハウジング２
内のエアー流れ（気流）に接するように挿入されてい
る。

【００２３】また、フィルターハウジング２の側面に対
向するもう一方の側面にも、同様にフィルターホルダー
４が通る開口部（図示せず）が設けられており、通常の
状態ではフィルターホルダー４の側面によってふさがれ
ている。このように構成されたケミカルフィルターユニ
ットにおいて、フィルターハウジング２内の使用済みの
フィルター３を交換する時には、使用済みのフィルター
３が保持されているフィルターホルダー４に連結してい
るフィルターハウジング２外部のフィルターホルダー４
に、未使用のフィルター３をフィルター取り付け方向Ｄ
１に示す方向で取り付ける。

【００２４】その後、フィルターホルダー４をホルダー
移動方向Ｃに示す方向に動かすことにより、フィルター
ハウジング２内部の使用済みフィルター３をフィルター
ハウジング２外部に排出して、フィルターハウジング２
外部の未使用のフィルター３をフィルターハウジング２
内部に入れることができる。フィルターハウジング２外
部に排出された使用済みフィルター３は、フィルターホ
ルダー４からフィルター取り外し方向Ｄ２に示す方向に
取り外すことにより交換される。

【００２５】よって、この実施の形態１においては、フ
ィルターハウジング２内の使用済みのフィルター３をフ
ィルターハウジング２を分解することなく交換すること
ができ、フィルターハウジング２へのケミカル物質含有
エアーＡの供給、フィルターハウジング２からのケミカ
ル物質除去エアーＢを止めることなくフィルター３の交
換を行うことができる。なお、実施の形態１におけるフ
ィルターハウジング２、フィルター３、フィルターホル
ダー４の形状、位置、個数、配置等は、この実施の形態
１の目的を達成するものであれば上記に限定されるもの
ではない。

【００２６】実施の形態２．図２は、実施の形態２にお
けるケミカルフィルターユニットの構造を示す模式図で
ある。図２において、１は装置、設備等にエアーを供給
するエアダクト、２はエアダクト１の間に設けられたフ
ィルターハウジング、３はケミカル物質を除去するため
のフィルター、４はフィルター３を保持するための円盤
状のフィルターホルダー、５はフィルターホルダー４の
中心に設けられたフィルターホルダー回転軸、Ａはフィ
ルターハウジング２に供給されるケミカル物質含有エア
ー、Ｂはフィルターハウジング２から排出されるケミカ
ル物質除去エアー、Ｃはフィルター３交換時にフィルタ
ーホルダー４を動かす方向を示すフィルターホルダー移
動方向である。

【００２７】図２に示すように、フィルターハウジング
２内部のフィルター３、フィルターハウジング２内部の
気流全面に接しており、さらにフィルター３は、フィル
ターハウジング２の内部エアー流れ（気流）の接触面積
より大きく設定されている。フィルターハウジング２に
は周囲側面に開口部があり、この開口部にフィルターホ
ルダー４に保持されたフィルター３が貫通して保持され
ている。また、フィルター３は、複数のフィルターが同
一平面上のフィルターホルダー４に保持されるように構
成されているが、通常は、フィルターハウジング２を貫
通している部分のフィルター３だけがフィルターホルダ
ー４に保持されている。

【００２８】このように構成されたケミカルフィルター
ユニットにおいて、使用済みのフィルター３の交換をお
こなうときは、まず未使用のフィルター３ａをフィルタ
ーホルダー４に保持させる。そして、フィルターハウジ
ング２に接しながら、未使用フィルター３ａをフィルタ
ー回転軸５の回転によってフィルターホルダー移動方向
Ｃに示す方向に動かし、フィルターハウジング２のある
位置に未使用フィルター３ａ部分を移動させ、フィルタ
ーハウジング２に貫通させて保持する。フィルターハウ
ジング２外部に移動させた使用済みのフィルター３は、
フィルターホルダー４から取り外す。実施の形態２にお
いては、以上のようにフィルターの交換をおこなう。

【００２９】よってこの実施の形態２においては、フィ
ルターハウジング２内で、ケミカル物質含有エアーＡ中
のケミカル物質を吸着し除去性能が劣化したフィルター
３をフィルターハウジング２を分解することなく交換す
ることができ、フィルターハウジング２へのケミカル物
質含有エアーＡの供給、フィルターハウジング２からの
ケミカル物質除去エアーＢの排出を止めることなくフィ
ルター３の交換をおこなうことができる。

【００３０】実施の形態３．実施の形態３においては、
実施の形態２で述べたフィルターに対して、フィルター
の除去性能を回復させる機構を付加している。図３は、
実施の形態３におけるケミカルフィルターユニットの構
造を示す模式図である。また、図４は図３の断面構造を
示す断面構造図である。

【００３１】図３、図４において、１はエアダクト、２
はフィルターハウジング、３はフィルター、４はフィル
ターホルダー、５はフィルターホルダー回転軸、Ａはケ
ミカル物質含有エアー、Ｂはケミカル物質除去エアー、
Ｃはフィルターホルダ移動方向である。６は、フィルタ
ー３を挟み込み再生するために設けられたフィルター再
生チャンバー、７はフィルター再生チャンバー６内部に
設けられたヒーターである。また、Ｅはフィルター再生
チャンバー６に供給される再生処理供給エアー、Ｆはフ
ィルター再生チャンバー６より排出される再生処理排気
エアーである。

【００３２】フィルター再生チャンバー６内部でのフィ
ルター３のエアー接触面積は、フィルターハウジング２
内部でのフィルター３のエアー接触面積より大きく設定
されている。また、フィルター再生チャンバー６では、
フィルター３に対してフィルターハウジング２内へのケ
ミカル物質含有エアーＡ、ケミカル物質除去エアーＢの
エアー流れ方向とは逆の方向に再生処理供給エアーＥが
供給され、再生処理排気エアーＦが排出される。

【００３３】また、フィルター再生チャンバー６の内部
には、フィルター３に吸着した有機物質を分解するため
の手段としてのヒーター７が設けられている。また、フ
ィルター３は、フィルターホルダー４内に通常状態で全
てのフィルター３が保持されているか、もしくは分割さ
れることなくフィルターホルダー４内の全体を覆う一つ
のフィルターである。

【００３４】ケミカル物質の除去をおこない、除去性能
が劣化した使用済みのフィルター３のは、フィルター回
転軸５の回転によってフィルターホルダー移動方向Ｃに
示す方向に動かされることにより、フィルターハウジン
グ２に接しながら外部に移動し、フィルター再生チャン
バー６の内部に入る。

【００３５】フィルター再生チャンバー６の内部に入っ
た使用済みのフィルター３は、ヒーター７によって加熱
されることにより、フィルター３に付着しているケミカ
ル物質が熱分解され、分子量が小さい物質となり、再生
処理供給エアーＥによってフィルター３から離れ、再生
処理排気エアーＦに混じってフィルター再生チャンバー
６からエアダクトに排気される。

【００３６】よって、実施の形態３ではフィルターハウ
ジング２内でケミカル物質含有エアーＡ中のケミカル物
質を吸着して除去性能が劣化した使用済みのフィルター
３を、フィルターハウジング２からのケミカル物質除去
エアーＢを止めることなく吸着性能が劣化していない未
使用のフィルター３のと交換することができる。また、
実施の形態３では、除去性能が劣化した使用済みのフィ
ルター３を、フィルター再生チャンバー６内でケミカル
物質を分解・除去して再生するため、フィルター３を交
換することなく連続して使用することができる。

【００３７】なお、フィルター再生チャンバー６内のヒ
ーター７は、フィルター３に付着したケミカル物質を分
解するための手段であればこれに限定されるものではな
く、例えば、ヒーター７に代わってケミカル分解能力が
ある紫外線をフィルター３に照射するランプを設けても
よく、またこれらを内部に設けることに代わって、ケミ
カル分解能力のあるオゾンを再生処理供給エアーＥに混
合して流してもよく、またこれらの手段の組み合わせで
あってもよい。

【００３８】実施の形態４．図５は、この発明の実施の
形態４におけるケミカルフィルターユニットの構造を示
す断面構造図である。図５において、１は装置、設備等
にエアーを供給するエアダクト、２はエアダクト１の間
に設けられたフィルターハウジング、３はフィルター、
４はフィルターホルダー、６はフィルター３に吸着した
ケミカル物質の除去をおこなうフィルター再生チャンバ
ー、７はヒーター、８はフィルターホルダー４に保持さ
れたフィルター３を移動させるためのフィルターホルダ
ー回転ローラーである。

【００３９】また、Ａはフィルターハウジング２に供給
されるケミカル物質含有エアー、Ｂはフィルターハウジ
ング２から排出されるケミカル物質除去エアー、Ｃはホ
ルダー回転ローラー８によってフィルターホルダー４に
保持されたフィルター３が動かされるフィルターホルダ
ー移動方向、Ｅはフィルター再生チャンバー６に供給さ
れる再生処理供給エアー、Ｆはフィルター再生チャンバ
ー６より排出される再生処理排気エアー、Ｇはフィルタ
ーホルダー回転ローラー８の回転方向を示すローラー回
転方向である。

【００４０】フィルターホルダー４は、フィルターホル
ダー回転ローラー８により駆動されてフィルターハウジ
ング２内部を循環するループ式のフィルターホルダーで
ある。ループ式のフィルターホルダー４は、フィルター
ハウジング２の側面とその対向する側面を貫通して循環
している。フィルターハウジング２の貫通部分は、フィ
ルターハウジング２の内部、外部の間で隙間がないよう
にフィルター３、フィルターホルダー４に接している構
造となっている。また、フィルター３は、フィルターハ
ウジング２内部のエアー流れ（気流）にフィルター３の
全面が接している。

【００４１】また、フィルター再生チャンバー６は、フ
ィルターハウジング２の外部に設けられており、フィル
ター３を挟み込むように接して設けられている。フィル
ター再生チャンバー６内でエアーがフィルター３に接す
る面積は、フィルターハウジング２内部でエアーがフィ
ルター３に接する面積よりも大きい。このフィルター再
生チャンバー６には供給、排気を行うエアダクト１、こ
の内部にはフィルター３に吸着したケミカル物質を分解
するためのヒーター７が設けられている。エアダクト１
より再生処理供給エアーＥが供給され、再生処理排気エ
アーＦが排出される。

【００４２】実施の形態４では、フィルターハウジング
２内部のフィルター３においてケミカル物質の除去をお
こない、除去性能が劣化した使用済みのフィルター３
は、フィルターホルダー回転ローラー８をローラー回転
方向Ｇへ回転させることによって、フィルターハウジン
グ２に接しながらフィルターハウジング２外部に移動さ
せ、フィルター再生チャンバー６の内部に挿入させる。
フィルターハウジング２には、ケミカル物質の除去を行
ったフィルター３の部分がフィルターハウジング２に接
しながら挿入される。

【００４３】よって、実施の形態４では、フィルターハ
ウジング２内でケミカル物質含有エアーＡ中のケミカル
物質を吸着して、除去性能が劣化した使用済みのフィル
ター３をフィルターハウジング２からのケミカル物質除
去エアーＢを止めることなく吸着性能が劣化していない
フィルター３と入れ替えることができる。

【００４４】また、フィルター再生チャンバー６の内部
に挿入された除去性能が劣化したフィルター３を、ヒー
ター７によって加熱させることにより、フィルター３に
付着しているケミカル物質を熱分解し、分子量が小さな
物質として、再生処理供給エアーＥによってフィルター
３から離脱させ、再生処理排気エアーＦとしてフィルタ
ー再生チャンバー６からエアダクト１に排気させる。

【００４５】これにより、フィルター再生チャンバー６
内でフィルター３に付着したケミカル物質を分解除去す
ることによりフィルター３を再生し、フィルター３を交
換することなく連続して使用することができる。

【００４６】実施の形態４では、フィルター再生チャン
バー６内のケミカル物質分解手段としてヒーターを使用
したが、フィルター３に付着したケミカル物質を分解す
るためのケミカル物質分解手段であればこれに限定され
るものではなく、例えばヒーターに代わってケミカル分
解能力がある紫外線をフィルター３に照射するランプを
設けてもよい。また、これらを内部に設けることに代わ
って、ケミカル分解能力のあるオゾンを再生処理供給エ
アーＥに混合して流してもよく、またこれらの手段の組
み合わせであってもよい。

【００４７】実施の形態５．図６は、実施の形態５にお
けるケミカルフィルターユニットの構造を示す断面構造
図である。図６において、１は装置、設備等にエアーを
供給するエアダクト、２はエアダクト１に設けられたフ
ィルターハウジング、３はフィルターハウジング２内に
設けられたケミカル物質を除去するフィルターであり、
フィルターハウジング２内部の気流全面に接している。
９はガス注入管、１０はガス吸引管、Ｈはガス注入管９
より注入される試験ガス、Ｉはガス吸引管より吸引され
るサンプリングエアーである。

【００４８】図６に示されるように、フィルターハウジ
ング２の外部からフィルターハウジング２内部のフィル
ター３に対して、フィルターハウジング２の内部エアー
流れの上流側にガス注入管９が設けられている。また、
同様に内部エアー流れの下流側のフィルターハウジング
２内部にガス吸引管１０が設けられている。

【００４９】また、ガス注入管９には、特定のガスを供
給するガス供給手段（図示せず）がつなげられ、ガス吸
引管１０にはエアー中のケミカル物質の濃度を測定する
ケミカル物質濃度測定器（図示せず）がつなげられてい
る。

【００５０】このように構成されたフィルターハウジン
グ２では、ガス供給手段よりガス注入管９を通してフィ
ルターハウジング２内のフィルター３のエアー流れ上流
側のケミカル物質含有エアーＡに、半導体デバイスへの
影響のない低分子の試験ガスＨを供給する。これによ
り、フィルター３のエアー流れ上流側は、高濃度の試験
ガスＨとなる。フィルター３のエアー流れ下流側のケミ
カル物質除去エアーＢにおいても試験ガスＨの濃度は、
ある程度の高濃度となるため、サンプリングガスＩをガ
ス吸引管１０を通してケミカル濃度測定器へ吸引するこ
とにより、高感度、短時間で、試験ガスＨのフィルター
３下流での濃度測定がおこなえる。

【００５１】よって、この実施の形態５では、ケミカル
物質含有エアーＡの流量をａ、注入したケミカルガスの
流量をｃとすると、ケミカルフィルター３上流側に注入
した試験ガスＨの濃度Ｃinはｃ／ａとなり、下流側のサ
ンプリングガスＩを測定した濃度Ｃoutとを比較するこ
とによりフィルター３での試験ガスＨの除去率Ｃout／
Ｃinを高感度、短時間で求めることができる。これによ
り、フィルター３のケミカル物質除去性能のチェックを
高感度に、短時間で求めることができる。

【００５２】実施の形態６．図７はこの発明の実施の形
態６におけるケミカルフィルターユニットの構造を示す
断面構造図である。実施の形態６は、実施の形態３のケ
ミカルフィルターユニットに実施の形態５で示したガス
注入管、ガス吸引管を付加したものである。

【００５３】このフィルターハウジング２内のフィルタ
ー３の交換を行うときは、実施の形態３と同様におこな
う。また、フィルター再生チャンバー６でフィルター３
に吸着したケミカル物質を除去する時は、実施の形態３
と同様に、、ヒーター７等の有機物分解手段を用いて分
解する。

【００５４】そして、ケミカル物質を熱分解して分子量
の小さな物質とし、再生処理供給エアーＥによりフィル
ター３から離脱させ、再生処理排気エアーＦとしてフィ
ルター再生チャンバー６からエアダクト１に排気させ
る。フィルター３を再生する場合の再生処理供給エアー
Ｅ、再生処理排気エアーＦの流れの方向は、それぞれケ
ミカル物質含有エアーＡ、ケミカル物質除去エアーＢと
は逆の方向に流し、除去再生が行われる。

【００５５】また、フィルター再生チャンバー６におい
て、フィルター再生処理前のフィルター３のケミカル物
質除去性能劣化、あるいは再生処理後のフィルター３の
性能回復の度合いを測定するときは、実施の形態５と同
様により、ガス注入管９とガス吸引管１０を使用してフ
ィルター除去性能のチェックをおこなうことができる。

【００５６】具体的には、ガス供給手段よりガス注入管
９を通して、半導体デバイスへの影響のない低分子の試
験ガスＨを供給することにより、フィルター３のエアー
上流側は高濃度の試験ガスＨとなる。そして、サンプリ
ングガスＩをガス吸引管１０を通してケミカル濃度測定
器へ吸引することにより、試験ガスＨの濃度測定がフィ
ルター３のエアー下流で高感度、短時間でおこなえる。
この時の再生処理供給エアーＥ、再生処理排気エアーＦ
の流れ方向は、それぞれケミカル物質含有エアーＡ、ケ
ミカル物質除去エアーＢと同じ方向に流し、フィルター
除去性能のチャックが行われる。。

【００５７】よって実施の形態６においては、フィルタ
ーハウジング２内でケミカル物質含有エアーＡ中のケミ
カル物質を吸着して、除去性能が劣化した使用済みフィ
ルター３をフィルターハウジング２からのケミカル物質
除去エアーＢを止めることなく吸着性能が劣化していな
い未使用のフィルター３を交換することができる。

【００５８】また、この実施の形態６においては、除去
性能が劣化したフィルター３を、フィルター再生チャン
バー６内で再生するため、フィルター３を交換すること
なく連続して使用することができる。また、実施の形態
６では、実施の形態５と同様に、フィルター３のケミカ
ル物質の除去率を高感度、短時間で求めることができ
る。

【００５９】以上のように実施の形態１から実施の形態
６に記載したケミカルフィルターユニットを用いて、半
導体装置を製造するクリーンルームや製造装置内にケミ
カル物質を除去したエアーを供給する。そして、公知の
一般的な半導体装置の製造技術である成膜技術、転写技
術、加工技術を用いて、ウエハ上にパターンを形成する
ことにより半導体装置を製造する。

【００６０】

【発明の効果】以上のようにこの発明によるケミカルフ
ィルターユニットによれば、エアーを導入するエアダク
トと排出するエアダクトの間に設けられ、側面に第１の
開口部とこの側面に対向する側面に第２の開口部とを有
するフィルターハウジングと、フィルターハウジング内
部の気流全面に接している第１のフィルターを保持して
いる第１のフィルターホルダーと、第１のフィルターホ
ルダーに連結され、フィルターハウジング外部に設けら
れた第２のフィルターホルダーとを備え、第２のフィル
ターホルダーに第２のフィルターを取り付け、フィルタ
ーハウジングの第１の開口部から第２の開口部に向かっ
て、第２のフィルターホルダーを移動させることで、フ
ィルターハウジング内部の第１のフィルターホルダーに
保持されている第１のフィルターをフィルターハウジン
グの外部に排出し、第２のフィルターホルダーに保持さ
れている第２のフィルターがフィルターハウジング内部
に挿入されるので、フィルターハウジングを分解するこ
となくフィルターハウジング内のフィルターの交換を容
易におこなえる。

【００６１】また、エアーを導入するエアダクトと排出
するエアダクトの間に設けられ、周囲側面に開口部を有
するフィルターハウジングと、フィルターハウジング内
部の気流全面に接している第１のフィルター部を保持し
ている円盤状のフィルターホルダーと、円盤状のフィル
ターホルダー上のフィルターハウジング外部に配置され
た第２のフィルター部と、円盤状のフィルターホルダー
の中心に設けられたフィルターホルダー回転軸とを備
え、円盤状のフィルターホルダーをフィルター回転軸を
回転させることで、フィルターハウジング内部の第１の
フィルター部をフィルターハウジング外部に移動させ、
第２のフィルター部がフィルターハウジング内部に挿入
されるので、フィルターハウジングを分解することなく
フィルターハウジング内のフィルターの交換を容易にお
こなえる。

【００６２】さらにまた、エアーを導入するエアダクト
と排出するエアダクトの間に設けられ、側面とこの側面
に対向する側面に開口部を有するフィルターハウジング
と、第１のフィルター部と第２のフィルター部を保持し
て、フィルターハウジングの開口部を貫通してフィルタ
ーハウジング内部を循環するループ式のフィルターホル
ダーと、フィルターホルダーを駆動させるフィルターホ
ルダー回転ローラーとを備え、フィルターホルダー回転
ローラーを駆動することにより、フィルターハウジング
内部の第１のフィルター部をフィルターハウジング外部
に移動させ、第２のフィルター部がフィルターハウジン
グ内部に挿入されるので、フィルターハウジングを分解
することなくフィルターの交換を容易におこなえる。

【００６３】また、フィルターハウジング外部に配置さ
れ、フィルターハウジング外部に移動された第１のフィ
ルター部を、フィルターハウジング内部での第１のフィ
ルター部のエアー接触面積より大きいエアー接触面積で
挟み込むフィルター再生チャンバーをさらに備え、フィ
ルター再生チャンバーは、この内部に有機物分解手段を
有しており、第１のフィルター部を有機物分解手段によ
り再生するので、フィルターの交換をおこなうことなく
フィルターを連続使用できる。

【００６４】さらにまた、エアーを導入するエアダクト
と排出するエアダクトの間に設けられたフィルターハウ
ジングと、フィルターハウジング内部の気流全面に接し
ているフィルターを保持しているフィルターホルダー
と、フィルターハウジング内部のエアーの上流側に配置
され、ケミカルガスを注入するガス注入管と、フィルタ
ーハウジング内部のエアーの下流側に配置され、ケミカ
ルガスを吸引するガス吸引管とを備えたので、フィルタ
ーハウジング内のフィルターのケミカル物質除去性能の
劣化を容易に判断できる。

【００６５】また、フィルター再生チャンバー内部にケ
ミカルガスを注入するガス注入管とケミカルガスを吸引
するガス吸引管とをさらに備えたので、フィルターの交
換を行うことなく連続使用できると同時に、フィルター
ハウジング内のフィルターのケミカル物質除去性能の劣
化も容易に判断できる。

【００６６】さらにまた、本発明のケミカルフィルター
ユニットにより、エアー中のケミカル物質を除去したケ
ミカル物質除去エアーを半導体製造装置またはクリーン
ルームに供給する工程と、ケミカル物質除去エアーの雰
囲気下において、半導体装置を製造する工程とを備えた
ので、半導体装置の信頼性の低下を防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１におけるケミカルフ
ィルターユニットの構造を示す断面模式図である。

【図２】 この発明の実施の形態２におけるケミカルフ
ィルターユニットの構造を示す模式図である。

【図３】 この発明の実施の形態３におけるケミカルフ
ィルターユニットの構造を示す模式図である。

【図４】 この発明の実施の形態３におけるケミカルフ
ィルターユニットの構造を示す断面模式図である。

【図５】 この発明の実施の形態４におけるケミカルフ
ィルターユニットの構造を示す断面模式図である。

【図６】 この発明の実施の形態５におけるケミカルフ
ィルターユニットの構造を示す断面模式図である。

【図７】 この発明の実施の形態６におけるケミカルフ
ィルターユニットの構造を示す断面模式図である。

【図８】 従来のケミカルフィルターユニットの構造を
示す断面模式図である。

【符号の説明】

１ エアダクト、 ２ フィルターハウジング、 ３
フィルター、 ４ フィルターホルダー、 ５ フィル
ターホルダー回転軸、 ６ フィルター再生チャンバ
ー、 ７ ヒーター、 ８ フィルターホルダー回転ロ
ーラー、 ９ ガス注入管、 １０ ガス吸引管、

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エアーを導入するエアダクトと排出する
   エアダクトの間に設けられ、側面に第１の開口部とこの
   側面に対向する側面に第２の開口部とを有するフィルタ
   ーハウジングと、 前記フィルターハウジング内部の気流全面に接している
   第１のフィルターを保持している第１のフィルターホル
   ダーと、 前記第１のフィルターホルダーに連結され、前記フィル
   ターハウジング外部に設けられた第２のフィルターホル
   ダーとを備え、 前記第２のフィルターホルダーに第２のフィルターを取
   り付け、前記フィルターハウジングの前記第１の開口部
   から前記第２の開口部に向かって、前記第２のフィルタ
   ーホルダーを移動させることで、前記フィルターハウジ
   ング内部の前記第１のフィルターホルダーに保持されて
   いる第１のフィルターを前記フィルターハウジングの外
   部に排出し、前記第２のフィルターホルダーに保持され
   ている前記第２のフィルターが前記フィルターハウジン
   グ内部に挿入されることを特徴とするケミカルフィルタ
   ーユニット。
2. 【請求項２】 エアーを導入するエアダクトと排出する
   エアダクトの間に設けられ、周囲側面に開口部を有する
   フィルターハウジングと、 前記フィルターハウジング内部の気流全面に接している
   第１のフィルター部を保持している円盤状のフィルター
   ホルダーと、 前記円盤状のフィルターホルダー上の前記フィルターハ
   ウジング外部に配置された第２のフィルター部と、 前記円盤状のフィルターホルダーの中心に設けられたフ
   ィルターホルダー回転軸とを備え、 前記円盤状のフィルターホルダーを前記フィルター回転
   軸を回転させることで、前記フィルターハウジング内部
   の前記第１のフィルター部を前記フィルターハウジング
   外部に移動させ、前記第２のフィルター部が前記フィル
   ターハウジング内部に挿入されることを特徴とするケミ
   カルフィルターユニット。
3. 【請求項３】 エアーを導入するエアダクトと排出する
   エアダクトの間に設けられ、側面とこの側面に対向する
   側面に開口部を有するフィルターハウジングと、 第１のフィルター部と第２のフィルター部を保持して、
   前記フィルターハウジングの開口部を貫通して前記フィ
   ルターハウジング内部を循環するループ式のフィルター
   ホルダーと、 前記フィルターホルダーを駆動させるフィルターホルダ
   ー回転ローラーとを備え、 前記フィルターホルダー回転ローラーを駆動することに
   より、前記フィルターハウジング内部の前記第１のフィ
   ルター部を、前記フィルターハウジング外部に移動さ
   せ、前記第２のフィルター部が前記フィルターハウジン
   グ内部に挿入されることを特徴とするケミカルフィルタ
   ーユニット。
4. 【請求項４】 フィルターハウジング外部に配置され、
   前記フィルターハウジング外部に移動された第１のフィ
   ルター部を、前記フィルターハウジング内部での第１の
   フィルター部のエアー接触面積より大きいエアー接触面
   積で挟み込むフィルター再生チャンバーをさらに備え、 前記フィルター再生チャンバーは、この内部に有機物分
   解手段を有しており、前記第１のフィルター部を前記有
   機物分解手段により再生することを特徴とする請求項２
   または請求項３記載のケミカルフィルターユニット。
5. 【請求項５】 エアーを導入するエアダクトと排出する
   エアダクトの間に設けられたフィルターハウジングと、 前記フィルターハウジング内部の気流全面に接している
   フィルターを保持しているフィルターホルダーと、 前記フィルターハウジング内部の前記エアーの上流側に
   配置され、ケミカルガスを注入するガス注入管と、 前記フィルターハウジング内部の前記エアーの下流側に
   配置され、ケミカルガスを吸引するガス吸引管とを備え
   た、ケミカルフィルターユニット。
6. 【請求項６】 フィルター再生チャンバー内部にケミカ
   ルガスを注入するガス注入管とケミカルガスを吸引する
   ガス吸引管とをさらに備えたことを特徴とする請求項４
   記載のケミカルフィルターユニット。
7. 【請求項７】 請求項１ないし請求項６のいずれか１項
   に記載したケミカルフィルターユニットにより、エアー
   中のケミカル物質を除去したケミカル物質除去エアーを
   半導体製造装置またはクリーンルームに供給する工程
   と、 前記ケミカル物質除去エアーの雰囲気下において、半導
   体装置を製造する工程と、を備えたことを特徴とする半
   導体装置の製造方法。