JP2001188144A - 光ファイバアレイおよびその製造方法 - Google Patents

光ファイバアレイおよびその製造方法

Info

Publication number
JP2001188144A
JP2001188144A JP2000000199A JP2000000199A JP2001188144A JP 2001188144 A JP2001188144 A JP 2001188144A JP 2000000199 A JP2000000199 A JP 2000000199A JP 2000000199 A JP2000000199 A JP 2000000199A JP 2001188144 A JP2001188144 A JP 2001188144A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical fiber
substrate
face
fiber array
core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000000199A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Kuroba
敏明 黒羽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seikoh Giken Co Ltd
Original Assignee
Seikoh Giken Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seikoh Giken Co Ltd filed Critical Seikoh Giken Co Ltd
Priority to JP2000000199A priority Critical patent/JP2001188144A/ja
Publication of JP2001188144A publication Critical patent/JP2001188144A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ファイバコアと同一または類似する組成の
V溝基板を用いて光ファイバ先端形状が揃ったファイバ
アレイを提供する。 【解決手段】 本発明による光ファイバアレイは、複数
の光ファイバ2,2・・2を整列させて受け入れる溝を
有する石英基板1と、前記基板1に整列接着固定された
複数本の光ファイバ素線端とを含んでいる。前記基板1
と光ファイバ端を研磨して平滑にし、前記基板と光ファ
イバ端面のエッチング速度の差を利用して光ファイバコ
ア先端を前記光ファイバクラッドから突出するように加
工する。前記光ファイバアレイにおいて前記化学的エッ
チングの後に機械研磨を行い、端面の光ファイバのコア
部の突出した量を0.1〜2.0μmとしたPC接続に
適した光ファイバアレイとすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の光ファイバ
を基板等に固定した後に前記光ファイバの先端を同時加
工した多心光ファイバアレイおよび前記アレイの製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】接続損失低減のために、光ファイバ端面
の曲率半径を5〜20mm程度に加工しておいた単心の
光ファイバ同士を突き合わせ、光ファイバコア間に空気
間隙を発生させないPC(Physical Contact)接続が知ら
れている。光ファイバと発光素子であるレーザダイオー
ドとの光結合効率向上のためには、光ファイバ端面を球
面にレンズ加工することも広く知られている。しかしな
がら、ファイバアレイに関して、前述した接続または結
合のためには、光ファイバ先端をあらかじめ単心ファイ
バの段階で端面加工する必要がある。このようにして加
工した光ファイバを基板のV溝に注意深く整列させて光
ファイバアレイを構成する手法が考えられる。しかしな
がら、この手法ではV溝端面から端面を加工した光ファ
イバの先端までの長さをサブミクロンの精度で調整する
ことが極めて困難で不可能に近い。
【0003】光ファイバの多心アレイは平面導波路との
接続、あるいはアレイ発光素子との結合など、高密度伝
送における並列光伝送モジュールに欠くことのできない
要素部品の一つである。平面導波路との接続では、光フ
ァイバ先端間のPC接続のための球面加工が、アレイ発
光素子との結合では、レンズドファイバなどが期待され
ている。PC接続を実現するためのファイバアレイの加
工例としては、あらかじめテープファイバの端面をPC
研磨し、これをアレイ状のスリーブを介してファイバの
曲げによる座屈力を利用してファイバ端面を押し付ける
ものがある。また、MTコネクタの端面を特殊研磨し、
MTコネクタ端面から1〜2μmファイバを突き出させ
たものなどがある。
【0004】また発光素子との結合では、あらかじめ端
面加工を施したファイバを基板のV溝に整列したもの、
あるいはV溝の先端からファイバを数mm突出させてア
レイ化した後に、光ファイバの先端をアーク放電加工に
より球形化したもがある。特開平5−224098号に
係る光結合回路とその製造方法に係る発明は、シリコン
V溝基板を用いて、単一モード光ファイバ素線を前記V
溝に固定し、光ファイバ先端のみを一括して平坦研磨
し、入射端面をエッチングしてさらに放電により加熱溶
融する例を示している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前述したように、先に
端面加工された光ファイバのアレイ化は調整が煩雑であ
り、精度が不十分なものが多い。また光ファイバを基板
等に先に固定しておいて後に、アーク放電による加工を
施したものも、均一性と、精度について満足することが
できるものではない。本発明の目的は、光ファイバコア
と同一または類似する組成をもち光ファイバの整列手段
を有する基板を用いて、光ファイバ先端の形状が揃った
ファイバアレイを提供することにある。本発明のさらに
他の目的は、前記光ファイバアレイの製造方法を提供す
ることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明による光ファイバアレイは、複数の光ファイ
バを整列支持する整列手段を受け入れる手段を有する石
英基板と、前記基板に整列接着固定された複数本の光フ
ァイバ素線端とを含み、前記基板と光ファイバ端を研磨
して平滑にし、前記基板と光ファイバ端面のエッチング
速度の差を利用して光ファイバコア先端を前記光ファイ
バクラッドから突出するように加工して構成されてい
る。複数の光ファイバを整列させて受け入れる手段とし
て基板の表面に複数本V溝等を設けたものが知られてい
る。この他に基板内に光ファイバ素線を受け入れる貫通
孔を設けたもの等が利用できる。前記光ファイバアレイ
において前記化学的エッチングの後に機械研磨を行い、
端面の光ファイバのコア部の突出した量を0.1〜2.
0μmとしたPC接続に適した光ファイバアレイとする
ことができる。前記光ファイバアレイにおいて前記化学
的エッチングの後に機械研磨を行い、コア部先端の曲率
半径を2〜15μmとした端面の光ファイバが、発光素
子との結合に適した光ファイバアレイとすることができ
る。前記光ファイバアレイにおいて、前記化学的エッチ
ングの後に機械研磨を行うことなく、光ファイバコアの
先端を截頭円錐形にした光ファイバアレイとすることが
できる。前記のさらに他の目的を達成するために、本発
明による光ファイバアレイの製造方法は、複数本の光フ
ァイバ素線、前記素線を整列支持する整列手段を有する
石英製基板、接着剤を準備するステップと、前記光ファ
イバ素線を前記基板に整列接着固定するステップと、前
記光ファイバ素線端面と前記整列溝端面を平滑化するス
テップと、および沸化水素酸,水,および塩化アンモニ
ウムを組成とするエッチング液に前記平滑面を浸積する
ステップと、を含んでいる。前記方法により基板端面に
突出させられた光ファイバ素線端面を機械研磨するステ
ップをさらに含むことができる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下図面等を参照して本発明によ
る装置の実施の形態を説明する。本発明方法は、単心フ
ァイバの端面加工に用いられるエッチング手法をファイ
バアレイに適用したものである。V溝基板、光ファイバ
のクラッド材である石英SiO2および光ファイバのコア部
を構成するドープト石英のエッチャントに対する溶解速
度の差を利用して、V溝基板に固定された光ファイバを
前記基板とともにエッチングして、希望する光ファイバ
先端形状を得るものである。V溝基板自体もエッチング
の対象である。
【0008】純粋石英と数%以上のゲルマニウムを含有
するドープト石英の間では、塩化アンモニウム溶液と沸
化水素酸水溶液を含むエッチャントに対して、エッチャ
ントの組成によりエッチング速度に差が現れる。例え
ば、沸化水素酸:水:40%塩化アンモニウム溶液の組
成比が1:1:1では、ゲルマニウムがドープされたド
ープト石英の方がエッチングされやすい。沸化水素酸:
水:40%塩化アンモニウム溶液の組成比が1:1:1
0では純粋石英のエッチング速度が速くなる。このこと
はV溝基板に純粋石英を用いた場合は、V溝基板と光フ
ァイバのクラッド部分は同じ純粋石英であるから同じ速
度でエッチングされることになり、エッチャントの選択
によりドープト石英のコア部のみをクラッドとV溝基板
から突出させることができる。
【0009】図1Aは、本発明による光ファイバアレイ
の実施例の製造過程におけるV溝端面研磨終了状態の正
面図である。図1Bは前記状態に対応する平面図であ
る。純粋石英製の多心V溝基板1の複数のV溝この例で
は8本に光ファイバ素線2,2・・2を整列させ同じく
石英製のカバー3を用いて抑え、接着剤4を用いて接着
固定する。そして端面をよく知られた研磨方法で研磨
し、光ファイバ素線端面とV溝基板端面を平滑面に調整
する。図1A、1Bは前記平滑面が形成された状態を示
し、図1Bの(2)-(2) の示す線は研磨終了面を示してい
る。
【0010】図2は、図1Aの(1)-(1) の示す線で切断
して示した拡大断面図である。(2)-(2) は前述した研磨
終了面である。図3は、図2の示す状態からある一定時
間エッチングをした状態を示す断面図である。図4は、
図3の状態からさらにエッチングを行いコア先端を機械
的に研磨した状態を示す断面図である。PC接続用の光
ファイバでは、図3に示すように、光ファイバコア2a
のクラッドからの突出量dが1μm以上程度になるま
で、エッチング処理を施した後、それぞれの光ファイバ
の端面を研磨し、光ファイバの突出量hが1μm程度と
なるようにしてある。
【0011】発光素子との結合用のアレイは例えば図3
に示す状態から、さらにエッチングを継続してコア先端
が円錐状になるまでエッチング処理を施した後、それぞ
れ端面を研磨する。そしてコア先端の曲率半径が3〜1
0μm程度となるように研磨を施し調整する。V溝基板
端面に介在するV溝と光ファイバ間の接着剤は、エッチ
ング処理により数μm程度基板端面に突出し残留する
が、エッチング後の先端調整研磨の際に取り除かれる。
【0012】
【実施例】(実施例1)1.3μm用のシングルモード
光ファイバの8心テープ、石英製V溝基板、接着剤を準
備する。光ファイバ素線端面を露出させる。表面にV溝
が設けられている石英基板に接着固定しV溝端面より現
れる光ファイバ先端面とV溝端面を平面に研磨する。前
記研磨面を40°Cに保温した沸化水素酸:水:40%
塩化アンモニウム溶液の組成比が1:1:10のエッチ
ング液に10分間浸積する。その後、引き上げ水洗す
る。バフ研磨紙を用いて軽く光ファイバ端面を研磨す
る。得られたサンプルの端面を観察した結果、光ファイ
バのコア部が石英基板面および、クラッド面から0.5
μm(図3、h=0.5μm)突出していることが確認
された。なお、エッチング液に浸積していた石英基板1
のエッチング量は約1μm(図3、H=1.0μm)で
あった。なおエッチング液に浸積していたカバー3のエ
ッチング量も同様である。このとき光ファイバコアの先
端は截頭円錐形である。
【0013】(実施例2)実施例1と同様に操作し、エ
ッチング液に3分間浸積した後引き上げ水洗する。コア
の突出した量が約0.2μm(h=0.2μm) (実施例3)実施例1と同様に操作し、エッチング液に
30分間浸積した後引き上げ水洗する。突出した量6μ
m(h=6.0μm)であった。このとき光ファイバコ
アの先端は前記実施例よりも高い截頭円錐形である。 (実施例4)実施例1と同様に操作し、エッチング液に
70分間浸積する。その後引き上げて水洗し、バフ研磨
紙を用いて軽く光ファイバ端面を研磨する。得られたサ
ンプルの端面を観察した結果、光ファイバのコア部が石
英基板端面から3μm(図4、h' =3μm)突出しコ
ア先端部の曲率半径は約4μm(図4、R=4μm)で
あることが確認された。このときの石英基板および、カ
バー3のエッチング量は約13μmであった。この量は
図3のHに相当する量である。
【0014】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によ
る光ファイバアレイでは、光ファイバ先端形状が均一で
揃っており、PC接続、光源との結合に好適に利用でき
る。また本発明による光ファイバアレイの製造方法によ
れば、新規な方法により、希望する形状の光ファイバ先
端をもつ光ファイバアレイの製造が可能となった。
【0015】以上詳しく説明した実施例について、本発
明の範囲内で種々の変形を施すことができる。光ファイ
バ先端が基板より突出した例を示したが、光源との結合
の場合には、光ファイバのクラッドやコアの先端が、基
板表面より下がっていてもよい。光ファイバ整列手段と
して、基板の表面に複数本の平行V溝を設ける例を示し
たが、多数本の平行貫通孔とか、他の形状の一つの貫通
孔に光ファイバ素線を密着挿入するようにすることもで
きる。製造の基本ステップは異ならない。
【図面の簡単な説明】
【図1A】本発明による光ファイバアレイの実施例の製
造過程におけるV溝端面研磨終了状態の正面図である。
【図1B】光ファイバアレイの実施例の図1Aの状態に
対応する平面図である。
【図2】図1Aの(1)−(1)に示す線で切断して示
す拡大断面図である。
【図3】図1Aに示した状態からある時間エッチングを
行った状態を示す拡大断面図である。
【図4】図1Aに示した状態からある時間エッチングを
行い、機械研磨を行った状態を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
1 石英製V溝基板 1a V溝 2 光ファイバ素線 2a 光ファイバコア 3 カバー 4 接着剤

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の光ファイバを整列支持する整列手
    段を有する石英基板と、前記基板に整列接着固定された
    複数本の光ファイバ素線端とを含み、前記基板と光ファ
    イバ端を研磨して平滑にし、前記基板と光ファイバ端面
    のエッチング速度の差を利用して光ファイバコア先端を
    前記光ファイバクラッドから突出するように加工して構
    成した光ファイバアレイ。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の光ファイバアレイにおい
    て前記化学的エッチングの後に機械研磨を行い、端面の
    光ファイバのコア部の突出した量を0.1〜2.0μm
    としたPC接続に適した光ファイバアレイ。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の光ファイバアレイにおい
    て前記化学的エッチングの後に機械研磨を行い、コア部
    先端の曲率半径を2〜15μmとした端面の光ファイバ
    が、発光素子との結合に適した光ファイバアレイ。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の光ファイバアレイにおい
    て、前記化学的エッチングの後に機械研磨を行うことな
    く、光ファイバコアの先端を截頭円錐形にした光ファイ
    バアレイ。
  5. 【請求項5】 複数本の光ファイバ素線、前記素線を整
    列支持する整列手段を有する石英製基板、接着剤を準備
    するステップと、前記光ファイバ素線を前記基板に整列
    接着固定するステップと、前記光ファイバ素線端面と前
    記整列溝端面を平滑化するステップと、および沸化水素
    酸,水,および塩化アンモニウムを組成とするエッチン
    グ液に前記平滑面を浸積するステップと、を含む光ファ
    イバアレイの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記方法により基板端面に突出させられ
    た光ファイバ素線端面を機械研磨するステップをさらに
    含む請求項5記載の光ファイバアレイの製造方法。
JP2000000199A 2000-01-05 2000-01-05 光ファイバアレイおよびその製造方法 Pending JP2001188144A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000000199A JP2001188144A (ja) 2000-01-05 2000-01-05 光ファイバアレイおよびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000000199A JP2001188144A (ja) 2000-01-05 2000-01-05 光ファイバアレイおよびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001188144A true JP2001188144A (ja) 2001-07-10

Family

ID=18529584

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000000199A Pending JP2001188144A (ja) 2000-01-05 2000-01-05 光ファイバアレイおよびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001188144A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2958305B2 (ja) 光繊維手動整列方法
JP2014059479A (ja) 光コネクタの製造方法及び光コネクタ
EP1253452A2 (en) Optical fiber array
JPH02280104A (ja) 接続端子台
JP2007199254A (ja) 光モジュール及び光モジュールの製造方法
JP3065300B2 (ja) 光ファイバ及び光導波路素子の接続構造
JPS63316811A (ja) 光コネクタの製造方法
JP3201864B2 (ja) 石英系光導波路部品の製造方法
JP2001188144A (ja) 光ファイバアレイおよびその製造方法
JPH03189607A (ja) ファイバ形光学結合器の製造法
JP2001324647A (ja) 光ファイバアレイ、光導波路チップ及びこれらを接続した光モジュール
JP2003294953A (ja) 光デバイス及びその製造方法
JPH06324234A (ja) 光ファイバアレイの製造方法
JPH0212113A (ja) 光コネクタの製造方法
JP3801148B2 (ja) 光コネクタ
JP2843338B2 (ja) 光導波路・光ファイバ接続コネクタ
JP3234347B2 (ja) 光ファイバアレイとその製造方法
JP2003161860A (ja) レンズド光ファイバアレイ及びその製造方法
JPH06324237A (ja) 光ファイバアレイの製造方法
JP2570307B2 (ja) 光ファイバ接続子
JPH0593824A (ja) 光コネクタ及びその製造方法
JP3221172B2 (ja) 光結合装置
JPH10111417A (ja) 光ファイバ心線とその端面加工法
KR100584115B1 (ko) 광 스플리터 및 그의 제조방법
JPH0580225A (ja) 光フアイバアレイ