JP2001184727A - 光記録媒体基板、光記録媒体および光記録再生方法 - Google Patents
光記録媒体基板、光記録媒体および光記録再生方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ランドとグルーブとの双方に記録がなさる光
記録媒体において、そのランドとグルーブに係わる再生
出力の均一化を図る。 【解決手段】 少なくとも一方の主面に、螺旋状あるい
は同心円状に形成された溝状の凹部２、すなわちグルー
ブと、その隣り合う凹部２間に形成された凸部３、すな
わちランドとが形成されて成り、その凹部の形成周期長
というＴｐが、０．９５μｍ以下とされるものであり、
これら凹部２の底面と凸部３の頂面との段差Ｄが、８０
ｎｍ以上１６５ｎｍ以下であり、凹部の形成周期長Ｔｐ
に対して凹部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐ が、
５０％以上７０％以下に選定された構成とする。
記録媒体において、そのランドとグルーブに係わる再生
出力の均一化を図る。 【解決手段】 少なくとも一方の主面に、螺旋状あるい
は同心円状に形成された溝状の凹部２、すなわちグルー
ブと、その隣り合う凹部２間に形成された凸部３、すな
わちランドとが形成されて成り、その凹部の形成周期長
というＴｐが、０．９５μｍ以下とされるものであり、
これら凹部２の底面と凸部３の頂面との段差Ｄが、８０
ｎｍ以上１６５ｎｍ以下であり、凹部の形成周期長Ｔｐ
に対して凹部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐ が、
５０％以上７０％以下に選定された構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にいわゆるラン
ドグルーブ記録態様による光記録媒体基板、光記録媒体
および光記録再生方法に関わり、そのランドおよびグル
ーブに対する記録の再生信号出力差の減少や、熱的な感
度の均整化を図り、より高い記録密度の向上を図るもの
である。
ドグルーブ記録態様による光記録媒体基板、光記録媒体
および光記録再生方法に関わり、そのランドおよびグル
ーブに対する記録の再生信号出力差の減少や、熱的な感
度の均整化を図り、より高い記録密度の向上を図るもの
である。
【０００２】
【従来の技術】近年の情報のデジタル化により、大容量
のデジタルデータを記録できる媒体が市場から強く要求
されている。このような要求に応えられる媒体として
は、熱記録によって結晶性が変化して光学特性を変化さ
せることによってその記録がなされる、いわゆる相変化
光記録媒体例えば相変化ディスク、あるいは熱もしくは
磁界印加によって光磁気効果を変化させた記録がなされ
る光記録媒体例えば光磁気ディスクがある。一般に、相
変化光ディスク、あるいは光磁気ディスクは、図６にそ
の要部の概略断面図を示すように、光透過性の光記録媒
体１１上に、光透過性誘電体の例えばＳｉＮ、あるいは
ＺｎＳ−ＳｉＯ2 等による光透過層１２を介して、光磁
気記録層、あるいは相変化記録層等の記録層１３が積層
されて成る。
のデジタルデータを記録できる媒体が市場から強く要求
されている。このような要求に応えられる媒体として
は、熱記録によって結晶性が変化して光学特性を変化さ
せることによってその記録がなされる、いわゆる相変化
光記録媒体例えば相変化ディスク、あるいは熱もしくは
磁界印加によって光磁気効果を変化させた記録がなされ
る光記録媒体例えば光磁気ディスクがある。一般に、相
変化光ディスク、あるいは光磁気ディスクは、図６にそ
の要部の概略断面図を示すように、光透過性の光記録媒
体１１上に、光透過性誘電体の例えばＳｉＮ、あるいは
ＺｎＳ−ＳｉＯ2 等による光透過層１２を介して、光磁
気記録層、あるいは相変化記録層等の記録層１３が積層
されて成る。
【０００３】相変化光ディスクは、記録された情報信号
を、所定の光に対する反射率の変化を検出することによ
り再生しており、光磁気ディスクは、情報信号を所定の
光の偏光状態の変化を検出することにより再生してい
る。これら光ディスクにおいては、これらディスクを構
成する基板表面に、記録再生装置の光ピックアップから
出射されるレーザビームを情報列に沿って導くための、
すなわち、トラッキングサーボ信号を得るための案内
溝、すなわち溝状の凹部１４いわゆるグルーブが、螺旋
状あるいは同心円状に形成されている。そして、高密度
記録化のために、このグルーブ内と、これら隣り合うグ
ルーブ間の凸部１５いわゆるランドとの双方に情報信号
を記録する、いわゆるランドグルーブ記録方式が、広く
用いられる方向にある。
を、所定の光に対する反射率の変化を検出することによ
り再生しており、光磁気ディスクは、情報信号を所定の
光の偏光状態の変化を検出することにより再生してい
る。これら光ディスクにおいては、これらディスクを構
成する基板表面に、記録再生装置の光ピックアップから
出射されるレーザビームを情報列に沿って導くための、
すなわち、トラッキングサーボ信号を得るための案内
溝、すなわち溝状の凹部１４いわゆるグルーブが、螺旋
状あるいは同心円状に形成されている。そして、高密度
記録化のために、このグルーブ内と、これら隣り合うグ
ルーブ間の凸部１５いわゆるランドとの双方に情報信号
を記録する、いわゆるランドグルーブ記録方式が、広く
用いられる方向にある。
【０００４】これら相変化光ディスクあるいは光磁気デ
ィスクにおける情報信号の記録方法は、いずれもレーザ
光を集光して記録層を昇温させるいわゆる熱記録によっ
ている。この場合の再生信号レベルは、再生に用いるレ
ーザ光の波長をλ、ディスク基板の屈折率をｎとすると
き、プッシュプル信号の変調度については、ランドとグ
ルーブの段差Ｄが、約（２ｍ−１）λ／（８ｎ）（ｍは
自然数）のとき極大になる。通常、この段差Ｄは、約λ
／（８ｎ）〜λ／（６ｎ）に設計されている。しかしな
がら、この場合、ランドグルーブ記録においては、隣接
するトラックからの熱クロストークによるいわゆるクロ
スライトやクロスイレーズと呼ばれる熱干渉の影響が大
きくなり、記録信号の不所望な書き込み、あるいは消
去、消滅が発生し、これが再生信号の劣化、あるいは消
失を来し、高密度化の妨げとなっている。
ィスクにおける情報信号の記録方法は、いずれもレーザ
光を集光して記録層を昇温させるいわゆる熱記録によっ
ている。この場合の再生信号レベルは、再生に用いるレ
ーザ光の波長をλ、ディスク基板の屈折率をｎとすると
き、プッシュプル信号の変調度については、ランドとグ
ルーブの段差Ｄが、約（２ｍ−１）λ／（８ｎ）（ｍは
自然数）のとき極大になる。通常、この段差Ｄは、約λ
／（８ｎ）〜λ／（６ｎ）に設計されている。しかしな
がら、この場合、ランドグルーブ記録においては、隣接
するトラックからの熱クロストークによるいわゆるクロ
スライトやクロスイレーズと呼ばれる熱干渉の影響が大
きくなり、記録信号の不所望な書き込み、あるいは消
去、消滅が発生し、これが再生信号の劣化、あるいは消
失を来し、高密度化の妨げとなっている。
【０００５】このような、問題を解決するために、特開
平１１−２５５３４号公報に開示された光磁気ディスク
の提案がなされている。この構成においては、グルーブ
とランドとの境界領域となる案内溝の側壁面が傾斜面と
され、その幅を１６０ｎｍ以上とするものであり、この
ようにすることによってグルーブとランドとの間の実質
的距離を長くして、熱クロストークの低減化を図るもの
である。
平１１−２５５３４号公報に開示された光磁気ディスク
の提案がなされている。この構成においては、グルーブ
とランドとの境界領域となる案内溝の側壁面が傾斜面と
され、その幅を１６０ｎｍ以上とするものであり、この
ようにすることによってグルーブとランドとの間の実質
的距離を長くして、熱クロストークの低減化を図るもの
である。
【０００６】しかしながら、より大きな記録密度を達成
するためには、隣り合う案内溝すなわち凹部１４の中心
（幅方向の中央）間の距離、すなわち凹部１４の形成周
期長Ｔｐを小さくことが必要で、更にこの場合において
も、ランドとグルーブとの記録部間の熱干渉を小さくす
るには、凹部１４と凸部１５との段差Ｄを大きくするこ
とになる。ところが、段差Ｄを大きく、かつ凹部１４の
形成周期長Ｔｐを小さくすると、光透過層１２および記
録層１３の成膜を、基板表面に追従した成膜表面が得ら
れず、成膜表面、すなわち記録層１３における凹部の幅
がせまくなり、これによって凹部１４と凸部１５におけ
る記録部の再生信号出力に大きな差が生じる。
するためには、隣り合う案内溝すなわち凹部１４の中心
（幅方向の中央）間の距離、すなわち凹部１４の形成周
期長Ｔｐを小さくことが必要で、更にこの場合において
も、ランドとグルーブとの記録部間の熱干渉を小さくす
るには、凹部１４と凸部１５との段差Ｄを大きくするこ
とになる。ところが、段差Ｄを大きく、かつ凹部１４の
形成周期長Ｔｐを小さくすると、光透過層１２および記
録層１３の成膜を、基板表面に追従した成膜表面が得ら
れず、成膜表面、すなわち記録層１３における凹部の幅
がせまくなり、これによって凹部１４と凸部１５におけ
る記録部の再生信号出力に大きな差が生じる。
【０００７】光ディスクにおいて、検出できる記録信号
の限界周期長は、レーザ光の波長をλ、対物レンズの開
口数をＮＡとすると、λ／ＮＡに比例することから、よ
り大きい記録密度を達成するためには、レーザ光の短波
長化を図り、対物レンズの開口数ＮＡを大きくすれば良
い。近年、例えば固体レーザからのレーザ光を、ＳＨＧ
（第２高調波発生）素子によって波長変換して波長λが
４１５ｎｍ以下の光源を得ること、更に、半導体レーザ
技術の進歩により、４０５ｎｍ，４０７ｎｍのレーザ光
を得ることができる半導体レーザの開発がなされてい
る。
の限界周期長は、レーザ光の波長をλ、対物レンズの開
口数をＮＡとすると、λ／ＮＡに比例することから、よ
り大きい記録密度を達成するためには、レーザ光の短波
長化を図り、対物レンズの開口数ＮＡを大きくすれば良
い。近年、例えば固体レーザからのレーザ光を、ＳＨＧ
（第２高調波発生）素子によって波長変換して波長λが
４１５ｎｍ以下の光源を得ること、更に、半導体レーザ
技術の進歩により、４０５ｎｍ，４０７ｎｍのレーザ光
を得ることができる半導体レーザの開発がなされてい
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、光デ
ィスクにおいて、レーザ波長が、４１５ｎｍ以下、例え
ば４０７ｎｍを用いる場合、基板の屈折率ｎが１．６の
場合、例えばトラッキングサーボのためのプッシュプル
信号の変調度を極大にするためには、ランド（凸部）と
グルーブ（凹部）との段差Ｄは、上述した関係から、約
３２ｎｍ、９５ｎｍ、１５９ｎｍ・・・とすれば良い
が、高記録密度化において、より強い熱クロストーク抑
制効果を得るには、上述の段差Ｄの値の中で、できるだ
け大きな値に選定することになる。
ィスクにおいて、レーザ波長が、４１５ｎｍ以下、例え
ば４０７ｎｍを用いる場合、基板の屈折率ｎが１．６の
場合、例えばトラッキングサーボのためのプッシュプル
信号の変調度を極大にするためには、ランド（凸部）と
グルーブ（凹部）との段差Ｄは、上述した関係から、約
３２ｎｍ、９５ｎｍ、１５９ｎｍ・・・とすれば良い
が、高記録密度化において、より強い熱クロストーク抑
制効果を得るには、上述の段差Ｄの値の中で、できるだ
け大きな値に選定することになる。
【０００９】しかしながら、前述したように、ランドと
グルーブとの段差Ｄが大きくなると、基板表面上の光透
過層１２や、記録層１３の厚さの影響で、基板１１の表
面形状を、そのまま追従することが困難となる。すなわ
ち、凹部と凸部の間の側壁部分にも、成膜がなされるこ
とから、そこで形成された層厚分だけ、凹部の幅が減少
し、凸部の幅が増加する。
グルーブとの段差Ｄが大きくなると、基板表面上の光透
過層１２や、記録層１３の厚さの影響で、基板１１の表
面形状を、そのまま追従することが困難となる。すなわ
ち、凹部と凸部の間の側壁部分にも、成膜がなされるこ
とから、そこで形成された層厚分だけ、凹部の幅が減少
し、凸部の幅が増加する。
【００１０】また、この影響は、凹部の形成周期長Ｔｐ
が小さくなるほど、また凹部と凸部の段差Ｄが大きくな
るほど顕著となる。また、基板１１上に形成される構成
膜のうち、基板側に形成される膜、すなわち上述の構成
においては、光透過層１２の層厚に特に強く影響され
る。
が小さくなるほど、また凹部と凸部の段差Ｄが大きくな
るほど顕著となる。また、基板１１上に形成される構成
膜のうち、基板側に形成される膜、すなわち上述の構成
においては、光透過層１２の層厚に特に強く影響され
る。
【００１１】本発明は、記録密度の向上のために、ラン
ドとグルーブとの双方に記録がなされる、いわゆるラン
ドグルーブ記録を行う場合において、ランドとグルーブ
の各記録部間における熱クロストークを効果的に抑制
し、しかもランドとグルーブに対する再生信号出力差を
小さくすることができ、より高記録密度化を図ることの
できる光記録媒体基板、光記録媒体および光記録再生方
法を提供するものである。尚、光記録再生方法とは、光
記録もしくは再生の少なくとも一方のみを行う場合をも
含んで呼称するものとする。
ドとグルーブとの双方に記録がなされる、いわゆるラン
ドグルーブ記録を行う場合において、ランドとグルーブ
の各記録部間における熱クロストークを効果的に抑制
し、しかもランドとグルーブに対する再生信号出力差を
小さくすることができ、より高記録密度化を図ることの
できる光記録媒体基板、光記録媒体および光記録再生方
法を提供するものである。尚、光記録再生方法とは、光
記録もしくは再生の少なくとも一方のみを行う場合をも
含んで呼称するものとする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述したよう
に、ランドグルーブ記録を対象とするものである。本発
明による光記録媒体基板は、少なくとも一方の主面に、
螺旋状あるいは同心円状に形成された溝状の凹部、すな
わちグルーブと、その隣り合う凹部間に形成された凸
部、すなわちランドとが形成されて成り、その隣り合う
各凹部の中心間の距離、すなわち凹部の形成周期長Ｔｐ
が、０．９５μｍ以下とされるものであり、これら凹部
の底面と凸部の頂面との段差Ｄが、８０ｎｍ以上１６５
ｎｍ以下であり、凹部の形成周期長Ｔｐに対して凹部の
底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、５０％以上７０％以
下に選定された構成とする。
に、ランドグルーブ記録を対象とするものである。本発
明による光記録媒体基板は、少なくとも一方の主面に、
螺旋状あるいは同心円状に形成された溝状の凹部、すな
わちグルーブと、その隣り合う凹部間に形成された凸
部、すなわちランドとが形成されて成り、その隣り合う
各凹部の中心間の距離、すなわち凹部の形成周期長Ｔｐ
が、０．９５μｍ以下とされるものであり、これら凹部
の底面と凸部の頂面との段差Ｄが、８０ｎｍ以上１６５
ｎｍ以下であり、凹部の形成周期長Ｔｐに対して凹部の
底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、５０％以上７０％以
下に選定された構成とする。
【００１３】本発明による光記録媒体は、上述した本発
明による光記録媒体基板の凹部および凸部に情報の記録
層が形成された構成とする。
明による光記録媒体基板の凹部および凸部に情報の記録
層が形成された構成とする。
【００１４】また、本発明による光記録再生方法は、上
述した特定された構成による光記録媒体が用いられて、
これに対する記録および再生の少なくともいづれかが、
波長４１５ｎｍ以下の例えば４００ｎｍ程度のレーザ光
照射によって行う。
述した特定された構成による光記録媒体が用いられて、
これに対する記録および再生の少なくともいづれかが、
波長４１５ｎｍ以下の例えば４００ｎｍ程度のレーザ光
照射によって行う。
【００１５】また、温度分布を利用した磁区の拡大およ
び縮小の少なくともいずれかを行う、磁壁移動動作によ
る情報の読み出しを行う光記録媒体（以下ＤＷＤＤ媒体
という）においては、凹部の形成周期長Ｔｐに対する凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐは、好ましくは６０
％以上７０％以下に選定する。
び縮小の少なくともいずれかを行う、磁壁移動動作によ
る情報の読み出しを行う光記録媒体（以下ＤＷＤＤ媒体
という）においては、凹部の形成周期長Ｔｐに対する凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐは、好ましくは６０
％以上７０％以下に選定する。
【００１６】また、本発明による光記録再生方法は、こ
の磁壁移動動作による情報の読み出しにおいて、その光
記録媒体に対する記録および／または再生、すなわち記
録および再生の少なくともいづれかを、波長４１５ｎｍ
以下の光照射によって行う。
の磁壁移動動作による情報の読み出しにおいて、その光
記録媒体に対する記録および／または再生、すなわち記
録および再生の少なくともいづれかを、波長４１５ｎｍ
以下の光照射によって行う。
【００１７】上述したように、本発明においては、光記
録媒体を構成する基板における凹部の形成周期長Ｔｐ
を、０．９５μｍ以下に選定する。これは、本発明にお
いては、通常の、波長６５０ｎｍのレーザ光を用いる例
えばＤＶＤ（Digital Versatile Disc）における１．５
倍程度の記録密度を得ることを目的として凹部の形成周
期長Ｔｐを、０．９５μｍ以下に選定するものである。
すなわち、このように凹部の形成周期長Ｔｐを、０．９
５μｍ以下に選定して、ランドグルーブ記録とすること
により、実質的記録トラック周期長は０．４７５μｍと
なり、通常のＤＶＤのトラック密度の約１．５倍以上を
達成できるものである。
録媒体を構成する基板における凹部の形成周期長Ｔｐ
を、０．９５μｍ以下に選定する。これは、本発明にお
いては、通常の、波長６５０ｎｍのレーザ光を用いる例
えばＤＶＤ（Digital Versatile Disc）における１．５
倍程度の記録密度を得ることを目的として凹部の形成周
期長Ｔｐを、０．９５μｍ以下に選定するものである。
すなわち、このように凹部の形成周期長Ｔｐを、０．９
５μｍ以下に選定して、ランドグルーブ記録とすること
により、実質的記録トラック周期長は０．４７５μｍと
なり、通常のＤＶＤのトラック密度の約１．５倍以上を
達成できるものである。
【００１８】そして、この構成で、その光記録媒体基板
を、凹部の底面と凸部の頂面との段差Ｄが、８０ｎｍ以
上１６５ｎｍ以下とし、凹部の形成周期長Ｔｐに対して
凹部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、５０％以上７
０％以下に選定することによって、これによって光記録
媒体を構成するとき、凹部底面すなわちグルーブ底面の
記録層の幅と、凸部頂面すなわちランド幅の各記録層の
幅を均一化することができ、また両記録層間の熱クロス
トーク、したがって、クロスライト、クロスイレーズ抑
制が得られた。
を、凹部の底面と凸部の頂面との段差Ｄが、８０ｎｍ以
上１６５ｎｍ以下とし、凹部の形成周期長Ｔｐに対して
凹部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、５０％以上７
０％以下に選定することによって、これによって光記録
媒体を構成するとき、凹部底面すなわちグルーブ底面の
記録層の幅と、凸部頂面すなわちランド幅の各記録層の
幅を均一化することができ、また両記録層間の熱クロス
トーク、したがって、クロスライト、クロスイレーズ抑
制が得られた。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１にその一実施形態の要部の概
略断面図を示すように、本発明による光記録媒体基板１
は、例えば光透過性のポリカーボネート（ＰＣ）、ガラ
ス等の例えば円板状の基板より成り、その少なくとも一
方の主面に、螺旋状あるいは同心円状に形成された溝状
の凹部（グルーブ）２が形成されて、これら隣り合う凹
部２間に凸部（ランド）３が形成されて成る。そして、
その隣り合う各凹部２の中心間の距離、すなわち凹部２
の形成周期長Ｔｐを、０．９５μｍ以下に選定し、これ
ら凹部２の底面と凸部３の頂面との段差Ｄを、８０ｎｍ
〜１６５ｎｍに選定する。更に、光磁気記録媒体を構成
する光記録媒体基板を構成する場合は、凹部２の形成周
期長Ｔｐに対して凹部２の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔ
ｐを、５０％〜７０％に選定し、磁壁移動によるＤＷＤ
Ｄ媒体を構成する光記録媒体基板を構成する場合は、Ｗ
ｏ／Ｔｐを、好ましくは６０％〜７０％に選定する。
略断面図を示すように、本発明による光記録媒体基板１
は、例えば光透過性のポリカーボネート（ＰＣ）、ガラ
ス等の例えば円板状の基板より成り、その少なくとも一
方の主面に、螺旋状あるいは同心円状に形成された溝状
の凹部（グルーブ）２が形成されて、これら隣り合う凹
部２間に凸部（ランド）３が形成されて成る。そして、
その隣り合う各凹部２の中心間の距離、すなわち凹部２
の形成周期長Ｔｐを、０．９５μｍ以下に選定し、これ
ら凹部２の底面と凸部３の頂面との段差Ｄを、８０ｎｍ
〜１６５ｎｍに選定する。更に、光磁気記録媒体を構成
する光記録媒体基板を構成する場合は、凹部２の形成周
期長Ｔｐに対して凹部２の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔ
ｐを、５０％〜７０％に選定し、磁壁移動によるＤＷＤ
Ｄ媒体を構成する光記録媒体基板を構成する場合は、Ｗ
ｏ／Ｔｐを、好ましくは６０％〜７０％に選定する。
【００２０】図２は、本発明による光記録媒体４の一実
施形態の一例の要部の概略断面図を示すが、本発明はこ
の例に限定されるものではない。この例においては、上
述した本発明構成による光記録媒体基板１の、凹部２お
よび凸部３が形成された主面上に、記録および／または
再生を光照射によって行う記録層４、例えば磁気光学効
果を有する単層の記録層４が、介在層５、この例では透
明誘電体の例えば磁気光学効果による再生光のエンハン
スを行うための窒化珪素ＳｉＮより成る光透過層５を介
して成膜された構成とした場合であるが、これら光透過
層５は、単層構造に限られず、多層構造とすることもで
きる。また、記録層４も、単層構造に限られるものでは
なく、例えば交換結合された複数の磁性層の積層構造と
することもできる。
施形態の一例の要部の概略断面図を示すが、本発明はこ
の例に限定されるものではない。この例においては、上
述した本発明構成による光記録媒体基板１の、凹部２お
よび凸部３が形成された主面上に、記録および／または
再生を光照射によって行う記録層４、例えば磁気光学効
果を有する単層の記録層４が、介在層５、この例では透
明誘電体の例えば磁気光学効果による再生光のエンハン
スを行うための窒化珪素ＳｉＮより成る光透過層５を介
して成膜された構成とした場合であるが、これら光透過
層５は、単層構造に限られず、多層構造とすることもで
きる。また、記録層４も、単層構造に限られるものでは
なく、例えば交換結合された複数の磁性層の積層構造と
することもできる。
【００２１】光透過層、すなわち介在層（以下光透過層
という）５の厚さｄT は、凹部２の底面の幅Ｗｏに対す
る割合ｄT ／Ｗｏが１５％以下となるように選定され
る。また、記録層４の厚さｄM と、光透過層５の厚さｄ
T の全厚さｄの凹部２の底面の幅Ｗｏに対する割合ｄ／
Ｗｏが５０％以下となるように選定される。
という）５の厚さｄT は、凹部２の底面の幅Ｗｏに対す
る割合ｄT ／Ｗｏが１５％以下となるように選定され
る。また、記録層４の厚さｄM と、光透過層５の厚さｄ
T の全厚さｄの凹部２の底面の幅Ｗｏに対する割合ｄ／
Ｗｏが５０％以下となるように選定される。
【００２２】これら光透過層５および記録層４の成膜
は、例えばスパッタリングによることができる。このよ
うな成膜を行うと、凹部２の形成周期長Ｔｐが小さくな
るほど、また凹部２と凸部３との段差Ｄが大きくなるほ
ど、この凹部２と凸部３との間の境界面すなわち凹部２
の側壁面に付着する層厚の影響で、凹部２の底面の幅Ｗ
ｏに対する記録層４に生じる凹部２０の幅Ｗは小さくな
る。
は、例えばスパッタリングによることができる。このよ
うな成膜を行うと、凹部２の形成周期長Ｔｐが小さくな
るほど、また凹部２と凸部３との段差Ｄが大きくなるほ
ど、この凹部２と凸部３との間の境界面すなわち凹部２
の側壁面に付着する層厚の影響で、凹部２の底面の幅Ｗ
ｏに対する記録層４に生じる凹部２０の幅Ｗは小さくな
る。
【００２３】本発明者等は、凹部２の形成周期長Ｔｐを
０．９５μｍ以下、段差Ｄを８０ｎｍ〜１６５ｎｍとす
る場合において、鋭意実験考察を行って結果、成膜層表
面の凹部２０の幅Ｗは、次の（１）式の関係を有するこ
とを見出した。 Ｗ＝Ｗｏ−２×ｄ／ｔａｎθ （１） ここで、ｄは層厚、すなわち図２の構成では、光透過層
５の厚さｄT と記録層４の厚さｄM との和であり、θ
は、図２に示すように、凹部２の底部側縁とこの上に形
成された各成膜層５および４の界面の変曲線とを結ぶ面
と凹部２の底面とのなす角である。そして、この角θ
は、上述の形成周期長Ｔｐを０．９５μｍ以下、段差Ｄ
を８０ｎｍ〜１６５ｎｍとする場合において、７０°〜
８０°となることがわかった。
０．９５μｍ以下、段差Ｄを８０ｎｍ〜１６５ｎｍとす
る場合において、鋭意実験考察を行って結果、成膜層表
面の凹部２０の幅Ｗは、次の（１）式の関係を有するこ
とを見出した。 Ｗ＝Ｗｏ−２×ｄ／ｔａｎθ （１） ここで、ｄは層厚、すなわち図２の構成では、光透過層
５の厚さｄT と記録層４の厚さｄM との和であり、θ
は、図２に示すように、凹部２の底部側縁とこの上に形
成された各成膜層５および４の界面の変曲線とを結ぶ面
と凹部２の底面とのなす角である。そして、この角θ
は、上述の形成周期長Ｔｐを０．９５μｍ以下、段差Ｄ
を８０ｎｍ〜１６５ｎｍとする場合において、７０°〜
８０°となることがわかった。
【００２４】この成膜の変曲線は、基板面に対するスパ
ッタ粒子の入射角度が異なる場所で、膜成長速度が異な
るために、膜の形成に伴って、凹部２の中心側に変曲線
が移動する傾向があるため、角度θが生じるのである。
ッタ粒子の入射角度が異なる場所で、膜成長速度が異な
るために、膜の形成に伴って、凹部２の中心側に変曲線
が移動する傾向があるため、角度θが生じるのである。
【００２５】光透過層５を設ける場合、上記（１）式に
より得られる光透過層５の形成後、すなわち記録層４の
形成直前の凹部の幅が凹凸の形成周期の５０％程度であ
れば、ランドとグルーブにおける再生信号出力差を低減
できる。このように凹部が凹凸の形成周期の５０％とい
うことは、凹凸部の段差における側面の傾斜を考慮する
とき、凸部の成膜幅に比しおおきくなってしまう。しか
し、凹部においては、その底部側縁の屈曲部において成
膜の不均一部が生じる場合があることから、幅に比した
実質的な再生信号出力が低下する傾向にあり、凸部にお
いては、その底部側縁から続いた側壁部が再生信号に寄
与し、幅に比した実質的な再生信号出力が増大する傾向
にあることから、この凹部における幅を凸部上に比して
大に選定するとき、上述した再生信号出力の差が軽減さ
れる。したがって、光透過層５の形成後の凹部の幅が凹
凸の形成周期の５０％以下であっても、前記側面の傾斜
による影響で凸部の幅の形成周期に対する割合がより小
さくなっているので、結果的に再生信号出力の均整化が
図られる場合もあり得るが、少なくとも基板での凹部の
幅Ｗｏの割合が５０％以上であれば良い。
より得られる光透過層５の形成後、すなわち記録層４の
形成直前の凹部の幅が凹凸の形成周期の５０％程度であ
れば、ランドとグルーブにおける再生信号出力差を低減
できる。このように凹部が凹凸の形成周期の５０％とい
うことは、凹凸部の段差における側面の傾斜を考慮する
とき、凸部の成膜幅に比しおおきくなってしまう。しか
し、凹部においては、その底部側縁の屈曲部において成
膜の不均一部が生じる場合があることから、幅に比した
実質的な再生信号出力が低下する傾向にあり、凸部にお
いては、その底部側縁から続いた側壁部が再生信号に寄
与し、幅に比した実質的な再生信号出力が増大する傾向
にあることから、この凹部における幅を凸部上に比して
大に選定するとき、上述した再生信号出力の差が軽減さ
れる。したがって、光透過層５の形成後の凹部の幅が凹
凸の形成周期の５０％以下であっても、前記側面の傾斜
による影響で凸部の幅の形成周期に対する割合がより小
さくなっているので、結果的に再生信号出力の均整化が
図られる場合もあり得るが、少なくとも基板での凹部の
幅Ｗｏの割合が５０％以上であれば良い。
【００２６】上述したところから、本発明による光記録
媒体基板および光記録媒体の構成とするとき、ランドお
よびグルーブの再生信号出力の均整化が図られることが
分かる。
媒体基板および光記録媒体の構成とするとき、ランドお
よびグルーブの再生信号出力の均整化が図られることが
分かる。
【００２７】また、図２の光記録媒体基板１上に形成さ
れる光透過層５を構成する材料層は、一般にその屈折率
が可視光に対して２．０程度の例えば上述した窒化珪素
を用いることが多い。この場合、磁気光学効果による再
生信号出力を増大すなわちエンハンスさせるためには、
窒化珪素膜の厚さｄT は、再生光波長λに対し、下記
（２）式で与えられる程度に選定することが好ましいと
されている。 （ｍ−１）λ／４＋λ／１２ （２） ここで、ｍは自然数。
れる光透過層５を構成する材料層は、一般にその屈折率
が可視光に対して２．０程度の例えば上述した窒化珪素
を用いることが多い。この場合、磁気光学効果による再
生信号出力を増大すなわちエンハンスさせるためには、
窒化珪素膜の厚さｄT は、再生光波長λに対し、下記
（２）式で与えられる程度に選定することが好ましいと
されている。 （ｍ−１）λ／４＋λ／１２ （２） ここで、ｍは自然数。
【００２８】前記（１）式によれば、記録層４の凹部２
０の幅Ｗは、基板１上に形成する層厚ｄの増加に伴って
減少していくため、層厚ｄは小さいことが好ましい。
０の幅Ｗは、基板１上に形成する層厚ｄの増加に伴って
減少していくため、層厚ｄは小さいことが好ましい。
【００２９】そして、本発明による光記録再生方法にお
いては、高い記録密度を得るために、その再生光とし
て、波長４１５ｎｍ以下の波長のレーザ光を用いて、そ
の記録および再生、あるいは記録もしくは再生を行う。
いては、高い記録密度を得るために、その再生光とし
て、波長４１５ｎｍ以下の波長のレーザ光を用いて、そ
の記録および再生、あるいは記録もしくは再生を行う。
【００３０】いま、上記（１）式に基いて、上述したθ
＝７０°，θ＝８０°とする場合における、基板１に形
成される膜の層厚ｄを０ｎｍ〜１８０ｎｍの間で変化さ
せ、また、凹部２の形成周期長Ｔｐが、０．９５μｍ以
下において、０．６０μｍ以上の範囲で変化させたとき
の、上述したような記録層４における凹部２０の幅Ｗを
周期Ｔｐの５０％とすることのできる、凹部２の底面の
幅Ｗｏの凹部２の形成周期長Ｔｐに対する割合（Ｗｏ／
Ｔｐ）×１００〔％〕、および層厚ｄの凹部２の底面の
幅Ｗｏに対する割合（ｄ／Ｗｏ）×１００〔％〕を求め
ると、それぞれ表１および表２と、表３および表４とな
る。
＝７０°，θ＝８０°とする場合における、基板１に形
成される膜の層厚ｄを０ｎｍ〜１８０ｎｍの間で変化さ
せ、また、凹部２の形成周期長Ｔｐが、０．９５μｍ以
下において、０．６０μｍ以上の範囲で変化させたとき
の、上述したような記録層４における凹部２０の幅Ｗを
周期Ｔｐの５０％とすることのできる、凹部２の底面の
幅Ｗｏの凹部２の形成周期長Ｔｐに対する割合（Ｗｏ／
Ｔｐ）×１００〔％〕、および層厚ｄの凹部２の底面の
幅Ｗｏに対する割合（ｄ／Ｗｏ）×１００〔％〕を求め
ると、それぞれ表１および表２と、表３および表４とな
る。
【００３１】ここで、凹部２の形成周期長Ｔｐを、０．
６０μｍ以上としたのは、波長４００ｎｍ程度の再生光
によって、凹部２をトラッキングサーボ信号を得る案内
溝として用いる場合、凹凸の形成周期Ｔｐが、０．６０
μｍ未満では、サーボ信号出力が小さく、安定した記録
再生が困難となって来ることによる。
６０μｍ以上としたのは、波長４００ｎｍ程度の再生光
によって、凹部２をトラッキングサーボ信号を得る案内
溝として用いる場合、凹凸の形成周期Ｔｐが、０．６０
μｍ未満では、サーボ信号出力が小さく、安定した記録
再生が困難となって来ることによる。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】
【表３】
【００３５】
【表４】
【００３６】表１〜表４からわかるように、凹部２の周
期Ｔｐが小さくなるほど、および／または層厚ｄが厚く
なるほど、成膜後の凹部２０の幅Ｗを５０％に保持する
に必要な凹部２の底面の幅Ｗｏが大きくなる。また、表
１〜表４からわかるように、凹部２の周期Ｔｐを、０．
６０μｍ以上０．９５μｍ以下とする範囲において、薄
膜形成後の凹部の幅の割合は、ｄ＝０ｎｍのときには凹
凸の形成周期、角度θに関わらず、５０％となっている
ことがわかる。つまり、基板１上に記録層４を直接形成
する場合が、この場合に相当する。したがって、凹凸形
成周期に対する基板１の表面での凹部の幅Ｗｏの割合は
最低でも５０％以上必要であり、基板１上に形成する薄
膜の厚さが１６５ｎｍまでを考慮すると、凹部の幅の割
合は７０％以下であれば、薄膜形成後においても５０％
以上を確保できる。
期Ｔｐが小さくなるほど、および／または層厚ｄが厚く
なるほど、成膜後の凹部２０の幅Ｗを５０％に保持する
に必要な凹部２の底面の幅Ｗｏが大きくなる。また、表
１〜表４からわかるように、凹部２の周期Ｔｐを、０．
６０μｍ以上０．９５μｍ以下とする範囲において、薄
膜形成後の凹部の幅の割合は、ｄ＝０ｎｍのときには凹
凸の形成周期、角度θに関わらず、５０％となっている
ことがわかる。つまり、基板１上に記録層４を直接形成
する場合が、この場合に相当する。したがって、凹凸形
成周期に対する基板１の表面での凹部の幅Ｗｏの割合は
最低でも５０％以上必要であり、基板１上に形成する薄
膜の厚さが１６５ｎｍまでを考慮すると、凹部の幅の割
合は７０％以下であれば、薄膜形成後においても５０％
以上を確保できる。
【００３７】そして、波長４００ｎｍ程度の再生光にと
いては、凹凸の形成周期Ｔｐが０．６０μｍ以下となる
と、サーボ信号出力が低下することにより、安定な記録
再生が困難となってくる。また、基板１上に形成する膜
厚は、磁気交換結合多層膜などの比較的膜厚の厚い構成
の光記録層を形成したとしても、その厚さは、たかだか
１８０ｎｍ程度である。
いては、凹凸の形成周期Ｔｐが０．６０μｍ以下となる
と、サーボ信号出力が低下することにより、安定な記録
再生が困難となってくる。また、基板１上に形成する膜
厚は、磁気交換結合多層膜などの比較的膜厚の厚い構成
の光記録層を形成したとしても、その厚さは、たかだか
１８０ｎｍ程度である。
【００３８】そのため、本発明による光記録媒体基板
の、凹部の幅Ｗｏを、凹凸の周期Ｔｐに対して５０％〜
７０％とする構成によれば、この基板１に対して記録層
を形成した光記録媒体は、その薄膜すなわち記録層の形
成後におけるランドとグルーブの再生出力差を小さくす
るように制御できるものである。
の、凹部の幅Ｗｏを、凹凸の周期Ｔｐに対して５０％〜
７０％とする構成によれば、この基板１に対して記録層
を形成した光記録媒体は、その薄膜すなわち記録層の形
成後におけるランドとグルーブの再生出力差を小さくす
るように制御できるものである。
【００３９】また、再生光波長が、従前のＤＶＤや、Ｍ
Ｄ（ミニディスク）−ＤＡＴＡ２で採用されている６５
０ｎｍ程度以下であれば磁気光学効果を極大にするとい
う条件を考慮すると、層厚ｄの値は上記（２）式から５
４ｎｍ程度以下が好ましく、表１〜表４から、ｄの値は
基板表面における凹部の幅に対して１５％以下であれ
ば、薄膜形成後の凹部の幅の割合が５０％以上にでき
る。つまり、光透過層５の厚さｄT を凹部の幅Ｗｏに対
しての割合ｄT ／Ｗｏが１５％以下にすれば、この上に
形成した記録層、すなわち光記録層４を介して形成した
光記録媒体におけるランドとグルーブでの再生信号出力
差を小さくできる。また、光透過層５と記録層４との厚
さの総和ｄの値を考えたとき、表１〜表４の結果から合
計した膜厚が１６５ｎｍであっても、その値は、基板表
面での凹部の幅Ｗｏの５０％以下の範囲に収まってい
る。一般に考えられる光記録媒体の膜厚構成において
は、合計の膜厚１６５ｎｍ以上であることは殆どない。
Ｄ（ミニディスク）−ＤＡＴＡ２で採用されている６５
０ｎｍ程度以下であれば磁気光学効果を極大にするとい
う条件を考慮すると、層厚ｄの値は上記（２）式から５
４ｎｍ程度以下が好ましく、表１〜表４から、ｄの値は
基板表面における凹部の幅に対して１５％以下であれ
ば、薄膜形成後の凹部の幅の割合が５０％以上にでき
る。つまり、光透過層５の厚さｄT を凹部の幅Ｗｏに対
しての割合ｄT ／Ｗｏが１５％以下にすれば、この上に
形成した記録層、すなわち光記録層４を介して形成した
光記録媒体におけるランドとグルーブでの再生信号出力
差を小さくできる。また、光透過層５と記録層４との厚
さの総和ｄの値を考えたとき、表１〜表４の結果から合
計した膜厚が１６５ｎｍであっても、その値は、基板表
面での凹部の幅Ｗｏの５０％以下の範囲に収まってい
る。一般に考えられる光記録媒体の膜厚構成において
は、合計の膜厚１６５ｎｍ以上であることは殆どない。
【００４０】上述したところから明らかなように、本発
明による基板１の凹部２の形成周期Ｔｐ を０．９５μ
ｍ以下、例えば０．６μｍ〜０．９５μｍとし、熱クロ
ストークの影響を極力小さくすることなどを考慮して凹
凸の段差Ｄを８０ｎｍ〜１６５ｎｍとし、凹部２の幅Ｗ
ｏの上記周期Ｔｐに対する割合Ｗｏ／Ｔｐを５０％〜７
０％とし、これに光透過層５と記録層４とを含めた層厚
ｄの周期Ｔｐに対する割合ｄ／Ｔｐを５０％以下として
形成した本発明による光記録媒体は、記録層４における
凹部２０の幅Ｗを周期Ｔｐの５０％程度にすることがで
きて、例えば基板１側から記録層に４１５ｎｍ以下の、
例えば４００ｎｍ程度のレーザ光Ｌを、対物レンズを介
して照射することによって、光記録媒体に記録および／
または再生を行った場合、ランドとグルーブに対する再
生信号出力の均一化と、ランドとグルーブにおける成膜
体積の均一化によって熱的な感度の均一化が図られる。
明による基板１の凹部２の形成周期Ｔｐ を０．９５μ
ｍ以下、例えば０．６μｍ〜０．９５μｍとし、熱クロ
ストークの影響を極力小さくすることなどを考慮して凹
凸の段差Ｄを８０ｎｍ〜１６５ｎｍとし、凹部２の幅Ｗ
ｏの上記周期Ｔｐに対する割合Ｗｏ／Ｔｐを５０％〜７
０％とし、これに光透過層５と記録層４とを含めた層厚
ｄの周期Ｔｐに対する割合ｄ／Ｔｐを５０％以下として
形成した本発明による光記録媒体は、記録層４における
凹部２０の幅Ｗを周期Ｔｐの５０％程度にすることがで
きて、例えば基板１側から記録層に４１５ｎｍ以下の、
例えば４００ｎｍ程度のレーザ光Ｌを、対物レンズを介
して照射することによって、光記録媒体に記録および／
または再生を行った場合、ランドとグルーブに対する再
生信号出力の均一化と、ランドとグルーブにおける成膜
体積の均一化によって熱的な感度の均一化が図られる。
【００４１】また、本発明による光記録媒体において、
記録層４におけるレーザ光Ｌの照射による加熱の温度分
布を利用して、記録磁区の拡大および／または縮小を行
うことによって信号の読み出し、すなわち再生を行う例
えば特開平６−２９０４９６号公報に開示されている、
磁壁移動動作による光記録媒体すなわちＤＷＤＤ媒体に
適用する場合においては、凹部２の形成周期Ｔｐに対す
る凹部２の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐは、６０％〜
７０％とすることがより好ましい。
記録層４におけるレーザ光Ｌの照射による加熱の温度分
布を利用して、記録磁区の拡大および／または縮小を行
うことによって信号の読み出し、すなわち再生を行う例
えば特開平６−２９０４９６号公報に開示されている、
磁壁移動動作による光記録媒体すなわちＤＷＤＤ媒体に
適用する場合においては、凹部２の形成周期Ｔｐに対す
る凹部２の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐは、６０％〜
７０％とすることがより好ましい。
【００４２】すなわち、ＤＷＤＤ媒体においては、記録
磁区の、凹部２あるいは凸部３の側端における磁化の状
態が磁壁移動動作の安定性に影響する。特に凹部２の側
端では段差の影響により、光磁気記録層４の厚さが凹部
２の底面での状態と比較して小さく、所望の膜厚構造が
得にくいことなどから此処における磁壁移動動作は、不
安定になり勝ちである。このことから、このＤＷＤＤ媒
体においては、凹部２の幅Ｗｏを、通常の相変化、ある
いは磁壁移動によらない検出を行う光記録媒体における
場合より大きく、すなわち、そのＷｏ／Ｔｐを大きくす
ることが好ましいこと、そして、更にランドにおける再
生信号出力を考慮すると、このＤＷＤＤ媒体において、
ランドとグルーブに対する再生信号出力の均一化を充分
安定して図るには、Ｗｏ／Ｔｐは、６０％〜７０％とす
ることがより好ましいことを見出した。
磁区の、凹部２あるいは凸部３の側端における磁化の状
態が磁壁移動動作の安定性に影響する。特に凹部２の側
端では段差の影響により、光磁気記録層４の厚さが凹部
２の底面での状態と比較して小さく、所望の膜厚構造が
得にくいことなどから此処における磁壁移動動作は、不
安定になり勝ちである。このことから、このＤＷＤＤ媒
体においては、凹部２の幅Ｗｏを、通常の相変化、ある
いは磁壁移動によらない検出を行う光記録媒体における
場合より大きく、すなわち、そのＷｏ／Ｔｐを大きくす
ることが好ましいこと、そして、更にランドにおける再
生信号出力を考慮すると、このＤＷＤＤ媒体において、
ランドとグルーブに対する再生信号出力の均一化を充分
安定して図るには、Ｗｏ／Ｔｐは、６０％〜７０％とす
ることがより好ましいことを見出した。
【００４３】次に、本発明に実施例を挙げて説明する。
これら実施例においては、ＤＷＤＤ媒体を構成し、ＤＷ
ＤＤ再生方法を用いた場合であるが、本発明は、このよ
うな実施例に限定されるものではないことはいうまでも
ないものであり、磁壁移動によらない光磁気効果を用い
る光記録媒体、あるいはレーザ光照射による例えば非晶
質ー結晶化状態の相変化による記録を行いこれによる光
学的特性、すなわち反射率、あるいは透過率の変化によ
って記録情報を検出、すなわち読み出すようにした、相
変化光記録媒体に本発明を適用することもできるなど、
各種の光記録媒体基板、光記録媒体および再生方法に適
用することができる。
これら実施例においては、ＤＷＤＤ媒体を構成し、ＤＷ
ＤＤ再生方法を用いた場合であるが、本発明は、このよ
うな実施例に限定されるものではないことはいうまでも
ないものであり、磁壁移動によらない光磁気効果を用い
る光記録媒体、あるいはレーザ光照射による例えば非晶
質ー結晶化状態の相変化による記録を行いこれによる光
学的特性、すなわち反射率、あるいは透過率の変化によ
って記録情報を検出、すなわち読み出すようにした、相
変化光記録媒体に本発明を適用することもできるなど、
各種の光記録媒体基板、光記録媒体および再生方法に適
用することができる。
【００４４】〔実施例１〕この実施例においては、記録
再生に用いるレーザ光の波長が４０５ｎｍ、対物レンズ
の開口数が０．５５の光学ピックアップ構成とした。光
記録媒体基板１は、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの
円板状を有し、その一方の主面に、深さＤが１００ｎｍ
の案内溝すなわち溝状凹部２が、基板１の半径方向の周
期Ｔｐ、すなわちトラックピッチ０．８０μｍをもって
形成された射出成形による光透過性のポリカーボネート
（ＰＣ）によって形成した。この実施例においては、そ
の凹部２の幅Ｗｏのピッチ（周期）Ｔｐに対する割合Ｗ
ｏ／Ｔｐを、５６．７％に選定した。
再生に用いるレーザ光の波長が４０５ｎｍ、対物レンズ
の開口数が０．５５の光学ピックアップ構成とした。光
記録媒体基板１は、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの
円板状を有し、その一方の主面に、深さＤが１００ｎｍ
の案内溝すなわち溝状凹部２が、基板１の半径方向の周
期Ｔｐ、すなわちトラックピッチ０．８０μｍをもって
形成された射出成形による光透過性のポリカーボネート
（ＰＣ）によって形成した。この実施例においては、そ
の凹部２の幅Ｗｏのピッチ（周期）Ｔｐに対する割合Ｗ
ｏ／Ｔｐを、５６．７％に選定した。
【００４５】この構成による光記録媒体基板１の凹部２
が形成された主面に、凹部２とこれら間の凸部３に跨が
って全面的に、ＤＷＤＤ媒体を作製した。すなわち、基
板１上に、スパッタリングによって順次厚さｄT が３６
ｎｍの窒化珪素膜による光透過層５を形成し、この上に
記録層４として同様に順次スパッタリングによって、厚
さ３０ｎｍのＧｄＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ１５ｎｍのＴｂ
ＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ６５ｎｍのＴｂＦｅＣｏ膜を成膜
し、更にこの上にスパッタリングによって、厚さ１５ｎ
ｍの窒化珪素膜、厚さ６０ｎｍの反射膜としてのＡｌ合
金膜による反射膜を成膜した。そして、この上に、保護
膜としての紫外線硬化樹脂膜を厚さ５μｍ程度に塗布し
た。
が形成された主面に、凹部２とこれら間の凸部３に跨が
って全面的に、ＤＷＤＤ媒体を作製した。すなわち、基
板１上に、スパッタリングによって順次厚さｄT が３６
ｎｍの窒化珪素膜による光透過層５を形成し、この上に
記録層４として同様に順次スパッタリングによって、厚
さ３０ｎｍのＧｄＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ１５ｎｍのＴｂ
ＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ６５ｎｍのＴｂＦｅＣｏ膜を成膜
し、更にこの上にスパッタリングによって、厚さ１５ｎ
ｍの窒化珪素膜、厚さ６０ｎｍの反射膜としてのＡｌ合
金膜による反射膜を成膜した。そして、この上に、保護
膜としての紫外線硬化樹脂膜を厚さ５μｍ程度に塗布し
た。
【００４６】この構成による光記録媒体は、その多層膜
構成による記録層４の表面における凹部２０の幅Ｗのピ
ッチＴｐに対する割合Ｗ／Ｔｐは、５３．４％となっ
た。
構成による記録層４の表面における凹部２０の幅Ｗのピ
ッチＴｐに対する割合Ｗ／Ｔｐは、５３．４％となっ
た。
【００４７】このＤＷＤＤ媒体に対して上述した光学系
によって、線速３．３ｍ／秒で、マーク長０．２μｍ、
スペース長０．２μｍの単一搬送波周波数信号を、レー
ザパルスアシスト磁界変調記録によってそのランドおよ
びグルーブによって記録した。
によって、線速３．３ｍ／秒で、マーク長０．２μｍ、
スペース長０．２μｍの単一搬送波周波数信号を、レー
ザパルスアシスト磁界変調記録によってそのランドおよ
びグルーブによって記録した。
【００４８】この記録を、上述した波長４０５ｎｍのレ
ーザ光および光学系によっていわゆるＤＷＤＤ法によっ
て、記録信号の再生を行った。
ーザ光および光学系によっていわゆるＤＷＤＤ法によっ
て、記録信号の再生を行った。
【００４９】〔実施例２〕実施例１のＷｏ／Ｔｐを、６
４．３％に変更した以外は実施例１と同様の光記録媒体
基板および光記録媒体を構成し、同様の方法によってそ
のランドおよびグルーブによって記録および再生を行っ
た。
４．３％に変更した以外は実施例１と同様の光記録媒体
基板および光記録媒体を構成し、同様の方法によってそ
のランドおよびグルーブによって記録および再生を行っ
た。
【００５０】〔比較例１〕実施例１のＷｏ／Ｔｐを、４
５．７％に変更した以外は実施例１と同様の光記録媒体
基板および光記録媒体を構成し、同様の方法によってそ
のランドおよびグルーブによって記録および再生を行っ
た。
５．７％に変更した以外は実施例１と同様の光記録媒体
基板および光記録媒体を構成し、同様の方法によってそ
のランドおよびグルーブによって記録および再生を行っ
た。
【００５１】上述した実施例１および２、比較例３によ
る光記録媒体によるＣ／Ｎ比（搬送波／ノイズ（比）を
４０５ｎｍのレーザ光および上記光学系によってＤＷＤ
Ｄ法によって、記録信号の再生を行った。この場合の各
光記録媒体に対するランドとグルーブにおける各Ｃ／Ｎ
と、Ｗｏ／Ｔｐ〔％〕との関係の測定結果を図３に示
す。同図においては、白丸がランド、黒丸がグルーブに
おけるＷｏ／Ｔｐ〔％〕と、Ｃ／Ｎとの関係を示すもの
である。
る光記録媒体によるＣ／Ｎ比（搬送波／ノイズ（比）を
４０５ｎｍのレーザ光および上記光学系によってＤＷＤ
Ｄ法によって、記録信号の再生を行った。この場合の各
光記録媒体に対するランドとグルーブにおける各Ｃ／Ｎ
と、Ｗｏ／Ｔｐ〔％〕との関係の測定結果を図３に示
す。同図においては、白丸がランド、黒丸がグルーブに
おけるＷｏ／Ｔｐ〔％〕と、Ｃ／Ｎとの関係を示すもの
である。
【００５２】上述した実施例では、記録再生を４１５ｎ
ｍ以下の４０５ｎｍの波長のレーザ光を用いた場合であ
るが、本発明は、４１５ｎｍより長波長のレーザ光を用
いて記録および／または再生を行う場合の、光記録媒体
に適用することもできる。
ｍ以下の４０５ｎｍの波長のレーザ光を用いた場合であ
るが、本発明は、４１５ｎｍより長波長のレーザ光を用
いて記録および／または再生を行う場合の、光記録媒体
に適用することもできる。
【００５３】この場合の実施例を例示する。 〔実施例３〕この実施例では、記録再生に用いるレーザ
光の波長が６６０ｎｍ、対物レンズの開口数が０．６０
の光学ピックアップ構成とした。光記録媒体基板１は、
直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円板状を有し、その
一方の主面に、深さＤが１５０ｎｍの案内溝すなわち溝
状凹部２が、基板１の半径方向の周期Ｔｐ、すなわちト
ラックピッチ０．９０μｍをもって形成された射出成形
による光透過性のポリカーボネート（ＰＣ）によって形
成した。この実施例においては、その凹部２の幅Ｗｏを
０．４５μｍとし、これのピッチＴｐに対する割合Ｗｏ
／Ｔｐを、５０％に選定した。
光の波長が６６０ｎｍ、対物レンズの開口数が０．６０
の光学ピックアップ構成とした。光記録媒体基板１は、
直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円板状を有し、その
一方の主面に、深さＤが１５０ｎｍの案内溝すなわち溝
状凹部２が、基板１の半径方向の周期Ｔｐ、すなわちト
ラックピッチ０．９０μｍをもって形成された射出成形
による光透過性のポリカーボネート（ＰＣ）によって形
成した。この実施例においては、その凹部２の幅Ｗｏを
０．４５μｍとし、これのピッチＴｐに対する割合Ｗｏ
／Ｔｐを、５０％に選定した。
【００５４】この構成による光記録媒体基板１の凹部２
が形成された主面に、凹部２とこれら間の凸部３に跨が
って全面的に、ＤＷＤＤ媒体を作製した。すなわち、基
板１上に、スパッタリングによって順次厚さｄT が３２
ｎｍの窒化珪素膜による光透過層５を形成し、この上に
記録層４として同様に順次スパッタリングによって、厚
さ３０ｎｍのＧｄＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ１５ｎｍのＴｂ
ＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ６５ｎｍのＴｂＦｅＣｏ膜を成膜
し、更にこの上にスパッタリングによって、厚さ１５ｎ
ｍの窒化珪素膜、厚さ６０ｎｍの反射膜としてのＡｌ合
金膜による反射膜を成膜した。そして、この上に、保護
膜としての紫外線硬化樹脂膜を厚さ５μｍ程度に塗布し
た。この構成による光記録媒体におけるｄT ／Ｗｏは、
７．１％である。
が形成された主面に、凹部２とこれら間の凸部３に跨が
って全面的に、ＤＷＤＤ媒体を作製した。すなわち、基
板１上に、スパッタリングによって順次厚さｄT が３２
ｎｍの窒化珪素膜による光透過層５を形成し、この上に
記録層４として同様に順次スパッタリングによって、厚
さ３０ｎｍのＧｄＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ１５ｎｍのＴｂ
ＦｅＣｏＡｌ膜、厚さ６５ｎｍのＴｂＦｅＣｏ膜を成膜
し、更にこの上にスパッタリングによって、厚さ１５ｎ
ｍの窒化珪素膜、厚さ６０ｎｍの反射膜としてのＡｌ合
金膜による反射膜を成膜した。そして、この上に、保護
膜としての紫外線硬化樹脂膜を厚さ５μｍ程度に塗布し
た。この構成による光記録媒体におけるｄT ／Ｗｏは、
７．１％である。
【００５５】このＤＷＤＤ媒体に対して上述した光学系
によって、線速１．５ｍ／秒で、ビット長０．１５μｍ
の（１．７）ＲＬＬ変調のランダム信号をレーザパルス
アシスト磁界変調記録によってそのランドおよびグルー
ブによって記録した。
によって、線速１．５ｍ／秒で、ビット長０．１５μｍ
の（１．７）ＲＬＬ変調のランダム信号をレーザパルス
アシスト磁界変調記録によってそのランドおよびグルー
ブによって記録した。
【００５６】〔比較例２〕実施例３の光透過層５の窒化
珪素の厚さｄT を７５ｎｍとし、ｄT ／Ｗｏを１６．７
％に変更した以外は実施例３と同様の光記録媒体基板お
よび光記録媒体を構成し、同様の方法によってそのラン
ドおよびグルーブによって記録および再生を行った。
珪素の厚さｄT を７５ｎｍとし、ｄT ／Ｗｏを１６．７
％に変更した以外は実施例３と同様の光記録媒体基板お
よび光記録媒体を構成し、同様の方法によってそのラン
ドおよびグルーブによって記録および再生を行った。
【００５７】上述の実施例３による光記録媒体と、比較
例２による光記録媒体の、それぞれのランドとグルーブ
のビットエラーレートの記録パワーＰｗ依存性の測定結
果を図４および図５に示す。図４および図５において、
白丸はランドの記録に関する測定結果を示し、黒丸はグ
ルーブの記録に関する測定結果を示す。図４と図５とを
比較して明らかなように、本発明構成による光記録媒体
は、記録パワーＰｗが５．５ｍＷ以上で、ランドおよび
グルーブに関して良く一致していることがわかる。
例２による光記録媒体の、それぞれのランドとグルーブ
のビットエラーレートの記録パワーＰｗ依存性の測定結
果を図４および図５に示す。図４および図５において、
白丸はランドの記録に関する測定結果を示し、黒丸はグ
ルーブの記録に関する測定結果を示す。図４と図５とを
比較して明らかなように、本発明構成による光記録媒体
は、記録パワーＰｗが５．５ｍＷ以上で、ランドおよび
グルーブに関して良く一致していることがわかる。
【００５８】尚、上述した各実施例および比較例におい
て、その凹凸の幅の測定は、表面形状のＡＦＭ（原子間
力顕微鏡）観察および断面のＳＥＭ（走査電子顕微鏡）
観察によって測定した。
て、その凹凸の幅の測定は、表面形状のＡＦＭ（原子間
力顕微鏡）観察および断面のＳＥＭ（走査電子顕微鏡）
観察によって測定した。
【００５９】上述したように、本発明による光記録媒体
基体を用いて構成した本発明による光記録媒体は、ラン
ドグルーブ記録において、ランドおよびグルーブの記録
再生特性が良く一致するものであり、波長４１５以下、
例えば４００ｎｍ程度の短波長レーザ光による記録／再
生によっても、ランドおよびグルーブにおける再生信号
出力と熱的感度の均一化を図ることができた。
基体を用いて構成した本発明による光記録媒体は、ラン
ドグルーブ記録において、ランドおよびグルーブの記録
再生特性が良く一致するものであり、波長４１５以下、
例えば４００ｎｍ程度の短波長レーザ光による記録／再
生によっても、ランドおよびグルーブにおける再生信号
出力と熱的感度の均一化を図ることができた。
【００６０】尚、上述した例は、主として光記録媒体基
板１側からの光照射を行う光記録媒体構成とした場合で
あるが、表面側、すなわち基板１とは反対側からの光照
射態様を採る場合においては、例えば実施例１における
反射膜を排除もしくは透明層とし、介在層５の透明層に
代えて反射膜、あるいは透明層とその基板側に配置した
反射膜とによる構成とすることができる。
板１側からの光照射を行う光記録媒体構成とした場合で
あるが、表面側、すなわち基板１とは反対側からの光照
射態様を採る場合においては、例えば実施例１における
反射膜を排除もしくは透明層とし、介在層５の透明層に
代えて反射膜、あるいは透明層とその基板側に配置した
反射膜とによる構成とすることができる。
【００６１】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、案内
溝すなわち凹部（グルーブ）と、これら間に形成される
凸部（ランド）とにそれぞれ記録がなされるランドグル
ーブ記録による光記録媒体、光記録再生方法において、
その光記録媒体基体の構造の特定、この基体上に形成さ
れる光透過層や記録層の成膜状態特に膜厚の基体の構造
との特定を行うことにより、凹凸の高密度化を図りつ
つ、熱クロストークを考慮した段差Ｄを保持し、更に、
波長４１５ｎｍ以下のレーザ光を用いて、高密度記録を
図る場合において、ランドとグルーブの再生信号出力差
や、熱的感度の差を効果的に低減化できるものであり、
したがって、ランドとグルーブの再生において、これら
ランドとグルーブの再生信号出力差、感度を補償するた
めの手段を設けるなどの考慮を必要とするがないなどの
間接的にもすぐれた効果をもたらすことができる。
溝すなわち凹部（グルーブ）と、これら間に形成される
凸部（ランド）とにそれぞれ記録がなされるランドグル
ーブ記録による光記録媒体、光記録再生方法において、
その光記録媒体基体の構造の特定、この基体上に形成さ
れる光透過層や記録層の成膜状態特に膜厚の基体の構造
との特定を行うことにより、凹凸の高密度化を図りつ
つ、熱クロストークを考慮した段差Ｄを保持し、更に、
波長４１５ｎｍ以下のレーザ光を用いて、高密度記録を
図る場合において、ランドとグルーブの再生信号出力差
や、熱的感度の差を効果的に低減化できるものであり、
したがって、ランドとグルーブの再生において、これら
ランドとグルーブの再生信号出力差、感度を補償するた
めの手段を設けるなどの考慮を必要とするがないなどの
間接的にもすぐれた効果をもたらすことができる。
【図１】本発明による光記録媒体基板の一例の要部の概
略断面図である。
略断面図である。
【図２】本発明による光記録媒体の一例の要部の概略断
面図である。
面図である。
【図３】ランドおよびグルーブ記録に関する凹部のピッ
チに対する凹部の幅の割合とＣ／Ｎの関係の測定結果を
示す図である。
チに対する凹部の幅の割合とＣ／Ｎの関係の測定結果を
示す図である。
【図４】光記録媒体の光透過層の厚さを３２ｎｍとした
ときのジッタの記録パワーの依存性の測定結果を示す図
である。
ときのジッタの記録パワーの依存性の測定結果を示す図
である。
【図５】光記録媒体の光透過層の厚さを７５ｎｍとした
ときのジッタの記録パワーの依存性の測定結果を示す図
である。
ときのジッタの記録パワーの依存性の測定結果を示す図
である。
【図６】従来の光記録媒体の要部の概略断面図である。
１，１１・・・光記録媒体基板、２，１４・・・凹部
（グルーブ）、３，１５・・・凸部（ランド）、４，１
３・・・記録層、５・・・介在層（光透過層）、１２・
・・光透過層、２０・・・凹部、４ａ・・・屈曲部
（グルーブ）、３，１５・・・凸部（ランド）、４，１
３・・・記録層、５・・・介在層（光透過層）、１２・
・・光透過層、２０・・・凹部、４ａ・・・屈曲部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/105 ５２１ Ｇ１１Ｂ 11/105 ５２１Ｆ ５３１ ５３１Ｋ ５８６ ５８６Ｍ Ｆターム(参考） 5D029 JB35 LB07 WA30 WB11 WB12 WB17 WC01 WC08 WC10 WD10 WD16 5D075 AA03 CC11 CD06 EE03 FG02 FG03 FG18 5D090 AA01 BB05 BB10 CC06 CC14 DD02 FF15 FF45 GG07 KK06
Claims (10)
- 【請求項１】 溝状の凹部と、隣り合う上記凹部間に形
成された凸部とを有し、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐが、０．９５μ
ｍ以下であり、 上記凹部の底面と上記凸部の頂面との段差Ｄが、８０ｎ
ｍ以上１６５ｎｍ以下であり、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐに対して上記凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、５０％以上７０
％以下に選定されて成ることを特徴とする光記録媒体基
板。 - 【請求項２】 溝状の凹部と、隣り合う上記凹部間に形
成された凸部とを有し、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐが、０．９５μ
ｍ以下であり、 上記凹部の底面と上記凸部の頂面との段差Ｄが、８０ｎ
ｍ以上１６５ｎｍ以下であり、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐに対して上記凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、５０％以上７０
％以下に選定されて成る光記録媒体基板を有し、 該光記録媒体基板の上記凹部および凸部に情報の記録層
が形成されて成ることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項３】 上記記録層が、介在層を介して形成さ
れ、 上記記録層の上記凹部および上記凸部での上記介在層の
厚さｄT の、上記凹部の底面の幅Ｗｏに対する割合ｄT
／Ｗｏが、１５％以下に選定されたことを特徴とする請
求項２に記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 上記記録層が、上記基板の上記凹部およ
び上記凸部に介在層を介して形成され、 上記介在層と上記記録層の厚さの総和ｄの上記凹部の底
面の幅Ｗｏに対する割合ｄ／Ｗｏが、５０％以下に選定
されたことを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。 - 【請求項５】 溝状の凹部と、隣り合う上記凹部間に形
成された凸部とを有し、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐが、０．９５μ
ｍ以下であり、 上記凹部の底面と上記凸部の頂面との段差ｄが、８０ｎ
ｍ以上１６５ｎｍ以下であり、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐに対して上記凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、５０％以上７０
％以下に選定されて成る光記録媒体基板を有し、 該光記録媒体基板の上記凹部および凸部に情報の記録層
が形成されて成る記録媒体が用いられ、 該記録媒体に対する記録および再生の少なくともいづれ
かが、波長４１５ｎｍ以下の光照射によってなされるこ
とを特徴とする光記録再生方法。 - 【請求項６】 溝状の凹部と、隣り合う上記凹部間に形
成された凸部とを有し、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐが、０．９５μ
ｍ以下であり、 上記凹部の底面と上記凸部の頂面との段差Ｄが、８０ｎ
ｍ以上１６５ｎｍ以下であり、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐに対して上記凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、６０％以上７０
％以下に選定されて成る光記録媒体基板を有し、 該光記録媒体基板の上記凹部および凸部に温度分布を利
用した磁区の拡大および縮小の少なくともいずれかを行
って上記情報の読み出しを行う磁壁移動動作型の記録層
が形成されて成ることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項７】 上記記録層が、介在層を介して形成さ
れ、 上記記録層の上記凹部および上記凸部での上記介在層の
厚さｄT の、上記凹部の底面の幅Ｗｏに対する割合ｄT
／Ｗｏが、１５％以下に選定されたことを特徴とする請
求項６に記載の光記録媒体。 - 【請求項８】 上記記録層が、上記基板の上記凹部およ
び上記凸部に介在層を介して形成され、 上記介在層と上記記録層の厚さの総和ｄの上記凹部の底
面の幅Ｗｏに対する割合ｄ／Ｗｏが、５０％以下に選定
されたことを特徴とする請求項６に記載の光記録媒体。 - 【請求項９】 溝状の凹部と、隣り合う上記凹部間に形
成された凸部とを有し、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐが、０．９５μ
ｍ以下であり、 上記凹部の底面と上記凸部の頂面との段差ｄが、８０ｎ
ｍ以上１６５ｎｍ以下であり、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐに対して上記凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、６０％以上７０
％以下に選定されて成る光記録媒体基板を有し、 該光記録媒体基板の上記凹部および凸部上に情報の記録
層が形成されて成る光記録媒体が用いられ、 該光記録媒体に対する記録および再生の少なくともいづ
れかが、波長４１５ｎｍ以下の光照射によってなされる
ことを特徴とする光記録再生方法。 - 【請求項１０】 溝状の凹部と、隣り合う上記凹部間に
形成された凸部とを有し、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐが、０．９５μ
ｍ以下であり、 上記凹部の底面と上記凸部の頂面との段差ｄが、８０ｎ
ｍ以上１６５ｎｍ以下であり、 上記隣り合う各凹部の中心間の距離Ｔｐに対して上記凹
部の底面の幅Ｗｏの割合Ｗｏ／Ｔｐが、６０％以上７０
％以下に選定されて成る光記録媒体基板を有し、 該光記録媒体基板の上記凹部および凸部に温度分布を利
用した磁区の拡大および縮小の少なくともいずれかを行
う磁壁移動動作による上記情報の読み出しを行う情報の
記録層が形成されて成る光記録媒体が用いられ、 該光記録媒体に対する記録および再生の少なくともいづ
れかが、波長４１５ｎｍ以下の光照射によってなされる
ことを特徴とする光記録再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36746599A JP2001184727A (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 光記録媒体基板、光記録媒体および光記録再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36746599A JP2001184727A (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 光記録媒体基板、光記録媒体および光記録再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001184727A true JP2001184727A (ja) | 2001-07-06 |
| JP2001184727A5 JP2001184727A5 (ja) | 2006-05-11 |
Family
ID=18489373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36746599A Abandoned JP2001184727A (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 光記録媒体基板、光記録媒体および光記録再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001184727A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002089129A1 (fr) * | 2001-04-24 | 2002-11-07 | Sony Corporation | Support d'enregistrement optique, son procede de production, et procedes d'enregistrement et de lecture associes |
| WO2003046905A1 (fr) * | 2001-11-29 | 2003-06-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement magneto-optique et procede de fabrication correspondant |
| CN100341059C (zh) * | 2002-12-19 | 2007-10-03 | 富士胶片株式会社 | 光信息记录方法及光信息记录介质 |
-
1999
- 1999-12-24 JP JP36746599A patent/JP2001184727A/ja not_active Abandoned
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002089129A1 (fr) * | 2001-04-24 | 2002-11-07 | Sony Corporation | Support d'enregistrement optique, son procede de production, et procedes d'enregistrement et de lecture associes |
| WO2003046905A1 (fr) * | 2001-11-29 | 2003-06-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement magneto-optique et procede de fabrication correspondant |
| US7180831B2 (en) | 2001-11-29 | 2007-02-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magneto-optical recording medium having a recording layer of columnar structure |
| CN100341059C (zh) * | 2002-12-19 | 2007-10-03 | 富士胶片株式会社 | 光信息记录方法及光信息记录介质 |
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