JP2001177200A - Flexible printed-wiring board and its manufacturing method - Google Patents

Flexible printed-wiring board and its manufacturing method

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JP2001177200A
JP2001177200A JP36001399A JP36001399A JP2001177200A JP 2001177200 A JP2001177200 A JP 2001177200A JP 36001399 A JP36001399 A JP 36001399A JP 36001399 A JP36001399 A JP 36001399A JP 2001177200 A JP2001177200 A JP 2001177200A
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printed wiring
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a flexible printed-wiring board whose heat resistance, break resistance and dimensional stability are superior and whose warping is not generated, by a method wherein a wiring board is coated with a heat-resistant resin solution so as to be dried and to obtain is manufacturing method. SOLUTION: The wiring board in which a conductor circuit is formed on a base material composed of a polyimide, and/or a polyimide film is coated with the heat-resistant resin solution as a polyimide and/or a polyamideimide soluble in an organic solvent and dried. It is wound and heat-treated, and a heat-resistant resin layer is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線板(導体回路
が形成されたベース基材)上に耐熱性樹脂溶液を塗布・
乾燥することにより、少なくとも部分的に導体回路が耐
熱性樹脂層で被覆された、耐熱性、耐折性、寸法安定性
等に優れる、反りのないフレキシブルプリント配線板と
その製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for applying a heat-resistant resin solution onto a wiring board (a base material on which a conductor circuit is formed).
The present invention relates to a flexible printed wiring board which is obtained by drying and at least partially covers a conductive circuit with a heat-resistant resin layer, is excellent in heat resistance, folding resistance, dimensional stability and the like, and has no warp, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】フレキシブルプリント配線板は、導体回
路を汚れやキズ、湿気などから保護する目的で、回路表
面を被覆剤で被覆している。この被覆方法としては、従
来より2通りの方法が用いられている。一つには、ポリ
イミド等の耐熱性フィルムを接着剤を介して、配線板
(導体回路が形成されたベース基材)に貼り合わせる方
法がある。この方法は、一般に、 1)ポリイミド等の耐熱性フィルムに接着剤を塗布・乾
燥する工程、 2)ブロッキングやごみ、ほこり等の異物付着防止の
為、接着剤側に離型紙や離型フィルムを貼り合わせて積
層フィルムを得る工程、 3)積層フィルムを目的とするパターンに金型で打ち抜
く工程、 4)離型紙や離型フィルムを取り去り、配線板上の定め
られた位置に耐熱性フィルムを貼り合わせる工程からな
り、「製造工程数の多さ」、「金型で打ち抜く際のロ
ス」、「金型コストが高価」などに起因して、生産性が
著しく低下するという問題がある。又、非耐熱性の接着
剤を用いている為、得られたプリント配線板は耐熱性が
不十分であり、更には、微細回路になると金型で打ち抜
くことが困難となる。
2. Description of the Related Art A flexible printed wiring board has a circuit surface coated with a coating agent for the purpose of protecting a conductive circuit from dirt, scratches, moisture and the like. As the coating method, two methods have conventionally been used. One method is to bond a heat-resistant film such as polyimide to a wiring board (a base substrate on which a conductive circuit is formed) via an adhesive. This method generally includes: 1) a step of applying and drying an adhesive on a heat-resistant film such as a polyimide; 2) a release paper or a release film on the adhesive side to prevent adhesion of foreign substances such as blocking, dirt, and dust. 3) a step of punching the laminated film into a desired pattern with a mold, 4) removing the release paper or release film, and attaching a heat-resistant film to a predetermined position on the wiring board. There is a problem that productivity is remarkably reduced due to "many manufacturing steps", "loss in punching with a die", and "high die cost". Further, since a non-heat-resistant adhesive is used, the obtained printed wiring board has insufficient heat resistance, and furthermore, it becomes difficult to punch out a fine circuit with a mold.

【0003】もう一つの方法は、液状の被覆剤をスクリ
ーン印刷法で配線板(導体回路が形成されたベース基
材)に塗布する方法である。この方法は、あらかじめス
クリーン板を製造しておくだけである為、製造工程も少
なく、作業効率が上がり、生産性も著しく向上する。し
かしながら、従来の液状の被覆剤はエポキシ化合物を主
体としている為、耐熱性と可とう性をともに満足するこ
とは不可能であり、フレキシブルプリント配線板の場
合、どちらか一方を犠牲にして使用しているのが現状で
ある。又、皮膜を硬化する際に、皮膜の体積収縮や硬化
収縮により、フレキシブルプリント配線板に反りが発生
し、高密度な回路には適用できないという重大な欠点が
あった。
Another method is to apply a liquid coating material to a wiring board (a base material on which a conductive circuit is formed) by a screen printing method. In this method, since only a screen plate is manufactured in advance, the number of manufacturing steps is small, work efficiency is increased, and productivity is significantly improved. However, since conventional liquid coating materials are mainly composed of epoxy compounds, it is impossible to satisfy both heat resistance and flexibility. In the case of flexible printed wiring boards, either one of them is used at the expense of the other. That is the current situation. In addition, when the film is cured, the flexible printed wiring board is warped due to volume shrinkage and curing shrinkage of the film, which has a serious disadvantage that it cannot be applied to a high-density circuit.

【0004】これらの問題を解決する為に、ポリイミド
の前駆体であるポリアミック酸を主成分とする樹脂溶液
を、配線板(導体回路が形成されたベース基材)上に、
塗布・乾燥し、回路上に直接、耐熱性樹脂層を形成する
技術が検討されてきた。
In order to solve these problems, a resin solution containing a polyamic acid, which is a precursor of polyimide, as a main component is placed on a wiring board (a base material on which a conductor circuit is formed).
Techniques for forming a heat-resistant resin layer directly on a circuit by coating and drying have been studied.

【0005】例えば、特開平3−291986号公報に
は、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸系溶液を
配線板(導体回路が形成されたベース基材)上に塗布・
乾燥し、次いで、加熱脱水閉環することで、回路上に直
接、ポリイミド樹脂層を形成する技術が検討されてい
る。しかし、耐熱性と耐折性などの両立が困難であり、
又、脱水反応が伴う為、様々な弊害を抱えているのが実
状であった。即ち、300℃以上の高温で脱水閉環する
為、導体回路が酸化したり、脱水反応により、導体回路
との密着力が低下する等という欠点があった。又、脱水
閉環や、溶剤乾燥に伴い体積が収縮する為、フレキシブ
ルプリント配線板が大きく反るという重大な問題点も抱
えていた。
For example, JP-A-3-291986 discloses that a polyamic acid-based solution, which is a precursor of polyimide, is applied to a wiring board (a base substrate on which a conductive circuit is formed).
A technique of forming a polyimide resin layer directly on a circuit by drying and then heating and dehydrating and ring-closing has been studied. However, it is difficult to achieve both heat resistance and folding resistance,
In addition, since the dehydration reaction accompanies, the actual situation is that it has various adverse effects. That is, since the ring is dehydrated at a high temperature of 300 ° C. or more, the conductor circuit is oxidized, and the dehydration reaction lowers the adhesion to the conductor circuit. In addition, since the volume shrinks due to dehydration ring closure and solvent drying, there is also a serious problem that the flexible printed wiring board is largely warped.

【0006】フレキシブルプリント配線板の反りに関し
ては、被覆するポリイミド中にシリコーンユニットを導
入し、弾性率を下げたり、溶剤可溶化し加工温度を下げ
る等の検討も行われてきた。(特開平9−118853
号公報等)しかし、この方法では、ガラス転移点が低下
する為、手半田耐熱性が不十分であったり、弾性率が低
くなる為、ハンドリング性等が悪くなり、生産性が低下
する等という欠点があった。また、シリコーンユニット
を導入している為、フレキシブルプリント配線板を多層
化する際、複数の配線板を接着させる為に使用する接着
シートとの接着性が不十分であり、更には、ハードディ
スクドライブなど、電子機器によっては、配線板として
使用できないケースがあった。
With respect to the warpage of the flexible printed wiring board, studies have been made to introduce a silicone unit into the polyimide to be coated to lower the elastic modulus, solubilize the solvent and lower the processing temperature. (Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 9-118853
However, in this method, since the glass transition point is lowered, the heat resistance by hand soldering is insufficient, and the elastic modulus is lowered, so that the handling property is deteriorated and the productivity is lowered. There were drawbacks. In addition, since a silicone unit has been introduced, when multi-layering flexible printed wiring boards, the adhesiveness with the adhesive sheet used to bond multiple wiring boards is insufficient. In some cases, some electronic devices cannot be used as wiring boards.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記の
課題を解決する為になされたものである。即ち、配線板
(導体回路が形成されたベース基材)上にシリコーンレ
スの比較的、弾性率の高い耐熱性樹脂溶液を塗布・乾燥
することで、加工上、十分な機械的強度を示し、又、耐
熱性、耐折性、寸法安定性等に優れる、反りのないフレ
キシブルプリント配線板を効率良く、安価に製造しよう
とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems. That is, by applying and drying a silicone-less heat-resistant resin solution having a relatively high modulus of elasticity on a wiring board (a base substrate on which a conductive circuit is formed), it exhibits sufficient mechanical strength in processing, Another object of the present invention is to manufacture a flexible printed wiring board having excellent heat resistance, folding resistance, dimensional stability and the like without warping efficiently and at low cost.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するべく鋭意研究した結果、配線板(導体回路が
形成されたベース基材)上に、耐熱性や機械的強度に優
れる樹脂溶液を塗布・乾燥してフレキシブルプリント配
線板を製造するに際し、塗布・乾燥した後、一旦巻き取
り、更に、巻物状で脱溶剤しながら熱処理することで達
成できることを見出した。即ち、本発明は、耐熱性と耐
折性等が両立し、又、配線板の導体回路が少なかった
り、基材や導体回路が薄い場合でも反りが発生しない寸
法安定性に優れるフレキシブルプリント配線板を安価に
製造できることを見出しもので、以下の様な構成からな
る。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, have excellent heat resistance and mechanical strength on a wiring board (a base substrate on which a conductive circuit is formed). In producing a flexible printed wiring board by applying and drying a resin solution, it has been found that it can be achieved by applying and drying, winding once, and further performing heat treatment while removing the solvent in a roll form. That is, the present invention provides a flexible printed wiring board excellent in dimensional stability, in which heat resistance and folding resistance are compatible, and the wiring board has a small number of conductor circuits and does not warp even when the substrate or the conductor circuit is thin. Has been found to be inexpensive, and has the following configuration.

【0009】ベース基材上に導体回路が形成されてお
り、導体回路部分及び非導体回路部分が部分的または全
面的に耐熱性樹脂層で被覆されたフレキシブルプリント
配線板であり、非導体回路部分の150℃、30分熱処
理前後の寸法変化率の絶対値が0.04%以下で、か
つ、下記式を満足するフレキシブルプリント配線板。
A flexible printed wiring board in which a conductive circuit is formed on a base material, and a conductive circuit portion and a non-conductive circuit portion are partially or entirely covered with a heat-resistant resin layer. The flexible printed wiring board, wherein the absolute value of the dimensional change before and after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes is 0.04% or less, and satisfies the following expression.

【0010】[0010]

【数2】σ=(A2×E)/6RS(1−ν) (但し、式中σは内部応力を表し、0〜4Kgf/mm
2の範囲であり、Aはベース基材の厚みを表し、0.0
01〜0.1mmの範囲であり、Eはベース基材の弾性
率を表し、100〜1000Kgf/mm2の範囲であ
り、Rはベース基材上に耐熱樹性脂層を被覆した時の曲
率半径を表し、30mm〜∞の範囲であり、Sは耐熱性
樹脂層の厚みを表し、0.001〜0.1mmの範囲で
あり、νはポアソン比を表し、0.1〜0.6の範囲で
ある。) 一つの実施態様では、JIS C5016規格に準拠し
た耐折性評価用配線パターンに回路加工されたベース基
材に耐熱性樹脂層を被覆したときの反りから求めた曲率
半径が、30mm〜∞であることを特徴とする。
## EQU2 ## σ = (A 2 × E) / 6RS (1-ν) (where σ represents an internal stress, and 0 to 4 kgf / mm)
A is the range of 2 , A represents the thickness of the base substrate, 0.0
E is an elastic modulus of the base material, E is in a range of 100 to 1000 kgf / mm 2 , and R is a curvature when the heat-resistant resinous resin layer is coated on the base material. Represents a radius, in the range of 30 mm to ∞, S represents the thickness of the heat resistant resin layer, in the range of 0.001 to 0.1 mm, ν represents Poisson's ratio, and 0.1 to 0.6. Range. In one embodiment, the radius of curvature determined from the warpage when a heat-resistant resin layer is coated on a base material that has been subjected to circuit processing on a wiring pattern for folding resistance evaluation conforming to JIS C5016 standard is 30 mm to ∞. There is a feature.

【0011】一つの実施態様では、耐熱性樹脂層のガラ
ス転移点が180℃以上で、手半田耐熱性が350℃以
上であることを特徴とする。
In one embodiment, the heat-resistant resin layer has a glass transition point of 180 ° C. or higher and a hand solder heat resistance of 350 ° C. or higher.

【0012】一つの実施態様では、耐熱性樹脂層の弾性
率が160Kg/mm2以上であることを特徴とする。
In one embodiment, the elastic modulus of the heat-resistant resin layer is 160 kg / mm 2 or more.

【0013】一つの実施態様では、ベース基材と耐熱性
樹脂層の熱膨張係数差が0〜6.0×10-5で、かつ、
耐熱性樹脂層が形成されたベース基材の熱膨張係数が
6.0×10-5以下であることを特徴とする。
In one embodiment, the difference in the coefficient of thermal expansion between the base substrate and the heat-resistant resin layer is 0 to 6.0 × 10 -5 , and
The thermal expansion coefficient of the base material on which the heat-resistant resin layer is formed is 6.0 × 10 −5 or less.

【0014】一つの実施態様では、耐熱性樹脂層を被覆
したベース基材の、屈曲径2mm、荷重500gのMI
T法による折り曲げ回数が50000回以上であること
を特徴とする。
In one embodiment, the base material coated with a heat-resistant resin layer has an MI of a bending diameter of 2 mm and a load of 500 g.
The number of bending according to the T method is 50,000 or more.

【0015】一つの実施態様では、ベース基材が、ポリ
イミド、及び/又は、ポリアミドイミドフィルムからな
り、ベース基材上に直接、導体回路が形成されてなる。
In one embodiment, the base substrate is made of a polyimide and / or polyamideimide film, and a conductor circuit is formed directly on the base substrate.

【0016】一つの実施態様では、ポリアミドイミドフ
ィルムが下記一般式(1)、及び/又は下記一般式
(2)を構成単位として含むことを特徴とする。
In one embodiment, the polyamideimide film is characterized by containing the following general formula (1) and / or the following general formula (2) as a structural unit.

【0017】[0017]

【化5】 Embedded image

【0018】(式中、R1およびR2は同じであっても異
なっていてもよく、それぞれ水素もしくは炭素数1〜4
のアルキル基を示す。)
(Wherein R 1 and R 2 may be the same or different, and each represents hydrogen or C 1-4
Represents an alkyl group. )

【0019】[0019]

【化6】 Embedded image

【0020】又、本発明のフレキシブルプリント配線板
の製造方法は、下記の工程1)〜3)を含む: 1)導体回路が形成されたベース基材の導体回路上、及
び非導体回路上の一部分、又は全面に耐熱性樹脂溶液を
塗布・乾燥する工程、 2)耐熱性樹脂溶液を塗布・乾燥したベース基材を巻き
取り、巻物とする工程、 3)前記巻物を熱処理して耐熱性樹脂層を形成する工
程。
The method for producing a flexible printed wiring board of the present invention includes the following steps 1) to 3): 1) On a conductive circuit of a base material on which a conductive circuit is formed, and on a non-conductive circuit. A step of coating and drying a heat-resistant resin solution on a part or the entire surface; 2) a step of winding a base material coated and dried with a heat-resistant resin solution to form a roll; 3) heat-treating the roll to form a heat-resistant resin. Forming a layer;

【0021】一つの実施態様では、前記熱処理を、減圧
下及び/又は不活性ガス雰囲気中で行うことを特徴とす
る。
In one embodiment, the heat treatment is performed under reduced pressure and / or in an inert gas atmosphere.

【0022】一つの実施態様では、前記巻き取り時に、
フレキシブルプリント配線板を、耐熱性樹脂溶液の塗布
面を外側にしながら、長尺状の耐熱性シートに巻き込む
ことを特徴とする。
In one embodiment, at the time of the winding,
The flexible printed wiring board is wound around a long heat-resistant sheet while the coated surface of the heat-resistant resin solution faces outward.

【0023】一つの実施態様では、前記耐熱性樹脂が有
機溶剤に可溶なポリイミド及び/又はポリアミドイミド
であることを特徴とする。
In one embodiment, the heat-resistant resin is polyimide and / or polyamide-imide soluble in an organic solvent.

【0024】一つの実施態様では、前記耐熱性樹脂が下
記一般式(1)、及び/又は下記一般式(2)を構成単
位として含むことを特徴とする。
In one embodiment, the heat-resistant resin contains the following general formula (1) and / or the following general formula (2) as a structural unit.

【0025】[0025]

【化7】 Embedded image

【0026】(式中、R1およびR2は同じであっても異
なっていてもよく、それぞれ水素もしくは炭素数1〜4
のアルキル基を示す。)
(Wherein R 1 and R 2 may be the same or different, and each represents hydrogen or C 1-4
Represents an alkyl group. )

【0027】[0027]

【化8】 Embedded image

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】本発明で耐熱性樹脂溶液に用い
る、耐熱性樹脂としては、手半田耐熱性などフレキシブ
ルプリント配線板としての耐熱性や難燃性に優れ、か
つ、加工上、十分な機械的強度を示すフィルムを形成す
るものであれば、基本的にはどのような樹脂を用いても
よい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The heat-resistant resin used in the heat-resistant resin solution of the present invention has excellent heat resistance and flame retardancy as a flexible printed wiring board such as hand soldering heat resistance, and has sufficient processing properties. Basically, any resin may be used as long as it forms a film exhibiting mechanical strength.

【0029】好ましくは、耐熱性樹脂溶液から形成され
る耐熱性樹脂層の弾性率が160Kg/mm2以上、ガ
ラス転移点が180℃以上で、かつ、ベース基材との熱
膨張係数差が0〜6.0×10-5、耐熱性樹脂層が形成
されたベース基材の熱膨張係数が0〜6.00×10-5
以下の比較的シリコーン量の少ない、或いはシリコーン
を実質的に含まない芳香族ポリイミドや芳香族ポリアミ
ドイミドである。
Preferably, the heat-resistant resin layer formed from the heat-resistant resin solution has an elastic modulus of 160 kg / mm 2 or more, a glass transition point of 180 ° C. or more, and a difference in thermal expansion coefficient from the base material of 0%. 66.0 × 10 -5 , the coefficient of thermal expansion of the base material on which the heat resistant resin layer is formed is 00〜6.00 × 10 -5.
The following aromatic polyimides and aromatic polyamideimides having a relatively small amount of silicone or containing substantially no silicone.

【0030】ベース基材との熱膨張係数差や、耐熱性樹
脂層が形成されたベース基材の熱膨張係数が6.00×
10-5より大きくなると、得られたフレキシブルプリン
ト配線板の寸法変化率や反りが大きくなる為、好ましく
ない。又、耐熱性樹脂層の弾性率が160Kg/mm2
より小さくなると、各種製造工程でのロスが多くなり生
産性が低下し、ガラス転移点が180℃より小さくなる
と、耐熱性樹脂層の半田耐熱性、特に、手半田耐熱性等
が不十分となる。
The difference between the thermal expansion coefficient of the base material and the thermal expansion coefficient of the base material on which the heat-resistant resin layer is formed is 6.00 ×.
If it is larger than 10 -5, the dimensional change rate and warpage of the obtained flexible printed wiring board become large, which is not preferable. Further, the elastic modulus of the heat-resistant resin layer is 160 kg / mm 2.
When the size is smaller, the loss in various manufacturing processes is increased and the productivity is reduced, and when the glass transition point is smaller than 180 ° C., the solder heat resistance of the heat resistant resin layer, particularly, the hand solder heat resistance becomes insufficient. .

【0031】逆にいえば、本発明の製造方法の場合、熱
膨張係数、弾性率、ガラス転移点など、耐熱性樹脂層の
特性値がかなり広い範囲でも、ベース基材の種類によら
ず、反りの発生しない、即ち、内部応力のないフレキシ
ブルプリント配線板が成型可能になったということであ
り、その結果、フレキシブルプリント配線板の高性能化
も達成できる。これは、従来の加工方法では不可能であ
ったことである。
Conversely, in the case of the production method of the present invention, even if the characteristic values of the heat-resistant resin layer such as the thermal expansion coefficient, the elastic modulus, and the glass transition point are in a considerably wide range, regardless of the type of the base material, This means that a flexible printed wiring board free from warpage, that is, free from internal stress, can be molded. As a result, the performance of the flexible printed wiring board can be improved. This is impossible with the conventional processing method.

【0032】本発明において、耐熱性樹脂層の厚みは、
0.001〜0.1mmが好ましい。0.001mmよ
り小さいと回路の保護層としての機能が不十分であり、
0.1mmを越えると、耐折性が低下し、又、フレキシ
ブルプリント配線板の反りが大きくなり易い。
In the present invention, the thickness of the heat-resistant resin layer is
0.001 to 0.1 mm is preferred. If it is smaller than 0.001 mm, the function as a protective layer of the circuit is insufficient,
If the thickness exceeds 0.1 mm, the bending resistance tends to decrease, and the warpage of the flexible printed wiring board tends to increase.

【0033】耐熱性樹脂として好ましく用いられる芳香
族ポリイミドや芳香族ポリアミドイミドは、通常の方法
で合成することができる。例えば、イソシアネート法、
酸クロリド法、低温溶液重合法、室温溶液重合法などで
ある。特に、本発明においては、各製造工程での成型加
工性や製造コスト等の面から耐熱性樹脂として用いる芳
香族ポリイミドや芳香族ポリアミドイミドは有機溶剤に
可溶であることが好ましいが、この場合は、重合溶液を
精製すること無しに直接使用できるイソシアネート法が
好ましい。本発明でいう有機溶剤可溶性とは、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N,N’−ジメチルホルムアミ
ド、N,N’−ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン、テトラメチルウレア、スル
ホラン、ジメチルスルホオキシド、γ−ブチロラクト
ン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどの単独、
或いはこれらの一部をトルエン、キシレンなどの炭化水
素系有機溶剤、ジグライム、トリグライム、テトラヒド
ロフラン、などのエーテル系有機溶剤、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロンなどのケト
ン系有機溶剤等で置き換えた混合溶剤等、通常用いられ
る溶剤のいずれかに0.1重量%以上溶解するものをい
う。
The aromatic polyimide or aromatic polyamideimide preferably used as the heat-resistant resin can be synthesized by a usual method. For example, the isocyanate method,
An acid chloride method, a low temperature solution polymerization method, a room temperature solution polymerization method, and the like. In particular, in the present invention, the aromatic polyimide or aromatic polyamideimide used as the heat-resistant resin is preferably soluble in an organic solvent in terms of moldability in each manufacturing process, manufacturing cost, and the like. Isocyanate method which can be used directly without purifying the polymerization solution is preferable. The organic solvent soluble in the present invention means N-methyl-2-pyrrolidone, N, N'-dimethylformamide, N, N'-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, tetramethylurea, Sulfolane, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, cyclohexanone, cyclopentanone, etc. alone;
Or a mixed solvent in which a part thereof is replaced with a hydrocarbon-based organic solvent such as toluene and xylene, an ether-based organic solvent such as diglyme, triglyme, and tetrahydrofuran, and a ketone-based organic solvent such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and isophorone. That is soluble in 0.1% by weight or more in any of commonly used solvents.

【0034】芳香族ポリイミドに用いる原料としては、
以下に示す様なものがあげられる。酸成分としては、ピ
ロメリット酸、ベンゾフェノン3,3’,4,4’−テ
トラカルボン酸、ビフェニル3,3’,4’−テトラカ
ルボン酸、ジフェニルスルホン3,3’,4,4’−テ
トラカルボン酸、ジフェニルエーテル−3,3’,4,
4’−テトラカルボン酸、ナフタレン−2,3,6,7
ーテトラカルボン酸、ナフタレン−1,2,4,5−テ
トラカルボン酸、ナフタレン−1,4,5,8−テトラ
カルボン酸などの一無水物、二無水物、エステル化物な
どが単独、或いは2種以上の混合物として用いることが
できる。
The raw materials used for the aromatic polyimide include:
The following are mentioned. Examples of the acid component include pyromellitic acid, benzophenone 3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid, biphenyl 3,3', 4'-tetracarboxylic acid, and diphenylsulfone 3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid. Carboxylic acid, diphenyl ether-3,3 ', 4,
4'-tetracarboxylic acid, naphthalene-2,3,6,7
-Monoanhydrides, dianhydrides, esterified products such as tetracarboxylic acid, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid, alone or in combination of two or more Can be used as a mixture.

【0035】また、アミン成分としてはp−フェニレン
ジアミン、m−フェニレンジアミン、3,4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニル
エーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、
3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジ
アミノビフェニル、3,3’−ジアミノビフェニル、
3,3’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミ
ノベンズアニリド、4,4’−ジアミノベンゾフェノ
ン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジ
アミノベンゾフェノン、2,6−トリレンジアミン、
2,4−トリレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェ
ニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルフ
ィド、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、3,
3’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミ
ノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジア
ミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルヘキサフルオ
ロイソプロピリデン、p−キシレンジアミン、m−キシ
レンジアミン、1,4−ナフタレンジアミン、1,5−
ナフタレンジアミン、2,6−ナフタレンジアミン、
2,7−ナフタレンジアミン、O−トリジン、2,2’
−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2’−ビ
ス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ス
ルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ビス(4
−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3
−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプ
ロパン、或いはこれらに対応するジイソシアネートなど
の単独或いは2種以上の混合物を用いることができる。
また、これら酸成分、アミン成分の組み合わせで別途重
合した樹脂を混合して使用することもできる。
As the amine component, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone,
3,3′-diaminodiphenyl sulfone, 3,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-diaminobiphenyl,
3,3′-diaminobenzanilide, 4,4′-diaminobenzanilide, 4,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminobenzophenone, 3,4′-diaminobenzophenone, 2,6-tolylenediamine,
2,4-tolylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylsulfide, 3,3′-diaminodiphenylsulfide, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 3,
3'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'- Diaminodiphenylhexafluoroisopropylidene, p-xylenediamine, m-xylenediamine, 1,4-naphthalenediamine, 1,5-
Naphthalenediamine, 2,6-naphthalenediamine,
2,7-naphthalenediamine, O-tolidine, 2,2 ′
-Bis (4-aminophenyl) propane, 2,2'-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane,
1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,
3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-
Bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane,
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4- (3-amino) Phenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4′-bis (4
-Aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (3
-Aminophenoxy) biphenyl, 2,2-bis [4-
(4-Aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, or a corresponding diisocyanate alone or a mixture of two or more thereof can be used.
Further, a resin separately polymerized with a combination of the acid component and the amine component may be used as a mixture.

【0036】芳香族ポリアミドイミドに用いる原料とし
ては、酸成分としてトリメリット酸無水物、ジフェニル
エーテル−3,3’,4’−トリカルボン酸無水物、ジ
フェニルスルホン−3,3’,4’−トリカルボン酸無
水物、ベンゾフェノン3,3’,4’−トリカルボン酸
無水物、ナフタレン−1,2,4−トリカルボン酸無水
物などのトリカルボン酸無水物類が単独或いは混合物と
して、アミン成分としてはポリイミド同様のジアミン、
或いはジイソシアネートの単独、或いは混合物があげら
れる。また、これら酸成分、アミン成分の組み合わせで
別途重合した樹脂を混合して使用することもできる。
The raw materials used for the aromatic polyamideimide include trimellitic anhydride, diphenyl ether-3,3 ', 4'-tricarboxylic anhydride and diphenylsulfone-3,3', 4'-tricarboxylic acid as acid components. Tricarboxylic anhydrides such as anhydrides, benzophenone 3,3 ', 4'-tricarboxylic anhydride, and naphthalene-1,2,4-tricarboxylic anhydride alone or as a mixture; ,
Alternatively, a diisocyanate alone or a mixture may be used. Further, a resin separately polymerized with a combination of the acid component and the amine component may be used as a mixture.

【0037】フレキシブル配線板の耐熱性、耐折性、寸
法変化率、反り、及び、各製造工程での成形加工性や製
造コストなどの面から、好ましい耐熱性樹脂は芳香族ポ
リイミド、芳香族ポリアミドイミドであり、より好まし
くは下記一般式(1)、或いは(2)で示される構造単
位を含有する芳香族ポリアミドイミドである。
From the viewpoints of heat resistance, bending resistance, dimensional change rate, warpage, and moldability and manufacturing cost in each manufacturing process, preferred heat-resistant resins are aromatic polyimides and aromatic polyamides. And more preferably an aromatic polyamideimide containing a structural unit represented by the following general formula (1) or (2).

【0038】[0038]

【化9】 Embedded image

【0039】(式中、R1、R2は同じであっても異なっ
ていてもよく、それぞれ、水素もしくは炭素数1〜4の
アルキル基を示す。)
(In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

【0040】[0040]

【化10】 Embedded image

【0041】本発明において、耐熱性樹脂溶液として用
いる耐熱性樹脂の溶媒としては、N−メチル−2ーピロ
リドン、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’−
ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン、テトラメチルウレア、スルホラン、ジメチ
ルスルホオキシド、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサ
ノン、シクロペンタノンなどであり、好ましくはN−メ
チル−2−ピロリドンある。また、これらの一部をトル
エン、キシレンなどの炭化水素系有機溶剤、ジグライ
ム、トリグライム、テトラヒドロフラン、などのエーテ
ル系有機溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロンなどのケトン系有機溶剤等で置き換
えることも可能である。
In the present invention, the solvent of the heat-resistant resin used as the heat-resistant resin solution includes N-methyl-2-pyrrolidone, N, N'-dimethylformamide, N, N'-
Examples thereof include dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, tetramethylurea, sulfolane, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, cyclohexanone, and cyclopentanone, and preferably N-methyl-2-pyrrolidone. In addition, some of these can be replaced with hydrocarbon organic solvents such as toluene and xylene, ether organic solvents such as diglyme, triglyme, and tetrahydrofuran, and ketone organic solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and isophorone. It is.

【0042】耐熱性樹脂溶液として用いる耐熱性樹脂の
分子量は、N−メチル−2−ピロリドン中、30℃での
対数粘度にして0.3から3.0dl/gにあるものが
好ましい。対数粘度が0.3dl/g以下では耐折性な
どの機械的特性が不十分であり、また、3.0dl/g
以上では、溶液粘度が高くなる為、塗布性が低下する。
The molecular weight of the heat-resistant resin used as the heat-resistant resin solution is preferably from 0.3 to 3.0 dl / g in logarithmic viscosity at 30 ° C. in N-methyl-2-pyrrolidone. If the logarithmic viscosity is 0.3 dl / g or less, mechanical properties such as folding resistance are insufficient, and 3.0 dl / g.
Above, the solution viscosity becomes high, so that the applicability decreases.

【0043】また、上記の芳香族ポリイミド、芳香族ポ
リアミドイミドにおいて、耐熱性や耐折性等、本発明の
目的を阻害しない範囲で、酸成分としてアジピン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸、シクロヘキサン−4,4’−
ジカルボン酸、ブタン−1,2,4−トリカルボン酸、
ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、シクロペ
ンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、シロキサ
ンジカルボン酸、シロキサンテトラカルボン酸などの脂
肪族や脂環族のジカルボン酸、ポリカルボン酸、及びこ
れらの一無水物や二無水物、エステル化物などを、又、
アミン成分として、テトラメチレンジアミン、ヘキサメ
チレンジアミン、イソホロンジアミン、4,4’−ジシ
クロヘキシルメタンジアミン、シクロヘキサン−1,4
−ジアミン、ジアミノシロキサンなどの脂肪族や脂環族
ジアミン或いはこれらに対応するジイソシアネートを単
独あるいは2種以上の混合物として用いても良い。ま
た、これら酸成分、アミン成分の組み合わせで別途重合
した樹脂を混合して使用することもできる。
In the above aromatic polyimides and aromatic polyamideimides, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, cyclohexane-4 are used as acid components within a range not to impair the object of the present invention such as heat resistance and folding resistance. , 4'-
Dicarboxylic acid, butane-1,2,4-tricarboxylic acid,
Aliphatic or alicyclic dicarboxylic acids such as butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, siloxane dicarboxylic acid and siloxane tetracarboxylic acid; Carboxylic acids, and their monoanhydrides and dianhydrides, esterified products,
As amine components, tetramethylene diamine, hexamethylene diamine, isophorone diamine, 4,4′-dicyclohexyl methane diamine, cyclohexane-1,4
-Aliphatic or alicyclic diamines such as diamines and diaminosiloxanes or diisocyanates corresponding thereto may be used alone or as a mixture of two or more. Further, a resin separately polymerized with a combination of the acid component and the amine component may be used as a mixture.

【0044】本発明に使用される耐熱性樹脂溶液におい
ては、配線板(回路形成されたベース基材)への塗布性
や耐熱性樹脂層の特性を向上させる目的で、塗布する樹
脂溶液として、上記のポリマーと溶剤に加え、無機、及
び/又は有機充填剤(タルク、ホワイトカーボン、硫酸
バリウム、石こうアルミナ白、クレー、シリカ、アスベ
スチン、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化チタ
ン、ポリスチレン共重合体、アクリル共重合体、フッ素
系ポリマー微粒子、ソルビトール縮合体など)、消泡剤
(シリコーン化合物、フッ素化合物、アクリル化合物な
ど)、レベリング剤(シリコーン化合物、アクリル化合
物など)、難燃剤(リン系化合物、トリアジン系化合
物、水酸化アルミなど)、架橋剤(ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、エステル系エポキシ樹脂、エーテル
系エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、脂環式エ
ポキシ樹脂、ヒンダトイン系エポキシ樹脂、アミノ系エ
ポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、マレイミド樹脂、イソ
シアネート樹脂など)とその硬化剤、カップリング剤
(チタンカップリング剤、シランカップリング剤な
ど)、その他、有機化合物(イソシアネート樹脂、ブロ
ックイソシアネート樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル
樹脂、フェノール樹脂など)、無機化合物(酸化チタ
ン、ベリリア、マグネシアなど)などを本発明の目的を
阻害しない範囲(特にシリコーン化合物量等)で配合、
或いは反応させることが可能である。配合方法として
は、通常の方法が適用出来、例えば、ボールミルや三本
ロールなどである。
In the heat-resistant resin solution used in the present invention, for the purpose of improving the coating property on the wiring board (the base substrate on which the circuit is formed) and the properties of the heat-resistant resin layer, the resin solution to be applied is as follows. In addition to the above polymers and solvents, inorganic and / or organic fillers (talc, white carbon, barium sulfate, gypsum alumina white, clay, silica, asbestin, magnesium carbonate, calcium carbonate, titanium oxide, polystyrene copolymer, acrylic Copolymers, fluoropolymer fine particles, sorbitol condensate, etc.), defoamers (silicone compounds, fluorine compounds, acrylic compounds, etc.), leveling agents (silicone compounds, acrylic compounds, etc.), flame retardants (phosphorus compounds, triazine compounds) Compounds, aluminum hydroxide, etc.), crosslinking agents (bisphenol A type epoxy resin, bis Enol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, ester type epoxy resin, ether type epoxy resin, urethane modified epoxy resin, alicyclic type epoxy resin, hindatoin type epoxy resin, amino type epoxy resin etc. Epoxy resins, maleimide resins, isocyanate resins, etc.) and their curing agents, coupling agents (titanium coupling agents, silane coupling agents, etc.), and other organic compounds (isocyanate resins, blocked isocyanate resins, acrylic resins, urethane resins, polyesters) Resins, polyamide resins, polyether resins, phenolic resins, etc.), inorganic compounds (titanium oxide, beryllia, magnesia, etc.) etc. within the range which does not impair the object of the present invention (particularly the amount of silicone compounds etc.) If,
Alternatively, it is possible to react. As a compounding method, an ordinary method can be applied, and examples thereof include a ball mill and a three-roll mill.

【0045】本発明に使用される耐熱性樹脂溶液の粘度
は、10〜1000ポイズ、揺変度は1.0〜5.0で
あることが好ましい。揺変度とは、溶液のチキソトロピ
ー性を示す1つの指標で、後述の数5式で表されるもの
である。粘度が10ポイズ未満では塗膜に「にじみ」や
「はじき」が発生しやすくなり、又、粘度が1000ポ
イズを越えたり、揺変度が5.0を越えるとピンホール
発生など、レベリング性が悪くなる。
The viscosity of the heat-resistant resin solution used in the present invention is preferably 10 to 1000 poise, and the degree of thixotropicity is preferably 1.0 to 5.0. The thixotropic degree is one index indicating the thixotropy of a solution and is expressed by the following equation (5). If the viscosity is less than 10 poise, "bleeding" or "repelling" tends to occur in the coating film, and if the viscosity exceeds 1000 poise or the thixotropic degree exceeds 5.0, leveling properties such as pinholes are generated. become worse.

【0046】塗布する耐熱性樹脂溶液の濃度は、1〜5
0重量%が好ましい。この範囲を越えると、本発明にお
ける目的とする特性値を維持する、ポリマー組成や分子
量、或いは配合処方としたときに、上記の適正な粘度範
囲におさめることが困難となり、塗布性が悪くなる。
The concentration of the heat-resistant resin solution to be applied is 1 to 5
0% by weight is preferred. Exceeding this range makes it difficult to maintain the desired viscosity value in the above-mentioned appropriate viscosity range when maintaining the desired characteristic value in the present invention in a polymer composition, a molecular weight, or a compounding formulation, resulting in poor coatability.

【0047】本発明において、耐熱性樹脂層で被覆され
る配線板(導体回路が形成されたベース基材)として
は、サブトラクティブ法やアディティブ法等、従来公知
の方法で、その片面、或いは両面に導体回路を有する、
各種構造のものが使用できる。耐熱性や耐折性、寸法安
定性、フレキシブルプリント配線板の反り等を考慮する
と、ポリイミドやポリアミドイミドなどの耐熱性樹脂層
の片面、或いは両面に直接、導体回路が形成された配線
板が好ましい。
In the present invention, the wiring board (base substrate on which the conductor circuit is formed) coated with the heat-resistant resin layer may be formed on one or both sides by a conventionally known method such as a subtractive method or an additive method. Having a conductor circuit,
Various structures can be used. In consideration of heat resistance, folding resistance, dimensional stability, warpage of a flexible printed wiring board, etc., a wiring board having a conductive circuit directly formed on one side or both sides of a heat-resistant resin layer such as polyimide or polyamide imide is preferable. .

【0048】ベース基材の絶縁材料に使用される耐熱性
樹脂としては、耐熱性樹脂溶液に使用される耐熱性樹脂
と同等のものが使用可能であるが、好ましくは、耐熱性
樹脂から形成されるベース基材の弾性率が100〜10
00Kg/mm2、ベース基材と耐熱性樹脂層との熱膨
張係数差が6.0×10-5以下、耐熱性樹脂層が形成さ
れたベース基材の熱膨張係数が6.0×10-5以下とな
る耐熱性や難燃性に優れる樹脂である。弾性率が100
Kg/mm2より小さいと、加工上、十分な機械的強度
が得られなかったり、フレキシブルプリント配線板の反
りが大きくなる。又、耐熱性樹脂層との熱膨張係数差が
6.0×10-5より大きいかったり、耐熱性樹脂層が形
成されたベース基材の熱膨張係数が6.0×10-5より
大きいと、フレキシブルプリント配線板の反りや寸法変
化率が大きくなる。
As the heat-resistant resin used for the insulating material of the base material, the same as the heat-resistant resin used for the heat-resistant resin solution can be used, but preferably, it is formed from the heat-resistant resin. Base material having an elastic modulus of 100 to 10
00Kg / mm 2 , the difference in thermal expansion coefficient between the base material and the heat-resistant resin layer is 6.0 × 10 −5 or less, and the coefficient of thermal expansion of the base material on which the heat-resistant resin layer is formed is 6.0 × 10 5 A resin with excellent heat resistance and flame retardancy of -5 or less. Elastic modulus is 100
If it is smaller than Kg / mm 2 , sufficient mechanical strength cannot be obtained in processing, and the warpage of the flexible printed wiring board increases. Also, the difference in thermal expansion coefficient from the heat-resistant resin layer is greater than 6.0 × 10 −5, or the thermal expansion coefficient of the base material on which the heat-resistant resin layer is formed is greater than 6.0 × 10 −5. This increases the warpage and dimensional change rate of the flexible printed wiring board.

【0049】フレキシブルプリント配線板の耐熱性、耐
折性、寸法変化率、反り、及び、各製造工程での成形加
工性や製造コストなどの面から、好ましい耐熱性樹脂は
芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミドイミドで、より好
ましくは下記の一般式(1)、或いは(2)で示される
構造単位を含有する芳香族ポリアミドイミドである。
From the viewpoints of heat resistance, bending resistance, dimensional change rate, warpage, moldability in each manufacturing process and manufacturing cost of the flexible printed wiring board, preferred heat-resistant resins are aromatic polyimide and aromatic polyimide. A polyamideimide is more preferably an aromatic polyamideimide containing a structural unit represented by the following general formula (1) or (2).

【0050】[0050]

【化11】 Embedded image

【0051】(式中、R1、R2は同じであっても異なっ
ていてもよく、それぞれ、水素もしくは炭素数1〜4の
アルキル基を示す。)
(In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

【0052】[0052]

【化12】 Embedded image

【0053】また、上記の耐熱性樹脂に、フレキシブル
プリント配線板の諸特性、たとえば、機械的特性、電気
的特性、滑り性、難燃性などを改良する目的で他の樹脂
や有機化合物、及び無機化合物を混合させたり、あるい
は反応させて併用してもよい。たとえば、滑剤(シリ
カ、タルク、シリコーン等)、接着促進剤、難燃剤(リ
ン系やトリアジン系、水酸化アルミ等)、安定剤(酸化
防止剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤等)、メッキ活性化
剤、有機や無機の充填剤(タルク、酸化チタン、フッ素
系ポリマー微粒子、顔料、染料、炭化カルシウム等)、
その他、シリコーン化合物、フッ素化合物、イソシアネ
ート化合物、ブロックイソシアネート化合物、アクリル
樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂
のような樹脂や有機化合物、或いはこれらの硬化剤、酸
化珪素、酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化鉄などの無
機化合物を、特に、シリコーン量等この発明の目的を阻
害しない範囲で併用することができる。
The above-mentioned heat-resistant resin may be added to another resin or an organic compound for the purpose of improving various characteristics of the flexible printed wiring board, for example, mechanical characteristics, electric characteristics, slipperiness, flame retardancy and the like. Inorganic compounds may be mixed or reacted to be used together. For example, lubricants (silica, talc, silicone, etc.), adhesion promoters, flame retardants (phosphorous, triazine, aluminum hydroxide, etc.), stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, etc.), plating activity Agents, organic and inorganic fillers (talc, titanium oxide, fluoropolymer fine particles, pigments, dyes, calcium carbide, etc.),
In addition, silicone compounds, fluorine compounds, isocyanate compounds, blocked isocyanate compounds, acrylic resins, urethane resins, polyester resins, polyamide resins, polyether resins, epoxy resins, resins such as phenolic resins, organic compounds, or curing agents thereof, Inorganic compounds such as silicon oxide, titanium oxide, calcium carbonate, iron oxide and the like can be used in combination as long as the object of the present invention is not impaired, particularly the amount of silicone.

【0054】又、ベース基材の厚みも、耐熱性樹脂層同
様に0.001〜0.1mmが好ましい。0.001m
mより小さいと、ベース基材としての機械的特性が不十
分であり、又、0.1mmを越えると耐折性が悪くな
る。耐折性等の点から、より好ましくは、耐熱性樹脂層
と同一の厚みである。
The thickness of the base material is preferably 0.001 to 0.1 mm, similarly to the heat-resistant resin layer. 0.001m
If it is smaller than m, the mechanical properties of the base material will be insufficient, and if it exceeds 0.1 mm, the folding resistance will be poor. From the viewpoint of folding resistance and the like, the thickness is more preferably the same as that of the heat-resistant resin layer.

【0055】本発明のベース基材に形成される導体回路
としては、銅、アルミニウム、スチール、及びニッケル
などを使用することができ、これらを複合した複合金属
や亜鉛、クロム化合物など他の金属で処理した金属につ
いても用いることができる。導体回路の厚みについては
特に限定はないが、たとえば0.003〜0.05mm
である。
As the conductor circuit formed on the base material of the present invention, copper, aluminum, steel, nickel and the like can be used. It can also be used for treated metals. Although there is no particular limitation on the thickness of the conductor circuit, for example, 0.003 to 0.05 mm
It is.

【0056】本発明においては、耐熱性樹脂溶液(被覆
剤)をベース基材へ塗布し、次いで、加熱により、溶剤
乾燥を行う為、脱溶剤に伴う体積収縮や、ベース基材と
耐熱性樹脂層との熱膨張差等により、内部応力が発生す
る。耐熱性樹脂層の厚みや弾性率、熱膨張係数が大きい
と、これまでの加工方法では、ベース基材の厚み、弾性
率、熱膨張係数、回路パターンに依っては、フレキシブ
ルプリント配線板に反りが発生していた。
In the present invention, a heat-resistant resin solution (coating agent) is applied to a base material, and then the solvent is dried by heating. An internal stress occurs due to a difference in thermal expansion between the layer and the like. If the thickness, elastic modulus, and coefficient of thermal expansion of the heat-resistant resin layer are large, the conventional processing method may warp the flexible printed wiring board depending on the thickness, elastic modulus, coefficient of thermal expansion, and circuit pattern of the base material. Had occurred.

【0057】通常、回路パターンが少ない程、反りは大
きくなるが、本発明においては、最も反りの発生しやす
い、回路が無い状態(ベース基材のみの場合)でも、ベ
ース基材の特性によらず(弾性率、熱膨張係数等)、発
生する内部応力が緩和され、反りの無い積層体の成型が
可能である。
In general, the smaller the circuit pattern, the greater the warpage. However, in the present invention, even in a state where the warp is most likely to occur and there is no circuit (in the case of using only the base substrate), the characteristics of the base substrate depend on the characteristics. (E.g., modulus of elasticity, thermal expansion coefficient, etc.), the generated internal stress is reduced, and a laminate without warpage can be molded.

【0058】具体的には、耐熱性樹脂溶液を配線板(導
体回路が形成されたベース基材)へ塗布し、タックフリ
ーな状態になるまで初期乾燥後、塗布面を外側にして巻
き取り、次いで、巻物状で脱溶剤しながら熱処理するこ
とで、弾性率やガラス転移点、熱膨張係数等が高い耐熱
性樹脂でも、脱溶剤に伴う体積収縮や樹脂の硬化収縮等
に伴う内部応力が緩和され、反りのない、寸法変化率、
或いは被覆前後の寸法変化率の小さいフレキシブルプリ
ント配線板の成型が可能である。
Specifically, a heat-resistant resin solution is applied to a wiring board (a base substrate on which a conductor circuit is formed), and is initially dried until a tack-free state is obtained, and then wound with the coated surface outside. Then, by heat treatment while removing the solvent in a roll form, even for a heat-resistant resin having a high modulus of elasticity, a glass transition point, a coefficient of thermal expansion, etc., internal stress due to volume shrinkage due to desolvation or curing shrinkage of the resin is reduced. Without warpage, dimensional change,
Alternatively, it is possible to form a flexible printed wiring board having a small dimensional change rate before and after coating.

【0059】被覆前後の寸法変化率とは、被覆前の配線
板に一定間隔で穴あけしておき、この穴間隔の長さを被
覆前後に測定したときの変化率をさし(後述の数3式で
表されるものである。)、寸法変化率とは加熱前後の伸
び率や収縮率のことである。又、反りが大きいとは、フ
レキシブルプリント配線板の凸面(反りと反対の面)を
下にして、平面においたときの、平面からの最大高さが
高い場合をさし、例えば、ベース基材上に耐熱性樹脂層
を全面に被覆したときの、反りの高さをはかることで
(或いは曲率半径を求めることで)、定量できる。又、
内部応力は数1式により、曲率半径等、各種特性値を代
入することで求められる。寸法変化率や被覆前後の寸法
変化率が小さいほど、フレキシブルプリント配線板の反
りは小さくなる。
The dimensional change rate before and after coating refers to the rate of change when the length of this hole interval is measured before and after coating on a wiring board before coating, at the time of before and after coating. The dimensional change rate is an elongation rate or a shrinkage rate before and after heating. The large warp means a case where the maximum height from the flat surface is high when the flexible printed wiring board is placed on a flat surface with the convex surface (the surface opposite to the warp) facing down. It can be determined by measuring the height of the warp (or by finding the radius of curvature) when the entire surface is covered with the heat-resistant resin layer. or,
The internal stress can be obtained by substituting various characteristic values such as a radius of curvature according to Equation 1. The smaller the dimensional change rate and the dimensional change rate before and after coating, the smaller the warpage of the flexible printed wiring board.

【0060】本発明においては、通常、塗布される配線
板(導体回路が形成されたベース基材)のワークサイズ
は300mm×300mm程度のシートで行い、塗布・
乾燥後、複数枚のシートを塗布層を外側にして、重ねて
巻き取り、巻物状で熱処理する。
In the present invention, the work size of the wiring board (base substrate on which the conductor circuit is formed) to be applied is usually a sheet of about 300 mm × 300 mm.
After drying, a plurality of sheets are stacked and wound, with the coating layer on the outside, and heat-treated in a roll.

【0061】塗布方法としては、従来から公知の方法を
適用できる。例えば、スクリーン印刷やオフセット印刷
などの印刷法、ロールコート、ナイフコート、ドクター
コート、ブレードコート、グラビアコート、ダイコー
ト、リバースコート、スピンコート、カーテンコート、
スプレーコートなどの塗工方法がある 初期乾燥方式に特に限定は無いが、乾燥温度は、50℃
〜180℃が好ましい。180℃以上では、初期乾燥を
した時点でのフレキシブルプリント配線板の反りが大き
くなり、後の巻物状での成形加工性(ハンドリング性)
が悪くなる。又、50℃以下では、乾燥時間が長くなり
生産性が低下する。
As a coating method, a conventionally known method can be applied. For example, printing methods such as screen printing and offset printing, roll coating, knife coating, doctor coating, blade coating, gravure coating, die coating, reverse coating, spin coating, curtain coating,
There is a coating method such as spray coating. The initial drying method is not particularly limited, but the drying temperature is 50 ° C.
~ 180 ° C is preferred. At 180 ° C. or higher, the warpage of the flexible printed wiring board at the time of initial drying becomes large, and the formability (handling property) in the form of a roll afterwards.
Gets worse. On the other hand, when the temperature is lower than 50 ° C., the drying time becomes longer, and the productivity is lowered.

【0062】本発明においては、ワークサイズが300
mm×300mm程度のフレキシブルプリント配線板を
溶剤を残した状態で複数枚、巻き取り、後に熱処理して
完全に脱溶剤する為、巻き取り時には、耐熱性樹脂溶液
の塗布面と非塗布面が接触しない様に巻き取る必要があ
る。接触しない様にするには、被覆面を外側にし、複数
枚のフレキシブルプリント配線板の間に、テープ等のス
ペーサーを挟み込めば良いが、より多くのシート状のフ
レキシブルプリント配線板を一括して巻き取り、生産性
を上げる為には、長尺状シートの間にシート状のフレキ
シブルプリント配線板を被覆面が外側になる様に挟み込
みながら巻き取る必要がある。長尺状シートの素材は、
脱溶剤を兼ねた熱処理温度で収縮や軟化、溶融などによ
って変形しないものを選択すればよいが、好ましくは、
ガラス、金属、カーボン、アラミド、セルロースなどか
ら作られる、織布、不織布、紙、フェルト、クロス、ス
クリーンなどのシートである。厚みは0.01mm以上
が好ましく、0.02mm以下では塗布面と非塗布面が
接触したり、脱溶剤の効率が悪くなる。
In the present invention, the work size is 300
In order to completely remove the solvent by heat-treating the flexible printed wiring board of about mm x 300 mm with the solvent remaining, and then heat-treating it completely, the coated surface of the heat-resistant resin solution and the non-coated surface are in contact during winding. It is necessary to rewind so that it does not. To avoid contact, the coated surface should be on the outside and a spacer such as tape should be inserted between multiple flexible printed wiring boards, but more sheets of flexible printed wiring boards should be wound together. In order to increase productivity, it is necessary to wind a sheet-like flexible printed circuit board between long sheets while sandwiching the sheet-like flexible printed circuit board such that the covering surface is on the outside. The material of the long sheet is
What is necessary is to select a material that does not deform due to shrinkage, softening, melting, etc. at the heat treatment temperature also serving as a solvent removal, but preferably,
A sheet made of glass, metal, carbon, aramid, cellulose, or the like, such as woven fabric, nonwoven fabric, paper, felt, cloth, and screen. The thickness is preferably 0.01 mm or more, and if it is 0.02 mm or less, the coated surface and the non-coated surface come into contact with each other and the efficiency of solvent removal becomes poor.

【0063】本発明において熱処理時の雰囲気は、減圧
下、及び/又は不活性ガス雰囲気中で行う必要がある。
空気中で行うと樹脂層が劣化、或いは過度に架橋し、フ
レキシブルプリント配線板の寸法変化率や被覆前後の寸
法変化率が大きくなり、反りが大きくなる。又、耐折性
も低化してくる。
In the present invention, the heat treatment must be performed under reduced pressure and / or in an inert gas atmosphere.
When performed in air, the resin layer is degraded or excessively crosslinked, and the dimensional change rate of the flexible printed wiring board and the dimensional change rate before and after coating are increased, and warpage is increased. In addition, the folding resistance also decreases.

【0064】熱処理の温度は、使用する耐熱性樹脂のガ
ラス転移点や溶剤の種類に依存するが、およそ150℃
〜350℃である。350℃以上では、樹脂層の劣化や
架橋により、フレキシブルプリント配線板の耐折性が低
下したり、寸法変化率や被覆前後の寸法変化率が大きく
なり、反りが大きくなる。150℃以下では脱溶剤に長
時間要する為、生産性が低下し、又、溶剤の体積収縮に
伴う内部応力の緩和も不十分となり、フレキシブルプリ
ント配線板の寸法変化率や反りが大きくなる。
The temperature of the heat treatment depends on the glass transition point of the heat-resistant resin to be used and the kind of the solvent.
350350 ° C. If the temperature is higher than 350 ° C., the resin layer is deteriorated or cross-linked, so that the bending resistance of the flexible printed wiring board is reduced, the dimensional change rate or the dimensional change rate before and after coating is increased, and the warpage is increased. If the temperature is lower than 150 ° C., it takes a long time to remove the solvent, so that the productivity is reduced, the internal stress caused by the volume shrinkage of the solvent is not sufficiently relaxed, and the dimensional change rate and warpage of the flexible printed wiring board are increased.

【0065】フレキシブルプリント配線板の反りという
観点からすると、ベース基材や導体層の厚みは厚いほう
が、また、導体回路面積は広いほうが、有利になるが、
本発明の加工方法ではあらゆる回路パターンや厚み構成
のベース基材に適用可能である。
From the viewpoint of the warpage of the flexible printed wiring board, it is advantageous that the thickness of the base material and the conductor layer is larger and the conductor circuit area is larger.
The processing method of the present invention can be applied to base materials having any circuit patterns and thickness configurations.

【0066】[0066]

【実施例】以下、実施例により、この発明をさらに詳し
く説明する。なお、本発明は実施例により、特に制限さ
れるものではない。又、各実施例における特性値の評価
方法は以下の通りである。被覆前後の寸法変化率以下の
操作により測定した。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The present invention is not particularly limited by the embodiments. The evaluation method of the characteristic value in each embodiment is as follows. The dimensional change before and after coating was measured by the following operation.

【0067】1)JIS C 5016に準拠した耐折
性評価用配線パターンが回路形成された226mm×3
40mm(長手方向をMD、他をTDとする)の配線板
に、ドリル(直径2mm)でMD方向に約300mm、
TD方向に約200mmの間隔で、穴をあけた。
1) 226 mm × 3 on which a wiring pattern for folding endurance evaluation according to JIS C 5016 is formed
About 300mm in the MD direction with a drill (diameter 2mm) on a 40mm (longitudinal direction is MD, other is TD) wiring board
Holes were drilled at intervals of about 200 mm in the TD direction.

【0068】2)上記配線板を25℃、65%で24時
間調湿後、穴間隔をMD方向とTD方向に測長した。
2) The above wiring board was conditioned at 25 ° C. and 65% for 24 hours, and the distance between the holes was measured in the MD and TD directions.

【0069】3)耐熱性樹脂溶液を塗布し、乾燥、巻き
取り、そして熱処理した。
3) A heat-resistant resin solution was applied, dried, wound up, and heat-treated.

【0070】4)耐熱性樹脂層が形成されたフレキシブ
ルプリント配線板を25℃、65%で24時間、調湿し
た。
4) The flexible printed wiring board on which the heat-resistant resin layer was formed was conditioned at 25 ° C. and 65% for 24 hours.

【0071】5)MD方向、TD方向に測長し、数2式
により、寸法変化率を求めた。
5) The length was measured in the MD direction and the TD direction, and the dimensional change rate was calculated by the equation (2).

【0072】[0072]

【数3】 (Equation 3)

【0073】対数粘度 ポリマー濃度が0.5g/dlとなるようにN−メチル
−2−ピロリドンに溶解し、その溶液の溶液粘度及び溶
媒粘度を30℃で、ウベローゼ型の粘度管により測定し
て、下記の式で計算した。
Logarithmic Viscosity The polymer was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone so that the polymer concentration became 0.5 g / dl, and the solution viscosity and the solvent viscosity of the solution were measured at 30 ° C. using an Ubbelose type viscosity tube. Was calculated by the following equation.

【0074】[0074]

【数4】 (Equation 4)

【0075】溶液粘度 B型粘度計により、25℃の温度で10回転/分の条件
で測定した。
Solution viscosity The solution viscosity was measured at a temperature of 25 ° C. at a rate of 10 revolutions / minute using a B-type viscometer.

【0076】揺変度 B型粘度計により、25℃の温度で、20回転/分と2
回転/分の各条件で溶液粘度を測定し、下記の式で計算
した。
Twisting degree At a temperature of 25 ° C., 20 revolutions / minute and 2
The solution viscosity was measured under each condition of rotation / minute, and calculated by the following formula.

【0077】[0077]

【数5】 (Equation 5)

【0078】ガラス転移点と熱膨張係数 TMA(熱機械分析/理学(株)製)引張荷重法によ
り、以下の条件で測定した。サンプルフィルムは、窒素
中、昇温速度10℃/分で、一旦、変曲点まで昇温し、
その後室温まで冷却したフィルムについて測定を行っ
た。
Glass Transition Point and Thermal Expansion Coefficient TMA (thermomechanical analysis / manufactured by Rigaku Corporation) was measured by the tensile load method under the following conditions. The sample film is heated to an inflection point once in nitrogen at a heating rate of 10 ° C./min.
Thereafter, the film cooled to room temperature was measured.

【0079】 荷重:1g サンプルサイズ:4(幅)×20(長さ)mm 昇温速度:10℃/分 雰囲気:窒素 尚、サンプルは以下により作成した。ベース基材:使用
した金属積層体の金属をそのままエッチング除去して作
成した。耐熱性樹脂層の樹脂フィルム:耐熱性樹脂溶液
を0.1mmのPETフィルムに、乾燥後の厚みが0.
02mmになる様に塗布し、100℃で10分加熱す
る。次いで、PETフィルムを除去し、金枠に固定後、
更に、真空中、200℃で20時間加熱して作成した。
Load: 1 g Sample size: 4 (width) × 20 (length) mm Heating rate: 10 ° C./min Atmosphere: nitrogen The sample was prepared as follows. Base substrate: The base material was prepared by directly etching and removing the metal of the used metal laminate. Resin film of heat-resistant resin layer: heat-resistant resin solution is dried on a 0.1 mm PET film to a thickness of 0.1 mm.
It is applied so as to be 02 mm, and heated at 100 ° C. for 10 minutes. Next, after removing the PET film and fixing it to a metal frame,
Further, it was prepared by heating at 200 ° C. for 20 hours in a vacuum.

【0080】残存溶剤率 JIS K5400により、250℃×1hrの乾燥条
件で以下の式より計算した。
Residual solvent ratio Calculated from the following equation under the drying conditions of 250 ° C. × 1 hr according to JIS K5400.

【0081】[0081]

【数6】 (Equation 6)

【0082】手半田耐熱 40℃、85%(湿度)で5hr調湿し、フラックス洗
浄した後、350℃で半田付けを行い、顕微鏡で剥がれ
や膨れの有無を観察した。
Hand Solder Heat Resistance After humidity control at 40 ° C. and 85% (humidity) for 5 hours, and flux washing, soldering was performed at 350 ° C., and the presence or absence of peeling or swelling was observed with a microscope.

【0083】半田耐熱(ディップ法) 40℃、85%(湿度)で5hr調湿し、フラックス洗
浄した後、280℃の噴流半田浴に浸漬し、顕微鏡で剥
がれや膨れの有無を観察した。
Solder heat resistance (dip method) The humidity was adjusted at 40 ° C. and 85% (humidity) for 5 hours, and after flux washing, the sample was immersed in a jet solder bath at 280 ° C., and the presence or absence of peeling or swelling was observed with a microscope.

【0084】耐折性 JIS C5016により、屈曲径2mm、荷重500
gで測定した。
Folding resistance According to JIS C5016, bending diameter 2 mm, load 500
g.

【0085】密着性 JIS C5016により、セロテープ剥離した。Adhesion Cellophane tape was peeled off according to JIS C5016.

【0086】フレキシブルプリント配線板の反り以下の
操作により測定した。 1)各実施例、比較例で使用する金属積層体をJIS
C5016規格に準拠した耐折性評価用配線パターンに
回路加工、或いは、全ての金属をエッチング除去しベー
ス基材を作成した。 2)得られたベース基材上に、各実施例、比較例に示す
加工条件により耐熱性樹脂層を形成した。 3)耐折性評価用配線パターン上に耐熱性樹脂層が形成
されたフレキシブルプリント配線板は、その配線にあわ
せて、又、全ての金属をエッチング除去したベース基材
上に耐熱性樹脂層が形成されたものは、10cm角の正
方形に金型を用いて打ち抜いた。 4)打ち抜いたサンプルを40℃、85%(湿度)で5
hr調湿した。 5)調湿後、サンプルの凸面を下にして、平面上にお
き、反った部分の最大高さを計った。又、この高さか
ら、曲率半径を求めた。
The warpage of the flexible printed wiring board was measured by the following operation. 1) The metal laminate used in each Example and Comparative Example was JIS
Circuit processing was performed on a wiring pattern for evaluation of bending resistance conforming to the C5016 standard, or all metals were removed by etching to prepare a base substrate. 2) A heat-resistant resin layer was formed on the obtained base material under the processing conditions shown in each of Examples and Comparative Examples. 3) A flexible printed wiring board in which a heat-resistant resin layer is formed on a wiring pattern for evaluation of folding resistance has a heat-resistant resin layer on a base material in accordance with the wiring and on which all metals have been removed by etching. The formed product was punched out into a 10 cm square using a mold. 4) Punch the sample at 40 ° C and 85% (humidity) for 5 minutes.
hr controlled. 5) After humidity control, the sample was placed on a flat surface with the convex surface facing down, and the maximum height of the warped portion was measured. The radius of curvature was determined from the height.

【0087】内部応力の測定 以下の操作により測定した。 1)各実施例、比較例で使用する金属積層体の金属をエ
ッチング除去したベース基材上に、乾燥後の厚みが0.
01mmになる様、耐熱性樹脂溶液を塗布した。 2)各実施例、比較例に示す加工条件で脱溶剤、或いは
応力緩和を行った。 3)得られたベース基材の曲率半径を求め、数1式によ
り内部応力を求めた。
Measurement of internal stress The internal stress was measured by the following operation. 1) On the base material from which the metal of the metal laminate used in each of the examples and comparative examples was removed by etching, the thickness after drying was 0.1 mm.
A heat-resistant resin solution was applied so as to be 01 mm. 2) Desolvation or stress relaxation was performed under the processing conditions shown in each of the examples and comparative examples. 3) The radius of curvature of the obtained base material was obtained, and the internal stress was obtained by the equation (1).

【0088】数1式中、ベース基材の弾性率、耐熱性樹
脂層のポアソン比は、次項の「樹脂フィルムの強度、伸
度、弾性率」の測定方法に準じた。
In the equation (1), the elastic modulus of the base material and the Poisson's ratio of the heat-resistant resin layer were in accordance with the following methods for measuring the “strength, elongation and elastic modulus of the resin film”.

【0089】寸法変化率 金属層が除去されたベース基材上に、耐熱性樹脂層を各
加工条件で形成し、そのベース基材を、IPC−FC2
41B規格のIPC−TM−650(2.2.4)に準
拠した測定法(150℃×30分)で測定した。 樹脂フィルムの強度、伸度、弾性率 ガラス転移点の測定と同様にして作成したフィルムにつ
いて、テンシロン引張試験機により、以下の条件で測定
した。
Dimensional change rate A heat-resistant resin layer is formed on the base material from which the metal layer has been removed under various processing conditions.
It measured by the measuring method (150 degreeC x 30 minutes) based on IPC-TM-650 (2.2.4) of 41B specification. The strength, elongation, and elastic modulus of the resin film A film prepared in the same manner as the measurement of the glass transition point was measured by a Tensilon tensile tester under the following conditions.

【0090】 サンプルサイズ:幅10mm、長さ100mm サンプル調湿:40℃、85%(湿度) 引張速度:20mm/分 チャック間距離:40mmSample size: width 10 mm, length 100 mm Sample humidity control: 40 ° C., 85% (humidity) Peeling speed: 20 mm / min Distance between chucks: 40 mm

【0091】合成例1 耐熱性樹脂溶液Aの合成 反応容器に無水トリメリット酸192g、3,3’−ジ
メチル−4,4’−ビフェニルジイソシアネート211
g、2,4−トリレンジイソシアネート35g、ナトリ
ウムメチラート0.5g、及びN−メチル−2−ピロリ
ドン2.5Kgを加え、140℃まで1hrで昇温し、
さらに140℃で3hr反応させた。得られたポリマー
特性は以下の通りであった。
Synthesis Example 1 Synthesis of heat-resistant resin solution A In a reaction vessel, 192 g of trimellitic anhydride, 3,3′-dimethyl-4,4′-biphenyl diisocyanate 211 were added.
g, 2,4-tolylene diisocyanate (35 g), sodium methylate (0.5 g) and N-methyl-2-pyrrolidone (2.5 kg) were added, and the temperature was raised to 140 ° C. for 1 hr.
Further, the reaction was carried out at 140 ° C. for 3 hours. The polymer properties obtained were as follows:

【0092】 対数粘度:1.5 ガラス転移点:320℃ 熱膨張係数:2.30×10-5 引張強度:34Kg/mm2 引張伸度:43% 引張弾性率:680Kg/mm2 Logarithmic viscosity: 1.5 Glass transition point: 320 ° C. Thermal expansion coefficient: 2.30 × 10 −5 Tensile strength: 34 Kg / mm 2 Tensile elongation: 43% Tensile modulus: 680 Kg / mm 2

【0093】合成例2 耐熱性樹脂溶液Bの合成 反応容器に無水トリメリット酸192g、1,5−ナフ
タレンジイソシアネート157g、4,4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート31g、ジアザビシクロウン
デセン1g、及びN−メチル−2−ピロリドン2Kgを
加え、170℃まで1hrで昇温し、さらに170℃で
5hr反応させた。得られたポリマーの特性は、以下の
通りであった。
Synthesis Example 2 Synthesis of heat-resistant resin solution B In a reaction vessel, 192 g of trimellitic anhydride, 157 g of 1,5-naphthalenediisocyanate, 31 g of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 1 g of diazabicycloundecene, and N-methyl 2 kg of -2-pyrrolidone was added, the temperature was raised to 170 ° C for 1 hour, and the reaction was further performed at 170 ° C for 5 hours. The properties of the obtained polymer were as follows.

【0094】 対数粘度:1.4 ガラス転移点:356℃ 熱膨張係数:2.45×10-5 引張強度:41Kg/mm2 引張伸度:53% 引張弾性率:610Kg/mm2 Logarithmic viscosity: 1.4 Glass transition point: 356 ° C. Thermal expansion coefficient: 2.45 × 10 −5 Tensile strength: 41 Kg / mm 2 Tensile elongation: 53% Tensile elasticity: 610 Kg / mm 2

【0095】配合例1 耐熱性樹脂溶液Cの調整 合成例1で得られた耐熱性樹脂溶液A1Kgに、シリコ
ーン化合物(信越化学(株)製KS603)を4g(耐
熱性樹脂溶液の固形分に対して3%)、アクリル化合物
(共栄社油脂(株)製フローレンAC300)を1g
(耐熱性樹脂溶液の固形分に対して1%)添加した。次
いで、ホモジナイザーで1時間撹拌し、固形分濃度が1
3%、溶液粘度が300ポイズの性熱性樹脂溶液Cを得
た。皮膜の特性値は以下の通りであった。
Formulation Example 1 Preparation of heat-resistant resin solution C 4 g of a silicone compound (KS603 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to 1 kg of the heat-resistant resin solution A obtained in Synthesis Example 1 (based on the solid content of the heat-resistant resin solution). 1% of an acrylic compound (Floren AC300 manufactured by Kyoeisha Yushi Co., Ltd.)
(1% based on the solid content of the heat-resistant resin solution). Next, the mixture was stirred for 1 hour with a homogenizer, and the solid content was 1%.
An electrothermal resin solution C having 3% and a solution viscosity of 300 poise was obtained. The characteristic values of the film were as follows.

【0096】 Tg:308℃ 熱膨張係数:2.45×10-5 引張強度:24Kg/mm2 引張伸度:46% 弾性率:600Kg/mm2 Tg: 308 ° C. Coefficient of thermal expansion: 2.45 × 10 −5 Tensile strength: 24 Kg / mm 2 Tensile elongation: 46% Elastic modulus: 600 Kg / mm 2

【0097】配合例2 耐熱性樹脂溶液Dの調整 合成例1で得られた耐熱性樹脂溶液A1Kgに、シリカ
(日本アエロジェル(株)製アエロジェル#300)を
10.3g、シリコーン化合物(信越化学(株)製KS
603)を4g(耐熱性樹脂溶液の固形分に対して3
%)、アクリル化合物(共栄社油脂(株)製フローレン
AC300)を1g(耐熱性樹脂溶液の固形分に対して
1%)添加した。ホモジナイザーで1時間撹拌後、三本
ロールにて分散し、固形分濃度が13%、溶液粘度が3
00ポイズ、揺変度が1.4の耐熱性樹脂溶液Dを得
た。皮膜の特性は以下の通りであった。
Formulation Example 2 Preparation of Heat-Resistant Resin Solution D To 10.1 g of the heat-resistant resin solution A1 obtained in Synthesis Example 1, 10.3 g of silica (Aerogel # 300 manufactured by Nippon Aerogel Co., Ltd.) and a silicone compound (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) KS)
603) in an amount of 4 g (3 to the solid content of the heat-resistant resin solution).
%) And 1 g of an acrylic compound (Floren AC300 manufactured by Kyoeisha Yushi Co., Ltd.) (1% based on the solid content of the heat-resistant resin solution). After stirring with a homogenizer for 1 hour, the mixture was dispersed with three rolls, and the solid concentration was 13% and the solution viscosity was 3%.
A heat-resistant resin solution D having a poise of 00 and a thixotropic degree of 1.4 was obtained. The properties of the film were as follows.

【0098】 Tg:325℃ 熱膨張係数:2.29×10-5 引張強度:32Kg/mm2 引張伸度:47% 弾性率:689Kg/mm2 Tg: 325 ° C. Coefficient of thermal expansion: 2.29 × 10 −5 Tensile strength: 32 kg / mm 2 Tensile elongation: 47% Elastic modulus: 689 kg / mm 2

【0099】実施例1〜2 配合例で得られた耐熱性樹脂溶液C或いはDを、表−1
に示す東洋紡(株)製銅張積層板「バイロフレックスT
M」(基材フィルムの熱膨張係数が2.2×10-5、引
張強度が43Kg/mm2、引張伸度が60%、弾性率
が640Kg/mm2)をJIS C5016規格に準
拠し、耐折性評価用配線パターンに回路加工した被印刷
基板に、ステンレススクリーン板を介して、厚みが0.
01mmになる様、全面に印刷した。次いで、100℃
で5分間乾燥した。
Examples 1-2 The heat-resistant resin solution C or D obtained in the formulation examples was prepared according to Table -1.
"Copper clad laminate" Viroflex T "manufactured by Toyobo Co., Ltd.
M ”(the coefficient of thermal expansion of the base film is 2.2 × 10 −5 , the tensile strength is 43 kg / mm 2 , the tensile elongation is 60%, and the elastic modulus is 640 kg / mm 2 ) in accordance with JIS C5016 standard. A substrate having a thickness of 0.
Printing was performed on the entire surface so as to be 01 mm. Then, at 100 ° C
For 5 minutes.

【0100】同様の操作を複数回繰り返し、得られた複
数枚のフレキシブルプリント配線板を、ステンレス製ス
クリーンからなる長尺状シートに、塗布面が外側になる
様に、挟み込みながら、直径3インチのアルミニウム管
に巻き取った。
The same operation was repeated a plurality of times, and the obtained plurality of flexible printed wiring boards were sandwiched between long sheets of stainless steel screen so that the application surface was on the outside, and the flexible printed wiring boards having a diameter of 3 inches were sandwiched. Wound on an aluminum tube.

【0101】巻き取った、ロールをイナートオーブンに
入れ、150℃で30分、280℃で10分間熱処理し
た。得られたフレキシブルプリント配線板の、塗膜中の
溶剤は完全に除去されており、特性は表−1、表−2に
示すごときものであった。
The wound roll was placed in an inert oven and heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes and 280 ° C. for 10 minutes. The solvent in the coating film of the obtained flexible printed wiring board was completely removed, and the properties were as shown in Tables 1 and 2.

【0102】実施例3〜4 合成例1、2で得られた耐熱性樹脂溶液A、Bを、実施
例1と同じ被印刷基板に、厚みが0.01mmになる
様、全面に塗布した。次いで、100℃で5分間初期乾
燥した。
Examples 3 and 4 The heat-resistant resin solutions A and B obtained in Synthesis Examples 1 and 2 were applied to the same substrate to be printed as in Example 1 so as to have a thickness of 0.01 mm. Next, it was initially dried at 100 ° C. for 5 minutes.

【0103】同様の操作を複数回繰り返し、得られた複
数枚のフレキシブルプリント配線板を、ステンレス製ス
クリーンからなる長尺状シートに、塗布面が外側になる
様に、挟み込みながら、直径3インチのアルミニウム管
に巻き取った。
The same operation was repeated a plurality of times, and the obtained plurality of flexible printed wiring boards were sandwiched between long sheets made of a stainless steel screen such that the coating surface was on the outside, and the flexible printed wiring boards having a diameter of 3 inches were sandwiched. Wound on an aluminum tube.

【0104】巻き取った、ロールをイナートオーブンに
入れ、150℃で30分、280℃で10分間熱処理し
た。得られたフレキシブルプリント配線板の、塗膜中の
溶剤は完全に除去されており、特性は表−1、表−2に
示すごときものであった。
The wound roll was placed in an inert oven and heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes and 280 ° C. for 10 minutes. The solvent in the coating film of the obtained flexible printed wiring board was completely removed, and the properties were as shown in Tables 1 and 2.

【0105】比較例1〜2 配合例1、2で得られた耐熱性樹脂溶液C或いはDを、
実施例1と同じ被印刷基板に、ステンレススクリーン板
を介して、厚みが0.01mmになる様、全面に塗布し
た。次いで、100℃で5分間乾燥した後、巻物にする
ことなく、平面に近い状態で放置し、150℃で30
分、280℃で10分間、熱処理した。得られたフレキ
シブルプリント配線板の、塗膜中の溶剤は完全に除去さ
れており、特性は表−1、表−2に示すごときものであ
った。
Comparative Examples 1-2 The heat-resistant resin solution C or D obtained in Formulation Examples 1 and 2 was
It was applied to the same substrate to be printed as in Example 1 via a stainless screen plate so that the thickness became 0.01 mm. Next, after drying at 100 ° C. for 5 minutes, the mixture is left in a state close to a flat surface without being rolled, and is left at 150 ° C. for 30 minutes.
For 10 minutes at 280 ° C. The solvent in the coating film of the obtained flexible printed wiring board was completely removed, and the properties were as shown in Tables 1 and 2.

【0106】比較例3 ポリイミドフィルムを接着剤で張り合わせたフレキシブ
ル銅張積層板(ニッカン工業(株)製ニカフレックスF
−30VC112RC11/2)に、実施例と同一の配
線回路を、同一の加工条件で回路加工し、ベース基材を
得た。
Comparative Example 3 A flexible copper-clad laminate obtained by laminating a polyimide film with an adhesive (Nikaflex F, manufactured by Nickan Industry Co., Ltd.)
-30VC112RC11 / 2), the same wiring circuit as in the example was subjected to circuit processing under the same processing conditions to obtain a base material.

【0107】これに、ポリイミドの接着剤付きカバーフ
ィルム(ニッカン工業(株)製CISV−1215)を
所定の形状に切り出し、そのまま、プレス圧50Kg/
cm 2、温度150℃、時間30分の条件で熱プレスし
た。
In addition to this, a cover with a polyimide adhesive
Film (CISV-1215 manufactured by Nikkan Industry Co., Ltd.)
Cut into a predetermined shape, press pressure 50Kg /
cm TwoHot press at 150 ° C for 30 minutes
Was.

【0108】この様にして得られた、フレキシブルプリ
ント配線板の半田耐熱、手半田耐熱を評価したところ、
膨れや剥がれが観察された。
When the solder heat resistance and the manual solder heat resistance of the flexible printed wiring board thus obtained were evaluated,
Swelling and peeling were observed.

【0109】[0109]

【表1】 [Table 1]

【0110】[0110]

【表2】 [Table 2]

【0111】[0111]

【発明の効果】上述したように、本発明のフレキシブル
プリント配線板は、耐熱性、耐折性、寸法安定性、機械
的強度等に優れ、しかも、ベース基材に依らず、フレキ
シブルプリント配線板の反りもまったくなく、安価に製
造できる為、工業的に有用である。
As described above, the flexible printed wiring board of the present invention is excellent in heat resistance, folding resistance, dimensional stability, mechanical strength, etc., and is flexible regardless of the base material. It is industrially useful because it can be manufactured at low cost without any warpage.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J043 PA02 PC016 QB15 QB21 QB24 QB26 QB32 RA05 RA34 SA06 SB01 TA11 TA13 TA21 TA71 TB01 UA122 UA131 UA261 UB011 UB051 UB121 UB151 UB152 UB221 UB281 UB301 UB302 VA011 VA012 VA041 VA042 VA051 VA052 VA061 VA062 VA081 VA082 VA091 VA092 XA14 XA16 XA18 ZA24 ZA31 ZA41 ZB50 5E314 AA24 AA36 BB02 CC01 CC02 CC07 FF06 GG08 GG19  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4J043 PA02 PC016 QB15 QB21 QB24 QB26 QB32 RA05 RA34 SA06 SB01 TA11 TA13 TA21 TA71 TB01 UA122 UA131 UA261 UB011 UB051 UB121 UB151 UB152 UB221 UB281 UB301 VA011 VA061 VA061 VA061 VA0122 VA0121 VA082 VA091 VA092 XA14 XA16 XA18 ZA24 ZA31 ZA41 ZB50 5E314 AA24 AA36 BB02 CC01 CC02 CC07 FF06 GG08 GG19

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ベース基材上に導体回路が形成されてお
り、導体回路部分及び非導体回路部分が部分的または全
面的に耐熱性樹脂層で被覆されたフレキシブルプリント
配線板であって、非導体回路部分の150℃、30分熱
処理前後の寸法変化率の絶対値が0.04%以下で、か
つ、下記式を満足するフレキシブルプリント配線板。 【数1】σ=(A2×E)/6RS(1−ν) (但し、式中σは内部応力を表し、0〜4Kgf/mm
2の範囲であり、 Aはベース基材の厚みを表し、0.001〜0.1mm
の範囲であり、 Eはベース基材の弾性率を表し、100〜1000Kg
f/mm2の範囲であり、 Rは耐熱性樹脂層を被覆したベース基材の曲率半径を表
し、30mm〜∞の範囲であり、 Sは耐熱性樹脂層の厚みを表し、0.001〜0.1m
mの範囲であり、 νはポアソン比を表し、0.1〜0.6の範囲であ
る。)
1. A flexible printed wiring board in which a conductive circuit is formed on a base material, and a conductive circuit portion and a non-conductive circuit portion are partially or entirely covered with a heat-resistant resin layer. A flexible printed wiring board having an absolute value of a dimensional change rate of a conductor circuit portion before and after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes of 0.04% or less and satisfying the following expression. ## EQU1 ## σ = (A 2 × E) / 6RS (1-ν) (where σ represents an internal stress and 0 to 4 kgf / mm)
A is the range of 2 , A represents the thickness of the base substrate, 0.001 to 0.1 mm
E represents the modulus of elasticity of the base material, and is 100 to 1000 kg.
f / mm 2 , R represents the radius of curvature of the base material coated with the heat-resistant resin layer, and ranges from 30 mm to ∞; S represents the thickness of the heat-resistant resin layer; 0.1m
m, and ν represents Poisson's ratio, which is in the range of 0.1 to 0.6. )
【請求項2】 JIS C5016規格に準拠した耐折
性評価用配線パターンに回路加工されたベース基材に耐
熱性樹脂層を被覆したときの反りから求めた曲率半径
が、30mm〜∞であることを特徴とする請求項1記載
のフレキシブルプリント配線板。
2. A radius of curvature determined from warpage when a heat-resistant resin layer is coated on a base material processed into a wiring pattern for evaluation of folding resistance conforming to JIS C5016 standard is 30 mm to ∞. The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記耐熱性樹脂層のガラス転移点が18
0℃以上で、手半田耐熱性が350℃以上であることを
特徴とする、請求項1又は2に記載のフレキシブルプリ
ント配線板。
3. The heat-resistant resin layer has a glass transition point of 18
The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the hand solder heat resistance is 350 ° C. or higher at 0 ° C. or higher.
【請求項4】 前記耐熱性樹脂層の弾性率が160Kg
/mm2以上であることを特徴とする、請求項1〜3の
いずれかの項に記載のフレキシブルプリント配線板。
4. The heat-resistant resin layer has an elastic modulus of 160 kg.
/ Mm 2 or more, the flexible printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein
【請求項5】 前記ベース基材と前記耐熱性樹脂層との
熱膨張係数差が0〜6.0×10-5で、かつ、耐熱性樹
脂層が形成されたベース基材の熱膨張係数が6.0×1
-5以下であることを特徴とする、請求項1〜4のいず
れかの項に記載のフレキシブルプリント配線板。
5. The thermal expansion coefficient difference between the base material and the heat-resistant resin layer is 0 to 6.0 × 10 -5 , and the thermal expansion coefficient of the base material on which the heat-resistant resin layer is formed. Is 6.0 × 1
Characterized in that at 0 -5, flexible printed wiring board according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 前記耐熱性樹脂層を被覆したベース基材
の、屈曲径2mm、荷重500gのMIT法による折り
曲げ回数が50000回以上であることを特徴とする、
請求項1〜5のいずれかの項に記載のフレキシブルプリ
ント配線板。
6. The base material coated with the heat-resistant resin layer, wherein the number of bending by the MIT method with a bending diameter of 2 mm and a load of 500 g is 50,000 or more,
The flexible printed wiring board according to claim 1.
【請求項7】 前記ベース基材が、ポリイミド及び/又
はポリアミドイミドフィルムからなり、該ベース基材上
に直接、導体回路が形成されてなる請求項1〜6のいず
れかの項に記載のフレキシブルプリント配線板。
7. The flexible according to claim 1, wherein the base material is made of a polyimide and / or polyamideimide film, and a conductor circuit is formed directly on the base material. Printed wiring board.
【請求項8】 前記ポリアミドイミドフィルムが下記一
般式(1)、及び/又は下記一般式(2)を構成単位と
して含むことを特徴とする請求項7に記載のフレキシブ
ルプリント配線板。 【化1】 (式中、R1およびR2は同じであっても異なっていても
よく、それぞれ水素もしくは炭素数1〜4のアルキル基
を示す。) 【化2】
8. The flexible printed wiring board according to claim 7, wherein the polyamide-imide film contains the following general formula (1) and / or the following general formula (2) as a constituent unit. Embedded image (In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
【請求項9】 下記工程(1)〜(3)を含むフレキシ
ブルプリント配線板の製造方法:(1)導体回路が形成
されたベース基材の導体回路上、及び非導体回路上の一
部分、又は全面に耐熱性樹脂溶液を塗布・乾燥する工
程、(2)該耐熱性樹脂溶液を塗布・乾燥したベース基
材を巻き取り、巻物とする工程、(3)該巻物を熱処理
して耐熱性樹脂層を形成する工程。
9. A method of manufacturing a flexible printed wiring board including the following steps (1) to (3): (1) a part on a conductor circuit of a base material on which a conductor circuit is formed and a part on a non-conductor circuit, or A step of applying and drying a heat-resistant resin solution over the entire surface, (2) a step of winding the base material coated and dried with the heat-resistant resin solution to form a roll, and (3) heat-treating the roll with heat-resistant resin. Forming a layer;
【請求項10】 前記熱処理を、減圧下及び/又は不
活性ガス雰囲気中で行うことを特徴とする、請求項9に
記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法。
10. The method for manufacturing a flexible printed wiring board according to claim 9, wherein the heat treatment is performed under reduced pressure and / or in an inert gas atmosphere.
【請求項11】 前記巻き取り時に、前記耐熱性樹脂溶
液を塗布・乾燥したベース基材を、耐熱性樹脂溶液の塗
布面を外側にしながら、長尺状の耐熱性シートに巻き込
むことを特徴とする請求項9又は請求項10に記載のフ
レキシブルプリント配線板の製造方法。
11. The method according to claim 1, wherein, at the time of the winding, the base material coated and dried with the heat resistant resin solution is wound around a long heat resistant sheet while the coated surface of the heat resistant resin solution is outside. The method for manufacturing a flexible printed wiring board according to claim 9 or claim 10.
【請求項12】 前記耐熱性樹脂が有機溶剤に可溶なポ
リイミド及び/又はポリアミドイミドであることを特徴
とする請求項9〜11のいずれかの項に記載のフレキシ
ブルプリント配線板の製造方法。
12. The method according to claim 9, wherein the heat-resistant resin is polyimide and / or polyamideimide soluble in an organic solvent.
【請求項13】 前記耐熱性樹脂が下記一般式(1)及
び/又は下記一般式(2)を構成単位として含むことを
特徴とする請求項9〜12のいずれかの項に記載のフレ
キシブルプリント配線板の製造方法。 【化3】 (式中、R1およびR2は同じであっても異なっていても
よく、それぞれ水素もしくは炭素数1〜4のアルキル基
を示す。) 【化4】
13. The flexible print according to claim 9, wherein the heat-resistant resin contains the following general formula (1) and / or the following general formula (2) as a constitutional unit. Manufacturing method of wiring board. Embedded image (In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002162736A (en) * 2000-11-22 2002-06-07 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Photosensitive dry film
JP2007154029A (en) * 2005-12-05 2007-06-21 Toyobo Co Ltd Polyamide-imide resin
CN1608835B (en) * 2003-10-17 2010-04-28 日本梅克特隆株式会社 Flexible metal foil laminated body
JP2013100515A (en) * 2003-09-01 2013-05-23 Toyobo Co Ltd Polyamide-imide resin, resin composition, and metal-clad laminated body using the same
WO2013077397A1 (en) * 2011-11-22 2013-05-30 パナソニック株式会社 Flexible metal-cladded base material, method for producing flexible metal-cladded base material, printed wiring board, multilayer flexible printed wiring board, and flex-rigid printed wiring board
WO2017183608A1 (en) * 2016-04-19 2017-10-26 株式会社カネカ Printed wiring board and method for manufacturing same
CN113453444A (en) * 2021-06-30 2021-09-28 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) Method for manufacturing PCB circuit board insulation painting protective film

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03120787A (en) * 1989-10-03 1991-05-22 Nippon Steel Chem Co Ltd Manufacture of flexible printed-wiring board
JP3118033B2 (en) * 1990-08-23 2000-12-18 三井化学株式会社 Polyamideimide resin and method for producing the same
JP3319009B2 (en) * 1993-03-30 2002-08-26 セイコーエプソン株式会社 Flexible circuit board and manufacturing method thereof

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002162736A (en) * 2000-11-22 2002-06-07 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Photosensitive dry film
JP2013100515A (en) * 2003-09-01 2013-05-23 Toyobo Co Ltd Polyamide-imide resin, resin composition, and metal-clad laminated body using the same
CN1608835B (en) * 2003-10-17 2010-04-28 日本梅克特隆株式会社 Flexible metal foil laminated body
JP2007154029A (en) * 2005-12-05 2007-06-21 Toyobo Co Ltd Polyamide-imide resin
WO2013077397A1 (en) * 2011-11-22 2013-05-30 パナソニック株式会社 Flexible metal-cladded base material, method for producing flexible metal-cladded base material, printed wiring board, multilayer flexible printed wiring board, and flex-rigid printed wiring board
US9125307B2 (en) 2011-11-22 2015-09-01 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Flexible metal-cladded base material, method for producing flexible metal-cladded base material, printed wiring board, multilayer flexible printed wiring board, and flex-rigid printed wiring board
WO2017183608A1 (en) * 2016-04-19 2017-10-26 株式会社カネカ Printed wiring board and method for manufacturing same
CN109076705A (en) * 2016-04-19 2018-12-21 株式会社钟化 Printed circuit board and manufacturing methods
TWI725168B (en) * 2016-04-19 2021-04-21 日商鐘化股份有限公司 Printed wiring board and its manufacturing method
CN113453444A (en) * 2021-06-30 2021-09-28 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) Method for manufacturing PCB circuit board insulation painting protective film
CN113453444B (en) * 2021-06-30 2023-09-12 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) Method for manufacturing insulating paint protection film of PCB (printed circuit board)

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