JP2001174791A - 液晶セルの製造方法 - Google Patents
液晶セルの製造方法Info
- Publication number
- JP2001174791A JP2001174791A JP35595499A JP35595499A JP2001174791A JP 2001174791 A JP2001174791 A JP 2001174791A JP 35595499 A JP35595499 A JP 35595499A JP 35595499 A JP35595499 A JP 35595499A JP 2001174791 A JP2001174791 A JP 2001174791A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- substrates
- liquid crystal
- outer peripheral
- crystal cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 研磨工程における基板のワレやカケ、研磨ム
ラ等の問題を解消し、歩留まりを向上させることが可能
な液晶セルの製造方法を提供する。 【解決手段】 2枚の基板10、20を貼り合わせた
後、一方の基板10の外周シール12の領域内に設定し
た切断線CLに沿って切断を行い、基板10、20の外
縁部を除去する。切断線CLは、外周シール12の領域
内でなくとも、外周シール12の外縁に沿って、あるい
はこのわずかに外側に設定してもよい。このようにし
て、基板の研磨を行う前に基板の外縁部を除去しておく
ことにより、エッチング液や研磨剤が基板端に入り込ん
で、基板のワレやカケ等の不良の発生を防止することが
できる。
ラ等の問題を解消し、歩留まりを向上させることが可能
な液晶セルの製造方法を提供する。 【解決手段】 2枚の基板10、20を貼り合わせた
後、一方の基板10の外周シール12の領域内に設定し
た切断線CLに沿って切断を行い、基板10、20の外
縁部を除去する。切断線CLは、外周シール12の領域
内でなくとも、外周シール12の外縁に沿って、あるい
はこのわずかに外側に設定してもよい。このようにし
て、基板の研磨を行う前に基板の外縁部を除去しておく
ことにより、エッチング液や研磨剤が基板端に入り込ん
で、基板のワレやカケ等の不良の発生を防止することが
できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セルの製造方
法に関する。
法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年では、携帯用電子機器等において、
小型、薄型及び軽量といった利点を有する液晶表示装置
が幅広く用いられるに至っている。液晶表示装置を製造
する際には、1枚のガラス基板上に成膜、パターニング
処理等を行ってTFT(Thin Film Transistor)、配線
層、画素電極等を形成して1乃至複数のアレイ基板を形
成する。さらに、他の1枚のガラス基板上に対向電極を
形成してアレイ基板と同数の対向基板を形成する。そし
て、2枚のガラス板を貼り合わせ、薄板化し、液晶セル
の寸法に切断し、各々の基板の間隙に液晶を注入して液
晶セルを得る。
小型、薄型及び軽量といった利点を有する液晶表示装置
が幅広く用いられるに至っている。液晶表示装置を製造
する際には、1枚のガラス基板上に成膜、パターニング
処理等を行ってTFT(Thin Film Transistor)、配線
層、画素電極等を形成して1乃至複数のアレイ基板を形
成する。さらに、他の1枚のガラス基板上に対向電極を
形成してアレイ基板と同数の対向基板を形成する。そし
て、2枚のガラス板を貼り合わせ、薄板化し、液晶セル
の寸法に切断し、各々の基板の間隙に液晶を注入して液
晶セルを得る。
【0003】ここで、薄板化とは、液晶セルの薄型、軽
量化のためにガラス基板の厚みを薄くすることであっ
て、いくつかのプロセスで行われる。薄板化の一つの方
法として、2枚の基板を貼り合わせた後、液晶を基板間
に注入する前の段階で表面を研磨する方法がある。この
場合に、基板内の電極等をエッチング液や研磨剤から保
護する必要がある。そこで、液晶セルの外周領域にシー
ルを形成して内部を封止することが行われている。
量化のためにガラス基板の厚みを薄くすることであっ
て、いくつかのプロセスで行われる。薄板化の一つの方
法として、2枚の基板を貼り合わせた後、液晶を基板間
に注入する前の段階で表面を研磨する方法がある。この
場合に、基板内の電極等をエッチング液や研磨剤から保
護する必要がある。そこで、液晶セルの外周領域にシー
ルを形成して内部を封止することが行われている。
【0004】図3に、2枚のガラス基板40、50が貼
り合わされた状態を示す。ガラス基板40には、図示さ
れていないTFTや画素電極等が形成されたアレイ基板
が複数箇所において配置され、それぞれのアレイ基板毎
にシール41が塗布形成されている。ガラス基板50に
は、対向電極が形成された対向基板が、アレイ基板に対
応して配置されている。そして、一方のガラス基板40
の外周領域に外周シール42が塗布形成されている。
り合わされた状態を示す。ガラス基板40には、図示さ
れていないTFTや画素電極等が形成されたアレイ基板
が複数箇所において配置され、それぞれのアレイ基板毎
にシール41が塗布形成されている。ガラス基板50に
は、対向電極が形成された対向基板が、アレイ基板に対
応して配置されている。そして、一方のガラス基板40
の外周領域に外周シール42が塗布形成されている。
【0005】ここで、外周シール42はガラス基板40
の外周領域に形成するが、シール形成技術の制約等から
基板端までの最外周領域ではなく、基板端から数ミリ内
側の領域に形成される。外周シール42の塗布は、均一
な塗布を実現するために、一般に塗布する箇所の高さを
センサを用いて常時検出し、この検出結果に基づいてシ
ールディスペンサからシール剤を塗布していく。この場
合、センサで検出している箇所に通常より厚い膜等が存
在すると、センサが検出エラーを起こして均一な塗布の
実現ができなくなる。基板の最外周領域には、成膜が均
一に行われずに通常より異常に厚い残渣が存在する場合
が多い。そこで、最外周領域における均一な塗布は困難
であるため、基板端から数ミリ程度内側に塗布すること
としている。
の外周領域に形成するが、シール形成技術の制約等から
基板端までの最外周領域ではなく、基板端から数ミリ内
側の領域に形成される。外周シール42の塗布は、均一
な塗布を実現するために、一般に塗布する箇所の高さを
センサを用いて常時検出し、この検出結果に基づいてシ
ールディスペンサからシール剤を塗布していく。この場
合、センサで検出している箇所に通常より厚い膜等が存
在すると、センサが検出エラーを起こして均一な塗布の
実現ができなくなる。基板の最外周領域には、成膜が均
一に行われずに通常より異常に厚い残渣が存在する場合
が多い。そこで、最外周領域における均一な塗布は困難
であるため、基板端から数ミリ程度内側に塗布すること
としている。
【0006】また、ガラス基板40、50を貼り合わせ
た後には、加圧して内部の空気を抜く必要がある。そこ
で、外周シール42には空気抜き穴部51が必要とな
り、この部分だけ途中で途切れている。そして、空気抜
きを行った後に研磨を行う前に塞ぐ必要があるため、外
周シール42の端部は基板端まで到達している。さら
に、空気抜き穴部51の部分にUV硬化剤60等を用い
て塞ぐ。
た後には、加圧して内部の空気を抜く必要がある。そこ
で、外周シール42には空気抜き穴部51が必要とな
り、この部分だけ途中で途切れている。そして、空気抜
きを行った後に研磨を行う前に塞ぐ必要があるため、外
周シール42の端部は基板端まで到達している。さら
に、空気抜き穴部51の部分にUV硬化剤60等を用い
て塞ぐ。
【0007】しかし、この状態で貼り合わせたガラス基
板40、50を研磨すると、外周シール42が形成され
ていない最外周領域における基板端の部分に、エッチン
グ液や研磨剤が侵入する。特にケミカルエッチングによ
って薄型化する場合は、図4に示されたように、基板端
に侵入したエッチング液により、ガラス基板40、50
の内側におけるハッチングが施された領域51、52が
エッチングされて極端に薄くなり、ワレやカケが発生し
やすくなる。
板40、50を研磨すると、外周シール42が形成され
ていない最外周領域における基板端の部分に、エッチン
グ液や研磨剤が侵入する。特にケミカルエッチングによ
って薄型化する場合は、図4に示されたように、基板端
に侵入したエッチング液により、ガラス基板40、50
の内側におけるハッチングが施された領域51、52が
エッチングされて極端に薄くなり、ワレやカケが発生し
やすくなる。
【0008】また、基板端に侵入したエッチング液の残
査や研磨剤の残査は細かい粒子であって、次工程へ汚染
を持ち込むことになる。
査や研磨剤の残査は細かい粒子であって、次工程へ汚染
を持ち込むことになる。
【0009】これらの対策として、図5に示されたよう
に、ガラス基板40、50を組み立てた後、ガラス基板
40、50の最外周領域にUV硬化剤52等を塗布する
方法もある。この場合は、基板端にエッチング液等の残
査は残留しない。しかし、ガラス基板40、50の周辺
にガラスとは異質のものが存在することによる各種不具
合が生じる。
に、ガラス基板40、50を組み立てた後、ガラス基板
40、50の最外周領域にUV硬化剤52等を塗布する
方法もある。この場合は、基板端にエッチング液等の残
査は残留しない。しかし、ガラス基板40、50の周辺
にガラスとは異質のものが存在することによる各種不具
合が生じる。
【0010】例えば、ケミカルエッチングを行う場合
は、UV硬化剤52はエッチングされないので、このU
V硬化剤52が付着している部分としていない部分とで
エッチングムラが発生する。機械研磨を行う場合は、や
はり研磨のムラやUV硬化剤52の欠落等が発生する。
は、UV硬化剤52はエッチングされないので、このU
V硬化剤52が付着している部分としていない部分とで
エッチングムラが発生する。機械研磨を行う場合は、や
はり研磨のムラやUV硬化剤52の欠落等が発生する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は外
周シールが存在しない基板端にエッチング液や研磨剤が
侵入することにより、基板の脆弱化によるワレやカケ、
侵入したエッチング液の残査や研磨剤の残査による次工
程の汚染が生じるといった問題があった。また、この問
題に対する対策として、外周シールが形成されていない
最外周領域をUV硬化性樹脂等で封止した場合は、基板
端にガラスと異質な樹脂が存在することにより、研磨ム
ラや樹脂の欠落等の問題が生じていた。
周シールが存在しない基板端にエッチング液や研磨剤が
侵入することにより、基板の脆弱化によるワレやカケ、
侵入したエッチング液の残査や研磨剤の残査による次工
程の汚染が生じるといった問題があった。また、この問
題に対する対策として、外周シールが形成されていない
最外周領域をUV硬化性樹脂等で封止した場合は、基板
端にガラスと異質な樹脂が存在することにより、研磨ム
ラや樹脂の欠落等の問題が生じていた。
【0012】本発明は上記事情に鑑み、薄板化のための
研磨工程における基板のワレやカケ、研磨ムラ等の問題
を解消し、歩留まりを向上させることが可能な液晶セル
の製造方法を提供することを目的とする。
研磨工程における基板のワレやカケ、研磨ムラ等の問題
を解消し、歩留まりを向上させることが可能な液晶セル
の製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶セルの製造
方法は、2枚の基板を貼り合わせた後、基板を薄板化
し、液晶セルの寸法に切断し、基板間に液晶を注入する
液晶セルの製造方法であって、一方の基板の外周領域に
一部穴を有する外周シールを形成する工程と、前記一方
の基板と他方の基板とを貼り合わせる工程と、前記穴を
塞ぐ封止剤を形成する工程と、薄板化を行う前に、前記
外周シール及び前記封止剤が存在する領域内に切断線を
設定し、基板の外縁部を切断する工程とを備えることを
特徴としている。
方法は、2枚の基板を貼り合わせた後、基板を薄板化
し、液晶セルの寸法に切断し、基板間に液晶を注入する
液晶セルの製造方法であって、一方の基板の外周領域に
一部穴を有する外周シールを形成する工程と、前記一方
の基板と他方の基板とを貼り合わせる工程と、前記穴を
塞ぐ封止剤を形成する工程と、薄板化を行う前に、前記
外周シール及び前記封止剤が存在する領域内に切断線を
設定し、基板の外縁部を切断する工程とを備えることを
特徴としている。
【0014】ここで、切断線を外周シールが存在する領
域内でなく、外周シールの外縁に沿って、又はこの外縁
より外側に切断線を設定してもよい。
域内でなく、外周シールの外縁に沿って、又はこの外縁
より外側に切断線を設定してもよい。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図面を参照して説明する。
いて、図面を参照して説明する。
【0016】本発明の一実施の形態による液晶セルの製
造方法を、図1を用いて説明する。
造方法を、図1を用いて説明する。
【0017】図1(a)に示されたように、2枚のガラ
ス基板10、20を貼り合わせる。ここで、一方のガラ
ス基板10には、図示されていないTFTや画素電極等
が形成されたアレイ基板が複数箇所において配置され、
それぞれのアレイ基板毎にシール11が塗布形成されて
いる。他方のガラス基板20には、対向電極が形成され
た対向基板が、アレイ基板に対応して配置されている。
そして、一方のガラス基板10の外周領域に外周シール
12が塗布形成されている。
ス基板10、20を貼り合わせる。ここで、一方のガラ
ス基板10には、図示されていないTFTや画素電極等
が形成されたアレイ基板が複数箇所において配置され、
それぞれのアレイ基板毎にシール11が塗布形成されて
いる。他方のガラス基板20には、対向電極が形成され
た対向基板が、アレイ基板に対応して配置されている。
そして、一方のガラス基板10の外周領域に外周シール
12が塗布形成されている。
【0018】ここで、外周シール12はガラス基板40
の外周領域に形成するが、シール形成技術の制約等から
基板端までの最外周領域ではなく、基板端から数ミリ内
側の領域に形成される。また、貼り合わせた後におい
て、基板内部をより確実に保護するため、外周シール1
2を液晶セル毎に設けられたシール11よりも2倍程度
幅広く形成しておくことが望ましい。
の外周領域に形成するが、シール形成技術の制約等から
基板端までの最外周領域ではなく、基板端から数ミリ内
側の領域に形成される。また、貼り合わせた後におい
て、基板内部をより確実に保護するため、外周シール1
2を液晶セル毎に設けられたシール11よりも2倍程度
幅広く形成しておくことが望ましい。
【0019】ガラス基板10、20を貼り合わせた後、
加圧して内部の空気を抜くため空気抜き穴部21が必要
であり、この部分において外周シール12は途中で途切
れている。ここで、空気抜きを行った後に研磨を行う前
に塞ぐ必要があるため、外周シール12の端部は基板端
まで到達していることが望ましい。
加圧して内部の空気を抜くため空気抜き穴部21が必要
であり、この部分において外周シール12は途中で途切
れている。ここで、空気抜きを行った後に研磨を行う前
に塞ぐ必要があるため、外周シール12の端部は基板端
まで到達していることが望ましい。
【0020】空気抜きを行った後、図1(b)に示され
たように、空気抜き穴部21の部分にUV硬化剤30等
を用いて塞ぐ。これにより、基板間の内部は完全に密閉
された状態となる。
たように、空気抜き穴部21の部分にUV硬化剤30等
を用いて塞ぐ。これにより、基板間の内部は完全に密閉
された状態となる。
【0021】次に、図1(c)に示されたように、切断
線CLに沿って基板端部分を切断する。ここで、切断線
CLの位置は、例えば外周シール12が形成されている
領域内において、シールの外縁からシール幅の1/4〜
1/3における位置とする。外周シール12が存在しな
い空気抜き穴部21においては、切断線CLの延長線に
沿って切断を行う。
線CLに沿って基板端部分を切断する。ここで、切断線
CLの位置は、例えば外周シール12が形成されている
領域内において、シールの外縁からシール幅の1/4〜
1/3における位置とする。外周シール12が存在しな
い空気抜き穴部21においては、切断線CLの延長線に
沿って切断を行う。
【0022】このように作成することにより、基板間に
研磨剤やエッチング液が侵入することが防止される。こ
れにより、基板の外周領域がエッチングにより必要以上
に薄くなったり、この部分がもろくなってワレやカケが
発生することが防止される。また、基板端にエッチング
液や研磨剤が付着して後工程における汚染を招くことも
防止される。さらに、図5に示した従来の方法により作
成した場合と異なり、基板周辺にUV硬化剤等の樹脂が
付着することがないため、エッチングムラや研磨ムラの
発生を防止することも可能である。
研磨剤やエッチング液が侵入することが防止される。こ
れにより、基板の外周領域がエッチングにより必要以上
に薄くなったり、この部分がもろくなってワレやカケが
発生することが防止される。また、基板端にエッチング
液や研磨剤が付着して後工程における汚染を招くことも
防止される。さらに、図5に示した従来の方法により作
成した場合と異なり、基板周辺にUV硬化剤等の樹脂が
付着することがないため、エッチングムラや研磨ムラの
発生を防止することも可能である。
【0023】上述した実施の形態は一例であって、本発
明を限定するものではない。例えば、基板の外端を切断
する切断線CLの位置を、上記実施の形態では外周シー
ル12の領域内としている。しかし、図2に示されたよ
うに、外周シール12の外縁に沿う位置に切断線CLを
設定し、あるいは外周シール12の外縁からわずかに外
側の位置に設定してもよい。このように、切断線CLの
位置は、研磨工程において基板間にエッチング液や研磨
剤が侵入することを防止することができる範囲内で、自
在に設定することができる。
明を限定するものではない。例えば、基板の外端を切断
する切断線CLの位置を、上記実施の形態では外周シー
ル12の領域内としている。しかし、図2に示されたよ
うに、外周シール12の外縁に沿う位置に切断線CLを
設定し、あるいは外周シール12の外縁からわずかに外
側の位置に設定してもよい。このように、切断線CLの
位置は、研磨工程において基板間にエッチング液や研磨
剤が侵入することを防止することができる範囲内で、自
在に設定することができる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶セル
の製造方法によれば、2枚の基板を貼り合わせた後に薄
板化を行う前に、貼り合わせた2枚の基板における外周
シールが存在する領域内又は外周シールの外縁に沿っ
て、あるいはその外側を切断して基板の外縁部を除去す
ることにより、貼り合わせた基板の外周部にエッチング
液や研磨剤が侵入することがなく、また外周部に別途樹
脂で封止する必要もないので、基板のワレやカケ、また
エッチング液等が後工程で起こす汚染を防止することが
でき、歩留まりを向上させることが可能である。
の製造方法によれば、2枚の基板を貼り合わせた後に薄
板化を行う前に、貼り合わせた2枚の基板における外周
シールが存在する領域内又は外周シールの外縁に沿っ
て、あるいはその外側を切断して基板の外縁部を除去す
ることにより、貼り合わせた基板の外周部にエッチング
液や研磨剤が侵入することがなく、また外周部に別途樹
脂で封止する必要もないので、基板のワレやカケ、また
エッチング液等が後工程で起こす汚染を防止することが
でき、歩留まりを向上させることが可能である。
【図1】本発明の一実施の形態による液晶セルの製造方
法を工程別に示した平面図。
法を工程別に示した平面図。
【図2】本発明の他の実施の形態による液晶セルの製造
方法を工程別に示した平面図。
方法を工程別に示した平面図。
【図3】従来の液晶セルの製造方法を示した平面図。
【図4】従来の方法により液晶セルを製造した場合にお
ける問題を示した縦断面図。
ける問題を示した縦断面図。
【図5】従来の他の実施の形態による液晶セルの製造方
法を示した平面図。
法を示した平面図。
10、20 ガラス基板 11 シール 12 外周シール 21 空気抜き穴部 30 UV硬化剤 CL 切断線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 濱 元 千 尋 埼玉県深谷市幡羅町1−9−2 株式会社 東芝深谷工場内 (72)発明者 降 矢 裕 明 神奈川県川崎市川崎区日進町7番地1 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA24 LA32 PA12 QA02 QA07 TA01 2H090 JA13 JB02 JC01 JC13 JD14 JD15 LA03 5G435 AA17 BB12 EE09 EE33 FF00 KK05
Claims (2)
- 【請求項1】2枚の基板を貼り合わせた後、基板を薄板
化し、液晶セルの寸法に切断し、基板間に液晶を注入す
る液晶セルの製造方法において、 一方の基板の外周領域に一部に穴を有する外周シールを
形成する工程と、 前記一方の基板と他方の基板とを貼り合わせる工程と、 前記穴を塞ぐ封止剤を形成する工程と、 薄板化を行う前に、前記外周シール及び前記封止剤が存
在する領域内に切断線を設定し、基板の外縁部を切断す
る工程と、 を備えることを特徴とする液晶セルの製造方法。 - 【請求項2】2枚の基板を貼り合わせた後、基板を薄板
化し、液晶セルの寸法に切断し、基板間に液晶を注入す
る液晶セルの製造方法において、 一方の基板の外周領域に一部に穴を有する外周シールを
形成する工程と、 前記一方の基板と他方の基板とを貼り合わせる工程と、 前記穴を塞ぐ封止剤を形成する工程と、 薄板化を行う前に、前記外周シール及び前記封止剤に囲
まれた領域外に切断線を設定し、基板の外縁部を切断す
る工程と、 を備えることを特徴とする液晶セルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35595499A JP2001174791A (ja) | 1999-12-15 | 1999-12-15 | 液晶セルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35595499A JP2001174791A (ja) | 1999-12-15 | 1999-12-15 | 液晶セルの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001174791A true JP2001174791A (ja) | 2001-06-29 |
Family
ID=18446589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35595499A Pending JP2001174791A (ja) | 1999-12-15 | 1999-12-15 | 液晶セルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001174791A (ja) |
-
1999
- 1999-12-15 JP JP35595499A patent/JP2001174791A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101050959B1 (ko) | 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
US5766493A (en) | Method of fabricating a liquid crystal display substrate | |
JP2006243658A (ja) | パネル基板、パネル基板の製造方法および液晶表示パネルの製造方法 | |
TWI238444B (en) | Method for manufacturing optoelectronic device, optoelectronic device and electronic machine | |
KR100315208B1 (ko) | 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
JP2006308699A (ja) | 表示装置及び表示装置の製造方法 | |
US6861297B2 (en) | Method of making a liquid crystal device | |
KR20140037422A (ko) | 곡면 디스플레이 패널 제조를 위한 기판 식각방법 | |
KR20130061485A (ko) | 경량 박형의 액정표시장치 제조방법 | |
TWI544252B (zh) | 顯示面板及其製造方法 | |
KR20150016791A (ko) | 액정 표시 패널의 제조 방법 및 이를 위한 기판 적층체 | |
JP2001013489A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JP4002154B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法およびその装置 | |
KR100491020B1 (ko) | 평면표시소자의 제조방법 | |
JP2001174791A (ja) | 液晶セルの製造方法 | |
JP2004157171A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
US7704795B2 (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
US6965424B2 (en) | Method of preventing seal damage in LCD panel manufacturing | |
JP2007322693A (ja) | 表示装置の製造方法 | |
JP2008156151A (ja) | 分断刃ユニット、それを備えた液晶表示パネル製造装置、及び液晶表示パネルの製造方法 | |
KR102097486B1 (ko) | 표시 장치의 제조 방법 | |
TWI470593B (zh) | 可撓式顯示面板的製造方法 | |
JP2001174832A (ja) | 液晶セルの製造方法 | |
JP2007127787A (ja) | 表示装置の製造方法 | |
KR102262255B1 (ko) | 액정 패널용 식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법 |