JP2001174419A - 半導体装置の欠陥検査方法及び装置 - Google Patents

半導体装置の欠陥検査方法及び装置

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JP2001174419A
JP2001174419A JP36167399A JP36167399A JP2001174419A JP 2001174419 A JP2001174419 A JP 2001174419A JP 36167399 A JP36167399 A JP 36167399A JP 36167399 A JP36167399 A JP 36167399A JP 2001174419 A JP2001174419 A JP 2001174419A
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Naoharu Nishio
直治 西尾
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体装置の周期的な構造に生じる周期の乱
れを画像比較によって検出する欠陥検査方法を提供す
る。 【解決手段】 欠陥の発生状況を統計的に判断し、予想
される分布形式から外れた場合に応じて検査領域を制限
して、欠陥の検査を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の周期
的な構造に生じる周期の乱れを画像比較によって検出す
る欠陥検査方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程では、半導体ウェハ(以
下、単にウェハという)上の欠陥を検査することが行わ
れており、欠陥検査時間を含めた検査効率を向上させる
例としては、特開平9−145627号公報に開示され
た欠陥検査方法がある。
【0003】特開平9−145627号公報による欠陥
検査方法は、複数の工程で生じる欠陥のうち該当する工
程のみの欠陥を検出することによる方法である。
【0004】次に特開平9−145627号公報に開示
された欠陥の検査を行う装置は図4に示されるように、
ウェハ101を支持するステージ103と、ステージ1
03に支持されたウェハ101上に光を照射する照明ラ
ンプ102と、光照射されたウェハ101の検査面10
1aの画像を取り込む検出器104bと、検出器104
bに取込んだ検出画像と予め登録された正常画像との比
較を行う画像処理部104aと、画像処理部104aに
よる比較後の不一致箇所を欠陥分布として検出してウェ
ハ1の検査面101aを複数個の所定領域に分割し、か
つ前記欠陥分布に基づいて前記所定領域を欠陥が存在し
ない良領域と欠陥が存在する不良領域とに分類する制御
部107と、制御部107からの指令に基づいてステー
ジ103を移動させる駆動部108と、制御部107か
らの種々の情報を出力する出力部109とから構成され
ている。また110はミラー、111は対物レンズであ
る。
【0005】そして、制御部107は、分類した領域の
ウェハ101上の前記欠陥が前記良領域の欠陥である
か、または前記不良領域の欠陥であるかを判別するよう
になっている。
【0006】また、ウェハにおける欠陥の分布状態を測
定して、その分布状態を分割要素に分割し分割要素内の
欠陥密度を用いて異常判定を行う例が特開平9−191
032号公報に開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来例の特開平9−145627号公報に係る欠陥検
査方法では、一連の欠陥検査が終了するまで欠陥密度の
計算はできないため、前工程までの欠陥の位置座標デー
タがないようなケースでは、該当工程のみの欠陥検出効
率を向上させることができないという問題がある。
【0008】また特開平9−191032号公報の欠陥
検査方法による欠陥の異常判定システムでは、検査が正
常に完了した場合にのみしか適用できないため、欠陥検
出効率を向上させることができないという問題がある。
【0009】本発明の目的は、半導体装置の周期的な構
造に生じる周期の乱れを画像比較によって検出する欠陥
検査方法及び装置を提供するものである。
【0010】
【課題を解決しようとする手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る欠陥検査方法は、半導体装置の周期的
な構造に生じる周期の乱れを画像比較によって検出する
欠陥検査方法において、検査中に欠陥の分布の統計処理
を行ない、予想される分布形式から外れた場合に応じて
検査領域を制限するものである。
【0011】また予想される分布形式から外れた場合の
検査領域は、欠陥密度の高い領域である。
【0012】また本発明に係る欠陥検査方法は、半導体
装置の周期的な構造に生じる周期の乱れを画像比較によ
って検査する欠陥検査方法において、検査中に欠陥の分
布の統計処理を行ない、ポアソン分布による欠陥の発生
頻度の予測が可能な欠陥数の検査領域では、その欠陥検
査を継続し、ポアソン分布による欠陥の発生頻度の予測
が不可能な突発的な欠陥数のデータが出力される検査領
域を検査対象から排除し、検査領域を制限するものであ
る。
【0013】またポアソン分布による欠陥の発生頻度の
予測が可能な欠陥の検査データは、パソコンの主記憶装
置に記憶し、ポアソン分布による欠陥の発生頻度の予測
が不可能な突発的な欠陥数のデータが出力される検査領
域での欠陥データは、容量が大きいパソコンの補助記憶
装置に記憶するものである。
【0014】前記検査データは、作業者による目視検査
のデータ、或いは自動化された半導体装置の再検査を行
う装置の制御データとして利用するものである。
【0015】また本発明に係る半導体装置の欠陥検査装
置は、半導体装置の周期的な構造に生じる周期の乱れを
画像比較によって検査する欠陥検査装置において、半導
体装置の画像を取込む手段と、パソコンの主記憶装置
と、記憶容量の大きい補助記憶装置と、ポアソン分布に
よる欠陥の発生頻度の予測を行い、ポアソン分布による
欠陥の発生頻度の予測が可能な欠陥の検査データは、パ
ソコンの主記憶装置に記憶し、ポアソン分布による欠陥
の発生頻度の予測が不可能な突発的な欠陥数のデータが
出力される検査領域での欠陥データは、容量が大きいパ
ソコンの補助記憶装置に記憶する手段とを有するもので
ある。なお、前記ポアソン分布による予測に代えて、欠
陥の発生頻度の分布が既知の分布形態に基いて予測を行
うようにしてもよい。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。
【0017】図1は本発明の一実施形態に係る欠陥検査
方法を実施する装置を示す構成図、図2は本発明の一実
施形態に係る欠陥検査方法を説明するフローチャートで
ある。
【0018】半導体装置には、その構造7が図3に示す
ような周期的な構造となっているものがあり、その半導
体装置の周期的な構造7を画像データとして取込んだ場
合、図3(a)に示す画像データは、半導体装置の周期
的な構造7に周期の乱れ7aがなく、設計値通りに半導
体装置の周期的な構造7が形成された状態の画像データ
であり、図3(b)に示す画像データは、半導体装置の
周期的な構造7の一部に周期の乱れ7aが生じて、その
半導体装置の周期的な構造7が形成された状態の画像デ
ータとなる。
【0019】ところで、図3(b)に示す画像データの
ように半導体装置の周期的な構造7の一部に発生する周
期の乱れ7aは、エッチング時のゴミ等が原因として発
生するものである。このように半導体装置の周期的な構
造7の一部に周期の乱れ7aがランダムに発生し一定面
積内にn個に生じる確率f(n)は、ポアソン分布に従
うことが知られている。また画像処理によって検出され
た欠陥データは、読み込み速度が迅速なパソコンの主記
憶装置(メモリ)に蓄積される。
【0020】実際の製造ラインでは、エッチング時のゴ
ミ等が原因となって発生する周期の乱れ7aは、1枚の
半導体ウェハあたり数10個から数100個程度でラン
ダムに生じることは経験的に分かっているため、ポアソ
ン分布による欠陥の発生頻度の予測は、判定領域におけ
る判定欠陥数が閾値の範囲に含まれるか否かを基礎とし
て予測するものであり、閾値としての判定欠陥数が1枚
の半導体ウェハあたり数10個から数100個程度でラ
ンダムに生じることを前提としている。
【0021】ところで実際の製造ラインでは、周期の乱
れ7aは、ポアソン分布による欠陥の発生頻度の予測が
可能なエッチング時のゴミ等が原因となって発生するば
かりでなく、周期の乱れ7aは、ポアソン分布による欠
陥の発生頻度の予測が不可能な突発的な欠陥、例えば半
導体装置の電極上に残存する絶縁膜、或いは半導体装置
の電極から離れた位置に形成された爪の傷跡等によって
も発生する。
【0022】画像処理による検査方法の特性上、ポアソ
ン分布による欠陥の発生頻度の予測が不可能な突発的な
欠陥、例えば半導体装置の電極上に残存する絶縁膜、或
いは半導体装置の電極から離れた位置に形成された爪の
傷跡等も欠陥として検査してしまうものであるが、これ
らの欠陥は、作業者の目視検査では欠陥なしとして判定
され、後工程に投入して製造を継続しても問題が生じな
いものであり、製造歩留まりの観点からすると、むしろ
製造を継続すべきである。
【0023】そこで一般には、ポアソン分布による欠陥
の発生頻度の予測が可能なエッチング時のゴミ等の欠陥
ばかりでなく、ポアソン分布から大きく外れるほど高い
密度で発生する欠陥を含めて、これらの欠陥データを読
み込み速度が迅速なパソコンの主記憶装置(メモリ)に
蓄積しているのが現状である。
【0024】しかしながら、読み込み速度が迅速なパソ
コンの主記憶装置(メモリ)の容量は現状の技術では一
定の容量に限定されており、パソコンの主記憶装置(メ
モリ)の容量は、一枚の半導体ウェハにおける、ポアソ
ン分布による欠陥の発生頻度の予測が可能なエッチング
時のゴミ等の欠陥及びポアソン分布による欠陥の発生頻
度の予測が不可能な突発的な欠陥のデータを記憶するに
は、不足している。
【0025】そこで一般には、パソコンの主記憶装置
(メモリ)の残存容量が不足する時点で画像処理による
検査を一旦中断して、パソコンの主記憶装置(メモリ)
から欠陥データを排出した後、これを初期化して検査を
再開させているのが現状である。
【0026】本発明は以上の現状を考慮して、半導体装
置の周期的な構造7に生じる周期の乱れ7aを画像比較
によって欠陥検査する際に、検査中に欠陥(周期の乱れ
7a)の分布の統計処理を行ない、予想される分布形式
から外れた場合に応じて検査領域を制限する、具体的に
はポアソン分布による欠陥の発生頻度の予測が可能な欠
陥数の検査領域では、その欠陥検査を継続し、ポアソン
分布による欠陥の発生頻度の予測が不可能な突発的な欠
陥数のデータが出力される検査領域を検査対象から排除
し、検査領域を制限することを特徴とするものである。
【0027】さらにポアソン分布による欠陥の発生頻度
の予測が可能な欠陥の検査データは、読み込み速度が迅
速なパソコンの主記憶装置(メモリ)に記憶し、ポアソ
ン分布による欠陥の発生頻度の予測が不可能な突発的な
欠陥数のデータが出力される検査領域での欠陥データ
は、容量が大きいパソコンの補助記憶装置(ハードデイ
スク等)に記憶し、これらの検査データを、作業者によ
る目視検査のデータ、或いは自動化された半導体装置の
再検査を行う装置の制御データとして利用するものであ
る。
【0028】さらに本発明は、上述した欠陥検査方法を
実施するために、図1に示すように本発明の一実施形態
に係る欠陥検査装置は、走査型電子顕微鏡などの画像取
得装置1と、プログラム制御により動作するデータ処理
部2と、データの書込み及び読出しを行うデータ記憶部
4と、データ処理部2からのデータに基づいて画像取得
装置1を制御する制御部3と、欠陥密度異常判定処理部
5と、ハードディスク等の補助記憶装置6とを有してい
る。また補助記憶装置6の記憶データを出力するディス
プレイ装置や印刷装置などを含むようにしてもよい。
【0029】データ記憶部4は、検査手順記憶部42と
欠陥座標記憶部41とを有しており、検査手順記憶部4
2は欠陥検査が実施されるべき手順をプログラムとして
記録するものであり、欠陥座標記憶部41は欠陥検査を
実施して得られる欠陥座標を記録するようになってい
る。
【0030】データ処理部2は、画像比較手段22と画
像取得位置決定手段21とを有しており、検査手順記憶
部42に記録されているプログラムに基づいてデータ処
理を行うようになっている。
【0031】データ処理部2の画像取得位置決定手段2
1によって指定された座標データは制御部3に送られ、
制御部3は、画像取得位置決定手段21によって指定さ
れた座標データに基づいて画像取得装置1を制御し、画
像取得装置1は、制御部3で指定された位置での画像を
取得するようになっている。
【0032】データ処理部2の画像比較手段22は、予
め登録された正常画像と画像取得装置1で取得した画像
とを比較して、欠陥が含まれているかどうかを検出する
ようになっている。
【0033】データ記憶部4の欠陥座標記憶部41は、
画像比較手段22で欠陥が検出された場合に、その欠陥
位置の座標データを記録するようになっている。
【0034】欠陥密度異常判定処理部5は、データ記憶
部4の欠陥座標記憶部41に記録されたデータに基づい
て欠陥密度を一定時間毎に算出し、その算出データに基
づいてデータ記憶部4の検査手順記憶部42の検査パラ
メータを変化させるようになっている。
【0035】上述した一連の動作による欠陥検査は、デ
ータ記憶部4の検査手順記憶部42に記憶された欠陥検
査手順に従い実施し、上述したように半導体装置の周期
的な構造7に生じる周期の乱れ7aを画像比較によって
欠陥検査する際に、検査中に欠陥(周期の乱れ7a)の
分布の統計処理を行ない、予想される分布形式から外れ
た場合に応じて検査領域を制限する。具体的にはポアソ
ン分布による欠陥の発生頻度の予測が可能な欠陥数の検
査領域では、その欠陥検査を継続し、ポアソン分布によ
る欠陥の発生頻度の予測が不可能な突発的な欠陥数のデ
ータが出力される検査領域を検査対象から排除し、検査
領域を制限することとなる。
【0036】次に具体例を用いて図1及び図2を参照し
本発明の一実施形態に係る欠陥検査方法をステップ順に
詳細に説明する。
【0037】まずステップA1において、データ処理部
2は、データ記憶部4の検査手順記憶部42に記録され
ている、ポアソン分布による欠陥の発生頻度の予測に必
要なデータである判定領域R及び判定欠陥数N並びに測
定箇所に連続的に番号をつけた場合の終了点Eiを得
る。
【0038】ここに、判定欠陥数Nの初期値は、ポアソ
ン分布による欠陥の発生頻度の予測において考えられう
る最大値とする。また測定点数のカウンタとして変数i
を1に初期化する。
【0039】次にステップA2において、カウンタとし
ての変数iが100の整数倍かどうかを判定する。これ
は、ポアソン分布を用いて欠陥の発生頻度の予測を行う
にあたって100回毎に判定欠陥数Nを計算するための
条件判断であるが、これは、ポアソン分布を用いた欠陥
の発生頻度の予測において欠陥分布がある程度選られる
ように設定されるものであって、100回という回数自
体に意味はない。
【0040】引き続いてステップA3において、制御部
3は、画像取得位置決定手段21によって指定されたi
番目の座標データに基づいて画像取得装置1を制御し、
画像取得装置1は、制御部3で指定されたi番目の位置
における、半導体ウェハに形成された半導体装置の周期
的な構造7の画像データ(図3(a)又は(b))を取
得する。
【0041】データ処理部2の画像比較手段22は、予
め登録された正常画像と画像取得装置1で取得したi番
目の領域の画像データとを比較して、半導体装置の周期
的な構造7に生じる周期の乱れ(欠陥)7a(図3
(b)参照)が含まれているかどうかを検出し、欠陥検
査を行う。
【0042】次にステップA4において、半導体装置の
周期的な構造7に生じる周期の乱れ(欠陥)7a(図3
(b)参照)が含まれているかどうかについてポアソン
分布による欠陥の発生頻度の予測を行うために、データ
処理部2の画像取得位置決定手段21は、欠陥座標記憶
部41の記憶データを参照し、データ処理部2の画像比
較手段22で検出された欠陥の一定距離R以内に存在す
る欠陥数DNを得て、欠陥数DNと一定距離Rのデータ
に基づいて欠陥密度を計算し、単位領域内の欠陥数Fを
求める。このときの欠陥7a(図3(b)参照)の座標
を(DX,Dy)とする。
【0043】次にステップA5において、ポアソン分布
による欠陥の発生頻度の予測発生予測が可能なエッチン
グ時のゴミ等の欠陥、或いはポアソン分布による欠陥の
発生頻度の予測が不可能な突発的な欠陥を区別する閾値
を得るため、データ処理部2の画像取得位置決定手段2
1は、単位領域内の欠陥数Fと判定欠陥数Nを比較す
る。
【0044】ここに、単位領域内の判定欠陥数Nは、ポ
アソン分布による欠陥予測を行うために設定された数値
であるから、この判定欠陥数Nを閾値として欠陥数Fと
比較することにより、ポアソン分布による欠陥の発生頻
度の予測が可能なエッチング時のゴミ等の欠陥(半導体
装置の周期的な構造7に生じる周期の乱れ(欠陥)7
a)であるか、或いはポアソン分布による欠陥の発生頻
度の予測が不可能な突発的な欠陥(半導体装置の周期的
な構造7に生じる周期の乱れ(欠陥)7a)であるかを
区別することができる。
【0045】そこで、データ処理部2の画像取得位置決
定手段21は、判定欠陥数Nの閾値(ポアソン分布によ
る欠陥の発生頻度の予測を行うために設定された数値)
を超えた場合、半導体装置の周期的な構造7に生じる周
期の乱れ(欠陥)7aの座標(Dx,Dy)と、(Dx
R,Dy+R)内で囲まれる矩形領域に存在する測定箇
所を欠陥検査対象から削除する。
【0046】データ処理部2の画像取得位置決定手段2
1は、ポアソン分布による欠陥の発生頻度の予測が可能
な欠陥の検査データを読み込み速度が迅速なパソコンの
主記憶装置(メモリ)として機能するデータ記憶部4の
欠陥座標記憶部41に記憶し、ポアソン分布による欠陥
の発生頻度の予測が不可能な突発的な欠陥のデータが出
力される検査領域での欠陥データは、容量が大きいパソ
コンの補助記憶装置(ハードデイスク等)6に記憶す
る。これらの検査データは、作業者による目視検査のデ
ータ、或いは自動化された半導体装置の再検査を行う装
置の制御データとして利用する。
【0047】一方ステップA7,A8において、データ
処理部2の画像取得位置決定手段21は、判定欠陥数N
の閾値以下である場合には、ポアソン分布による欠陥の
発生頻度の予測を行うために次の検査領域を検査するた
めの座標データを制御部3に出力する。
【0048】以上の説明においては、カウンタとしての
変数を100とした場合について説明したが、欠陥検査
が継続されて判定欠陥数Nのデータが蓄積されるから、
そのデータの出力傾向、例えば各検査領域においる欠陥
数が判定欠陥数Nより極めて小さく、半導体装置の周期
的な構造7に生じる周期の乱れ7aがほぼ零に近い場合
には、検査を間引く、言い換えれば、カウンタとしての
変数を大きく変更した場合の方が欠陥検査を迅速に行う
ことができる。
【0049】そこで、次にカウンタとしての変数iを1
00の倍数毎に判定欠陥数Nを更新する(ステップB
1)方法を説明する。
【0050】欠陥密度異常判定部5は、データ記憶部4
の欠陥座標記憶部41に記録されたデータに基づいて欠
陥7aの単位面積あたりの欠陥密度を一定時間毎に算出
し、その算出データに基づいてデータ記憶部4の検査手
順記憶部42の検査パラメータを変化させるようになっ
ており、判定欠陥数Nの閾値を算出する。
【0051】すなわち、一般にポアソン分布による欠陥
の発生頻度の予測が可能な判定欠陥数Nは少なく、その
欠陥密度は一枚の半導体ウェハあたり数10〜数100
個程度であり、ランダムに生じることが多いものであ
る。
【0052】そこでステップB1において、カウンタと
しての変数iが100の倍数になった時点でポアソン分
布に基いてデータ記憶部4の欠陥座標記憶部41に記録
されたデータを検証し、M個の欠陥7aを含む検査領域
の数に3σを加えた値が1未満となるようなMの最小値
を判定欠陥数Nとして随時更新し、この更新した判定欠
陥数Nをデータ記憶部4の欠陥座標記憶部41に記憶す
る。この判定欠陥数Nを更新する手法は、アイエスエス
エム97’(ISSM 97’)の予稿集pp..52
−55にて提案されている。
【0053】以上の説明では、検査回数を間引く場合に
ついて説明したが、ポアソン分布による欠陥の発生頻度
の予測が不可能な突発的な欠陥の大きさを基準として、
これと検出された欠陥群のうち一定の範囲に存在する欠
陥7aとを一つの欠陥として認識させる場合において、
同一の欠陥7aとして認識する範囲を変化させる方法も
可能である。
【0054】具体的には図2に示すステップA6におい
て同一の欠陥として認識する範囲のパラメータを変化さ
せれば良い。
【0055】また本発明の方法では、ポアソン分布を用
いたが、場合によっては別な分布を指定することもでき
る。たとえば、同一種類の半導体ウェハで問題がない場
合の欠陥の発生頻度の分布が分かっている場合には、そ
の分布形態を用いても良い。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、検
査領域を制限することによって検出欠陥総数を減らすこ
とができるため、部分的に欠陥密度が高くなっている場
合においても、検査装置のメモリを浪費することがなく
なり、広い面積の検査を行うことができるとともに、欠
陥密度が高い場合にはクラスタリング処理に時間を要し
てしまうという問題を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る欠陥検査方法を実施
する装置を示す構成図である。
【図2】本発明の一実施形態に係る欠陥検査方法を説明
するフローチャートである。
【図3】半導体装置の周期的な構造を画像データとして
取込んだ場合に、周期の乱れの有無を示す画像データの
図である。
【図4】従来例の構成を示す構成図である。
【符号の説明】
1 画像取得装置 2 処理部 3 制御部 4 記憶装置 5 欠陥密度異常判定処理部 6 補助記憶装置 21 画像取得位置決定手段 22 画像比較処理部 41 欠陥座標記憶部 42 検査手順記憶部

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置の周期的な構造に生じる周期
    の乱れを画像比較によって検出する欠陥検査方法におい
    て、 検査中に欠陥の分布の統計処理を行ない、予想される分
    布形式から外れた場合に応じて検査領域を制限すること
    を特徴とする半導体装置の欠陥検査方法。
  2. 【請求項2】 予想される分布形式から外れた場合の検
    査領域は、欠陥密度の高い領域であることを特徴とする
    請求項1に記載の半導体装置の欠陥検査方法。
  3. 【請求項3】 半導体装置の周期的な構造に生じる周期
    の乱れを画像比較によって検査する欠陥検査方法におい
    て、 検査中に欠陥の分布の統計処理を行ない、ポアソン分布
    による欠陥の発生頻度の予測が可能な欠陥数の検査領域
    では、その欠陥検査を継続し、ポアソン分布による欠陥
    の発生頻度の予測が不可能な突発的な欠陥数のデータが
    出力される検査領域を検査対象から排除し、検査領域を
    制限することを特徴とする半導体装置の欠陥検査方法。
  4. 【請求項4】 ポアソン分布による欠陥の発生頻度の予
    測が可能な欠陥の検査データは、パソコンの主記憶装置
    に記憶し、ポアソン分布による欠陥の発生頻度の予測が
    不可能な突発的な欠陥数のデータが出力される検査領域
    での欠陥データは、容量が大きいパソコンの補助記憶装
    置に記憶することを特徴とする請求項3に記載の半導体
    装置の欠陥検査方法。
  5. 【請求項5】 前記検査データを、作業者による目視検
    査のデータ、或いは自動化された半導体装置の再検査を
    行う装置の制御データとして利用することを特徴とする
    請求項3に記載の半導体装置の欠陥検査方法。
  6. 【請求項6】 前記ポアソン分布による予測に代えて、
    欠陥の発生頻度の分布が既知の分布形態に基いて予測を
    行うことを特徴とする請求項3,4又は5に記載の半導
    体装置の欠陥検査方法。
  7. 【請求項7】 半導体装置の周期的な構造に生じる周期
    の乱れを画像比較によって検査する欠陥検査装置におい
    て、 半導体装置の画像を取込む手段と、パソコンの主記憶装
    置と、記憶容量の大きい補助記憶装置と、ポアソン分布
    による欠陥の発生頻度の予測を行い、ポアソン分布によ
    る欠陥の発生頻度の予測が可能な欠陥の検査データは、
    パソコンの主記憶装置に記憶し、ポアソン分布による欠
    陥の発生頻度の予測が不可能な突発的な欠陥数のデータ
    が出力される検査領域での欠陥データは、容量が大きい
    パソコンの補助記憶装置に記憶する手段とを有するもの
    であることを特徴とする半導体装置の欠陥検査装置。
  8. 【請求項8】 前記ポアソン分布による予測に代えて、
    欠陥の発生頻度の分布が既知の分布形態に基いて予測を
    行うことを特徴とする請求項7に記載の半導体装置の欠
    陥検査装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113933312A (zh) * 2021-09-30 2022-01-14 杭州百子尖科技股份有限公司 表面缺陷的周期性规律实时判定方法

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