JP2001166418A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

Heat developable photosensitive material

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JP2001166418A
JP2001166418A JP34761399A JP34761399A JP2001166418A JP 2001166418 A JP2001166418 A JP 2001166418A JP 34761399 A JP34761399 A JP 34761399A JP 34761399 A JP34761399 A JP 34761399A JP 2001166418 A JP2001166418 A JP 2001166418A
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JP
Japan
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layer
silver halide
silver
embedded image
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JP34761399A
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Kazuhiko Hirabayashi
和彦 平林
Kenji Goto
賢治 後藤
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material which ensures a small sensitivity change independently of processing time and processing temperature and also ensures improved unevenness in development and improved linearity. SOLUTION: In the heat developable photosensitive material containing an organic silver salt, photosensitive silver halide, a reducing agent and a contrast enhancer on the substrate, the average particle diameter of the reducing agent, the contrast enhancer and a phthalazine compound is 0.15-0.80 μm and an image forming layer is formed by coating with a coating fluid in which >=60 mass% of the solvent is water.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
し、特に印刷製版用に適した熱現像感光材料に関し、詳
しくは、処理時間及び処理温度による感度変動が小さい
熱現像感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly to a photothermographic material suitable for printing plate making.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、印刷製版や医療の分野では、画像
形成材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題とな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー
・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより効
率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成
することができる写真用途の光熱写真材料に関する技術
が必要とされている。この技術として、例えば米国特許
第3,152,904号、同第3,487,075号及
びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバ
ー写真材料(Dry Silver Photogra
phic Materials)」(Handbook
of Imaging Materials,Mar
cel Dekker,Inc.48,1991)等に
記載されているように、支持体上に有機銀、感光性ハロ
ゲン化銀、還元剤及びバインダーを含有する熱現像感光
材料が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of printing plate making and medical treatment, waste liquid due to wet processing of image forming materials has been a problem in terms of workability. Weight loss is strongly desired. Therefore, there is a need for a technique relating to photothermographic materials for photographic applications, which enables efficient exposure with a laser imagesetter or laser imager and can form a high-resolution and clear black image. This technique includes, for example, U.S. Patent Nos. 3,152,904 and 3,487,075 and D.C. "Dry Silver Photograph" by Morgan
phy Materials) "(Handbook
of Imaging Materials, Mar
cel Dekker, Inc. 48, 1991), a photothermographic material containing an organic silver, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a binder on a support is known.

【0003】これらの熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤をバインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。該熱現像感光材料は常温
で安定であるが、露光後高温(例えば、80〜150
℃)に加熱することで現像される。加熱することで有機
銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還
元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光
でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進
される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した
銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は外部から水
等の処理液を供給することなしで進行する。
[0003] These photothermographic materials form a photographic image by a heat development process, and include a reducible silver source (organic silver salt), a photosensitive silver halide, a reducing agent and, if necessary, a silver salt. A color tone suppressing color tone is contained in the binder matrix in a dispersed state. The photothermographic material is stable at room temperature, but after exposure to high temperature (for example, 80 to 150).
(° C.). Heating generates silver through an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This oxidation-reduction reaction is accelerated by the catalytic action of the latent image generated on the silver halide upon exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image. This reaction process proceeds without supplying a processing liquid such as water from the outside.

【0004】ところで、製版用感光材料は硬調であるこ
とが必須であるが、硬調化剤を使用する熱現像感光材料
の場合、処理時間及び処理温度による感度変動が大きい
という欠点を有している。原因の一つとして熱現像が反
応律速または拡散律速に片寄ることが挙げられる。その
ため、熱現像感光材料の用途は、画像より文字中心の印
刷物や小サイズの印刷物に限られていた。一方、現像ム
ラやリニアリティと言った特有の問題も残されたままで
あった。
It is essential that the photosensitive material for plate making has a high contrast. However, in the case of a photothermographic material using a high contrast agent, there is a disadvantage that the sensitivity varies greatly depending on the processing time and the processing temperature. . One of the causes is that the thermal development is biased toward the reaction control or the diffusion control. Therefore, the use of the photothermographic material has been limited to printed matter mainly composed of characters rather than images and small-sized printed matter. On the other hand, unique problems such as uneven development and linearity remain.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、処理
時間及び処理温度による感度変動が小さく、更に、現像
ムラやリニアリティが改良された熱現像感光材料を提供
することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a photothermographic material in which sensitivity fluctuations due to processing time and processing temperature are small and development unevenness and linearity are improved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の手段により達成される。
The above object of the present invention is achieved by the following means.

【0007】1.支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン
化銀、還元剤及び硬調化剤を含有する熱現像感光材料に
おいて、平均粒径が0.15〜0.80μmの還元剤、
硬調化剤及びフタラジン化合物が粒子状に分散されてお
り、かつ溶媒の60質量%以上が水である塗布液を用い
て画像形成層が塗布されることを特徴とする熱現像感光
材料。
[0007] 1. In a photothermographic material containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a high contrast agent on a support, a reducing agent having an average particle size of 0.15 to 0.80 μm,
A photothermographic material, characterized in that the image forming layer is coated using a coating liquid in which a high contrast agent and a phthalazine compound are dispersed in a particle form and water is 60% by mass or more of a solvent.

【0008】2.支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン
化銀、還元剤及び硬調化剤を含有する熱現像感光材料に
おいて、還元剤、硬調化剤及びフタラジン化合物を含有
し、かつ該化合物の少なくとも2種以上が、ハロゲン化
銀乳剤層への添加量(m)とハロゲン化銀乳剤層以外の
層への添加量(p)の合計値(m+p)に対するハロゲ
ン化銀乳剤層以外の層への添加量(p)の比p/(m+
p)が0.1〜1.0であることを特徴とする熱現像感
光材料。
[0008] 2. In a photothermographic material containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a contrast agent on a support, a photothermographic material containing a reducing agent, a contrast agent and a phthalazine compound, and at least two or more of the compounds Is the total amount (m + p) of the addition amount (m) to the silver halide emulsion layer and the addition amount (p) to the layer other than the silver halide emulsion layer (m + p), p) ratio p / (m +
p) is from 0.1 to 1.0.

【0009】以下、本発明について詳細に述べる。従来
から熱現像感光材料の多くはトルエン、メチルエチルケ
トン(MEK)、メタノールなどの有機溶剤を溶媒とす
る塗布液を塗布することにより画像形成層を形成してい
る。ここで画像形成層とは、感光性ハロゲン化銀乳剤
層、保護層を含む感光層面側の塗布層を言い、バッキン
グ層面側の塗布層に対する言葉である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. Conventionally, most photothermographic materials form an image forming layer by applying a coating solution using an organic solvent such as toluene, methyl ethyl ketone (MEK), or methanol as a solvent. Here, the image forming layer means a coating layer on the photosensitive layer side including the photosensitive silver halide emulsion layer and the protective layer, and is a term for the coating layer on the backing layer side.

【0010】有機溶剤系塗布では、ほとんどの添加剤を
有機溶剤に溶解して添加するため、ハロゲン化銀粒子近
傍に還元剤、硬調化剤及びフタラジン化合物等が分子レ
ベルの大きさで存在する。従って、有機溶剤系塗布の熱
現像感光材料の現像は、反応律速となるため現像温度の
影響を受け易く、現像温度が変動したとき感度変動が大
きい。一方、初期現像が速く現像進行性が緩やかなた
め、処理時間変動に対しては感度変動は小さい。
In organic solvent-based coating, most of the additives are dissolved in an organic solvent and added. Therefore, a reducing agent, a high contrast agent, a phthalazine compound, and the like are present in the vicinity of silver halide grains at a molecular level. Therefore, the development of the photothermographic material of the organic solvent-based coating is reaction-limited and thus easily affected by the development temperature. When the development temperature fluctuates, the sensitivity greatly fluctuates. On the other hand, since the initial development is fast and the development progress is slow, the sensitivity fluctuation is small with respect to the processing time fluctuation.

【0011】本発明者はこの問題を解決するため種々の
検討を行った結果、熱現像性に大きな影響を与える還元
剤、硬調化剤及びフタラジン化合物の一部をハロゲン化
銀乳剤層以外の層への添加し、反応律速型から拡散律速
型に近づけることにより処理温度依存性が小さくなるこ
とを見出したものである。
As a result of various studies to solve this problem, the present inventor has found that a reducing agent, a high contrast agent and a part of the phthalazine compound, which greatly affect the heat developability, are added to a layer other than the silver halide emulsion layer. It has been found that the treatment temperature dependence is reduced by adding the compound to the reaction-controlling type and making it closer to the diffusion-controlling type.

【0012】詳しくは、還元剤、硬調化剤及びフタラジ
ン化合物の少なくとも2種以上が、ハロゲン化銀乳剤層
への添加量(m)とハロゲン化銀乳剤層以外の層への添
加量(p)の合計値(m+p)に対するハロゲン化銀乳
剤層以外の層への添加量(p)の比p/(m+p)が
0.1〜1.0であることが必要で、好ましくは0.3
〜1.0、より好ましくは0.5〜1.0である。ここ
で、添加量とは、熱現像感光材料の単位面積当たりの添
加量を言う。
More specifically, at least two or more of a reducing agent, a contrasting agent and a phthalazine compound are added to the silver halide emulsion layer (m) and added to layers other than the silver halide emulsion layer (p). The ratio p / (m + p) of the addition amount (p) to the layers other than the silver halide emulsion layer with respect to the total value (m + p) is preferably 0.1 to 1.0, and more preferably 0.3 to 1.0.
To 1.0, more preferably 0.5 to 1.0. Here, the amount of addition refers to the amount of addition per unit area of the photothermographic material.

【0013】また、有機溶剤を溶媒として用いること
は、製造工程での人体への悪影響だけでなく溶剤の回収
その他のためコスト上も不利であり、従来より広く知ら
れているハロゲン化銀写真感光材料に用いられる技術を
応用するため、水系溶媒の塗布液を用いて画像形成層を
形成する方法も提案されている。例えば、特開昭49−
52626号、同53−116144号などにはゼラチ
ンをバインダーとする例が記載されている。また特開昭
50−151138号にはポリビニルアルコールをバイ
ンダーとする例が記載されている。さらに特開昭60−
61747号にはゼラチンとポリビニルアルコールを併
用した例が記載されている。これ以外の例として特開昭
58−28737号には水溶性ポリビニルアセタールを
バインダーとする感光性層の例が記載されている。
The use of an organic solvent as a solvent is disadvantageous not only in adverse effects on the human body in the manufacturing process but also in cost due to the recovery of the solvent and the like. In order to apply the technology used for materials, a method of forming an image forming layer using a coating solution of an aqueous solvent has also been proposed. For example, JP-A-49-
JP-A Nos. 52626 and 53-116144 disclose examples using gelatin as a binder. JP-A-50-151138 discloses an example in which polyvinyl alcohol is used as a binder. Furthermore, Japanese Patent Laid-Open No. 60-
No. 61747 describes an example in which gelatin and polyvinyl alcohol are used in combination. As another example, JP-A-58-28737 describes an example of a photosensitive layer using water-soluble polyvinyl acetal as a binder.

【0014】ここで言う水系とは、塗布液の溶媒(分散
媒)の60質量%以上が水であることを言う。塗布液の
水以外の成分は、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、エチ
ルセルソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル等の
水混和性の有機溶媒を用いることができる。具体的な溶
媒組成の例としては以下のようなものがある。水/メタ
ノール=90/10、水/メタノール=70/30、水
/エタノール=90/10、水/イソプロパノール=9
0/10、水/ジメチルホルムアミド=95/5、水/
メタノール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、
水/メタノール/ジメチルホルムアミド=90/5/5
(ただし数字は質量%を表す)。
The term "water-based" as used herein means that 60% by mass or more of the solvent (dispersion medium) of the coating solution is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following. Water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/10, water / isopropanol = 9
0/10, water / dimethylformamide = 95/5, water /
Methanol / dimethylformamide = 80/15/5,
Water / methanol / dimethylformamide = 90/5/5
(However, the numbers represent mass%).

【0015】水系塗布では、ほとんどの添加剤を平均粒
径が1〜2μmの固体にしバインダー中に分散して添加
するため、ハロゲン化銀粒子近傍に還元剤、硬調化剤、
フタラジン化合物等の粒子がまばらに存在する。これら
の添加剤がハロゲン化銀粒子表面に到達するまでに時間
がかかり初期現像が始まり難く、その後は現像進行性が
非常に急になり感度変動の要因となる。水系塗布の熱現
像感光材料の現像は拡散律速であるため、現像時間の影
響を受け易く、現像時間が変動したとき感度変動が大き
い。一方、拡散律速であるため多少現像温度が変化して
も拡散スピードには大きな影響はなく、初期現像が遅く
現像進行性が大きいため、処理温度変動による感度変動
は小さい。
In the water-based coating, most of the additives are solidified with an average particle size of 1 to 2 μm and dispersed in a binder and added. Therefore, a reducing agent, a high contrast agent,
Particles such as phthalazine compounds are sparse. It takes time for these additives to reach the surface of the silver halide grains, making it difficult to start the initial development, and thereafter the development progress becomes very steep, which causes a sensitivity fluctuation. Since the development of the water-based photothermographic material is diffusion-controlled, it is easily affected by the development time, and the sensitivity varies greatly when the development time varies. On the other hand, even if the development temperature is slightly changed, the diffusion speed is not significantly affected by the diffusion control. The initial development is slow and the development progression is large, so that the sensitivity fluctuation due to the processing temperature fluctuation is small.

【0016】本発明者はこの問題を解決するため、熱現
像性に大きな影響を与える還元剤、硬調化剤及びフタラ
ジン化合物の粒径と熱現像性との関係を検討した結果、
これらの添加剤の粒径を小さくし、拡散律速型から反応
律速型に近づけることにより処理時間依存性が小さくな
ることを見出したものである。
In order to solve this problem, the present inventors have studied the relationship between the particle size of the reducing agent, the high contrast agent, and the phthalazine compound, which greatly affect the heat developability, and the heat developability.
It has been found that the treatment time dependency is reduced by reducing the particle size of these additives and approaching the reaction rate control type from the diffusion control type.

【0017】詳しくは、還元剤、硬調化剤及びフタラジ
ン化合物の粒径が0.80μmより大きい場合は、ハロ
ゲン化銀粒子まで拡散するのに時間がかかり、温度依存
性は良いが初期現像が遅れ現像時間を必要とする。0.
15μm未満では、拡散時間は短くなるが、反応律速と
なり温度依存性が大きくなってしまう。そこで分散粒径
と現像安定性の関係を明確にした結果、0.15〜0.
80μmの粒径にすることが、処理安定性を良くするこ
とが分かった。好ましくは0.15〜0.80μm、よ
り好ましくは0.15〜0.50μm、更に好ましくは
0.15〜0.50μmである。固体微粒子分散は、公
知の微細化手段(例えばボールミル、振動ボールミル、
サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミ
ル等)で行われる。また、固体微粒子分散する際に分散
助剤を用いても良い。
More specifically, when the particle size of the reducing agent, the contrast agent, and the phthalazine compound is larger than 0.80 μm, it takes time to diffuse to the silver halide grains, and the temperature dependence is good, but the initial development is delayed. Requires development time. 0.
If it is less than 15 μm, the diffusion time will be short, but the reaction will be rate-determined and the temperature dependence will be large. Then, as a result of clarifying the relationship between the dispersion particle size and the development stability, it was found that 0.15 to 0.5.
It has been found that setting the particle size to 80 μm improves the processing stability. It is preferably from 0.15 to 0.80 μm, more preferably from 0.15 to 0.50 μm, and still more preferably from 0.15 to 0.50 μm. Dispersion of solid fine particles can be performed by a known micronizing means (for example, ball mill, vibrating ball mill,
Sand mill, colloid mill, jet mill, roller mill, etc.). In addition, a dispersion aid may be used when dispersing the solid fine particles.

【0018】一方、硬調化剤を使用する熱現像感光材料
に特有の、機械的に避け難い現像温度の微妙なばらつき
に起因する現像ムラやリニアリティと言った問題は上記
手段により改善された。
On the other hand, problems such as uneven development and linearity due to minute variations in development temperature which are mechanically inevitable and unique to a photothermographic material using a high contrast agent have been improved by the above means.

【0019】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は、ゼラチンのような保護コロイドの存
在下、シングルジェットもしくはダブルジェット法など
の写真技術の分野で公知の任意の方法により、例えばア
ンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のいずれかの方法で
も調製できる。この様に予め調製し、次いで本発明の他
の成分と混合して本発明に用いる組成物中に導入するこ
とができる。この場合に感光性ハロゲン化銀と有機銀塩
の接触を充分に行わせるため、例えば感光性ハロゲン化
銀を調製するときの保護ポリマーとして米国特許第3,
706,564号、同第3,706,565号、同第
3,713,833号、同第3,748,143号、英
国特許第1,362,970号各明細書に記載されたポ
リビニルアセタール類などのゼラチン以外のポリマーを
用いる手段や、英国特許第1,354,186号明細書
に記載されているような感光性ハロゲン化銀乳剤のゼラ
チンを酵素分解する手段、又は米国特許第4,076,
539号明細書に記載されているように感光性ハロゲン
化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製することによって
保護ポリマーの使用を省略する手段等の各手段を適用す
ることができる。
The photosensitive silver halide used in the photothermographic material of the present invention can be prepared by any method known in the field of photographic technology such as a single jet or double jet method in the presence of a protective colloid such as gelatin. For example, it can be prepared by any method such as an ammonia method emulsion, a neutral method and an acid method. Thus, it can be prepared in advance and then mixed with other components of the present invention and introduced into the composition used in the present invention. In this case, in order to sufficiently contact the photosensitive silver halide with the organic silver salt, for example, US Pat.
No. 706,564, No. 3,706,565, No. 3,713,833, No. 3,748,143 and British Patent No. 1,362,970. A means for using a polymer other than gelatin, for example, a method for enzymatically decomposing gelatin in a light-sensitive silver halide emulsion as described in British Patent No. 1,354,186; 076,
As described in Japanese Patent No. 539, various means such as a method of omitting the use of a protective polymer by preparing photosensitive silver halide grains in the presence of a surfactant can be applied.

【0020】又、ハロゲン化銀表面の平均沃素含量につ
いては、0.1〜10モル%が好ましい。更に好ましく
は、1〜7モル%である。
The average iodine content on the surface of the silver halide is preferably 0.1 to 10 mol%. More preferably, it is 1 to 7 mol%.

【0021】ハロゲン化銀粒子は光センサーとして機能
するものであり、ハロゲン化銀の形状としては特に制限
はなく、立方体、八面体の所謂正常晶や正常晶でない球
状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲン化銀組成
としても特に制限はなく、ハライド組成としては塩化
銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀
のいずれであってもよい。画像形成後の白濁を低く抑え
るため、及び良好な画質を得るために平均粒子サイズが
小さい方が好ましく、平均粒子サイズが0.1μm以
下、より好ましくは0.01〜0.1μm、特に0.0
2〜0.08μmが好ましい。ここでいう粒子サイズと
は、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる
正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを
いう。又、正常晶でない場合、例えば球状、棒状、或い
は平板状の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と
同等な球を考えたときの直径をいう。またハロゲン化銀
は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散と
は、下記式で求められる単分散度が40%以下をいう。
更に好ましくは30%以下であり、特に好ましくは0.
1〜20%となる粒子である。
The silver halide grains function as an optical sensor. The shape of the silver halide is not particularly limited, and may be cubic, octahedral, so-called normal crystals or non-normal crystals, such as spherical, rod-shaped, and tabular grains. There is. The silver halide composition is not particularly limited, and the halide composition may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide. In order to suppress white turbidity after image formation and obtain good image quality, the average particle size is preferably small, and the average particle size is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.01 to 0.1 μm, and particularly preferably 0.1 to 0.1 μm. 0
2 to 0.08 μm is preferred. The term "grain size" as used herein refers to the length of a ridge of a silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical, rod-shaped or tabular grains, it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains. Further, the silver halide is preferably monodispersed. Here, the monodispersion means that the degree of monodispersion determined by the following formula is 40% or less.
It is more preferably at most 30%, particularly preferably 0.1%.
It is a particle which becomes 1 to 20%.

【0022】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び後述の有機銀塩の
総量に対し50%以下好ましくは0.1〜25%、更に
好ましくは0.1〜15%の間である。
Monodispersity = (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100 The amount of silver halide is 50% or less, preferably 0.1% or less, based on the total amount of silver halide and an organic silver salt described later. It is between 1 and 25%, more preferably between 0.1 and 15%.

【0023】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は、英国特許第1,447,454号明
細書に記載されている様に、有機銀塩を調製する際にハ
ライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共
存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩の生成と
ほぼ同時に生成させることができる。
The photosensitive silver halide used in the photothermographic material of the present invention can be used in preparing an organic silver salt as described in British Patent 1,447,454. By coexisting a halogen component such as the above with an organic silver salt forming component and injecting silver ions into the component, it is possible to generate the organic silver salt almost simultaneously.

【0024】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀
形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を
生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該
当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事
が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混
入し必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン
化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かか
る試験によって有効であることが確かめられたハロゲン
化銀形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウム
ハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合
物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例につ
いては米国特許第4,009,039号、同第3,45
7,075号、同第4,003,749号、英国特許第
1,498,956号各明細書及び特開昭53−270
27号、同53−25420号各公報に詳説されるが以
下にその一例を示す。 (1)無機ハロゲン化物:例えばMXnで表されるハロ
ゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び金属原子を表
し、nはMがH及びNH4の時は1を、Mが金属原子の
時はその原子価と同じ数値を表す。金属原子としては、
リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、
カドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガ
ン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等が
ある)。又、臭素水などのハロゲン分子も有効である。 (2)オニウムハライド類:例えばトリメチルフェニル
アンモニウムブロマイド、セチルエチルジメチルアンモ
ニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムブ
ロマイドの様な第4級アンモニウムハライド、テトラエ
チルフォスフォニウムブロマイドの様な第4級フォスフ
ォニウムハライド、トリメチルスルフォニウムアイオダ
イドの様な第3級スルフォニウムハライドがある。 (3)ハロゲン化炭化水素類:例えばヨードフォルム、
ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブロム−2−メチル
プロパン等。 (4)N−ハロゲン化合物:例えばN−クロロ琥珀酸イ
ミド、N−ブロム琥珀酸イミド、N−ブロムフタルイミ
ド、N−ブロムアセトアミド、N−ヨード琥珀酸イミ
ド、N−ブロムフタラジノン、N−ブロムオキサゾリノ
ン、N−クロロフタラジノン、N−ブロモアセトアニリ
ド、N,N−ジブロモベンゼンスルホンアミド、N−ブ
ロモ−N−メチルベンゼンスルホンアミド、1,3−ジ
ブロモ−4,4−ジメチルヒダントイン、N−ブロモウ
ラゾール等。 (5)その他のハロゲン含有化合物:例えば、塩化トリ
フェニルメチル、臭化トリフェニルメチル、2−ブロム
酢酸、2−ブロムエタノール、ジクロロベンゾフェノン
等がある。
As still another method, a silver halide forming component is allowed to act on a solution or dispersion of an organic silver salt prepared in advance or a sheet material containing the organic silver salt, so that a part of the organic silver salt is exposed to light. It can also be converted to neutral silver halide.
The silver halide thus formed is in effective contact with the organic silver salt and exhibits a preferable action. A silver halide-forming component is a compound capable of forming a photosensitive silver halide by reacting with an organic silver salt, and which compound is applicable and effective is determined by the following simple test. I can do things. That is, an organic silver salt is mixed with a compound to be tested, and if necessary, after heating, it is examined by an X-ray diffraction method whether there is a peak specific to silver halide. Silver halide-forming components confirmed to be effective by such tests include inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds. Are U.S. Pat. Nos. 4,009,039 and 3,45
7,075, 4,003,749, British Patent 1,498,956 and JP-A-53-270.
Nos. 27 and 53-25420, each of which is described in detail below. (1) inorganic halide: For example, M is halide (here represented by MX n, H, NH 4, and represents a metal atom, n represents 1 when the M is H and NH 4, M is a metal When it is an atom, it represents the same value as its valence.
Lithium, sodium, potassium, cesium, magnesium, calcium, strontium, barium, zinc,
Cadmium, mercury, tin, antimony, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, rhodium, cerium, etc.). Further, halogen molecules such as bromine water are also effective. (2) Onium halides: quaternary ammonium halides such as trimethylphenylammonium bromide, cetylethyldimethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium bromide, quaternary phosphonium halides such as tetraethylphosphonium bromide, and trimethylsulfur There are tertiary sulfonium halides, such as phonium iodide. (3) Halogenated hydrocarbons: for example, iodoform,
Bromoform, carbon tetrachloride, 2-bromo-2-methylpropane and the like. (4) N-halogen compounds: For example, N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-bromophthalimide, N-bromoacetamide, N-iodosuccinimide, N-bromophthalazinone, N-bromo Oxazolinone, N-chlorophthalazinone, N-bromoacetanilide, N, N-dibromobenzenesulfonamide, N-bromo-N-methylbenzenesulfonamide, 1,3-dibromo-4,4-dimethylhydantoin, N- Bromourazole and the like. (5) Other halogen-containing compounds: for example, triphenylmethyl chloride, triphenylmethyl bromide, 2-bromoacetic acid, 2-bromoethanol, dichlorobenzophenone and the like.

【0025】これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル、好
ましくは0.03〜0.5モルである。ハロゲン化銀形
成成分は上記の範囲で2種以上併用されてもよい。上記
のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩の一部をハロ
ゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時間、反応
圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜設定する事が
出来るが、通常、反応温度は−20〜70℃、その反応
時間は0.1秒〜72時間であり、その反応圧力は大気
圧に設定されるのが好ましい。この反応は又、後述する
結合剤として使用されるポリマーの存在下に行われるこ
とが好ましい。この際のポリマーの使用量は有機銀塩1
部当たり0.01〜100部、好ましくは0.1〜10
部である。
These silver halide forming components are used in a small amount stoichiometrically with respect to the organic silver salt. Usually, the range is 0.001 to 0.7 mol, preferably 0.03 to 0.5 mol, per 1 mol of the organic silver salt. Two or more silver halide forming components may be used in combination within the above range. Various conditions such as reaction temperature, reaction time, reaction pressure and the like in the step of converting a part of the organic silver salt to silver halide using the above-mentioned silver halide forming component can be appropriately set according to the purpose of production. Usually, the reaction temperature is −20 to 70 ° C., the reaction time is 0.1 second to 72 hours, and the reaction pressure is preferably set to the atmospheric pressure. This reaction is also preferably performed in the presence of a polymer used as a binder described below. In this case, the amount of the polymer used was 1 organic silver salt.
0.01 to 100 parts, preferably 0.1 to 10 parts per part
Department.

【0026】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事ができる。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許
第1,518,850号各明細書、特開昭51−224
30号、同51−78319号、同51−81124号
各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分によ
り有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際
に、米国特許第3,980,482号明細書に記載され
ているように、増感を達成するために低分子量のアミド
化合物を共存させてもよい。
The photosensitive silver halide prepared by the above-mentioned various methods includes, for example, sulfur-containing compounds, gold compounds,
Platinum compounds, palladium compounds, silver compounds, tin compounds,
Chemical sensitization can be achieved by a chromium compound or a combination thereof. The method and procedure of this chemical sensitization are described in, for example, U.S. Pat. No. 4,036,650, British Patent No. 1,518,850, JP-A-51-224.
No. 30, No. 51-78319, and No. 51-81124. Further, when a part of the organic silver salt is converted into a photosensitive silver halide by a silver halide forming component, as described in US Pat. No. 3,980,482, sensitization is achieved. A low molecular weight amide compound may coexist.

【0027】又、これらの感光性ハロゲン化銀には、照
度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6族から10
族に属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、O
s、Fe等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させ
ることが出来る。特に錯イオンとして添加するのが好ま
しく、例えば照度不軌のためにIrCl6 2-等のIr錯
イオンを添加してもよい。
In addition, these photosensitive silver halides may be used in order to prevent illuminance failure and to adjust the gradation.
Metals belonging to group III, such as Rh, Ru, Re, Ir, O
An ion such as s or Fe, a complex thereof, or a complex ion can be contained. It is particularly preferable to add as a complex ion. For example, Ir complex ion such as IrCl 6 2- may be added due to illuminance failure.

【0028】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特にこの中で
も長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)
脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環化合物の銀塩が好ま
しい。配位子が銀イオンに対する総安定度常数として
4.0〜10.0の値をもつような有機又は無機の錯体
も好ましい。これら好適な銀塩の例としては、前述のR
D17029及び29963に記載されており、以下の
ものが挙げられる。
In the present invention, the organic silver salt is a reducible silver source, and is a silver salt of an organic acid or a heteroorganic acid, especially a long-chain (10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 25 carbon atoms).
Silver salts of aliphatic carboxylic acids and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferred. Organic or inorganic complexes in which the ligand has a value of 4.0 to 10.0 as the total stability constant for silver ions are also preferred. Examples of these suitable silver salts include the aforementioned R
D17029 and 29996, and include the following.

【0029】有機酸の銀塩、例えば、没食子酸、蓚酸、
ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩。銀のカルボキシアルキルチオ
尿素塩、例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ
尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメ
チルチオ尿素等の銀塩、アルデヒドとヒドロキシ置換芳
香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀塩乃至錯
体、例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ブチルアルデヒド等)とヒドロキシ置換酸
類(例えば、サリチル酸、3,5−ジヒドロキシ安息香
酸)の反応生成物の銀塩乃至錯体、チオン類の銀塩又は
錯体、例えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒ
ドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン、及び3
−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン等の
銀塩乃至錯体、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾー
ル、1,2,4−チアゾール及び1H−テトラゾール、
3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾ
ール及びベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀
との錯体または塩、サッカリン、5−クロロサリチルア
ルドキシム等の銀塩、及び銀メルカプチド類。これらの
中、好ましい銀塩としてはベヘン酸銀、アラキジン酸銀
またはステアリン酸銀が挙げられる。
Silver salts of organic acids, such as gallic acid, oxalic acid,
Silver salts such as behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid and lauric acid. Silver carboxyalkylthiourea salts, for example, silver salts such as 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea, and aldehydes with hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids A silver salt or complex of a polymer reaction product, for example, a silver salt or complex of a reaction product of an aldehyde (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.) and a hydroxy-substituted acid (for example, salicylic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid); Silver salts or complexes of thiones, for example, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thione, and 3
Silver salts or complexes such as -carboxymethyl-4-thiazoline-2-thione, imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole;
Complexes or salts of silver and a nitrogen acid selected from 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benzotriazole, silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime, and silver mercaptides. Among them, preferred silver salts include silver behenate, silver arachidate and silver stearate.

【0030】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェット法によ
り、前記ソープと硝酸銀などを混合して有機銀塩の結晶
を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させても
よい。
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver.
A controlled double jet method as described in No. 3 is preferably used. For example, an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.)
After preparing sodium behenate, sodium arachidate, etc., the above-mentioned soap and silver nitrate are mixed by a controlled double jet method to produce an organic silver salt crystal. At that time, silver halide grains may be mixed.

【0031】本発明においては有機銀塩は平均粒径が1
0μm以下であり、かつ単分散であることが好ましい。
有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球
状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒
子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒
径は0.05〜10μm好ましくは0.05〜5μm、
特に0.05〜1.0μmが好ましい。また単分散と
は、ハロゲン化銀の場合と同義であり、好ましくは単分
散度が1〜30である。
In the present invention, the organic silver salt has an average particle size of 1
It is preferably 0 μm or less and monodispersed.
The average particle size of the organic silver salt refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt particles when the particles of the organic silver salt are, for example, spherical, rod-shaped, or tabular particles. Average particle size is 0.05 to 10 μm, preferably 0.05 to 5 μm,
Particularly, the thickness is preferably 0.05 to 1.0 μm. The monodispersion has the same meaning as that of silver halide, and preferably has a monodispersity of 1 to 30.

【0032】また、本発明においては、有機銀塩は平板
状粒子が全有機銀の60%以上有することが好ましい。
本発明において平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、い
わゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が
3以上のものをいう。
In the present invention, the organic silver salt preferably has tabular grains containing at least 60% of the total organic silver.
In the present invention, the tabular grains mean those having an aspect ratio (abbreviated as AR) of 3 or more, which is a ratio between the average particle diameter and the thickness, that is, the following formula.

【0033】AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 有機銀塩をこれらの形状にするためには、前記有機銀塩
の結晶をバインダーや界面活性剤などをボールミルなど
で分散粉砕することで得られる。この範囲にすることで
濃度が高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られ
る。
AR = average particle size (μm) / thickness (μm) In order to make the organic silver salt into these shapes, the crystal of the organic silver salt is dispersed and pulverized with a ball mill or the like with a binder or a surfactant. Obtained by: Within this range, a photosensitive material having a high density and excellent image storability can be obtained.

【0034】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。
In the present invention, in order to prevent devitrification of the light-sensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably from 0.5 g to 2.2 g per m 2 in terms of silver. . With this range, a high-contrast image can be obtained.

【0035】本発明の熱現像感光材料に用いられる還元
剤としては、一般に知られているものが挙げられ、例え
ば、フェノール類、2個以上のフェノール基を有するポ
リフェノール類、ナフトール類、ビスナフトール類、2
個以上の水酸基を有するポリヒドロキシベンゼン類、2
個以上の水酸基を有するポリヒドロキシナフタレン類、
アスコルビン酸類、3−ピラゾリドン類、ピラゾリン−
5−オン類、ピラゾリン類、フェニレンジアミン類、ヒ
ドロキシルアミン類、ハイドロキノンモノエーテル類、
ヒドロオキサミン酸類、ヒドラジド類、アミドオキシム
類、N−ヒドロキシ尿素類等があり、さらに詳しくは例
えば、米国特許第3,615,533号、同第3,67
9,426号、同第3,672,904号、同第3,7
51,252号、同第3,782,949号、同第3,
801,321号、同第3,794,488号、同第
3,893,863号、同第3,887,376号、同
第3,770,448号、同第3,819,382号、
同第3,773,512号、同第3,839,048
号、同第3,887,378号、同第4,009,03
9号、同第4,021,240号、英国特許第1,48
6,148号若しくはベルギー特許第786,086号
各明細書及び特開昭50−36143号、同50−36
110号、同50−116023号、同50−9971
9号、同50−140113号、同51−51933
号、同51−23721号、同52−84727号若し
くは特公昭51−35851号各公報に具体的に例示さ
れた還元剤があり、本発明はこのような公知の還元剤の
中から適宜選択して使用することが出来る。選択方法と
しては、実際に熱現像感光材料をつくってみてその写真
性能を評価することにより使用した還元剤の優劣を調べ
る方法が最も簡便である。
Examples of the reducing agent used in the photothermographic material of the present invention include generally known reducing agents, such as phenols, polyphenols having two or more phenol groups, naphthols and bisnaphthols. , 2
Polyhydroxybenzenes having at least two hydroxyl groups, 2
Polyhydroxynaphthalenes having at least two hydroxyl groups,
Ascorbic acids, 3-pyrazolidones, pyrazoline-
5-ones, pyrazolines, phenylenediamines, hydroxylamines, hydroquinone monoethers,
Hydroxamic acids, hydrazides, amide oximes, N-hydroxyureas, and the like. More specifically, for example, U.S. Patent Nos. 3,615,533 and 3,67.
9,426, 3,672,904, 3,7
No. 51,252, No. 3,782,949, No. 3,
Nos. 801,321, 3,794,488, 3,893,863, 3,887,376, 3,770,448, 3,819,382,
No. 3,773,512 and No. 3,839,048
No. 3,887,378, No. 4,009,03
9, No. 4,021,240, British Patent No. 1,48
No. 6,148 or Belgian Patent No. 786,086 and JP-A-50-36143, 50-36.
No. 110, No. 50-116023, No. 50-9971
No. 9, No. 50-140113, No. 51-51933
Nos. 51-23721, 52-84727 and JP-B-51-35851, and the present invention is appropriately selected from such known reducing agents. Can be used. As the selection method, the simplest method is to actually prepare a photothermographic material and evaluate the photographic performance of the photothermographic material to determine the superiority of the reducing agent used.

【0036】上記の還元剤の中で、有機銀塩として脂肪
族カルボン酸銀塩を使用する場合に好ましい還元剤とし
ては、2個以上のフェノール基がアルキレン基又は硫黄
によって連結されたポリフェノール類、特にフェノール
基のヒドロキシ置換位置に隣接した位置の少なくとも一
つにアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等)又はアシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基等)が置換したフ
ェノール基の2個以上がアルキレン基又は硫黄によって
連結されたポリフェノール類、例えば1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)メタン、(2−ヒドロキシ−3−t−ブチ
ル−5−メチルフェニル)−(2−ヒドロキシ−5−メ
チルフェニル)メタン、6,6′−ベンジリデン−ビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)、6,6′−ベ
ンジリデン−ビス(2−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、6,6′−ベンジリデン−ビス(2,4−ジメ
チルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパン、
1,1,5,5−テトラキス(2−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルフェニル)−2,4−エチルペンタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジ−t−ブチルフェニル)プロパン等の米国特許第
3,589,903号、同第4,021,249号若し
くは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開
昭51−51933号、同50−36110号、同50
−116023号、同52−84727号若しくは特公
昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール
化合物、米国特許第3,672,904号明細書に記載
されたビスナフトール類、例えば、2,2′−ジヒドロ
キシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,
6′−ジニトロ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メ
タン、4,4′−ジメトキシ−1,1′−ジヒドロキシ
−2,2′−ビナフチル等、更に米国特許第3,80
1,321号明細書に記載されているようなスルホンア
ミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類、例え
ば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4
−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンス
ルホンアミドナフトール等を挙げることができる。
Among the above reducing agents, when a silver aliphatic carboxylate is used as the organic silver salt, preferred reducing agents include polyphenols in which two or more phenol groups are linked by an alkylene group or sulfur. In particular, an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, etc.) or acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, etc.) Are polyphenols in which two or more of the phenol groups substituted by an alkylene group or sulfur, for example, 1,1-bis (2
-Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5
5-trimethylhexane, 1,1-bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane,
1,1-bis (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) methane, (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl)-(2-hydroxy-5-methylphenyl) Methane, 6,6'-benzylidene-bis (2,4-di-t-butylphenol), 6,6'-benzylidene-bis (2-t-butyl-4-methylphenol), 6,6'-benzylidene- Bis (2,4-dimethylphenol), 1,1-bis (2-hydroxy-
3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane,
1,1,5,5-tetrakis (2-hydroxy-3,5
-Dimethylphenyl) -2,4-ethylpentane, 2,
2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5
U.S. Pat. Nos. 3,589,903 and 4,021,249 or British Patent 1,486,148 and JP-A-51-51933. No. 50-36110, No. 50
Polyphenol compounds described in JP-A-116023, JP-A-52-84727 or JP-B-51-35727, bisnaphthols described in U.S. Pat. No. 3,672,904, for example, 2,2'- Dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,6'-dibromo-
2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,
6'-dinitro-2,2'-dihydroxy-1,1'-
Binaphthyl, bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane, 4,4'-dimethoxy-1,1'-dihydroxy-2,2'-binaphthyl and the like, and further US Pat. No. 3,80
Sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols as described in US Pat. No. 1,321, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4
-Benzenesulfonamidophenol, 4-benzenesulfonamidonaphthol and the like.

【0037】本発明の熱現像感光材料に使用される還元
剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤に
よって変化するが、好ましくはハロゲン化銀1モル当た
り1×10-2〜10モル、より好ましくは1×10-2
1.5モルである。又この量の範囲内において、上述し
た還元剤は2種以上併用されてもよい。本発明において
は、前記還元剤を塗布直前に感光溶液に添加混合して塗
布した方が、感光溶液の停滞時間による写真性能変動が
小さく好ましい場合がある。
The amount of the reducing agent used in the photothermographic material of the present invention varies depending on the kind of the organic silver salt, the reducing agent, and other additives, but is preferably 1 × 10 per mol of silver halide. 2 to 10 mol, more preferably 1 × 10 -2 to
1.5 mol. Further, within this range, two or more of the above-mentioned reducing agents may be used in combination. In the present invention, it may be preferable to add and mix the reducing agent to the photosensitive solution immediately before coating and apply the reduced solution because the photographic performance fluctuation due to the stagnation time of the photosensitive solution is small.

【0038】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound are contained to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. be able to.

【0039】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar−SM、Ar
−S−S−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレンまたはテルル原子を有
する複素芳香環または縮合複素芳香環である。これらの
うち好ましいのは、ベンズイミダゾール、ナフトイミダ
ゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズ
オキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環または縮合複素芳香環は、例え
ば、ハロゲン(例えば、BrおよびCl)、ヒドロキ
シ、アミノ、カルボキシ、アルキル(例えば、1個以上
の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するも
の)および、アルコキシ(例えば、1個以上の炭素原
子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)から
なる置換基群から選択されるものを有してもよい。これ
らの化合物の例としては、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メル
カプトベンゾチアゾール、2−メルカプト−5−メチル
ベンゾチアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリ
アゾール、2−メルカプトキノリン、8−メルカプトプ
リン、2,3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチ
オール、4−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン、
2−メルカプト−4−フェニルオキサゾールなどが挙げ
られるが、本発明はこれらに限定されない。
When a mercapto compound is used in the present invention, it may be of any structure,
Those represented by -SS-Ar are preferred. Wherein M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is a heteroaromatic or fused heteroaromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Of these, preferred are benzimidazole, naphthymidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine , Pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring or fused heteroaromatic ring includes, for example, halogen (e.g., Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy, alkyl (e.g., having one or more carbon atoms, preferably 1-4 carbon atoms). ) And alkoxy (e.g., those having one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). Examples of these compounds include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, Mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-hydroxy-2-mercaptopyrimidine,
Examples include 2-mercapto-4-phenyloxazole, but the present invention is not limited thereto.

【0040】本発明の熱現像感光材料中にはカブリ防止
剤が含まれて良い。有効なカブリ防止剤として例えば米
国特許第3,589,903号などで知られている水銀
化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀カブリ
防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀カブリ防
止剤としては例えば米国特許第4,546,075号及
び同第4,452,885号及び特開昭59−5723
4号に開示されている様なカブリ防止剤が好ましい。
The photothermographic material of the present invention may contain an antifoggant. Mercury compounds known from, for example, U.S. Pat. No. 3,589,903 as effective antifoggants are environmentally undesirable. For this reason, non-mercury antifoggants have been studied for a long time. Non-mercury antifoggants include, for example, U.S. Pat. Nos. 4,546,075 and 4,452,885 and JP-A-59-5723.
No. 4 is preferred.

【0041】特に好ましい非水銀カブリ防止剤は、米国
特許第3,874,946号及び同第4,756,99
9号に開示されているような化合物、−C(X1
(X2)(X3)(ここでX1及びX2はハロゲンでX3
水素又はハロゲン)で表される1以上の置換基を備えた
ヘテロ環状化合物である。好適なカブリ防止剤の例とし
ては、特開平9−288328号段落番号〔0030〕
〜〔0036〕に記載されている化合物等が好ましく用
いられる。
Particularly preferred non-mercury antifoggants are disclosed in US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,756,99.
No.9, -C (X 1 )
(X 2 ) A heterocyclic compound having one or more substituents represented by (X 3 ) (where X 1 and X 2 are halogen and X 3 is hydrogen or halogen). Examples of suitable antifoggants include JP-A-9-288328, paragraph [0030].
To [0036] are preferably used.

【0042】また、もう一つの好ましいカブリ防止剤の
例としては特開平9−90550号段落番号〔006
2〕〜〔0063〕に記載されている化合物である。さ
らに、その他の好適なカブリ防止剤は米国特許第5,0
28,523号及び欧州特許第600,587号、同第
605,981号、同第631,176号に開示されて
いる。
As another example of the preferred antifoggant, JP-A-9-90550, paragraph [006]
2] to [0063]. Further, other suitable antifoggants are disclosed in US Pat.
No. 28,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981 and 631,176.

【0043】本発明の熱現像感光材料には、例えば特開
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
第4,639,414号、同第4,740,455号、
同第4,741,966号、同第4,751,175
号、同第4,835,096号に記載された増感色素が
使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばResearch Disclosure Item
17643IV−A項(1978年12月p.23)、同
Item18431X項(1979年8月p.437)
に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に
各種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有す
る増感色素を有利に選択することができる。例えば特開
平9−34078号、同9−54409号、同9−80
679号記載の化合物が好ましく用いられる。
The photothermographic materials of the present invention include, for example, JP-A-63-159841, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651, and JP-A-6-259561.
3-304242, 63-15245, U.S. Pat. Nos. 4,639,414 and 4,740,455,
Nos. 4,741,966 and 4,751,175
No. 4,835,096. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, Research Disclosure Item
17643 IV-A (p. 23, December 1978), Item 18431X (p. 437, August 1979)
Or cited in the literature cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, JP-A-9-34078, JP-A-9-54409, and JP-A-9-80
No. 679 is preferably used.

【0044】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で一般に無色であり、天然ポリマー
や合成ポリマー及びコポリマー、その他、フィルムを形
成する媒体、例えば、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リビニルピロリドン、カゼイン、澱粉、ポリアクリル
酸、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸、ポ
リ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、
コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチ
レン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール類、例え
ば、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポ
リエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ
塩化ビニリデン、ポリエポキシド類、ポリカーボネート
類、ポリビニルアセテート類、セルロースエステル類、
ポリアミド等があり、水溶性でも非水溶性でもよい。し
かしながら、これらのバインダーの中でも特に好ましい
のは、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルブチラールのような非水溶性のポ
リマーであり、この中で熱現像感光層に用いる特に好ま
しいポリマーとしてはポリビニルホルマール類があげら
れ、その中でも特に好ましいのはポリビニルブチラール
であり、保護層バックコート層として特に好ましいポリ
マーとしてはセルロースアセテート及びセルロースアセ
テートブチレートが挙げられる。
Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent and generally colorless, and include natural polymers, synthetic polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic and polyvinyl alcohol. , Hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyvinylpyrrolidone, casein, starch, polyacrylic acid, polymethyl methacrylate, polymethacrylic acid, polyvinyl chloride, copoly (styrene-maleic anhydride),
Copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), polyvinylacetals such as polyvinylformal, polyvinylbutyral, polyesters, polyurethanes, phenoxy resins, polyvinylidene chloride, polyepoxides, polycarbonates, polyvinyl acetates, cellulose Esters,
There are polyamides and the like, which may be water-soluble or water-insoluble. However, among these binders, particularly preferred are water-insoluble polymers such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and polyvinyl butyral. Among these, particularly preferred polymers used in the photothermographic layer include polyvinyl formals Among them, polyvinyl butyral is particularly preferable, and polymers particularly preferable as the backcoat layer for the protective layer include cellulose acetate and cellulose acetate butyrate.

【0045】本発明においては、感光層のバインダー量
が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ま
しくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満で
は未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合
がある。
In the present invention, the binder amount of the photosensitive layer is preferably 1.5 to 6 g / m 2 . More preferably, it is 1.7 to 5 g / m 2 . If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed portion will increase significantly and may not be usable.

【0046】本発明においては、感光層側にマット剤を
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のために、感光材料の表面にマット剤を配することが好
ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、質量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
In the present invention, a matting agent is preferably contained on the photosensitive layer side, and a matting agent is preferably disposed on the surface of the photosensitive material in order to prevent the image after thermal development from being damaged. Is preferably contained in a mass ratio of 0.5 to 30% based on all binders on the photosensitive layer side.

【0047】また、支持体をはさみ感光層の反対側に非
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全バインダーに対し、質量比で0.5〜4
0%含有することが好ましい。
When a non-photosensitive layer is provided on the opposite side of the photosensitive layer with the support interposed therebetween, it is preferable that at least one layer on the non-photosensitive layer side contains a matting agent, so that the light-sensitive material has slipperiness and fingerprint adhesion. For prevention, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material, and the matting agent is added in a mass ratio of 0.5 to 4 with respect to all binders of the layer on the side opposite to the photosensitive layer side.
It is preferable to contain 0%.

【0048】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマ
ット剤として用いることができる。有機物としては、米
国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベルギ
ー特許第625,451号や英国特許第981,198
号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号
等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。
The material of the matting agent used in the present invention may be either an organic substance or an inorganic substance. For example, as inorganic substances, silica described in Swiss Patent No. 330,158, glass powder described in French Patent No. 1,296,995, etc., and alkali described in British Patent No. 1,173,181 etc. An earth metal or a carbonate such as cadmium or zinc can be used as a matting agent. Examples of organic substances include starch described in U.S. Pat. No. 2,322,037, Belgian Patent No. 625,451 and British Patent No. 981,198.
Derivatives, polyvinyl alcohol described in JP-B-44-3643 and the like, Swiss Patent No. 33
No. 0,158, polystyrene or polymethacrylate; U.S. Pat. No. 3,079,257; polyacrylonitrile; U.S. Pat. No. 3,022,16.
An organic matting agent such as polycarbonate described in No. 9 or the like can be used.

【0049】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
The shape of the matting agent may be either regular or irregular, but is preferably regular and spherical. The size of the matting agent is represented by a diameter when the volume of the matting agent is converted into a sphere. In the present invention, the particle diameter of the matting agent indicates the diameter converted into a sphere.

【0050】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好まし
くは1.0〜8.0μmである。又、粒子サイズ分布の
変動係数は、50%以下であることが好ましく、更に、
好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以
下である。
The matting agent used in the present invention preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm. Further, the coefficient of variation of the particle size distribution is preferably 50% or less.
It is preferably at most 40%, particularly preferably at most 30%.

【0051】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 これらのマット剤は任意の構成層中に含むことができる
が、本発明の目的を達成するためには好ましくは感光層
以外の構成層であり、更に好ましくは支持体から見て最
も外側の層である。
Here, the coefficient of variation of the particle size distribution is a value represented by the following equation. (Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size) × 100 These matting agents can be contained in any constituent layer. However, in order to achieve the object of the present invention, it is preferable to use a layer other than the photosensitive layer. It is a constituent layer, more preferably the outermost layer as viewed from the support.

【0052】本発明に係るマット剤の添加方法は、予め
塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、
塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を
噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類のマット
剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
The method of adding the matting agent according to the present invention may be a method of dispersing in a coating solution in advance and applying the solution.
A method of spraying a matting agent after the application liquid is applied and before the drying is completed may be used. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used in combination.

【0053】本発明の熱現像感光材料には硬調化剤が含
まれる。添加量はハロゲン化銀1モル当たり1×10-3
〜1モル、より好ましくは1×10-3〜0.5モルであ
る。硬調化剤としてはヒドラジン誘導体、下記一般式
(G)で表される化合物及び下記一般式(P)で表され
る4級オニウム化合物が挙げられる。
The photothermographic material of the present invention contains a high contrast agent. The addition amount is 1 × 10 -3 per mol of silver halide.
11 mol, more preferably 1 × 10 −3 to 0.5 mol. Examples of the high contrast agent include a hydrazine derivative, a compound represented by the following general formula (G), and a quaternary onium compound represented by the following general formula (P).

【0054】[0054]

【化1】 Embedded image

【0055】一般式(G)において、XとRはシスの形
で表示してあるが、XとRがトランスの形も一般式
(G)に含まれる。この事は具体的化合物の構造表示に
おいても同様である。
In the general formula (G), X and R are represented in a cis form, but the general formula (G) also includes a trans form of X and R. This is the same in the structural representation of a specific compound.

【0056】ヒドラジン誘導体としては、下記一般式
〔H〕で表される化合物が挙げられる。
Examples of the hydrazine derivative include a compound represented by the following general formula [H].

【0057】[0057]

【化2】 Embedded image

【0058】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG11
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。好ましいD0としては
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙
げられる。
In the formula, A 0 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a -G 0 -D 0 group which may have a substituent.
B 0 represents a blocking group, and A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group, or an oxalyl group. Here, G 0 is -CO-
Group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG 1 D 1 )
— Group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D
1 ) represents a group, G 1 represents a mere bond, an —O— group, —S—
Group or -N (D 1) - represents a group, D 1 is an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, a plurality of D 1 in the molecule
If they are present, they can be the same or different. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group,
Represents an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group. Preferred D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group and the like.

【0059】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えば、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファ
モイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換され
ていてもよい。
In the general formula [H], the aliphatic group represented by A 0 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, cyclohexyl group, benzyl group,
These may be further substituted with a suitable substituent (for example, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, sulfoxy group, sulfonamide group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.). .

【0060】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げられ
る。A0の芳香族基、複素環基及び−G0−D0基は置換
基を有していてもよい。A0として、特に好ましいもの
はアリール基及び−G0−D0基である。
In the general formula [H], the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed ring aryl group, for example, a benzene ring or a naphthalene ring, and a heterocyclic ring represented by A 0. As the group, a heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atom in a single ring or a condensed ring is preferable, for example, a pyrrolidine ring, an imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, Examples include a quinoline ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring and a furan ring. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent. Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a -G 0 -D 0 group.

【0061】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写真
用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラス
ト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置
換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好まし
い。
In the general formula [H], A 0 preferably contains at least one diffusion-resistant group or a silver halide-adsorbing group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable, and as the ballast group, a photographically inactive alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, phenyl Group,
Examples thereof include a phenoxy group and an alkylphenoxy group, and the total number of carbon atoms in the substituent is preferably 8 or more.

【0062】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプ
ト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミ
ド複素環基、メルカプト複素環基或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
In the general formula [H], examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group and special groups. 64-9
No. 0439.

【0063】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スル
ホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等)、又はオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。
In the general formula [H], B 0 represents a blocking group, preferably -G 0 -D 0 group, and G 0 represents-
CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O)
(G 1 D 1 ) — represents a group. Preferred G 0 is -CO-
Group, -COCO- group, G 1 is a mere bond,
—O—, —S— or —N (D 1 ) —, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and a plurality of D 1 are present in the molecule If so, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, And an amino group. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or an oxalyl group (Such as an ethoxalyl group).

【0064】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula [H] are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0065】[0065]

【化3】 Embedded image

【0066】[0066]

【化4】 Embedded image

【0067】[0067]

【化5】 Embedded image

【0068】[0068]

【化6】 Embedded image

【0069】[0069]

【化7】 Embedded image

【0070】[0070]

【化8】 Embedded image

【0071】[0071]

【化9】 Embedded image

【0072】更に好ましいヒドラジン誘導体は、下記一
般式(H−1)、(H−2)、(H−3)、(H−4)
で表される。
More preferred hydrazine derivatives are represented by the following formulas (H-1), (H-2), (H-3) and (H-4)
It is represented by

【0073】[0073]

【化10】 Embedded image

【0074】一般式(H−1)において、R11、R12
びR13はそれぞれ独立に置換もしくは無置換のアリール
基またはヘテロアリール基を表すが、アリール基として
具体的には、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナ
フチルなどが挙げられる。ヘテロアリール基として具体
的には、例えばトリアゾール残基、イミダゾール残基、
ピリジン残基、フラン残基、チオフェン残基などがあげ
られる。また、R11、R12及びR13はそれぞれ任意の連
結基を介して結合しても良い。R11、R12及びR13が置
換基を有する場合、その置換基としては例えばアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環
基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピ
リジニオ基)、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレン
オキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含
む基を含む)、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、カルバモイル基、ウレタン基、カルボキシル
基、イミド基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホン
アミド基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイ
ルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド
基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、(アルキル、
アリール、またはヘテロ環)チオ基、メルカプト基、
(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキル
またはアリール)スルフィニル基、スルホ基、スルファ
モイル基、アシルスルファモイル基、(アルキルもしく
はアリール)スルホニルウレイド基、(アルキルもしく
はアリール)スルホニルカルバモイル基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、リン酸アミド基などが挙げら
れる。R11、R12及びR13として好ましくはいずれもが
置換もしくは無置換のフェニル基であり、より好ましく
はR11、R12及びR13のいずれもが無置換のフェニル基
である。
In the general formula (H-1), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group or heteroaryl group. Specific examples of the aryl group include phenyl, p-Methylphenyl, naphthyl and the like. Specific examples of the heteroaryl group include, for example, a triazole residue, an imidazole residue,
Examples include a pyridine residue, a furan residue, and a thiophene residue. Further, R 11 , R 12 and R 13 may be bonded via an arbitrary linking group. When R 11 , R 12 and R 13 have a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and a quaternary heterocyclic group containing a nitrogen atom ( For example, a pyridinio group), a hydroxy group, an alkoxy group (including a group containing a repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group unit), an aryloxy group, an acyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a urethane Group, carboxyl group, imide group, amino group, carbonamide group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, (alkyl,
Aryl or heterocycle) thio group, mercapto group,
(Alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, (alkyl or aryl) sulfonylcarbamoyl group, halogen atom, cyano Group, nitro group, phosphoric acid amide group and the like. Each of R 11 , R 12 and R 13 is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, and more preferably, each of R 11 , R 12 and R 13 is an unsubstituted phenyl group.

【0075】R14はヘテロアリールオキシ基、ヘテロア
リールチオ基を表すが、ヘテロアリールオキシ基として
具体的には、ピリジルオキシ基、ピリミジルオキシ基、
インドリルオキシ基、ベンゾチアゾリルオキシ基、ベン
ズイミダゾリルオキシ基、フリルオキシ基、チエニルオ
キシ基、ピラゾリルオキシ基、イミダゾリルオキシ基等
が挙げられる。ヘテロアリールチオ基として具体的には
ピリジルチオ基、ピリミジルチオ基、インドリルチオ
基、ベンゾチアゾリルチオ基、ベンズイミダゾリルチオ
基、フリルチオ基、チエニルチオ基、ピラゾリルチオ
基、イミダゾリルチオ基等が挙げられる。R14として好
ましくはピリジルオキシ基、チエニルオキシ基である。
R 14 represents a heteroaryloxy group or a heteroarylthio group. Specific examples of the heteroaryloxy group include a pyridyloxy group, a pyrimidyloxy group,
Examples include an indolyloxy group, a benzothiazolyloxy group, a benzimidazolyloxy group, a furyloxy group, a thienyloxy group, a pyrazolyloxy group, and an imidazolyloxy group. Specific examples of the heteroarylthio group include a pyridylthio group, a pyrimidylthio group, an indolylthio group, a benzothiazolylthio group, a benzimidazolylthio group, a furylthio group, a thienylthio group, a pyrazolylthio group, and an imidazolylthio group. R 14 is preferably a pyridyloxy group or a thienyloxy group.

【0076】A1、A2は、ともに水素原子、又は一方が
水素原子で他方はアシル基(アセチル、トリフルオロア
セチル、ベンゾイル等)、スルホニル基(メタンスルホ
ニル、トルエンスルホニル等)、又はオキザリル基(エ
トキザリル等)を表す。好ましくはA1、A2ともに水素
原子の場合である。
A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl, toluenesulfonyl, etc.), or an oxalyl group ( Ethoxalyl). Preferably, A 1 and A 2 are both hydrogen atoms.

【0077】一般式(H−2)において、R21は置換も
しくは無置換のアルキル基、アリール基またはヘテロア
リール基を表すが、アルキル基として具体的には、メチ
ル基、エチル基、t−ブチル基、2−オクチル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基等が挙
げられる。アリール基及びヘテロアリール基として具体
的には、R11、R12及びR13と同様のものが挙げられ
る。また、R21が置換基を有する場合の置換基の具体的
な例としては、R11、R12及びR13の置換基と同様のも
のが挙げられる。R21として好ましくはアリール基また
はヘテロアリール基であり、特に好ましくは置換もしく
は無置換のフェニル基である。
In the general formula (H-2), R 21 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heteroaryl group. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group and a t-butyl group. Group, 2-octyl group, cyclohexyl group, benzyl group, diphenylmethyl group and the like. Specific examples of the aryl group and the heteroaryl group include the same groups as R 11 , R 12 and R 13 . When R 21 has a substituent, specific examples of the substituent include those similar to the substituents of R 11 , R 12 and R 13 . R 21 is preferably an aryl group or a heteroaryl group, and particularly preferably a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0078】R22は水素、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、ヘテロアリールアミノ基を表すが、アルキル
アミノ基として具体的には、メチルアミノ基、エチルア
ミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基等
が挙げられる。アリールアミノ基としてはアニリノ基、
ヘテロアリール基としてはチアゾリルアミノ基、ベンズ
イミダゾリルアミノ基、ベンズチアゾリルアミノ基等が
挙げられる。R22として好ましくはジメチルアミノ基ま
たはジエチルアミノ基である。
R 22 represents hydrogen, an alkylamino group, an arylamino group, or a heteroarylamino group. Specific examples of the alkylamino group include a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, a butylamino group, and a dimethylamino group. Examples include an amino group, a diethylamino group, and an ethylmethylamino group. As the arylamino group, an anilino group,
Examples of the heteroaryl group include a thiazolylamino group, a benzimidazolylamino group, and a benzthiazolylamino group. Preferably the R 22 is dimethylamino group or diethylamino group.

【0079】A1、A2は一般式(H−1)で記載したA
1、A2と同様である。一般式(H−3)において、
31、R32は一価の置換基を表すが、一価の置換基とし
ては、R11、R12及びR13の置換基として挙げられた、
基が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アリール
基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アミノ基が挙げ
られる。更に好ましくはアリール基またはアルコキシ基
である。特に好ましいのは、R31とR32の少なくとも一
つがtert−ブトキシ基であるものであり、別の好ま
しい構造は、R31がフェニル基のとき、R32がtert
−ブトキシ基である。
A 1 and A 2 are those represented by the general formula (H-1)
1 is the same as A 2. In the general formula (H-3),
R 31 and R 32 each represent a monovalent substituent, and examples of the monovalent substituent include those described as substituents of R 11 , R 12 and R 13 .
And an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, and an amino group. More preferably, it is an aryl group or an alkoxy group. Particularly preferred are those in which at least one of R 31 and R 32 is a tert-butoxy group, and another preferred structure is that when R 31 is a phenyl group, R 32 is tert-butoxy.
-A butoxy group.

【0080】G31、G32は−(CO)p−基、−C(=
S)−、スルホニル基、スルホキシ基、−P(=O)R
33−基又はイミノメチレン基を表し、pは1又は2の整
数を表し、R33はアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基
を表す。但し、G31がスルホニル基のとき、G32はカル
ボニル基ではない。G31、G32として好ましくは−CO
−基、−COCO−基、スルホニル基または−CS−で
あり、より好ましくは互いに−CO−基または互いにス
ルホニル基である。
G 31 and G 32 represent a — (CO) p- group, and —C (=
S)-, a sulfonyl group, a sulfoxy group, -P (= O) R
Represents a 33 -group or an iminomethylene group, p represents an integer of 1 or 2, R 33 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an alkynyloxy group, an aryloxy group, Represents an amino group. However, when G 31 is a sulfonyl group, G 32 is not a carbonyl group. G 31 and G 32 are preferably -CO
—, —COCO—, sulfonyl or —CS—, more preferably —CO— or mutually sulfonyl.

【0081】A1、A2は一般式(H−1)で記載したA
1、A2と同様である。一般式(H−4)において、
41、R42およびR43は一般式(H−1)における
11、R12およびR13と同義である。R41、R42および
43として好ましくはいずれもが置換もしくは無置換の
フェニル基であり、より好ましくはR41、R42及びR43
のいずれもが無置換のフェニル基である。R44、R45
無置換または置換アルキル基を表すが、具体的な例とし
ては、メチル基、エチル基、t−ブチル基、2−オクチ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチ
ル基等が挙げられる。R44、R45として好ましくは互い
にエチル基である。
A 1 and A 2 are those represented by the general formula (H-1)
1 is the same as A 2. In the general formula (H-4),
R 41 , R 42 and R 43 have the same meanings as R 11 , R 12 and R 13 in formula (H-1). Each of R 41 , R 42 and R 43 is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, more preferably R 41 , R 42 and R 43
Is an unsubstituted phenyl group. R 44 and R 45 represent an unsubstituted or substituted alkyl group, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, a 2-octyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group, and a diphenylmethyl group. No. R 44 and R 45 are preferably each an ethyl group.

【0082】A1、A2は一般式(H−1)で記載したA
1、A2と同様である。以下に本発明の一般式(H−1)
〜(H−4)で表される化合物の具体例を挙げるが本発
明はこれらに限定されるものではない。
A 1 and A 2 are those represented by the general formula (H-1)
1 is the same as A 2. The general formula (H-1) of the present invention is described below.
Specific examples of the compounds represented by formulas (1) to (H-4) will be given below, but the present invention is not limited thereto.

【0083】[0083]

【化11】 Embedded image

【0084】[0084]

【化12】 Embedded image

【0085】[0085]

【化13】 Embedded image

【0086】[0086]

【化14】 Embedded image

【0087】[0087]

【化15】 Embedded image

【0088】[0088]

【化16】 Embedded image

【0089】[0089]

【化17】 Embedded image

【0090】これら本発明の一般式(H−1)〜(H−
4)で表される化合物は、公知の方法により容易に合成
することができる。例えば米国特許第5,464,73
8号または米国特許第5,496,695号を参考にし
て合成することができる。
The compounds represented by the general formulas (H-1) to (H-
The compound represented by 4) can be easily synthesized by a known method. For example, US Pat. No. 5,464,73
No. 8 or U.S. Pat. No. 5,496,695.

【0091】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特
許第5,464,738号カラム9〜11に記載の化合
物1〜12である。これらのヒドラジン誘導体は公知の
方法で合成することができる。
Other hydrazine derivatives which can be preferably used include compounds H-1 to H-29 described in columns 11 to 20 of US Pat. No. 5,545,505 and column 9 of US Pat. No. 5,464,738. Compounds 1 to 12 described in Nos. 1 to 11. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.

【0092】一般式(G)において、Xは電子吸引性基
を表し、Wは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサ
リル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オキシカ
ルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、チオ
カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキ
シスルホニル基、チオスルホニル基、スルファモイル
基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スル
フィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、
N−カルボニルイミノ基、N−スルホニルイミノ基、ジ
シアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、
ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基を表
す。
In the general formula (G), X represents an electron-withdrawing group, and W is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom,
Acyl group, thioacyl group, oxalyl group, oxyoxalyl group, thiooxalyl group, oxamoyl group, oxycarbonyl group, thiocarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfonyl group, thiosulfonyl group, sulfamoyl Group, oxysulfinyl group, thiosulfinyl group, sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group,
An N-carbonylimino group, an N-sulfonylimino group, a dicyanoethylene group, an ammonium group, a sulfonium group,
Represents a phosphonium group, a pyrylium group, or an immonium group.

【0093】Rはハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルケ
ニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル
オキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、ア
ルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカルボニル
チオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシ基又はメ
ルカプト基の有機又は無機の塩(例えば、ナトリウム
塩、カリウム塩、銀塩等)、アミノ基、アルキルアミノ
基、環状アミノ基(例えば、ピロリジノ基)、アシルア
ミノ基、オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環基(5〜
6員の含窒素ヘテロ環、例えばベンツトリアゾリル基、
イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基
等)、ウレイド基、スルホンアミド基を表す。XとW、
XとRは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成して
もよい。XとWが形成する環としては、例えばピラゾロ
ン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β−ケト
ラクトン、β−ケトラクタム等が挙げられる。
R represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aminocarbonyloxy group, a mercapto group,
Organic or inorganic salts of an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkenylthio group, an acylthio group, an alkoxycarbonylthio group, an aminocarbonylthio group, a hydroxy group or a mercapto group (for example, sodium salt, potassium salt, silver salt) Etc.), an amino group, an alkylamino group, a cyclic amino group (for example, a pyrrolidino group), an acylamino group, an oxycarbonylamino group, a heterocyclic group (5-
A 6-membered nitrogen-containing heterocycle, for example, a benztriazolyl group,
Imidazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, etc.), ureido group, and sulfonamide group. X and W,
X and R may be bonded to each other to form a cyclic structure. Examples of the ring formed by X and W include pyrazolone, pyrazolidinone, cyclopentanedione, β-ketolactone, β-ketolactam and the like.

【0094】一般式(G)について更に説明すると、X
の表す電子吸引性基とは、置換基定数σpが正の値をと
りうる置換基のことである。具体的には、置換アルキル
基(ハロゲン置換アルキル等)、置換アルケニル基(シ
アノビニル等)、置換・未置換のアルキニル基(トリフ
ルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル等)、
置換アリール基(シアノフェニル等)、置換・未置換の
ヘテロ環基(ピリジル、トリアジニル、ベンゾオキサゾ
リル等)、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基(アセチ
ル、トリフルオロアセチル、ホルミル等)、チオアセチ
ル基(チオアセチル、チオホルミル等)、オキサリル基
(メチルオキサリル等)、オキシオキサリル基(エトキ
サリル等)、チオオキサリル基(エチルチオオキサリル
等)、オキサモイル基(メチルオキサモイル等)、オキ
シカルボニル基(エトキシカルボニル等)、カルボキシ
ル基、チオカルボニル基(エチルチオカルボニル等)、
カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、
スルフィニル基、オキシスルホニル基(エトキシスルホ
ニル等)、チオスルホニル基(エチルチオスルホニル
等)、スルファモイル基、オキシスルフィニル基(メト
キシスルフィニル等)、チオスルフィニル基(メチルチ
オスルフィニル等)、スルフィナモイル基、スフィナモ
イル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カル
ボニルイミノ基(N−アセチルイミノ等)、N−スルホ
ニルイミノ基(N−メタンスルホニルイミノ等)、ジシ
アノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホ
スホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基が挙げら
れるが、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウ
ム基、インモニウム基等が環を形成したヘテロ環状のも
のも含まれる。σp値として0.30以上の置換基が特
に好ましい。
The general formula (G) will be further described.
The electron-withdrawing group represented by is a substituent whose substituent constant σp can take a positive value. Specifically, a substituted alkyl group (eg, halogen-substituted alkyl), a substituted alkenyl group (eg, cyanovinyl), a substituted / unsubstituted alkynyl group (eg, trifluoromethylacetylenyl, cyanoacetylenyl),
Substituted aryl group (cyanophenyl, etc.), substituted / unsubstituted heterocyclic group (pyridyl, triazinyl, benzoxazolyl, etc.), halogen atom, cyano group, acyl group (acetyl, trifluoroacetyl, formyl, etc.), thioacetyl group (Thioacetyl, thioformyl, etc.), oxalyl group (methyloxalyl, etc.), oxyoxalyl group (ethoxalyl, etc.), thiooxalyl group (ethylthiooxalyl, etc.), oxamoyl group (methyloxamoyl, etc.), oxycarbonyl group (ethoxycarbonyl, etc.) , Carboxyl group, thiocarbonyl group (such as ethylthiocarbonyl),
Carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group,
Sulfinyl group, oxysulfonyl group (ethoxysulfonyl, etc.), thiosulfonyl group (ethylthiosulfonyl, etc.), sulfamoyl group, oxysulfinyl group (methoxysulfinyl, etc.), thiosulfinyl group (methylthiosulfinyl, etc.), sulfinamoyl group, sphinamoyl group, phosphoryl Group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group (N-acetylimino, etc.), N-sulfonylimino group (N-methanesulfonylimino, etc.), dicyanoethylene group, ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group And an immonium group, and a heterocyclic group in which an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an immonium group, and the like form a ring is also included. A substituent having a σp value of 0.30 or more is particularly preferred.

【0095】Wとして表されるアルキル基としてはメチ
ル、エチル、トリフルオロメチル等が、アルケニル基と
してはビニル、ハロゲン置換ビニル、シアノビニル等
が、アルキニル基としてはアセチレニル、シアノアセチ
レニル等が、アリール基としてはニトロフェニル、シア
ノフェニル、ペンタフルオロフェニル等が、ヘテロ環基
としてはピリジル、ピリミジル、トリアジニル、スクシ
ンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。Wとしてはσ
p値が正の電子吸引性基が好ましく、更にはその値が
0.30以上のものが好ましい。
The alkyl group represented by W is methyl, ethyl, trifluoromethyl and the like, the alkenyl group is vinyl, halogen-substituted vinyl and cyanovinyl, and the alkynyl group is acetylenyl and cyanoacetylenyl. Examples of the group include nitrophenyl, cyanophenyl, and pentafluorophenyl, and examples of the heterocyclic group include pyridyl, pyrimidyl, triazinyl, succinimide, tetrazolyl, triazolyl, imidazolyl, and benzoxazolyl. W is σ
A p-value is preferably a positive electron-withdrawing group, and more preferably, the value is 0.30 or more.

【0096】上記Rの置換基の内、好ましくはヒドロキ
シ基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はメルカプト基の有機又
は無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、更に好ましくはヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基又はメルカプ
ト基の有機又は無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、特に
好ましくはヒドロキシ基、ヒドロキシ基又はメルカプト
基の有機又は無機の塩が挙げられる。
Of the above substituents for R, preferably a hydroxy group, a mercapto group, an alkoxy group, an alkylthio group,
Halogen atom, an organic or inorganic salt of a hydroxy group or a mercapto group, and a heterocyclic group, more preferably a hydroxy group, an alkoxy group, an organic or inorganic salt of a hydroxy group or a mercapto group, a heterocyclic group, Particularly preferred is an organic or inorganic salt of a hydroxy group, a hydroxy group or a mercapto group.

【0097】また上記X及びWの置換基の内、置換基中
にチオエーテル結合を有するものが好ましい。
Of the above-mentioned substituents X and W, those having a thioether bond in the substituent are preferred.

【0098】次に一般式(G)で表される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
Next, specific examples of the compound represented by formula (G) are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0099】[0099]

【化18】 Embedded image

【0100】[0100]

【化19】 Embedded image

【0101】[0101]

【化20】 Embedded image

【0102】[0102]

【化21】 Embedded image

【0103】[0103]

【化22】 Embedded image

【0104】[0104]

【化23】 Embedded image

【0105】[0105]

【化24】 Embedded image

【0106】[0106]

【化25】 Embedded image

【0107】[0107]

【化26】 Embedded image

【0108】[0108]

【化27】 Embedded image

【0109】[0109]

【化28】 Embedded image

【0110】[0110]

【化29】 Embedded image

【0111】[0111]

【化30】 Embedded image

【0112】[0112]

【化31】 Embedded image

【0113】[0113]

【化32】 Embedded image

【0114】[0114]

【化33】 Embedded image

【0115】[0115]

【化34】 Embedded image

【0116】[0116]

【化35】 Embedded image

【0117】[0117]

【化36】 Embedded image

【0118】[0118]

【化37】 Embedded image

【0119】[0119]

【化38】 Embedded image

【0120】[0120]

【化39】 Embedded image

【0121】[0121]

【化40】 Embedded image

【0122】[0122]

【化41】 Embedded image

【0123】一般式(P)において、Qは窒素原子又は
燐原子を表し、R1、R2、R3及びR4は各々、水素原子
又は置換基を表し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R
4は互いに連結して環を形成してもよい。
In the general formula (P), Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X represents an anion. Note that R 1 to R
4 may be connected to each other to form a ring.

【0124】R1〜R4で表される置換基としては、アル
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(ア
リル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパルギル
基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチ
ル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニル
基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル
基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。
As the substituent represented by R 1 to R 4 , an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Hexyl group, cyclohexyl group, etc., alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (piperidinyl group, piperazinyl group) , Morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group,
Sulfolanyl group), an amino group and the like.

【0125】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。
The ring which may be formed by linking R 1 to R 4 includes a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring,
Examples include a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring.

【0126】R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、ス
ルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有しても
よい。
The groups represented by R 1 to R 4 are a hydroxyl group,
It may have a substituent such as an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group and an aryl group.

【0127】R1、R2、R3及びR4としては、水素原子
及びアルキル基が好ましい。X-が表すアニオンとして
は、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機
のアニオンが挙げられる。
As R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , a hydrogen atom and an alkyl group are preferred. Examples of the anion represented by X include inorganic and organic anions such as a halogen ion, a sulfate ion, a nitrate ion, an acetate ion and a p-toluenesulfonic acid ion.

【0128】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
More preferably, the following general formulas (Pa) and (P
b) or a compound represented by (Pc); and a compound represented by the following general formula [T].

【0129】[0129]

【化42】 Embedded image

【0130】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、
ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホニル
基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4及びA
5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、イミ
ダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、ピリ
ミジン等の各環)を挙げることができ、更に好ましい例
として、ピリジン環が挙げられる。
In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 represent a group of nonmetal atoms for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom. And the benzene ring may be condensed. A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5
May have a substituent and may be the same or different. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfo group, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxy group, and an aryloxy group. , Amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group,
Represents a ureido group, amino group, sulfonamide group, sulfonyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, alkylthio group and arylthio group. A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A
Preferred examples of 5 include a 5- to 6-membered ring (each ring of pyridine, imidazole, thiozole, oxazole, pyrazine, pyrimidine and the like), and more preferred examples include a pyridine ring.

【0131】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
BP represents a divalent linking group, and m represents 0 or 1
Represents Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, —SO 2 —, —SO—, and —O
—, —S—, —CO—, and —N (R 6 ) — (R 6 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom) alone or in combination. Preferred examples of B p include an alkylene group and an alkenylene group.

【0132】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR 2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
R1, RTwoAnd RFiveEach have 1 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group. Also, R1And R TwoAre the same but different
May be. An alkyl group is a substituted or unsubstituted alkyl group.
Represents a kill group, and the substituent is A1, ATwo, AThree, AFourPassing
And AFiveAre the same as the substituents exemplified as the substituent for.

【0133】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換或いは無置換のアリール置換アル
キル基が挙げられる。
Preferred examples of R 1 , R 2 and R 5 include:
Each is an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferred examples include a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group.

【0134】Xp -は分子全体の電荷を均衡させるのに必
要な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の
電荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩
の場合にはnpは0である。
[0134] X p - is a counter ion necessary to balance the charge of the whole molecule, for example chloride, bromide,
It represents iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate, oxalate and the like. n p represents the number of counter ions required to balance the charge of the whole molecule, and n p is 0 in the case of an internal salt.

【0135】[0135]

【化43】 Embedded image

【0136】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6
7は、水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメット
のシグマ値(σP)が負のものが好ましい。
The substituents R 5 and R 6 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the general formula [T],
R 7 is preferably a hydrogen atom or a compound having a negative Hammett sigma value (σP) indicating electron-withdrawing degree.

【0137】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年に記
載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見
ることが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基と
しては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れも
σP値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシ基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エ
トキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
The Hammett's sigma value for the phenyl group is described in many literatures, for example, Journal of Medical Chemistry.
chemistry, 20, 304, 1977. The group having a particularly preferable negative sigma value is, for example, a methyl group (σP = −0.17 or less, all σP values) and an ethyl group (− 0.15), cyclopropyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), is
o-propyl group (-0.15), cyclobutyl group (-
0.15), n-butyl group (-0.16), iso-butyl group (-0.20), n-pentyl group (-0.1
5), cyclohexyl group (-0.22), amino group (-
0.66), acetylamino group (-0.15), hydroxy group (-0.37), methoxy group (-0.27), ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.2
5), butoxy group (-0.32), pentoxy group (-
0.34), etc., each of which has the general formula [T]
Is useful as a substituent of the compound of

【0138】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
N represents 1 or 2, and examples of the anion represented by X T n- include halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, nitric acid, sulfuric acid, and the like.
Acid radicals of inorganic acids such as perchloric acid, acid radicals of organic acids such as sulfonic acid and carboxylic acid, anionic activators, specifically p-
Lower alkylbenzene sulfonic acid anions such as toluene sulfonic acid anion; higher alkyl benzene sulfonic acid anions such as p-dodecyl benzene sulfonic acid anion; higher alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate anion; boric acid anions such as tetraphenyl boron; Dialkyl sulfosuccinate anions such as 2-ethylhexyl sulfosuccinate anion,
Examples thereof include higher fatty acid anions such as cetyl polyethenoxy sulfate anion, and polymers having an acid radical attached to a polymer such as polyacrylate anion.

【0139】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples of the quaternary onium compound are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0140】[0140]

【化44】 Embedded image

【0141】[0141]

【化45】 Embedded image

【0142】[0142]

【化46】 Embedded image

【0143】[0143]

【化47】 Embedded image

【0144】[0144]

【化48】 Embedded image

【0145】[0145]

【化49】 Embedded image

【0146】[0146]

【化50】 Embedded image

【0147】[0147]

【化51】 Embedded image

【0148】[0148]

【化52】 Embedded image

【0149】[0149]

【化53】 Embedded image

【0150】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
はChemical Reviews vol.55
p.335〜483に記載の方法を参考にできる。
The above quaternary onium compound can be easily synthesized according to a known method. For example, the above tetrazolium compound can be obtained from Chemical Reviews vol. 55
p. 335-483 can be referred to.

【0151】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤をバインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している熱現像感光材料であること
が好ましい。
The photothermographic material of the present invention, which forms a photographic image by heat development, comprises a reducible silver source (organic silver salt), a photosensitive silver halide, a reducing agent and, if necessary, silver. It is preferable that the photothermographic material contains a color tone suppressing color tone in a binder matrix in a dispersed state.

【0152】本発明に好ましい色調剤の例はResea
rch Disclosure第17029号に開示さ
れており、次のものがある。
Examples of preferred color toning agents in the present invention are:
rc Disclosure No. 17029, which includes:

【0153】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサアンミ
ントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例え
ば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N
−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例
えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);
ブロックされたピラゾール類(例えば、N,N′−ヘキ
サメチレンビス(1−カルバモイル−3,5−ジメチル
ピラゾール));イソチウロニウム(isothiur
onium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わ
せ、(例えば1,8−(3,6−ジオキサオクタン)ビ
ス(イソチウロニウムトリフルオロアセテート)及び2
−(トリブロモメチルスルホニル)ベンゾチアゾールの
組み合わせ);フタラジノン、フタラジノン誘導体又は
これらの誘導体の金属塩(例えば、4−(1−ナフチ
ル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−
ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−
1,4−フタラジンジオン);フタラジノンとスルフィ
ン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−クロロフタラジ
ノンとベンゼンスルフィン酸ナトリウム又は8−メチル
フタラジノンとp−トリスルホン酸ナトリウム);フタ
ラジンとフタル酸の組み合わせ;フタラジン(フタラジ
ンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、及びフタル
酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレ
ン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル酸、4−メ
チルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフ
タル酸無水物)から選択される少なくとも1つの化合物
との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベンズオキサジ
ン、ナフトキサジン誘導体;ベンズオキサジン−2,4
−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサジン−2,
4−ジオン);ピリミジン類及び不斉トリアジン類(例
えば、2,4−ジヒドロキシピリミジン)、及びテトラ
アザペンタレン誘導体(例えば、3,6−ジメルカプト
−1,4−ジフェニル−1H,4H−2,3a,5,6
a−テトラアザペンタレン)。好ましい色調剤としては
フタラジノン又はフタラジンとフタル酸の組み合わせで
ある。
Imides (for example, phthalimide); cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (for example, succinimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2 , 4-thiazolidinedione); naphthalimides (e.g., N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (e.g., hexaamminetrifluoroacetate of cobalt); mercaptans (e.g., 3-mercapto-1,2,2,3). 4-triazole); N
-(Aminomethyl) aryldicarboximides (eg, N- (dimethylaminomethyl) phthalimide);
Blocked pyrazoles (e.g., N, N'-hexamethylenebis (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole)); isothiuronium
onium) derivatives and certain photobleaches (eg, 1,8- (3,6-dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2
-(Tribromomethylsulfonyl) benzothiazole combination); phthalazinone, a phthalazinone derivative or a metal salt of these derivatives (for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-
Dimethyloxyphthalazinone and 2,3-dihydro-
1,4-phthalazinedione); a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (for example, 6-chlorophthalazinone and sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone and sodium p-trisulfonate); a mixture of phthalazine and phthalic acid Combinations; phthalazine (including phthalazine adducts) and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivative and its anhydrides (e.g., phthalic acid, 4-methylphthalic acid, -Nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride); quinazolinediones, benzoxazine, naphthoxazine derivatives; benzoxazine-2,4
-Diones (for example, 1,3-benzoxazine-2,
4-dione); pyrimidines and asymmetric triazines (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine), and tetraazapentalene derivatives (eg, 3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2, 3a, 5, 6
a-tetraazapentalene). Preferred toning agents are phthalazinone or a combination of phthalazine and phthalic acid.

【0154】本発明では特にフタラジン化合物が好まし
く、その具体例を以下に示す。
In the present invention, a phthalazine compound is particularly preferable, and specific examples thereof are shown below.

【0155】[0155]

【化54】 Embedded image

【0156】その添加量は、ハロゲン化銀1モル当たり
1×10-4〜1モル、好ましくは1×10-3〜0.3モ
ル、より好ましくは1×10-3〜0.1モルである。
The amount of addition is 1 × 10 −4 to 1 mol, preferably 1 × 10 −3 to 0.3 mol, more preferably 1 × 10 −3 to 0.1 mol, per mol of silver halide. is there.

【0157】これらの素材の他、各種の添加剤が目的に
応じ感光性層、非感光性層、又はその他の形成層に添加
されてもよい。本発明の熱現像感光材料には例えば、界
面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、被覆助剤等を添加することができる。これらの添加
剤及び上述したその他の添加剤はResearchDi
sclosure 17029(1978年6月p.9
〜15)に記載されている化合物を好ましく用いること
ができる。
In addition to these materials, various additives may be added to the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, or other forming layers according to the purpose. The photothermographic material of the invention may contain, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a coating aid, and the like. These additives and the other additives mentioned above are ResearchDi.
slosure 17029 (p.9 June 1978)
To 15) can be preferably used.

【0158】熱現像感光材料に用いる支持体の素材とし
ては各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、
紙、金属(例えばアルミニウム)等が挙げられるが、情
報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシート又
はロールに加工できるものが好適である。従って本発明
の熱現像感光材料における支持体としては、プラスチッ
クフィルム(例えばセルロースアセテートフィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミド
フィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテ
ートフィルム又はポリカーボネートフィルム等)が好ま
しく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレ
フタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとし
ては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μ
mである。
As the material of the support used for the photothermographic material, various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth,
Paper, metal (for example, aluminum) and the like can be mentioned, but in terms of handling as an information recording material, a material that can be processed into a flexible sheet or roll is preferable. Accordingly, the support in the photothermographic material of the present invention is preferably a plastic film (eg, a cellulose acetate film, a polyester film, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polyamide film, a polyimide film, a cellulose triacetate film, a polycarbonate film, etc.). In the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferred. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.
m.

【0159】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれる。
本発明においては米国特許5,244,773号カラム
14〜20に記載された導電性化合物が好ましく用いら
れる。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be contained in the constituent layer in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably contained in an undercoat layer, a backing layer, a layer between the photosensitive layer and the undercoat, and the like.
In the present invention, the conductive compounds described in U.S. Pat. No. 5,244,773, columns 14 to 20, are preferably used.

【0160】感光層、保護層及びバックコート層等本発
明の感光材料上に必要な各層を塗設する方法に特に制限
はなく、従来知られている、エアナイフコーティング、
ディップコーティング、バーコーティング、カーテンコ
ーティング、ホッパーコーティングなどの方法を用いる
ことができる。又、これらの層を2層以上同時に塗布し
てもよい。
There is no particular limitation on the method of coating the necessary layers such as a photosensitive layer, a protective layer and a back coat layer on the photosensitive material of the present invention.
Methods such as dip coating, bar coating, curtain coating, and hopper coating can be used. Further, two or more of these layers may be applied simultaneously.

【0161】本発明の熱現像写真感光材料は、上述した
各構成層の素材を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を作
り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処
理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同
時に重層塗布」とは、各構成層(例えば感光層、保護
層)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各
層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時
に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各
構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全
溶剤の残存量が70質量%以下となる前に、上層を設け
ることである。
The heat-developable photographic light-sensitive material of the present invention is formed by preparing a coating solution obtained by dissolving or dispersing the above-described constituent layer materials in a solvent, applying a plurality of these coating solutions simultaneously and then performing a heat treatment. Is preferably performed. Here, “multi-layer coating at the same time” means that a coating solution for each constituent layer (for example, a photosensitive layer and a protective layer) is prepared, and when the coating solution is applied to a support, coating and drying are repeated for each layer individually. In other words, it means that each constituent layer can be formed in a state where the steps of simultaneously performing the multilayer coating and drying can be performed at the same time. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of the entire solvent in the lower layer becomes 70% by mass or less.

【0162】各構成層を複数同時に重層塗布する方法に
は特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコ
ート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、エ
クストリュージョン塗布法などの公知の方法を用いるこ
とができる。これらのうちより好ましくはエクストリュ
ージョン塗布法と呼ばれる前計量タイプの塗布方式であ
る。該エクストリュージョン塗布法はスライド塗布方式
のようにスライド面での揮発がないため、精密塗布、有
機溶剤塗布に適している。
There is no particular limitation on the method of simultaneously applying a plurality of the constituent layers in a multi-layered manner. For example, known methods such as a bar coater method, a curtain coat method, a dipping method, an air knife method, a hopper coating method, and an extrusion coating method. Can be used. Of these, a pre-metering type coating method called an extrusion coating method is more preferable. The extrusion coating method is suitable for precision coating and organic solvent coating since there is no volatilization on the slide surface unlike the slide coating method.

【0163】本発明に於いてはこのような同時重層塗布
を行った後、引き続き加熱処理を施して塗布層面を乾燥
するため、支持体−感光層間、及び感光層−保護層間で
の接着性が向上し、層間剥離を招くことが防止される。
この塗布方法は感光層を有する側について述べたが、バ
ックコート層を設ける際、下引きとともに塗布する場合
についても同様である。
In the present invention, after the simultaneous multi-layer coating is performed, the coated layer surface is dried by successively performing a heat treatment, so that the adhesiveness between the support and the photosensitive layer and between the photosensitive layer and the protective layer is reduced. And delamination is prevented from occurring.
This coating method has been described on the side having the photosensitive layer, but the same applies to the case where the backcoat layer is provided and the coating is performed together with the undercoating.

【0164】本発明の画像形成方法は、上記の如く得ら
れた熱現像写真感光材料を露光後、80〜200℃の加
熱処理で現像することを特徴とする。
The image forming method of the present invention is characterized in that the photothermographic material obtained as described above is exposed and then developed by a heat treatment at 80 to 200 ° C.

【0165】本発明に於いて、現像条件は使用する機
器、装置、或いは手段に依存して変化するが、典型的に
は適した高温に於いて像様に露光した熱現像写真感光材
料を加熱することを伴う。露光後に得られた潜像は、中
程度の高温(例えば、約80〜200℃、好ましくは約
100〜200℃)で十分な時間(一般には約1秒〜約
2分間)、熱現像写真感光材料を加熱することにより現
像することができる。加熱する機器、装置、或いは手段
はホットプレート、アイロン、ホットローラー、炭素又
は白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手
段で行ってよい。より好ましくはヒートローラに接触さ
せながら搬送し加熱処理して現像することが熱効率、作
業性の点などから好ましい。
In the present invention, the development conditions vary depending on the equipment, apparatus, or means used, but typically, the heat-developable photographic material exposed imagewise at a suitable high temperature is heated. Accompanies you. The latent image obtained after the exposure is exposed to a heat at a moderately high temperature (for example, about 80 to 200 ° C., preferably about 100 to 200 ° C.) for a sufficient time (generally about 1 second to about 2 minutes). The material can be developed by heating. The equipment, apparatus or means for heating may be performed by a typical heating means such as a heat generator using a hot plate, an iron, a hot roller, carbon or white titanium or the like. More preferably, it is transported while being in contact with the heat roller, heated, and developed, from the viewpoint of thermal efficiency and workability.

【0166】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも1層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成してもよいが、感光層の上に少なくとも一層
の非感光層を形成するのが好ましい。例えば感光層の上
には保護層が、熱現像感光層を保護する目的で、又支持
体の反対の面には感光材料間の、或いは感光材料ロール
においてくっつきを防止する為に、バックコート層が設
けられるのが好ましい。又熱現像感光層を透過する光の
量または波長分布を制御するために感光層と同じ側また
は反対の側にフィルター層を形成してもよいし、感光層
に染料又は顔料を含有させてもよい。染料としては特開
平8−201959号の化合物が好ましい。感光層は複
数層にしてもよく、又階調の調節のために高感度層、低
感度層を設け、これを組み合わせてもよい。各種の添加
剤は感光層、非感光層又はその他の形成層のいずれに添
加してもよい。
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is provided on the photosensitive layer to protect the photothermographic layer, and a back coat layer is provided on the opposite surface of the support to prevent sticking between photosensitive materials or in a photosensitive material roll. Is preferably provided. Further, a filter layer may be formed on the same side as or opposite to the photosensitive layer to control the amount or wavelength distribution of light transmitted through the photothermographic layer, or the photosensitive layer may contain a dye or pigment. Good. As the dye, compounds described in JP-A-8-201959 are preferred. The photosensitive layer may be composed of a plurality of layers, or a high-sensitivity layer and a low-sensitivity layer may be provided for adjusting the gradation, and these layers may be combined. Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers.

【0167】本発明の熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温に加熱することで現像される。加熱温
度としては80〜200℃が好ましく、さらに好ましい
のは100〜150℃である。加熱温度が80℃以下で
は短時間に十分な画像濃度が得られず、又200℃以上
ではバインダーが溶融し、ローラーへの転写など、画像
そのものだけでなく搬送性や、現像機等へも悪影響を及
ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能す
る)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成
する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の一切
の供給なしに進行する。
The photothermographic material of the present invention is stable at room temperature, but is developed by heating to high temperature after exposure. The heating temperature is preferably from 80 to 200 ° C, and more preferably from 100 to 150 ° C. If the heating temperature is lower than 80 ° C., a sufficient image density cannot be obtained in a short time, and if the heating temperature is higher than 200 ° C., the binder is melted and adversely affects not only the image itself but also transportability such as transfer to a roller and a developing machine. Effect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of a processing liquid such as water from the outside.

【0168】本発明の熱現像感光材料の露光は、赤外光
域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザー
パワーがハイパワーであることや、感光材料を透明にで
きる等の点から、赤外半導体レーザー(780nm、8
20nm)がより好ましく用いられる。
Exposure of the photothermographic material of the present invention can be applied to any light source in the infrared light range. However, in view of the fact that the laser power is high and the photosensitive material can be made transparent. , Infrared semiconductor laser (780 nm, 8
20 nm) is more preferably used.

【0169】本発明において、露光はレーザー走査露光
により行うことが好ましいが、感光材料の露光面と走査
レーザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレ
ーザー走査露光機を用いることが好ましい。
In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but it is preferable to use a laser scanning exposure machine in which the angle between the exposure surface of the photosensitive material and the scanning laser beam does not become substantially perpendicular. .

【0170】ここで、「実質的に垂直になることがな
い」とはレーザー走査中に最も垂直に近い角度として好
ましくは55〜88度、より好ましくは60〜86度、
更に好ましくは65〜84度、最も好ましくは70〜8
2度であることをいう。
Here, "not substantially perpendicular" means that the angle is most perpendicular during laser scanning, preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees.
More preferably 65-84 degrees, most preferably 70-8 degrees.
It means twice.

【0171】レーザー光が、感光材料に走査されるとき
の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましく
は200μm以下、より好ましくは100μm以下であ
る。これは、スポット径が小さい方がレーザー入射角度
の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。な
お、ビームスポット直径の下限は10μmである。この
ようなレーザー走査露光を行うことにより干渉縞様のム
ラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じること
が出来る。
When a laser beam is scanned on the photosensitive material, the beam spot diameter on the exposed surface of the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. It is preferable that the spot diameter is small in that the shift angle of the laser incident angle from the perpendicular can be reduced. Note that the lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as occurrence of unevenness like interference fringes.

【0172】また、本発明における露光は縦マルチであ
る走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて
行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザー光に
比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。
It is also preferable that the exposure in the present invention is performed using a laser scanning exposure machine which emits a scanning laser beam which is a vertical multi. Image quality deterioration such as generation of interference fringe-like unevenness is reduced as compared with the scanning laser beam in the longitudinal single mode.

【0173】縦マルチ化するには、合波による、戻り光
を利用する、高周波重畳をかける、などの方法がよい。
なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味
し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10
nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に
制限はないが、通常60nm程度である。
[0173] In order to form the vertical multiple, a method such as combining, using return light, or superimposing a high frequency is preferable.
In addition, the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more.
nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

【0174】[0174]

【実施例】実施例1 (PET支持体の作製)PETペレットを130℃で4
時間乾燥した後、300℃で溶融後T型ダイから押し出
した後急冷し、未延伸のフィルムを作製した。これを周
速の異なるロールを用い3.0倍に縦延伸、ついでテン
ターで4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそ
れぞれ110℃、130℃であった。この後、240℃
で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和
した。この後テンターのチャック部をスリッターした
後、両端にナール加工を行い、4kg/cm2で巻き取
った。このようにして巾2.4m、長さ800m、厚み
125μmのPETフィルムのロールを得た。このPE
Tフィルムのガラス転移点は79℃であった。
EXAMPLES Example 1 (Preparation of PET support) PET pellets were
After drying for an hour, it was melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and quenched to prepare an unstretched film. This was longitudinally stretched 3.0 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After this, 240 ° C
After heat setting for 20 seconds, the film was relaxed 4% in the horizontal direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slitter, and both ends were knurled and wound at 4 kg / cm 2 . Thus, a roll of a PET film having a width of 2.4 m, a length of 800 m, and a thickness of 125 μm was obtained. This PE
The glass transition point of the T film was 79 ° C.

【0175】上記のようにして作製した2軸延伸熱固定
済みの厚さ125μmの厚みを持ったPETフィルム支
持体の両面にそれぞれ8W/m2・分のコロナ放電処理
を施し、一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚
0.8μmになるように塗設し乾燥させて下引層A−1
とし、また反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布
液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥
させて帯電防止加工下引層B−1とした。
The biaxially stretched and heat-fixed PET film support having a thickness of 125 μm and having a thickness of 125 μm was subjected to a corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min. The undercoating coating solution a-1 shown below was applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to form an undercoating layer A-1.
On the other side, an undercoating coating solution b-1 subjected to the following antistatic treatment was applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to obtain an antistatic undercoat layer B-1.

【0176】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30質量%) t−ブチルアクリレート(20質量%) スチレン(25質量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1Lに仕上げる 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1質量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30質量%) スチレン(20質量%) グリシジルアクリレート(40質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1Lに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引上層A−2として、下引層B−1の上に
は下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmにな
る様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
<< Undercoat Coating Solution a-1 >> Butyl acrylate (30% by mass) t-butyl acrylate (20% by mass) Styrene (25% by mass) 2-hydroxyethyl acrylate (25% by mass) copolymer latex liquid (Solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g polystyrene fine particles (average particle diameter 3 μm) 0.05 g colloidal silica (average particle diameter 90 μm) 0 0.1 g Finished to 1 L with water << Undercoat coating solution b-1 >> SnO 2 / Sb (9/1 mass ratio, average particle size 0.18 μm) Amount to become 200 mg / m 2 Butyl acrylate (30% by mass) Styrene ( 20% by mass) Glycidyl acrylate (40% by mass) copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g hexa Styrene-1,6-bis (ethyleneurea) subsequently finished into 1L with 0.8g water, the undercoat layer A-1 and the upper surface undercoat layer B-1,
A corona discharge of 8 W / m 2 · min. Was performed, and the following lower coating liquid a-2 was coated on the lower coating layer A-1 with a dry film thickness of 0.1 μm.
The lower coating layer B-2 is coated with the following coating liquid b-2 on the lower coating layer B-1 so as to have a dry film thickness of 0.8 μm. Coated as B-2.

【0177】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1Lに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1Lに仕上げる。<< Coating Solution a-2 for Subbing Upper Layer >> Gelatin 0.4 g / m 2 (C-1) 0.2 g (C-2) 0.2 g (C-3) 0.1 g Silica particles ( (Average particle size: 3 μm) 0.1 g Finished to 1 L with water << Lower upper coating liquid b-2 >> (C-4) 60 g Latex liquid containing (C-5) as a component (solid content: 20%) 80 g Ammonium sulfate 5 g (C-6) 12 g Polyethylene glycol (weight average molecular weight 600) 6 g Finish to 1 L with water.

【0178】[0178]

【化55】 Embedded image

【0179】[0179]

【化56】 Embedded image

【0180】《支持体の熱処理》上記下引済み支持体の
下引乾燥工程において、支持体を140℃で加熱し、そ
の後徐々に冷却した。
<< Heat Treatment of Support >> In the above-mentioned undercoat drying step of the undercoated support, the support was heated at 140 ° C. and then gradually cooled.

【0181】(ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900m
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウム及び〔Ir(NO)Cl5〕塩を銀1モル当
たり1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を銀1モル当た
り1×10-6モル含む水溶液370mlを、pAg7.
7に保ちながらコントロールドダブルジェット法で添加
した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを添加しNaOHでpHを
8、pAg6.5に調整することで還元増感を行い平均
粒子サイズ0.06μm、単分散度10%の投影直径面
積の変動係数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃
臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて
凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1g
を加え、pH5.9、pAg7.5に調整して、ハロゲ
ン化銀乳剤Aを得た。
(Preparation of Silver Halide Emulsion A) 900 m of water
7.5 g of inert gelatin and 10 ml of potassium bromide
mg, and adjusted to a temperature of 35 ° C. and a pH of 3.0, and 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate (60/3
The molar ratio of potassium iodide sodium chloride and potassium bromide and [Ir (NO) Cl 5] salt per mole silver 1 × 10 -6 mol and 1 mol of silver per 1 × rhodium chloride salt 8/2) 370 ml of an aqueous solution containing 10 -6 mol was added to pAg7.
While maintaining at 7, the addition was performed by the controlled double jet method. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3
a, 7-tetrazaindene was added, the pH was adjusted to 8 with NaOH, and the pAg was adjusted to 6.5 to perform reduction sensitization. The average grain size was 0.06 μm, and the coefficient of variation of the projected diameter area with a monodispersity of 10% was 8%. Thus, cubic silver iodobromide grains having a [100] face ratio of 87% were obtained. This emulsion was subjected to coagulation sedimentation using a gelatin coagulant and desalting, and then 0.1 g of phenoxyethanol.
Was adjusted to pH 5.9 and pAg 7.5 to obtain a silver halide emulsion A.

【0182】(有機銀塩分散物の調製)アラキジン酸
4.4g、ベヘン酸39.4g、蒸留水770mlを、
85℃で攪拌しながら1N−NaOH水溶液103ml
を60分かけて添加して240分反応させ、75℃に降
温した。次いで、硝酸銀19.2gの水溶液112.5
mlを45秒かけて添加し、そのまま20分間放置し、
30℃に降温した。その後、吸収濾過で固形分を濾別
し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになるまで
水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥させないで
ウェットケーキとして取り扱い、乾燥固形分100g相
当のウェットケーキに対し、ポリビニルアルコール(ク
ラレ(株)製;PVA−205)10g及び水を添加
し、全体量を500gとしてからホモミキサーにて予備
分散した。
(Preparation of organic silver salt dispersion) 4.4 g of arachidic acid, 39.4 g of behenic acid and 770 ml of distilled water
103 ml of 1N-NaOH aqueous solution while stirring at 85 ° C.
Was added over 60 minutes and reacted for 240 minutes, and the temperature was lowered to 75 ° C. Then, an aqueous solution of 12.5 g of silver nitrate 112.5 g
ml over 45 seconds and leave for 20 minutes.
The temperature was lowered to 30 ° C. Then, the solid content was separated by absorption filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid content thus obtained was handled as a wet cake without drying, and 10 g of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd .; PVA-205) and water were added to a wet cake equivalent to 100 g of dry solid content, and the total amount was adjusted. After 500 g, it was predispersed with a homomixer.

【0183】次に予備分散済みの原液を分散機(商品
名:マイクロフルイダイザーM−11OS−EH、マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレー
ション製、G10Zインタラクションチャンバー使用)
の圧力を172MPaに調節して、3回処理し、体積加
重平均直径0.93μmの有機銀塩微結晶分散物の調製
を終了した。粒子サイズの測定は、Malvern I
nstrumentsLtd.製Master Siz
erXにて行った。冷却操作は蛇管式熱交換器を、イン
タラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温
度を調節することで所望の分散温度に設定した。
Next, the pre-dispersed stock solution is dispersed in a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-11OS-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using G10Z interaction chamber).
The pressure was adjusted to 172 MPa, and the mixture was treated three times to complete the preparation of an organic silver salt microcrystal dispersion having a volume-weighted average diameter of 0.93 μm. Particle size measurements are made using a Malvern I
nstrumentsltd. Master Siz
erX. In the cooling operation, a coiled tube heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to set a desired dispersion temperature.

【0184】(乳剤層塗布液の調製)先に調製した有機
銀微結晶分散物に対し、ハロゲン化銀(乳剤A)9モル
%/有機銀相当と、以下のバインダー及び現像用素材を
用いて、乳剤層塗布液とした。
(Preparation of Emulsion Layer Coating Solution) The silver halide (emulsion A) equivalent to 9 mol% / organic silver was added to the previously prepared organic silver microcrystal dispersion, using the following binders and developing materials. And an emulsion layer coating solution.

【0185】(還元剤の分散)ボールミル容器に下記の
ものと酸化ジルコニウムのビーズを入れて容器を密閉
し、表1の平均粒径になるまで分散した。ここでいう平
均粒径とは、分散物をプレパラートに載せ、水の蒸発防
止のため上に薄い保護ガラスを載せ、光学顕微鏡で撮影
し、結晶の最も長いところを粒径とし平均したものであ
る。
(Dispersion of Reducing Agent) The following materials and zirconium oxide beads were placed in a ball mill container, the container was sealed, and dispersed until the average particle size shown in Table 1 was attained. The average particle size referred to here is a value obtained by placing the dispersion on a preparation, placing a thin protective glass on the top to prevent water evaporation, photographing with an optical microscope, and averaging the longest part of the crystal as the particle size. .

【0186】 水 300g ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 3g フッ素化オクチルベンゼンカルボン酸ナトリウム 3g 表1の還元剤 110g ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20g 分散後、酸化ジルコニウムビーズを除去した。Water 300 g Sodium dodecylbenzenesulfonate 3 g Sodium fluorinated octylbenzenecarboxylate 3 g 110 g of the reducing agent in Table 1 20 g of sodium polystyrenesulfonate After the dispersion, the zirconium oxide beads were removed.

【0187】(硬調化剤)上記の還元剤を表1の硬調化
剤に変更し、同様に分散した。
(High contrast agent) The above reducing agents were changed to the high contrast agents shown in Table 1 and dispersed in the same manner.

【0188】 バインダー;ラックスター3307B 固形分として470g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 表1に示す還元剤分散物 固形分として110g トリブロモメチルフェニルスルホン 固形分として25g 3,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン 固形分として5.2g 硬調化剤(表1に示す) 固形分として20g (感光面保護層塗布液の調製)40%のポリマーラテッ
クス(メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘ
キシルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート/メタアクリル酸=59/9/26/5/1の共重
合体)500gに、H2O262gを加え、造膜助剤と
してベンジルアルコール14g、化合物D2.5g、セ
ロゾール524(中京油脂(株)製)3.6g、化合物
E12g、化合物F1g、化合物G2g、表1に示すフ
タラジン化合物7.5g、マット剤として平均粒径3μ
mのポリメチルメタクリレート微粒子3.4gを順次加
え、さらにH2Oを加えて1000gとし、粘度5cP
(25℃)、pH3.4(25℃)の塗布液を調製し
た。
Binder; Luckstar 3307B 470 g as solid content (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Ltd .; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) Reducing agent dispersion shown in Table 1 110 g as solid content Tribromomethylphenylsulfone solid 25 g 3,4-dihydro-4-oxo-1,2,3-benzotriazine 5.2 g as solids Hardener (as shown in Table 1) 20 g as solids (Preparation of coating solution for photosensitive surface protective layer) 262 g of H 2 O was added to 500 g of a 40% polymer latex (copolymer of methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / methacrylic acid = 59/9/26/5/1) to prepare 14 g of benzyl alcohol, 2.5 g of compound D, 5 4 (Chukyo Yushi (Co.)) 3.6 g, compound E12g, compound f1g, compound G2G, phthalazine compounds shown in Table 1 7.5 g, average particle size 3μ as a matting agent
m of polymethyl methacrylate fine particles were sequentially added, and further, H 2 O was added to 1000 g, and the viscosity was 5 cP.
(25 ° C.), a coating solution having a pH of 3.4 (25 ° C.) was prepared.

【0189】 (フタラジン化合物の分散) 水 30g ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.2g フッ素化オクチルベンゼンカルボン酸ナトリウム 0.2g 表1のフタラジン化合物 7.5g ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 0.5g(Dispersion of phthalazine compound) Water 30 g Sodium dodecylbenzenesulfonate 0.2 g Sodium fluorinated octylbenzenecarboxylate 0.2 g 7.5 g of phthalazine compound in Table 1 7.5 g Sodium polystyrenesulfonate 0.5 g

【0190】[0190]

【化57】 Embedded image

【0191】(バッキング保護層、バッキング層塗布液
の調製) (バッキング保護層)40%のポリマーラテックス(メ
チルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルア
クリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/メ
タアクリル酸=59/9/26/5/1の共重合体)5
00gに、H2O262gを加え、造膜助剤としてベン
ジルアルコール14g、化合物D2.5g、セロゾール
524(中京油脂(株)製)3.6g、化合物E12
g、化合物F1g、化合物G2g、マット剤として、平
均粒径3μmのポリメチルメタクリレート微粒子3.4
gを順次加え、さらにH2Oを加えて1000gとし、
粘度5cP(25℃)、pH3.4(25℃)の塗布液
を調製した。
(Preparation of Backing Protective Layer, Backing Layer Coating Solution) (Backing Protective Layer) 40% Polymer Latex (Methyl Methacrylate / Styrene / 2-Ethylhexyl Acrylate / 2-Hydroxyethyl Methacrylate / Methacrylic Acid = 59/9 / 26/5/1 copolymer) 5
Then, 262 g of H 2 O was added to 00 g, and 14 g of benzyl alcohol, 2.5 g of compound D, 3.6 g of cellosol 524 (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.) and 3.6 g of compound E12 were used as film-forming aids.
g, compound F1g, compound G2g, as a matting agent, polymethyl methacrylate fine particles 3.4 having an average particle size of 3 μm.
g in order, and further add H 2 O to make 1000 g,
A coating solution having a viscosity of 5 cP (25 ° C.) and a pH of 3.4 (25 ° C.) was prepared.

【0192】(バッキング層塗布液の調製)バッキング
保護層塗布液に染料−Cを780nmの吸光度が1.1
になるように加えた。
(Preparation of Backing Layer Coating Solution) Dye-C was added to the backing protective layer coating solution at an absorbance at 780 nm of 1.1.
Was added so that

【0193】[0193]

【化58】 Embedded image

【0194】PET支持体に、バッキング保護層はバイ
ンダーが0.8g/m2となるように塗布した。その後
乳剤層は銀量1.45g/m2、感光面保護層はバイン
ダーが1.2g/m2となるように塗布した。画像形成
層(乳剤層及び感光面保護層)塗布液の溶媒の65質量
%が水であった。
A backing protective layer was applied to a PET support so that the binder content was 0.8 g / m 2 . Thereafter, the emulsion layer was coated so that the silver content was 1.45 g / m 2 , and the photosensitive surface protective layer was coated so that the binder content was 1.2 g / m 2 . 65% by mass of the solvent of the coating solution for the image forming layer (emulsion layer and photosensitive surface protective layer) was water.

【0195】(現像処理条件)富士写真フイルム(株)
製熱現像機FDS−6100Xを使用した。構成はコン
ベア部、プレヒート部、現像部、徐冷部から成り、プレ
ヒート部の6本のハロゲンランプヒーターはコンベア側
から75℃、90℃、105℃、120℃、125℃、
125℃に設定した。現像部は下側に起毛材を貼り付け
たアルミブロックヒーター3個と上側ローラーの更に上
に設置した3個のパネルヒーターは全て同じ温度設定と
した。徐冷部の第1ローラーは100℃に設定した。表
1に示した感度差の欄の温度と時間表示は、現像部の温
度と処理時間を表す。感光面を上にして処理した。
(Development processing conditions) Fuji Photo Film Co., Ltd.
A heat developing machine FDS-6100X was used. The configuration consists of a conveyor section, a preheating section, a developing section, and a slow cooling section. The six halogen lamp heaters in the preheating section are 75 ° C, 90 ° C, 105 ° C, 120 ° C, 125 ° C,
It was set at 125 ° C. In the developing section, the same temperature was set for the three aluminum block heaters having a brushed material adhered to the lower side and the three panel heaters further disposed above the upper roller. The temperature of the first roller in the slow cooling section was set to 100 ° C. The display of temperature and time in the column of sensitivity difference shown in Table 1 indicates the temperature of the developing unit and the processing time. Processing was performed with the photosensitive surface facing up.

【0196】(現像ムラ)NEC(株)社製FT−29
6R(光源波長780nm)で90%の平網を590m
m×410mmのサイズで出力させ、現像温度120
℃、現像時間25秒で処理し、網のムラを10段階評価
した。 1:全面にムラが目立ち実用不可レベル 5:一部に目視でムラが確認できるが実用上下限レベル 8:一見しただけではムラは分からず実用上全く問題な
いレベル 10:全くムラがないレベル (リニアリティ)120℃、25秒の熱現像処理条件に
おいて、FT−296Rの網点出力の理論値90%でレ
ーザーパワーを変化させて露光し、熱現像処理後に感光
材料の網点%をX−Riteで測定した。測定値が90
%となるレーザーパワーで理論値50%となる網点を露
光した。露光された感光材料を熱現像処理し、網点%を
X−Riteで測定した。処理後の網点%を表1にリニ
アリティとして示した。50%に近いほど良い。
(Uneven Development) FT-29 manufactured by NEC Corporation
590m with 90% flat screen at 6R (light source wavelength 780nm)
mx 410mm size, and developing temperature 120
C. and a development time of 25 seconds, and the unevenness of the screen was evaluated in 10 steps. 1: Unevenness is conspicuous on the entire surface, and it is unpractical level 5: Unevenness can be visually confirmed in a part, but practically the lower limit level 8: Unevenness is not noticeable at a glance and no practically problematic level 10: No non-uniformity level ( (Linearity) Under thermal development processing conditions of 120 ° C. and 25 seconds, exposure was performed by changing the laser power at a theoretical value of 90% of the halftone output of FT-296R, and after thermal development processing, the halftone dot percentage of the photosensitive material was X-Rite. Was measured. Measured value is 90
The halftone dot having a theoretical value of 50% was exposed at a laser power of%. The exposed photosensitive material was subjected to a heat development treatment, and the dot percentage was measured by X-Rite. The dot percentage after the treatment is shown in Table 1 as linearity. The closer to 50%, the better.

【0197】[0197]

【表1】 [Table 1]

【0198】実施例2 (ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの純水にベヘン
酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ステアリン酸
5.6gを90℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら
1.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液98mlを
添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55℃
に冷却して30分攪拌してベヘン酸Na溶液を得た。
Example 2 (Preparation of Na Behenate Solution) In 945 ml of pure water, 32.4 g of behenic acid, 9.9 g of arachidic acid and 5.6 g of stearic acid were dissolved at 90 ° C. Next, 98 ml of a 1.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution was added while stirring at a high speed. Next, after adding 0.93 ml of concentrated nitric acid,
And stirred for 30 minutes to obtain a sodium behenate solution.

【0199】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレ
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に、前記
ハロゲン化銀乳剤Aを総銀塩に対し銀に換算して5.2
モル%になる量を添加し、水酸化ナトリウム溶液でpH
8.1に調整した後に、1mol/Lの硝酸銀溶液14
7mlを7分間かけて加え、さらに20分攪拌し限外濾
過により水溶性塩類を除去した。ベヘン酸銀は平均粒子
サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であった。分散
物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6回の水洗
と水の除去を行った後乾燥させた。
(Preparation of Preform Emulsion of Silver Behenate and Silver Halide Emulsion A) In the above-mentioned sodium behenate solution, the silver halide emulsion A was converted to silver with respect to the total silver salt in 5.2.
Mol%, and the pH is adjusted with sodium hydroxide solution.
After adjusting to 8.1, a 1 mol / L silver nitrate solution 14
7 ml was added over 7 minutes, the mixture was further stirred for 20 minutes, and water-soluble salts were removed by ultrafiltration. Silver behenate was grains having an average grain size of 0.8 μm and a monodispersity of 8%. After the floc of the dispersion was formed, the water was removed, washed with water six times and water was removed, and dried.

【0200】(感光性乳剤の調製)上記プレフォーム乳
剤を分割し、それにポリビニルブチラール(平均分子量
3000)のメチルエチルケトン溶液(17質量%)5
44gとトルエン107gを徐々に添加して混合した後
に、0.5mmのZrO2のビーズミルを用いたメディ
ア分散機で27MPaで30℃、10分間の分散を行っ
た。
(Preparation of Photosensitive Emulsion) The above preform emulsion was divided, and a solution of polyvinyl butyral (average molecular weight: 3000) in methyl ethyl ketone (17% by mass) was prepared.
After 44 g and 107 g of toluene were gradually added and mixed, dispersion was performed at 30 ° C. for 10 minutes at 27 MPa with a media disperser using a 0.5 mm ZrO 2 bead mill.

【0201】前記の支持体上にそれぞれ以下の各層を両
面同時塗布し、試料を作製した。尚、乾燥は60℃、1
5分間で行った。
The following layers were simultaneously coated on both sides of the support to prepare samples. In addition, drying was performed at 60 ° C. and 1
Performed in 5 minutes.

【0202】(バック面側塗布)支持体のB−1層の上
に、以下の組成の液を塗布した。
(Coating on Back Side) A liquid having the following composition was coated on the B-1 layer of the support.

【0203】 セルロースアセテートブチレート 15ml/m2 (10%メチルエチルケトン溶液) 染料−A 40mg/m2 マット剤:単分散度15%、平均粒子サイズ8μmの単分散シリカ 90mg/m2817(CH2CH2O)12817 50mg/m2919−C64−SO3Na 10mg/m2 なお試料No.1〜4には、染料−Aは添加していな
い。
Cellulose acetate butyrate 15 ml / m 2 (10% methyl ethyl ketone solution) Dye-A 40 mg / m 2 Matting agent: monodispersity 15%, monodisperse silica 90 mg / m 2 C 8 F 17 (average particle size 8 μm) CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 50 mg / m 2 C 9 F 19 —C 6 H 4 —SO 3 Na 10 mg / m 2 No dye-A was added to 1-4.

【0204】[0204]

【化59】 Embedded image

【0205】(感光層面側塗布)支持体のA−1層の上
に、以下の組成の液を塗布銀量が1.5g/m2になる
様に塗布した。
(Coating on Photosensitive Layer Side) A solution having the following composition was coated on the A-1 layer of the support so that the coated silver amount was 1.5 g / m 2 .

【0206】 前記感光性乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液)9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml 硬調化剤 表2に示すように乳剤層と乳剤保護層に分配し、合わせて 50mg/m2 フタラジン 表2に示すように乳剤層と乳剤保護層に分配し、合わせて 80mg/m2 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g 還元剤 表2に示すように乳剤層と乳剤保護層に分配し、合わせて 1.0g/m2 イソシアネート化合物 0.5g (モーベイ社製、Desmodur N3300)The photosensitive emulsion 240 g Sensitizing dye (0.1% methanol solution) 1.7 ml Pyridinium bromide perbromide (6% methanol solution) 3 ml Calcium bromide (0.1% methanol solution) 1.7 ml Oxidizing agent (10% methanol solution) 1.2 ml 2-4-chlorobenzoylbenzoic acid (12% methanol solution) 9.2 ml 2-mercaptobenzimidazole (1% methanol solution) 11 ml tribromomethylsulfoquinoline (5% methanol solution) 17 ml Hardening agent Partitioned between emulsion layer and emulsion protective layer as shown in Table 2, 50 mg / m 2 phthalazine as shown in Table 2 Partitioned between emulsion layer and emulsion protective layer as shown in Table 2, and combined with 80 mg / m 2 4- Methylphthalic acid 0.25 g Tetrachlorophthalic acid 0.2 g Calcium carbonate with average particle size of 3 μm 0.1 g Reducing agent As shown in Table 2, the emulsion was distributed between the emulsion layer and the emulsion protective layer, and the total amount was 1.0 g / m 2 isocyanate compound 0.5 g (Desmodur N3300 manufactured by Mobay Corporation).

【0207】[0207]

【化60】 Embedded image

【0208】(表面保護層塗布)以下の組成の液を、感
光層の上になるよう同時塗布した。
(Coating of Surface Protective Layer) A solution having the following composition was simultaneously coated on the photosensitive layer.

【0209】 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 硬調化剤 表2に示すように乳剤層と乳剤保護層に分配し、合わせて 50mg/m2 還元剤 表2に示すように乳剤層と乳剤保護層に分配し、合わせて 1.0g/m2 フタラジン 表2に示すように乳剤層と乳剤保護層に分配し、合わせて 80mg/m2 マット剤:単分散度10%、平均粒子サイズ4μmの単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤C1225(CH2CH2O)101225 10mg/m2817−C64−SO3Na 10mg/m2 塗膜形成した後の試料を用い、バインダーを除去した後
に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定したところ、
有機銀塩粒子は長軸径0.5±0.05μm、短軸径
0.4±0.05μm、厚み0.01μmの平板状粒子
が全有機銀塩粒子の90%である単分散度5%の粒子で
あった。
[0209] partitioned emulsion layer and the emulsion protective layer as shown in acetone 5 ml / m 2 methyl ethyl ketone 21 ml / m 2 Cellulose acetate butyrate 2.3 g / m 2 methanol 7 ml / m 2 high contrast agent Table 2, together 50mg / M 2 reducing agent Partitioned into emulsion layer and emulsion protective layer as shown in Table 2, combined 1.0 g / m 2 phthalazine Partitioned into emulsion layer and emulsion protective layer as shown in Table 2, combined 80 mg / m 2 m 2 matting agent: monodispersity 10%, monodisperse silica having an average particle size of 4 μm 5 mg / m 2 CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 35 mg / m 2 Fluorine-based surface activity Agent C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 10 mg / m 2 C 8 F 17 —C 6 H 4 —SO 3 Na 10 mg / m 2 Removed To, was measured in electron microscopy in the replica method,
The organic silver salt particles have a monodispersity of 0.5 ± 0.05 μm in major axis, 0.4 ± 0.05 μm in minor axis, and 0.01 μm in thickness, and 90% of all organic silver salt particles. % Particles.

【0210】[0210]

【表2】 [Table 2]

【0211】また、保護層と同じ内容のものを乳剤層の
下に塗布し、支持体側から下層/乳剤層/保護層という
構成にし、下層にも還元剤、硬調化剤、フタラジン化合
物を分配もしくは全量添加しても同様の効果が得られ
た。
The same content as that of the protective layer is coated under the emulsion layer to form a lower layer / emulsion layer / protective layer from the support side, and a reducing agent, a high contrast agent, and a phthalazine compound are also distributed or provided in the lower layer. The same effect was obtained even when the entire amount was added.

【0212】[0212]

【発明の効果】本発明により、処理時間及び処理温度に
よる感度変動が小さく、更に、現像ムラやリニアリティ
が改良された熱現像感光材料を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material in which the sensitivity fluctuation due to the processing time and the processing temperature is small, and the development unevenness and the linearity are improved.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化
銀、還元剤及び硬調化剤を含有する熱現像感光材料にお
いて、平均粒径が0.15〜0.80μmの還元剤、硬
調化剤及びフタラジン化合物が粒子状に分散されてお
り、かつ溶媒の60質量%以上が水である塗布液を用い
て画像形成層が塗布されることを特徴とする熱現像感光
材料。
1. A photothermographic material comprising an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a high contrast agent on a support, a reducing agent having an average particle size of 0.15 to 0.80 μm. A photothermographic material, characterized in that the image forming layer is coated with a coating solution in which the agent and the phthalazine compound are dispersed in a particle form, and the solvent is water at 60% by mass or more.
【請求項2】 支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化
銀、還元剤及び硬調化剤を含有する熱現像感光材料にお
いて、還元剤、硬調化剤及びフタラジン化合物を含有
し、かつ該化合物の少なくとも2種以上が、ハロゲン化
銀乳剤層への添加量(m)とハロゲン化銀乳剤層以外の
層への添加量(p)の合計値(m+p)に対するハロゲ
ン化銀乳剤層以外の層への添加量(p)の比p/(m+
p)が0.1〜1.0であることを特徴とする熱現像感
光材料。
2. A photothermographic material comprising an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a contrast agent on a support, wherein the photothermographic material comprises a reducing agent, a contrast agent and a phthalazine compound. At least two kinds of the layers other than the silver halide emulsion layer with respect to the total value (m + p) of the addition amount (m) to the silver halide emulsion layer and the addition amount (p) to the layer other than the silver halide emulsion layer Ratio p / (m +)
p) is from 0.1 to 1.0.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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