JP3281623B2 - Development method of heat-developable image recording material and heat-developable image recording material - Google Patents

Development method of heat-developable image recording material and heat-developable image recording material

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JP3281623B2
JP3281623B2 JP2000047083A JP2000047083A JP3281623B2 JP 3281623 B2 JP3281623 B2 JP 3281623B2 JP 2000047083 A JP2000047083 A JP 2000047083A JP 2000047083 A JP2000047083 A JP 2000047083A JP 3281623 B2 JP3281623 B2 JP 3281623B2
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  • Photographic Developing Apparatuses (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像画像記録材
料およびその現像処理方法に関し、特に写真製版用に用
いられ、さらに詳しくは、高コントラストの写真性を有
し、熱現像処理適性に優れた熱現像画像記録材料および
その現像処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-developable image recording material and a method of developing the same, and more particularly, to a photolithographic process, and more particularly, to high-contrast photographic properties and excellent heat development suitability. And a developing method for the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】写真感光材料の露光方法の一つに、原図
を走査し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感
光材料上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像
もしくはポジ画像を形成するいわゆるスキャナー方式に
よる画像形成方法が知られている。さらにスキャナーか
らフィルムに出力した後、返し工程を経ずに直接刷版に
焼き付けるケースやソフトなビームプロファイルを有す
るスキャナー光源に対しては超硬調な特性を有するスキ
ャナー感光材料が求められている。
2. Description of the Related Art One of the methods for exposing a photographic light-sensitive material is to scan an original drawing and to expose the silver halide photographic light-sensitive material on the basis of an image signal thereof, thereby obtaining a negative image or a positive image corresponding to the image of the original drawing. An image forming method based on a so-called scanner method for forming an image is known. Further, there is a demand for a scanner photosensitive material having a super-high contrast characteristic for a case of printing directly on a printing plate without going through a turning process after being output from a scanner to a film or a scanner light source having a soft beam profile.

【0003】支持体上に感光性層を有し、画像露光する
ことで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易に
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。
There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technology for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means.

【0004】近年写真製版分野において環境保全、省ス
ペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。
そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イメー
ジセッターにより効率的に露光させることができ、高解
像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成するこ
とができる写真製版用途の感光性熱現像材料に関する技
術が必要とされている。これら感光性熱現像材料では、
溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことができる。
In recent years, in the field of photoengraving, it has been strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving.
Therefore, there is a need for a technology relating to a photothermographic material for photoengraving, which can be efficiently exposed by a laser scanner or a laser imagesetter and can form a clear black image having high resolution and sharpness. It has been. In these photosensitive heat developing materials,
By eliminating the use of solution processing chemicals, it is possible to provide customers with a simpler and more environmentally friendly thermal development processing system.

【0005】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号明細書、同3,45
7,075号明細書、およびD.クロスタボーア(Klos
terboer)による「熱によって処理される銀システム(T
hermally Processed SilverSystems)」(イメージング
・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(ImagingPro
cesses and Materials)Neblette 第8版、J.スター
ジ(Sturge)、V.ウォールワース(Walworth)、A.
シェップ(Shepp)編集、第9章、第279項、198
9年に記載されている。このような感光材料は、還元可
能な非感光性の銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の
光触媒(例えばハロゲン化銀)、および銀の還元剤を通
常有機バインダーマトリックス中に分散した状態で含有
している。感光材料は常温で安定であるが、露光後高温
(例えば80℃以上)に加熱した場合に、還元可能な銀
源(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元
反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光で
発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域
中の還元可能な銀塩の反応によって生成した銀は黒色画
像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形
成がなされる。
A method of forming an image by thermal development is described in, for example, US Pat. Nos. 3,152,904 and 3,45.
7,075, and D.C. Crosta Bohr (Klos
terboer) "Heat treated silver system (T
hermally Processed SilverSystems) "(ImagingPros and Materials)
cesses and Materials) Neblette 8th edition, J.M. Sturge, V.S. Walworth, A .;
Edited by Shepp, Chapter 9, Section 279, 198
It is listed in 9 years. Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at normal temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate. This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.

【0006】従来からこのタイプの熱現像感光材料は知
られているが、これらの感光材料の多くはトルエン、メ
チルエチルケトン(MEK)、メタノールなどの有機溶
剤を溶媒とする塗布液を塗布することにより感光性層を
形成している。有機溶媒を溶媒として用いることは、製
造工程での人体への悪影響だけでなく溶剤の回収その他
のためコスト上も不利である。
Conventionally, photothermographic materials of this type have been known, but most of these materials are exposed to light by applying a coating solution using an organic solvent such as toluene, methyl ethyl ketone (MEK) or methanol as a solvent. The active layer is formed. The use of an organic solvent as a solvent is disadvantageous not only in adverse effects on the human body in the manufacturing process but also in cost due to recovery of the solvent and the like.

【0007】そこで、このような心配のない水溶媒の塗
布液を用いて感光性層(以降「水系感光性層」ともい
う。)を形成する方法が考えられている。例えば特開昭
49−52626号公報、特開昭53−116144号
公報などにはゼラチンをバインダーとする例が記載され
ている。また特開昭50−151138号公報にはポリ
ビニルアルコールをバインダーとする例が記載されてい
る。
Therefore, a method of forming a photosensitive layer (hereinafter also referred to as "aqueous photosensitive layer") using a coating solution of an aqueous solvent which does not have such a concern has been considered. For example, JP-A-49-52626 and JP-A-53-116144 disclose examples using gelatin as a binder. JP-A-50-151138 discloses an example using polyvinyl alcohol as a binder.

【0008】さらに特開昭60−61747号公報には
ゼラチンとポリビニルアルコールを併用した例が、国際
公開WO97/04355号公報には画像形成層に水溶
性または水分散性バインダーを用い、保護層にゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体などの水
溶性バインダーを用いた例が、それぞれ記載されてい
る。これ以外の例として特開昭58−28737号公報
には水溶性ポリビニルアセタールをバインダーとする感
光性層の例が記載されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-61747 discloses an example in which gelatin and polyvinyl alcohol are used in combination. In WO 97/04355, a water-soluble or water-dispersible binder is used for an image forming layer and a protective layer is used for a protective layer. Examples using a water-soluble binder such as gelatin, polyvinyl alcohol, and a cellulose derivative are described. As another example, JP-A-58-28737 describes an example of a photosensitive layer using water-soluble polyvinyl acetal as a binder.

【0009】確かにこのようなバインダーを用いると水
溶媒の塗布液を用いて感光性層を形成することができて
環境面、コスト面のメリットは大きい。しかしながら、
ゼラチン、ポリビニルアルコール、水溶性ポリアセター
ルなどのポリマーをバインダーとして用いると、熱現像
時にバインダーの脱水収縮と熱膨張が同時に起こり、支
持体の熱膨張挙動と異なるために、フィルムにシワが発
生し、重ね合わせて使用するカラー印刷には不適切なフ
ィルムしか得られない。
Certainly, when such a binder is used, the photosensitive layer can be formed using a coating solution of an aqueous solvent, and the advantages in terms of environment and cost are great. However,
When a polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, or water-soluble polyacetal is used as a binder, dehydration shrinkage and thermal expansion of the binder occur simultaneously during thermal development, which differs from the thermal expansion behavior of the support. Only unsuitable films are obtained for color printing to be used together.

【0010】一方、熱現像記録材料を熱現像するための
装置および方法は一般的には公知であり、例えばスベン
ドソン(Svendsen)の米国特許第3629549号明細
書、ブレウィッツ(Brewitz)の米国特許第36480
19号明細書、クレイツ等(Kreitz et al.)の米国特
許第3709472号明細書、スベンドソン(Svendse
n)の米国特許第4518845号明細書に開示されて
いる。スベンドソンの米国特許第3629549号明細
書および同4518845号明細書は、両方とも、加熱
部材内に同心円状に取り付けられた熱的に絶縁されたド
ラムを有する現像装置を開示している。
On the other hand, devices and methods for thermally developing heat-developable recording materials are generally known, for example, Svendsen US Pat. No. 3,629,549 and Brewitz US Pat. No. 36480.
No. 19, U.S. Pat. No. 3,709,472 to Kreitz et al., Svendse.
n) U.S. Pat. No. 4,518,845. Sbendson U.S. Pat. Nos. 3,629,549 and 4,518,845 both disclose a developing device having a thermally insulated drum concentrically mounted within a heating member.

【0011】現像すべきフィルムのシートは、ドラムと
係合し加熱部材の周囲で駆動される。しかし、このタイ
プの熱現像装置は比較的軟らかい熱可塑性のポリマーバ
インダーを最外層に有するフィルムを使用するのに適し
ていない。すなわち、乳剤を支持する側の面は、絶縁ド
ラムか加熱部材と接触するのでフィルムの最外層は引っ
掻き傷跡や接着跡が残ってしまう。
A sheet of film to be developed engages the drum and is driven around a heating member. However, this type of heat developing apparatus is not suitable for using a film having a relatively soft thermoplastic polymer binder in the outermost layer. That is, since the surface on the side supporting the emulsion is in contact with the insulating drum or the heating member, the outermost layer of the film is left with scratch marks and adhesion marks.

【0012】また別のタイプの熱現像装置には、現像中
にフィルムを保持するように静電的に帯電させる加熱ド
ラムを備えたものがある。このような装置では、乳剤を
支持する側のフィルムの最外層がドラムまたはほかの構
成部材と接しないので、上述したような引っ掻き傷跡が
付くことはない。しかしながら、熱現像中にフィルムを
ドラム上に保持するのに使用される静電装置は、比較的
複雑で、かつサイズが大きいフィルムを熱現像するのに
適するような形状ではない。
Another type of thermal developing device includes a heating drum that electrostatically charges the film during development so as to hold the film. In such an apparatus, the outermost layer of the film supporting the emulsion does not come into contact with the drum or other components, so that the above-mentioned scratch marks are not formed. However, the electrostatic devices used to hold the film on the drum during thermal development are not of a shape that is relatively complex and suitable for thermally developing large films.

【0013】また、最近、国際公開WO97−1318
1号明細書に開示された熱現像機は加熱ドラムの上に小
径のローラーを密に配置しドラムと小径ローラーで挟み
込み、加熱搬送するものである。この方法は、比較的良
く考えられており、フィルムのシワや引っ掻き傷跡が残
ることはないが、ガラス転移温度の低いポリマーのラテ
ックスをバインダーに用いた保護層やバック層を有する
熱現像画像記録材料を現像処理するときには、ドラム表
面の接着や、小径ローラーとの接着に起因する光沢ムラ
が発生したり、ごくまれにはフィルムの熱膨張に原因す
る現像濃度ムラが発生したりする不都合が生じてしま
う。
[0013] Recently, International Publication WO97-1318 has been proposed.
In the heat developing machine disclosed in the specification of JP-A No. 1 (1993), a small-diameter roller is densely arranged on a heating drum, sandwiched between the drum and the small-diameter roller, and heated and transported. This method is considered relatively well and does not leave wrinkles or scratch marks on the film, but a heat-developable image recording material having a protective layer and a back layer using a latex of a polymer having a low glass transition temperature as a binder. When developing, the unevenness of the gloss caused by the adhesion to the drum surface and the adhesion to the small-diameter roller occurs, and in rare cases, the unevenness of the development density caused by the thermal expansion of the film occurs. I will.

【0014】そこで、環境面、コスト面で優れた水系感
光材料で、塗布面質がよく、現像時に濃度ムラが発生す
ることなく、特に熱現像処理での搬送不良(ジャミン
グ)を起こさない熱現像処理方法として、熱現像画像記
録材料の画像形成層側の表面をローラーに接触させてロ
ーラーを駆動し、かつバック面の表面を平滑面に接触さ
せて滑らせ、熱現像画像記録材料を搬送する装置で、熱
現像処理温度における画像形成層側の表面とローラー表
面との摩擦係数のバック面の表面と平滑面との摩擦係数
に対する比が1.5以上となる熱現像画像記録材料を用
いて熱現像処理する方法を提案した(特願平10−34
6561号明細書)。しかし、予備加熱部および熱現像
処理部を有する場合、バック面の表面と平滑面との摩擦
係数が大きい場合は、たとえ、前記画像形成層側の表面
とバック面表面との摩擦係数比を1.5以上にしても、
擦り傷や濃度むらが発生する問題があり、その改良が強
く望まれていた。
Therefore, a water-based photosensitive material which is excellent in environmental and cost aspects, has a good coating surface quality, does not cause density unevenness during development, and is particularly suitable for thermal development which does not cause conveyance failure (jamming) in thermal development processing. As a processing method, the roller is driven by bringing the surface on the image forming layer side of the heat-developable image recording material into contact with the roller, and the surface of the back surface is brought into contact with the smooth surface and slipped, and the heat-developable image recording material is conveyed. The apparatus uses a heat-developable image recording material in which the ratio of the coefficient of friction between the surface on the image forming layer side and the roller surface to the coefficient of friction between the back surface and the smooth surface at the heat development processing temperature is 1.5 or more. A method of heat development was proposed (Japanese Patent Application No. 10-34).
6561). However, in the case of having a preheating section and a heat development processing section, when the friction coefficient between the surface of the back surface and the smooth surface is large, even if the friction coefficient ratio between the surface on the image forming layer side and the surface of the back surface is 1 .5 or more,
There is a problem that scratches and uneven density occur, and improvement thereof has been strongly desired.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、写真製版用、特にスキャナーイメージセッ
ター用として、処理ムラのない画像が得られ、搬送性が
良好で擦り傷の発生がない安定な熱現像処理適性を有す
る熱現像画像記録材料およびその現像処理方法を提供す
ることである。
The object of the present invention is to provide an image free from unevenness in processing for photoengraving, in particular, for a scanner imagesetter, having good transportability and stable generation of no abrasions. An object of the present invention is to provide a heat-developable image recording material having a suitable heat-development processability and a method for developing the same.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために鋭意検討を重ねた結果、予備加熱部と熱現
像処理部との線速度比率を調節することにより所期の効
果が得られることを見出し、本発明を提供するに至っ
た。
The inventor of the present invention has conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems. As a result, the desired effect can be obtained by adjusting the linear velocity ratio between the preheating section and the heat development processing section. The inventors have found that the present invention can be obtained, and have provided the present invention.

【0017】すなわち本発明は、支持体上に少なくとも
1層の画像形成層と該画像形成層上に設けられた少なく
とも1層の保護層とを有する熱現像画像記録材料を、予
備加熱部と熱現像処理部とを有する熱現像処理装置によ
り処理する現像処理方法において;前記熱現像画像記録
材料を、予備加熱部で対向ローラーにより搬送し、熱現
像処理部で前記画像形成層を有する側の表面を駆動ロー
ラーに接触させ、かつ前記画像形成層を有する側と反対
側の表面(バック面)を平滑面に接触させつつ滑らせな
がら搬送して現像処理するに際し、予備加熱部の線速度
(RA)と熱現像処理部の線速度(RB)の比率(RA
B:以下線速比率ともいう)が95.0%〜99.9
%であることを特徴とする熱現像画像記録材料の現像処
理方法を提供する。なお、本明細書において、「〜」は
その前後に記載される数値をそれぞれ最小値および最大
値として含む範囲である。
That is, the present invention relates to a heat-developable image recording material having at least one image-forming layer on a support and at least one protective layer provided on the image-forming layer, comprising a pre-heating unit A development processing method of processing with a thermal development processing apparatus having a development processing section; the heat-developable image recording material is conveyed by a counter roller in a preheating section, and a surface on the side having the image forming layer in the thermal development processing section. Is brought into contact with a driving roller, and while the surface opposite to the side having the image forming layer (back surface) is brought into contact with a smooth surface while being slid and transported for development processing, the linear velocity (R the ratio of a) and the linear velocity of the heat development section (R B) (R a /
R B: hereinafter also referred to as a linear speed ratio) is 95.0% to 99.9
% Of a heat-developable image recording material. In the present specification, “to” is a range including numerical values described before and after it as a minimum value and a maximum value, respectively.

【0018】本発明の方法では、10〜40mm/se
cの線速度で現像処理することが好ましい。また、熱現
像画像記録材料の画像形成層を有する側の表面と接触す
る熱現像処理装置のローラーの少なくとも表面は、ゴム
硬度50度以下のゴム、特にシリコーンゴムで形成され
ていることが好ましい。また、熱現像処理装置の前記平
滑面は、芳香族ポリアミド製不織布またはテフロン
TM ポリテトラフルオロエチレン:PTFE)製不織布
で形成されていることが好ましい。さらに、熱現像画像
記録材料の搬送時にて画像形成層と反対側の表面(バッ
ク面)と接触する側の平滑面表面と、この平滑面表面に
接触または対向し、かつ熱現像画像記録材料の搬送時に
て画像形成層側の表面と接触する駆動ローラーの表面と
のクリアランスが0〜2mmである熱現像処理部を有す
る熱現像処理装置により処理することが好ましい。
In the method of the present invention, 10 to 40 mm / sec
It is preferable to carry out development processing at a linear velocity of c. Further, it is preferable that at least the surface of the roller of the heat development processing device that comes into contact with the surface of the heat development image recording material having the image forming layer is formed of rubber having a rubber hardness of 50 degrees or less, particularly silicone rubber. In addition, the smooth surface of the thermal development processing apparatus is made of an aromatic polyamide nonwoven fabric or Teflon.
It is preferably formed of a nonwoven fabric made of TM ( polytetrafluoroethylene: PTFE). Further, a smooth surface on the side that comes into contact with the surface (back surface) opposite to the image forming layer when the heat-developable image recording material is transported, and a surface of the heat-developable image recording material that contacts or faces the smooth surface. Processing is preferably performed by a heat development processing apparatus having a heat development processing unit having a clearance of 0 to 2 mm from the surface of the drive roller that comes into contact with the surface on the image forming layer side during transport.

【0019】本発明の現像処理方法によって処理する熱
現像画像記録材料は、熱現像処理の温度における画像形
成層を有する側の表面と熱現像処理部のローラー表面と
の摩擦係数(μe)と、画像形成層を有する側と反対側
の表面(バック面)と熱現像処理部の平滑面表面との摩
擦係数(μb)との比(μe/μb)が1.5以上であ
る熱現像画像記録材料であることが好ましい。また、本
発明の現像処理方法によって処理する熱現像画像記録材
料は、熱現像処理の温度における画像形成層を有する側
と反対側の表面(バック面)と熱現像処理部の平滑面表
面との摩擦係数が1.0以下である熱現像画像記録材料
であることが好ましく、また、画像形成層および保護層
のバインダーとしてポリマーラテックスを用いる熱現像
画像記録材料であることが好ましい。さらに、本発明の
現像処理方法によって処理する熱現像画像記録材料は、
画像形成層を有する側と反対側に、25℃相対湿度20
%の条件下で表面比抵抗が1×1012Ω以下の少なくと
も1層の導電性層を有する熱現像画像記録材料であるこ
とが好ましく、また、画像形成層を有する側と反対側に
バック層を有し、このバック層のバインダーとしてポリ
マーラテックスを用いる熱現像画像記録材料であること
が好ましい。本発明は、本発明の現像処理方法によって
処理するための上記の熱現像画像記録材料そのものも提
供する。
The heat-developable image recording material to be processed by the development processing method of the present invention has a coefficient of friction (μe) between the surface having the image forming layer and the roller surface of the heat-development processing part at the temperature of the heat development processing. Thermal development image recording wherein the ratio (μe / μb) of the friction coefficient (μb) between the surface (back surface) opposite to the side having the image forming layer and the smooth surface of the thermal development processing section is 1.5 or more. Preferably, it is a material. Further, the heat-developable image recording material to be processed by the developing method of the present invention has a surface (back surface) opposite to the side having the image forming layer at the temperature of the heat developing process and a smooth surface of the heat-developed portion. A heat-developable image recording material having a coefficient of friction of 1.0 or less is preferable, and a heat-developable image recording material using a polymer latex as a binder for the image forming layer and the protective layer is preferable. Further, the heat-developable image recording material to be processed by the developing method of the present invention,
On the side opposite to the side having the image forming layer, a relative humidity of 20
% Is preferably a heat-developable image recording material having at least one conductive layer having a surface specific resistance of 1 × 10 12 Ω or less, and a back layer on the side opposite to the side having the image forming layer. And a heat-developable image recording material using a polymer latex as a binder for the back layer. The present invention also provides the heat-developable image recording material itself for processing by the development processing method of the present invention.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下において、本発明を詳細に説
明する。本発明の熱現像画像記録材料の現像処理方法
は、支持体上に少なくとも1層の画像形成層と該画像形
成層上に設けられた少なくとも1層の保護層とを有する
熱現像画像記録材料を、予備加熱部と熱現像処理部とを
有する熱現像処理装置により処理する現像処理方法であ
る。本発明では、熱現像処理装置において、予備加熱部
では対向ローラーにより、また熱現像処理部では熱現像
画像記録材料の画像形成層側の表面をローラに接触させ
てローラーを駆動し、かつバック面の表面を平滑面に接
触させて滑らせ、熱現像画像記録材料を搬送する。この
際、予備加熱部と熱現像処理部との線速比率が95.0
%〜99.9%となる条件で現像処理することによっ
て、擦り傷、濃度ムラの発生がなくなり、安定な熱現像
処理適性を達成することができる。線速比率は96%〜
99.5%となる条件で現像処理することがより好まし
い。線速比率が95.0%未満であると擦り傷の発生や
ジャミングの発生などが起き搬送性が悪くなり、かつ濃
度ムラが発生しやすくなり好ましくない。また、99.
9%を超えると搬送性が悪くなり好ましくない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The method for developing a heat-developable image-recording material of the present invention comprises a method of developing a heat-developable image-recording material having at least one image forming layer on a support and at least one protective layer provided on the image forming layer. And a development processing method of performing processing using a thermal development processing apparatus having a preheating unit and a thermal development processing unit. In the present invention, in the heat development processing device, the roller is driven by bringing the surface on the image forming layer side of the heat-developable image recording material into contact with the roller in the pre-heating unit and in the heat development processing unit, and the back surface. Is brought into contact with a smooth surface and slid to transport the heat-developable image recording material. At this time, the linear velocity ratio between the preheating section and the heat development processing section was 95.0.
By performing the development processing under the conditions of% to 99.9%, scratches and density unevenness are eliminated, and stable thermal development suitability can be achieved. Line speed ratio is 96% ~
More preferably, the developing treatment is performed under the condition of 99.5%. If the linear velocity ratio is less than 95.0%, abrasion, jamming, and the like occur, causing poor transportability and unevenness in density. 99.
If it exceeds 9%, the transportability deteriorates, which is not preferable.

【0021】本発明で用いる熱現像処理装置(熱現像
機)は、予備加熱部は対向ローラーで搬送し、熱現像処
理部は熱現像画像記録材料の画像形成層を有する側をロ
ーラーの駆動により、その反対側のバック面を平滑面に
滑らせて搬送する熱現像機であれば、特にその種類は制
限されない。加熱手段としては、予備加熱部は、対向ロ
ーラーの両方あるいは一方にヒートローラー、予備加熱
部上部および/または下部に板状ヒーターなどを用いる
ことができ、熱現像処理部は、前記画像形成層を有する
側の駆動ローラーにヒートローラー、熱現像処理部上部
および/または下部に板状ヒーターなどを用いることが
できる。
In the heat development processing apparatus (heat development machine) used in the present invention, the preheating section is conveyed by an opposing roller, and the heat development processing section is driven by the roller on the side having the image forming layer of the heat development image recording material. The type of the heat developing machine is not particularly limited as long as it is a heat developing machine that conveys the paper by sliding the opposite back surface to a smooth surface. As the heating means, the pre-heating unit may use a heat roller for both or one of the opposed rollers, and a plate heater or the like for the upper and / or lower parts of the pre-heating unit. A heat roller can be used as the drive roller on the side having the heat development, and a plate heater or the like can be used on the upper and / or lower part of the heat development processing section.

【0022】好ましい現像温度は、80〜250℃であ
り、さらに好ましくは100〜140℃である。現像時
間としては1〜180秒が好ましく、さらに好ましくは
10〜90秒である。熱現像画像記録材料の加熱による
現像処理時の寸法変化による処理ムラを防止する方法と
して、80℃〜115℃未満(好ましくは113℃以
下)の温度で画像が出ないようにして5秒以上予備加熱
した後、110℃以上(好ましくは130℃以下)で熱
現像処理して画像形成させる方法(いわゆる多段階加熱
方法)が有効である。温度のコントロール精度は、それ
ぞれの部位において、±3℃以内であることが好まし
く、より好ましくは±1℃以内、さらに好ましくは±
0.5℃以内である。
The preferred development temperature is from 80 to 250 ° C, more preferably from 100 to 140 ° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, and more preferably from 10 to 90 seconds. As a method of preventing processing unevenness due to dimensional change during development processing due to heating of the heat-developable image-recording material, the image is not produced at a temperature of 80 ° C. to less than 115 ° C. (preferably 113 ° C. or less) for 5 seconds or more. After heating, a method of forming an image by performing heat development at 110 ° C. or higher (preferably 130 ° C. or lower) (a so-called multi-stage heating method) is effective. Temperature control accuracy is preferably within ± 3 ° C., more preferably ± 1 ° C., and even more preferably ± 1 ° C. at each site.
It is within 0.5 ° C.

【0023】熱現像処理装置での挿入から排出までの平
均線速度は好ましくは10〜50mm/secであり、
より好ましくは15〜30mm/secである。特に、
予備加熱部および熱現像処理部の線速度は10〜40m
m/secであることが好ましい。
The average linear velocity from insertion to discharge in the thermal development processor is preferably 10 to 50 mm / sec.
More preferably, it is 15 to 30 mm / sec. In particular,
The linear velocity of the preheating section and the heat development processing section is 10 to 40 m
m / sec.

【0024】予備加熱部および/または熱現像処理部の
画像形成層を有する側のローラーの少なくとも表面は、
ゴム硬度(JIS K 6301 スプリング式硬さ試
験機)が50度以下であることが好ましく、より好まし
くは20度〜45度であり、さらに好ましくは、その厚
みが0.5mm以上、好ましくは1mm〜10mmのゴ
ムで被覆されたローラーが用いられる。またゴム材質
は、シリコーンゴムが好ましく用いられる。
At least the surface of the roller on the side having the image forming layer of the preheating section and / or the heat development processing section has
The rubber hardness (JIS K6301 spring hardness tester) is preferably 50 degrees or less, more preferably 20 degrees to 45 degrees, and still more preferably 0.5 mm or more, and preferably 1 mm or more. A roller coated with 10 mm rubber is used. As the rubber material, silicone rubber is preferably used.

【0025】熱現像処理装置の熱現像処理部の平滑面表
面と、この平滑面と接触または対向する駆動ローラーの
表面とのクリアランスは、0〜2mmであることが好ま
しく、より好ましくは0.0mm〜1.0mmである。
このクリアランスが0mm未満となると熱現像画像記録
材料の搬送不良が起こりやすくなり、2mmをこえると
熱現像処理部の温度コントロール精度が悪化する傾向が
ある。ここで、平滑面表面は熱現像画像記録材料の搬送
時にて熱現像画像記録材料のバック面が接触する側の面
であり、熱現像画像記録材料の搬送時と非搬送時にて平
滑面表面の状態に変化が起きるような材料で平滑面表面
が形成されているときは、そのような材料を含めた表面
である。例えば、不織布を表層部に貼り付けた平滑面に
おいては不織布の毛先が平滑面表面となる。このことは
駆動ローラーの表面についても同様である。
The clearance between the smooth surface of the heat-developing portion of the heat-developing device and the surface of the drive roller in contact with or facing the smooth surface is preferably 0 to 2 mm, more preferably 0.0 mm. 1.01.0 mm.
If the clearance is less than 0 mm, poor conveyance of the heat-developable image recording material tends to occur, and if it exceeds 2 mm, the temperature control accuracy of the heat-development processing unit tends to deteriorate. Here, the smooth surface surface is a surface on the side where the back surface of the heat-developable image recording material comes into contact when the heat-developable image recording material is conveyed. When the surface of the smooth surface is formed of a material whose state changes, the surface includes such a material. For example, on the smooth surface where the nonwoven fabric is stuck to the surface layer, the tip of the nonwoven fabric becomes the smooth surface surface. The same applies to the surface of the drive roller.

【0026】また、徐冷部(図1中C)の第1のローラ
ー対のニップ力は、熱現像画像記録材料を搬送する力と
して、5〜50g/cmであることが好ましく、より好
ましくは15〜30g/cmである。
The nip force of the first roller pair of the slow cooling section (C in FIG. 1) is preferably 5 to 50 g / cm, more preferably, a force for conveying the heat-developable image recording material. 15 to 30 g / cm.

【0027】本発明の熱現像画像記録材料の熱現像処理
に用いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。図1は
熱現像機の側面図を示したものである。図1の熱現像機
は熱現像画像記録材料10を平面状に矯正および予備加
熱しながら加熱部に搬入する搬入ローラー対11(下部
ローラーがヒートローラー)と熱現像後の熱現像画像記
録材料10を平面状に矯正しながら加熱部から搬出する
搬出ローラー対12を有する。熱現像画像記録材料10
は搬入ローラー対11から搬出ローラー対12へと搬送
される間に熱現像される。この熱現像中の熱現像感光材
料10を搬送する搬送手段は画像形成層を有する面が接
触する側に複数のローラー13が設置され、その反対側
のバック面が接触する側には不織布等が貼り合わされた
平滑面14が設置される。熱現像画像記録材料10は画
像形成層を有する面に接触する複数のローラー13の駆
動により、バック面は平滑面14の上を滑って搬送され
る。加熱手段はローラー13の上部および平滑面14の
下部に熱現像画像記録材料10の両面から加熱されるよ
うに加熱ヒーター15が設置される。この場合の加熱手
段としては板状ヒーター等が挙げられる。ローラー13
と平滑面14とのクリアランスは平滑面の部材により異
なるが、熱現像画像記録材料10が搬送できるクリアラ
ンスに適宜調整される。クリアランスは、上記のように
好ましくは0〜2mmであり、より好ましくは0.0〜
1.0mmである。
FIG. 1 shows an example of the configuration of a heat developing machine used in the heat developing process of the heat-developable image recording material of the present invention. FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. The heat developing machine shown in FIG. 1 carries a pair of carry-in rollers 11 (the lower roller is a heat roller) for carrying the heat-developable image recording material 10 into a heating section while correcting and preheating the heat-developable image recording material 10 in a planar shape, and the heat-developable image recording material 10 And a carry-out roller pair 12 that carries out the heat from the heating unit while correcting the surface to a flat shape. Thermally developed image recording material 10
Is developed while being transported from the carry-in roller pair 11 to the carry-out roller pair 12. The conveying means for conveying the photothermographic material 10 during the heat development is provided with a plurality of rollers 13 on the side where the surface having the image forming layer contacts, and the nonwoven fabric or the like on the side where the opposite back surface contacts. The bonded smooth surface 14 is provided. The back surface of the heat-developable image recording material 10 is conveyed by driving a plurality of rollers 13 which come into contact with the surface having the image forming layer, on the smooth surface 14. As the heating means, a heater 15 is provided at an upper portion of the roller 13 and a lower portion of the smooth surface 14 so as to be heated from both sides of the thermally developed image recording material 10. As a heating means in this case, a plate heater or the like can be used. Roller 13
Although the clearance between the heat-developable image recording material 10 and the smooth surface 14 varies depending on the member of the smooth surface, the clearance is appropriately adjusted. The clearance is preferably 0 to 2 mm as described above, more preferably 0.0 to 2 mm.
1.0 mm.

【0028】ローラー13の表面の材質および平滑面1
4の部材は、高温耐久性があり、熱現像画像記録材料1
0の搬送に支障がなければ何でも良いが、ローラー表面
の材質はシリコーンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリア
ミドまたはテフロン TM ポリテトラフルオロエチレン:
PTFE)製の不織布が好ましい。加熱手段としては複
数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度を自由に設定す
ることが好ましい。
Surface Material of Roller 13 and Smooth Surface 1
The member No. 4 is durable at high temperature and is a heat-developable image recording material 1
The roller surface material is silicone rubber, and the smooth surface member is aromatic polyamide or Teflon ( polytetrafluoroethylene:
PTFE) is preferred. It is preferable to use a plurality of heaters as the heating means and to set the heating temperature freely.

【0029】なお、加熱部は、搬入ローラー対11を有
する予備加熱部Aと加熱ヒーター15を備えた熱現像処
理部Bとで構成されるが、熱現像処理部Bの上流の予備
加熱部Aは、熱現像温度よりも低く(例えば10〜50
℃程度低く)、熱現像感光材料10の支持体のガラス転
移温度(Tg)よりも高い温度で、現像ムラが出ないよ
うに設定することが好ましい。
The heating section is composed of a preheating section A having a carry-in roller pair 11 and a heat development processing section B having a heater 15. The preheating section A upstream of the heat development processing section B is provided. Is lower than the heat development temperature (for example, 10 to 50).
It is preferable that the temperature is set to be higher than the glass transition temperature (Tg) of the support of the photothermographic material 10 so that development unevenness does not occur.

【0030】また、熱現像処理部Bの下流にはガイド板
16が設置され、搬出ローラー対12とガイド板16と
を有する徐冷部Cが設置される。ガイド板16は熱伝導
率の低い素材が好ましく、冷却は徐々に行うのが好まし
い。冷却速度としては、0.5〜10℃/secが好ま
しい。
A guide plate 16 is provided downstream of the thermal development processing section B, and a slow cooling section C having a pair of unloading rollers 12 and the guide plate 16 is provided. The guide plate 16 is preferably made of a material having low thermal conductivity, and is preferably cooled gradually. The cooling rate is preferably from 0.5 to 10C / sec.

【0031】搬出ローラー対12のニップ力は、熱現像
画像記録材料を搬送する力として、上記のように5〜5
0g/cmであることが好ましく、さらには15〜30
g/cmが好ましい。
The nip force of the discharge roller pair 12 is 5 to 5 as described above as a force for transporting the heat-developable image recording material.
0 g / cm, preferably 15 to 30 g / cm.
g / cm is preferred.

【0032】本発明において、熱現像画像記録材料を熱
現像処理するとき、110℃以上の高温にさらされるた
め、熱現像画像記録材料中に含まれている成分の一部、
あるいは熱現像による分解成分の一部が揮発してくる。
これらの揮発成分は現像ムラの原因になったり、熱現像
機の構成部材を腐食させたり、温度の低い場所で析出し
異物として画面の変形を引き起こしたり、画面に付着し
て汚れとなる種々の悪い影響があることが知られてい
る。これらの影響を除くために、熱現像機にフィルター
を設置し、また熱現像機内の空気の流れを最適に調整す
ることが知られている。。
In the present invention, when the heat-developable image-recording material is subjected to heat-development, it is exposed to a high temperature of 110 ° C. or more, so that a part of the components contained in the heat-developable image-recording material,
Alternatively, some of the components decomposed by thermal development volatilize.
These volatile components may cause uneven development, corrode the components of the heat developing machine, precipitate at low temperatures, cause deformation of the screen as foreign matter, and adhere to the screen and become dirty. It is known to have a bad effect. In order to eliminate these effects, it is known to install a filter in the heat developing machine and optimally adjust the flow of air in the heat developing machine. .

【0033】例えば、国際公開WO95/30933号
公報、同97/21150号公報、特表平10−500
496号公報には、結合吸収粒子を有し揮発分を導入す
る第一の開口部と排出する第二の開口部とを有するフィ
ルターカートリッジを、フィルムと接触して加熱する加
熱装置に用いることが記載されている。国際公開WO9
6/12213号公報、特表平10−507403号公
報には、熱伝導性の凝縮捕集器とガス吸収性微粒子フィ
ルターを組合わせたフィルターが記載されている。
For example, International Publication Nos. WO95 / 30933 and 97/21150, Japanese Translation of PCT International Publication No. 10-500
No. 496 discloses that a filter cartridge having a binding opening and a first opening for introducing volatile components and a second opening for discharging is used as a heating device for heating in contact with a film. Has been described. International Publication WO9
JP-A-6 / 12213 and JP-T-Hei 10-507403 describe a filter in which a heat-conductive condensation collector and a gas-absorbing particulate filter are combined.

【0034】また、米国特許4518845号明細書、
特公平3−54331号公報には、フィルムからの蒸気
を除去する装置とフィルムを伝熱部材へ押圧する加圧装
置と伝熱部材を加熱する装置とを有する構成が記載され
ている。国際公開WO98/27458号公報には、フ
ィルムから揮発するカブリを増加させる成分をフィルム
表面から取り除くことが記載されている。これらは適宜
有効に組合わせて本発明の現像処理方法に利用すること
ができる。
Also, US Pat. No. 4,518,845,
Japanese Patent Publication No. 3-54331 describes a configuration having a device for removing vapor from a film, a pressure device for pressing the film against a heat transfer member, and a device for heating the heat transfer member. International Publication WO98 / 27458 describes removing a component that increases fog volatilizing from a film from the film surface. These can be appropriately and effectively combined and used in the developing method of the present invention.

【0035】本発明の現像処理方法を実施する前に、熱
現像画像記録材料は露光しておく必要がある。熱現像画
像記録材料はいかなる方法で露光されても良いが、露光
光源としてレーザー光を用いることが好ましい。本発明
で用いるレーザー光としては、ガスレーザー、YAGレ
ーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好まし
い。また、半導体レーザーと第2高調波発生素子などを
用いることもできる。
Before carrying out the developing method of the present invention, the heat-developable image recording material must be exposed. The heat-developable image recording material may be exposed by any method, but it is preferable to use laser light as an exposure light source. As the laser light used in the present invention, a gas laser, a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser, or the like is preferable. Further, a semiconductor laser and a second harmonic generation element can be used.

【0036】熱現像画像記録材料の中には、露光時のヘ
イズが低く、干渉縞が発生しやすいものもある。この干
渉縞発生防止技術としては、特開平5−113548号
公報などに開示されているレーザー光を熱現像画像記録
材料に対して斜めに入光させる技術や、国際公開WO9
5/31754号公報などに開示されているマルチモー
ドレーザーを利用する方法が知られており、これらの技
術を用いることが好ましい。
Some heat-developable image recording materials have low haze upon exposure and easily cause interference fringes. Examples of the technology for preventing the occurrence of interference fringes include a technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-113548, in which a laser beam is obliquely incident on a heat-developable image recording material, and a technology disclosed in International Publication WO9.
A method using a multi-mode laser disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5/31754 is known, and it is preferable to use these techniques.

【0037】熱現像画像記録材料を露光するにはSPIE v
ol.169 Laser Printing 116−128頁(197
9)、特開平4−51043号公報、国際公開WO95
/31754号公報などに開示されているようにレーザ
ー光が重なるように露光し、走査線が見えないようにす
ることが好ましい。
To expose a heat-developable image recording material, use SPIE v
ol.169 Laser Printing 116-128 (197
9), JP-A-4-51043, International Publication WO95
It is preferable that the exposure is performed so that the laser beams overlap each other, as disclosed in US Pat.

【0038】本発明の現像処理方法を適用する熱現像画
像記録材料は、支持体上に少なくとも1層の画像形成層
と該画像形成層上に設けられた少なくとも1層の保護層
とを有する熱現像画像記録材料である。本発明で処理す
る熱現像画像記録材料は、支持体上に、有機銀塩を含
み、好ましくはさらに還元剤および感光性ハロゲン化銀
を含む画像形成層を有し、画像形成層上には少なくとも
1層の保護層が設けられていることが好ましい。また、
本発明で処理する熱現像画像記録材料は支持体に対して
画像形成層と反対側(バック面)に少なくとも1層のバ
ック層を有することが好ましく、画像形成層、保護層、
そしてバック層のバインダーとして好ましくはポリマー
ラテックスが用いられる。これらの層にポリマーラテッ
クスを用いることによって、水を主成分とする溶媒(分
散媒)を用いた水系塗布が可能になり、環境面、コスト
面で有利になるとともに、熱現像時にシワの発生がない
熱現像画像記録材料が得られる。また、所定の熱処理を
した支持体を使用することにより、熱現像の前後で寸法
変化の少ない熱現像画像記録材料が得られる。
The heat-developable image recording material to which the development processing method of the present invention is applied is a heat-developable image recording material having at least one image forming layer on a support and at least one protective layer provided on the image forming layer. It is a developed image recording material. The heat-developable image recording material to be processed in the present invention contains an organic silver salt on a support, and preferably further has an image forming layer containing a reducing agent and photosensitive silver halide, and at least an image forming layer is formed on the image forming layer. Preferably, one protective layer is provided. Also,
The heat-developable image recording material to be processed in the present invention preferably has at least one back layer on the side opposite to the image forming layer (back surface) with respect to the support.
A polymer latex is preferably used as a binder for the back layer. By using a polymer latex for these layers, aqueous coating using a solvent (dispersion medium) containing water as a main component becomes possible, which is advantageous in terms of environment and cost, and causes wrinkles during thermal development. No heat-developable image recording material is obtained. Further, by using a support which has been subjected to a predetermined heat treatment, a heat-developable image recording material having a small dimensional change before and after heat development can be obtained.

【0039】バインダーとして用いるポリマーラテック
スは、水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶
性の分散媒中に分散したものである。分散状態としては
ポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合さ
れたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分
子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状
分散したものなどいずれでもよい。なおポリマーラテッ
クスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣
寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラ
テックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原
啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成
ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1
970))」などに記載されている。分散粒子の平均粒
径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000
nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関し
ては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分
散の粒径分布を持つものでもよい。
The polymer latex used as the binder is obtained by dispersing a water-insoluble hydrophobic polymer as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used. For polymer latex, see "Synthetic Resin Emulsion (edited by Tadashi Okuda and Hiroshi Inagaki, published by Polymer Publishing Association (1978))" and "Application of Synthetic Latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki, Keiji Kasahara, published by Polymer Publishing) Publishing society (1993)), "Synthesis of synthetic latex (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Association (1
970))). The average particle size of the dispersed particles is 1 to 50000 nm, more preferably 5 to 1000 nm.
A range of about nm is preferable. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and those having a wide particle size distribution or those having a monodispersed particle size distribution may be used.

【0040】ポリマーラテックスとしては通常の均一構
造のポリマーラテックス以外の、いわゆるコア/シェル
型のラテックスでもよい。この場合コアとシェルはガラ
ス転移温度を変えると好ましい場合がある。
As the polymer latex, a so-called core / shell type latex other than a polymer latex having a normal uniform structure may be used. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell.

【0041】バインダーとして用いるポリマーラテック
スのポリマーのガラス転移温度(Tg)は保護層、バッ
ク層と画像形成層とでは好ましい温度範囲が異なる。保
護層、バック層(特に最表面層)は種々の機器と接触す
るために膜強度、接着故障防止の観点から、25℃以
上、特に25℃〜100℃のガラス転移温度が好まし
く、画像形成層は熱現像時に写真有用素材の拡散を促
し、高Dmax、低カブリなど良好な写真性を得るため
に−30℃〜40℃のガラス転移温度が好ましく、特に
好ましくはガラス転移温度が0℃〜40℃である。ま
た、画像形成層に用いるポリマーラテックスのポリマー
のゲル分率は、同様の理由で30質量%〜90質量%で
あることが好ましい。この場合のゲル分率は、ポリマー
ラテックスを用いて乾燥温度70℃で造膜した膜サンプ
ルを25℃のテトラヒドロフラン(THF)に24時間
浸漬し、不溶解物を定量し、下記式に従って求めたもの
である。
As for the glass transition temperature (Tg) of the polymer of the polymer latex used as the binder, the preferable temperature range differs between the protective layer, the back layer and the image forming layer. Since the protective layer and the back layer (especially the outermost layer) are in contact with various devices, the glass transition temperature is preferably 25 ° C. or more, particularly 25 ° C. to 100 ° C., from the viewpoint of film strength and prevention of adhesion failure. Has a glass transition temperature of -30 ° C to 40 ° C, and particularly preferably a glass transition temperature of 0 ° C to 40 ° C, in order to promote diffusion of a photographically useful material during thermal development and to obtain good photographic properties such as high Dmax and low fog. ° C. Further, the gel fraction of the polymer of the polymer latex used in the image forming layer is preferably 30% by mass to 90% by mass for the same reason. The gel fraction in this case was obtained by immersing a membrane sample formed at 70 ° C. in dry temperature in tetrahydrofuran (THF) at 25 ° C. for 24 hours using a polymer latex, quantifying insolubles, and calculating according to the following formula. It is.

【0042】ゲル分率(質量%)=[不溶解物の質量
(g)/ポリマーラテックスを用いた膜の質量(g)]
×100
Gel fraction (mass%) = [mass (g) of insoluble matter / mass (g) of membrane using polymer latex]
× 100

【0043】本発明で用いるポリマーラテックスの最低
造膜温度(MFT)は−30℃〜90℃、より好ましく
は0℃〜70℃程度が好ましい。最低造膜温度をコント
ロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤
は一時可塑剤ともよばれポリマーラテックスの最低造膜
温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)で、例え
ば前述の「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子
刊行会発行(1970))」に記載されている。
The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex used in the present invention is preferably from -30 ° C to 90 ° C, more preferably from about 0 ° C to 70 ° C. A film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. The film forming aid is an organic compound (usually an organic solvent) which is also called a temporary plasticizer and lowers the minimum film forming temperature of the polymer latex. For example, the above-mentioned "Synthetic Latex Chemistry (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Association (1970) ))"It is described in.

【0044】ポリマーラテックスに用いられるポリマー
種としては、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、また
はこれらの共重合体などがある。ポリマーとしては直鎖
のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、また架橋さ
れたポリマーでも良い。またポリマーとしては単一のモ
ノマーが重合したいわゆるホモポリマーでも良いし、二
種以上のモノマーが重合したコポリマーでも良い。コポ
リマーの場合はランダムコポリマーでもブロックコポリ
マーでも良い。ポリマーの分子量は質量平均分子量で5
000〜1000000、好ましくは10000〜10
0000程度が好ましい。分子量が小さすぎるものはバ
インダーとしての力学強度が不十分であり、大きすぎる
ものは造膜性が悪く好ましくない。
Examples of the polymer used in the polymer latex include acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, and copolymers thereof. . The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is 5 by weight average molecular weight.
000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 10
About 0000 is preferable. If the molecular weight is too small, the mechanical strength as a binder is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.

【0045】熱現像画像記録材料のバインダーとして用
いられるポリマーラテックスの具体例としては、メチル
メタクリレート/エチルメタクリレート/メタクリル酸
コポリマー、メチルメタクリレート/2−エチルヘキシ
ルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/ス
チレン/アクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート
/ブチルアクリレートコポリマー、スチレン/ブタジエ
ン/アクリル酸コポリマー、スチレン/ブタジエン/ジ
ビニルベンゼン/メタクリル酸コポリマー、メチルメタ
クリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマー、塩化
ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロニトリル/
メタクリル酸コポリマーなどを挙げることができる。ま
たこのようなポリマーは市販もされていて、以下のよう
なポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂の例とし
て、セビアンA−4635,46583、4601(以
上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx81
1、814、821、820、857、857x2(以
上日本ゼオン(株)製)、VONCORT R334
0、R3360、R3370、4280、2830、2
210(以上大日本インキ化学(株)製)、ジュリマー
ET−410、530、SEK101−SEK301、
FC30、FC35(以上日本純薬(株)製)、ポリゾ
ールF410、AM200、AP50(以上昭和高分子
(株)製)など、ポリエステル樹脂としては、FINE
TEX ES650、611、675、850(以上大
日本インキ化学(株)製)、WD−size、WMS
(以上イーストマンケミカル製)など、ポリウレタン樹
脂としてはHYDRAN AP10、20、30、4
0、VONDIC 1320NS(以上大日本インキ化
学(株)製)など、ゴム系樹脂としてはLACSTAR
7310K、3307B、4700H、7132C、
LQ−618−1(以上大日本インキ化学(株)製)、
Nipol Lx416、410、430、435、2
507(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビニル樹
脂としてはNipol G351、G576(以上日本
ゼオン(株)製)など、塩化ビニリデン樹脂としてはL
502、L513(以上旭化成工業(株)製)、アロン
D7020、D5040、D5071(以上東亜合成
(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパールS
120、SA100(以上三井石油化学(株)製)など
を挙げることができる。これらポリマーは単独で用いて
もよいし、必要に応じて二種以上ブレンドして用いても
良い。
Specific examples of the polymer latex used as a binder for the heat-developable image recording material include methyl methacrylate / ethyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / styrene / acrylic acid copolymer, methyl Methacrylate / butyl acrylate copolymer, styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile /
Methacrylic acid copolymer and the like can be mentioned. Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as an example of an acrylic resin, Sebian A-4635, 46583, 4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx81
1,814,821,820,857,857x2 (all made by Nippon Zeon Co., Ltd.), VONCORT R334
0, R3360, R3370, 4280, 2830, 2
210 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Julimar ET-410, 530, SEK101-SEK301,
Examples of polyester resins such as FC30 and FC35 (all manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.), Polysol F410, AM200, and AP50 (all manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.) include FINE.
TEX ES650, 611, 675, 850 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), WD-size, WMS
(Manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) such as HYDRAN AP10, 20, 30, 4
0, VONDIC 1320NS (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and other rubber-based resins such as LACSTAR
7310K, 3307B, 4700H, 7132C,
LQ-618-1 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.),
Nipol Lx416, 410, 430, 435, 2
507 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), vinyl chloride resins such as Nipol G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and vinylidene chloride resin: L
Chemipearl S as an olefin resin such as 502, L513 (all manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Aron D7020, D5040, D5071 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
120, SA100 (all manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.) and the like. These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.

【0046】これらポリマーラテックスのうち保護層用
のバインダーとしてはアクリル系、スチレン系、アクリ
ル/スチレン系、塩化ビニル系、塩化ビニリデン系のポ
リマーラテックスが好ましく用いられ、具体的にはアク
リル樹脂系のVONCORTR3370、4280、N
ipol Lx857、メチルメタクリレート/2−エ
チルヘキシルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリ
レート/スチレン/アクリル酸コポリマー、メチルメタ
クリレート/ブチルアクリレートコポリマー、塩化ビニ
ル樹脂のNipol G576、塩化ビニリデン樹脂の
アロンD5071が好ましく用いられる。さらに好まし
くは、特願平11−6872号明細書に記載の有機概念
図に基づく無機性値を有機性値で割ったI/O値の異な
るポリマーラテックスを組み合わせて用いることができ
る。
Among these polymer latexes, acrylic-based, styrene-based, acryl / styrene-based, vinyl chloride-based, and vinylidene chloride-based polymer latexes are preferably used as the binder for the protective layer. Specifically, acrylic resin-based VONCOTRTR3370 , 4280, N
IPOL Lx857, methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / styrene / acrylic acid copolymer, methyl methacrylate / butyl acrylate copolymer, Nipol G576 of vinyl chloride resin, and Alon D5071 of vinylidene chloride resin are preferably used. More preferably, polymer latexes having different I / O values obtained by dividing the inorganic value by the organic value based on the organic conceptual diagram described in Japanese Patent Application No. 11-6872 can be used.

【0047】また画像形成層用のバインダーとしてはス
チレン/ブタジエン系のポリマーラテックスが好ましく
用いられ、具体的にはゴム系樹脂のLACSTAR33
07B、Nipol Lx430、435が好ましく用
いられる。
As a binder for the image forming layer, a styrene / butadiene polymer latex is preferably used. Specifically, a rubber-based resin, LACSTAR33
07B, Nipol Lx430, 435 are preferably used.

【0048】バック層用のバインダーとしては、アクリ
ル系、オレフィン系、塩化ビニリデン系のポリマーラテ
ックスが用いられ、具体的にはアクリル樹脂系のジュリ
マーET−410、セビアンA−4635、ポリゾール
F410など、オレフィン樹脂系のケミパールS12
0、塩化ビニリデン系のL502、アロンD7020な
どが好ましい。
As the binder for the back layer, an acrylic, olefin or vinylidene chloride-based polymer latex is used. Specifically, an olefin such as an acrylic resin-based Julimer ET-410, Sebian A-4635, or Polysol F410 is used. Resin-based Chemipearl S12
0, vinylidene chloride-based L502, Alon D7020 and the like are preferable.

【0049】バインダーには、必要に応じて全バインダ
ーの20質量%以下の範囲でポリビニルアルコール、メ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これ
ら親水性ポリマーの添加量は保護層、画像形成層の全バ
インダーの10質量%以下が好ましい。
If necessary, a hydrophilic polymer such as polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose and hydroxypropylmethylcellulose may be added to the binder in an amount of 20% by mass or less of the whole binder. The amount of these hydrophilic polymers to be added is preferably 10% by mass or less of the total binder in the protective layer and the image forming layer.

【0050】熱現像画像記録材料の写真構成層は水系の
塗布液を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただ
し、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の
60質量%以上が水であることをいう。塗布液の水以外
の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセ
ルソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、ジアセ
トンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジルアル
コール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、オ
キシエチルフェニルエーテルなどの水混和性の有機溶媒
を用いることができる。
The photographic constituent layer of the heat-developable image recording material is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying. However, the term "aqueous" as used herein means that 60% by mass or more of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid is water. As components other than water of the coating solution, methyl alcohol, ethyl alcohol,
Water-miscible organic solvents such as isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, ethyl acetate, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, benzyl alcohol, diethylene glycol monoethyl ether, and oxyethyl phenyl ether can be used. .

【0051】保護層用の全バインダー量は0.2〜1
0.0g/m2、より好ましくは0.5〜6.0g/m2
の範囲が好ましい。画像形成層用の全バインダー量は
0.2〜30g/m2、より好ましくは1.0〜15g
/m2の範囲が好ましい。バック層用の全バインダー量
は0.01〜10.0g/m2、より好ましくは0.0
5〜5.0g/m2の範囲が好ましい。それぞれの層に
は特開2000−19678号公報記載の架橋のための
架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加して
もよい。
The total amount of the binder for the protective layer is 0.2 to 1
0.0 g / m 2 , more preferably 0.5 to 6.0 g / m 2
Is preferable. The total amount of the binder for the image forming layer is 0.2 to 30 g / m 2 , more preferably 1.0 to 15 g.
/ M 2 is preferred. The total amount of the binder for the back layer is 0.01 to 10.0 g / m 2 , more preferably 0.0
A range of 5 to 5.0 g / m 2 is preferred. To each layer, a crosslinking agent for crosslinking described in JP-A-2000-19678, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added.

【0052】これらの各層は、2層以上設けられる場合
がある。画像形成層が2層以上である場合は、すべての
層のバインダーとしてポリマーラテックスを用いること
が好ましい。また、保護層は画像形成層上に設けられる
層であり2層以上存在する場合もあるが、少なくとも1
層、特に最外層の保護層にポリマーラテックスが用いら
れることが好ましい。また、バック層は支持体のバック
面の下塗り層の上部に設けられる層であり2層以上存在
する場合もあるが、少なくとも1層、特に最外層のバッ
ク層にポリマーラテックスを用いることが好ましい。
Each of these layers may be provided in two or more layers. When there are two or more image forming layers, it is preferable to use a polymer latex as a binder for all the layers. Further, the protective layer is a layer provided on the image forming layer and may be present in two or more layers.
Preferably, a polymer latex is used for the layer, especially the outermost protective layer. The back layer is a layer provided on the undercoat layer on the back surface of the support, and there may be two or more layers. However, it is preferable to use a polymer latex for at least one layer, particularly the outermost back layer.

【0053】本発明において、現像処理温度における熱
現像画像記録材料の画像形成層を有する側の最表面層の
表面と熱現像処理機のローラー表面との摩擦係数(μ
e)とバック面最表面層の表面と熱現像機の平滑面表面
との摩擦係数(μb)との比は、熱現像機のローラーま
たは平滑面の部材とそれぞれ接触する熱現像画像記録材
料の面との熱現像処理温度で一定速度、一定荷重での動
摩擦係数を測定し、下記の式によって求められる。摩擦
係数の比=熱現像機のローラー部材と画像形成層を有す
る面との動摩擦係数(μe)/熱現像機の平滑面部材と
バック面との動摩擦係数(μb)
In the present invention, the coefficient of friction (μ) between the surface of the outermost layer on the side having the image forming layer of the heat-developable image recording material and the roller surface of the heat-development processor at the development processing temperature.
e) and the ratio of the coefficient of friction (μb) between the surface of the back surface outermost layer and the smooth surface of the heat developing machine is determined by the ratio of the heat-developable image-recording material in contact with the roller or the smooth surface member of the heat developing machine The coefficient of kinetic friction at a constant speed and a constant load is measured at the temperature of the heat development processing with the surface, and is determined by the following equation. Ratio of friction coefficient = dynamic friction coefficient (μe) between the roller member of the heat developing machine and the surface having the image forming layer / dynamic friction coefficient (μb) between the smooth surface member and the back surface of the heat developing machine

【0054】この値は1.5以上であり、その上限に特
に制限はないが、30程度である。また、μbは1.0
以下、好ましくは0.8〜0.05である。なお、熱現
像処理温度(予備加熱での加熱温度は除く)は通常一定
であるが、温度を変化させる場合の上記の熱現像処理温
度は80℃〜150℃、好ましくは100℃〜130℃
の範囲とされるが、この場合の摩擦係数の比は最高温度
におけるμe、μbから算出する。
This value is 1.5 or more, and there is no particular upper limit, but it is about 30. Μb is 1.0
Hereinafter, it is preferably 0.8 to 0.05. The temperature of the heat development (excluding the heating temperature in the preheating) is usually constant, but the temperature of the heat development when changing the temperature is 80 ° C to 150 ° C, preferably 100 ° C to 130 ° C.
In this case, the friction coefficient ratio is calculated from μe and μb at the highest temperature.

【0055】本発明において熱現像処理温度での熱現像
処理機部材と画像形成層を有する面および/またはその
反対面の最表面層の滑り性は、最表面層に滑り剤を含有
させ、その添加量を変えて調整することができる。本発
明における滑り剤とは、特に制限はなく物体表面に存在
させた時に、存在させない場合に比べて物体表面の摩擦
係数を減少させる化合物であればいずれでもよい。
In the present invention, the slipperiness of the outermost surface layer on the surface having the heat development processing machine member and the image forming layer and / or the opposite surface at the heat development processing temperature is determined by adding a slip agent to the outermost surface layer. It can be adjusted by changing the amount of addition. The slip agent in the present invention is not particularly limited, and any compound may be used as long as the compound reduces the friction coefficient of the object surface when it is present on the object surface, as compared with the case where it is not present.

【0056】本発明に用いられる滑り剤の代表的なもの
としては例えば米国特許第3,042,522号明細
書、英国特許第955,061号明細書、米国特許第
3,080,317号明細書、同第4,004,927
号明細書、同第4,047,958号明細書、同第3,
489,567号明細書、英国特許第1,143,11
8号明細書等に記載のシリコーン系滑り剤、米国特許第
2,454,043号明細書、同第2,732,305
号明細書、同第2,976,148号明細書、同第3,
206,311号明細書、独国特許第1,284,29
5号明細書、同第1,284,294号明細書等に記載
の高級脂肪酸系、アルコール系、酸アミド系滑り剤、英
国特許第1,263,722号明細書、米国特許第3,
933,516号明細書等に記載の金属石けん、米国特
許第2,588,765号明細書、同第3,121,0
60号明細書、英国特許第1,198,387号明細書
等に記載のエステル系、エーテル系滑り剤、米国特許第
3,502,473号明細書、同第3,042,222
号明細書に記載のタウリン系滑り剤等がある。
Representative examples of the slip agent used in the present invention include, for example, US Pat. No. 3,042,522, British Patent No. 955,061 and US Pat. No. 3,080,317. No. 4,004,927
No. 4,047,958 and No. 3,
No. 489,567, British Patent 1,143,11
No. 8,454,043, and US Pat. No. 2,732,305.
No. 2,976,148, and No. 3,
No. 206,311, German Patent 1,284,29
No. 5, No. 1,284,294, etc., higher fatty acid type, alcohol type, acid amide type slip agents, British Patent No. 1,263,722, US Pat.
No. 933,516, metal soaps described in U.S. Pat. Nos. 2,588,765 and 3,121,0.
No. 60, UK Patent No. 1,198,387, etc., ester type and ether type slip agents, US Pat. Nos. 3,502,473 and 3,042,222.
And the like.

【0057】好ましく用いられる滑り剤の具体例として
は、セロゾール524(主成分カルナバワックス)、ポ
リロンA,393,H−481(主成分ポリエチレンワ
ックス)、ハイミクロンG−110(主成分エチレンビ
スステアリン酸アマイド)、ハイミクロンG−270
(主成分ステアリン酸アマイド)(以上、中京油脂
(株)製)などがある。さらに、下記式(W)で表され
る化合物が好ましく用いられる。
Specific examples of the slip agent preferably used include Cellsol 524 (main component carnauba wax), Polylon A, 393, H-481 (main component polyethylene wax), and Himicron G-110 (main component ethylene bisstearic acid). Amide), High Micron G-270
(Main component stearic acid amide) (all manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.). Further, a compound represented by the following formula (W) is preferably used.

【0058】[0058]

【化1】 Embedded image

【0059】式(W)中、Rは炭素数10以上の脂肪族
基を表す。Mは、カチオンを表す。Rは、好ましくは炭
素数10〜30の置換もしくは無置換の、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基で
ある。
In the formula (W), R represents an aliphatic group having 10 or more carbon atoms. M represents a cation. R is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group having 10 to 30 carbon atoms.

【0060】Rの代表的な置換基としては例えばハロゲ
ン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃
素原子)、アリール基、複素環(ヘテロ環)基、4級化
された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ
基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモ
イル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル
基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカ
ルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレン
オキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含
む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、
アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキ
シ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スル
ホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール、ま
たはヘテロ環)アミノ基、N−置換の含窒素ヘテロ環
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、
チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリ
ールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミ
ノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒド
ラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ
基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド
基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ
基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、
またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)
スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニ
ル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシ
ルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基また
はその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を
含む基、等が挙げられる。これら置換基は、これら置換
基でさらに置換されていてもよい。Rが有していてもよ
い置換基として好ましいものは、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基が挙げられる。Mは1価のカ
チオンであり、Li+、Na+、K+等のアルカリ金属カ
チオンなどが好ましい。
Representative substituents for R include, for example, halogen atom (fluorine atom, chloro atom, bromine atom or iodine atom), aryl group, heterocycle (heterocycle) group and quaternized nitrogen atom. A heterocyclic group (eg, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfonylcarbamoyl group, an acylcarbamoyl group, a sulfamoylcarbamoyl group, a carbazoyl group, an oxalyl group, An oxamoyl group, a cyano group, a thiocarbamoyl group, a hydroxy group, an alkoxy group (including a group containing a repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group unit), an aryloxy group, a heterocyclic oxy group,
Acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or heterocycle) amino group, N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfone Amide group, ureide group,
Thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyluureide Group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl,
Or heterocycle) thio group, (alkyl or aryl)
A sulfonyl group, an (alkyl or aryl) sulfinyl group, a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a group having a phosphoric amide or a phosphoric ester structure, and the like. Can be These substituents may be further substituted with these substituents. Preferred substituents that R may have include a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, a cyano group, and a nitro group. M is a monovalent cation, and is preferably an alkali metal cation such as Li + , Na + , and K + .

【0061】以下に式(W)で示される化合物の具体例
を以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定さ
れるものではない。
Specific examples of the compound represented by the formula (W) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0062】[0062]

【化2】 Embedded image

【0063】本発明に用いられる式(W)の化合物は、
水もしくは適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタ
ノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ルソルブなどに溶解して用いることができる。
The compound of the formula (W) used in the present invention is
It can be used by dissolving it in water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve and the like.

【0064】式(W)の化合物は1種のみ用いても2種
以上を併用してもよい。その添加層は、最外層であれば
特に制限はないが、特にバック面の最外層であることが
好ましい。また、その添加量は、記録材料1m2当たり
の塗布量(両面合計)で示して、0.005〜1.0g
/m2であることが好ましい。また、式(W)の化合物
を含有する層は全バインダーの75質量%以上が、水分
散性ポリマーラテックスから形成されたものであること
が好ましい。ポリマーラテックスとしては前述のものを
用いることができる。
The compounds of the formula (W) may be used alone or in combination of two or more. The addition layer is not particularly limited as long as it is the outermost layer, but is preferably the outermost layer on the back surface. The amount of addition is represented by the coating amount per m 2 of the recording material (total on both sides), and is 0.005 to 1.0 g.
/ M 2 . Further, in the layer containing the compound of the formula (W), it is preferable that 75% by mass or more of the total binder is formed from a water-dispersible polymer latex. As the polymer latex, those described above can be used.

【0065】滑り剤の使用量は添加層のバインダー量の
0.1〜50質量%であり、好ましくは0.5〜30質
量%である。
The amount of the slip agent used is 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass of the binder amount of the added layer.

【0066】熱現像画像記録材料の支持体の両面には塩
化ビニリデン共重合体を含む下塗り層を設けることが好
ましい。このときの塩化ビニリデン共重合体は塩化ビニ
リデン単量体の繰り返し単位(以下「塩化ビニリデン単
量体」ともいう。)を70質量%以上含むものである。
塩化ビニリデン単量体が70質量%未満の場合は、十分
な防湿性が得られず、熱現像後の時間経過における寸法
変化が大きくなってしまう傾向がある。また、塩化ビニ
リデン共重合体は、塩化ビニリデン単量体のほかの構成
繰り返し単位としてカルボキシル基含有ビニル単量体の
繰り返し単位(以下「カルボキシル基含有ビニル単量
体」ともいう。)を含むことが好ましい。このような構
成繰り返し単位を含ませるのは、塩化ビニル単量体のみ
では、重合体(ポリマー)が結晶化してしまい、防湿層
を塗設する際に均一な膜を作り難くなり、また重合体
(ポリマー)の安定化のためにはカルボキシル基含有ビ
ニル単量体が不可欠であるからである。
It is preferable to provide an undercoat layer containing a vinylidene chloride copolymer on both sides of the support of the heat-developable image recording material. At this time, the vinylidene chloride copolymer contains 70% by mass or more of a repeating unit of a vinylidene chloride monomer (hereinafter, also referred to as “vinylidene chloride monomer”).
When the amount of the vinylidene chloride monomer is less than 70% by mass, sufficient moisture-proof properties cannot be obtained, and the dimensional change over time after thermal development tends to increase. Further, the vinylidene chloride copolymer may contain a repeating unit of a carboxyl group-containing vinyl monomer (hereinafter, also referred to as “carboxyl group-containing vinyl monomer”) as another constituent repeating unit of the vinylidene chloride monomer. preferable. Including such a constitutional repeating unit is that a polymer (polymer) is crystallized only with a vinyl chloride monomer, and it is difficult to form a uniform film when a moisture-proof layer is applied. This is because a carboxyl group-containing vinyl monomer is indispensable for stabilizing the (polymer).

【0067】塩化ビニリデン共重合体は、70〜99.
9質量%、より好ましくは85〜99質量%の塩化ビニ
リデン単量体と0.1〜5質量%、より好ましくは0.
2〜3質量%のカルボキシル基含有ビニル単量体を含有
する共重合体である。塩化ビニリデン共重合体に用いら
れるカルボキシル基含有ビニル単量体とは分子内に1つ
以上のカルボキシル基を有するビニル単量体で、具体例
としてアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、シトラ
コン酸などを挙げることができる。
The vinylidene chloride copolymer has a viscosity of 70-99.
9% by weight, more preferably 85-99% by weight of vinylidene chloride monomer and 0.1-5% by weight, more preferably 0.1-5% by weight.
It is a copolymer containing 2 to 3% by mass of a carboxyl group-containing vinyl monomer. The carboxyl group-containing vinyl monomer used in the vinylidene chloride copolymer is a vinyl monomer having one or more carboxyl groups in a molecule, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, and citraconic acid. Can be mentioned.

【0068】塩化ビニリデン共重合体には塩化ビニリデ
ン単量体、カルボキシル基含有単量体以外にこれらと共
重合可能な単量体の繰り返し単位を含有させてもよい。
これら単量体の具体例として、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、メチルアクリレート、エチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ビニルアセ
テート、アクリルアミド、スチレン等を挙げることがで
きる。これらの単量体は単独で用いても2種以上併用し
てもよい。
The vinylidene chloride copolymer may contain, in addition to the vinylidene chloride monomer and the carboxyl group-containing monomer, a repeating unit of a monomer copolymerizable therewith.
Specific examples of these monomers include acrylonitrile, methacrylonitrile, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, vinyl acetate, acrylamide, and styrene. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

【0069】本発明で用いる塩化ビニリデン共重合体の
分子量は、質量平均分子量で45000以下、さらには
10000〜45000が好ましい。分子量が大きくな
ると塩化ビニリデン共重合体層とポリエステル等の支持
体層との接着性が悪化してしまう傾向がある。
The vinylidene chloride copolymer used in the present invention has a weight average molecular weight of 45,000 or less, preferably 10,000 to 45,000. When the molecular weight is increased, the adhesiveness between the vinylidene chloride copolymer layer and the support layer such as polyester tends to be deteriorated.

【0070】塩化ビニリデン共重合体は有機溶媒に溶か
した形態でも、ラテックスの水分散物の形態でもどちら
でも良いが、ラテックスの水分散物の形態の方が好まし
い。この場合、均一構造のポリマー粒子のラテックスで
あってもコア部とシェル部で組成の異なったいわゆるコ
ア−シェル構造のポリマー粒子のラテックスでもよい。
ラテックス中のポリマー粒子の粒径等については、画像
形成層や保護層のバインダーに用いられるものと同様で
ある。塩化ビニリデン共重合体の単量体単位の配列につ
いては限定されず、周期、ランダム、ブロック等のいず
れであってもよい。
The vinylidene chloride copolymer may be in the form of a solution in an organic solvent or in the form of an aqueous dispersion of latex, but the form of an aqueous dispersion of latex is preferred. In this case, a latex of polymer particles having a uniform structure or a latex of polymer particles having a so-called core-shell structure having different compositions in a core portion and a shell portion may be used.
The particle size and the like of the polymer particles in the latex are the same as those used for the binder of the image forming layer and the protective layer. The arrangement of the monomer units of the vinylidene chloride copolymer is not limited, and may be any of periodic, random, block, and the like.

【0071】塩化ビニリデン共重合体の具体例として以
下のものを挙げることができる。ただし( )内の数字
は質量比を表す。また平均分子量は質量平均分子量を表
す。 V−1塩化ビニリデン:メチルアクリレート:アクリル
酸(90:9:1)のラテックス(平均分子量4200
0) V−2塩化ビニリデン:メチルアクリレート:メチルメ
タクリレート:アクリロニトリル:メタクリル酸(8
7:4:4:4:1)のラテックス(平均分子量400
00) V−3塩化ビニリデン:メチルメタクリレート:グリシ
ジルメタクリレート:メタクリル酸(90:6:2:
2)のラテックス(平均分子量38000) V−4塩化ビニリデン:エチルメタクリレート:2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート:アクリル酸(90:
8:1.5:0.5)のラテックス(平均分子量440
00) V−5コアシェルタイプのラテックス(コア部
90質量%、シェル部10質量%) コア部 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:メチル
メタクリレート:アクリロニトリル:アクリル酸(9
3:3:3:0.9:0.1) シェル部 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:メチ
ルメタクリレート:アクリロニトリル:アクリル酸(8
8:3:3:3:3)(平均分子量38000) V−6コアシェルタイプのラテックス(コア部70質量
%、シェル部30質量%) コア部 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:メチル
メタクリレート:アクリロニトリル:メタクリル酸(9
2.5:3:3:1:0.5) シェル部 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:メチ
ルメタクリレート:アクリロニトリル:メタクリル酸
(90:3:3:1:3)(平均分子量20000)
Specific examples of the vinylidene chloride copolymer include the following. However, the numbers in parentheses indicate mass ratios. The average molecular weight indicates a mass average molecular weight. V-1 Latex of vinylidene chloride: methyl acrylate: acrylic acid (90: 9: 1) (average molecular weight 4200)
0) V-2 Vinylidene chloride: methyl acrylate: methyl methacrylate: acrylonitrile: methacrylic acid (8
7: 4: 4: 4: 1) latex (average molecular weight 400
00) V-3 vinylidene chloride: methyl methacrylate: glycidyl methacrylate: methacrylic acid (90: 6: 2:
2) latex (average molecular weight 38000) V-4 vinylidene chloride: ethyl methacrylate: 2-hydroxyethyl methacrylate: acrylic acid (90:
8: 1.5: 0.5) latex (average molecular weight 440)
00) V-5 core-shell type latex (core 90% by weight, shell 10% by weight) Core vinylidene chloride: methyl acrylate: methyl methacrylate: acrylonitrile: acrylic acid (9
3: 3: 3: 0.9: 0.1) Shell part Vinylidene chloride: methyl acrylate: methyl methacrylate: acrylonitrile: acrylic acid (8
8: 3: 3: 3: 3) (average molecular weight 38000) V-6 core-shell type latex (core 70%, shell 30%) Core vinylidene chloride: methyl acrylate: methyl methacrylate: acrylonitrile: methacrylic acid (9
2.5: 3: 3: 1: 0.5) Shell part Vinylidene chloride: methyl acrylate: methyl methacrylate: acrylonitrile: methacrylic acid (90: 3: 3: 1: 3) (average molecular weight 20,000)

【0072】塩化ビニリデン共重合体は単独で用いても
2種以上併用してもよい。熱現像画像記録材料における
塩化ビニリデン共重合体の含有量は、塩化ビニリデン共
重合体を含有する下塗り層の片面当たりの合計膜厚とし
て0.3μm以上であり、好ましくは0.3μm〜4μ
mの範囲である。
The vinylidene chloride copolymer may be used alone or in combination of two or more. The content of the vinylidene chloride copolymer in the heat-developable image recording material is 0.3 μm or more, preferably 0.3 μm to 4 μm, as a total film thickness per one side of the undercoat layer containing the vinylidene chloride copolymer.
m.

【0073】なお、下塗り層としての塩化ビニリデン共
重合体層は、支持体に直接設層される下塗り層第1層と
して設けることが好ましく、通常は片面ごとに1層ずつ
設けられるが、場合によっては2層以上設けてもよい。
2層以上の多層構成とするときは、塩化ビニリデン共重
合体量が合計で上記の範囲となるようにすればよい。
The vinylidene chloride copolymer layer as the undercoat layer is preferably provided as the first undercoat layer directly provided on the support, and is usually provided one layer on each side. May be provided in two or more layers.
When a multi-layer structure of two or more layers is used, the total amount of the vinylidene chloride copolymer may be in the above range.

【0074】上述のように、塩化ビニリデン共重合体層
は、通常単層構成とされるので、その厚さは、塗布面状
を良好のものとするために、好ましくは0.3μm〜4
μm、より好ましくは0.6μm〜3μm、更に好まし
くは1.0μm〜2μmの範囲である。このような層に
は塩化ビニリデン共重合体のほか、架橋剤やマット剤な
どを含有させてもよい。
As described above, since the vinylidene chloride copolymer layer is usually formed as a single layer, its thickness is preferably from 0.3 μm to 4 μm in order to obtain a good coated surface.
μm, more preferably 0.6 μm to 3 μm, and still more preferably 1.0 μm to 2 μm. Such a layer may contain a crosslinking agent, a matting agent, and the like in addition to the vinylidene chloride copolymer.

【0075】熱現像画像記録材料には、種々の支持体を
用いることができる。典型的な支持体は、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、などのポ
リエステル、硝酸セルロース、セルロースエステル、ポ
リビニルアセタール、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリカーボネート、両面がポリエチレンで被覆され
た紙支持体などを含む。このうち二軸延伸したポリエス
テル、特にポリエチレンテレフタレート(PET)は強
度、寸法安定性、耐薬品性などの点から好ましい。支持
体の厚みは下塗り層を除いたベース厚みで90〜180
μmであることが好ましい。
Various supports can be used for the heat-developable image recording material. Typical supports include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc., cellulose nitrate, cellulose esters, polyvinyl acetal, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, paper supports coated on both sides with polyethylene, and the like. Of these, biaxially stretched polyester, particularly polyethylene terephthalate (PET), is preferred in terms of strength, dimensional stability, chemical resistance and the like. The thickness of the support is 90 to 180 as a base thickness excluding the undercoat layer.
μm is preferred.

【0076】熱現像画像記録材料に用いる支持体は二軸
延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱
現像中に発生する熱収縮歪みをなくすために、130〜
185℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特
にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。
このような熱緩和処理は温度範囲内の一定温度で実施し
てもよく、昇温しながら実施してもよい。
The support used for the heat-developable image-recording material has a thickness of from 130 to 130 to reduce internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and to eliminate heat shrinkage distortion generated during heat development.
Polyester, particularly polyethylene terephthalate, which has been subjected to a heat treatment in a temperature range of 185 ° C. is preferably used.
Such a thermal relaxation treatment may be performed at a constant temperature within the temperature range, or may be performed while increasing the temperature.

【0077】支持体の熱処理はロール状で実施してもよ
く、ウエッブ状で搬送しながら実施してもよい。ウエッ
ブ状で搬送しながら実施する場合、熱処理時の支持体の
搬送張力は比較的低い方が好ましく、具体的には7kg
/cm2以下、特に4.2kg/cm2以下にすることが
好ましい。このときの搬送張力の下限には特に制限はな
いが0.5kg/cm2程度である。
The heat treatment of the support may be performed in the form of a roll, or may be performed while transporting the support in the form of a web. In the case where the transfer is carried out in the form of a web, the transfer tension of the support during the heat treatment is preferably relatively low, specifically, 7 kg.
/ Cm 2 or less, particularly preferably 4.2 kg / cm 2 or less. The lower limit of the transport tension at this time is not particularly limited, but is about 0.5 kg / cm 2 .

【0078】このような熱処理は、支持体に対する画像
形成層やバック層の接着性を向上させるための処理、塩
化ビニリデン共重合体を含有する下塗り層の設層等を施
した後に行うことが好ましい。このような熱処理後にお
ける支持体の120℃30秒加熱による寸法変化率は縦
方向(MD)が−0.03%〜+0.01%、横方向
(TD)が0〜0.04%であることが好ましい。
Such a heat treatment is preferably carried out after a treatment for improving the adhesion of the image forming layer and the back layer to the support, an undercoat layer containing a vinylidene chloride copolymer, and the like are applied. . The dimensional change of the support after heating at 120 ° C. for 30 seconds after the heat treatment is −0.03% to + 0.01% in the machine direction (MD) and 0 to 0.04% in the transverse direction (TD). Is preferred.

【0079】支持体は必要に応じて塩化ビニリデン共重
合体層のほか、SBR、ポリエステル、ゼラチン等をバ
インダーとする下塗り層を塗布してもよい。これらの下
塗り層は多層構成としてもよく、また支持体に対して片
面または両面に設けてもよい。下塗り層の一般的厚み
(1層当たり)は0.01〜5μm、より好ましくは
0.05〜1μmである。
The support may be coated with an undercoat layer using SBR, polyester, gelatin or the like as a binder, if necessary, in addition to the vinylidene chloride copolymer layer. These undercoat layers may have a multilayer structure or may be provided on one side or both sides of the support. The general thickness (per layer) of the undercoat layer is 0.01 to 5 µm, more preferably 0.05 to 1 µm.

【0080】熱現像画像記録材料の支持体に隣接するバ
ック層、または下塗り層中には、ゴミ付着を減少させる
ために金属酸化物が含有されていることが好ましく、バ
ック層および下塗り層(支持体の両面に設けられるも
の)のうちの少なくとも1層を導電層とすることが好ま
しい。特にバック層を導電層とすることが好ましい。た
だし、導電層は最外層のバック層でない方が好ましい。
ここで、用いられる金属酸化物は特開昭61−2003
3号公報、同56−82504号公報に記載されている
ものが特に好ましい。
The back layer or undercoat layer adjacent to the support of the heat-developable image recording material preferably contains a metal oxide in order to reduce dust adhesion. It is preferable that at least one of the layers provided on both sides of the body is a conductive layer. In particular, it is preferable that the back layer be a conductive layer. However, the conductive layer is preferably not the outermost back layer.
Here, the metal oxide used is disclosed in JP-A-61-2003.
No. 3, JP-A-56-82504 are particularly preferable.

【0081】導電性金属酸化物の使用量は、熱現像画像
記録材料1m2当たり0.05〜20gが好ましく、特
に0.1〜10gが好ましい。金属酸化物含有層の表面
比抵抗(表面抵抗率)は25℃相対湿度20%の雰囲気
下で1012Ω以下で、好ましくは1011Ω以下がよい。
これにより良好な帯電防止性が得られる。このときの表
面抵抗率の下限は特に制限されないが、通常107Ω程
度である。
The amount of the conductive metal oxide used is preferably 0.05 to 20 g, and particularly preferably 0.1 to 10 g, per m 2 of the heat-developable image recording material. The surface resistivity (surface resistivity) of the metal oxide-containing layer is 10 12 Ω or less, preferably 10 11 Ω or less in an atmosphere at 25 ° C. and a relative humidity of 20%.
Thereby, good antistatic properties can be obtained. The lower limit of the surface resistivity at this time is not particularly limited, but is usually about 10 7 Ω.

【0082】本発明においては、上記金属酸化物の他
に、さらに含フッ素界面活性剤を併用することによって
さらに良好な帯電防止性を得ることができる。
In the present invention, a better antistatic property can be obtained by using a fluorine-containing surfactant in addition to the above-mentioned metal oxide.

【0083】本発明に用いられる好ましい含フッ素界面
活性剤としては、炭素数4以上(通常15以下)のフル
オロアルキル基、フルオロアルケニル基、またはフルオ
ロアリール基を有し、イオン性基としてアニオン基(ス
ルホン酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン
酸(塩))、カチオン基(アミン塩、アンモニウム塩、
芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩)、
ベタイン基(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニ
ウム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホス
ホアンモニウム塩、)またはノニオン基(置換、無置換
のポリオキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソ
ルビタン残基)を有する界面活性剤が挙げられる。
The preferred fluorine-containing surfactant used in the present invention has a fluoroalkyl group, a fluoroalkenyl group or a fluoroaryl group having 4 or more (usually 15 or less) carbon atoms, and an anionic group ( Sulfonic acid (salt), sulfuric acid (salt), carboxylic acid (salt), phosphoric acid (salt)), cationic group (amine salt, ammonium salt,
Aromatic amine salts, sulfonium salts, phosphonium salts),
Surfactants having a betaine group (carboxyamine salt, carboxyammonium salt, sulfoamine salt, sulfoammonium salt, phosphoammonium salt) or a nonionic group (substituted or unsubstituted polyoxyalkylene group, polyglyceryl group or sorbitan residue) No.

【0084】これらの含フッ素界面活性剤は特開昭49
−10722号公報、英国特許第1,330,356号
明細書、米国特許第4,335,201号明細書、同
4,347,308号明細書、英国特許第1,417,
915号明細書、特開昭55−149938号公報、同
58−196544号公報、英国特許第1,439,4
02号明細書などに記載されている。これらの具体例の
いくつかを以下に記す。
These fluorine-containing surfactants are disclosed in
-10722, British Patent No. 1,330,356, U.S. Patent Nos. 4,335,201 and 4,347,308, British Patent No. 1,417,
915, JP-A-55-149938 and JP-A-58-196544, British Patent No. 1,439,4.
No. 02, etc. Some of these specific examples are described below.

【0085】[0085]

【化3】 Embedded image

【0086】含フッ素界面活性剤を添加する層は熱現像
画像記録材料の少なくとも1層であれば特に限定され
ず、例えば表面保護層、乳剤層、中間層、下塗り層、バ
ック層などを挙げることができる。その中でも好ましい
添加場所としては表面保護層であり、画像形成層側もし
くはバック層側のどちらか一方でもよいが、少なくとも
画像形成層側の表面保護層に添加した場合はさらに好ま
しい。表面保護層が2層以上から成る場合はそのいずれ
の層でもよく、また表面保護層の上にさらにオーバーコ
ートして用いることもできる。
The layer to which the fluorine-containing surfactant is added is not particularly limited as long as it is at least one layer of the heat-developable image recording material, and examples thereof include a surface protective layer, an emulsion layer, an intermediate layer, an undercoat layer, and a back layer. Can be. Among them, a preferable addition site is the surface protective layer, and either one of the image forming layer side and the back layer side may be used. However, it is more preferable that the compound is added to at least the image forming layer side surface protective layer. When the surface protective layer is composed of two or more layers, any of the layers may be used, or the surface protective layer may be further overcoated on the surface protective layer.

【0087】含フッ素界面活性剤の使用量は熱現像画像
記録材料の1m2当たり0.0001〜1gであればよ
いが、より好ましくは0.0002〜0.25g、特に
好ましいのは0.0003〜0.1gである。また、含
フッ素界面活性剤は、2種以上混合してもよい。
The amount of the fluorinated surfactant used may be 0.0001 to 1 g per m 2 of the heat-developable image recording material, more preferably 0.0002 to 0.25 g, and particularly preferably 0.0003. 0.10.1 g. Further, two or more kinds of fluorine-containing surfactants may be mixed.

【0088】ベック平滑度は、日本工業規格(JIS)
P8119「紙および板紙のベック試験器による平滑度
試験方法」およびTAPPI標準法T479により容易
に求めることができる。
The Beck smoothness is measured according to Japanese Industrial Standard (JIS).
It can be easily obtained according to P8119 “Method for testing smoothness of paper and paperboard with Beck tester” and TAPPI standard method T479.

【0089】熱現像画像記録材料の画像形成層を有する
面およびその反対面の最外層表面の少なくとも一方、好
ましくは両方のベック平滑度は、2000秒以下であ
り、より好ましくは10秒〜2000秒である。
The Beck smoothness of at least one of the surface having the image forming layer of the heat-developable image recording material and the surface of the outermost layer opposite to the surface, preferably both, is 2,000 seconds or less, more preferably 10 to 2,000 seconds. It is.

【0090】熱現像画像記録材料の画像形成層を有する
面の最表面層およびその反対面の最表面層のベック平滑
度は、前記両面の層に含有させるマット剤と称される微
粒子の平均粒径および添加量を種々変化させることによ
ってコントロールすることができる。マット剤は画像形
成層を有する面においては支持体から最も離れた最外層
となる保護層に含有させることが好ましく、その反対側
においては最外層でないバック層に含有させることが好
ましい。
The Beck smoothness of the outermost surface layer of the heat-developable image recording material having the image forming layer and the outermost surface layer of the opposite surface are determined by the average particle size of fine particles called a matting agent contained in the layers on both surfaces. It can be controlled by variously changing the diameter and the amount of addition. The matting agent is preferably contained in the protective layer which is the outermost layer farthest from the support on the surface having the image forming layer, and is preferably contained in the back layer which is not the outermost layer on the opposite side.

【0091】本発明において好ましいマット剤の平均粒
径は、1〜10μmの範囲である。本発明において好ま
しいマット剤の添加量は、5〜400mg/m2、特に
10〜200mg/m2の範囲である。
In the present invention, the preferable average particle size of the matting agent is in the range of 1 to 10 μm. The preferable addition amount of the matting agent in the present invention is in the range of 5 to 400 mg / m 2 , particularly 10 to 200 mg / m 2 .

【0092】本発明に用いられるマット剤は、写真的諸
特性に悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよう
なものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化ケ
イ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛および
カルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫酸
塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、有
機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビニ
ルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合体
のマット剤が挙げられる。
The matting agent used in the present invention may be any solid particles which do not adversely affect the photographic characteristics. Examples of inorganic matting agents include silicon dioxide, oxides of titanium and aluminum, carbonates of zinc and calcium, sulfates of barium and calcium, and silicates of calcium and aluminum. Examples include matting agents for organic polymers such as esters, polymethyl methacrylate, polystyrene or polydivinylbenzene and copolymers thereof.

【0093】本発明では、特開平3−109542号公
報2頁左下欄8行目〜3頁右上欄4行目に記載された多
孔性のマット剤、特開平4−127142号公報3頁右
上欄7行目〜5頁右下欄4行に記載されたアルカリで表
面修飾したマット剤、特開平6−118542号公報の
段落番号[0005]〜[0026]に記載された有機
重合体のマット剤を用いることがより好ましい。
In the present invention, the porous matting agent described in JP-A-3-109542, page 2, lower left column, line 8 to page 3, upper right column, line 4, JP-A-4-127142, page 3 upper right column An alkali surface-modified matting agent described in line 7 to page 5, lower right column, line 4, an organic polymer matting agent described in paragraphs [0005] to [0026] of JP-A-6-118542. It is more preferable to use

【0094】また、これらのマット剤を2種以上併用し
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒
径の異なるマット剤の併用(例えば特開平6−1185
42号公報に記載されている平均粒径が1.5μm以上
のマット剤と平均粒径が1μm以下のマット剤の併用)
などがある。
Further, two or more of these matting agents may be used in combination. For example, a combination of an inorganic matting agent and an organic matting agent, a combination of a porous matting agent and a non-porous matting agent, a combination of an amorphous matting agent and a spherical matting agent, mats having different average particle sizes. (For example, JP-A-6-1185)
No. 42, a combination of a matting agent having an average particle size of 1.5 μm or more and a matting agent having an average particle size of 1 μm or less)
and so on.

【0095】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀
は、塩化銀、塩臭化銀、ヨウ塩臭化銀のいずれでもよ
い。また、粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一で
あってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したも
のでもよく、あるいは連続的に変化したものでもよい。
The photosensitive silver halide used in the present invention may be any of silver chloride, silver chlorobromide, and silver iodochlorobromide. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be changed continuously.

【0096】本発明における感光性ハロゲン化銀の形成
方法は当業界ではよく知られており、例えばリサーチデ
ィスクロージャー1978年6月の第17029号公
報、および米国特許第3,700,458号明細書に記
載されている方法を用いることができる。本発明で用い
ることのできる具体的な方法としては、調製された有機
銀塩中にハロゲン含有化合物を添加することにより有機
銀塩の銀の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する方法、
ゼラチンあるいは他のポリマー溶液の中に銀供給化合物
およびハロゲン供給化合物を添加することにより感光性
ハロゲン化銀粒子を調製し有機銀塩と混合する方法を用
いることができる。本発明において好ましくは後者の方
法を用いることができる。感光性ハロゲン化銀の粒子サ
イズは、画像形成後の白濁を低く抑える目的のために小
さいことが好ましく具体的には0.20μm以下、より
好ましくは0.01μm〜0.15μm、更に好ましく
は0.02μm〜0.12μmがよい。ここでいう粒子
サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体あるいは八面体
のいわゆる正常晶である場合にはハロゲン化銀粒子の稜
の長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子で
ある場合には主表面の投影面積と同面積の円像に換算し
たときの直径をいう。その他正常晶でない場合、例えば
球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の
体積と同等な球を考えたときの直径をいう。
The method for forming photosensitive silver halide in the present invention is well known in the art, and is described, for example, in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. The method described can be used. As a specific method that can be used in the present invention, a method of converting a part of the silver of the organic silver salt into photosensitive silver halide by adding a halogen-containing compound to the prepared organic silver salt,
A method of preparing a photosensitive silver halide grain by adding a silver-supplying compound and a halogen-supplying compound to a gelatin or other polymer solution and mixing it with an organic silver salt can be used. In the present invention, the latter method can be preferably used. The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing white turbidity after image formation, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.01 μm to 0.15 μm, and still more preferably 0 μm to 0.15 μm. 0.02 μm to 0.12 μm is preferred. Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to a diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-shaped grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.

【0097】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:
1がよい。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まっ
た粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン
化銀粒子の外表面の面指数(ミラー指数)については特
に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増
感効率が高い[100]面の占める割合が高いことが好
ましい。その割合としては50%以上が好ましく、65
%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。ミ
ラー指数[100]面の比率は増感色素の吸着における
[111]面と[100]面との吸着依存性を利用した
T.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記載の
方法により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3:
1 is good. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the ratio of the [100] plane, which has high spectral sensitization efficiency when a spectral sensitizing dye is adsorbed, is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more.
% Or more, more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is based on the adsorption dependency between the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye.
T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985).

【0098】感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表の第
VII族あるいは第VIII族(第7族〜第10族)の金属ま
たは金属錯体を含有する。周期律表の第VIII族あるいは
第VIII族の金属または金属錯体の中心金属として好まし
くはロジウム、レニウム、ルテニウム、オスミウム、イ
リジウムである。これら金属錯体は1種類でもよいし、
同種金属および異種金属の錯体を二種以上併用してもよ
い。好ましい含有率は銀1モルに対し1nモル〜10m
モルの範囲が好ましく、10nモル〜100μモルの範
囲がより好ましい。具体的な金属錯体の構造としては特
開平7−225449号公報等に記載された構造の金属
錯体を用いることができる。
The photosensitive silver halide grains are the same as those in the periodic table.
It contains a metal or metal complex of Group VII or Group VIII (Groups 7 to 10). Rhodium, rhenium, ruthenium, osmium and iridium are preferred as the metal of Group VIII or Group VIII of the periodic table or the central metal of the metal complex. One of these metal complexes may be used,
Two or more complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is 1 nmol to 10 m per 1 mol of silver.
A molar range is preferred, and a range of 10 nmol to 100 μmol is more preferred. As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used.

【0099】本発明に用いられるロジウム化合物として
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。例え
ば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、またはロジウ
ム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト
等を持つもの、例えばヘキサクロロロジウム(III)錯
塩、ペンタクロロアコロジウム(III)錯塩、テトラク
ロロジアコロジウム(III)錯塩、ヘキサブロモロジウ
ム(III)錯塩、ヘキサアンミンロジウム(III)錯塩、
トリオキサラトロジウム(III)錯塩等が挙げられる。
これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶
解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定化さ
せるために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲ
ン化水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、ある
いはハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaCl、K
Br、NaBr等)を添加する方法を用いることができ
る。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製
時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲ
ン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。
As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, rhodium (III) halide compounds or rhodium complex salts having halogens, amines, oxalates and the like as ligands, for example, hexachlororhodium (III) complex salt, pentachloroacolodium (III) complex salt, tetrachlorodiacolate Rhodium (III) complex salt, hexabromorhodium (III) complex salt, hexaamminerhodium (III) complex salt,
And trioxalatrodium (III) complex salts.
These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent. A method generally used to stabilize a solution of the rhodium compound, that is, a hydrogen halide aqueous solution (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) Etc.) or alkali halides (eg, KCl, NaCl, K
(Br, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve other silver halide grains doped with rhodium during the preparation of silver halide.

【0100】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-8モル〜5×10-6モルの
範囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×
10 -6モルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン
化銀乳剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階
において適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添
加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
い。
The addition amount of these rhodium compounds is
1 × 10 per mole of silver halide-8Mol ~ 5 x 10-6Mole of
The range is preferably, particularly preferably 5 × 10-8Mol ~ 1x
10 -6Is a mole. The addition of these compounds is
Each stage during the production of silver halide emulsion grains and before coating the emulsion
Can be suitably performed, but in particular,
And preferably incorporated into silver halide grains.
No.

【0101】レニウム、ルテニウム、オスミウムは特開
昭63−2042号公報、特開平1−285941号公
報、同2−20852号公報、同2−20855号公報
等に記載された水溶性錯塩の形で添加される。特に好ま
しいものとして、以下の式で示される六配位錯体が挙げ
られる。[ML6]n-ここでMはRu、Re、またはO
sを表し、Lは配位子を表し、nは0、1、2、3また
は4を表す。この場合、対イオンは重要性を持たず、ア
ンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いられる。
Rhenium, ruthenium and osmium are in the form of water-soluble complex salts described in JP-A-63-2042, JP-A-1-285941, JP-A-2-20852, JP-A-2-20855 and the like. Is added. Particularly preferred is a six-coordinate complex represented by the following formula. [ML6] n- where M is Ru, Re, or O
represents s, L represents a ligand, and n represents 0, 1, 2, 3, or 4. In this case, the counter ion is not important and ammonium or alkali metal ions are used.

【0102】また好ましい配位子としてはハロゲン化物
配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニト
ロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。
以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、こ
れらに限定されるものではない。
Preferred ligands include halide ligands, cyanide ligands, cyanide ligands, nitrosyl ligands, thionitrosyl ligands and the like.
Hereinafter, specific examples of the complex used in the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto.

【0103】 [ReCl6]3- [ReBr6]3- [ReCl5(NO)]2- [Re(NS)Br5]2- [Re(NO)(CN)5]2- [Re(O)2(CN)4]
3- [RuCl6]3- [RuCl4(H2O)2]- [RuCl5(H2O)]
2- [RuCl5(NO)]2- [RuBr5(NS)]2- [Ru(CO)3Cl3]2- [Ru(CO)Cl5]2- [Ru(CO)Br5
2- [OsCl6]3- [OsCl5(NO)]2- [Os(NO)(CN)5]
2- [Os(NS)Br5]2- [Os(O)2(CN)4]4-
[ReCl 6 ] 3- [ReBr 6 ] 3- [ReCl 5 (NO)] 2- [Re (NS) Br 5 ] 2- [Re (NO) (CN) 5 ] 2- [Re (O ) 2 (CN) 4 ]
3- [RuCl 6 ] 3- [RuCl 4 (H 2 O) 2 ] - [RuCl 5 (H 2 O)]
2- [RuCl 5 (NO)] 2- [RuBr 5 (NS)] 2- [Ru (CO) 3 Cl 3 ] 2- [Ru (CO) Cl 5 ] 2- [Ru (CO) Br 5 ]
2- [OsCl 6 ] 3- [OsCl 5 (NO)] 2- [Os (NO) (CN) 5 ]
2- [Os (NS) Br 5 ] 2- [Os (O) 2 (CN) 4 ] 4-

【0104】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当たり1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が好
ましく、特に好ましくは1×10-5モル〜1×10-6
ルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤
粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
The addition amount of these compounds is 1
The range is preferably from 1 × 10 -9 mol to 1 × 10 -5 mol, and particularly preferably from 1 × 10 -5 mol to 1 × 10 -6 mol, per mol. These compounds can be appropriately added at the time of the production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion, but it is particularly preferable to add them at the time of emulsion formation and incorporate them into the silver halide grains. .

【0105】これらの化合物をハロゲン化銀の粒子形成
中に添加してハロゲン化銀粒子中に組み込むには、金属
錯体の粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した
水溶液を、粒子形成中の水溶性塩または水溶性ハライド
溶液中に添加しておく方法、あるいは銀塩とハライド溶
液が同時に混合されるとき第3の溶液として添加し、3
液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、
あるいは粒子形成中に必要量の金属錯体の水溶液を反応
容器に投入する方法などである。特に粉末もしくはNa
Cl、KClと一緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライ
ド溶液に添加する方法が好ましい。
In order to add these compounds during silver halide grain formation and incorporate them into silver halide grains, an aqueous solution of metal complex powder or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl is added to the aqueous solution during grain formation. Salt or a water-soluble halide solution, or as a third solution when the silver salt and the halide solution are mixed at the same time.
A method of preparing silver halide grains by a liquid simultaneous mixing method,
Alternatively, there is a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel during the formation of particles. Especially powder or Na
A method in which an aqueous solution dissolved together with Cl and KCl is added to a water-soluble halide solution is preferable.

【0106】粒子表面に添加するには、粒子形成直後ま
たは物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に
必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入することも
できる。
To add to the surface of the particles, a required amount of an aqueous solution of a metal complex can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or during physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0107】本発明で用いられるイリジウム化合物とし
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタクロロニ
トロシルイリジウム等が挙げられる。これらのイリジウ
ム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられ
るが、イリジウム化合物の溶液を安定化させるために一
般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶
液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン
化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaB
r等)を添加する方法を用いることができる。水溶性イ
リジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あら
かじめイリジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒
子を添加して溶解させることも可能である。
As the iridium compound used in the present invention, various compounds can be used, and examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or a suitable solvent. However, a method generally used for stabilizing a solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or alkali halides (eg, KCl, NaCl, KBr, NaB
r) can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another iridium-doped silver halide grain during silver halide preparation.

【0108】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子は、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、パラジウム、
白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原子を含有して
もよい。コバルト、鉄、クロム、さらにルテニウムの化
合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いること
ができる。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フ
ェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イオン、
ヘキサシアノクロム酸イオン、ヘキサシアノルテニウム
酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。ハロゲン化銀中の金属錯体は均一に含有させ
てもよく、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるい
はシェル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はな
い。
Further, the silver halide grains used in the present invention include cobalt, iron, nickel, chromium, palladium,
It may contain metal atoms such as platinum, gold, thallium, copper and lead. For compounds of cobalt, iron, chromium and ruthenium, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include ferricyanate ion, ferrocyanate ion, hexacyanocobaltate ion,
Examples include, but are not limited to, hexacyanochromate ions and hexacyanoruthenate ions. The metal complex in the silver halide may be contained uniformly, may be contained in the core portion at a high concentration, or may be contained in the shell portion at a high concentration, and there is no particular limitation.

【0109】上記金属ハロゲン化銀1モル当たり1×1
-9〜1×10-4モルが好ましい。また、上記金属を含
有させるには単塩、複塩、または錯塩の形の金属塩にし
て粒子調製時に添加することができる。
1 × 1 per mole of the above metal silver halide
0 -9 to 1 × 10 -4 mol is preferred. Further, in order to contain the above-mentioned metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt or a complex salt can be added at the time of preparing particles.

【0110】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with a method known in the art such as a noodle method and a flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted. .

【0111】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されることが
好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感法、セレ
ン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの知られて
いる方法を用いることができ、単独または組み合わせて
用いられる。組み合わせて使用する場合には、例えば、
硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金
増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法、硫黄増
感法とセレン増感法とテルル増感法と金増感法などが好
ましい。
The silver halide emulsion is preferably chemically sensitized. As the method of chemical sensitization, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, and a noble metal sensitization method can be used, and these are used alone or in combination. When used in combination, for example,
Sulfur sensitization method and gold sensitization method, sulfur sensitization method and selenium sensitization method and gold sensitization method, sulfur sensitization method and tellurium sensitization method and gold sensitization method, sulfur sensitization method and selenium sensitization method Tellurium sensitization and gold sensitization are preferred.

【0112】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン
類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、チ
オ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加量
は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大き
さなどの種々の条件下で変化するが、ハロゲン化銀1モ
ル当たり10-7〜10-2モルであり、より好ましくは1
-5〜10-3モルである。
The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. Known compounds can be used as the sulfur sensitizer.For example, in addition to sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like are used. be able to. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds. The amount of the sulfur sensitizer to be added varies under various conditions such as pH during chemical ripening, temperature, and the size of silver halide grains, but is preferably from 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Yes, more preferably 1
0 -5 to 10 -3 mol.

【0113】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44−15748号公報、同43−13489
号公報、特開平4−25832号公報、同4−1092
40号公報、同4−324855号公報等に記載の化合
物を用いることができる。特に特開平4−324855
号公報中の一般式(VIII)および(IX)で示される化合
物を用いることが好ましい。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. Examples of unstable selenium compounds include JP-B-44-15748 and JP-B-43-13489.
JP-A-4-25832 and JP-A-4-1092
Compounds described in JP-A Nos. 40, 4-324855 and the like can be used. In particular, JP-A-4-324855
It is preferable to use the compounds represented by the general formulas (VIII) and (IX) in the publication.

【0114】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成させる化合物である。ハロゲン化
銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5−3
13284号公報に記載の方法で試験することができ
る。テルル増感剤としては例えばジアシルテルリド類、
ビス(オキシカルボニル)テルリド類、ビス(カルバモ
イル)テルリド類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシ
カルボニル)ジテルリド類、ビス(カルバモイル)ジテ
ルリド類、P=Te結合を有する化合物、テルロカルボ
ン酸塩類、Te−オルガニルテルロカルボン酸エステル
類、ジ(ポリ)テルリド類、テルリド類、テルロール
類、テルロアセタール類、テルロスルホナート類、P−
Te結合を有する化合物、含Teヘテロ環類、テルロカ
ルボニル化合物、無機テルル化合物、コロイド状テルル
などを用いることができる。具体的には、米国特許第
1,623,499号明細書、同第3,320,069
号明細書、同第3,772,031号明細書、英国特許
第235,211号明細書、同第1,121,496号
明細書、同第1,295,462号明細書、同第1,3
96,696号明細書、カナダ特許第800,958号
明細書、特開平4−324855号公報、特願平3−5
3693号明細書、同3−131598号明細書、同4
−129787号明細書、ジャーナル・オブ・ケミカル
・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション(J.C
hem.Soc.Chem.Commun.)635(1980),ibid 1102(1979),ibi
d 645(1979)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイア
ティー・パーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Per
kin.Trans.)1,2191(1980),S.パタイ(S.Patai)
編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウ
ム・アンド・テルリウム・コンパウンズ(The Chemistr
y of Organic Serenium and Tellunium Compounds),
Vol.1(1986)、同Vol.2(1987)に
記載の化合物を用いることができる。特に特開平5−3
13284号公報中の一般式(II)、(III)、(IV)
で示される化合物が好ましい。
The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound which forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion is described in JP-A-5-3.
It can be tested by the method described in JP-A-13284. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides,
Bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, compounds having a P = Te bond, tellurocarboxylates, Te-organ Nyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellursulfonates, P-
Compounds having a Te bond, Te-containing heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, US Pat. Nos. 1,623,499 and 3,320,069
No. 3,772,031, British Patent No. 235,211, No. 1,121,496, No. 1,295,462, No. 1 , 3
No. 96,696, Canadian Patent No. 800,958, JP-A-4-324855, Japanese Patent Application No. 3-5.
No. 3693, No. 3-131598, No. 4
-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (JC
hem.Soc.Chem.Commun.) 635 (1980), ibid 1102 (1979), ibi
d 645 (1979), Journal of Chemical Society Parkin Transaction (J. Chem. Soc. Per)
kin.Trans.) 1,2191 (1980); Patai (S.Patai)
Hen, The Chemistr of Organic Selenium and Tellurium Compounds
y of Organic Serenium and Tellunium Compounds),
Vol. 1 (1986), Vol. 2 (1987) can be used. In particular, JP-A-5-3
General formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-13284
Are preferred.

【0115】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains to be used, the conditions of chemical ripening, etc., but generally ranges from 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Preferably, about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C.

【0116】本発明で用いられる貴金属増感剤として
は、金、白金、パラジウム、イリジウム等が挙げられる
が、特に金増感が好ましい。本発明に用いられる金増感
剤としては具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオー
レート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金などが
挙げられ、ハロゲン化銀1モル当たり10-7〜10-2
ル程度を用いることができる。
Examples of the noble metal sensitizer used in the present invention include gold, platinum, palladium, iridium and the like, and gold sensitization is particularly preferable. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide, and 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Degrees can be used.

【0117】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。
In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt and the like may coexist in the process of forming silver halide grains or physical ripening.

【0118】本発明においては、還元増感を用いること
ができる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコ
ルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上また
はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還
元増感することができる。また、粒子形成中に銀イオン
のシングルアディション部分を導入することにより還元
増感することができる。
In the present invention, reduction sensitization can be used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Further, reduction sensitization can be achieved by ripening the emulsion while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or the pAg at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ion during grain formation.

【0119】ハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許EP2
93,917号公報に示される方法により、チオスルホ
ン酸化合物を添加してもよい。
The silver halide emulsion is disclosed in European Patent Application EP 2
A thiosulfonic acid compound may be added by the method disclosed in JP-A-93,917.

【0120】本発明に用いられる熱現像画像形成材料中
のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上
(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成
の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異
なるもの)併用してもよい。感光性ハロゲン化銀の使用
量としては有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀
0.01モル〜0.5モルが好ましく、0.02モル〜
0.3モルがより好ましく、0.03モル〜0.25モ
ルが特に好ましい。別々に調製した感光性ハロゲン化銀
と有機銀塩の混合方法および混合条件については、それ
ぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹
拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミ
ル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機
銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感
光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等
があるが、本発明の効果が十分に現れる限りにおいては
特に制限はない。
The silver halide emulsion in the heat-developable image forming material used in the present invention may be of one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits). And those having different conditions of chemical sensitization). The amount of the photosensitive silver halide to be used is preferably 0.01 mol to 0.5 mol, more preferably 0.02 mol to 1 mol of the organic silver salt.
0.3 mol is more preferable, and 0.03 mol to 0.25 mol is particularly preferable. Regarding the mixing method and mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and the organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. Etc., or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. There is no particular limitation as long as it appears in.

【0121】ハロゲン化銀調製法としては、有機銀塩の
一部の銀を有機または無機のハロゲン化物でハロゲン化
するいわゆるハライデーション法も好ましく用いられ
る。ここで用いる有機ハロゲン化物としては有機銀塩と
反応しハロゲン化銀を生成する化合物で有ればいかなる
物でもよいが、N−ハロゲノイミド(N−ブロモスクシ
ンイミドなど)、ハロゲン化4級窒素化合物(臭化テト
ラブチルアンモニウムなど)、ハロゲン化4級窒素塩と
ハロゲン分子の会合体(過臭化臭化ピリジニウム)など
が挙げられる。無機ハロゲン化合物としては有機銀塩と
反応しハロゲン化銀を生成する化合物で有ればいかなる
物でもよいが、ハロゲン化アルカリ金属またはアンモニ
ウム(塩化ナトリウム、臭化リチウム、沃化カリウム、
臭化アンモニウムなど)、ハロゲン化アルカリ土類金属
(臭化カルシウム、塩化マグネシウムなど)、ハロゲン
化遷移金属(塩化第2鉄、臭化第2銅など)、ハロゲン
配位子を有する金属錯体(臭化イリジウム酸ナトリウ
ム、塩化ロジウム酸アンモニウムなど)、ハロゲン分子
(臭素、塩素、沃素)などがある。また、所望の有機無
機ハロゲン化物を併用しても良い。
As a method for preparing silver halide, a so-called halide method in which a part of silver of an organic silver salt is halogenated with an organic or inorganic halide is also preferably used. The organic halide used here may be any compound as long as it is a compound which reacts with an organic silver salt to generate a silver halide. Examples of the organic halide include N-halogenimide (N-bromosuccinimide, etc.) and quaternary nitrogen halides (odorous compounds). Tetrabutylammonium bromide), an association of a quaternary nitrogen halide and a halogen molecule (pyridinium perbromide), and the like. As the inorganic halogen compound, any compound may be used as long as it is a compound which reacts with an organic silver salt to generate silver halide, and includes alkali metal or ammonium halides (sodium chloride, lithium bromide, potassium iodide,
Ammonium bromide, etc.), alkaline earth metal halides (calcium bromide, magnesium chloride, etc.), transition metal halides (ferric chloride, cupric bromide, etc.), metal complexes having halogen ligands (odor Sodium iridate, ammonium chloride rhodate, etc.), and halogen molecules (bromine, chlorine, iodine). Further, a desired organic / inorganic halide may be used in combination.

【0122】本発明でハライデーションする際のハロゲ
ン化物の添加量としては有機銀塩1モル当たりハロゲン
原子として1mモル〜500mモルが好ましく、10m
モル〜250mモルがさらに好ましい。
In the present invention, the amount of the halide to be added is preferably 1 to 500 mmol as a halogen atom per 1 mol of an organic silver salt, and more preferably 10 mmol.
Mole to 250 mmol is more preferred.

【0123】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感
光性ハロゲン化銀の潜像など)および還元剤の存在下
で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を
形成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる
源を含む任意の有機物質であってよい。有機酸の銀塩、
特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)
長鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配位子が4.0
〜10.0の範囲の錯安定度定数を有する有機または無
機銀塩の錯体も好ましい。銀供給物質は、好ましくは画
像形成層の約5〜70質量%を構成することができる。
好ましい有機銀塩はカルボキシル基を有する有機化合物
の銀塩を含む。これらの例は、脂肪族カルボン酸の銀塩
および芳香族カルボン酸の銀塩を含むがこれらに限定さ
れることはない。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例
としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸
銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリ
スチン酸銀、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸
銀、酒石酸銀、リノール酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、
これらの混合物などを含む。
The organic silver salt which can be used in the present invention includes:
Relatively stable to light, but forms a silver image when heated to 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of photosensitive silver halide) and a reducing agent It is a silver salt. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids,
Particularly (having 10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 28 carbon atoms)
Silver salts of long chain fatty carboxylic acids are preferred. The ligand is 4.0
Complexes of organic or inorganic silver salts having a complex stability constant in the range of from 10.0 to 10.0 are also preferred. The silver donor can preferably comprise about 5 to 70% by weight of the imaging layer.
Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of the aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver maleate, and fumarate. Silver acid, silver tartrate, silver linoleate, silver butyrate and silver camphorate,
And mixtures thereof.

【0124】メルカプト基またはチオン基を含む化合物
の銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。
これらの化合物の好ましい例としては、3−メルカプト
−4−フェニル−1,2,4−トリアゾールの銀塩、2
−メルカプトベンズイミダゾールの銀塩、2−メルカプ
ト−5−アミノチアジアゾールの銀塩、2−(エチルグ
リコールアミド)ベンゾチアゾールの銀塩、S−アルキ
ルチオグリコール酸(ここでアルキル基の炭素数は12
〜22である)の銀塩などのチオグリコール酸の銀塩、
ジチオ酢酸の銀塩などのジチオカルボン酸の銀塩、チオ
アミドの銀塩、5−カルボキシル−1−メチル−2−フ
ェニル−4−チオピリジンの銀塩、メルカプトトリアジ
ンの銀塩、2−メルカプトベンズオキサゾールの銀塩、
米国特許第4,123,274号明細書に記載の銀塩、
例えば3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−チ
アゾールの銀塩などの1,2,4−メルカプトチアゾー
ル誘導体の銀塩、米国特許第3,301,678号明細
書に記載の3−(3−カルボキシエチル)−4−メチル
−4−チアゾリン−2−チオンの銀塩などのチオン化合
物の銀塩を含む。さらに、イミノ基を含む化合物も使用
することができる。これらの化合物の好ましい例として
は、ベンゾトリアゾールの銀塩およびそれらの誘導体、
例えばメチルベンゾトリアゾール銀などのベンゾトリア
ゾールの銀塩、5−クロロベンゾトリアゾール銀などの
ハロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国特許第
4,220,709号明細書に記載のような1,2,4
−トリアゾールまたは1−H−テトラゾールの銀塩、イ
ミダゾールおよびイミダゾール誘導体の銀塩などを含
む。例えば、米国特許第4,761,361号明細書お
よび同第4,775,613号明細書に記載のような種
々の銀アセチリド化合物をも使用することもできる。
Silver salts of compounds containing a mercapto group or a thione group and derivatives thereof can also be used.
Preferred examples of these compounds include silver salts of 3-mercapto-4-phenyl-1,2,4-triazole,
Silver salt of mercaptobenzimidazole, silver salt of 2-mercapto-5-aminothiadiazole, silver salt of 2- (ethylglycolamide) benzothiazole, S-alkylthioglycolic acid (where the alkyl group has 12 carbon atoms)
-22), such as a silver salt of thioglycolic acid;
Silver salt of dithiocarboxylic acid such as silver salt of dithioacetic acid, silver salt of thioamide, silver salt of 5-carboxyl-1-methyl-2-phenyl-4-thiopyridine, silver salt of mercaptotriazine, and silver salt of 2-mercaptobenzoxazole Silver salt,
A silver salt described in U.S. Pat. No. 4,123,274;
For example, a silver salt of a 1,2,4-mercaptothiazole derivative such as a silver salt of 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-thiazole, and a silver salt of a 3-, 5-mercaptothiazole derivative described in U.S. Pat. No. 3,301,678. Includes silver salts of thione compounds such as silver salt of (3-carboxyethyl) -4-methyl-4-thiazoline-2-thione. Furthermore, compounds containing an imino group can also be used. Preferred examples of these compounds include silver salts of benzotriazole and derivatives thereof,
For example, silver salts of benzotriazole such as silver methylbenzotriazole, silver salts of halogen-substituted benzotriazole such as silver 5-chlorobenzotriazole, 1,2,4 as described in U.S. Pat. No. 4,220,709.
Silver salts of -triazole or 1-H-tetrazole, and silver salts of imidazole and imidazole derivatives. For example, various silver acetylide compounds as described in U.S. Pat. Nos. 4,761,361 and 4,775,613 can also be used.

【0125】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm〜
0.20μm、長軸0.10μm〜5.0μmが好まし
く、短軸0.01μm〜0.15μm、長軸0.10μ
m〜4.0μmがより好ましい。有機銀塩粒子サイズ分
布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長
軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割
った値の百分率が好ましくは100%以下、より好まし
くは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有
機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過
型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測
定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の
標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割っ
た値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、
より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下
である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀
塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変
化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒
子サイズ(体積加重平均直径)から求めることができ
る。
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but a needle crystal having a short axis and a long axis is preferable. In the present invention, the short axis is 0.01 μm or more.
0.20 μm, major axis 0.10 μm to 5.0 μm is preferred, minor axis 0.01 μm to 0.15 μm, major axis 0.10 μm
m to 4.0 μm is more preferable. The organic silver salt particle size distribution is preferably monodisperse. Monodispersion means that the percentage of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each of the minor axis and major axis by the minor axis and major axis is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and still more preferably 50% or less. is there. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring the monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (coefficient of variation) divided by the volume-weighted average diameter is preferably 100% or less,
It is more preferably at most 80%, further preferably at most 50%. As a measurement method, for example, the organic silver salt dispersed in a liquid is irradiated with laser light, and the particle size (volume weighted average diameter) obtained by obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be.

【0126】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。
The organic silver salt which can be used in the present invention includes:
Preferably, desalting can be performed. The method for desalting is not particularly limited, and a known method can be used. However, a known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, or floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used.

【0127】本発明に用いることのできる有機銀塩は粒
子サイズの小さい、凝集のない微粒子を得る目的で、分
散剤を使用した固体微粒子分散物とする方法が用いられ
る。有機銀塩を固体微粒子分散化する方法は、分散助剤
の存在下で公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振
動ボールミル、遊星ボールミル、サンドミル、コロイド
ミル、ジェットミル、ローラーミル、高圧ホモジナイザ
ー)を用い、機械的に分散することができる。
For the purpose of obtaining fine particles having a small particle size and no aggregation, a method of preparing a solid fine particle dispersion using a dispersant is used for the organic silver salt which can be used in the present invention. The method of dispersing the organic silver salt into solid fine particles is carried out by using a known fine-granulating means (for example, ball mill, vibrating ball mill, planetary ball mill, sand mill, colloid mill, jet mill, roller mill, high-pressure homogenizer) in the presence of a dispersing aid. Used and can be mechanically dispersed.

【0128】有機銀塩を分散剤を使用して固体微粒子化
する際には、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸の共
重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル
共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン酸共重
合体、などの合成アニオンポリマー、カルボキシメチル
デンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合成ア
ニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのアニオ
ン性ポリマー、特開昭52−92716号公報、国際公
開WO88/04794号公報などに記載のアニオン性
界面活性剤、特願平7−350753号明細書に記載の
化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチ
オン性界面活性剤や、その他ポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の
自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いるこ
とができる。
When the organic silver salt is formed into solid fine particles using a dispersant, for example, polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, and acryloylmethyl Synthetic anionic polymers such as propanesulfonic acid copolymer, semi-synthetic anionic polymers such as carboxymethyl starch and carboxymethyl cellulose, anionic polymers such as alginic acid and pectic acid, JP-A-52-92716, and International Publication WO88 / 04794. Surfactants described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-350753, compounds described in Japanese Patent Application No. 7-350753, or known anionic, nonionic or cationic surfactants, and other polyvinyl alcohols, polyvinylpyrrolidone, carboxy Methylcellulose, hydroxypropyl Cellulose, known polymers such as hydroxypropyl methylcellulose, or a polymer compound existing in nature such as gelatin can be suitably selected and used.

【0129】分散助剤は、分散前に有機銀塩の粉末また
はウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、スラリーと
して分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め
有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理
を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキとしても良
い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤によりp
Hコントロールしても良い。
It is a general method that the dispersing aid is mixed with the organic silver salt powder or the organic silver salt in a wet cake state before the dispersion, and then sent as a slurry to the dispersing machine. Heat treatment or treatment with a solvent may be performed in the combined state to form an organic silver salt powder or a wet cake. Before and after dispersion or during dispersion, p
H control may be used.

【0130】機械的に分散する以外にも、pHコントロ
ールすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の
存在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。この
とき、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても
良く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。
In addition to the mechanical dispersion, the particles may be coarsely dispersed in a solvent by controlling the pH, and then finely divided by changing the pH in the presence of a dispersing agent. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after completion of the fine particle formation.

【0131】調製された分散物は、保存時の微粒子の沈
降を抑える目的で撹拌しながら保存したり、親水性コロ
イドにより粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用し
ゼリー状にした状態)で保存したりすることもできる。
また、保存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤
を添加することもできる。
The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of the fine particles during storage, or stored in a highly viscous state by a hydrophilic colloid (for example, in a jelly state using gelatin). You can also do.
Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.

【0132】有機銀塩は所望の量で使用できるが、熱現
像画像記録材料1m2当たりの量で示して、銀量として
0.1〜5g/m2が好ましく、さらに好ましくは1〜
3g/m2である。
The organic silver salt can be used in a desired amount, but is preferably 0.1 to 5 g / m 2 , more preferably 1 to 5 g / m 2 , expressed in terms of 1 m 2 of the heat-developable image recording material.
3 g / m 2 .

【0133】熱現像画像記録材料には有機銀塩のための
還元剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための還元剤
は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、好ましく
は有機物質であってよい。フェニドン、ハイドロキノン
およびカテコールなどの従来の写真現像剤は有用である
が、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。還元剤
は、画像形成層を有する面の銀1モルに対して5〜50
%(モル)含まれることが好ましく、10〜40%(モ
ル)で含まれることがさらに好ましい。還元剤の添加層
は画像形成層を有する面のいかなる層でも良い。画像形
成層以外の層に添加する場合は銀1モルに対して10〜
50%(モル)と多めに使用することが好ましい。ま
た、還元剤は現像時のみ有効に機能を持つように誘導化
されたいわゆるプレカーサーであってもよい。
The heat-developable image recording material preferably contains a reducing agent for an organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is used in an amount of 5 to 50 per mol of silver on the surface having the image forming layer.
% (Mol), more preferably 10 to 40% (mol). The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When added to a layer other than the image forming layer, 10 to 10
It is preferable to use as much as 50% (mol). Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0134】有機銀塩を利用した熱現像画像記録材料に
おいては広範囲の還元剤が特開昭46−6074号公
報、同47−1238号公報、同47−33621号公
報、同49−46427号公報、同49−115540
号公報、同50−14334号公報、同50−3611
0号公報、同50−147711号公報、同51−32
632号公報、同51−1023721号公報、同51
−32324号公報、同51−51933号公報、同5
2−84727号公報、同55−108654号公報、
同56−146133号公報、同57−82828号公
報、同57−82829号公報、特開平6−3793号
公報、米国特許3,667,9586号明細書、同3,
679,426号明細書、同3,751,252号明細
書、同3,751,255号明細書、同3,761,2
70号明細書、同3,782,949号明細書、同3,
839,048号明細書、同3,928,686号明細
書、同5,464,738号明細書、独国特許2321
328号明細書、欧州特許692732号明細書などに
開示されている。例えば、フェニルアミドオキシム、2
−チエニルアミドオキシムおよびp−フェノキシフェニ
ルアミドオキシムなどのアミドオキシム;例えば4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメトキシベンズアルデヒドアジン
などのアジン;2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロ
ピオニル−β−フェニルヒドラジンとアスコルビン酸と
の組合せのような脂肪族カルボン酸アリールヒドラジド
とアスコルビン酸との組合せ;ポリヒドロキシベンゼン
と、ヒドロキシルアミン、レダクトンおよび/またはヒ
ドラジンの組合せ(例えばハイドロキノンと、ビス(エ
トキシエチル)ヒドロキシルアミン、ピペリジノヘキソ
ースレダクトンまたはホルミル−4−メチルフェニルヒ
ドラジンの組合せなど);フェニルヒドロキサム酸、p
−ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸およびβ−アリニ
ンヒドロキサム酸などのヒドロキサム酸;アジンとスル
ホンアミドフェノールとの組合せ(例えば、フェノチア
ジンと2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミド
フェノールなど);エチル−α−シアノ−2−メチルフ
ェニルアセテート、エチル−α−シアノフェニルアセテ
ートなどのα−シアノフェニル酢酸誘導体;2,2−ジ
ヒドロキシ−1,1−ビナフチル、6,6−ジブロモ−
2,2−ジヒドロキシ−1,1−ビナフチルおよびビス
(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタンに例示される
ようなビス−β−ナフトール;ビス−β−ナフトールと
1,3−ジヒドロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4
−ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2,4−ジヒドロ
キシアセトフェノンなど)の組合せ;3−メチル−1−
フェニル−5−ピラゾロンなどの、5−ピラゾロン;ジ
メチルアミノヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒド
ロアミノヘキソースレダクトンおよびアンヒドロジヒド
ロピペリドンヘキソースレダクトンに例示されるような
レダクトン;2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホン
アミドフェノールおよびp−ベンゼンスルホンアミドフ
ェノールなどのスルホンアミドフェノール還元剤;2−
フェニルインダン−1,3−ジオンなど; 2,2−ジ
メチル−7−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマンなど
のクロマン;2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエ
トキシ−1,4−ジヒドロピリジンなどの1,4−ジヒ
ドロピリジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2−ヒ
ドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブ
チル−6−メチルフェノール) 、1,1−ビス(2−
ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5
−トリメチルヘキサンおよび2,2−ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンなど);ア
スコルビン酸誘導体(例えば、パルミチン酸1−アスコ
ルビル、ステアリン酸アスコルビルなど);ならびにベ
ンジルおよびビアセチルなどのアルデヒドおよびケト
ン;3−ピラゾリドンおよびある種のインダン−1,3
−ジオン;クロマノール(トコフェロールなど)などが
ある。特に好ましい還元剤としては、ビスフェノール、
クロマノールである。
In a heat-developable image recording material using an organic silver salt, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074, JP-A-47-1238, JP-A-47-33621 and JP-A-49-46427. 49-115540
JP-A-50-34334, JP-A-50-14361
Nos. 0, 50-147711 and 51-32
632, 51-1023721, 51
JP-A-32324, JP-A-51-51933, JP-A-5-51933
JP-A-2-84727, JP-A-55-108654,
JP-A-56-146133, JP-A-57-82828, JP-A-57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
679,426, 3,751,252, 3,751,255, 3,761,
No. 70, 3,782,949, and 3,
839,048, 3,928,686, 5,464,738, German Patent 2321
No. 328, European Patent 692732 and the like. For example, phenylamide oxime, 2
Amide oximes such as -thienylamidooxime and p-phenoxyphenylamidooxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; 2,2-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-phenylhydrazine and ascorbic acid A combination of an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide and ascorbic acid, such as a combination of polyhydroxybenzene with hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone, bis (ethoxyethyl) hydroxylamine, piperidino Hexose reductone or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine); phenylhydroxamic acid, p
Hydroxamic acids such as -hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; combinations of azines with sulfonamidophenols (eg, phenothiazine and 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-cyano Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as -2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2-dihydroxy-1,1-binaphthyl, 6,6-dibromo-
Bis-β-naphthol as exemplified by 2,2-dihydroxy-1,1-binaphthyl and bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (for example, , 2, 4
-Dihydroxybenzophenone or 2,4-dihydroxyacetophenone); 3-methyl-1-
5-pyrazolones, such as phenyl-5-pyrazolone; reductones as exemplified by dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone; 2,6-dichloro Sulfonamide phenol reducing agents such as -4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol;
Phenylindane-1,3-dione and the like; chromans such as 2,2-dimethyl-7-tert-butyl-6-hydroxychroman; and 2,6-dimethoxy-3,5-dicarbethoxy-1,4-dihydropyridine and the like 1,4-dihydropyridine; bisphenol (for example, bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,4 -Ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1-bis (2-
(Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5
-Ascorbic acid derivatives (e.g., 1-ascorbyl palmitate, ascorbyl stearate, etc.); and aldehydes such as benzyl and biacetyl. And ketones; 3-pyrazolidone and certain indane-1,3
-Dione; chromanol (such as tocopherol). Particularly preferred reducing agents include bisphenol,
Chromanol.

【0135】還元剤は、溶液、粉末、固体微粒子分散物
などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒子分散は
公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動ボールミ
ル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラ
ーミルなど)で行われる。また、固体微粒子分散する際
に分散助剤を用いてもよい。
The reducing agent may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0136】画質を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと光学濃度が高くなることがある。ま
た、色調剤は黒色銀画像を形成させるうえでも有利にな
ることがある。色調剤は画像形成層を有する面に銀1モ
ル当たりの0.1〜50%(モル)の量含まれることが
好ましく、0.5〜20%(モル)含まれることがさら
に好ましい。また、色調剤は現像時のみ有効に機能を持
つように誘導化されたいわゆるプレカーサーであっても
よい。
When an additive known as a “toning agent” for improving image quality is included, the optical density may increase. The toning agent may also be advantageous in forming a black silver image. The toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% (mol) per mol of silver on the surface having the image forming layer, and more preferably 0.5 to 20% (mol). Further, the color tone agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0137】有機銀塩を利用した熱現像画像記録材料に
おいては広範囲の色調剤が特開昭46−6077号公
報、同47−10282号公報、同49−5019号公
報、同49−5020号公報、同49−91215号公
報、同49−91215号公報、同50−2524号公
報、同50−32927号公報、同50−67132号
公報、同50−67641号公報、同50−11421
7号公報、同51−3223号公報、同51−2792
3号公報、同52−14788号公報、同52−998
13号公報、同53−1020号公報、同53−760
20号公報、同54−156524号公報、同54−1
56525号公報、同61−183642号公報、特開
平4−56848号公報、特公昭49−10727号公
報、同54−20333号公報、米国特許3,080,
254号明細書、同3,446,648号明細書、同
3,782,941号明細書、同4,123,282号
明細書、同4,510,236号明細書、英国特許13
80795号明細書、ベルギー特許841910号明細
書などに開示されている。色調剤の例は、フタルイミド
およびN−ヒドロキシフタルイミド;スクシンイミド、
ピラゾリン−5−オン、ならびにキナゾリノン、3−フ
ェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニルウラ
ゾール、キナゾリンおよび2,4−チアゾリジンジオン
のような環状イミド;ナフタルイミド(例えば、N−ヒ
ドロキシ−1,8−ナフタルイミド);コバルト錯体
(例えば、コバルトヘキサミントリフルオロアセテー
ト);3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、
2,4−ジメルカプトピリミジン、3−メルカプト−
4,5−ジフェニル−1,2,4−トリアゾールおよび
2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾールに
例示されるメルカプタン;N−(アミノメチル)アリー
ルジカルボキシイミド、(例えば、(N,N−ジメチル
アミノメチル)フタルイミドおよびN,N−(ジメチル
アミノメチル)−ナフタレン−2,3−ジカルボキシイ
ミド);ならびにブロック化ピラゾール、イソチウロニ
ウム誘導体およびある種の光退色剤(例えば、N,N’
−ヘキサメチレンビス(1−カルバモイル−3,5−ジ
メチルピラゾール)、1,8−(3,6−ジアザオクタ
ン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセテート)
および2−トリブロモメチルスルホニル)−(ベンゾチ
アゾール));ならびに3−エチル−5[(3−エチル
−2−ベンゾチアゾリニリデン)−1−メチルエチリデ
ン]−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン;フタ
ラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩、または
4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラ
ジノン、5,7−ジメトキシフタラジノンおよび2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオンなどの誘導体;
フタラジノンとフタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4
−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸およびテトラク
ロロ無水フタル酸など)との組合せ;フタラジン、フタ
ラジン誘導体もしくは金属塩、または4−(1−ナフチ
ル)フタラジン、6−クロロフタラジン、6−イソプロ
ピルフタラジン、6−イソブチルフタラジン、5,7−
ジメトキシフタラジンおよび2,3−ジヒドロフタラジ
ンなどの誘導体;フタラジンとフタル酸誘導体(例え
ば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル
酸およびテトラクロロ無水フタル酸など)との組合せ;
キナゾリンジオン、ベンズオキサジンまたはナフトオキ
サジン誘導体;色調調節剤としてだけでなくその場でハ
ロゲン化銀生成のためのハライドイオンの源としても機
能するロジウム錯体、例えばヘキサクロロロジウム(II
I)酸アンモニウム、臭化ロジウム、硝酸ロジウムおよ
びヘキサクロロロジウム(III)酸カリウムなど;無機
過酸化物および過硫酸塩、例えば、過酸化二硫化アンモ
ニウムおよび過酸化水素;1,3−ベンズオキサジン−
2,4−ジオン、8−メチル−1,3−ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオンおよび6−ニトロ−1,3−ベンズ
オキサジン−2,4−ジオンなどのベンズオキサジン−
2,4−ジオン;ピリミジンおよび不斉−トリアジン
(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジン、2−ヒド
ロキシ−4−アミノピリミジンなど)、アザウラシル、
およびテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,6−
ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−2,
3a,5,6a−テトラアザペンタレン、および1,4
−ジ(o−クロロフェニル)−3,6−ジメルカプト−
1H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレ
ン)などがある。
In a heat-developable image recording material using an organic silver salt, a wide range of toning agents are disclosed in JP-A-46-6077, JP-A-47-10282, JP-A-49-5019, and JP-A-49-5020. No. 49-91215, No. 49-91215, No. 50-2524, No. 50-32927, No. 50-67132, No. 50-67641, No. 50-11421.
No. 7, No. 51-3223, No. 51-2792
No. 3, No. 52-14788, No. 52-998
No. 13, No. 53-1020, No. 53-760
No. 20, No. 54-156524, No. 54-1
Nos. 56525, 61-183642, JP-A-4-56848, JP-B-49-10727, JP-A-54-20333, U.S. Pat.
Nos. 254, 3,446,648, 3,782,941, 4,123,282, 4,510,236, and British Patent 13
No. 80795 and Belgian Patent No. 842910. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide,
Pyrazolin-5-ones and cyclic imides such as quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione; naphthalimides (e.g. N-hydroxy- 1,8-naphthalimide); cobalt complexes (e.g., cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-mercapto-1,2,4-triazole;
2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-
Mercaptans exemplified by 4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole; N- (aminomethyl) aryldicarboximides (for example, (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl) -naphthalene-2,3-dicarboximide); and blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N ').
-Hexamethylenebis (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate)
And 2-tribromomethylsulfonyl)-(benzothiazole)); and 3-ethyl-5 [(3-ethyl-2-benzothiazolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4-. Oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3
Derivatives such as -dihydro-1,4-phthalazinedione;
Phthalazinone and phthalic acid derivatives (eg, phthalic acid, 4
Phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts, or 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-chlorophthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6-isobutylphthalazine, 5,7-
Derivatives such as dimethoxyphthalazine and 2,3-dihydrophthalazine; combinations of phthalazine with phthalic acid derivatives such as phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride;
Quinazolinedione, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; rhodium complexes, such as hexachlororhodium (II
I) ammonium acid, rhodium bromide, rhodium nitrate and potassium hexachlororhodate (III) and the like; inorganic peroxides and persulfates such as ammonium disulfide and hydrogen peroxide; 1,3-benzoxazine-
Benzoxazines such as 2,4-dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione
2,4-dione; pyrimidine and asymmetric-triazine (for example, 2,4-dihydroxypyrimidine, 2-hydroxy-4-aminopyrimidine and the like), azauracil,
And tetraazapentalene derivatives (for example, 3,6-
Dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,
3a, 5,6a-tetraazapentalene, and 1,4
-Di (o-chlorophenyl) -3,6-dimercapto-
1H, 4H-2, 3a, 5, 6a-tetraazapentalene) and the like.

【0138】色調剤は、溶液、粉末、固体微粒子分散物
などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒子分散は
公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動ボールミ
ル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラ
ーミルなど)で行われる。また、固体微粒子分散する際
に分散助剤を用いてもよい。
The color-toning agent may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0139】本発明で造核剤として好ましく用いられる
式(1)〜(3)で表される置換アルケン誘導体、置換
イソオキサゾール誘導体、および特定のアセタール化合
物について説明する。
The substituted alkene derivatives, isoxazole derivatives and specific acetal compounds represented by the formulas (1) to (3), which are preferably used as nucleating agents in the present invention, will be described.

【0140】[0140]

【化4】 Embedded image

【0141】式(1)においてR1、R2、R3は、それ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引
性基を表す。式(1)においてR1とZ、R2とR3、R1
とR 2、或いはR3とZは、互いに結合して環状構造を形
成していてもよい。式(2)においてR4は、置換基を
表す。式(3)においてX、Yはそれぞれ独立に水素原
子または置換基を表し、A,Bはそれぞれ独立に、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリー
ルオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環オ
キシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環アミノ基を表
す。式(3)においてXとY、あるいはAとBは、互い
に結合して環状構造を形成していてもよい。
In the formula (1), R1, RTwo, RThreeIs it
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and Z is an electron-withdrawing atom.
Represents a functional group. In the formula (1), R1And Z, RTwoAnd RThree, R1
And R TwoOr RThreeAnd Z are linked together to form a cyclic structure
May be formed. In the formula (2), RFourRepresents a substituent
Represent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom.
A and B are each independently
Coxy group, alkylthio group, alkylamino group, aryl
Roxy, arylthio, anilino, heterocyclic
Represents a xy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group.
You. In the formula (3), X and Y or A and B are mutually
To form a cyclic structure.

【0142】式(1)においてR1、R2、R3が置換基
を表す時、置換基の例としては、例えばハロゲン原子
(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原
子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、
活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ
環基を含む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基
(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、カルボキシ基またはその塩、イミノ基、N原子で置
換したイミノ基、チオカルボニル基、スルホニルカルバ
モイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカル
バモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモ
イル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基
またはその塩、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしく
はプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニル
オキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ
基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ
環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウ
レイド基、チオウレイド基、イソチオウレイド基、イミ
ド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニ
ルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド
基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアン
モニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくは
アリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、
アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト
基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、
アシルチオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル
基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スル
ホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファ
モイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、
ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構
造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げられる。こ
れら置換基は、これら置換基でさらに置換されていても
よい。
In the formula (1), when R 1 , R 2 and R 3 represent a substituent, examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom or an iodine atom) and an alkyl group (Aralkyl, cycloalkyl,
Active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (including N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), heterocyclic group containing quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group) ), Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl A group, a carbazoyl group, an oxalyl group, an oxamoyl group, a cyano group, a thiocarbamoyl group, a hydroxy group or a salt thereof, an alkoxy group (including a group having a repeating ethyleneoxy or propyleneoxy unit),
Aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide Group, ureido group, thioureido group, isothioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, oxamoylamino group , (Alkyl or aryl) sulfonyluureido, acylureido,
Acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group,
An acylthio group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group, an (alkyl or aryl) sulfinyl group, a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof,
Examples thereof include a phosphoryl group, a group having a phosphoric acid amide or a phosphoric ester structure, a silyl group, and a stannyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0143】式(1)においてZで表される電子吸引性
基とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる
置換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基、スルホ基(またはその塩)、ヘ
テロ環基、アルケニル基、アルキニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、またはこれら
電子吸引性基で置換されたアリール基等である。ここに
ヘテロ環基とは、芳香族もしくは非芳香族の、飽和もし
くは不飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリ
ル基、キノキサリニル基、ピラジニル基、ベンゾトリア
ゾリル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒ
ダントイン−1−イル基、ウラゾール−1−イル基、ス
クシンイミド基、フタルイミド基等がその例として挙げ
られる。式(1)においてZで表される電子吸引性基
は、さらに任意の置換基を有していてもよい。
The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value, specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom,
Perfluoroalkyl group, perfluoroalkaneamide group, sulfonamide group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group, sulfo group (or salt thereof), heterocyclic group, alkenyl group, alkynyl group, acyloxy group, acylthio group , A sulfonyloxy group, or an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is an aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group, a quinoxalinyl group, a pyrazinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group. Groups, hydantoin-1-yl group, urazol-1-yl group, succinimide group, phthalimide group and the like. The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) may further have an optional substituent.

【0144】式(1)においてZで表される電子吸引性
基として好ましくは、総炭素数0〜30の以下の基、即
ち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、
イミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニ
トロ基、パーフルオロアルキル基、アシル基、ホルミル
基、ホスホリル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ま
たは任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
り、さらに好ましくは、シアノ基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、イミノ基、
N原子で置換したイミノ基、スルファモイル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、ホ
ルミル基、ホスホリル基、トリフルオロメチル基、また
は任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
り、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、イミノ基、N原子で置換したイミ
ノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
アシル基、またはホルミル基である。
In the formula (1), the electron-withdrawing group represented by Z is preferably a group having a total number of carbon atoms of 0 to 30, that is, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, Carbonyl group,
Imino group, imino group substituted by N atom, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acyloxy group, acylthio group, or any electron withdrawing And a phenyl group substituted with a functional group, more preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, an imino group,
An imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group; Particularly preferably, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted by an N atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group,
An acyl group or a formyl group.

【0145】式(1)においてR1で表される置換基と
して好ましくは、総炭素数0〜30の基で、具体的には
上述の式(1)のZで表される電子吸引性基と同義の
基、およびアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、
ウレイド基、アシルアミノ基、シリル基、または置換も
しくは無置換のアリール基であり、さらに好ましくは上
述の式(1)のZで表される電子吸引性基と同義の基、
置換もしくは無置換のアリール基、アルケニル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基、シリル
基、またはアシルアミノ基であり、より好ましくは電子
吸引性基、アリール基、アルケニル基、またはアシルア
ミノ基である。
In formula (1), the substituent represented by R 1 is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30, specifically, an electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (1). And an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group,
Aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group,
A ureido group, an acylamino group, a silyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, more preferably a group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (1);
A substituted or unsubstituted aryl group, alkenyl group, alkylthio group, arylthio group, alkoxy group, silyl group, or acylamino group, more preferably an electron-withdrawing group, aryl group, alkenyl group, or acylamino group.

【0146】R1が電子吸引性基を表す時、その好まし
い範囲はZで表される電子吸引性基の好ましい範囲と同
じである。
When R 1 represents an electron-withdrawing group, the preferred range is the same as the preferred range of the electron-withdrawing group represented by Z.

【0147】式(1)においてR2およびR3で表される
置換基として好ましくは、上述の式(1)のZで表され
る電子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒドロキシ基
(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ
基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換のフェニル基
等である。R2およびR3はさらに好ましくは、どちらか
一方が水素原子で、他方が置換基を表す時である。その
置換基として好ましくは、アルキル基、ヒドロキシ基
(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ
基、アシルアミノ基(特にパーフルオロアルカンアミド
基)、スルホンアミド基、置換もしくは無置換のフェニ
ル基、またはヘテロ環基等であり、さらに好ましくはヒ
ドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはそ
の塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基、アミノ基、またはヘテロ環基であり、特に好まし
くはヒドロキシ基(またはその塩)、アルコキシ基、ま
たはヘテロ環基である。
In the formula (1), the substituent represented by R 2 and R 3 is preferably a group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (1), an alkyl group, a hydroxy group ( Or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an anilino group, and a heterocyclic amino group , An acylamino group, a substituted or unsubstituted phenyl group and the like. R 2 and R 3 are more preferably when one of them is a hydrogen atom and the other represents a substituent. The substituent is preferably an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group. Group, alkylamino group, anilino group, heterocyclic amino group, acylamino group (particularly perfluoroalkaneamide group), sulfonamide group, substituted or unsubstituted phenyl group, heterocyclic group, etc., and more preferably hydroxy group (Or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group, and particularly preferably. Hydroxy group (or salt thereof), alkoxy group, or heterocyclic group A.

【0148】式(1)においてZとR1、或いはまたR2
とR3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。こ
の場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もし
くは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは5員〜7員
の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は1〜4
0、さらには3〜35が好ましい。
In the formula (1), Z and R 1 , or R 2
It is also preferred that and R 3 form a cyclic structure. The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring, and is preferably a 5- to 7-membered cyclic structure having a total carbon number including a substituent of 1 to 7. 4
0, more preferably 3-35.

【0149】式(1)で表される化合物の中で、より好
ましいものの1つは、Zがシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカル
バモイル基を表し、R1が電子吸引性基を表し、R2また
はR3のどちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ
基(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、ア
ミノ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。
Among the compounds represented by formula (1), one of the more preferable ones is that Z represents a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group, and R 1 is Represents an electron withdrawing group, one of R 2 and R 3 is a hydrogen atom, the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof),
An alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group,
A compound representing an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group.

【0150】さらにまた式(1)で表される化合物の中
でより好ましいものの1つは、ZとR1とが連結して非
芳香族の5員〜7員の環状構造を形成していて、R2
たはR 3のどちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキ
シ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその
塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アミノ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。
Further, among the compounds represented by the formula (1),
One of the more preferred is Z and R1Is linked to non
Forming an aromatic 5- to 7-membered cyclic structure,TwoMa
Or R ThreeIs a hydrogen atom and the other is a hydroxy atom.
Group (or its salt), mercapto group (or its
Salt), alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxo
Si group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio
A compound that represents a group, an amino group, or a heterocyclic group.

【0151】ここでZとR1とが形成する非芳香族の5
員〜7員の環状構造とは具体的に、インダン−1,3−
ジオン環、ピロリジン−2,4−ジオン環、ピラゾリジ
ン−3,5−ジオン環、オキサゾリジン−2,4−ジオ
ン環、5−ピラゾロン環、イミダゾリジン−2,4−ジ
オン環、チアゾリジン−2,4−ジオン環、オキソラン
−2,4−ジオン環、チオラン−2,4−ジオン環、
1,3−ジオキサン−4,6−ジオン環、シクロヘキサ
ン−1,3−ジオン環、1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−2,4−ジオン環、シクロペンタン−1,3
−ジオン環、イソオキサゾリジン−3,5−ジオン環、
バルビツール酸環、2,3−ジヒドロベンゾフラン−3
−オン環、ピラゾロトリアゾール環(例えば7H−ピラ
ゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾール,7H
−ピラゾロ[5,1−c][1,2,4]トリアゾー
ル,7H−ピラゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾール
等)、ピロロトリアゾール環(例えば5H−ピロロ
[1,2−b][1,2,4]トリアゾール,5H−ピ
ロロ[2,1−c][1,2,4]トリアゾール等)、
2−シクロペンテン−1,4−ジオン環、2,3−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−3−オン−1,1−ジオキシド
環、クロマン−2,4−ジオン環、2−オキサゾリン−
5−オン環、2−イミダゾリン−5−オン環、2−チア
ゾリン−5−オン環、1−ピロリン−4−オン環、5−
オキソチアゾリジン−2−チオン環、4−オキソチアゾ
リジン−2−チオン環、ピロロピリミジノン環、1,3
−ジチオラン環、チアゾリジン環、1,3−ジチエタン
環、1,3−ジオキソラン環等が挙げられ、中でもイン
ダン−1,3−ジオン環、ピロリジン−2,4−ジオン
環、ピラゾリジン−3,5−ジオン環、5−ピラゾロン
環、バルビツール酸環、2−オキサゾリン−5−オン環
等が好ましい。
Here, the non-aromatic 5 formed by Z and R 1
The 7-membered to 7-membered cyclic structure is specifically indane-1,3-
Dione ring, pyrrolidine-2,4-dione ring, pyrazolidine-3,5-dione ring, oxazolidine-2,4-dione ring, 5-pyrazolone ring, imidazolidine-2,4-dione ring, thiazolidine-2,4 A dione ring, an oxolane-2,4-dione ring, a thiolane-2,4-dione ring,
1,3-dioxane-4,6-dione ring, cyclohexane-1,3-dione ring, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-2,4-dione ring, cyclopentane-1,3
A dione ring, an isoxazolidine-3,5-dione ring,
Barbituric acid ring, 2,3-dihydrobenzofuran-3
-One ring, pyrazolotriazole ring (for example, 7H-pyrazolo [1,5-b] [1,2,4] triazole, 7H
-Pyrazolo [5,1-c] [1,2,4] triazole, 7H-pyrazolo [1,5-a] benzimidazole, etc.), pyrrolotriazole ring (for example, 5H-pyrrolo [1,2-b] [1 , 2,4] triazole, 5H-pyrrolo [2,1-c] [1,2,4] triazole and the like),
2-cyclopentene-1,4-dione ring, 2,3-dihydrobenzothiophen-3-one-1,1-dioxide ring, chroman-2,4-dione ring, 2-oxazoline-
5-one ring, 2-imidazolin-5-one ring, 2-thiazolin-5-one ring, 1-pyrrolin-4-one ring, 5-
Oxothiazolidine-2-thione ring, 4-oxothiazolidine-2-thione ring, pyrrolopyrimidinone ring, 1,3
-Dithiolane ring, thiazolidine ring, 1,3-dithiethane ring, 1,3-dioxolane ring and the like, among which indane-1,3-dione ring, pyrrolidine-2,4-dione ring, pyrazolidine-3,5- A dione ring, a 5-pyrazolone ring, a barbituric acid ring, a 2-oxazolin-5-one ring and the like are preferable.

【0152】式(2)においてR4で表される置換基の
例としては、式(1)のR1〜R3の置換基について説明
したものと同じものが挙げられる。
Examples of the substituent represented by R 4 in the formula (2) are the same as those described for the substituents R 1 to R 3 in the formula (1).

【0153】式(2)においてR4で表される置換基
は、好ましくは電子吸引性基またはアリール基である。
4が電子吸引性基を表す時、好ましくは、総炭素数0
〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、パー
フルオロアルキル基、ホスホリル基、イミノ基、スルホ
ンアミド基、またはヘテロ環基であり、さらにシアノ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、ヘテ
ロ環基が好ましい。
In formula (2), the substituent represented by R 4 is preferably an electron-withdrawing group or an aryl group.
When R 4 represents an electron-withdrawing group, it preferably has a total carbon number of 0.
To 30 or less of the following groups: cyano group, nitro group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, perfluoroalkyl group, phosphoryl Group, imino group, sulfonamide group, or heterocyclic group, further cyano group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group,
A carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonamide group, and a heterocyclic group are preferred.

【0154】R4がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数0〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、式(1)のR1,R2,R3が置
換基を表す時にその置換基として説明したものと同じも
のが挙げられるが、電子吸引性基が好ましい。
[0154] When R 4 represents an aryl group, preferably a total carbon number of 0 to 30, a substituted or unsubstituted phenyl group, the substituent, R 1, R 2, R 3 of formula (1) When represents a substituent, the same as those described as the substituent can be mentioned, but an electron-withdrawing group is preferable.

【0155】式(3)においてX,Yで表される置換基
としては、式(1)のR1〜R3の置換基について説明し
たものと同じものが挙げられる。X,Yで表される置換
基は、好ましくは総炭素数1〜50の、より好ましくは
総炭素数1〜35の基であり、シアノ基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカル
ボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキ
ル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルア
ミノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、
アルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が
好ましい。より好ましくはシアノ基、ニトロ基、アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、ホルミ
ル基、アシルチオ基、アシルアミノ基、チオカルボニル
基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、ホスホリル基、トリフルオロメチル基、ヘテロ環
基、または置換されたフェニル基等であり、特に好まし
くはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
シル基、アシルチオ基、アシルアミノ基、チオカルボニ
ル基、ホルミル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、ヘテロ環基、または任意の電子吸引性基で置換され
たフェニル基等である。
As the substituents represented by X and Y in the formula (3), the same substituents as those described for the substituents R 1 to R 3 in the formula (1) can be mentioned. The substituent represented by X or Y is preferably a group having 1 to 50 total carbon atoms, more preferably a group having 1 to 35 total carbon atoms, and is a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, Imino group, imino group substituted by N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group,
Arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acylamino group, acyloxy group, acylthio group, heterocyclic group,
Preferred are an alkylthio group, an alkoxy group, an aryl group, and the like. More preferably substituted with a cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acyl group, formyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, imino group, N atom Imino group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group, and particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, Examples include an acylthio group, an acylamino group, a thiocarbonyl group, a formyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a heterocyclic group, and a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group.

【0156】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環は5員〜7員環が好
ましく、具体的には式(1)のZとR1とが互いに結合
して形成しうる非芳香族の5員〜7員環の例と同じもの
が挙げられ、その好ましい範囲もまた同じである。これ
らの環はさらに置換基を有していても良く、その総炭素
数は1〜40、さらには1〜35が好ましい。
It is also preferable that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. At this time, the formed ring is preferably a 5- to 7-membered ring, and specifically, a non-aromatic 5- to 7-membered ring which can be formed by bonding Z and R 1 of the formula (1) to each other. The same examples are given, and their preferred ranges are also the same. These rings may further have a substituent, and the total carbon number is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 35.

【0157】式(3)においてA,Bで表される基は、
さらに置換基を有していてもよく、好ましくは総炭素数
1〜40の、より好ましくは総炭素数1〜30の基であ
る。式(3)においてA,Bは、これらが互いに結合し
て環状構造を形成している場合がより好ましい。この時
形成される環状構造は5員〜7員環の非芳香族のヘテロ
環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さらには3〜
30が好ましい。この場合に、A,Bが連結した例(−
A−B−)を挙げれば、例えば−O−(CH 22−O
−,−O−(CH23−O−,−S−(CH22−S
−,−S−(CH 23−S−,−S−ph−S−,−N
(CH3)−(CH22−O−,−N(CH3)−(CH
22−S−,−O−(CH22−S−,−O−(C
23−S−,−N(CH3)−ph−O−,−N(C
3)−ph−S−,−N(ph)−(CH22−S−
等である。
In the formula (3), the groups represented by A and B are
It may further have a substituent, preferably the total number of carbon atoms
1 to 40, more preferably a group having 1 to 30 carbon atoms in total.
You. In the formula (3), A and B are
More preferably, the ring structure is formed. At this time
The cyclic structure formed is a 5- to 7-membered non-aromatic heterocyclic
A ring is preferable, and its total carbon number is 1 to 40, and further 3 to
30 is preferred. In this case, an example in which A and B are connected (-
AB-), for example, -O- (CH Two)Two-O
-, -O- (CHTwo)Three-O-, -S- (CHTwo)Two-S
-, -S- (CH Two)Three-S-, -S-ph-S-, -N
(CHThree)-(CHTwo)Two-O-, -N (CHThree)-(CH
Two)Two-S-, -O- (CHTwo)Two-S-, -O- (C
HTwo)Three-S-, -N (CHThree) -Ph-O-,-N (C
HThree) -Ph-S-,-N (ph)-(CHTwo)Two-S-
And so on.

【0158】式(1)〜式(3)で表される化合物は、
ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込まれ
ていてもよい。カプラ−等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基またはポリマ−が組み込ま
れているものでもよく、またカチオン性基(具体的に
は、4級のアンモニオ基を含む基、または4級化された
窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ
基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む
基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、
あるいは塩基により解離しうる解離性基(カルボキシ
基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバモイル
スルファモイル基等)が含まれていてもよい。これらの
基の例としては、例えば特開昭63−29751号公
報、米国特許第4,385,108号明細書、同4,4
59,347号明細書、特開昭59−195233号公
報、同59−200231号公報、同59−20104
5号公報、同59−201046号公報、同59−20
1047号公報、同59−201048号公報、同59
−201049号公報、特開昭61−170733号公
報、同61−270744号公報、同62−948号公
報、同63−234244号公報、同63−23424
5号公報、同63−234246号公報、特開平2−2
85344号公報、特開平1−100530号公報、特
開平7−234471号公報、特開平5−333466
号公報、特開平6−19032号公報、特開平6−19
031号公報、特開平5−45761号公報、米国特許
4994365号明細書、米国特許4988604号明
細書、特開平3−259240号公報、特開平7−56
10号公報、特開平7−244348号公報、独国特許
4006032号明細書等に記載の化合物が挙げられ
る。
The compounds represented by the formulas (1) to (3)
An adsorptive group that adsorbs to silver halide may be incorporated. A ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers may be incorporated, and a cationic group (specifically, a group containing a quaternary ammonium group, or A nitrogen-containing heterocyclic group containing a graded nitrogen atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group,
Alternatively, it may contain a dissociable group that can be dissociated by a base (carboxy group, sulfo group, acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). Examples of these groups include, for example, JP-A-63-29751, U.S. Pat. No. 4,385,108, and 4,4,108.
59,347, JP-A-59-195233, JP-A-59-200231, and JP-A-59-20104.
No. 5, No. 59-201046, No. 59-20
Nos. 1047, 59-201048, 59
JP-201049, JP-A-61-170733, JP-A-61-270744, JP-A-62-948, JP-A-63-234244, and JP-A-63-23424.
No. 5, JP-A-63-234246, and JP-A No. 2-2.
No. 85344, JP-A-1-100530, JP-A-7-234471, JP-A-5-333466
JP, JP-A-6-19032, JP-A-6-19
031, JP-A-5-45761, U.S. Pat. No. 4,994,365, U.S. Pat. No. 4,988,604, JP-A-3-259240, and JP-A-7-56.
No. 10, JP-A-7-244348, German Patent 4006032 and the like.

【0159】次に式(1)〜式(3)で表される化合物
の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物
に限定されるものではない。
Next, specific examples of the compounds represented by the formulas (1) to (3) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0160】[0160]

【化5】 Embedded image

【0161】[0161]

【化6】 Embedded image

【0162】[0162]

【化7】 Embedded image

【0163】[0163]

【化8】 Embedded image

【0164】式(1)〜式(3)で表される化合物は公
知の方法により容易に合成することができるが、例え
ば、米国特許5545515号明細書、米国特許563
5339号明細書、米国特許5654130号明細書、
国際公開WO−97/34196号、或いは特願平9−
354107号明細書、特開平11−133546号公
報、特開平11−95365号公報に記載の方法を参考
に合成することができる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3) can be easily synthesized by known methods. For example, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat.
No. 5339, U.S. Pat.No. 5,654,130,
International Publication WO-97 / 34196, or Japanese Patent Application No. Hei 9-
The compound can be synthesized with reference to the methods described in JP-A-354107, JP-A-11-133546 and JP-A-11-95365.

【0165】式(1)〜式(3)で表される化合物は、
1種のみ用いても、2種以上を併用しても良い。また上
記のものの他に、米国特許5545515号明細書、米
国特許5635339号明細書、米国特許565413
0号明細書、米国特許5705324号明細書、米国特
許5686228号明細書に記載の化合物、或いはまた
特開平10−161270号公報、特開平11−119
372号公報、特願平9−354107号明細書、特開
平11−133546号公報、特開平11−19373
号公報、特開平11−109546号公報、特開平11
−95365号公報、特開平11−95366号公報、
特開平11−149136号公報に記載された化合物を
併用して用いても良い。
The compounds represented by the formulas (1) to (3)
One type may be used alone, or two or more types may be used in combination. In addition to the above, US Pat. No. 5,545,515, US Pat. No. 5,635,339, US Pat.
0, U.S. Pat. No. 5,705,324 and U.S. Pat. No. 5,686,228;
372, Japanese Patent Application No. 9-354107, JP-A-11-133546, JP-A-11-19373.
JP, JP-A-11-109546, JP-A-11-109546
-95365, JP-A-11-95366,
Compounds described in JP-A-11-149136 may be used in combination.

【0166】さらに本発明においては、特開平10−1
61270号公報に記載の種々のヒドラジン誘導体を組
み合わせて用いることもできる。
Further, according to the present invention, a method disclosed in
Various hydrazine derivatives described in JP-A-61270 can be used in combination.

【0167】式(1)〜式(3)で表される化合物は、
水または適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノ
ール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ルソルブなどに溶解して用いることができる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3)
It can be used by dissolving it in water or a suitable organic solvent, for example, alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve and the like.

【0168】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、化合物の粉末を水等の適当
な溶媒中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波
によって分散し用いることができる。
Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used to dissolve the compound. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the compound powder can be dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.

【0169】式(1)〜式(3)で表される化合物は、
支持体に対して画像形成層側の層、即ち画像形成層ある
いはこの層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形
成層あるいはそれに隣接する層に添加することが好まし
い。式(1)〜式(3)で表される化合物の添加量は、
銀1モルに対し1×10-6〜1モルが好ましく、1×1
-5〜5×10-1モルがより好ましく、2×10-5〜2
×10-1モルが最も好ましい。
The compounds represented by the formulas (1) to (3)
It may be added to the image forming layer side of the support, that is, to the image forming layer or any other layer on the layer side, but it is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto. The addition amount of the compounds represented by the formulas (1) to (3)
1 × 10 -6 to 1 mol is preferable for 1 mol of silver, and 1 × 1 -6
0 -5 to 5 × 10 -1 mol is more preferable, and 2 × 10 -5 to 2 mol is preferable.
× 10 -1 mol is most preferred.

【0170】さらに本発明においては、特開平10−1
61270号公報に記載の種々のヒドラジン誘導体を組
み合わせて用いることもできる。本発明に造核剤として
好ましく用いられるヒドラジン誘導体は、下記式(H)
によって表わされる化合物が好ましい。
Further, according to the present invention, a method disclosed in
Various hydrazine derivatives described in JP-A-61270 can be used in combination. The hydrazine derivative preferably used as a nucleating agent in the present invention has the following formula (H)
Are preferred.

【0171】[0171]

【化9】 Embedded image

【0172】式中、R20は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表し、R10は水素原子またはブロック基を
表し、G1は−CO−、−COCO−、−C(=S)
−、−SO2、−SO−、−PO(R30)−基(R30
10に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R10と異な
っていてもよい。)、またはイミノメチレン基を表す。
1、A2はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換の、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、またはアシル基を表す。m1
0または1であり、m1が0の時、R10は脂肪族基、芳
香族基、またはヘテロ環基を表す。
In the formula, R 20 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, R 10 represents a hydrogen atom or a block group, and G 1 represents —CO—, —COCO—, —C (= S)
-, - SO 2, -SO - , - PO (R 30) - group (. R 30 is selected from the same range as the groups defined in R 10, may be different from R 10), or an iminomethylene Represents a group.
A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group,
Represents an arylsulfonyl group or an acyl group. m 1 is 0 or 1, and when m 1 is 0, R 10 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group.

【0173】次に下記式(H)によって表わされる本発
明に用いられるヒドラジン誘導体について説明する。式
(H)においてR20で表される脂肪族基とは、好ましく
は炭素数1〜30の置換もしくは無置換の、直鎖、分岐
または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
である。
Next, the hydrazine derivative represented by the following formula (H) and used in the present invention will be described. The aliphatic group represented by R 20 in the formula (H) is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group having 1 to 30 carbon atoms.

【0174】R20で表される芳香族基とは単環もしくは
縮合環のアリール基で、例えばベンゼン環、ナフタレン
環から誘導されるフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。R 20で表されるヘテロ環基とは、単環または縮合環
の、飽和もしくは不飽和の、芳香族または非芳香族のヘ
テロ環基で、これらの基中のヘテロ環としては、例え
ば、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラ
ゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダ
ゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフ
ェン環、トリアジン環、モルホリン環、ピペリジン環、
ピペラジン環、ベンゾ[1,3]ジオキソール環等が挙
げられる。R20は任意の置換基で置換されていてもよ
い。R20として好ましいものはアリール基、アルキル
基、または芳香族ヘテロ環基であり、さらに好ましく
は、置換もしくは無置換のフェニル基、炭素数1〜3の
置換アルキル基、または芳香族ヘテロ環基である。
R20The aromatic group represented by is a single ring or
Condensed ring aryl group such as benzene ring, naphthalene
Phenyl and naphthyl groups derived from a ring
You. R 20The heterocyclic group represented by is a monocyclic or condensed ring
Saturated or unsaturated, aromatic or non-aromatic
In the telocyclic group, examples of the hetero ring in these groups include
For example, pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyra
Zole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, benzimida
Zole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thiof
Benzene ring, triazine ring, morpholine ring, piperidine ring,
Examples include a piperazine ring and a benzo [1,3] dioxole ring.
I can do it. R20May be substituted with any substituent
No. R20Are preferably an aryl group and an alkyl
Or an aromatic heterocyclic group, more preferably
Is a substituted or unsubstituted phenyl group, having 1 to 3 carbon atoms.
It is a substituted alkyl group or an aromatic heterocyclic group.

【0175】R20が炭素数1〜3の置換アルキル基を表
すとき、R20はより好ましくは置換メチル基であり、さ
らには二置換メチル基もしくは三置換メチル基が好まし
い。R20が置換メチル基を表すとき、好ましい具体例と
しては、t−ブチル基、ジシアノメチル基、ジシアノフ
ェニルメチル基、トリフェニルメチル基(トリチル
基)、ジフェニルメチル基、メトキシカルボニルジフェ
ニルメチル基、シアノジフェニルメチル基、メチルチオ
ジフェニルメチル基、シクロプロピルジフェニルメチル
基などが挙げられるが、中でもトリチル基が最も好まし
い。
[0175] When R 20 represents a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 20 is more preferably a substituted methyl group, more disubstituted methyl or trisubstituted methyl group is preferred. When R 20 represents a substituted methyl group, preferred specific examples include a t-butyl group, a dicyanomethyl group, a dicyanophenylmethyl group, a triphenylmethyl group (trityl group), a diphenylmethyl group, a methoxycarbonyldiphenylmethyl group, and a cyano group. Examples thereof include a diphenylmethyl group, a methylthiodiphenylmethyl group, and a cyclopropyldiphenylmethyl group, and among them, a trityl group is most preferable.

【0176】R20が芳香族ヘテロ環基を表すとき、好ま
しいヘテロ環としてピリジン環、キノリン環、ピリミジ
ン環、トリアジン環、ベンゾチアゾール環、ベンズイミ
ダゾール環、チオフェン環等が挙げられる。式(H)に
おいてR20は、最も好ましくは置換もしくは無置換のフ
ェニル基である。
When R 20 represents an aromatic heterocyclic group, preferred hetero rings include a pyridine ring, a quinoline ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a thiophene ring and the like. In the formula (H), R 20 is most preferably a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0177】式(H)においてR10は水素原子またはブ
ロック基を表すが、ブロック基とは具体的に脂肪族基
(具体的にはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基)、芳香族基(単環もしくは縮合環のアリール基)、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換も
しくは無置換のアミノ基またはヒドラジノ基を表す。
In the formula (H), R 10 represents a hydrogen atom or a block group, and the block group is specifically an aliphatic group (specifically, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group) or an aromatic group (a single group). Ring or fused ring aryl group),
Represents a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a substituted or unsubstituted amino group or a hydrazino group.

【0178】R10として好ましくは、アルキル基(炭素
数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基で、例え
ばメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ジフル
オロメチル基,2−カルボキシテトラフルオロエチル
基、ピリジニオメチル基、ジフルオロメトキシメチル
基、ジフルオロカルボキシメチル基、ヒドロキシメチル
基、メタンスルホンアミドメチル基、ベンゼンスルホン
アミドメチル基、トリフルオロスルホンアミドメチル
基、トリフルオロアセチルメチル基、ジメチルアミノメ
チル基、フェニルスルホニルメチル基、o−ヒドロキシ
ベンジル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、
4−エチルフェノキシメチル基、フェニルチオメチル
基、t−ブチル基、ジシアノメチル基、ジフェニルメチ
ル基、トリフェニルメチル基、メトキシカルボニルジフ
ェニルメチル基、シアノジフェニルメチル基、メチルチ
オジフェニルメチル基等)、アルケニル基(炭素数1〜
10のアルケニル基で、例えばビニル基、2−エトキシ
カルボニルビニル基、2−トリフルオロ−2−メトキシ
カルボニルビニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−
シアノ−2−メトキシカルボニルビニル基、2−シアノ
−2−エトキシカルボニルビニル基、2−アセチル−2
−エトキシカルボニルビニル基等)、アリール基(単環
もしくは縮合環のアリール基で、ベンゼン環を含むもの
が特に好ましく、例えばフェニル基、パーフルオロフェ
ニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メタンスル
ホンアミドフェニル基、2−カルバモイルフェニル基、
4,5−ジシアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフ
ェニル基、2,6−ジクロロ−4−シアノフェニル基、
2−クロロ−5−オクチルスルファモイルフェニル
基)、ヘテロ環基(少なくとも1つの窒素、酸素、およ
び硫黄原子を含む5〜6員の、飽和もしくは不飽和の、
単環もしくは縮合環のヘテロ環基で、例えばモルホリノ
基、ピベリジノ基(N−置換)、イミダソリル基、イン
ダゾリル基(4−ニトロインダゾリル基)、ピラゾリル
基、トリアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、テトラゾ
リル基、ピリジル基、ピリジニオ基、キノリニオ基、キ
ノリル基、ヒダントイル基、イミダゾリジニル基等)、
アルコキシ基(炭素数1〜8のアルコキシ基が好まし
く、例えばメトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベ
ンジルオキシ基、t−ブトキシ基等)、アミノ基(無置
換アミノ基、および炭素数1〜10のアルキルアミノ
基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不飽和のヘ
テロ環アミノ基(4級化された窒素原子を含む含窒素ヘ
テロ環アミノ基を含む)が好ましく、例えば2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イルアミノ基、
プロピルアミノ基、2−ヒドロキシエチルアミノ基、3
−ヒドロキシプロピルアミノ基、アニリノ基、o−ヒド
ロキシアニリノ基、5−ベンゾトリアゾリルアミノ基、
N−ベンジル−3−ピリジニオアミノ基等)である。R
10で表される基は任意の置換基で置換されていてもよ
い。
R 10 is preferably an alkyl group (a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a 2-carboxytetrafluoroethyl group). , Pyridiniomethyl, difluoromethoxymethyl, difluorocarboxymethyl, hydroxymethyl, methanesulfonamidomethyl, benzenesulfonamidomethyl, trifluorosulfonamidomethyl, trifluoroacetylmethyl, dimethylaminomethyl, phenylsulfonyl Methyl group, o-hydroxybenzyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group,
4-ethylphenoxymethyl group, phenylthiomethyl group, t-butyl group, dicyanomethyl group, diphenylmethyl group, triphenylmethyl group, methoxycarbonyldiphenylmethyl group, cyanodiphenylmethyl group, methylthiodiphenylmethyl group, etc.), alkenyl group (C 1-
10 alkenyl groups such as vinyl, 2-ethoxycarbonylvinyl, 2-trifluoro-2-methoxycarbonylvinyl, 2,2-dicyanovinyl, 2-
Cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, 2-cyano-2-ethoxycarbonylvinyl group, 2-acetyl-2
-Ethoxycarbonylvinyl group, etc.) and aryl groups (monocyclic or condensed-ring aryl groups containing a benzene ring are particularly preferred; for example, phenyl, perfluorophenyl, 3,5-dichlorophenyl, 2-methanesulfone) An amidophenyl group, a 2-carbamoylphenyl group,
4,5-dicyanophenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, 2,6-dichloro-4-cyanophenyl group,
2-chloro-5-octylsulfamoylphenyl group), heterocyclic group (5-6 membered saturated or unsaturated, containing at least one nitrogen, oxygen and sulfur atom)
A monocyclic or condensed heterocyclic group such as morpholino, piberidino (N-substituted), imidazolyl, indazolyl (4-nitroindazolyl), pyrazolyl, triazolyl, benzimidazolyl, tetrazolyl, Pyridyl group, pyridinio group, quinolinio group, quinolyl group, hydantoyl group, imidazolidinyl group, etc.),
An alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, for example, a methoxy group, a 2-hydroxyethoxy group, a benzyloxy group, a t-butoxy group, etc.), an amino group (an unsubstituted amino group, and a 1 to 10 carbon atoms) An alkylamino group, an arylamino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic amino group (including a nitrogen-containing heterocyclic amino group containing a quaternized nitrogen atom) is preferable.
6,6-tetramethylpiperidin-4-ylamino group,
Propylamino group, 2-hydroxyethylamino group, 3
-Hydroxypropylamino group, anilino group, o-hydroxyanilino group, 5-benzotriazolylamino group,
N-benzyl-3-pyridinioamino group and the like). R
The group represented by 10 may be substituted with any substituent.

【0179】R10で表わされる基のうち好ましいもの
は、R20がフェニル基ないしは芳香族へテロ環基を表
し、かつG1が−CO−基の場合には、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ま
たはヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、ア
ルキル基、アリール基であり、最も好ましくは水素原子
またはアルキル基である。ここでR10がアルキル基を表
す時、その置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヒドロキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アシ
ルアミノ基、カルボキシ基が特に好ましい。
Of the groups represented by R 10 , preferred are a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group when R 20 represents a phenyl group or an aromatic heterocyclic group and G 1 is a —CO— group. A alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and most preferably a hydrogen atom or an alkyl group. When R 10 represents an alkyl group, the substituent is preferably a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, a sulfonamide group, an amino group, an acylamino group, or a carboxy group. .

【0180】R20が置換メチル基を表し、かつG1が−
CO−基の場合には、R10は好ましくは水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミ
ノ基(無置換アミノ基、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、ヘテロ環アミノ基)であり、さらに好ましくは
水素原子、アルキル基 アリール基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテ
ロ環アミノ基である。G1が−COCO−基の場合に
は、R20に関わらず、R10はアルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基が好ましく、特に置換アミノ基、詳し
くはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和
もしくは不飽和のヘテロ環アミノの基が好ましい。
R 20 represents a substituted methyl group, and G 1 represents-
In the case of a CO— group, R 10 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group (unsubstituted amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group). And more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group. When G 1 is a —COCO— group, regardless of R 20 , R 10 is preferably an alkoxy group, an aryloxy group, or an amino group, particularly a substituted amino group, specifically, an alkylamino group, an arylamino group, or a saturated amino group. Alternatively, an unsaturated heterocyclic amino group is preferred.

【0181】またG1が−SO2−基の場合には、R20
関わらず、R10はアルキル基、アリール基または置換ア
ミノ基が好ましい。式(H)においてG1は好ましくは
−CO−基または−COCO−基であり、特に好ましく
は−CO−基である。
When G 1 is a —SO 2 — group, R 10 is preferably an alkyl group, an aryl group or a substituted amino group, regardless of R 20 . In the formula (H), G 1 is preferably a —CO— group or a —COCO— group, particularly preferably a —CO— group.

【0182】式(H)においてA1、A2は水素原子、炭
素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニル基
(好ましくはフェニルスルホニル基、またはハメットの
置換基定数の和が−0.5以上となるように置換された
フェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基
(好ましくはベンゾイル基、またはハメットの置換基定
数の和が−0.5以上となるように置換されたベンゾイ
ル基、あるいは直鎖、分岐、もしくは環状の置換または
無置換の脂肪族アシル基である。A1、A2としては水素
原子が最も好ましい。
In the formula (H), A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkyl or arylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenylsulfonyl group, or a sum of substituent constants of Hammett is -0.5 or more) Phenylsulfonyl group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted such that the sum of Hammett's substituent constants becomes -0.5 or more, or a linear group. , A branched or cyclic, substituted or unsubstituted aliphatic acyl group, and A 1 and A 2 are most preferably hydrogen atoms.

【0183】式(H)においてm1は1または0を表す
が、m1が0の時、R10は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表す。m1が0の時、R10は特に好ましく
はフェニル基、炭素数1〜3の置換アルキル基、または
アルケニル基であり、これらのうちフェニル基および炭
素数1〜3の置換アルキル基については、その好ましい
範囲は先に説明したR20の好ましい範囲と同じである。
10がアルケニル基の時、好ましくはR10はビニル基で
あり、以下の置換基、即ち、シアノ基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、カルバモイル基等から選ばれる置換基を、1つない
しは2つ有するビニル基が特に好ましい。具体的には、
2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メトキシ
カルボニルビニル基、2−シアノ−2−エトキシカルボ
ニルビニル基、2−アセチル−2−エトキンカルボニル
ビニル基等が挙げられる。m1は好ましくは1である。
In the formula (H), m 1 represents 1 or 0. When m 1 is 0, R 10 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. When m 1 is 0, R 10 is particularly preferably a phenyl group, a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkenyl group. Of these, for the phenyl group and the substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, its preferred range is the same as the preferable ranges of R 20 as described above.
When R 10 is an alkenyl group, preferably R 10 is a vinyl group, and is a substituent selected from the following substituents: a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a carbamoyl group and the like. Vinyl groups having one or two groups are particularly preferred. In particular,
Examples thereof include a 2,2-dicyanovinyl group, a 2-cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, a 2-cyano-2-ethoxycarbonylvinyl group, and a 2-acetyl-2-ethoxyquincarbonylvinyl group. m 1 is preferably 1.

【0184】式(H)においてR10はG1−R10の部分
を残余分子から分裂させ、−G1−R 10部分の原子を含
む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなもの
であってもよく、また式(H)で表されるヒドラジン誘
導体には、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が
組み込まれていてもよい。式(H)のR10またはR20
はその中に、カプラー等の不動性写真用添加剤において
常用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれ
ているものでもよく、また式(H)のR10またはR
20は、置換基としてヒドラジノ基を複数個含んでいても
よく、この時式(H)で表される化合物は、ヒドラジノ
基に関しての多量体を表す。さらに式(H)のR10また
はR20は、その中にカチオン性基(具体的には、4級の
アンモニオ基を含む基、または4級化された窒素原子を
含む含窒素へテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくは
プロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキ
ル、アリール、またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基
により解離しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基等)が含まれていてもよい。これらの例としては、例
えば特開昭63−29751号公報、米国特許第438
5108号明細書、同4459347号明細書、特開昭
59−195233号公報、同59−200231号公
報、同59−201045号公報、同59−20104
6号公報、同59−201047号公報、同59−20
1048号公報、同59−201049号公報、特開昭
61−170733号公報、同61−270744号公
報、同62−948号公報、同63−234244号公
報、同63−234245号公報、同63−23424
6号公報、特開平2−285344号公報、特開平1−
100530号公報、特開昭64−86134号公報、
特開平4−16938号公報、特開平5−197091
号公報、国際公開WO95−32452号公報、国際公
開WO95−32453号公報、特開平9−23526
4号公報、特開平9−235265号公報、開平9−2
35266号公報、特開平9−235267号公報、特
開平9−179229号公報、特開平7−234471
号公報、特開平5−333466号公報、特開平6−1
9032号公報、特開平6−19031号公報、特開平
5−45761号公報、米国特許第4994365号明
細書、米国特許第4988604号明細書、特開平3−
259240号公報、特開平7−5610号公報、特開
平7−244348号公報、独国特許第4006032
号明細書等に記載の化合物が挙げられる。
In the formula (H), RTenIs G1-RTenPart of
From the residual molecule, and -G1-R TenIncluding partial atoms
That cause a cyclization reaction that produces a cyclic structure
And a hydrazine derivative represented by the formula (H).
The conductor has an adsorptive group that adsorbs to silver halide.
It may be incorporated. R of formula (H)TenOr R20To
Is used in immobile photographic additives such as couplers.
Incorporates commonly used ballast groups or polymers
And R in formula (H)TenOr R
20May have a plurality of hydrazino groups as substituents.
Often, the compound represented by the formula (H) is hydrazino
Represents a multimer for the group. Further, R of the formula (H)TenAlso
Is R20Has a cationic group (specifically, a quaternary
A group containing an ammonium group or a quaternized nitrogen atom
Including nitrogen-containing heterocyclic group), ethyleneoxy group or
Groups containing repeating units of a propyleneoxy group, (alkyl
, Aryl, or heterocycle) thio group or base
Dissociable groups (carboxy group, sulfo group,
Acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl
And the like) may be contained. These examples include
For example, JP-A-63-29751, U.S. Pat.
No. 5108, No. 4459347, and
JP-A-59-195233, JP-A-59-200231
Bulletin, JP-A-59-201045, JP-A-59-20104
No. 6, No. 59-201047, No. 59-20
Nos. 1048 and 59-201049,
Nos. 61-170733 and 61-270744
Bulletin, JP-A-62-948, JP-A-63-234244
Bulletin, JP-A-63-234245, JP-A-63-234424
6, JP-A-2-285344, JP-A-1-
No. 100530, JP-A-64-86134,
JP-A-4-16938, JP-A-5-97091
Publication, International Publication WO95-32452, International Publication
WO95-32453, JP-A-9-23526
No. 4, JP-A-9-235265, Kaihei 9-2
JP-A-35266, JP-A-9-235267,
JP-A-9-179229, JP-A-7-234471
JP, JP-A-5-333466, JP-A-6-1
No. 9032, JP-A-6-19031, JP-A-Hei.
No. 5-45761, U.S. Pat. No. 4,994,365
Japanese Patent No. 4,988,604;
JP-A-259240, JP-A-7-5610, JP-A-7-5610
JP-A-7-244348, German Patent No. 4006032
And the like.

【0185】次に式(H)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。
Next, specific examples of the compound represented by the formula (H) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0186】[0186]

【表1】 [Table 1]

【0187】[0187]

【表2】 [Table 2]

【0188】[0188]

【表3】 [Table 3]

【0189】[0189]

【表4】 [Table 4]

【0190】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
1種のみ用いても、2種以上を併用しても良い。また上
記のものの他に、下記のヒドラジン誘導体も好ましく用
いられる。(場合によっては組み合わせて用いることも
できる。)本発明に用いられるヒドラジン誘導体はま
た、下記の特許に記載された種々の方法により、合成す
ることができる。
The hydrazine derivative used in the present invention is
One type may be used alone, or two or more types may be used in combination. In addition to the above, the following hydrazine derivatives are also preferably used. (In some cases, they can be used in combination.) The hydrazine derivative used in the present invention can also be synthesized by various methods described in the following patents.

【0191】即ち、特開平10−10672号公報、特
開平10−161270号公報、特開平10−6289
8号公報、特開平9−304870号公報、特開平9−
304872号公報、特開平9−304871号公報、
特開平10−31282号公報、米国特許第54966
95号明細書、欧州特許741320A号明細書に記載
のすべてのヒドラジン誘導体。
That is, JP-A-10-10672, JP-A-10-161270, and JP-A-10-6289.
No. 8, JP-A-9-304870, JP-A-9-304
No. 304872, JP-A-9-304871,
JP-A-10-31282, US Patent No. 54966
95. All hydrazine derivatives described in EP-A-74320A.

【0192】ヒドラジン系造核剤は、水または適当な有
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。
The hydrazine nucleating agent may be water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc. Can be used by dissolving it.

【0193】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、ある
いは超音波によって分散し用いることができる。
Further, by a well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used to dissolve and dissolve mechanically. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the powder of the hydrazine derivative can be dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method and used.

【0194】ヒドラジン系造核剤は、支持体に対して画
像形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの層側の他
のどの層に添加してもよいが、画像形成層あるいはそれ
に隣接する層に添加することが好ましい。
The hydrazine-based nucleating agent may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, to the image forming layer or any other layer on the layer side. Preferably, it is added to the layer.

【0195】ヒドラジン系造核剤の添加量は銀1モルに
対して1×10-6〜1モルが好ましく、1×10-5×1
-1モルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1モル
が最も好ましい。
The addition amount of the hydrazine-based nucleating agent is preferably 1 × 10 −6 to 1 mol per 1 mol of silver, and 1 × 10 −5 × 1 mol.
0 -1 mol is more preferred, and 2 × 10 -5 to 2 × 10 -1 mol is most preferred.

【0196】増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着
した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感
できるもので有ればいかなるものでも良い。増感色素と
しては、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレッ
クスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、
ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニ
ン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を
用いることができる。本発明に使用される有用な増感色
素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17643IV-A項(1
978年12月p.23)、同Item1831X項(1979
年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記
載されている。特に各種レーザーイメージャー、スキャ
ナー、イメージセッターや製版カメラの光源の分光特性
に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択するこ
とができる。
Any sensitizing dye may be used as long as it can spectrally sensitize the silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on the silver halide grains. As sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes,
Holographic polar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17643, Section IV-A (1.
December 978, p. 23), Item 1831X (1979)
August, p. 437) or in the literature cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected.

【0197】赤色光への分光増感の例としては、He−
Neレーザー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわ
ゆる赤色光源に対しては、特開昭54−18726号公
報に記載のI−1〜I−38の化合物、特開平6−753
22号公報に記載のI−1〜I−35の化合物および特開
平7−287338号公報に記載のI−1〜I−34の化
合物、特公昭55−39818号公報に記載の色素1〜
20、特開昭62−284343号公報に記載のI−1
〜I−37の化合物および特開平7−287338号公
報に記載のI−1〜I−34の化合物などが有利に選択さ
れる。
As an example of spectral sensitization to red light, He-
For so-called red light sources such as Ne lasers, red semiconductor lasers and LEDs, the compounds of I-1 to I-38 described in JP-A-54-18726 and JP-A-6-753 are disclosed.
No. 22, compounds I-1 to I-35 and JP-A-7-287338, compounds I-1 to I-34, and dyes 1 to 3 described in JP-B-55-39818.
20, I-1 described in JP-A-62-284343.
To I-37 and the compounds I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338 are advantageously selected.

【0198】750〜1400nmの波長領域の半導体
レーザー光源に対しては、シアニン、メロシアニン、ス
チリル、ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノー
ルおよびキサンテン色素を含む種々の既知の色素によ
り、スペクトル的に有利に増感させることができる。有
用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾ
リン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核およびイミダゾール核など
の塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシ
アニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加え
て、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジ
ンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、
チアゾリノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核
などの酸性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニ
ン色素において、イミノ基またはカルボキシル基を有す
るものが特に効果的である。例えば、米国特許3,76
1,279号明細書、同3,719,495号明細書、
同3,877,943号明細書、英国特許1,466,
201号明細書、同1,469,117号明細書、同
1,422,057号明細書、特公平3−10391号
公報、同6−52387号公報、特開平5−34143
2号公報、同6−194781号公報、同6−3011
41号公報に記載されたような既知の色素から適当に選
択してよい。
For semiconductor laser light sources in the wavelength range of 750-1400 nm, various known dyes, including cyanine, merocyanine, styryl, hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, are spectrally advantageously sensitized. Can be done. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nuclei, oxazoline nuclei, pyrroline nuclei, pyridine nuclei, oxazole nuclei, thiazole nuclei, selenazole nuclei and imidazole nuclei. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, a thiohydantoin nucleus, a rhodanine nucleus, an oxazolidinedione nucleus, a thiazolinedione nucleus, a barbituric acid nucleus,
It also includes acidic nuclei such as thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, US Pat.
1,279, 3,719,495,
No. 3,877,943, British Patent 1,466.
Nos. 201, 1,469,117, 1,422,057, JP-B-3-10391, JP-A-6-52387, and JP-A-5-34143.
No. 2, JP-A-6-194787, JP-A-6-3011
The dyes may be appropriately selected from known dyes as described in JP-A-41.

【0199】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素(例としては特開昭62−58239号公
報、同3−138638号公報、同3−138642号
公報、同4−255840号公報、同5−72659号
公報、同5−72661号公報、同6−222491号
公報、同2−230506号公報、同6−258757
号公報、同6−317868号公報、同6−32442
5号公報、特表平7−500926号公報、米国特許
5,541,054号明細書に記載された色素)、カル
ボン酸基を有する色素(例としては特開平3−1634
40号公報、同6−301141号公報、米国特許5,
441,899号明細書に記載された色素)、メロシア
ニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素
(特開昭47−6329号公報、同49−105524
号公報、同51−127719号公報、同52−808
29号公報、同54−61517号公報、同59−21
4846号公報、同60−6750号公報、同63−1
59841号公報、特開平6−35109号公報、同6
−59381号公報、同7−146537号公報、同7
−146537号公報、特表平55−50111号公
報、英国特許1,467,638号明細書、米国特許
5,281,515号明細書に記載された色素)が挙げ
られる。
Particularly preferred structures of the dyes used in the present invention are cyanine dyes having a thioether bond-containing substituent (for example, JP-A-62-58239, JP-A-3-13838, and JP-A-3-138842). JP-A-4-255840, JP-A-5-72659, JP-A-5-72661, JP-A-6-222491, JP-A-2-230506, and JP-A-6-258557.
JP-A-6-317868 and JP-A-6-32442
5, JP-A-7-500926, U.S. Pat. No. 5,541,054), and a dye having a carboxylic acid group (for example, see JP-A-3-1634).
No. 40, No. 6-301141, U.S. Pat.
441,899), merocyanine dyes, polynuclear merocyanine dyes and polynuclear cyanine dyes (JP-A-47-6329, JP-A-49-105524).
JP-A-51-127719, JP-A-52-808
No. 29, 54-61517, 59-21
Nos. 4846, 60-6750 and 63-1
59841, JP-A-6-35109, 6
-59381, 7-146537 and 7
Dyes described in JP-A-146537, JP-T-55-50111, British Patent 1,467,638, and US Pat. No. 5,281,515.

【0200】また、J−bandを形成する色素として
米国特許5,510,236号明細書、同3,871,
887号明細書の実施例5記載の色素、特開平2−96
131号公報、特開昭59−48753号公報が開示さ
れており、本発明に好ましく用いることができる。
As dyes for forming a J-band, US Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,
The dye described in Example 5 of JP-A-887, JP-A-2-96;
No. 131 and JP-A-59-48753 are disclosed and can be preferably used in the present invention.

【0201】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せおよび強色増感を示す物質は
Research Disclosure176巻17643(1978年
12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは特公昭49−
25500号公報、同43−4933号公報、特開昭5
9−19032号公報、同59−192242号公報等
に記載されている。
These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. In particular, combinations of sensitizing dyes are frequently used for supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are
Research Disclosure 176, 17643 (published December 1978), page 23, IV, J, or JP-B-49-
No. 25500, No. 43-4933, JP-A-5
Nos. 9-19032 and 59-192242.

【0202】増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加させ
るには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、ある
いは水、メタノール、エタノール、プロパノール、アセ
トン、メチルセルソルブ、2,2,3,3−テトラフル
オロプロパノール、2,2,2−トリフルオロエタノー
ル、3−メトキシ−1−プロパノール、3−メトキシ−
1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、
N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独もしくは
混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。
The sensitizing dyes can be added to the silver halide emulsion by dispersing them directly in the emulsion or by adding water, methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2,2 3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy-1-propanol, 3-methoxy-
1-butanol, 1-methoxy-2-propanol,
It may be added to the emulsion by dissolving it in a solvent such as N, N-dimethylformamide alone or in a mixed solvent.

【0203】また、米国特許3,469,987号明細
書等に開示されているように、色素を揮発性の有機溶剤
に溶解し、この溶液を水または親水性コロイド中に分散
し、この分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44−
23389号公報、同44−27555号公報、同57
−22091号公報等に開示されているように、色素を
酸に溶解し、この溶液を乳剤中に添加したり、酸または
塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添加する方法、
米国特許3,822,135号明細書、同4,006,
025号明細書等に開示されているように界面活性剤を
共存させて水溶液あるいはコロイド分散物としたものを
乳剤中に添加する方法、特開昭53−102733号公
報、同58−105141号公報に開示されているよう
に親水性コロイド中に色素を直接分散させ、その分散物
を乳剤中に添加する方法、特開昭51−74624号公
報に開示されているように、レッドシフトさせる化合物
を用いて色素を溶解し、この溶液を乳剤中へ添加する方
法を用いることもできる。また、溶解に超音波を用いる
こともできる。
Further, as disclosed in US Pat. No. 3,469,987, a dye is dissolved in a volatile organic solvent, and this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid. To the emulsion, Japanese Patent Publication No.
No. 23389, No. 44-27555, No. 57
As disclosed in -22091 and the like, a method of dissolving a dye in an acid and adding this solution to an emulsion, or adding an acid or a base to an emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or a base,
U.S. Pat. Nos. 3,822,135 and 4,006
No. 025/105, and a method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion as disclosed in JP-A-53-102733 and JP-A-58-105141. A method in which a dye is directly dispersed in a hydrophilic colloid as disclosed in JP-A-51-74624, and a compound for red-shifting is disclosed as disclosed in JP-A-51-74624. A method of dissolving the dye by using the solution and adding this solution to the emulsion can also be used. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.

【0204】本発明に用いる増感色素をハロゲン化銀乳
剤中に添加する時期は、これまで有用であることが認め
られている乳剤調製のいかなる工程中であってもよい。
例えば米国特許2,735,766号明細書、同3,6
28,960号明細書、同4,183,756号明細
書、同4,225,666号明細書、特開昭58−18
4142号公報、同60−196749号公報等の明細
書に開示されているように、ハロゲン化銀の粒子形成工
程または/および脱塩前の時期、脱塩工程中および/ま
たは脱塩後から化学熟成の開始前までの時期、特開昭5
8−113920号公報等の明細書に開示されているよ
うに、化学熟成の直前または工程中の時期、化学熟成
後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前ならばいかな
る時期、工程において添加されてもよい。また、米国特
許4,225,666号明細書、特開昭58−7629
号公報等の明細書に開示されているように、同一化合物
を単独で、または異種構造の化合物と組み合わせて、例
えば粒子形成工程中と化学熟成工程中または化学熟成完
了後とに分けたり、化学熟成の前または工程中と完了後
とに分けるなどして分割して添加してもよく、分割して
添加する化合物および化合物の組み合わせの種類を変え
て添加してもよい。
The sensitizing dye to be used in the present invention may be added to the silver halide emulsion at any stage in the preparation of the emulsion which has been found to be useful.
For example, US Pat. Nos. 2,735,766 and 3,6
28,960, 4,183,756 and 4,225,666, JP-A-58-18.
As disclosed in the specifications such as JP-A Nos. 4142 and 60-196749, the timing before silver halide grain formation and / or before desalination, during and / or after desalination of silver halide, and the like. Until the start of ripening,
As disclosed in the specification of JP-A-8-113920 and the like, at any time during the process immediately before or during chemical ripening, and at any time after the chemical ripening and before coating, before the emulsion is coated. May be done. Also, U.S. Pat. No. 4,225,666, JP-A-58-7629.
As disclosed in the specification of Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-163, the same compound may be used alone or in combination with a compound having a different structure. The compound may be added in portions such as before aging or during the process and after completion, or may be added by changing the kind of compound to be added and the combination of compounds.

【0205】本発明における増感色素の使用量としては
感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、
画像形成層(感光性層)のハロゲン化銀1モル当たり1
-6〜1モルが好ましく、10-4〜10-1モルがさらに
好ましい。
The amount of the sensitizing dye used in the present invention may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog.
1 per mole of silver halide in the image forming layer (photosensitive layer)
It is preferably from 0 -6 to 1 mol, more preferably from 10 -4 to 10 -1 mol.

【0206】本発明におけるハロゲン化銀乳剤または/
および有機銀塩は、カブリ防止剤、安定剤および安定剤
前駆体によって、付加的なカブリの生成に対して更に保
護され、在庫貯蔵中における感度の低下に対して安定化
することができる。単独または組合せて使用することが
できる適当なカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
は、米国特許第2,131,038号明細書および同第
2,694,716号明細書に記載のチアゾニウム塩、
米国特許第2,886,437号明細書および同第2,
444,605号明細書に記載のアザインデン、米国特
許第2,728,663号明細書に記載の水銀塩、米国
特許第3,287,135号明細書に記載のウラゾー
ル、米国特許第3,235,652号明細書に記載のス
ルホカテコール、英国特許第623,448号明細書に
記載のオキシム、ニトロン、ニトロインダゾール、米国
特許第2,839,405号明細書に記載の多価金属
塩、米国特許第3,220,839号明細書に記載のチ
ウロニウム塩、ならびに米国特許第2,566,263
号明細書および同第2,597,915号明細書に記載
のパラジウム、白金および金塩、米国特許第4,10
8,665号明細書および同第4,442,202号明
細書に記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許第4,
128,557号明細書および同第4,137,079
号明細書、第4,138,365号明細書および同第
4,459,350号明細書に記載のトリアジンならび
に米国特許第4,411,985号明細書に記載のリン
化合物などがある。
In the present invention, the silver halide emulsion and / or
And organic silver salts can be further protected against the formation of additional fog by antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors, and stabilized against reduced sensitivity during storage in inventory. Suitable antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors which can be used alone or in combination are the thiazoniums described in U.S. Pat. Nos. 2,131,038 and 2,694,716. salt,
U.S. Pat. Nos. 2,886,437 and 2,
Azaindene described in US Pat. No. 4,444,605, mercury salt described in US Pat. No. 2,728,663, urazole described in US Pat. No. 3,287,135, US Pat. No. 3,235 Sulfocatechol described in U.S. Pat. No. 6,652,652, oxime, nitrone, nitroindazole described in British Patent No. 623,448, polyvalent metal salt described in U.S. Pat. No. 2,839,405, U.S. Pat. U.S. Pat. No. 2,566,263.
, Platinum and gold salts described in US Pat. No. 4,597,915 and U.S. Pat.
Halogen-substituted organic compounds described in U.S. Patent Nos. 8,665 and 4,442,202.
Nos. 128,557 and 4,137,079
No. 4,138,365 and 4,459,350, and the phosphorus compounds described in U.S. Pat. No. 4,411,985.

【0207】本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤
は有機ハロゲン化物であり、例えば、特開昭50−11
9624号公報、同50−120328号公報、同51
−121332号公報、同54−58022号公報、同
56−70543号公報、同56−99335号公報、
同59−90842号公報、同61−129642号公
報、同62−129845号公報、特開平6−2081
91号公報、同6−208193号公報、同7−562
1号公報、同7−2781号公報、同8−15809号
公報、米国特許第5,340,712号明細書、同5,
369,000号明細書、同5,464,737号明細
書に開示されているような化合物が挙げられる。
The antifoggant preferably used in the present invention is an organic halide.
Nos. 9624, 50-120328, 51
JP-A-121332, JP-A-54-58022, JP-A-56-70543, JP-A-56-99335,
JP-A-59-90842, JP-A-61-129842, JP-A-62-129845, and JP-A-6-2081.
Nos. 91, 6-208193, 7-562
No. 1, No. 7-2781, No. 8-15809, U.S. Pat. No. 5,340,712, No. 5,
Compounds such as those disclosed in 369,000 and 5,464,737.

【0208】カブリ防止剤は、溶液、粉末、固体微粒子
分散物などいかなる方法で添加してもよいが、水不溶性
物質の場合は水を分散媒とした固体微粒子分散物で添加
することが好ましい。固体微粒子分散は公知の微細化手
段(例えば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミ
ル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミルなど)
で行われる。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を
用いてもよい。
The antifoggant may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. In the case of a water-insoluble substance, it is preferably added as a dispersion of solid fine particles using water as a dispersion medium. Dispersion of solid fine particles can be performed by a known micronizing means (eg, ball mill, vibrating ball mill, sand mill, colloid mill, jet mill, roller mill, etc.).
Done in When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0209】本発明を実施するために必要ではないが、
乳剤層(画像形成層)にカブリ防止剤として水銀(II)
塩を加えることが有利なことがある。この目的に好まし
い水銀(II)塩は、酢酸水銀および臭化水銀である。本
発明に使用する水銀の添加量としては、塗布された銀1
モル当たり好ましくは1nモル〜1mモル、さらに好ま
しくは10nモル〜100μモルの範囲である。
Although not required to practice the present invention,
Mercury (II) as an antifoggant in the emulsion layer (image forming layer)
It may be advantageous to add a salt. Preferred mercury (II) salts for this purpose are mercury acetate and mercury bromide. The added amount of mercury used in the present invention is as follows.
It is preferably in the range of 1 nmol to 1 mmol, more preferably 10 nmol to 100 μmol per mol.

【0210】本発明における熱現像画像記録材料は、高
感度化やカブリ防止を目的として安息香酸類を含有して
も良い。本発明で用いる安息香酸類はいかなる安息香酸
誘導体でもよいが、好ましい構造の例としては、米国特
許4,784,939号明細書、同4,152,160
号明細書、特開平9−329865号公報、特開平9−
329864号公報、特開平9−281637号公報な
どに記載の化合物が挙げられる。安息香酸類は画像形成
材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層として
は画像形成層(感光性層)を有する面の層に添加するこ
とが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに
好ましい。安息香酸類の添加時期としては塗布液調製の
いかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加す
る場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工
程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。
安息香酸類の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物
などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還
元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加
しても良い。安息香酸類の添加量としてはいかなる量で
も良いが、銀1モル当たり1μモル〜2モルが好まし
く、1mモル〜0.5モルがさらに好ましい。
The heat-developable image recording material of the present invention may contain benzoic acids for the purpose of increasing the sensitivity and preventing fog. The benzoic acid used in the present invention may be any benzoic acid derivative. Examples of a preferred structure include those described in US Pat. Nos. 4,784,939 and 4,152,160.
JP-A-9-329865, JP-A-9-329865
Compounds described in JP-A-329864 and JP-A-9-281637 are exemplified. The benzoic acid may be added to any part of the image forming material, but it is preferable to add the benzoic acid to the layer having the image forming layer (photosensitive layer), and to add it to the organic silver salt containing layer. Is more preferred. The benzoic acid may be added at any time during the preparation of the coating solution, and when added to the organic silver salt-containing layer, may be added at any time from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution, but after the preparation of the organic silver salt. To just before application.
The benzoic acid may be added by any method such as powder, solution, and fine particle dispersion. Further, it may be added as a solution mixed with other additives such as a sensitizing dye, a reducing agent and a color tone agent. The benzoic acid may be added in any amount, but is preferably from 1 μmol to 2 mol, more preferably from 1 mmol to 0.5 mol, per 1 mol of silver.

【0211】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound are contained in order to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. be able to.

【0212】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar−SM、Ar
−S−S−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムもしくはテルリウ
ム原子を有する芳香環基または縮合芳香環基である。好
ましくは、これらの基中の複素芳香環はベンズイミダゾ
ール、ナフスイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフト
チアゾール、ベンズオキサゾール、ナフスオキサゾー
ル、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダ
ゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チ
アジアゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリ
ンまたはキナゾリノンである。この複素芳香環は、例え
ば、ハロゲン(例えば、BrおよびCl)、ヒドロキ
シ、アミノ、カルボキシ、アルキル(例えば、1個以上
の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するも
の)、アルコキシ(例えば、1個以上の炭素原子、好ま
しくは1〜4個の炭素原子を有するもの)およびアリー
ル(置換基を有していてもよい)からなる置換基群から
選択されるものを有してもよい。メルカプト置換複素芳
香族化合物をとしては、2−メルカプトベンズイミダゾ
ール、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカ
プトベンゾチアゾール、2−メルカプト−5−メチルベ
ンズイミダゾール、6−エトキシ−2−メルカプトベン
ゾチアゾール、2,2’−ジチオビス−ベンゾチアゾー
ル、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、4,
5−ジフェニル−2−イミダゾールチオール、2−メル
カプトイミダゾール、1−エチル−2−メルカプトベン
ズイミダゾール、2−メルカプトキノリン、8−メルカ
プトプリン、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリノ
ン、7−トリフルオロメチル−4−キノリンチオール、
2,3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオー
ル、4−アミノ−6−ヒドロキシ−2−メルカプトピリ
ミジンモノヒドレート、2−アミノ−5−メルカプト−
1,3,4−チアジアゾール、3−アミノ−5−メルカ
プト−1,2,4−トリアゾール、4−ヒドキロシ−2
−メルカプトピリミジン、2−メルカプトピリミジン、
4,6−ジアミノ−2−メルカプトピリミジン、2−メ
ルカプト−4−メチルピリミジンヒドロクロリド、3−
メルカプト−5−フェニル−1,2,4−トリアゾー
ル、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、3−
(5−メルカプトテトラゾール)−ベンゼンスルフォン
酸ナトリウム、N−メチル−N’−[3−(5−メルカ
プトテトラゾリル)フェニル]ウレア、2−メルカプト
−4−フェニルオキサゾール、2−[3−(9−カルバ
ゾリル)プロピルイミノ]−3−(2−メルカプトエチ
ル)ベンゾチアゾリンなどが挙げられるが、本発明はこ
れらに限定されない。
When a mercapto compound is used in the present invention, it may be of any structure,
Those represented by -SS-Ar are preferred. In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic or fused aromatic ring group having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring in these groups is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, Triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring can be, for example, halogen (eg, Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy, alkyl (eg, having one or more carbon atoms, preferably 1-4 carbon atoms), alkoxy ( For example, it may have a substituent selected from the group consisting of one or more carbon atoms, preferably those having 1 to 4 carbon atoms, and aryl (which may have a substituent). Good. Examples of the mercapto-substituted heteroaromatic compound include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2'-dithiobis-benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,
5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl -4-quinoline thiol,
2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate, 2-amino-5-mercapto-
1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole, 4-hydrokilo-2
-Mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine,
4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-
Mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 3-
(5-mercaptotetrazole) -sodium benzenesulfonate, N-methyl-N '-[3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl] urea, 2-mercapto-4-phenyloxazole, 2- [3- (9 -Carbazolyl) propylimino] -3- (2-mercaptoethyl) benzothiazoline and the like, but the present invention is not limited thereto.

【0213】これらのメルカプト化合物の添加量として
は乳剤層(画像形成層)中に銀1モル当たり0.000
1〜1.0モルの範囲が好ましく、さらに好ましくは、
銀の1モル当たり0.001〜0.3モルの量である。
The addition amount of these mercapto compounds is 0.000 per mole of silver in the emulsion layer (image forming layer).
It is preferably in the range of 1 to 1.0 mol, more preferably,
The amount is from 0.001 to 0.3 mole per mole of silver.

【0214】本発明における画像形成層には、可塑剤お
よび潤滑剤として多価アルコール(例えば、米国特許第
2,960,404号明細書に記載された種類のグリセ
リンおよびジオール)、米国特許第2,588,765
号明細書および同第3,121,060号明細書に記載
の脂肪酸またはエステル、英国特許第955,061号
明細書に記載のシリコーン樹脂などを用いることができ
る。
In the image forming layer of the present invention, a polyhydric alcohol (for example, glycerin and diol of the type described in US Pat. No. 2,960,404) as a plasticizer and a lubricant, US Pat. , 588, 765
And the fatty acid or ester described in JP-A No. 3,121,060 and the silicone resin described in British Patent No. 955,061.

【0215】画像形成層塗布液のpHは5.5〜7.8
の間に調整されているが、調整の際に用いられる酸はハ
ロゲンを含まない酸であることが好ましい。
The pH of the coating solution for the image forming layer is 5.5 to 7.8.
The acid used for the adjustment is preferably an acid containing no halogen.

【0216】本発明における熱現像画像記録材料は、支
持体の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を
含む画像形成層を有し、他方の側にバック層を有する、
いわゆる片面画像記録材料であることが好ましい。
The heat-developable image recording material of the present invention has an image forming layer containing at least one silver halide emulsion on one side of a support and a back layer on the other side.
It is preferably a so-called single-sided image recording material.

【0217】本発明においてバック層は、所望の範囲で
の最大吸収が約0.3〜2.0であることが好ましい。
所望の範囲が750〜1400nmである場合には、7
50〜360nmにおいての光学濃度が0.005〜
0.5未満であることが好ましく、さらに好ましくは
0.001〜0.3未満の光学濃度を有するハレーショ
ン防止層であることが好ましい。所望の範囲が750n
m以下である場合には、画像形成前の所望範囲の最大吸
収が0.3〜2.0であり、さらに画像形成後の360
〜750nmの光学濃度が0.005〜0.3未満にな
るようなハレーション防止層であることが好ましい。画
像形成後の光学濃度を上記の範囲に下げる方法としては
特に制限はないが、例えばベルギー特許第733,70
6号明細書に記載されたように染料による濃度を加熱に
よる消色で低下させる方法、特開昭54−17833号
公報に記載の光照射による消色で濃度を低下させる方法
等が挙げられる。
In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in a desired range of about 0.3 to 2.0.
If the desired range is 750 to 1400 nm, 7
The optical density at 50 to 360 nm is 0.005 to
It is preferably less than 0.5, more preferably an antihalation layer having an optical density of less than 0.001 to less than 0.3. The desired range is 750n
m or less, the maximum absorption in the desired range before image formation is 0.3 to 2.0, and 360 absorption after image formation.
It is preferable that the antihalation layer has an optical density of 750 nm to less than 0.005 to less than 0.3. The method for lowering the optical density after image formation to the above range is not particularly limited. For example, Belgian Patent No. 733,70
As described in the specification of JP-A No. 6, there is a method of decreasing the concentration by dyeing by heating, and a method of decreasing the concentration by decoloring by light irradiation described in JP-A-54-17833.

【0218】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、このような染料は所望の範囲で目的の吸収を有
し、処理後に可視領域での吸収が充分少なく、上記バッ
ク層の好ましい吸光度スペクトルの形状が得られればい
かなる化合物でも良い。例えば以下に挙げるものが開示
されているが本発明はこれに限定されるものではない。
単独の染料としては特開昭59−56458号公報、特
開平2−216140号公報、同7−13295号公
報、同7−11432号公報、米国特許5,380,6
35号明細書記載、特開平2−68539号公報第13
頁左下欄1行目〜同第14頁左下欄9行目、同3−24
539号公報第14頁左下欄〜同第16頁右下欄記載の
化合物があり、処理で消色する染料としては特開昭52
−139136号公報、同53−132334号公報、
同56−501480号公報、同57−16060号公
報、同57−68831号公報、同57−101835
号公報、同59−182436号公報、特開平7−36
145号公報、同7−199409号公報、特公昭48
−33692号公報、同50−16648号公報、特公
平2−41734号公報、米国特許4,088,497
号明細書、同4,283,487号明細書、同4,54
8,896号明細書、同5,187,049号明細書が
ある。
When an antihalation dye is used in the present invention, such a dye has a desired absorption in a desired range, has a sufficiently low absorption in the visible region after treatment, and has a preferable absorbance spectrum shape of the back layer. Any compound may be used as long as is obtained. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto.
As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140, JP-A-7-13295 and JP-A-7-11432, U.S. Pat. No. 5,380,6
No. 35, JP-A-2-68539, No. 13
1st line, lower left column of page to 9th line, lower left column of page 14, 3-24
No. 539, page 14, lower left column to page 16, lower right column.
-139136, 53-132334,
JP-A-56-501480, JP-A-57-16060, JP-A-57-68831, and JP-A-57-101835
JP-A-59-182436, JP-A-7-36
No. 145, No. 7-199409, Japanese Patent Publication No. 48
-33692, 50-16648, JP-B-2-41734, U.S. Patent 4,088,497.
No. 4,283,487, No. 4,54
Nos. 8,896 and 5,187,049.

【0219】熱現像写真用乳剤は、支持体上に一または
それ以上の層を構成する。一層の構成は有機銀塩、ハロ
ゲン化銀、現像剤およびバインダー、ならびに色調剤、
被覆助剤および他の補助剤などの所望による追加の材料
を含まなければならない。二層の構成は、第1乳剤層
(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩およびハロ
ゲン化銀を含み、第2層または両層中にいくつかの他の
成分を含まなければならない。しかし、全ての成分を含
む単一乳剤層および保護トップコートを含んでなる二層
の構成も考えられる。多色感光性熱現像写真材料の構成
は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、
また、米国特許第4,708,928号明細書に記載さ
れているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよ
い。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層
は、一般に、米国特許第4,460,681号明細書に
記載されているように、各乳剤層(感光性層)の間に官
能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することによ
り、互いに区別されて保持される。
The heat-developable photographic emulsion constitutes one or more layers on a support. One layer comprises an organic silver salt, a silver halide, a developer and a binder, and a toning agent,
Optional additional materials such as coating aids and other auxiliaries must be included. The two-layer construction is such that the first emulsion layer (usually the layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and silver halide and the second layer or both layers do not contain some other components. No. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The composition of the multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color,
Also, as described in U.S. Pat. No. 4,708,928, all components may be contained in a single layer. In the case of a multi-dye, multi-color photosensitive heat-developable photographic material, each emulsion layer is generally provided between each emulsion layer (light-sensitive layer) as described in U.S. Pat. No. 4,460,681. By using functional or non-functional barrier layers, they are kept distinct from one another.

【0220】米国特許第4,460,681号明細書お
よび同第4,374,921号明細書に示されるような
裏面抵抗性加熱層(backside resistive heating laye
r)を感光性熱現像写真画像系に使用することもでき
る。
[0220] A backside resistive heating layer as disclosed in US Patent Nos. 4,460,681 and 4,374,921.
r) can also be used in photosensitive heat-developable photographic imaging systems.

【0221】熱現像画像記録材料の画像形成層、保護
層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜
剤の例としては、米国特許4,281,060号明細
書、特開平6−208193号公報などに記載されてい
るポリイソシアネート類、米国特許4,791,042
号明細書などに記載されているエポキシ化合物類、特開
昭62−89048号公報などに記載されているビニル
スルホン系化合物類などが用いられる。
A hardener may be used for each layer such as an image forming layer, a protective layer and a back layer of the heat-developable image recording material. Examples of the hardener include polyisocyanates described in U.S. Pat. No. 4,281,060 and JP-A-6-208193, and U.S. Pat. No. 4,791,042.
Epoxy compounds described in the specification and the like, vinylsulfone compounds described in JP-A-62-89048 and the like are used.

【0222】本発明における熱現像画像記録材料を用い
てカラー画像を得る方法としては特開平7−13295
号公報10頁左欄43行目〜11左欄40行目に記載の
方法がある。また、カラー染料画像の安定剤としては英
国特許第1,326,889号明細書、米国特許第3,
432,300号明細書、同第3,698,909号明
細書、同第3,574,627号明細書、同第3,57
3,050号明細書、同第3,764,337号明細書
および同第4,042,394号明細書に例示されてい
る。
A method for obtaining a color image using the heat-developable image recording material in the present invention is described in JP-A-7-13295.
There is a method described on page 10, left column, line 43 to 11 left column, line 40. Examples of color dye image stabilizers include British Patent No. 1,326,889 and U.S. Pat.
Nos. 432,300, 3,698,909, 3,574,627 and 3,57.
3,050, 3,764,337 and 4,042,394.

【0223】本発明における熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号明細書に
記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを含む
種々のコーティング操作により被覆することができる。
所望により、米国特許第2,761,791号明細書お
よび英国特許第837,095号明細書に記載の方法に
より2層またはそれ以上の層を同時に被覆することがで
きる。
The photothermographic emulsions of the present invention can be prepared by various coating operations including dip coating, air knife coating, flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. Can be coated.
If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in U.S. Pat. No. 2,761,791 and GB 837,095.

【0224】本発明における熱現像画像記録材料の中に
追加の層、例えば移動染料画像を受容するための染料受
容層、反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護トッ
プコート層および光熱写真技術において既知のプライマ
ー層などを含むことができる。熱現像画像記録材料はそ
の熱現像画像記録材料一枚のみで画像形成できることが
好ましく、受像層等の画像形成に必要な機能性層が別の
材料とならないことが好ましい。
Additional layers in the heat-developable image recording material of the present invention, such as a dye-receiving layer for receiving a moving dye image, an opaque layer if reflective printing is desired, a protective topcoat layer and photothermographic techniques And a known primer layer. The heat-developable image recording material is preferably capable of forming an image with only one heat-developable image recording material, and it is preferable that a functional layer such as an image receiving layer, which is necessary for image formation, does not become another material.

【0225】[0225]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限
り適宜変更することができる。したがって、本発明の範
囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。 <実施例1> 《ハロゲン化銀乳剤Aの調製》水700mlにフタル化
ゼラチン11g、臭化カリウム30mg、ベンゼンチオ
スルホン酸ナトリウム10mgを溶解して40℃にてp
Hを5.0に調整した後、硝酸銀18.6gを含む水溶
液159mlと臭化カリウムを1モル/リットル、(N
42RhCl5(H2O)を5×10-6モル/リットル
およびK3IrCl6を2×10-5モル/リットルで含む
水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブル
ジェット法で6分30秒間かけて添加した。ついで、硝
酸銀55.5gを含む水溶液476mlと臭化カリウム
を1モル/リットルおよびK3IrCl6を2×10-5
ル/リットルで含むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に
保ちながらコントロールダブルジェット法で28分30
秒間かけて添加した。その後pHを下げて凝集沈降させ
て脱塩処理をし、化合物Aを0.17g、脱イオンゼラ
チン(カルシウム含有量として20ppm以下)を2
3.7g加え、pH5.9、pAg8.0に調整した。
得られた粒子は平均粒子サイズ0.08μm、投影面積
変動係数9%、(100)面比率90%の立方体粒子で
あった。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts, proportions,
The processing content, processing procedure, and the like can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples described below. <Example 1><< Preparation of silver halide emulsion A >> 11 g of phthalated gelatin, 30 mg of potassium bromide, and 10 mg of sodium benzenethiosulfonate were dissolved in 700 ml of water, and p
After adjusting the H to 5.0, 159 ml of an aqueous solution containing 18.6 g of silver nitrate and 1 mol / l of potassium bromide, (N
An aqueous solution containing 5 × 10 −6 mol / L of H 4 ) 2 RhCl 5 (H 2 O) and 2 × 10 −5 mol / L of K 3 IrCl 6 was maintained at a pAg of 7.7 by a control double jet method. Over 30 minutes. Then, while maintaining 476 ml of an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate and an aqueous solution of a halogen salt containing 1 mol / l of potassium bromide and 2 × 10 -5 mol / l of K 3 IrCl 6 at a pAg of 7.7, a control double jet method was used. 28 minutes 30 minutes
The addition was made over a second period. Thereafter, the pH was lowered to cause coagulation and sedimentation, followed by desalting treatment.
The pH was adjusted to 5.9 and pAg to 8.0 by adding 3.7 g.
The obtained particles were cubic particles having an average particle size of 0.08 μm, a projected area variation coefficient of 9%, and a (100) plane ratio of 90%.

【0226】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に
昇温して銀1モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリ
ウム76μモルを添加し、3分後にチオ硫酸ナトリウム
154μモルを添加して、100分熟成し、4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ンを5×10-4モル加えた後、40℃に降温させた。そ
の後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀1モルに対し
て12.8×10-4モルの増感色素A、6.4×10-3
モルの化合物Bを撹拌しながら添加し、20分後に30
℃に急冷してハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。
The thus-obtained silver halide grains were heated to 60 ° C., and 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver, and 3 minutes later, 154 μmol of sodium thiosulfate was added, followed by ripening for 100 minutes. After adding 5 × 10 -4 mol of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene, the temperature was lowered to 40 ° C. Thereafter, the temperature was maintained at 40 ° C., and 12.8 × 10 −4 mol of sensitizing dye A, 6.4 × 10 −3 mol per mol of silver halide.
Moles of compound B are added with stirring and after 20 minutes 30
The mixture was rapidly cooled to ℃ to complete the preparation of silver halide emulsion A.

【0227】[0227]

【化10】 Embedded image

【0228】《有機酸銀分散物Aの調製》アラキン酸
6.1g、ベヘン酸37.6g、蒸留水700ml、t
ert−ブタノール70ml、1N−NaOH水溶液1
23mlを混合し、75℃で1時間攪拌し反応させ、6
5℃に降温した。次いで、硝酸銀22gの水溶液11
2.5mlを45秒かけて添加し、そのまま5分間放置
し、30℃に降温した。その後、吸引濾過で固形分を濾
別し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになるま
で水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥させない
でウエットケーキとして取り扱い、乾燥固形分100g
相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール
(商品名:PVA−217)5gおよび水を添加し、全
体量を500gとしてからホモミキサーにて予備分散し
た。
<< Preparation of Organic Acid Silver Dispersion A >> 6.1 g of arachidic acid, 37.6 g of behenic acid, 700 ml of distilled water, t
ert-butanol 70 ml, 1N-NaOH aqueous solution 1
23 ml were mixed and reacted by stirring at 75 ° C. for 1 hour.
The temperature was lowered to 5 ° C. Then, an aqueous solution 11 of 22 g of silver nitrate
2.5 ml was added over 45 seconds, allowed to stand for 5 minutes, and cooled to 30 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid content thus obtained was treated as a wet cake without drying, and the solid content was 100 g.
5 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water were added to the corresponding wet cake to make the total amount 500 g, and the mixture was preliminarily dispersed by a homomixer.

【0229】次に予備分散済みの原液を分散機(商品
名:マイクロフルイダイザーM−110S−EH、マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレー
ション製、G10Zインタラクションチャンバー使用)
の圧力を1750kg/cm2に調節して、三回処理
し、有機酸銀分散物Aを得た。こうして得た有機酸銀分
散物に含まれる有機酸銀粒子は平均短径0.04μm、
平均長径0.8μm、変動係数30%の針状粒子であっ
た。粒子サイズの測定は、Malvern Instruments Ltd.製
MasterSizerXにて行った。冷却操作は蛇管式熱交換器を
インタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒
の温度を調節することで所望の分散温度に設定した。こ
うして、ベヘン酸銀含有率85モル%の有機酸銀分散物
Aを調製した。
Next, the pre-dispersed stock solution is dispersed in a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using G10Z interaction chamber).
The pressure was adjusted to 1750 kg / cm 2 , and the mixture was treated three times to obtain an organic acid silver dispersion A. The organic acid silver particles contained in the organic acid silver dispersion thus obtained had an average minor axis of 0.04 μm,
Needle-shaped particles having an average major axis of 0.8 μm and a variation coefficient of 30%. Particle size measurements were made by Malvern Instruments Ltd.
Performed with MasterSizerX. In the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to a desired dispersion temperature. Thus, an organic acid silver dispersion A having a silver behenate content of 85 mol% was prepared.

【0230】《1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサ
ン(還元剤)の固体微粒子分散物の調製》1,1−ビス
(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,
5,5−トリメチルヘキサン20gに対してクラレ
(株)製MPポリマーのMP−203を3.0gと水7
7mlを添加してよく攪拌して、スラリーとして3時間
放置した。その後、0.5mmのジルコニアビーズを3
60g用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散
機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス
(株)製)にて3時間分散し還元剤固体微粒子分散物を
調製した。粒子径は、粒子の80質量%が0.3μm〜
1.0μmであった。
<< 1,1-bis (2-hydroxy-3,5)
Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of -Dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (Reducing Agent) >> 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,
For 20 g of 5,5-trimethylhexane, 3.0 g of MP-203 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and water 7
After adding 7 ml, the mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours. Then, 0.5 mm zirconia beads were added to 3
60 g was prepared and put into a vessel together with the slurry, and dispersed for 3 hours with a disperser (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by Imex Co., Ltd.) to prepare a dispersion of solid fine particles of a reducing agent. As for the particle diameter, 80% by mass of the particles is 0.3 μm or more.
It was 1.0 μm.

【0231】《トリブロモメチルフェニルスルホンの固
体微粒子分散物の調製》トリブロモメチルフェニルスル
ホン30gに対してヒドロキシプロピルメチルセルロー
ス0.5g、化合物C0.5gと、水88.5gを添加
し良く攪拌してスラリーとして3時間放置した。その
後、還元剤固体微粒子分散物の調製と同様にしてトリブ
ロモメチルフェニルスルホン(カブリ防止剤)の固体微
粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80質量%が
0.3μm〜1.0μmであった。
<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of Tribromomethylphenyl Sulfone >> 0.5 g of hydroxypropylmethylcellulose, 0.5 g of compound C and 88.5 g of water were added to 30 g of tribromomethylphenylsulfone, and the mixture was stirred well. The slurry was left for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of tribromomethylphenylsulfone (antifoggant) was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle size, 80% by mass of the particles was from 0.3 μm to 1.0 μm.

【0232】《画像形成層塗布液の調製》上記で作成し
た有機酸銀分散物Aの銀1モルに対して、以下のバイン
ダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Aを添加して、水
を加えて、塗布液を調製した。塗布液のpHは、7.5
〜7.7であった。
<< Preparation of Image Forming Layer Coating Solution >> The following binder, material, and silver halide emulsion A were added to 1 mol of silver of the organic acid silver dispersion A prepared above, and water was added. Thus, a coating solution was prepared. The pH of the coating solution is 7.5
7 7.7.

【0233】 バインダー;ラックスター(LACSTAR)3307B 固形分として 406g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−ト リメチルヘキサン 固形分として 119g トリブロモメチルフェニルスルホン 固形分として 21.6g ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 0.44g ベンゾトリアゾール 1.25g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製MP−203) 20g イソプロピルフタラジン 0.10モル オルトりん酸二水素ナトリウム 0.13g 化合物D 9.38g 造核剤:化合物例C−62 0.9g 染料A 783nmの光学濃度が0.3になる塗布液量 ハロゲン化銀乳剤A Ag量として0.05モルBinder; LACSTAR 3307B 406 g as solid content (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethyl) Phenyl) -3,5,5-trimethylhexane 119 g as solids tribromomethylphenylsulfone 21.6 g as solids sodium benzenethiosulfonate 0.44 g benzotriazole 1.25 g polyvinyl alcohol (MP manufactured by Kuraray Co., Ltd.) -203) 20 g isopropylphthalazine 0.10 mol sodium dihydrogen orthophosphate 0.13 g Compound D 9.38 g Nucleating agent: Compound Example C-62 0.9 g Dye A 783 nm Optical density 0.3 Liquid amount Silver halide emulsion A 0.05 mol as Ag amount

【0234】[0234]

【化11】 Embedded image

【0235】《保護層下層の塗布液の調製》メチルメタ
クリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレー
ト/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸
=59/9/26/5/1(質量%)のポリマーラテッ
クス(固形分濃度30質量%;造膜助剤として、化合物
Eをポリマー固形分に対し15質量%、I/O値=0.
49)150gに水25gを加え、次いで化合物Fの5
質量%水溶液1.3g、増粘剤としてポリビニルアルコ
ール(クラレ(株)製、PVA−235)5質量%水溶
液50g、マット剤(平均粒径7μm のポリスチレン
粒子)0.1gを加え、塗布液を調製した。塗布液のp
Hは、6.5〜7.0であった。
<< Preparation of Coating Solution for Lower Layer of Protective Layer >> Polymer latex of methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (% by mass) (solid Concentration: 30% by mass; Compound E as a film-forming auxiliary was 15% by mass based on the solid content of the polymer, and the I / O value was 0.1%.
49) 25 g of water was added to 150 g, and then 5
1.3 g of a 5% by mass aqueous solution, 50 g of a 5% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-235) as a thickener, and 0.1 g of a matting agent (polystyrene particles having an average particle diameter of 7 μm) were added. Prepared. Coating solution p
H was 6.5-7.0.

【0236】《保護層上層の塗布液の調製》メチルメタ
クリレート/ブチルアクリレート=73/27(質量
%)のポリマーラテックス(固形分濃度30質量%、造
膜助剤として化合物Eをポリマー固形分に対し15質量
%、I/O値=0.55)150gに、化合物Fの5質
量%水溶液2.5g、カルナヴァワックス(中共油脂
(株)製セロゾール524)30質量%水分散液2.5
gおよび造粘剤としてポリビニルアルコール(クラレ
(株)製、PVA−235)5質量%水溶液46g、マ
ット剤(平均粒径7μm のポリスチレン粒子)0.3
gを加え、さらに化合物Gの10質量%水溶液を25g
を加え、塗布液を調製した。塗布液のpHは、2.5〜
3.0であった。
<< Preparation of Coating Solution for Upper Layer of Protective Layer >> Polymer latex of methyl methacrylate / butyl acrylate = 73/27 (% by mass) (solid content concentration: 30% by mass; To 15 g of 15% by mass, I / O value = 0.55), 2.5 g of a 5% by mass aqueous solution of compound F, 2.5 g of carnava wax (Cerozol 524 manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.) and 30% by mass of aqueous dispersion of 2.5%
g and 46 g of a 5% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-235, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) as a thickener, a matting agent (polystyrene particles having an average particle diameter of 7 μm) 0.3
g, and 25 g of a 10% by mass aqueous solution of compound G
Was added to prepare a coating solution. The pH of the coating solution is 2.5 to
3.0.

【0237】[0237]

【化12】 Embedded image

【0238】《バック/下塗り層のついたPET支持体
の作成》 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラク
ロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPE
Tを得た。これをペレット化した後、130℃で4時間
乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出し、その
後急冷し、熱固定後の膜厚が120μmになるような厚
みの未延伸フイルムを作成した。これを周速の異なるロ
ールを用い、3.3倍に縦延伸、ついでテンターで4.
5倍に横延伸を実施した。このときの温度はそれぞれ、
110℃、130℃であった。この後、240℃で20
秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。
この後、テンターのチャック部をスリットした後、両端
にナール加工を行い、4.8kg/cm2で巻きとっ
た。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、厚
み120μmのロールを得た。
<< Preparation of PET Support with Back / Undercoat Layer >> (1) Support Using terephthalic acid and ethylene glycol, IV (intrinsic viscosity) = 0.66 (phenol / tetrachloroethane = PE (measured at 25 ° C. in 6/4 (mass ratio))
T was obtained. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and then quenched to prepare an unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting. . This is longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then stretched by a tenter.
Lateral stretching was performed 5 times. The temperatures at this time are
110 ° C and 130 ° C. Thereafter, at 240 ° C., 20
After heat setting for 2 seconds, relaxation was 4% in the lateral direction at the same temperature.
Then, after slitting the chuck portion of the tenter, knurling was performed on both ends, and the film was wound at 4.8 kg / cm 2 . Thus, a roll having a width of 2.4 m, a length of 3500 m, and a thickness of 120 μm was obtained.

【0239】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックスV−5 コア部90質量%、シェル部10質量%のコアシェルタイプのラテックスで、コ ア部 塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アクリロ ニトリル/アクリル酸=93/3/3/0.9/0.1(質量%) シェル部 塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アク リロニトリル/アクリル酸=88/3/3/3/3(質量%) 質量平均分子量 38000 固形分量3.0g/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 23mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 1.5mg/m2 (2) Undercoat layer (a) Polymer latex V-5 A core-shell type latex having a core of 90% by mass and a shell of 10% by mass, and a core of vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acryl. Acid = 93/3/3 / 0.9 / 0.1 (mass%) Shell part Vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 88/3/3/3/3 (mass%) mass Average molecular weight 38000 Solid content 3.0 g / m 2 2,4-Dichloro-6-hydroxy-s-triazine 23 mg / m 2 Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4 μm) 1.5 mg / m 2

【0240】 (3)下塗り層(b) アルカリ処理ゼラチン (Ca++含量30ppm、ゼリー強度230g) 83mg/m2 化合物A 1mg/m2 化合物H 2mg/m2 メチルセルロース 4mg/m2 化合物I 3mg/m2 (3) Undercoat layer (b) Alkali-treated gelatin (Ca ++ content 30 ppm, jelly strength 230 g) 83 mg / m 2 Compound A 1 mg / m 2 Compound H 2 mg / m 2 Methylcellulose 4 mg / m 2 Compound I 3 mg / m 2

【0241】 (4)導電層 ジュリマーET−410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 ゼラチン 72mg/m2 化合物A 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 5mg/m2 スミテックスレジンM−3 18mg/m2 (水溶性メラミン化合物住友化学工業(株)製) 染料A (780nmの光学濃度≧1.0)25mg/m2 SnO2/Sb (9/1質量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30 石原 産業(株)製) 230mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 0.5mg/m2 化合物J 2mg/m2 (4) Conductive layer Jurimar ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96 mg / m 2 gelatin 72 mg / m 2 Compound A 0.2 mg / m 2 Polyoxyethylene phenyl ether 5 mg / m 2 Sumitex resin M-3 18 mg / m 2 (water-soluble melamine compound manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Dye A (optical density at 780 nm ≧ 1.0) 25 mg / m 2 SnO 2 / Sb (9/1 mass ratio, needle-like fine particles) (Major axis / minor axis = 20-30, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 230 mg / m 2 Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4 μm) 0.5 mg / m 2 Compound J 2 mg / m 2

【0242】 (5)バック層a ジュリマーET−410(日本純薬(株)製) 95mg/m2 化合物J 2mg/m2 スミテックスレジンM−3 3mg/m2 (水溶性メラミン化合物住友化学工業(株)製) カルナヴァワックス(セロゾール524:中京油脂(株)製) 3mg/m2 (5) Backing layer a Julimer ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 95 mg / m 2 Compound J 2 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 3 mg / m 2 (water-soluble melamine compound Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Carnava wax (Cerosol 524: manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.) 3 mg / m 2

【0243】(6)バック層b 下塗層(a)と同処方(6) Back layer b Same formulation as undercoat layer (a)

【0244】 (7)バック層c ポリマーラテックス−c(Tg≒45℃) (メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸=59/9/26/5/1( 質量%の共重合体)) 1000mg/m2 滑剤A 37mg/m2 スミテックスレジンM−3 (水溶性メラミン化合物 住友化学工業(株)製) 218mg/m2 界面活性剤;化合物例F−5 8mg/m2 化合物例F−3 7mg/m2 マット剤(メチルメタクリレート/アクリル酸=97/3(質量%)のコポリマ ー、平均粒子径5μm) 11mg/m2 (7) Back layer c Polymer latex-c (Tg ≒ 45 ° C.) (methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (mass) % Copolymer)) 1000 mg / m 2 Lubricant A 37 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 (water-soluble melamine compound manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 218 mg / m 2 Surfactant; Compound Example F-5 8 mg / m 2 compound example F-3 7 mg / m 2 matting agent (copolymer over methyl methacrylate / acrylic acid = 97/3 (mass%), an average particle diameter of 5 [mu] m) 11 mg / m 2

【0245】[0245]

【化13】 Embedded image

【0246】支持体の片側に下塗り層(a)と下塗り層
(b)を順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥し
た。ついで、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布し
た反対側の面に導電層とバック層a、b、cを順次塗布
し、それぞれ180℃、30秒間乾燥してバック/下塗
り層のついたPET支持体を作成した。このようにして
作成したバック/下塗り層のついたPET支持体を15
0℃に設定した全長30m熱処理ゾーンに入れ、張力
1.4kg/cm2、搬送速度20m/分で自重搬送し
た。その後、40℃のゾーンに15秒間通し、10kg
/cm2の巻き取り張力で巻き取った。
An undercoat layer (a) and an undercoat layer (b) were sequentially applied to one side of the support, and each was dried at 180 ° C. for 4 minutes. Then, the conductive layer and the back layers a, b, and c are sequentially applied to the opposite surfaces to which the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) have been applied, respectively, and dried at 180 ° C. for 30 seconds to form a back / undercoat layer. The attached PET support was prepared. The PET support with the back / subbing layer prepared in this way was
It was placed in a heat treatment zone with a total length of 30 m set at 0 ° C. and transported under its own weight at a tension of 1.4 kg / cm 2 and a transport speed of 20 m / min. Then, pass through the zone of 40 ℃ for 15 seconds, 10kg
/ Cm 2 at a winding tension.

【0247】《熱現像画像記録材料(試料)の作成》前
記導電層およびバック層a、b、c/下塗り層(a)、
(b)がついたPET支持体の下塗り層(a)、(b)
のついた側に前記画像形成層およびその上に保護層下層
および上層を塗布銀量1.6g/m2、保護層のポリマ
ーラテックスの固形分の塗布量がそれぞれ下層は1.5
g/m2、上層は2.5g/m2となるように同時に重層
塗布し、70℃で3分間乾燥し、試料を作成した。作成
した試料のベック平滑度は、画像形成層を有する面が1
000秒、その反対側の面は650秒であり、導電層の
表面比抵抗は、25℃、相対湿度20%条件下で、4×
109Ωであった。
<< Preparation of heat-developable image recording material (sample) >> The conductive layer and the back layers a, b, c / undercoat layer (a),
Undercoat layers (a) and (b) of a PET support provided with (b)
The image forming layer and the lower layer and the upper layer of the protective layer were coated on the side with the mark, and the amount of silver applied was 1.6 g / m 2 , and the lower layer was coated with 1.5 g of solid polymer latex.
g / m 2 , and the upper layer was simultaneously multi-layer coated to 2.5 g / m 2 and dried at 70 ° C. for 3 minutes to prepare a sample. The Beck smoothness of the prepared sample was 1 for the surface having the image forming layer.
000 seconds, the surface on the opposite side is 650 seconds, and the surface resistivity of the conductive layer is 4 × under the conditions of 25 ° C. and 20% relative humidity.
It was 10 9 Ω.

【0248】《評価》得られた試料について下記の評価
を行った。 (1)摩擦係数 a)熱現像処理部ローラーと熱現像画像記録材料の画像
形成層を有する面との摩擦係数 ローラーの表面材質および外径と同じで幅2cmの部材
に、20gの荷重を乗せて、19mm/secのスピー
ドで、熱現像画像記録材料の画像形成層を有する面を移
動させたときの120℃(熱現像処理温度)での摩擦抵
抗力(Fe)を測定し、次式で摩擦係数を求めた。 摩擦係数(μe)=Fe(g)/20(g)
<Evaluation> The obtained samples were evaluated as follows. (1) Coefficient of friction a) Coefficient of friction between the heat-developed part roller and the surface of the heat-developable image recording material having the image forming layer A 20 g load is applied to a member having the same surface material and outer diameter as the roller and having a width of 2 cm. Then, the frictional resistance (Fe) at 120 ° C. (thermal development processing temperature) when the surface having the image forming layer of the thermal development image recording material was moved at a speed of 19 mm / sec was measured. The coefficient of friction was determined. Coefficient of friction (μe) = Fe (g) / 20 (g)

【0249】b)熱現像処理部平滑面と熱現像画像記録
材料のバック面との摩擦係数 平滑面部材(不織布)2cm×3.5cmのサイズに、
40gの荷重を乗せて、a)と同条件で、熱現像画像記
録材料のバック面を移動させたときの摩擦抵抗力(F
b)を測定し、a)と同様にして、摩擦係数(μb)を
求めた。
B) Coefficient of friction between the smooth surface of the heat-developed portion and the back surface of the heat-developable image recording material: A smooth surface member (nonwoven fabric) having a size of 2 cm × 3.5 cm,
Under the same conditions as in a) under a load of 40 g, the frictional resistance (F
b) was measured, and the friction coefficient (μb) was determined in the same manner as in a).

【0250】(2)熱現像機処理適性 図1の熱現像処理装置を用いて、予備加熱部Aの上部の
ローラー11および熱現像処理部Bのローラー13の表
面材質は、シリコーンゴム(ゴム硬度40度、厚さ1.
5mm)、平滑面14はテフロン TM 製不織布にして、9
0%の網点画像を露光した試料を下記の熱現像条件で予
備加熱部Aと熱現像処理部Bの線速度比率を表5に示す
ように設定して、熱現像処理を行い、試料の搬送性、処
理ムラを評価した。
(2) Suitability for Heat Developing Machine Processing Using the heat developing apparatus shown in FIG. 1, the surface materials of the roller 11 above the preheating section A and the roller 13 of the heat developing section B are made of silicone rubber (rubber hardness). 40 degrees, thickness 1.
5 mm), the smooth surface 14 in the Teflon TM nonwoven fabric, 9
The sample exposed to the halftone dot image of 0% was subjected to a heat development process under the following heat development conditions by setting the linear velocity ratio between the preheating section A and the heat development processing section B as shown in Table 5, and performing the heat development processing. Transportability and processing unevenness were evaluated.

【0251】熱現像処理部Bのローラー13表面と平滑
面14表面とのクリアランスは0.4mmであった。ま
た、冷却部Cのローラー対12のニップ力は、熱現像画
像記録材料を搬送する力として24g/cmであった。
また、予備加熱部Aにおける加熱時間は11〜24秒、
熱現像処理部Bにおける加熱時間は16〜28秒とし
た。
The clearance between the surface of the roller 13 and the surface of the smooth surface 14 in the heat development processing section B was 0.4 mm. The nip force of the roller pair 12 in the cooling section C was 24 g / cm as a force for conveying the heat-developable image recording material.
The heating time in the preliminary heating section A is 11 to 24 seconds,
The heating time in the heat development processing section B was 16 to 28 seconds.

【0252】(搬送性) 5: 擦り傷の発生なく通過 4: 若干擦り傷発生し通過 3: 擦り傷発生し通過 2: 擦り傷発生し通過時間長い 1: ジャミングし、通過不可 *4点以上が実用的に使用可能レベル (処理ムラ) 5: 処理ムラなし 3: 処理ムラ発生弱 1: 処理ムラ発生強 5と3の間のレベルが4で、3と1との間のレベルが2
である。 *3点以上が実用的に使用可能レベル
(Transportability) 5: Passing without generation of scratches 4: Passing with slight scratching 3: Passing with scratching 2: Passing long with scratching 1: Jamming and impossibility * Not more than 4 points practically Usable level (processing unevenness) 5: no processing unevenness 3: weak processing unevenness 1: strong processing unevenness The level between 5 and 3 is 4 and the level between 3 and 1 is 2
It is. * 3 or more points can be used practically

【0253】(熱現像条件) 1)予備加熱部A(上流側より搬入ローラー対11をa
〜fとしたときのヒートローラーの温度) 搬入ローラー対11:a 75℃(±0.5℃) (ヒートローラ) b 90℃(±0.5℃) c 105℃(±0.5℃) d 117℃(±0.5℃) e 121℃(±0.5℃) f 121℃(±0.5℃)
(Heat Development Conditions) 1) Pre-heating section A (a transport roller pair 11
(The temperature of the heat roller when f is set to f) Loading roller pair 11: a 75 ° C (± 0.5 ° C) (heat roller) b 90 ° C (± 0.5 ° C) c 105 ° C (± 0.5 ° C) d 117 ° C (± 0.5 ° C) e 121 ° C (± 0.5 ° C) f 121 ° C (± 0.5 ° C)

【0254】2)熱現像処理部B(上流側より加熱ヒー
ター15をa〜cとしたときの上下の板状ヒーターの温
度) 加熱ヒーター15;a上部/下部=122℃/122℃ b上部/下部=122℃/122℃ c上部/下部=122℃/122℃ (いずれも±0.3℃)
2) Thermal development processing section B (temperature of upper and lower plate heaters when heaters 15 are set to ac from upstream) Heater 15; upper part / lower part of a = 122 ° C./122° C. upper part b Lower part = 122 ° C / 122 ° C c Upper part / lower part = 122 ° C / 122 ° C (± 0.3 ° C for all)

【0255】 3)冷却部C 搬出ローラー対12(ヒートローラーの温度)112℃(±0.5℃) 冷却速度 120℃/min 得られた結果を表5に示す。表5から、明らかなよう
に、予備加熱部Aと熱現像処理部Bの線速比率を本発明
の範囲内にすることにより、搬送性が良好で、現像処理
ムラのない画像が得られることがわかる。
3) Cooling Unit C The unloading roller pair 12 (heat roller temperature) 112 ° C. (± 0.5 ° C.) Cooling rate 120 ° C./min The results obtained are shown in Table 5. As is clear from Table 5, by setting the linear velocity ratio between the preheating section A and the heat development processing section B within the range of the present invention, it is possible to obtain an image having good transportability and no development processing unevenness. I understand.

【0256】[0256]

【表5】 [Table 5]

【0257】<実施例2>実施例1のバック層cの滑剤
Aの塗布量を変えて、表6に示すような摩擦係数(μ
b)の試料を作成し、図1の熱現像機の平滑面14を芳
香族ポリアミド不織布に変えて、実施例1と同様に熱現
像機処理適性を評価した結果、表6に示すように、熱現
像画像記録材料のバック面と熱現像機の平滑面14の部
材との摩擦係数(μb)が1.0以下の試料は、搬送性
が良好で、かつ現像処理ムラのない画像が得られ、本発
明の効果が向上することがわかる。
Example 2 The friction coefficient (μ) shown in Table 6 was changed by changing the amount of the lubricant A applied to the back layer c in Example 1.
The sample of b) was prepared, and the heat developing machine processing suitability was evaluated in the same manner as in Example 1 by changing the smooth surface 14 of the heat developing machine of FIG. 1 to an aromatic polyamide nonwoven fabric. A sample having a coefficient of friction (μb) of 1.0 or less between the back surface of the heat-developable image recording material and the member of the smooth surface 14 of the heat developing machine has good transportability and can provide an image without development processing unevenness. It can be seen that the effect of the present invention is improved.

【0258】[0258]

【表6】 [Table 6]

【0259】<実施例3>特願平10−346561号
明細書記載の実施例−1および−3の試料番号2〜6、
8〜12と同様に試料を作成し、本発明の実施例−1の
試料番号8〜12と同一条件で熱現像機処理適性を評価
した結果、実施例1と同様に搬送性が良好で、現像処理
ムラのない画像が得られた。
<Example 3> Sample Nos. 2 to 6 of Examples 1 and -3 described in Japanese Patent Application No. 10-346561 were used.
Samples were prepared in the same manner as in Sample Nos. 8 to 12, and as a result of evaluating suitability for processing with a heat developing machine under the same conditions as Sample Nos. 8 to 12 in Example 1 of the present invention, the transportability was good as in Example 1, An image without development processing unevenness was obtained.

【0260】<実施例4>実施例1の試料番号10にお
いて、図1の熱現像処理装置の熱現像処理部Bのローラ
ー13と平滑面14とのクリアランスを表7のように変
えて、徐冷部Cの搬出ローラー対12のニップ力を搬送
力として、25g/cmに調整して、実施例1と同様に
して搬送性および処理ムラを評価した。処理ムラについ
ては実施例1と同様に評価し、搬送性については処理枚
数(50枚)中の通過枚数の割合で評価した。その結果
を表7に示す。表7から明らかなように、熱現像処理部
のローラーと平滑面とのクリアランスが0.0〜1.0
mmの場合、搬送性・熱現像処理ムラがなく、特に良好
であることがわかる。
<Example 4> In the sample No. 10 of Example 1, the clearance between the roller 13 and the smooth surface 14 of the heat development processing section B of the heat development processing apparatus of FIG. The nip force of the discharge roller pair 12 in the cold part C was adjusted to 25 g / cm as the transfer force, and the transferability and the processing unevenness were evaluated in the same manner as in Example 1. The processing unevenness was evaluated in the same manner as in Example 1, and the transportability was evaluated based on the ratio of the number of passing sheets to the number of processed sheets (50 sheets). Table 7 shows the results. As is clear from Table 7, the clearance between the roller and the smooth surface in the heat development processing section was 0.0 to 1.0.
In the case of mm, it is found that there is no unevenness in the transportability and the heat development process, and it is particularly favorable.

【0261】[0261]

【表7】 [Table 7]

【0262】<実施例5>特開平10−48772号公
報に基づき、実施例−1の試料No.101〜120お
よび実施例−2の試料No.201〜214を作成し、
得られた試料について、実施例1の熱現機を用いて、試
料番号10の熱処理条件で、熱現機処理適正を評価した
結果、搬送性が良好で、現像処理のムラのない画像が得
られた。
<Example 5> Based on Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-48772, the sample No. 101 to 120 and the sample No. of Example-2. Create 201-214,
With respect to the obtained sample, the thermal processing machine of Example 1 was used to evaluate the suitability for thermal processing under the heat treatment conditions of Sample No. 10. As a result, an image having good transportability and having no unevenness in the developing process was obtained. Was done.

【0263】<実施例6>特表平11−511571号
公報に基づき、実施例−1〜12および比較例−1〜3
の試料を作成し、得られた試料について、実施例1の熱
現機を用いて、試料番号10の熱処理条件で、熱現機処
理適正を評価した結果、搬送性が良好で、現像処理のム
ラのない画像が得られた。
<Example 6> Based on Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-511571, Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 3 were performed.
The sample was prepared, and the obtained sample was evaluated for heat processing performance under the heat treatment conditions of Sample No. 10 using the heat processing apparatus of Example 1, and as a result, the transferability was good, and An image without unevenness was obtained.

【0264】[0264]

【発明の効果】本発明によれば、処理ムラのない画像が
得られ、搬送性が良好で擦り傷の発生がなくなる。
According to the present invention, an image having no processing unevenness is obtained, the transportability is good, and the occurrence of scratches is eliminated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例で用いた熱現像機の構成を示す側面図で
ある。
FIG. 1 is a side view showing a configuration of a heat developing machine used in an embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 熱現像画像記録材料 11 搬入ローラー対 12 搬出ローラー対 13 ローラー 14 平滑面 15 加熱ヒーター 16 ガイド板 A 予備加熱部 B 熱現像処理部 C 徐冷部 REFERENCE SIGNS LIST 10 heat-developed image recording material 11 carry-in roller pair 12 carry-out roller pair 13 roller 14 smooth surface 15 heating heater 16 guide plate A preheating section B heat development processing section C slow cooling section

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層の画像形成層
と該画像形成層上に設けられた少なくとも1層の保護層
とを有する熱現像画像記録材料を、予備加熱部と熱現像
処理部とを有する熱現像処理装置により処理する現像処
理方法において、前記熱現像画像記録材料を、予備加熱
部で対向ローラーにより搬送し、熱現像処理部で前記画
像形成層を有する側の表面を駆動ローラーに接触させ、
かつ前記画像形成層を有する側と反対側の表面(バック
面)を平滑面に接触させつつ滑らせながら搬送して現像
処理するに際し、予備加熱部の線速度(RA)と熱現像
処理部の線速度(RB)の比率(RA/RB)が95.0
%〜99.9%であることを特徴とする熱現像画像記録
材料の現像処理方法。
1. A heat-developable image recording material having at least one image-forming layer on a support and at least one protective layer provided on the image-forming layer is preheated and heat-developed. Wherein the heat-developable image recording material is conveyed by an opposing roller in a pre-heating unit, and the surface on the side having the image forming layer in the heat-development processing unit is driven by a driving roller. Contact
The linear velocity (R A ) of the pre-heating unit and the heat development processing unit are used for transporting and developing the surface (back surface) opposite to the side having the image forming layer while contacting the smooth surface with the smooth surface. Of the linear velocity (R B ) of (R A / R B ) is 95.0
% To 99.9% of the heat-developable image recording material.
【請求項2】 線速度が10〜40mm/secで現像
処理される請求項1の熱現像画像記録材料の現像処理方
法。
2. The method for developing a heat-developable image recording material according to claim 1, wherein the developing process is performed at a linear velocity of 10 to 40 mm / sec.
【請求項3】 画像形成層を有する側の表面と接触する
熱現像処理装置のローラーの少なくとも表面が、ゴム硬
度50度以下のゴムで形成されている請求項1または2
の熱現像画像記録材料の現像処理方法。
3. The heat development processing device according to claim 1, wherein at least the surface of the roller of the heat development processing device which is in contact with the surface having the image forming layer is made of rubber having a rubber hardness of 50 degrees or less.
Development processing method of the heat-developable image recording material.
【請求項4】 前記ローラーの少なくとも表面が、シリ
コーンゴムで形成されている請求項3の熱現像画像記録
材料の現像処理方法。
4. The method according to claim 3, wherein at least the surface of said roller is formed of silicone rubber.
【請求項5】 前記平滑面が、芳香族ポリアミド製不織
布またはポリテトラフルオロエチレン製不織布で形成さ
れた請求項1〜4のいずれかの熱現像画像記録材料の現
像処理方法。
5. The method for developing a heat-developable image recording material according to claim 1, wherein said smooth surface is formed of an aromatic polyamide nonwoven fabric or a polytetrafluoroethylene nonwoven fabric.
【請求項6】 熱現像画像記録材料の搬送時にて画像形
成層と反対側の表面(バック面)と接触する側の平滑面
表面と、この平滑面表面に接触または対向し、かつ熱現
像画像記録材料の搬送時にて画像形成層側の表面と接触
する駆動ローラーの表面とのクリアランスが0〜2mm
である熱現像処理部を有する熱現像処理装置により処理
する請求項1〜5のいずれかの熱現像画像記録材料の現
像処理方法。
6. A heat-developable image recording material comprising a smooth surface which is in contact with the surface (back surface) opposite to the image forming layer during transport, and which is in contact with or opposed to the smooth surface. The clearance between the surface of the drive roller that contacts the surface on the image forming layer side when the recording material is conveyed is 0 to 2 mm
The method for developing a heat-developable image recording material according to any one of claims 1 to 5, wherein the heat-development is performed by a heat development processing apparatus having a heat development processing section.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれかの現像処理方法
で処理するための熱現像画像記録材料であって、熱現像
処理の温度における画像形成層を有する側の表面と熱現
像処理部のローラー表面との摩擦係数(μe)と、画像
形成層を有する側と反対側の表面(バック面)と熱現像
処理部の平滑面表面との摩擦係数(μb)との比(μe
/μb)が1.5以上である熱現像画像記録材料。
7. A heat-developable image-recording material to be processed by the method of any one of claims 1 to 6, wherein a surface having an image forming layer at a temperature of the heat-development process and a heat-developable portion (Μe) and the ratio (μe) of the friction coefficient (μb) between the surface opposite to the side having the image forming layer (back surface) and the smooth surface of the heat-developed portion.
/ Μb) is 1.5 or more.
【請求項8】 熱現像処理の温度における画像形成層を
有する側と反対側の表面(バック面)と熱現像処理部の
平滑面表面との摩擦係数が1.0以下である請求項7の
熱現像画像記録材料。
8. The coefficient of friction between the surface (back surface) on the side opposite to the side having the image forming layer and the smooth surface of the heat development section at the temperature of the heat development processing is 1.0 or less. Heat developed image recording material.
【請求項9】 画像形成層および保護層のバインダーと
してポリマーラテックスを用いる請求項7または8の熱
現像画像記録材料。
9. The heat-developable image recording material according to claim 7, wherein a polymer latex is used as a binder for the image forming layer and the protective layer.
【請求項10】 画像形成層を有する側と反対側に、2
5℃相対湿度20%の条件下で表面比抵抗が1×1012
Ω以下の少なくとも1層の導電性層を有する請求項7〜
9のいずれかの熱現像画像記録材料。
10. On the side opposite to the side having the image forming layer, 2
The surface resistivity is 1 × 10 12 under the condition of 5 ° C. and 20% relative humidity.
7. The battery according to claim 7, which has at least one conductive layer having a resistance of Ω or less.
9. The heat-developable image recording material according to any one of items 9 to 9.
【請求項11】 画像形成層を有する側と反対側にバッ
ク層を有し、このバック層のバインダーとしてポリマー
ラテックスを用いる請求項7〜10のいずれかの熱現像
画像記録材料。
11. The heat-developable image recording material according to claim 7, further comprising a back layer on the side opposite to the side having the image forming layer, wherein a polymer latex is used as a binder for the back layer.
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