JP2001109099A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

Heat developable photosensitive material

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JP2001109099A
JP2001109099A JP28544099A JP28544099A JP2001109099A JP 2001109099 A JP2001109099 A JP 2001109099A JP 28544099 A JP28544099 A JP 28544099A JP 28544099 A JP28544099 A JP 28544099A JP 2001109099 A JP2001109099 A JP 2001109099A
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JP
Japan
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group
photothermographic material
silver
acid
silver halide
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JP28544099A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasunobu Kobayashi
康伸 小林
Takeshi Sanpei
武司 三瓶
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a heat developable photosensitive material, particularly a heat developable photosensitive material for printing, minutely a heat developable photosensitive material having enhanced uniformity of image density in heat development and excellent in image stability. SOLUTION: The heat developable photosensitive material has a photosensitive layer containing silver halide and an organic silver salt on the substrate and a protective layer on the photosensitive layer. The photosensitive material is processed with a heat processing machine having a means of carrying out reheating at a lover temperature than that of a developed part after heat development. The grain size distribution of the organic silver salt is of monodisperse system.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、安定した現像性を
提供する熱現像感光材料に関する。
The present invention relates to a photothermographic material which provides stable developability.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、印刷製版や医療の分野では、
感光材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題にな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー
イメージセッターやレーザーイメージャーにより効率的
な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成する
ことが出来る光熱写真材料に関する技術が必要とされて
きた。この為の技術として熱処理により写真画像を形成
するハロゲン化銀感光材料が知られており、これらは例
えば、米国特許第3,152,904号、同第3,45
7,075号及びD.モーガン(Morgan)とB.
シェリー(Shely)による「熱によって処理される
銀システム(Thermally Processed
Silver Systems)」、イメージング・
プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imagin
g Processes and Material
s)Neblette 第8版、スタージ(Sturg
e)、V.ウォールワース(Walworth)、A.
シェップ(Shepp)編集、第2頁、1969年等に
開示されている。この様な熱現像感光材料(以降、単に
感光材料ともいう)は、還元可能な銀源(例えば有機銀
塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化銀)及び
還元剤を通常有機のバインダーマトリクス中に分散した
状態で含有している。熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温に加熱した場合に還元可能な銀源(酸
化剤として作用する)と還元剤との間の酸化還元反応に
より銀を生成する。この酸化還元反応は、露光で発生し
た潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の有
機銀塩の反応によって生成した銀は黒色像を提供し、こ
れは非露光域と対照をなし、画像の形成がなされる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of printing plate making and medical care,
Waste liquids resulting from wet processing of photosensitive materials have become a problem in terms of workability, and in recent years, reduction of processing waste liquids has been strongly desired from the viewpoint of environmental conservation and space saving. Therefore, there has been a need for a technique relating to a photothermographic material capable of performing efficient exposure by a laser image setter or a laser imager and forming a high-resolution and clear black image. As techniques for this purpose, silver halide photosensitive materials which form a photographic image by heat treatment are known, and these are described, for example, in US Pat. Nos. 3,152,904 and 3,45.
7,075 and D.C. Morgan and B.A.
"Thermally Processed Silver System" by Shelly
Silver Systems), Imaging
Processes and Materials (Imagin
g Processes and Material
s) Neblette Eighth Edition, Sturge
e), V.I. Walworth, A .;
Shepp, 2nd page, 1969, etc. Such a photothermographic material (hereinafter, also simply referred to as a “photosensitive material”) comprises a reducible silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, a silver halide) and a reducing agent, which is usually an organic binder matrix. It is contained in a dispersed state. The photothermographic material is stable at room temperature, but generates silver by an oxidation-reduction reaction between a reducible silver source (acting as an oxidizing agent) and a reducing agent when heated to a high temperature after exposure. This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas and results in the formation of an image.

【0003】しかし、熱現像感光材料は熱を与えること
により現像処理を行うものであり、熱現像時の微細な温
度変化により得られる画像の濃度が変動し、濃度ムラが
発生するという大きな問題があった。
However, heat-developable photosensitive materials are subjected to development processing by applying heat, and there is a serious problem that the density of an obtained image fluctuates due to a minute change in temperature during thermal development and density unevenness occurs. there were.

【0004】また、米国特許第5,352,863号、
同第5,665,257号、同第5,849,388
号、同第5,869,806号、同第5,869,80
7号及び同第5,895,592号に熱現像方式の記載
があるが、これら従来の技術では、得られる濃度および
濃度ムラの発生をコントロールできず、画像欠陥が起き
るという欠点があった。また、熱現像感光材料内では、
高温の現像状態から現像停止までの温度分布は均一では
なく、また排出後に当たる光によっても、いわゆるカブ
リが発生することもあり、形成する画像の安定化が切望
されていた。
Further, US Pat. No. 5,352,863,
Nos. 5,665,257 and 5,849,388
No. 5,869,806 and 5,869,80
Nos. 7 and 5,895,592 disclose the heat development method, but these conventional techniques have a drawback that the resulting density and the occurrence of density unevenness cannot be controlled, and image defects occur. In the photothermographic material,
The temperature distribution from the high-temperature development state to the stop of the development is not uniform, and so-called fogging may occur due to the light radiated after the discharge. Therefore, stabilization of an image to be formed has been desired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
鑑みなされるものであり、その目的は熱現像感光材料、
特に印刷用熱現像感光材料を提供することにあり、詳し
くは熱現像処理における画像濃度の均一性を高め、画像
安定性に優れた熱現像感光材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above problems, and has as its object the purpose of the present invention.
In particular, it is an object of the present invention to provide a photothermographic material for printing, and more specifically, to provide a photothermographic material having high image density uniformity and excellent image stability in a heat development process.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
下記の構成により達成された。
SUMMARY OF THE INVENTION The above objects of the present invention are as follows.
This has been achieved by the following configuration.

【0007】1.支持体上にハロゲン化銀及び有機銀塩
を含有する感光層とその上側に保護層を有する熱現像感
光材料において、熱現像後に現像部より低い温度で再加
熱する手段を有する熱現像処理機で処理され、かつ該有
機銀塩の粒径分布が単分散であることを特徴とする熱現
像感光材料。
[0007] 1. In a photothermographic material having a photosensitive layer containing a silver halide and an organic silver salt on a support and a protective layer thereon, a photothermographic processor having means for reheating at a lower temperature than the developing section after thermal development. A photothermographic material which has been processed and has a monodisperse particle size distribution of the organic silver salt.

【0008】2.支持体上にハロゲン化銀及び有機銀塩
を含有する感光層とその上側に保護層を有する熱現像感
光材料において、熱現像後に現像部より低い温度で再加
熱する手段を有する熱現像処理機で処理され、かつ該保
護層に含まれる主バインダーの比熱容量が1.3〜2.
1kJ/(kg・K)であることを特徴とする熱現像感
光材料。
[0008] 2. In a photothermographic material having a photosensitive layer containing a silver halide and an organic silver salt on a support and a protective layer thereon, a photothermographic processor having means for reheating at a lower temperature than the developing section after thermal development. The specific heat capacity of the main binder treated and contained in the protective layer is from 1.3 to 2.
A photothermographic material characterized by 1 kJ / (kg · K).

【0009】3.支持体上にハロゲン化銀及び有機銀塩
を含有する感光層とその上側に保護層を有する熱現像感
光材料において、熱現像後に現像部より低い温度で再加
熱する手段を有する熱現像処理機で処理され、かつ該保
護層の表面粗さRaが50〜150nmであることを特
徴とする熱現像感光材料。
3. In a photothermographic material having a photosensitive layer containing a silver halide and an organic silver salt on a support and a protective layer thereon, a photothermographic processor having means for reheating at a lower temperature than the developing section after thermal development. A photothermographic material which has been treated and has a surface roughness Ra of 50 to 150 nm.

【0010】4.エクストルージョン方式ダイコーター
により感光層及び保護層が塗布されたことを特徴とする
前記1〜3項のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
[0010] 4. 4. The photothermographic material according to any one of items 1 to 3, wherein the photosensitive layer and the protective layer are applied by an extrusion die coater.

【0011】即ち、本発明者らは鋭意研究の結果、現像
後の熱現像感光材料をある温度範囲で段階的に均一冷却
することが濃度変動、濃度ムラに対し極めて効果的であ
り、同時に冷却部を規定の条件に設定することで現像安
定性を改良することができ、更には熱現像感光材料に特
定の物性を持たせることにより、現像方法と合わせて画
像安定性を一段と改良できることを見いだした。
That is, as a result of intensive research, the present inventors have found that cooling the photothermographic material after development stepwise and uniformly over a certain temperature range is extremely effective against density fluctuations and density unevenness. It has been found that the development stability can be improved by setting the part to the specified conditions, and furthermore, the image stability can be further improved by providing the photothermographic material with specific physical properties in combination with the development method. Was.

【0012】以下、本発明について詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0013】本発明に係る熱現像感光材料の処理方法と
しては、予熱部、現像部、再加熱部および冷却部の各部
を順次通って熱現像処理されることを特徴とする。
The method of processing a photothermographic material according to the present invention is characterized in that the photothermographic material is subjected to a heat development process by sequentially passing through a preheating section, a development section, a reheating section and a cooling section.

【0014】本発明で用いる熱現像方法およびその処理
装置は、予熱部、現像部、再加熱部および冷却部からな
る。
The thermal developing method and the processing apparatus used in the present invention comprise a preheating section, a developing section, a reheating section and a cooling section.

【0015】加熱現像の加熱手段としては導電性の発熱
体層を有する形態、例えば、ハロゲンランプ、面状ヒー
ター等の特開昭61−145544号記載の発熱体を用
いることができる。具体的な形態としては、1)一定温
度のオーブンの中に所定時間入っている方法、2)一定
温度に保たれたオーブン内を一定速度で搬送する方法、
3)一定温度に加熱した媒体(金属ローラー、シリコン
ゴム、ウレタンゴム、紙、フッ素処理媒体等)に所定時
間接触させられる方法のいずれかであれば特に制限はな
い。本発明においては、1)、2)のような形態で水平
搬送方式、コンベア型方式が好ましい。
As a heating means for the heat development, a mode having a conductive heating element layer, for example, a heating element described in JP-A-61-145544 such as a halogen lamp and a sheet heater can be used. As a specific form, 1) a method in which it is placed in an oven at a constant temperature for a predetermined time, 2) a method of conveying the inside of the oven kept at a constant temperature at a constant speed,
3) There is no particular limitation as long as it is a method of contacting a medium (metal roller, silicon rubber, urethane rubber, paper, fluorinated medium, etc.) heated to a certain temperature for a predetermined time. In the present invention, a horizontal transfer system and a conveyor system are preferable in the forms 1) and 2).

【0016】予熱部は、現像部の現像温度より5℃以上
低い温度が好ましい。温度範囲は100〜120℃が好
ましく、100〜115℃がより好ましい。余熱部の処
理時間は1〜60秒が好ましく、5〜50秒がより好ま
しい。
The temperature of the preheating section is preferably lower than the developing temperature of the developing section by 5 ° C. or more. The temperature range is preferably from 100 to 120 ° C, more preferably from 100 to 115 ° C. The processing time of the remaining heat section is preferably 1 to 60 seconds, more preferably 5 to 50 seconds.

【0017】現像部についての好ましい温度範囲は10
0〜150℃が好ましく、100〜140℃がより好ま
しい。本発明においては、現像部の好ましい処理時間範
囲は3〜30秒が好ましく、5〜30秒がより好まし
い。このような熱現像を行う上で熱現像感光材料に張力
を掛けないことが好ましいが、10kg以下であれば特
に制限はない。但し張力を掛けすぎると感材の寸法が変
化し形態上問題となり注意が必要である。
The preferred temperature range for the developing section is 10
0-150 degreeC is preferable and 100-140 degreeC is more preferable. In the present invention, the preferable processing time range of the developing section is preferably 3 to 30 seconds, more preferably 5 to 30 seconds. In performing such thermal development, it is preferable not to apply tension to the photothermographic material, but there is no particular limitation as long as it is 10 kg or less. However, if the tension is excessively applied, the dimensions of the light-sensitive material change, which causes a problem in the form and requires attention.

【0018】本発明においては、熱現像後に現像部より
低い温度で再加熱する再加熱部を設けることが特徴であ
る。再加熱部が現像部より低い温度とは5〜40℃低い
温度であり、より好ましくは5〜30℃低い温度であ
る。また再加熱部の処理時間は0.1〜30秒が好まし
く、0.3〜15秒がより好ましい。再加熱手段として
は前述と同じく、導電性の発熱体層を有する形態、ハロ
ゲンランプ、面状ヒーター等の特開昭61−14554
4号記載の発熱体等を用いることができる。一定温度に
加熱した媒体(金属ローラー、シリコンゴム、ウレタン
ゴム、紙、フッ素処理媒体等)に所定時間接触させられ
る方法であれば特に制限はない。本発明においては、面
状ヒーター又は加熱素子を内蔵したローラーが好まし
い。ローラーの場合、対向ローラーが好ましく、一対以
上、三対以下が好ましい。加熱素子は片側のみ、又は両
側のローラーに組み込んでも良く、特に制限は無い。
The present invention is characterized in that a reheating section is provided for reheating at a lower temperature than the developing section after the thermal development. The temperature at which the reheating section is lower than the developing section is a temperature lower by 5 to 40 ° C, and more preferably a temperature lower by 5 to 30 ° C. The processing time of the reheating unit is preferably 0.1 to 30 seconds, more preferably 0.3 to 15 seconds. As the reheating means, as described above, a mode having a conductive heating element layer, a halogen lamp, a sheet heater, and the like are disclosed in JP-A-61-14554.
The heating element described in No. 4 can be used. There is no particular limitation as long as it can be brought into contact with a medium (metal roller, silicon rubber, urethane rubber, paper, fluorinated medium, etc.) heated to a certain temperature for a predetermined time. In the present invention, a roller having a built-in sheet heater or heating element is preferable. In the case of a roller, an opposing roller is preferable, and one or more and three or less are preferable. The heating element may be incorporated into only one side or both sides of the roller, and there is no particular limitation.

【0019】冷却部は、冷却ファンからの風、冷却板へ
の接触、金属ローラーへの接触等、急速に冷却が出来る
ものならば特に制限なく用いることが出来る。現像処理
機から排出される熱現像感光材料は、装置から出る時点
で50℃以下であることが好ましい。温度が高いまま光
に当たるとカブリが発生する要因となる。
The cooling unit can be used without particular limitation as long as it can rapidly cool, such as air from a cooling fan, contact with a cooling plate, contact with a metal roller, and the like. It is preferable that the temperature of the photothermographic material discharged from the development processor is 50 ° C. or less at the time when the photothermographic material leaves the apparatus. Exposure to light while the temperature is high causes fogging.

【0020】請求項1に係る発明の熱現像感光材料にお
いては、感光層中に含有される有機銀塩の粒径分布が単
分散であることを特徴とする。本発明において用いられ
る有機銀塩粒子について詳細に説明する。
The photothermographic material according to the first aspect is characterized in that the particle size distribution of the organic silver salt contained in the photosensitive layer is monodisperse. The organic silver salt particles used in the present invention will be described in detail.

【0021】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure第17029及び29963
に記載されており、次のものがある:有機酸の塩、例え
ば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン酸、ス
テアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の塩;銀のカ
ルボキシアルキルチオ尿素塩、例えば、1−(3−カル
ボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプロ
ピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等;アルデヒドとヒ
ドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成物
の銀錯体、例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)、ヒドロキシ
置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−ジ
ヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチル酸)、チ
オン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−カルボキシ
エチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2
−チオン、3−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2
−チオン)、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、
1,2,4−チアゾール及び1H−テトラゾール、3−
アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール
及びベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との
錯体また塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキ
シム等の銀塩;及びメルカプチド類の銀塩。好ましい銀
源はベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、パ
ルミチン酸銀である。
In the present invention, the organic silver salt is a reducible silver source, and a silver salt of an organic acid or a heteroorganic acid containing a reducible silver ion source, especially a long chain (10 to 30, preferably 15 to 25, And the nitrogen-containing heterocycle is preferred. Organic or inorganic silver salt complexes wherein the ligand has a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0 are also useful. Examples of suitable silver salts are Research
h Disclosure Nos. 17029 and 29963
And salts of: organic acid salts such as gallic acid, oxalic acid, behenic acid, arachidic acid, stearic acid, palmitic acid, lauric acid and the like; silver carboxyalkylthiourea salts; For example, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea and the like; a silver complex of a polymer reaction product of an aldehyde and a hydroxy-substituted aromatic carboxylic acid, for example, Aldehydes (formaldehyde,
Acetaldehyde, butyraldehyde, etc.), hydroxy-substituted acids (eg, salicylic acid, benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid), silver salts or complexes of thiones (eg, 3- (2- (Carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2
-Thione, 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2
-Thione), imidazole, pyrazole, urazole,
1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-
Complexes or salts of silver and a nitrogen acid selected from amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benzotriazole; silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides. Preferred silver sources are silver behenate, silver arachidate, silver stearate and silver palmitate.

【0022】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、等が好ましく用いられ
る。また、特開平9−127643号に記載されている
様なコントロールドダブルジェット法を用いることも可
能である。具体的には、有機酸にアルカリ金属塩(例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)を加えて
有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、ベヘン酸ナトリ
ウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を作製した後に、
前記ソープに硝酸銀を添加して有機銀塩の結晶を作製す
る。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよいが、
上記一連の反応工程は、適当な撹拌部材を用いて反応槽
内が均一になるように十分に撹拌しながら行う必要があ
る。
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver, but a forward mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, etc. are preferably used. Further, it is also possible to use a controlled double jet method as described in JP-A-9-127463. Specifically, after adding an alkali metal salt (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) to an organic acid to prepare an organic acid alkali metal salt soap (for example, sodium behenate, sodium arachidate, etc.),
Silver nitrate is added to the soap to produce organic silver salt crystals. At that time, silver halide grains may be mixed,
The above series of reaction steps need to be performed while stirring sufficiently using a suitable stirring member so that the inside of the reaction tank becomes uniform.

【0023】本発明に用いられる有機銀塩粒子は、粒径
分布が単分散であることが特徴であり、これにより濃度
の高い画像を得ることが出来る。上記の単分散として
は、単分散度が1%〜30%が好ましい。ここでいう単
分散とは、下記式で求められる単分散度として定義され
る。
The organic silver salt particles used in the present invention are characterized in that the particle size distribution is monodisperse, whereby an image having a high density can be obtained. As the monodispersion, the degree of monodispersion is preferably 1% to 30%. Here, the monodispersion is defined as a degree of monodispersion obtained by the following equation.

【0024】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 本発明において、有機銀塩は平均粒径は1μm以下が好
ましい。有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例
えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機
銀塩粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。
平均粒径は好ましくは0.01μm〜0.8μm、特に
0.05μm〜0.5μmが好ましい。さらに有機銀塩
は、平板状粒子が全有機銀の60%以上有することが好
ましい。本発明において平板状粒子とは平均粒径と厚さ
の比、いわゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと
略す)が3以上のものをいう。
Monodispersity = (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100 In the present invention, the average particle size of the organic silver salt is preferably 1 μm or less. The average particle size of the organic silver salt refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt particles when the particles of the organic silver salt are, for example, spherical, rod-shaped, or tabular particles.
The average particle size is preferably 0.01 μm to 0.8 μm, particularly preferably 0.05 μm to 0.5 μm. Further, in the organic silver salt, the tabular grains preferably have 60% or more of the total organic silver. In the present invention, the tabular grains mean those having an aspect ratio (abbreviated as AR) of 3 or more, which is a ratio between the average particle diameter and the thickness, that is, the following formula.

【0025】AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 上記の単分散度を有する有機銀塩粒子を得る方法として
は、特に限定されないが、有機酸アルカリ金属塩ソープ
形成時の混合状態および/または該ソープに硝酸銀を添
加する際の混合状態など各種条件の最適化が有効であ
る。
AR = average particle diameter (μm) / thickness (μm) The method for obtaining the organic silver salt particles having the above-mentioned monodispersity is not particularly limited. Optimization of various conditions such as a mixing state when silver nitrate is added to the soap is effective.

【0026】本発明に用いられる有機銀塩粒子は、必要
に応じバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した
後、メディア分散機または高圧ホモジナイザーなどで分
散粉砕することが好ましい。このときの分散粉砕時に掛
ける圧力としては28MPa以上であることが好まし
く、更に好ましくは、56MPa以上であり、特に好ま
しくは70MPa〜150MPaである。
It is preferable that the organic silver salt particles used in the present invention are preliminarily dispersed together with a binder, a surfactant and the like, if necessary, and then dispersed and pulverized with a media disperser or a high-pressure homogenizer. The pressure applied during the dispersion pulverization at this time is preferably 28 MPa or more, more preferably 56 MPa or more, and particularly preferably 70 MPa to 150 MPa.

【0027】上記予備分散には、例えば、アンカー型、
プロペラ型等の一般的撹拌機や高速回転遠心放射型撹拌
機(ディゾルバ)、高速回転剪断型攪拌機(ホモミキ
サ)を使用することができる。また、上記メディア分散
機としては、例えば、ボールミル、遊星ボールミル、振
動ボールミルなどの転動ミルや、媒体撹拌ミルであるビ
ーズミル、アトライター、その他バスケットミルなどを
用いることが可能であり、高圧ホモジナイザーとして
は、例えば、壁、プラグなどに衝突するタイプ、液を複
数に分けてから高速で液同士を衝突させるタイプ、細い
オリフィスを通過させるタイプなど様々なタイプを用い
ることができる。
The above preliminary dispersion includes, for example, an anchor type,
A general stirrer such as a propeller type, a high-speed rotation centrifugal radiation stirrer (dissolver), and a high-speed rotation shear stirrer (homomixer) can be used. Further, as the media dispersing machine, for example, a ball mill, a planetary ball mill, a rolling mill such as a vibration ball mill, a bead mill as a medium stirring mill, an attritor, and other basket mills can be used, and as a high-pressure homogenizer, For example, various types such as a type that collides with a wall, a plug, or the like, a type in which a liquid is divided into a plurality of pieces and then the liquids collide with each other at high speed, and a type in which a thin orifice passes through can be used.

【0028】本発明に用いられる有機銀塩粒子を分散す
る際に用いられる装置類において、該有機銀粒子が接触
する部材の材質として、例えば、ジルコニア、アルミ
ナ、窒化珪素、窒化ホウ素などのセラミックス類および
/またはダイヤモンドを用いることが好ましく、特にジ
ルコニアを用いることが好ましい。
In the apparatus used for dispersing the organic silver salt particles used in the present invention, as a material of a member that the organic silver particles come into contact with, for example, ceramics such as zirconia, alumina, silicon nitride, boron nitride, etc. It is preferable to use diamond and / or diamond, and particularly preferable to use zirconia.

【0029】上記分散をおこなう際のバインダー濃度、
予備分散方法、分散機運転条件、分散回数などを最適化
することにより、本発明の単分散度を持つ有機銀塩粒子
を得ることができる。
The binder concentration at the time of performing the above dispersion,
By optimizing the predispersion method, the operating conditions of the disperser, the number of times of dispersion, etc., the organic silver salt particles having a monodispersity of the present invention can be obtained.

【0030】次に、請求項2に係る発明の熱現像感光材
料においては、保護層に含まれる主バインダーの比熱容
量が1.3〜2.1kJ/(kg・K)であることを特
徴とし、更に好ましくは1.3〜1.7kJ/(kg・
K)である。保護層の比熱容量を本発明の値に設定する
ことにより、熱現像感光材料表面からの熱の出入りが安
定化され、画像性能が向上する。上記比熱容量値は、公
知のバインダーを適宜選択、あるいはそれらを組み合わ
せることにより達成することができる。
Next, in the photothermographic material according to the present invention, the specific heat capacity of the main binder contained in the protective layer is 1.3 to 2.1 kJ / (kg · K). And more preferably 1.3 to 1.7 kJ / (kg ·
K). By setting the specific heat capacity of the protective layer to the value of the present invention, the flow of heat from the surface of the photothermographic material is stabilized, and the image performance is improved. The specific heat capacity value can be achieved by appropriately selecting a known binder or by combining them.

【0031】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水
性でも疎水性でもよい。好ましいバインダーとしては、
ポリビニルブチラール、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリカーボ
ネート、ポリアクリル酸、ポリウレタンなどがあげられ
る。その中でもポリビニルブチラール、セルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステ
ルは特に好ましく用いられる。
Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic, and poly (arabic). (Vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid) Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (ester) Kind, poly ( Urethane), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxides),
Poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate),
There are cellulose esters and poly (amides). It may be hydrophilic or hydrophobic. Preferred binders include
Examples thereof include polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polycarbonate, polyacrylic acid, and polyurethane. Among them, polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and polyester are particularly preferably used.

【0032】またもう一つの好ましいバインダーとして
は、水系溶媒(水溶媒)に可溶または分散可能で、25
℃、60%RHにおける平衡含水率が2重量%以下のポ
リマーである。このようなポリマーを用いると、30重
量%以上の水を含有する水溶媒を塗布溶媒に用いた感光
層の塗設ができる。この様なポリマーとしては、アクリ
ル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ゴム系樹脂(例えばS
BR樹脂やNBR樹脂)、酢酸ビニル樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などがある。
As another preferred binder, a binder which is soluble or dispersible in an aqueous solvent (aqueous solvent),
It is a polymer having an equilibrium water content of 2% by weight or less at 60 ° C. and 60% RH. When such a polymer is used, a photosensitive layer can be formed using a water solvent containing 30% by weight or more of water as a coating solvent. Examples of such a polymer include an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a vinyl chloride resin, a vinylidene chloride resin, a rubber-based resin (for example, S
(BR resin and NBR resin), vinyl acetate resin, polyolefin resin, polyvinyl acetal resin and the like.

【0033】上記バインダーの比熱容量は、たとえば、
日本化学会編 化学便覧基礎編II(1984)の第9章
熱的性質のII−243頁等に記載されており、あるい
は、JIS K 7123に記載されている方法で測定
することにより求めることができる。
The specific heat capacity of the binder is, for example,
It is described in Chapter 9, Thermal Properties, pages II-243, etc. of Chemical Handbook, Basic Edition II (1984), edited by The Chemical Society of Japan, or can be determined by measurement using the method described in JIS K 7123. it can.

【0034】本発明でいう主バインダーとは、保護層の
全バインダーの50%以上を構成するバインダーを指
す。
The main binder in the present invention refers to a binder constituting at least 50% of the total binder in the protective layer.

【0035】なお保護層に用いられるバインダーは、感
光層およびその他の非感光層に用いられるバインダーと
同じ種類でも異なった種類でもよい。
The binder used in the protective layer may be the same as or different from the binder used in the photosensitive layer and other non-photosensitive layers.

【0036】保護層のバインダー量は0.5〜8g/m
2であることが好ましく、さらに好ましくは1.0〜6
g/m2である。
The binder amount of the protective layer is 0.5 to 8 g / m
2 , more preferably 1.0 to 6
g / m 2 .

【0037】また、請求項3に係る発明の熱現像感光材
料は、保護層の表面平均粗さRa(中心線平均粗さとも
いう)が、50〜150nmであることが特徴であり、
好ましくは70〜120nmの範囲である。本発明に用
いられる表面平均粗さRa(roughness av
erage)とは、測定される2次元面をM×N個のピ
クセルに分解し、各ピクセル毎の粗さに関しM×N個の
平均として求められる値である。
The photothermographic material of the invention according to claim 3 is characterized in that the protective layer has a surface average roughness Ra (also referred to as a center line average roughness) of 50 to 150 nm.
Preferably it is in the range of 70 to 120 nm. Surface average roughness Ra (roughness av) used in the present invention.
“erage” is a value obtained by decomposing a measured two-dimensional surface into M × N pixels and calculating an average of M × N pixels for roughness of each pixel.

【0038】本発明に用いられる3次元表面粗さ計とし
ては、例えばエリオニクス社製ERA−8000FE型
の如く複数の検出器を備えた走査電子顕微鏡、および原
子間力顕微鏡(AFM)など表面の凹凸を数値として出
力可能な顕微鏡が挙げられるが、米国WYKO社製のR
ST/PLUS型に代表される光干渉を利用した非接触
型3次元表面粗さ計の使用が好ましい。
The three-dimensional surface roughness meter used in the present invention includes, for example, a scanning electron microscope equipped with a plurality of detectors such as ERA-8000FE manufactured by Elionix, and a surface roughness such as an atomic force microscope (AFM). Is a numerical value that can be output as a numerical value.
It is preferable to use a non-contact type three-dimensional surface roughness meter utilizing optical interference represented by the ST / PLUS type.

【0039】本発明の熱現像感光材料において、所定の
表面平均粗さを得る手段としては、特に限定はされない
が、保護膜で用いるマット剤の種類および保護膜中への
充填量、保護膜の膜厚、塗布液粘度、塗布方式および乾
燥条件等を適宜選択し、最適化することにより達成する
ことができる。
In the photothermographic material of the present invention, the means for obtaining a predetermined surface average roughness is not particularly limited, but the kind of the matting agent used in the protective film, the filling amount in the protective film, and the amount of the protective film. It can be achieved by appropriately selecting and optimizing a film thickness, a coating solution viscosity, a coating method, drying conditions, and the like.

【0040】本発明の熱現像感光材料においては、感光
層側の保護層にマット剤を含有することが好ましい。マ
ット剤は感光層側の全バインダーに対し、重量比で0.
5〜30%含有することが好ましい。
In the photothermographic material of the present invention, the protective layer on the photosensitive layer side preferably contains a matting agent. The matting agent has a weight ratio of 0.1 to all binders on the photosensitive layer side.
It is preferable to contain 5 to 30%.

【0041】本発明の熱現像感光材料に好ましく用いら
れるマット剤の材質は、有機物及び無機物のいずれでも
よい。例えば、無機物としては、スイス特許第330,
158号等に記載のシリカ、仏国特許第1,296,9
95号等に記載のガラス粉、英国特許第1,173,1
81号等に記載のアルカリ土類金属又はカドミウム、亜
鉛等の炭酸塩等をマット剤として用いることができる。
有機物としては、米国特許第2,322,037号等に
記載の澱粉、ベルギー特許第625,451号や英国特
許第981,198号等に記載された澱粉誘導体、特公
昭44−3643号等に記載のポリビニルアルコール、
スイス特許第330,158号等に記載のポリスチレン
或いはポリメタアクリレート、米国特許第3,079,
257号等に記載のポリアクリロニトリル、米国特許第
3,022,169号等に記載されたポリカーボネート
の様な有機マット剤を用いることができる。
The material of the matting agent preferably used in the photothermographic material of the present invention may be either an organic substance or an inorganic substance. For example, as the inorganic substance, Swiss Patent No. 330,
No. 158, French Patent No. 1,296,9
No. 95, British Patent No. 1,173,1
No. 81 or other alkaline earth metals or carbonates such as cadmium and zinc can be used as matting agents.
Examples of organic substances include starch described in U.S. Pat. No. 2,322,037, starch derivatives described in Belgian Patent No. 625,451 and British Patent No. 981,198, and Japanese Patent Publication No. 44-3643. Polyvinyl alcohol as described,
Polystyrene or polymethacrylate described in Swiss Patent No. 330,158 and the like, US Pat. No. 3,079,
Organic matting agents such as polyacrylonitrile described in US Pat. No. 257 and the like and polycarbonate described in US Pat. No. 3,022,169 and the like can be used.

【0042】マット剤の形状は定形、不定形のどちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはその体積を球形に換算したとき
の直径で表され、本発明においてマット剤の粒径とはこ
の球形換算した直径のことを示すものとする。
The shape of the matting agent may be either regular or irregular, but is preferably regular and spherical. The size of the matting agent is represented by a diameter when its volume is converted into a sphere, and in the present invention, the particle diameter of the matting agent indicates the diameter converted into a sphere.

【0043】マット剤は平均粒径が0.5〜10μmで
あることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μ
mである。又、粒子サイズ分布の変動係数としては、5
0%以下であることが好ましく、更に好ましくは40%
以下であり、特に好ましくは30%以下となるポリマー
ラテックスである。
The matting agent preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm.
m. The coefficient of variation of the particle size distribution is 5
0% or less, more preferably 40%
Or less, particularly preferably 30% or less.

【0044】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

【0045】変動係数=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 マット剤は任意の構成層中に含むことができるが、好ま
しくは感光層以外の構成層である。本発明の熱現像感光
材料においては、感光層側の保護層にマット剤を含有す
ることが好ましい。即ち、所望の表面平均粗さを得るた
め感光材料の表面にマット剤を配する。マット剤の添加
方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっ
てもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前
にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の
種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用し
てもよい。
Coefficient of variation = (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100 The matting agent can be contained in any constituent layer, but is preferably a constituent layer other than the photosensitive layer. In the photothermographic material of the invention, the protective layer on the photosensitive layer side preferably contains a matting agent. That is, a matting agent is provided on the surface of the photosensitive material in order to obtain a desired surface average roughness. The method of adding the matting agent may be a method in which the matting agent is dispersed in a coating solution in advance, or a method in which the matting agent is sprayed before the drying is completed after the coating solution is applied. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used in combination.

【0046】マット剤は感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
The matting agent is preferably contained in a weight ratio of 0.5 to 30% based on all binders on the photosensitive layer side.

【0047】熱現像感光材料の製造時に用いられる塗布
方式としては、リバースロール、グラビアロール、エア
ドクターコータ、ブレードコータ、エアナイフコータ、
スクイズコータ、含浸コータ、バーコータ、トランスフ
ァロールコータ、キスコータ、キャストコータ或いはス
プレーコータ、押し出しコータ等が知られているが、本
発明では支持体上への構成層の形成をエクストルージョ
ン方式ダイコータにより塗布を行うことを特徴とする。
Coating methods used in the production of the photothermographic material include reverse rolls, gravure rolls, air doctor coaters, blade coaters, air knife coaters, and the like.
Squeeze coaters, impregnation coaters, bar coaters, transfer roll coaters, kiss coaters, cast coaters or spray coaters, extrusion coaters, and the like are known.In the present invention, the formation of a constituent layer on a support is performed by an extrusion die coater. It is characterized by performing.

【0048】尚、感光層の上に保護層を設けるとき、各
層毎に塗布乾燥を繰り返してもよいが、ウェット−オン
−ウェット方式で重層塗布して乾燥させることが好まし
い。
When a protective layer is provided on the photosensitive layer, the coating and drying may be repeated for each layer. However, it is preferable that the coating and drying are performed by a wet-on-wet method.

【0049】尚、ウェット−オン−ウェット方式におけ
る重層塗布においては、下側の層が湿潤状態になったま
まで上側の層を塗布するので、上下層間の接着性が向上
し、かつ上側の層の表面の物理特性が良好になる。この
結果、画像の安定性が要求される印刷分野での要求を満
たしたものとなる。
In the multi-layer coating in the wet-on-wet method, the upper layer is coated while the lower layer is kept wet, so that the adhesiveness between the upper and lower layers is improved and the upper layer is coated. Good physical properties of the surface. As a result, the requirements in the printing field where image stability is required are satisfied.

【0050】各構成層の塗布液粘度は、200cP以
上、500cP以下であることが好ましい。200cP
以下になると、条件によってはムラが発生することがあ
り、逆に500cP以上になると塗布液の流動性が低く
なり、塗布性が低下し、その結果として本発明に係る各
物理特性値を得ることが困難となる。この範囲内であれ
ば、塗布液の流動性も良く、塗布ムラも発生しにくいの
で、いかなる条件でも均一に塗布することが可能とな
る。なお、塗布液の粘度測定は、東京計器社製のB型粘
度計を用いて測定した。
The viscosity of the coating solution of each constituent layer is preferably 200 cP or more and 500 cP or less. 200 cP
Below, unevenness may occur depending on the conditions. Conversely, when it is 500 cP or more, the fluidity of the coating liquid decreases, the coatability decreases, and as a result, each physical property value according to the present invention is obtained. Becomes difficult. Within this range, the fluidity of the coating liquid is good and coating unevenness is unlikely to occur, so that coating can be performed uniformly under any conditions. The viscosity of the coating solution was measured using a B-type viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.

【0051】本発明に係る熱現像感光材料には、前記有
機銀塩の他にハロゲン化銀、還元剤、硬調化剤等を含ん
でいる。
The photothermographic material according to the present invention contains a silver halide, a reducing agent, a high contrast agent and the like in addition to the organic silver salt.

【0052】本発明の熱現像感光材料の感光層には光セ
ンサーとして機能するハロゲン化銀粒子を含有する。該
ハロゲン化銀粒子は、画像形成後の白濁を低く抑えるた
め及び良好な画質を得るため、平均粒子サイズが小さい
方が好ましく、平均粒子サイズ0.1μm以下、より好
ましくは0.01〜0.1μm、特に0.02〜0.0
8μmが好ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲ
ン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶であ
る場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。ま
た、正常晶でない場合、例えば球状、棒状又は平板状の
粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等の球を
考えたときの直径をいう。
The photosensitive layer of the photothermographic material of the present invention contains silver halide particles functioning as an optical sensor. The silver halide grains preferably have a small average grain size, more preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.01 to 0.1 mm, in order to suppress white turbidity after image formation and obtain good image quality. 1 μm, especially 0.02 to 0.0
8 μm is preferred. The term "grain size" as used herein refers to the length of a ridge of a silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical, rod-shaped or tabular grains, the diameter refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.

【0053】ハロゲン化銀粒子は単分散であることが好
ましい。ここでいう単分散とは、前記有機銀塩で示した
単分散と同義であり、単分散度として40%以下を指
し、好ましくは30%以下であり、更に好ましくは20
%以下となる粒子である。
The silver halide grains are preferably monodispersed. The term “monodispersion” as used herein has the same meaning as the monodispersion described for the organic silver salt, and indicates a monodispersity of 40% or less, preferably 30% or less, more preferably 20% or less.
% Or less.

【0054】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is not particularly limited, but the ratio occupied by the Miller index [100] plane is preferably high, and this ratio is 50% or more, and more preferably 7%.
It is preferably at least 0%, particularly preferably at least 80%. The ratio of the Miller index [100] plane is determined by the T.M. Tani, J .; Imaging Sci. , 29,
165 (1985).

【0055】また、本発明においてはハロゲン化銀の好
ましい形状の一つは、平板状粒子である。ここでいう平
板状粒子とは、投影面積の平方根を粒径rμmとし、垂
直方向の厚みをhμmとした場合のアスペクト比=r/
hが3以上のものをいう。その中でも好ましくはアスペ
クト比が3以上50以下である。また粒径は0.1μm
以下であることが好ましく、さらに0.01〜0.08
μmが好ましい。これらは米国特許第5,264,33
7号、第5,314,798号、第5,320,958
号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得る
ことができる。
In the present invention, one of the preferable shapes of silver halide is tabular grains. As used herein, the term “tabular grains” refers to an aspect ratio where the square root of the projected area is r μm and the thickness in the vertical direction is h μm = r /
h means 3 or more. Among them, the aspect ratio is preferably 3 or more and 50 or less. The particle size is 0.1 μm
Or less, more preferably 0.01 to 0.08
μm is preferred. These are disclosed in US Pat. No. 5,264,33.
No. 7, No. 5,314,798, No. 5,320,958
The target tabular grains can be easily obtained.

【0056】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin Photographic Emulsi
on Chemistry(The Focal Pr
ess刊、1966年)、V.L.Zelikman
et.,al.,Making and Coatin
g Photographic Emulsion(T
he Focal Press刊、1964年)等に記
載された方法を用いて調製することができる。即ち、酸
性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、又可
溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成として
は、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいず
れを用いてもよい。
The halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide. The photographic emulsion used in the present invention is P.I. Glafkids Chimie et
Physique Photographique (P
aul Montel, 1967); F. D
uffin Photographic Emulsi
on Chemistry (The Focal Pr
ess, 1966); L. Zelikman
et. , Al. , Making and Coatin
g Photographic Emulsion (T
he Focal Press, 1964) and the like. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method and the like may be used, and a method of reacting a soluble silver salt with a soluble halide may be any one of a one-sided mixing method, a double-sided mixing method, a combination thereof and the like. Good.

【0057】ハロゲン化銀はいかなる方法で有機銀塩分
散物に添加してもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。また、ハロゲン化
銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有機酸銀
中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換することに
よって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調製して
おき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添加して
もよく、又はこれらの方法の組み合わせも可能であるが
後者が好ましい。
The silver halide may be added to the organic silver salt dispersion by any method, in which case the silver halide is arranged close to the reducible silver source. Further, the silver halide may be prepared by converting a part or all of silver in the organic acid silver by a reaction between the organic acid silver and a halogen ion into silver halide, or preparing the silver halide in advance. In advance, this may be added to a solution for preparing an organic silver salt, or a combination of these methods is possible, but the latter is preferred.

【0058】また、ハロゲン化銀は有機銀塩に対して
0.75〜30重量%の量で含有することが好ましい。
The silver halide is preferably contained in an amount of 0.75 to 30% by weight based on the organic silver salt.

【0059】本発明に用いられるハロゲン化銀には、元
素周期表の6〜11族に属する金属イオン又は錯体イオ
ンを含有することが好ましい。これらの金属としては、
W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、R
e、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。これらの金属
は錯体の形でハロゲン化銀に導入できる。
The silver halide used in the present invention preferably contains metal ions or complex ions belonging to Groups 6 to 11 of the periodic table. These metals include
W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, R
e, Os, Ir, Pt, and Au are preferred. These metals can be introduced into the silver halide in the form of a complex.

【0060】本発明においては、遷移金属錯体は、下記
一般式で表される6配位錯体が好ましい。
In the present invention, the transition metal complex is preferably a six-coordinate complex represented by the following general formula.

【0061】一般式〔ML6m 式中、Mは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれる
遷移金属、Lは架橋配位子、mは0、−、2−、3−又
は4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、
ハロゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、
シアン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシア
ナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位
子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好まし
くはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。ア
コ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを
占めることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっ
ていてもよい。
In the formula [ML 6 ] m , M is a transition metal selected from the elements of Groups 6 to 11 of the periodic table, L is a bridging ligand, and m is 0,-, 2-, 3- or Represents 4-. Specific examples of the ligand represented by L include:
Halides (fluoride, chloride, bromide and iodide),
Examples include cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide, and aquo ligands, nitrosyl, thionitrosyl, and the like, and preferably aquo, nitrosyl, and thionitrosyl. If an aquo ligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

【0062】Mとして特に好ましい具体例は、ロジウム
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)及び
オスミウム(Os)である。
Particularly preferred examples of M are rhodium (Rh), ruthenium (Ru), rhenium (Re) and osmium (Os).

【0063】以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。Specific examples of the transition metal coordination complex are shown below.

【0064】1:〔RhCl63- 2:〔RuCl63- 3:〔ReCl63- 4:〔RuBr63- 5:〔OsCl63- 6:〔CrCl64- 7:〔Ru(NO)Cl52- 8:〔RuBr4(H2O)〕2- 9:〔Ru(NO)(H2O)Cl4- 10:〔RhCl5(H2O)〕2− 11:〔Re(NO)Cl2- 12:〔Re(NO)CN52- 13:〔Re(NO)ClCN42- 14:〔Rh(NO)2Cl4- 15:〔Rh(NO)(H2O)Cl4- 16:〔Ru(NO)CN52- 17:〔Fe(CN)63- 18:〔Rh(NS)Cl52- 19:〔Os(NO)Cl52- 20:〔Cr(NO)Cl52- 21:〔Re(NO)Cl5- 22:〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕2- 23:〔Ru(NS)Cl52- 24:〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕2- 25:〔Os(NS)Cl(SCN)42- 26:〔Ir(NO)Cl52- これらの金属のイオン又は錯体イオンは一種類でもよい
し、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよ
い。これらの金属イオン又は錯体イオンの含有量として
は、一般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9
1×10-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8
1×10-4モルである。これらの金属イオン又は錯体イ
オンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添
加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
く、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物
理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよい
が、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが
好ましく、更に核形成、成長の段階で添加するのが好ま
しく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
[0064] 1: [RhCl 6] 3- 2: [RuCl 6] 3- 3: [ReCl 6] 3- 4: [RuBr 6] 3- 5: [OsCl 6] 3- 6: [CrCl 6] 4 - 7: [Ru (NO) Cl 5] 2- 8: [RuBr 4 (H 2 O)] 2- 9: [Ru (NO) (H 2 O ) Cl 4 ] - 10: [RhCl 5 (H 2 O)] 2- 11: [Re (NO) Cl 5] 2- 12: [Re (NO) CN 5] 2- 13: [Re (NO) ClCN 4] 2- 14: [Rh (NO) 2 Cl 4] - 15: [Rh (NO) (H 2 O ) Cl 4 ] - 16: [Ru (NO) CN 5] 2- 17: [Fe (CN) 6] 3- 18: [Rh (NS) Cl 5] 2- 19: [Os (NO) Cl 5] 2- 20: [Cr (NO) Cl 5] 2- 21: [Re (NO) Cl 5] - 22: [Os (NS) Cl 4 (TeCN )] 2- 23: Ru (NS) Cl 5] 2- 24: [Re (NS) Cl 4 (SeCN ) ] 2- 25: [Os (NS) Cl (SCN) 4 ] 2- 26: [Ir (NO) Cl 5] 2 - may be an ion or complex ion is one kind of these metals, the metal of the same kind of metal or different may be used alone or in combination. The content of these metal ions or complex ions is generally 1 × 10 −9 to 1 mol per mol of silver halide.
1 × 10 −2 mol is appropriate, and preferably 1 × 10 −8 to
It is 1 × 10 -4 mol. These compounds providing a metal ion or a complex ion are preferably added during silver halide grain formation and incorporated into silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening, It may be added at any stage before and after the chemical sensitization, but it is particularly preferable to add at the stage of nucleation, growth, and physical ripening, more preferably, at the stage of nucleation and growth, most preferably. It is added at the stage of nucleation.

【0065】添加に際しては、数回に亘って分割して添
加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭63−29603号、特開平2
−306236号、同3−167545号、同4−76
534号、同6−110146号、同5−273683
号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有
させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもた
せることができる。
In the addition, the compound may be added in several divided portions, may be added uniformly in the silver halide grains, or may be added to silver halide grains.
-306236, 3-167545, 4-76
No. 534, No. 6-110146, No. 5-273683
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-284, etc., the particles can be contained in the particles with a distribution. Preferably, a distribution can be provided inside the particles.

【0066】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができる。例えば金属化合物の粉末の水溶液
もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解
した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性
ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液と
ハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液とし
て添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調
製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液
を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時
に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別
のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等があ
る。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合
物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶
性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時の途中も
しくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水
溶液を反応容器に投入することもできる。
These metal compounds can be added by dissolving them in water or a suitable organic solvent (eg, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). For example, a method in which an aqueous solution of a powder of a metal compound or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl and KCl are dissolved together is added to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during grain formation, or a silver salt solution. A method in which silver halide grains are prepared by a method of simultaneous mixing of three liquids when a halide solution is simultaneously mixed as a third aqueous solution, and a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal compound is charged into a reaction vessel during grain formation. Alternatively, there is a method in which another silver halide grain doped with a metal ion or a complex ion in advance during the preparation of silver halide is added and dissolved. In particular, a method of adding an aqueous solution of a powder of a metal compound or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl and KCl are dissolved together is added to a water-soluble halide solution. When adding to the surface of the particles, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or at the end of physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0067】本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子はヌ
ードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透
析法等の公知の脱塩法により脱塩することができる。
The photosensitive silver halide grains according to the present invention can be desalted by a known desalting method such as a noodle method, flocculation method, ultrafiltration method and electrodialysis method.

【0068】感光性ハロゲン化銀粒子は、化学増感され
ることが好ましい。好ましい化学増感法としては、当業
界でよく知られているような硫黄増感法、セレン増感
法、テルル増感法を用いることができる。また、金化合
物、白金化合物、パラジウム化合物、イリジウム化合物
などの貴金属増感法や還元増感法を用いることができ
る。
The photosensitive silver halide grains are preferably chemically sensitized. As a preferable chemical sensitization method, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, or a tellurium sensitization method well known in the art can be used. Further, a noble metal sensitization method such as a gold compound, a platinum compound, a palladium compound, and an iridium compound or a reduction sensitization method can be used.

【0069】硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法
に好ましく用いられる化合物としては、公知の化合物、
例えば特開平7−128768号等に記載の化合物を用
いることができる。
The compounds preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method include known compounds,
For example, compounds described in JP-A-7-128768 can be used.

【0070】テルル増感剤としては、例えばジアシルテ
ルリド類、ビス(オキシカルボニル)テルリド類、ビス
(カルバモイル)テルリド類、ビス(オキシカルボニ
ル)ジテルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド
類、P=Te結合を有する化合物、テルロカルボン酸塩
類、Te−オルガニルテルロカルボン酸エステル類、ジ
(ポリ)テルリド類、テルリド類、テルロール類、テル
ロアセタール類、テルロスルホナート類、含Teヘテロ
環類、テルロカルボニル化合物、無機テルロ化合物、コ
ロイド状テルル化合物などを用いることができる。
Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, and P = Te bond Compounds having the formula: tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, Te-containing heterocycles, tellurocarbonyl compounds, An inorganic tellurium compound, a colloidal tellurium compound, or the like can be used.

【0071】貴金属増感法に好ましく用いられる化合物
としては、例えば塩化金酸、カリウムクロロオーレー
ト、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナ
イド或いは米国特許第2,448,060号、英国特許
第618,061号などに記載されている化合物を好ま
しく用いることができる。
Compounds preferably used in the noble metal sensitization method include, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide or US Pat. No. 2,448,060, British Patent 618, No. 061 or the like can be preferably used.

【0072】還元増感法に好ましく用いられる具体的な
化合物としては、アスコルビン酸、二酸化チオ尿素の
他、例えば塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルホン
酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、
ポリアミン化合物等を用いることができる。
Specific compounds preferably used in the reduction sensitization method include, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfonic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds,
A polyamine compound or the like can be used.

【0073】また、乳剤のpHを7以上、pAgを8.
3以下に保持して熟成することにより還元増感すること
ができる。また、粒子形成中に銀イオンのシングルアデ
ィション部分を導入することにより還元増感することが
できる。
The pH of the emulsion was 7 or more, and the pAg was 8.
Reduction sensitization can be achieved by ripening while keeping at 3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.

【0074】本発明の熱現像写真感光材料は、分光増感
色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレ
ックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色
素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシ
アニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素
等を用いることができる。例えば特開昭63−1598
41号、同60−140335号、同63−23143
7号、同63−259651号、同63−304242
号、同63−15245号、米国特許第4,639,4
14号、同第4,740,455号、同第4,741,
966号、同第4,751,175号、同第4,83
5,096号に記載された分光増感色素が使用できる。
The heat-developable photographic light-sensitive material of the present invention comprises cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes as spectral sensitizing dyes. Etc. can be used. For example, JP-A-63-1598
No. 41, No. 60-140335, No. 63-23143
No. 7, 63-259,651 and 63-304242
No. 63-15245, U.S. Pat. No. 4,639,4
No. 14, No. 4,740,455, No. 4,741,
No. 966, No. 4,751,175, No. 4,83
The spectral sensitizing dyes described in 5,096 can be used.

【0075】本発明に使用される有用な分光増感色素
は、例えばResearch Disclosure
(以下、RDと略す)17643IV−A項(1978年
12月p.23)、同Item1831X項(1978
年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記
載されている。特に各種レーザーイメージャーやスキャ
ナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する分光増
感色素を有利に選択することができる。例えば特開平9
−34078号、同9−54409号、同9−8067
9号記載の化合物が好ましく用いられる。
Useful spectral sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, Research Disclosure.
(Hereinafter abbreviated as RD) Section 17643 IV-A (p.23, December 1978) and Item 1831X (1978)
August, p. 437) or in the literature cited. In particular, a spectral sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers and scanners can be advantageously selected. For example, JP-A-9
-34078, 9-54409, 9-8067
The compound described in No. 9 is preferably used.

【0076】有用なシアニン色素としては、例えば、チ
アゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン
核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核お
よびイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色
素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、
上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダ
ニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン
核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリ
ル核およびピラゾロン核などの酸性核も含む。
Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include:
In addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as a thiohydantoin nucleus, a rhodanine nucleus, an oxazolidinedione nucleus, a thiazolinedione nucleus, a barbituric acid nucleus, a thiazolinone nucleus, a malononitrile nucleus and a pyrazolone nucleus are also included.

【0077】これらの分光増感色素は単独に用いてもよ
いが、それらの組合せを用いてもよく、分光増感色素の
組合せは、特に強色増感の目的でしばしば用いられる。
These spectral sensitizing dyes may be used alone or in combination, and the combination of spectral sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization.

【0078】分光増感色素とともに、それ自身分光増感
作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しな
い物質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んで
もよい。
In addition to the spectral sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization.

【0079】有用な分光増感色素、強色増感を示す色素
の組合せ及び強色増感を示す物質はRD176巻176
43(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、ある
いは特公平9−25500号、特公昭43−4933
号、特開昭59−19032号、同59−192242
号等に記載されている。
Useful spectral sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are described in RD 176 Vol.
43 (issued in December 1978), page 23, IV, J, or Japanese Patent Publication No. 9-25500, Japanese Patent Publication No. 43-4933.
JP-A-59-19032 and JP-A-59-192242.
No. etc.

【0080】本発明の熱現像感光材料では、硬調化剤と
してヒドラジン誘導体を含有するとき、その効果を遺憾
なく発揮する。
In the photothermographic material of the present invention, when a hydrazine derivative is contained as a high contrast agent, the effect is regrettedly exhibited.

【0081】ヒドラジン誘導体としては、下記一般式
〔H〕で表される化合物が好ましい。
As the hydrazine derivative, a compound represented by the following general formula [H] is preferable.

【0082】[0082]

【化1】 Embedded image

【0083】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG11
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。
In the formula, A 0 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a -G 0 -D 0 group which may have a substituent;
B 0 represents a blocking group, and A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group, or an oxalyl group. Here, G 0 is -CO-
Group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG 1 D 1 )
— Group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D
1 ) represents a group, G 1 represents a mere bond, an —O— group, —S—
Group or -N (D 1) - represents a group, D 1 is an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, a plurality of D 1 in the molecule
If they are present, they can be the same or different. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group,
Represents an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group.

【0084】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
In the general formula [H], the aliphatic group represented by A 0 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, cyclohexyl group, benzyl group,
These may be further substituted with a suitable substituent (for example, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, sulfoxy group, sulfonamide group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.).

【0085】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び
−G0−D0基は置換基を有していてもよい。
In the general formula [H], the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed-ring aryl group, for example, a benzene ring or a naphthalene ring, and a heterocyclic group represented by A 0. The group is preferably a heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atom in a single ring or a condensed ring, for example, a pyrrolidine ring, an imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a quinoline ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring, a furan ring, and, in -G 0 -D 0 group represented by A 0, G 0 is -CO
Group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O)
(G 1 D 1 ) — represents a group. G 1 is a mere bond, -O-
A group, —S— group or —N (D 1 ) — group, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, They can be the same or different. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group,
It represents a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferable D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and the like. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent.

【0086】A0として特に好ましいものはアリール基
及び−G0−D0基である。
Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a -G 0 -D 0 group.

【0087】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
In the general formula [H], A 0 preferably contains at least one diffusion-resistant group or a silver halide-adsorbing group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable, and as the ballast group, a photographically inert alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, phenyl group, Examples thereof include a phenoxy group and an alkylphenoxy group, and the total number of carbon atoms in the substituent is preferably 8 or more.

【0088】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
In the general formula [H], examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group, 64-9
No. 0439.

【0089】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スル
ホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等)、又はオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。
In the general formula [H], B 0 represents a blocking group, preferably -G 0 -D 0 group, and G 0 represents-
CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O)
(G 1 D 1 ) — represents a group. Preferred G 0 is -CO-
Group, -COCO- group, G 1 is a mere bond,
—O—, —S— or —N (D 1 ) —, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and a plurality of D 1 are present in the molecule If so, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, And an amino group. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or an oxalyl group (Such as an ethoxalyl group).

【0090】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula [H] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0091】[0091]

【化2】 Embedded image

【0092】[0092]

【化3】 Embedded image

【0093】[0093]

【化4】 Embedded image

【0094】[0094]

【化5】 Embedded image

【0095】[0095]

【化6】 Embedded image

【0096】[0096]

【化7】 Embedded image

【0097】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。
Other hydrazine derivatives that can be preferably used include compounds H-1 to H-29 described in columns 11 to 20 of US Pat. No. 5,545,505.
U.S. Pat. No. 5,464,738 column 9 to column 11
And compounds 1 to 12.

【0098】これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で
合成することができる。
[0098] These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.

【0099】ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲン化
銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モル程度、特に10-5〜10-2モルの範囲が好まし
い。
The hydrazine derivative-added layer is a photosensitive layer containing a silver halide emulsion and / or a layer adjacent to the photosensitive layer. The optimum amount is not uniform depending on the grain size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor, and the like, but is preferably 10 -6 to 10 per mol of silver halide.
The preferred range is about -1 mol, particularly 10 -5 to 10 -2 mol.

【0100】また本発明の熱現像感光材料には、米国特
許第5,545,505号に記載のヒドロキシルアミン
化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アンモニ
ウム化合物、米国特許第5,545,507号に記載の
ヒドロキサム酸化合物、米国特許第5,558,983
号に記載のN−アシル−ヒドラジン化合物、米国特許第
5,545,515号に記載のアクリロニトリロ化合
物、米国特許第5,937,449号に記載のベンズヒ
ドロールやジフェニルフォスフィンやジアルキルピペリ
ジンやアルキル−β−ケトエステルなどの水素原子ドナ
ー化合物、などの硬調化促進剤を添加することが好まし
い。その中でも下記一般式(P)で表される4級オニウ
ム化合物及び一般式〔Na〕で表されるアミノ化合物が
好ましく用いられる。
The photothermographic material of the present invention includes hydroxylamine compounds, alkanolamine compounds and ammonium phthalate compounds described in US Pat. No. 5,545,505, and US Pat. No. 5,545,507. Hydroxamic acid compounds of US Pat. No. 5,558,983
N-acyl-hydrazine compounds described in U.S. Pat. No. 5,545,515, acrylonitrile compounds described in U.S. Pat. No. 5,545,515, benzhydrol, diphenylphosphine, dialkylpiperidine and alkyl described in U.S. Pat. No. 5,937,449. It is preferable to add a hardening accelerator such as a hydrogen atom donor compound such as -β-ketoester. Among them, a quaternary onium compound represented by the following general formula (P) and an amino compound represented by the general formula [Na] are preferably used.

【0101】[0101]

【化8】 Embedded image

【0102】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。
In the formula, Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom;
1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X represents an anion. Incidentally, R 1 to R 4 may be connected to each other to form a ring.

【0103】[0103]

【化9】 Embedded image

【0104】一般式〔Na〕において、R11、R12及び
13は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
ルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、置換アリール基、又は飽和若しくは不飽和のヘテ
ロ環を表す。R11、R12及びR13で環を形成してもよ
い。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合物である。
これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀
吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を有するため
には分子量100以上の化合物が好ましく、さらに好ま
しくは分子量300以上であり、前記一般式〔H〕にお
けるA0における耐拡散基と同義のものが挙げられる。
また、好ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、
チオエーテル基、チオン基、チオウレア基等が挙げられ
る。
In the formula [Na], R 11 , R 12 and R 13 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a substituted aryl group, Represents an unsaturated heterocyclic ring. R 11 , R 12 and R 13 may form a ring. Particularly preferred are aliphatic tertiary amine compounds.
These compounds preferably have a diffusion-resistant group or a silver halide adsorption group in the molecule. Molecular weight 100 or more compounds are preferred in order to have a diffusion-resistant, still more preferably a molecular weight of 300 or more, include those having the same meaning as non-diffusible group in A 0 in the general formula (H).
Further, preferred adsorbing groups include a heterocyclic ring, a mercapto group,
Examples include a thioether group, a thione group, and a thiourea group.

【0105】一般式〔Na〕で表される硬調化促進剤よ
り更に好ましい硬調化促進剤として下記一般式〔Na
2〕で表される化合物が挙げられる。
As a more preferable contrast enhancement accelerator than the contrast enhancement accelerator represented by the general formula [Na], the following general formula [Na]
2].

【0106】[0106]

【化10】 Embedded image

【0107】一般式〔Na2〕において、R1、R2、R
3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又は飽
和若しくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互いに連
結して環を形成することができる。又、R1とR2、R3
とR4が同時に水素原子であることはない。XはS、S
e又はTe原子を表す。L1及びL2は各々2価の連結基
を表す。具体的には以下に示す基又はその組み合わせ及
びそれらに適当な置換基(例えばアルキレン基、アルケ
ニレン基、アリーレン基、アシルアミノ基、スルホンア
ミド基等)を有する基が挙げられる。
In the general formula [Na2], R 1 , R 2 , R
3 and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group,
Represents a substituted alkynyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a saturated or unsaturated heterocyclic ring. These can be linked to each other to form a ring. Also, R 1 and R 2 , R 3
And R 4 are not simultaneously hydrogen atoms. X is S, S
represents an e or Te atom. L 1 and L 2 each represent a divalent linking group. Specific examples include the following groups or combinations thereof, and groups having an appropriate substituent (eg, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, an acylamino group, a sulfonamide group, and the like).

【0108】−CH2−、−CH=CH−、−C2
4−、ピリジンジイル、−N(Z1)−(Z1は水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す)、−O−、−S
−、−(CO)−、−(SO2)−、−CH2N−。
-CH 2- , -CH = CH-, -C 2 H
4 -, pyridinediyl, -N (Z 1) - ( Z 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group), - O -, - S
-, - (CO) -, - (SO 2) -, - CH 2 N-.

【0109】又、L1又はL2で表される連結基は、該連
結基中に少なくとも1つ以上の以下の構造を含むことが
好ましい。
The linking group represented by L 1 or L 2 preferably contains at least one or more of the following structures in the linking group.

【0110】−[CH2CH2O]−、−[C(CH3
HCH2O]−、−[OC(CH3)HCH2O]−、−
[OCH2C(OH)HCH2]−。
-[CH 2 CH 2 O]-,-[C (CH 3 )
HCH 2 O] -, - [ OC (CH 3) HCH 2 O] -, -
[OCH 2 C (OH) HCH 2] -.

【0111】以下に一般式〔Na〕又は〔Na2〕で表
される硬調化促進剤の具体例を挙げる。
The following are specific examples of the high contrast accelerator represented by the general formula [Na] or [Na2].

【0112】[0112]

【化11】 Embedded image

【0113】[0113]

【化12】 Embedded image

【0114】[0114]

【化13】 Embedded image

【0115】[0115]

【化14】 Embedded image

【0116】一般式(P)において、R1〜R4で表され
る置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基
等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アル
キニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール
基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジ
ニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基
等が挙げられる。
In the general formula (P), the substituent represented by R 1 to R 4 is an alkyl group (methyl group, ethyl group,
Propyl group, butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc., alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (Piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group, sulfolanyl group, etc.), amino group and the like.

【0117】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。
The ring which may be formed by connecting R 1 to R 4 to each other includes a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring,
Examples include a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring.

【0118】R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、ス
ルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有しても
よい。
The groups represented by R 1 to R 4 are a hydroxyl group,
It may have a substituent such as an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group and an aryl group.

【0119】R1、R2、R3及びR4としては、水素原子
及びアルキル基が好ましい。
As R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , a hydrogen atom and an alkyl group are preferred.

【0120】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
Examples of the anion represented by X include inorganic and organic anions such as a halogen ion, a sulfate ion, a nitrate ion, an acetate ion and a p-toluenesulfonic acid ion.

【0121】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
More preferably, the following general formulas (Pa) and (P
b) or a compound represented by (Pc); and a compound represented by the following general formula [T].

【0122】[0122]

【化15】 Embedded image

【0123】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 represent a group of nonmetallic atoms for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom. And the benzene ring may be condensed. A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5
May have a substituent and may be the same or different. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfo group, a carboxy group, a hydroxyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, amino group, sulfonamide group, sulfonyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, alkylthio group and arylthio group. Preferred examples of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 include a 5- to 6-membered ring (pyridine,
Imidazole, thiozole, oxazole, pyrazine,
Each ring such as pyrimidine), and a more preferred example is a pyridine ring.

【0124】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
BP represents a divalent linking group, and m represents 0 or 1
Represents Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, —SO 2 —, —SO—, and —O
—, —S—, —CO—, and —N (R 6 ) — (R 6 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom) alone or in combination. Preferred examples of B p include an alkylene group and an alkenylene group.

【0125】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
R 1 , R 2 and R 5 each have 1 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group. R 1 and R 2 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and the substituent is the same as the substituents described as the substituents for A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 .

【0126】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換或いは無置換のアリール置換アル
キル基が挙げられる。
Preferred examples of R 1 , R 2 and R 5 include:
Each is an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferred examples include a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group.

【0127】Xp -は分子全体の電荷を均衡さすに必要な
対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホ
ナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電荷
を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場
合にはnpは0である。
[0127] X p - is a counter ion necessary to refer balancing the charge of the whole molecule, expressed as chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p- toluenesulfonate, the oxalato or the like. n p represents the number of counter ions required to balance the charge of the whole molecule, and n p is 0 in the case of an internal salt.

【0128】[0128]

【化16】 Embedded image

【0129】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6
7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
The substituents R 5 and R 6 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the general formula [T],
R 7 is preferably a hydrogen atom or a compound having a negative Hammett sigma value (σP) indicating the degree of electron withdrawing property.

【0130】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
The Hammett's sigma value at the phenyl group is described in many literatures, for example, Journal of Medical Chemistry.
Chemistry) 20, vol. 304, p. As a group having a particularly preferable negative sigma value, for example, a methyl group (σP = −0.17 or less, and
P value), ethyl group (-0.15), cyclopropyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), is
o-propyl group (-0.15), cyclobutyl group (-
0.15), n-butyl group (-0.16), iso-butyl group (-0.20), n-pentyl group (-0.1
5), cyclohexyl group (-0.22), amino group (-
0.66), acetylamino group (-0.15), hydroxyl group (-0.37), methoxy group (-0.27),
Ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.2
5), butoxy group (-0.32), pentoxy group (-
0.34), etc., each of which has the general formula [T]
Is useful as a substituent of the compound of

【0131】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
N represents 1 or 2, and examples of the anion represented by X T n- include halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, nitric acid, sulfuric acid, and the like.
Acid radicals of inorganic acids such as perchloric acid, acid radicals of organic acids such as sulfonic acid and carboxylic acid, anionic activators, specifically p-
Lower alkylbenzene sulfonic acid anions such as toluene sulfonic acid anion; higher alkyl benzene sulfonic acid anions such as p-dodecyl benzene sulfonic acid anion; higher alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate anion; boric acid anions such as tetraphenyl boron; Dialkyl sulfosuccinate anions such as 2-ethylhexyl sulfosuccinate anion,
Examples thereof include higher fatty acid anions such as cetyl polyethenoxy sulfate anion, and polymers having an acid radical attached to a polymer such as polyacrylate anion.

【0132】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
Hereinafter, specific examples of the quaternary onium compound will be shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0133】[0133]

【化17】 Embedded image

【0134】[0134]

【化18】 Embedded image

【0135】[0135]

【化19】 Embedded image

【0136】[0136]

【化20】 Embedded image

【0137】[0137]

【化21】 Embedded image

【0138】[0138]

【化22】 Embedded image

【0139】[0139]

【化23】 Embedded image

【0140】[0140]

【化24】 Embedded image

【0141】[0141]

【化25】 Embedded image

【0142】[0142]

【化26】 Embedded image

【0143】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は Chemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
The above quaternary onium compound can be easily synthesized according to a known method. For example, the above tetrazolium compound can be obtained from Chemical Reviews 55 p. Three
35-483 can be referred to.

【0144】これら4級オニウム化合物の添加量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。
The addition amount of these quaternary onium compounds is about 1 × 10 -8 to 1 mol, preferably 1 × 10 -7 to 1 × 10 -1 mol per mol of silver halide. These can be added to the light-sensitive material at any time from the time of silver halide grain formation to the time of coating.

【0145】4級オニウム化合物及びアミノ化合物は、
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の構成層中のいかなる層に添加してもよい
が、好ましくは感光層を有する側の構成層の少なくとも
1層、更には感光層及び/又はその隣接層に添加する。
A quaternary onium compound and an amino compound are
They may be used alone or in combination of two or more.
The compound may be added to any of the constituent layers of the photosensitive material, but is preferably added to at least one of the constituent layers on the side having the photosensitive layer, further to the photosensitive layer and / or an adjacent layer thereof.

【0146】本発明の熱現像感光材料には還元剤を内蔵
させる。好適な還元剤の例は、米国特許第3,770,
448号、同3,773,512号、同3,593,8
63号、及びResearch Disclosure
第17029及び29963に記載されており、次のも
のがある。アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ−2−シクロヘキ
セノン);還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類
(reductones)エステル(例えば、ピペリジ
ノヘキソースリダクトンモノアセテート);N−ヒドロ
キシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニル−N
−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又はケトンのヒドラゾ
ン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒドラ
ゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホスファーア
ミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類(例えば、
ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、イソプロピ
ルヒドロキノン及び(2,5−ジヒドロキシ−フェニ
ル)メチルスルホン);スルフヒドロキサム酸類(例え
ば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);スルホンアミド
アニリン類(例えば、4−(N−メタンスルホンアミ
ド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒドロキノン類
(例えば、2−メチル−5−(1−フェニル−5−テト
ラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒドロキノキサ
リン類(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロキノキ
サリン);アミドオキシン類;アジン類(例えば、脂肪
族カルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸
の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシ
ルアミンの組み合わせ、リダクトン及び/又はヒドラジ
ン;ヒドロキサン酸類;アジン類とスルホンアミドフェ
ノール類の組み合わせ;α−シアノフェニル酢酸誘導
体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシベン
ゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン類;スルホン
アミドフェノール還元剤;2−フェニルインダン−1,
3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒドロピリジン類
(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエト
キシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビスフェノール類
(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフェニル)メタン、ビス(6−ヒドロキシ−m
−トリ)メシトール(mesitol)、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、
4,5−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6−メチ
ル)フェノール)、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体
及び3−ピラゾリドン類。中でも特に好ましい還元剤は
ヒンダードフェノール類である。ヒンダードフェノール
類としては下記一般式(A)で表される化合物が挙げら
れる。
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent. Examples of suitable reducing agents are described in US Pat.
448, 3,773,512, 3,593,8
No. 63 and Research Disclosure
Nos. 17029 and 29996, and include the following. Aminohydroxycycloalkenonone compounds (eg, 2-hydroxypiperidino-2-cyclohexenone); aminoreductones esters (eg, piperidinohexose reductone monoacetate) as precursors of reducing agents; N- Hydroxyurea derivatives (for example, Np-methylphenyl-N
Hydrazones of aldehydes or ketones (e.g. anthracene aldehyde phenylhydrazone); phosphoramidophenols; phosphoramidoanilines; polyhydroxybenzenes (e.g.
Hydroquinone, t-butyl-hydroquinone, isopropylhydroquinone and (2,5-dihydroxy-phenyl) methylsulfone); sulfhydroxamic acids (eg, benzenesulfhydroxamic acid); sulfonamidoanilines (eg, 4- (N- Methanesulfonamido) aniline); 2-tetrazolylthiohydroquinones (eg, 2-methyl-5- (1-phenyl-5-tetrazolylthio) hydroquinone); tetrahydroquinoxalines (eg, 1,2,3,4-tetrahydro) Aminooxins; Azines (eg, a combination of an aliphatic carboxylic acid arylhydrazide and ascorbic acid); a combination of polyhydroxybenzene and hydroxylamine, reductone and / or hydrazine; Hydroxanoic acids Combinations of azines and sulfonamidophenols; α-cyanophenylacetic acid derivatives; combinations of bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives; 5-pyrazolones; sulfonamidophenol reducing agents; 2-phenylindane-1 ,
3-dione and the like; chroman; 1,4-dihydropyridines (eg, 2,6-dimethoxy-3,5-dicarbethoxy-1,4-dihydropyridine); bisphenols (eg, bis (2-hydroxy-3- t-butyl-5
-Methylphenyl) methane, bis (6-hydroxy-m
-Tri) mesitol, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane,
4,5-ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methyl) phenol), ultraviolet-sensitive ascorbic acid derivatives and 3-pyrazolidones. Among them, particularly preferred reducing agents are hindered phenols. Examples of the hindered phenols include compounds represented by the following general formula (A).

【0147】[0147]

【化27】 Embedded image

【0148】式中、Rは水素原子、又は炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C49、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
In the formula, R represents a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms.
10 alkyl group (e.g., -C 4 H 9, 2,4,4-trimethyl pentyl) represents, R 'and R "is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, t- butyl ).

【0149】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (A) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0150】[0150]

【化28】 Embedded image

【0151】[0151]

【化29】 Embedded image

【0152】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
The amount of the reducing agent including the compound represented by formula (A) is preferably 1 × 1 per mol of silver.
It is from 0 -2 to 10 mol, especially from 1 x 10 -2 to 1.5 mol.

【0153】本発明の熱現像感光材料において、色調
剤、色調付与剤若しくは付活剤トーナーと称せられる添
加剤(以下色調剤と呼ぶ)が使用される事が望ましい。
色調剤は有機銀塩と還元剤の酸化還元反応に関与して、
生ずる銀画像を濃色、特に黒色にする機能を有する。
In the photothermographic material of the present invention, it is desirable to use an additive (hereinafter referred to as a color tone agent) called a color tone agent, a color tone imparting agent or an activator toner.
The color tone agent participates in the redox reaction between the organic silver salt and the reducing agent,
It has the function of making the resulting silver image dark, especially black.

【0154】本発明に用いられる好適な色調剤の例はR
D第17029号に開示されており、次のものがある。
Examples of suitable toning agents used in the present invention are R
D-17029, which includes the following:

【0155】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又
は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナトリ
ウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジ
ン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、
及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo
−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル
酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1
つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサ
ジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジ
ン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,
6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−
2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好まし
い色調剤としてはフタラゾン又はフタラジンである。
Imides (for example, phthalimide); cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (for example, succinimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2 , 4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, hexamine trifluoroacetate of cobalt); mercaptans (eg, 3
-Mercapto-1,2,4-triazole); N- (aminomethyl) aryldicarboximides (for example,
N- (dimethylaminomethyl) phthalimide); blocked pyrazoles, isothiuronium (isoth
uronium) derivatives and certain photobleaches (eg, N, N'-hexamethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8-
A combination of (3,6-dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole; a merocyanine dye (e.g., 3-ethyl-5-((3-ethyl -2-benzothiazolinylidene (benzothiazolinylidene))-1-methylethylidene) -2-thio-2,4
Oxazolidinedione); phthalazinone, a phthalazinone derivative or a metal salt of these derivatives (for example, 4-
(1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3
-Dihydro-1,4-phthalazinedione); a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (for example, 6-chlorophthalazinone + sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone + sodium p-trisulfonate); phthalazine + phthalate Acid combinations; phthalazine (including phthalazine adducts) and maleic anhydride,
And phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o
At least one selected from phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (for example, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride);
Quinazolinediones, benzoxazines, naloxazine derivatives; benzoxazine-2,4-diones (eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione); pyrimidines and asymmetric triazines (E.g., 2,4-dihydroxypyrimidine) and tetraazapentalene derivatives (e.g., 3,
6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-
2,3a, 5,6a-tetraazapentalene). Preferred toning agents are phthalazone or phthalazine.

【0156】また、本発明の熱現像感光材料には、塗布
助剤として各種の界面活性剤が用いられる。その中でも
フッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑点状
の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
In the photothermographic material of the present invention, various surfactants are used as a coating aid. Among them, a fluorine-based surfactant is preferably used for improving charging characteristics and preventing spot-like coating failure.

【0157】本発明の熱現像材料には現像を抑制あるい
は促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上さ
せるためおよび現像前後の保存性を向上させるためなど
にメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合
物を含有させることができる。また、本発明の熱現像感
光材料中にはかぶり防止剤が含まれて良い。
In the heat-developable material of the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, a thione compound and a thione compound are used for suppressing or accelerating the development to control the development, for improving the spectral sensitization efficiency and for improving the storage stability before and after the development. Compounds can be included. Further, the photothermographic material of the present invention may contain an antifoggant.

【0158】各種の添加剤は感光層、非感光層、又はそ
の他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の熱現
像感光材料には例えば、酸化防止剤、安定化剤、可塑
剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。これら
の添加剤及び上述したその他の添加剤はRD Item
17029(1978年6月p.9〜15)に記載され
ている化合物を好ましく用いることができる。
Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers. The photothermographic material of the invention may contain, for example, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a coating aid, and the like. These additives and the other additives mentioned above are RD Item
17029 (pp. 9-15, June 1978) can be preferably used.

【0159】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感層/低感層又は低感層/高感層に
しても良い。更に、感光層に通過する光の量又は波長分
布を制御するために、感光層と同じ側にフィルター染料
層、及び/又は反対側にアンチハレーション染料層、い
わゆるバッキング層を形成しても良いし、感光層に染料
又は顔料を含ませても良い。これらの非感光層にはバイ
ンダーやマット剤の他に、ポリシロキサン化合物、ワッ
クス、流動パラフィンのような滑り剤を含有しても良
い。
The photosensitive layer may be composed of a plurality of layers, and the sensitivity may be changed to a high-sensitivity layer / low-sensitivity layer or a low-sensitivity layer / high-sensitivity layer for adjusting the gradation. Further, in order to control the amount or wavelength distribution of light passing through the photosensitive layer, a filter dye layer may be formed on the same side as the photosensitive layer and / or an antihalation dye layer, a so-called backing layer, may be formed on the opposite side. The photosensitive layer may contain a dye or a pigment. These non-photosensitive layers may contain a slip agent such as a polysiloxane compound, wax, or liquid paraffin in addition to the binder and the matting agent.

【0160】本発明で用いられる支持体は、現像処理後
に所定の光学濃度を得るため、及び現像処理後の画像の
変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレ
ンナフタレート)であることが好ましい。
The support used in the present invention may be a plastic film (for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate) in order to obtain a predetermined optical density after the development processing and to prevent deformation of the image after the development processing. , Polyethylene naphthalate).

【0161】その中でも好ましい支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチックの支持体が挙げられる。支持体の厚みとして
は50〜300μm程度、好ましくは70〜180μm
である。
Among them, preferred supports include plastic supports containing polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) and a styrene polymer having a syndiotactic structure. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.
It is.

【0162】また熱処理したプラスチック支持体を用い
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光層が塗布されるまでの間に、
支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、好ま
しくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40℃以
上高い温度で加熱することがよい。
Further, a heat-treated plastic support may be used. The plastics to be employed include the above-mentioned plastics. The heat treatment of the support means that after forming these supports and before the photosensitive layer is applied,
The support may be heated at a temperature 30 ° C. or higher, preferably 35 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher than the glass transition point of the support.

【0163】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/又は導電性ポリマーなどの導電性化
合物を構成層中に含ませることができる。これらはいず
れの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バッ
キング層、感光層と下引の間の層などである。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be contained in the constituent layer in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably an undercoat layer, a backing layer, a layer between the photosensitive layer and the undercoat, and the like.

【0164】本発明に係る熱現像感光材料に画像を露光
し記録する方法としては、例えば直接撮影する方法、プ
リンターや引き伸ばし機などを用いてフィルムを通して
露光する方法、複写機などの露光装置を用いて、原画を
スリットなどを通して走査露光する方法、画像情報を電
気信号を経由して発光ダイオード、各種レーザー(レー
ザーダイオード、ガスレーザー等)等を発光させて走査
露光する方法(特開平2−129625号、特願平3−
338182号、同4−009388号、同04−28
1442号等に記載されている方法)、画像情報をCR
T、液晶ディスプレー、エレクトロルミネッセンスディ
スプレー、プラズマディスプレーなどの画像表示装置に
出力し、直接又は光学系を介して露光する方法などがあ
る。
The method of exposing and recording an image on the photothermographic material according to the present invention includes, for example, a method of directly photographing, a method of exposing through a film using a printer or a enlarger, and an exposing apparatus such as a copying machine. A method of scanning and exposing an original image through a slit or the like, and a method of scanning and exposing image information by emitting a light emitting diode, various lasers (laser diode, gas laser, etc.) via an electric signal (Japanese Patent Laid-Open No. 2-129625). , Japanese Patent Application No. 3-
No. 338182, No. 4-009838, No. 04-28
1442, etc.), image information is CR
T, a liquid crystal display, an electroluminescence display, a plasma display, and the like, a method of outputting to an image display device and performing exposure directly or via an optical system.

【0165】熱現像感光材料への画像を記録する光源と
しては、上記のように自然光、タングステンランプ、発
光ダイオード、レーザー光源、CRT光源など米国特許
第4,500,626号、特開平2−053378号、
同2−054672号記載の光源や露光方法を用いるこ
とができる。また、非線型光学材料とレーザー光等光源
を組み合わせ、波長変換素子を用いて画像露光すること
もできる。
As a light source for recording an image on the photothermographic material, natural light, a tungsten lamp, a light emitting diode, a laser light source, a CRT light source, etc., as described above, US Pat. No. 4,500,626, and JP-A-2-053378. issue,
The light source and the exposure method described in JP-A-2-054672 can be used. Alternatively, image exposure can be performed using a wavelength conversion element by combining a non-linear optical material with a light source such as a laser beam.

【0166】半導体レーザーダイオードは、グラフィッ
クアートにおいて、画像形成装置それぞれの中の写真記
録素子に広く用いられる。画像形成装置は、典型的に
は、出力が5〜250mWのレーザーダイオードが利用
されている。レーザーダイオードの使用は、ハロゲン化
銀をベースとする記録素子では通常のレーザー(アルゴ
ンイオン、ヘリウムネオン等)の十分に確立された利用
から続いている。
Semiconductor laser diodes are widely used in graphic arts as photographic recording elements in image forming apparatuses. The image forming apparatus typically uses a laser diode having an output of 5 to 250 mW. The use of laser diodes follows from the well-established use of lasers (argon ions, helium neon, etc.) common in silver halide based recording elements.

【0167】典型的なレーザー光源としては、アルゴン
イオンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、および赤外
線半導体レーザーダイオードが挙げられる。これらの写
真要素は、通常、ハーフトーン画像のために十分に微細
なドットを製造するために設計される。光描画応用およ
びスキャニング応用に適する写真フィルムおよび印画紙
の詳細は、RD33355(1992年1月)の第1
1.3欄および第11.4欄に記載されている。
Typical laser light sources include an argon ion laser, a helium neon laser, and an infrared semiconductor laser diode. These photographic elements are usually designed to produce dots that are fine enough for halftone images. Details of photographic films and papers suitable for optical drawing and scanning applications can be found in RD33355 (January 1992), No. 1
It is described in columns 1.3 and 11.4.

【0168】本発明において、露光はレーザー走査露光
により行うことが好ましく、感光材料の露光面と走査レ
ーザービームのなす角が1〜90°の範囲内で有れば特
に制限はい。レーザービームが、感光材料に走査される
ときの感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ま
しくは300μm以下であればよく特に制限はない。ま
た、本発明における露光は縦マルチである走査レーザー
ビームを発するレーザー走査露光機を用いてもよい。
In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure, and there is no particular limitation as long as the angle between the exposed surface of the photosensitive material and the scanning laser beam is in the range of 1 to 90 °. The beam spot diameter on the exposed surface of the photosensitive material when the laser beam is scanned on the photosensitive material is preferably 300 μm or less, and is not particularly limited. The exposure in the present invention may use a laser scanning exposure machine that emits a scanning laser beam that is a vertical multi.

【0169】レーザーの走査方法としては、外面円筒走
査、内面円筒走査、平面走査などがある。外面円筒走査
では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させな
がらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレ
ーザー光の移動を副走査とする。内面円筒走査では、ド
ラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側
から照射し、光学系の一部又は全部を回転させることに
より円周方向に主走査を行ない、光学系の一部又は全部
をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向
に副走査を行なう。平面走査では、ポリゴンミラーやガ
ルバノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光
の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。
外面円筒走査および内面円筒走査の方が光学系の精度を
高め易く、高密度記録には適している。
As a laser scanning method, there are an outer cylindrical scan, an inner cylindrical scan, and a plane scan. In outer surface cylindrical scanning, laser exposure is performed while rotating a drum around which a recording material is wound around the outer surface, and rotation of the drum is main scanning and movement of laser light is sub scanning. In the inner cylindrical scanning, a recording material is fixed on the inner surface of the drum, a laser beam is irradiated from the inside, and a main scan is performed in the circumferential direction by rotating a part or all of the optical system, and a part of the optical system or Sub-scanning is performed in the axial direction by moving the whole in a straight line parallel to the axis of the drum. In the planar scanning, the main scanning of the laser beam is performed by combining a polygon mirror or a galvanometer mirror with an fθ lens or the like, and the sub-scanning is performed by moving the recording medium.
Outer cylinder scanning and inner cylinder scanning are easier to improve the accuracy of the optical system and are more suitable for high-density recording.

【0170】本発明においては、種々の露光走査方法、
又は露光後の搬送方法で熱現像感材の乳剤層が上向きで
あったり、下向きであったりしてもかまわない。露光後
の判定若しくは判別結果を熱自現機の前若しくは中で感
光材料を反転する機構に伝達させることが好ましい。場
合により作業者が露光後に手動で自動熱現像機に搬送し
ても良い。
In the present invention, various exposure scanning methods,
Alternatively, the emulsion layer of the heat-developable photosensitive material may be directed upward or downward depending on the transport method after exposure. It is preferable to transmit the judgment after the exposure or the result of the judgment to a mechanism for inverting the photosensitive material before or in the thermal automatic machine. In some cases, the worker may manually convey the film to the automatic thermal developing machine after the exposure.

【0171】[0171]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれらに限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0172】実施例 以下に示す方法に従い熱現像感光材料である試料1を作
製した。
Example Sample 1 as a photothermographic material was prepared according to the following method.

【0173】(下引き済みPET支持体の作製)市販の
2軸延伸熱固定済みの厚さ100μmのPETフィルム
の両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を施し、一方
の面に下記下引塗布液a−1を0.8μmになるように
塗設、乾燥させて下引層A−1とし、また反対側の面に
下記帯電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.
8μmになるように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引
層B−1とした。
(Preparation of Undercoated PET Support) A commercially available biaxially stretched and heat-fixed PET film having a thickness of 100 μm is subjected to a corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min on one side, and The coating liquid a-1 was applied to a thickness of 0.8 μm and dried to form an undercoating layer A-1. 0.
It was applied so as to have a thickness of 8 μm and dried to obtain an undercoat layer B-1 having an antistatic treatment.

【0174】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%) t−ブチルアクリレート(20重量%) スチレン(25重量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1リットルに仕上げる。<< Undercoat Coating Solution a-1 >> Butyl acrylate (30% by weight) t-butyl acrylate (20% by weight) Styrene (25% by weight) 2-hydroxyethyl acrylate (25% by weight) copolymer latex liquid (Solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g polystyrene fine particles (average particle diameter 3 μm) 0.05 g colloidal silica (average particle diameter 90 μm) 0 Make up to 1 liter with 1g water.

【0175】 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30重量%) スチレン(20重量%) グリシジルアクリレート(40重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1リットルに仕上げる。<< Undercoat Coating Solution b-1 >> SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.18 μm) Amount to become 200 mg / m 2 Butyl acrylate (30% by weight) Styrene (20% by weight) Glycidyl acrylate (40% by weight) copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g Finished to 1 liter with water.

【0176】引き続き、下引層A−1及び下引層B−1
の上表面に、8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引
層A−1の上には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜
厚0.1μmになる様に下引層A−2として、下引層B
−1の上には下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.
8μmになる様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2と
して塗設した。
Subsequently, the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B-1
A corona discharge of 8 W / m 2 · min is applied to the upper surface of the lower layer, and the lower layer upper layer coating solution a-2 described below is coated on the lower layer A-1 so as to have a dry film thickness of 0.1 μm. Sublayer B as Layer A-2
-1 is coated with the following undercoating layer coating solution b-2 having a dry film thickness of 0.
Coating was performed as a subbing upper layer B-2 having an antistatic function so as to have a thickness of 8 μm.

【0177】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1リットルに仕上げる。<< Coating solution a-2 for lower undercoat >> Gelatin 0.4 g / m 2 Weight (C-1) 0.2 g (C-2) 0.2 g (C-3) 0.1 g Silica particles ( (Average particle size: 3 μm) 0.1 g Finish to 1 liter with water.

【0178】 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1Lに仕上げる。<< Lower Coating Upper Layer Coating Solution b-2 >> (C-4) 60 g Latex liquid containing (C-5) as a component (solid content: 20%) 80 g Ammonium sulfate 0.5 g (C-6) 12 g Polyethylene glycol ( (Weight average molecular weight: 600) 6 g Finish to 1 L with water.

【0179】[0179]

【化30】 Embedded image

【0180】[0180]

【化31】 Embedded image

【0181】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。
(Heat Treatment of Support) In the above-mentioned undercoat drying step of the undercoated support, the support was heated at 140 ° C.
Thereafter, it was gradually cooled.

【0182】(ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900m
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウムを含む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩
を銀1モル当たり1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を
銀1モル当たり1×10-6モルを、pAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを添加し、NaOHでpHを8、pA
g6.5に調整することで還元増感を行い平均粒子サイ
ズ0.06μm、単分散度10%の投影直径面積の変動
係数8%、〔100〕面比率87%の立方体ハロゲン化
銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集
沈降させ脱塩処理を行い、ハロゲン化銀乳剤Aを調製し
た。
(Preparation of silver halide emulsion A) 900 m of water
7.5 g of inert gelatin and 10 ml of potassium bromide
mg, and adjusted to a temperature of 35 ° C. and a pH of 3.0, and 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate (60/3
1 mol of silver of an aqueous solution and [Ir (NO) Cl 5] salt per mole silver 1 × 10 -6 mol, and rhodium chloride salt comprises sodium chloride and potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio of 8/2) 1 × 10 -6 mol per 1 g was added by the controlled double jet method while keeping the pAg at 7.7. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-
Add tetrazaindene, adjust pH to 8 with NaOH, pA
By adjusting the g to 6.5, reduction sensitization was performed to obtain cubic silver halide grains having an average grain size of 0.06 μm, a monodispersity of 10%, a variation coefficient of projected diameter area of 8%, and a [100] face ratio of 87%. Was. This emulsion was subjected to coagulation sedimentation using a gelatin coagulant and desalting treatment to prepare a silver halide emulsion A.

【0183】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で撹
拌しながら1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液9
8mlを添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた
後、55℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸Na溶
液を得た。
(Preparation of Na Behenate Solution) In 945 ml of pure water, 32.4 g of behenic acid, 9.9 g of arachidic acid and 5.6 g of stearic acid were dissolved at 90 ° C. Next, while stirring at a high speed, a 1.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution 9 was added.
8 ml was added. Next, after adding 0.93 ml of concentrated nitric acid, the mixture was cooled to 55 ° C. and stirred for 30 minutes to obtain a sodium behenate solution.

【0184】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレ
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハ
ロゲン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム
溶液でpH8.1に調整した後に1モル/Lの硝酸銀溶
液147mlを7分間かけて加え、さらに20分撹拌し
限外濾過により水溶性塩類を除去した。次いで、分散物
のフロックを形成後、水を取り除き、更に6回の水洗と
水の除去を行った後乾燥させ、ベヘン酸銀とハロゲン化
銀Aのプレフォーム乳剤を調製した。
(Preparation of Preform Emulsion of Silver Behenate and Silver Halide Emulsion A) 15.1 g of the silver halide emulsion A was added to the above sodium behenate solution, and the pH was adjusted to 8.1 with a sodium hydroxide solution. Thereafter, 147 ml of a 1 mol / L silver nitrate solution was added over 7 minutes, the mixture was further stirred for 20 minutes, and ultrafiltration was performed to remove water-soluble salts. Next, after forming a floc of the dispersion, water was removed, washed with water six times and water was removed, and dried to prepare a preform emulsion of silver behenate and silver halide A.

【0185】(感光性乳剤の調製)できあがったプレフ
ォーム乳剤を分割し、それにポリビニルブチラール(平
均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液(17w
t%)544gとトルエン107gを徐々に添加して混
合した後に、0.5mmサイズZrO2のビーズミルを
用いたメディア分散機で4000psiで30℃、10
分間の分散を行った。以上により得られた感光性乳剤中
のベヘン酸銀は、全ベヘン酸銀粒子の90%が長軸径
0.5±0.05μm、短軸径0.4±0.05μm、
厚み0.01μmの平板粒子で、単分散度5%の粒子で
あった。
(Preparation of Photosensitive Emulsion) The preform emulsion thus prepared was divided, and a solution of polyvinyl butyral (average molecular weight: 3000) in methyl ethyl ketone (17w) was prepared.
t%) 544 g and toluene 107 g were gradually added and mixed, and then a medium disperser using a 0.5 mm size ZrO 2 bead mill at 4000 psi at 30 ° C. and 10 ° C.
Minutes of dispersion. As for silver behenate in the photosensitive emulsion obtained as described above, 90% of all silver behenate grains had a major axis of 0.5 ± 0.05 μm, a minor axis of 0.4 ± 0.05 μm,
The particles were tabular grains having a thickness of 0.01 μm and had a monodispersity of 5%.

【0186】次いで、前記支持体上に下記の各層をエク
ストルージョン方式ダイコーターを用いて両面同時塗布
し、試料1を作製した。尚、乾燥は60℃、15分間で
行った。
Next, the following layers were simultaneously coated on both sides of the support by using an extrusion die coater to prepare Sample 1. The drying was performed at 60 ° C. for 15 minutes.

【0187】(バック面側塗布)支持体のB−2層の上
に以下の組成の液を塗布した。
(Coating on Back Side) A liquid having the following composition was coated on the B-2 layer of the support.

【0188】 セルロースアセテートブチレート 15ml/m2 (10%メチルエチルケトン溶液) 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 90mg/m2817(CH2CH2O)12817 50mg/m2917−C64−SO3Na 10mg/m Cellulose acetate butyrate 15 ml / m 2 (10% methyl ethyl ketone solution) Dye-A 7 mg / m 2 Dye-B 7 mg / m 2 Matting agent: monodispersity 15% Average particle size 8 μm monodisperse silica 90 mg / m 2 C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 50mg / m 2 C 9 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 10mg / m 2

【0189】[0189]

【化32】 Embedded image

【0190】(感光層面側塗布) 感光層1:支持体のA−2層の上に以下の組成の液を塗
布銀量が2.4g/mになる様に塗布した。
(Coating on Photosensitive Layer Surface Side) Photosensitive layer 1: A solution having the following composition was applied on layer A-2 of the support so that the coated silver amount was 2.4 g / m 2 .

【0191】 プレフォーム乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液)9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml ヒドラジン誘導体H−26 0.4g 硬調化促進剤P−51 0.3g フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g A−4(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物 0.5g (モーベイ社製、Desmodur N3300)Preform emulsion 240 g Sensitizing dye (0.1% methanol solution) 1.7 ml Pyridinium bromide perbromide (6% methanol solution) 3 ml Calcium bromide (0.1% methanol solution) 1.7 ml Oxidizing agent ( 10 ml methanol solution) 1.2 ml 2-4-chlorobenzoylbenzoic acid (12% methanol solution) 9.2 ml 2-mercaptobenzimidazole (1% methanol solution) 11 ml tribromomethylsulfoquinoline (5% methanol solution) 17 ml hydrazine Derivative H-26 0.4 g Hardening accelerator P-51 0.3 g Phthalazine 0.6 g 4-Methylphthalic acid 0.25 g Tetrachlorophthalic acid 0.2 g Calcium carbonate having an average particle size of 3 μm 0.1 g A-4 (20 % Methanol solution) 20.5ml Isocyanate Compound 0.5g (Mobay Corp., Desmodur N3300)

【0192】[0192]

【化33】 Embedded image

【0193】(表面保護層の塗布)下記組成の表面保護
層液P−1を感光層1の上になるよう塗布した。
(Coating of Surface Protective Layer) A surface protective layer solution P-1 having the following composition was coated on the photosensitive layer 1.

【0194】なお、表面保護層液の主バインダーである
セルロースアセテートブチレートの比熱容量は、1.4
6kJ/(kg・K)であった。なお、バインダーの比
熱容量は、JIS K 7123に記載されている方法
を用いて測定を行った。
The specific heat capacity of cellulose acetate butyrate, which is the main binder of the surface protective layer solution, is 1.4.
It was 6 kJ / (kg · K). In addition, the specific heat capacity of the binder was measured using the method described in JIS K 7123.

【0195】 《表面保護層液P−1》 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 現像剤(20%メタノール溶液) 10ml/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤:C1225(CH2CH2O)10C1225 10mg/m2817−C64−SO3Na 10mg/m2 以上により作製した試料1において、ベヘン酸銀の単分
散度、表面保護層液のバインダー及び塗布方式を表1及
び表2に示す様に変更した以外は試料1と同様にして試
料2〜16を作製した。なお、表1及び表2における試
料1に対する具体的な変更項目を下記に示す。
<< Surface Protective Layer Solution P-1 >> Acetone 5 ml / m 2 Methyl ethyl ketone 21 ml / m 2 Cellulose acetate butyrate 2.3 g / m 2 Methanol 7 ml / m 2 Phthalazine 250 mg / m 2 Developer (20% methanol solution) 10 ml / m 2 matting agent: monodispersion degree 10% average particle size 4 μm monodispersed silica 5 mg / m 2 CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 35 mg / m 2 fluorinated surfactant agent: in C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C1 2 F 25 10mg / m 2 C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 10mg / m sample 1 produced by two or more silver behenate Samples 2 to 16 were prepared in the same manner as Sample 1 except that the monodispersity, the binder of the surface protective layer solution, and the coating method were changed as shown in Tables 1 and 2. In addition, the specific change items with respect to the sample 1 in Table 1 and Table 2 are shown below.

【0196】1)ベヘン酸銀の種類:試料1で用いた単
分散度5%のベヘン酸銀に代えて、メディア分散機の分
散時間を調節して作製した単分散度30%及び45%の
ベヘン酸銀を用いた。
1) Kind of silver behenate: Monodispersity of 30% and 45% prepared by adjusting the dispersion time of a media disperser in place of the silver behenate having a monodispersity of 5% used in Sample 1 was used. Silver behenate was used.

【0197】2)表面保護層液の変更 表面保護層液P−2:バインダーであるセルロースアセ
テートブチレートに代えて、塩化ビニルを用いた以外は
表面保護層液P−1と同様に調製した。なお、塩化ビニ
ルの比熱容量は、1.05kJ/(kg・K)であっ
た。
2) Change of Surface Protective Layer Solution Surface Protective Layer Solution P-2: Prepared in the same manner as Surface Protective Layer Solution P-1 except that vinyl chloride was used instead of cellulose acetate butyrate as a binder. The specific heat capacity of vinyl chloride was 1.05 kJ / (kg · K).

【0198】表面保護層液P−3:バインダーであるセ
ルロースアセテートブチレートに代えて、エチルセルロ
ースを用いた以外は表面保護層液P−1と同様に調製し
た。なお、エチルセルロースの比熱容量は、2.93k
J/(kg・K)であった。
Surface protective layer solution P-3: Prepared in the same manner as surface protective layer solution P-1 except that ethyl cellulose was used instead of cellulose acetate butyrate as a binder. The specific heat capacity of ethyl cellulose is 2.93 k.
J / (kg · K).

【0199】表面保護層液P−4:バインダーであるセ
ルロースアセテートブチレートに代えて、ポリメチルメ
タクリレートを用いた以外は表面保護層液P−1と同様
に調製した。なお、ポリメチルメタクリレートの比熱容
量は、1.47kJ/(kg・K)であった。
Surface protective layer solution P-4: Prepared in the same manner as surface protective layer solution P-1 except that polymethyl methacrylate was used in place of cellulose acetate butyrate as a binder. The specific heat capacity of polymethyl methacrylate was 1.47 kJ / (kg · K).

【0200】3)塗布方式の変更 エクストルージョン方式ダイコーター(C−1)に代え
て、リバースロールコーター(C−2)またはワイヤー
バーコーター(C−3)を用い塗布を行った。
3) Change of Coating Method Coating was performed using a reverse roll coater (C-2) or a wire bar coater (C-3) instead of the extrusion die coater (C-1).

【0201】[0201]

【表1】 [Table 1]

【0202】[0202]

【表2】 [Table 2]

【0203】以上のようにして作製した試料1〜16に
ついて、下記に示す項目について評価を行った。
The following items were evaluated for the samples 1 to 16 prepared as described above.

【0204】(表面平均粗さRaの測定)感光材料の表
面にマグネトロンスパッタ金属コーターにより、白金−
パラジウム合金3nmをコートした後、非接触3次元表
面解析装置(WYKO社製RST/PLUS型)を用い
て、対物レンズとして40倍を使用し、VSIモードに
て1視野を368×238ピクセルのデータとして取り
込みTilt補正、Medianフィルター処理を行っ
た後、表面粗さRaを測定した。
(Measurement of Surface Average Roughness Ra) The surface of the photosensitive material was coated with platinum-
After coating with a 3 nm palladium alloy, using a non-contact three-dimensional surface analyzer (RST / PLUS type manufactured by WYKO) with a magnification of 40 times as an objective lens, a visual field of 368 × 238 pixels in VSI mode. After performing the Tilt correction and the median filter treatment, the surface roughness Ra was measured.

【0205】なお、Raの定義は、下記のJIS表面粗
さ(B0601)によった。なお測定は、場所をかえて
5回行い平均値を求めた。
The definition of Ra was based on the following JIS surface roughness (B0601). The measurement was performed five times at different locations to obtain an average value.

【0206】JIS表面粗さ(B0601): 表面平均粗さ(中心線平均粗さ)Ra 表面平均粗さ(中心線平均粗さ)Raとは、粗さ曲線か
らその中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、こ
の抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸、
粗さ曲線をY=f(X)で表したとき、次の式によって
求められる値をナノメートル(nm)で表したものをい
う。
JIS Surface Roughness (B0601): Surface average roughness (center line average roughness) Ra Surface average roughness (center line average roughness) Ra is the length measured from a roughness curve in the direction of the center line. L portion, the center line of the extracted portion is the X axis, the direction of the vertical magnification is the Y axis,
When the roughness curve is represented by Y = f (X), the value obtained by the following equation is represented by nanometers (nm).

【0207】[0207]

【数1】 (Equation 1)

【0208】(画像の濃度変動評価) 《露光及び現像処理》上記で作製した各試料を25cm
×30cmに切断し、23℃、50%RHの条件で12
時間調湿した後、780nmの半導体レーザーを露光源
とした露光機によりウエッジを介して露光を与えた。こ
の際、感光材料の露光面と露光レーザー光の角度を75
度として画像を形成した。
(Evaluation of Image Density Fluctuation) << Exposure and Development >> Each of the samples prepared above was 25 cm
× 30cm, 12 ° C at 23 ° C and 50% RH
After the humidity control, exposure was performed through a wedge by an exposure machine using a semiconductor laser of 780 nm as an exposure source. At this time, the angle between the exposed surface of the photosensitive material and the
An image was formed as a degree.

【0209】その後、面状ヒーターと複数の対向ローラ
ーを有し、予熱部、現像部、再加熱部及び冷却部からな
る水平搬送式自動現像機を用いて、感光材料の熱現像処
理を行った。なお、現像は123℃で20秒、引き続き
行った再加熱は110℃で5秒間行った。この様にして
再加熱処理を施した試料(A)を作製した。また、同時
に再加熱部を通さない試料(B)も作製した。上記の露
光及び現像処理は、すべて23℃、50%RHに調湿さ
れた部屋で行った。
Thereafter, the heat-development processing of the photosensitive material was performed by using a horizontal conveyance type automatic developing machine having a sheet heater and a plurality of opposed rollers and comprising a preheating section, a developing section, a reheating section and a cooling section. . The development was performed at 123 ° C. for 20 seconds, and the subsequent reheating was performed at 110 ° C. for 5 seconds. Thus, a sample (A) subjected to the reheating treatment was produced. At the same time, a sample (B) which did not pass through the reheating unit was also prepared. The above exposure and development treatments were all performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.

【0210】《画像評価》以上のようにして作製した各
試料のA,Bについて、光学濃度計(X−rite社
製)でUV領域(400nm)での濃度測定を行い、最
小濃度部(Dmin部)及び最大濃度部(Dmax部)
の濃度をそれぞれ5カ所測定した。
<< Evaluation of Images >> The densities of the samples A and B prepared as described above were measured in the UV region (400 nm) using an optical densitometer (manufactured by X-rite), and the minimum density (Dmin) was measured. Part) and the maximum concentration part (Dmax part)
Were measured at five locations.

【0211】得られた測定値に対し、Dmin部は平均
値が0.26以上を不可とし、またDmax部は測定し
た濃度の最大値と最小値の差が0.35以上を不可と判
定した。
With respect to the obtained measured values, the Dmin portion judged that the average value was not more than 0.26, and the Dmax portion judged that the difference between the measured maximum value and the minimum value was not more than 0.35. .

【0212】以上により得られた結果を、前記表1及び
表2に示す。
The results obtained as described above are shown in Tables 1 and 2 above.

【0213】表1及び表2より明らかなように、本発明
に係る現像部の後に再加熱部を設けた装置で行う現像処
理方法において、感光層に含まれる有機銀が単分散であ
ること、保護層に含まれる主バインダーの比熱容量が
1.3〜2.1J/(kg・K)であること及び保護層
の表面平均粗さがRa=50〜150nmである熱現像
感光材料を使用することで、濃度変動が少なく、極めて
高い画像安定性を有する熱現像感光材料を提供すること
ができた。更に、エクストルージョン方式ダイコーター
を用いた方法により製造された該熱現像感光材料は、そ
の効果が一段と高いことが判る。
As is clear from Tables 1 and 2, in the developing method according to the present invention, which is carried out in an apparatus provided with a reheating unit after the developing unit, the organic silver contained in the photosensitive layer is monodispersed. A photothermographic material is used in which the specific heat capacity of the main binder contained in the protective layer is 1.3 to 2.1 J / (kg · K) and the surface average roughness of the protective layer is Ra = 50 to 150 nm. As a result, it was possible to provide a photothermographic material having little density fluctuation and extremely high image stability. Further, it can be seen that the effect of the photothermographic material produced by a method using an extrusion type die coater is much higher.

【0214】[0214]

【発明の効果】本発明により、熱現像感光材料、特に印
刷用熱現像感光材料を提供することができ、詳しくは熱
現像処理における画像濃度の均一性を高め、画像安定性
に優れた熱現像感光材料を提供することができた。
According to the present invention, a photothermographic material, particularly a photothermographic material for printing, can be provided. More specifically, a photothermographic material having improved image density uniformity and excellent image stability in thermal development processing. A photosensitive material could be provided.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上にハロゲン化銀及び有機銀塩を
含有する感光層とその上側に保護層を有する熱現像感光
材料において、熱現像後に現像部より低い温度で再加熱
する手段を有する熱現像処理機で処理され、かつ該有機
銀塩の粒径分布が単分散であることを特徴とする熱現像
感光材料。
1. A photothermographic material having a photosensitive layer containing a silver halide and an organic silver salt on a support and a protective layer above the photosensitive layer, has a means for reheating at a lower temperature than the developing section after thermal development. A photothermographic material, wherein the photothermographic material is processed by a photothermographic processor and the organic silver salt has a monodispersed particle size distribution.
【請求項2】 支持体上にハロゲン化銀及び有機銀塩を
含有する感光層とその上側に保護層を有する熱現像感光
材料において、熱現像後に現像部より低い温度で再加熱
する手段を有する熱現像処理機で処理され、かつ該保護
層に含まれる主バインダーの比熱容量が1.3〜2.1
kJ/(kg・K)であることを特徴とする熱現像感光
材料。
2. A photothermographic material having a photosensitive layer containing a silver halide and an organic silver salt on a support and a protective layer above the photosensitive layer, has a means for reheating at a lower temperature than the developing section after thermal development. The specific heat capacity of the main binder processed by the heat development processor and contained in the protective layer is 1.3 to 2.1.
A photothermographic material characterized by kJ / (kg · K).
【請求項3】 支持体上にハロゲン化銀及び有機銀塩を
含有する感光層とその上側に保護層を有する熱現像感光
材料において、熱現像後に現像部より低い温度で再加熱
する手段を有する熱現像処理機で処理され、かつ該保護
層の表面粗さRaが50〜150nmであることを特徴
とする熱現像感光材料。
3. A photothermographic material having a photosensitive layer containing a silver halide and an organic silver salt on a support and a protective layer thereon has a means for reheating at a lower temperature than the developing section after thermal development. A photothermographic material, wherein the photothermographic material is processed by a heat development processor and has a surface roughness Ra of 50 to 150 nm.
【請求項4】 エクストルージョン方式ダイコーターに
より感光層及び保護層が塗布されたことを特徴とする請
求項1〜3のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
4. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive layer and the protective layer are applied by an extrusion die coater.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010058119A (en) * 2009-12-07 2010-03-18 Tosoh Corp Minute particle structure and manufacturing method of minute particle using the same

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