JP2001109102A - Heat developable photographic sensitive material - Google Patents

Heat developable photographic sensitive material

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JP2001109102A
JP2001109102A JP28663599A JP28663599A JP2001109102A JP 2001109102 A JP2001109102 A JP 2001109102A JP 28663599 A JP28663599 A JP 28663599A JP 28663599 A JP28663599 A JP 28663599A JP 2001109102 A JP2001109102 A JP 2001109102A
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JP
Japan
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group
photothermographic material
compound
silver
embedded image
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JP28663599A
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Japanese (ja)
Inventor
Wataru Ishikawa
渉 石川
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a heat developable photographic sensitive material for the production of a printing plate having high sensitivity and high density, suppressed fog, excellent preservability, suppressed rise of fog with the lapse of time, ultrahigh contrast and excellent dot reproducibility. SOLUTION: The heat developable photographic sensitive material contains photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent, a contrast enhancer and a compound of formula 1 or 2. In the formulae 1 and 2, R1 and R2 are each alkyl, alkoxy, aryloxy or the like, n1 is a positive integer of >=1 and n2 is a positive integer of >=3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は印刷製版用黒白熱現
像写真感光材料に関する。
The present invention relates to a black and white photothermographic material for printing plate making.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来印刷製版の分野では、画像形成材料
の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題となってお
り、近年では環境保全、省スペースの観点からも処理廃
液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー・イメ
ージセッターにより効率的な露光が可能で、高解像度で
鮮明な黒色画像を形成することができる光熱写真材料に
関する技術が期待されてきている。この技術として、例
えば、米国特許第3,152,904号、同第3,48
7,075号及びD.モーガン(Morgan)による
「ドライシルバー写真材料(Dry Silver P
hotographic Materials)」(H
andbook of ImagingMateria
ls,Marcel Dekker,Inc.第48
頁,1991)等に記載の方法が良く知られている。こ
れらの感光材料は通常、80℃以上の温度で現像が行わ
れるので、熱現像感光材料と呼ばれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of printing plate making, waste liquid caused by wet processing of an image forming material has become a problem in terms of workability. In recent years, the amount of treated waste liquid has been reduced from the viewpoint of environmental protection and space saving. It is strongly desired. Therefore, a technique relating to a photothermographic material capable of performing efficient exposure by a laser imagesetter and forming a high-resolution and clear black image has been expected. As this technique, for example, U.S. Patent Nos. 3,152,904 and 3,48
7,075 and D.C. “Dry Silver Photographic Materials (Dry Silver P) by Morgan
photographic Materials) ”(H
andbook of ImagingMateria
ls, Marcel Dekker, Inc. Forty-eighth
1991) is well known. Since these photosensitive materials are usually developed at a temperature of 80 ° C. or higher, they are called photothermographic materials.

【0003】印刷製版フィルムでは、超硬調及び高濃度
でかつ低かぶりであることが要求される。しかしなが
ら、従来上記のような熱現像感光材料においては、高濃
度にすることが難しく、高濃度にするとかぶりが大幅に
劣化してしまうという問題がある。また、高濃度にする
ために有機銀塩を多量添加すると、かぶり上昇だけでは
なく、経時によるかぶりの上昇も大きく、保存安定性に
も問題が出てくる。更には、かぶりが低くかつ印刷製版
フィルムとして要求されるに十分な超硬調な画像は得ら
れていないのが現状である。
[0003] Printing plate making films are required to have ultra-high contrast, high density and low fog. However, in the conventional photothermographic material as described above, it is difficult to increase the density, and when the density is increased, there is a problem that the fog is greatly deteriorated. Further, when a large amount of an organic silver salt is added in order to increase the concentration, not only the fog rises but also the fog increases with time, which causes a problem in storage stability. Further, at present, an image having low fog and a super-high contrast sufficient to be required as a printing plate making film has not been obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、高感度、高濃度で、且つかぶりが抑えられ、更に
は、保存性に優れ、経時によるかぶりの上昇も抑えられ
た、超硬調な網点の再現性に優れた印刷製版用熱現像写
真感光材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-sensitivity, high-density, ultra-high-contrast, low-fogging, superior storage stability, and low fog over time. An object of the present invention is to provide a heat-developable photographic light-sensitive material for printing plate making which has excellent dot reproducibility.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記によ
り達成された。
The object of the present invention has been attained by the following.

【0006】(1)感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料におい
て、下記一般式(1)または(2)で表される化合物を
少なくとも1種含有することを特徴とする熱現像写真感
光材料。
(1) In a photothermographic material containing a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a contrast agent, at least one compound represented by the following general formula (1) or (2) is used. A heat-developable photographic light-sensitive material comprising a seed.

【0007】[0007]

【化4】 Embedded image

【0008】式中、R1、R2は各々アルキル基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アリール基、イソチオシア
ナート基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アジド基、又はこれらの誘導体を表し、R1、R2
同じであっても異なっていても良い。n1は1以上の正
の整数を表し、n1が2以上のとき、複数のR1および
2は各々同じであっても異なっていても良い。
In the formula, R 1 and R 2 each represent an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryl group, an isothiocyanate group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, an azide group, or a derivative thereof; R 1 and R 2 may be the same or different. n1 represents a positive integer of 1 or more, and when n1 is 2 or more, a plurality of R 1 and R 2 may be the same or different.

【0009】[0009]

【化5】 Embedded image

【0010】式中、R1、R2は、各々上記一般式(1)
のR1、R2と同義の基を表し、R1、R2は同じであって
も異なっていても良い。n2は3以上の正の整数を表
し、複数のR1およびR2は各々同じであっても異なって
いても良い。
In the formula, R 1 and R 2 are each represented by the general formula (1)
Of R 1, represents R 2 as defined in group, R 1, R 2 may be different even in the same. n2 represents a positive integer of 3 or more, and a plurality of R 1 and R 2 may be the same or different.

【0011】(2)感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料におい
て、前記一般式(1)または(2)で表される化合物の
銀錯塩を少なくとも1種含有することを特徴とする熱現
像写真感光材料。
(2) In a photothermographic material containing a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a contrast agent, a silver complex salt of the compound represented by the above formula (1) or (2) A heat-developable photographic light-sensitive material comprising at least one kind of

【0012】(3)感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料におい
て、下記一般式(3)または(4)で表される化合物を
少なくとも1種含有することを特徴とする熱現像写真感
光材料。
(3) In a photothermographic material containing a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a contrast agent, at least one compound represented by the following general formula (3) or (4) is used. A heat-developable photographic light-sensitive material comprising a seed.

【0013】[0013]

【化6】 Embedded image

【0014】式中、R3、R4は水素原子、炭素数1〜3
までのアルキル基を表す。但しR3とR4は同時に水素原
子になることはない。R5、R6は水素原子、炭素数1〜
3までのアルキル基を表し、R7は水酸基、アミノ基又
は炭素数1〜3までのアルキル基を表す。R8、R9は水
素原子、炭素数1〜5までのアルキル基、炭素数18ま
でのアシル基又は−COOM2基を表す。但しR8とR9
は同時に水素原子になることはない。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、アンモニウム基を表す。M2は水素
原子、炭素数1〜4までのアルキル基、アルカリ金属原
子、アリール基、炭素数15までのアラルキル基を表
す。mは0、1又は2を表す。
In the formula, R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom, having 1 to 3 carbon atoms.
Represents an alkyl group up to However, R 3 and R 4 are not simultaneously hydrogen atoms. R 5 and R 6 each represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to
And R 7 represents a hydroxyl group, an amino group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 8, R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 5 carbon atoms, an acyl group or a -COOM 2 group up to 18 carbon atoms. Where R 8 and R 9
Cannot be hydrogen atoms at the same time. M 1 is a hydrogen atom,
Represents an alkali metal atom or an ammonium group. M 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 4 carbon atoms, an alkali metal atom, an aryl group, an aralkyl group having up to 15 carbon atoms. m represents 0, 1 or 2.

【0015】(4)感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料におい
て、前記一般式(3)または(4)で表される化合物の
銀錯塩を少なくとも1種含有することを特徴とする熱現
像写真感光材料。
(4) In a heat-developable photographic material containing a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a contrast agent, a silver complex salt of the compound represented by formula (3) or (4) A heat-developable photographic light-sensitive material comprising at least one kind of

【0016】(5)感光性層又はその隣接層にヒドラジ
ン誘導体を含有することを特徴とする前記1〜4項の何
れか1項記載の熱現像写真感光材料。
(5) The heat-developable photographic material as described in any one of (1) to (4) above, wherein the photosensitive layer or a layer adjacent thereto contains a hydrazine derivative.

【0017】(6)少なくとも1種のアミン化合物又は
4級オニウム化合物を含有することを特徴とする前記1
〜5項の何れか1項記載の熱現像写真感光材料。
(6) The above-mentioned (1), which comprises at least one kind of an amine compound or a quaternary onium compound.
6. The photothermographic material according to any one of items 1 to 5.

【0018】(7)ガンマが10以上の硬調な画像を形
成することを特徴とする前記1〜6項の何れか1項記載
の熱現像写真感光材料。
(7) The photothermographic material according to any one of the above items (1) to (6), which forms a high-contrast image having a gamma of 10 or more.

【0019】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0020】本発明においては熱現像写真感光材料の少
くとも1層中に、前記一般式(1)または(2)で表さ
れる化合物、または前記一般式(3)または(4)で表
される化合物(以下、これらの化合物を本発明の化合物
と呼ぶことこともある。)を含有する。
In the present invention, in at least one layer of the photothermographic material, the compound represented by formula (1) or (2) or the compound represented by formula (3) or (4) is used. (Hereinafter, these compounds may be referred to as the compounds of the present invention).

【0021】一般式(1)または(2)で表される化合
物はホスファゼン化合物と呼ばれる化合物である。
The compound represented by the general formula (1) or (2) is a compound called a phosphazene compound.

【0022】前記一般式(1)又は(2)において、R
1、R2が表すアミノ基としては、置換基を有するものを
含む。該置換基としてはアルキル基の如き脂肪族基、フ
ェニル基の如き芳香族基等が挙げられる。置換基を有す
るアミノ基としては、例えば脂肪族基が1〜2個置換し
たもの、芳香族基が1〜2個置換したもの、脂肪族基と
芳香族基がそれぞれ置換したもの、更には環状アミノ基
等が挙げられる。
In the general formula (1) or (2), R
The amino groups represented by 1 and R 2 include those having a substituent. Examples of the substituent include an aliphatic group such as an alkyl group and an aromatic group such as a phenyl group. Examples of the amino group having a substituent include, for example, a group in which one or two aliphatic groups are substituted, a group in which one or two aromatic groups are substituted, a group in which an aliphatic group and an aromatic group are substituted, and a cyclic group. And an amino group.

【0023】本発明の一般式(1)又は(2)で表され
る化合物は、基本骨格がP=N結合で構成されるホスフ
ァゼン誘導体で、置換基の一部が、イオン性の側鎖基も
しくはパイ電子系の化合物側鎖基、ポリエーテル側鎖基
などの場合も包含する。
The compound represented by the general formula (1) or (2) of the present invention is a phosphazene derivative whose basic skeleton is composed of a P = N bond, and a part of the substituent is an ionic side chain group. Alternatively, the case of a pi-electron-based compound side chain group or a polyether side chain group is also included.

【0024】これらの化合物群は、P=N結合が線状の
高分子量の化合物群と、環状の化合物群及び環鎖状化合
物群がある。これらの化合物群の合成法を更に詳しく述
べれば、(PNF23、(PNF24、(PNF2)n
等の側鎖基がF原子の三量体、四量体、n量体の化合
物、(PNCl23、(PNCl24、(PNCl2
n(n<15)等の側鎖基がCl原子の三量体、四量
体、n量体の化合物、(PNBr23、(PNB
24、(PNBr2)n等の側鎖基がBr原子の三量
体、四量体、n量体の化合物、(PNI23、(PNI
24、(PNI2)n等の側鎖基がI原子の三量体、四
量体、n量体の化合物のハロゲン原子を、C65ON
a、CH364ONa、(C65O)2Ca、CF36
4ONaのような芳香族有機化合物の金属塩との反
応、C65OHのような水酸基を有する芳香族化合物も
しくはCH2=C(CH3)−COOCH2CH2OHのよ
うな脂肪族アルコール、C65NH2のような芳香族ア
ミン類などのようなP原子上のハロゲン原子と求核置換
しうる芳香族化合物と、アニリンなどのアミン類、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのハロゲン受容体化
合物との混合による方法をあげることができる。
These compound groups include a high molecular weight compound group in which the P = N bond is linear, and a cyclic compound group and a cyclic compound group. The method of synthesizing these compounds is described in more detail as follows: (PNF 2 ) 3 , (PNF 2 ) 4 , (PNF 2 ) n
And the like, in which the side group such as is a trimer, tetramer, or n-mer of an F atom, (PNCl 2 ) 3 , (PNCl 2 ) 4 , (PNCl 2 )
Compounds in which the side group such as n (n <15) is a Cl atom trimer, tetramer, n-mer, (PNBr 2 ) 3 , (PNB
(Pr 2 ) 4 , (PNBr 2 ) n, etc., a compound in which the side chain group is a Br atom trimer, tetramer, n-mer, (PNI 2 ) 3 , (PNI)
2 ) 4 , (PNI 2 ) n or the like has a side chain group which is a halogen atom of a trimer, tetramer, or n-mer compound of I atom, and is represented by C 6 H 5 ON.
a, CH 3 C 6 H 4 ONa, (C 6 H 5 O) 2 Ca, CF 3 C 6
Fats such as H 4 reaction of the metal salt of an aromatic organic compound such as ONa, C 6 H 5 aromatic compound having a hydroxyl group such as OH or CH 2 = C (CH 3) -COOCH 2 CH 2 OH Aromatic compounds capable of nucleophilic substitution with a halogen atom on the P atom, such as aromatic alcohols, aromatic amines such as C 6 H 5 NH 2 , amines such as aniline, sodium hydroxide, sodium carbonate, etc. And a method of mixing with a halogen acceptor compound.

【0025】ホスファゼン誘導体は、一般にこのように
して合成されるが、置換反応を主体とする合成方法は、
特に限定しない。
The phosphazene derivative is generally synthesized in this manner.
There is no particular limitation.

【0026】また、芳香族側鎖基とは、一般に芳香族環
を有する化合物から誘導される基であり、
The aromatic side group is generally a group derived from a compound having an aromatic ring.

【0027】[0027]

【化7】 Embedded image

【0028】などの芳香族環に官能基として水酸基を有
する化合物から誘導される基が挙げられる。
And a group derived from a compound having a hydroxyl group as a functional group on an aromatic ring.

【0029】更に、アニリン、フェニレンジアミンなど
の芳香族環に官能基としてアミノ基を有する化合物から
誘導される例えば下記の基が挙げられる。
Further, the following groups derived from compounds having an amino group as a functional group on an aromatic ring such as aniline and phenylenediamine are exemplified.

【0030】[0030]

【化8】 Embedded image

【0031】或いは、チオフェノール、ジメルカプトベ
ンゼンなどの芳香族環に官能基としてメルカプト基を有
する化合物から誘導される例えば下記の基などである。
Alternatively, examples thereof include the following groups derived from compounds having a mercapto group as a functional group on an aromatic ring such as thiophenol and dimercaptobenzene.

【0032】[0032]

【化9】 Embedded image

【0033】また側鎖基の組み合わせとしては、必ずし
も単一の基で構成されなくてもよく、これらの中から複
数選ばれた組み合わせでもよく、水酸化ナトリウムでp
H10.00にした40℃の水溶液100g中に1g以
下の溶解度を持つように任意に選択することができる。
この他、Chem.Rev.,1972,vol72,
No.4、315〜356に示されている化合物に含ま
れる官能基であっても良く、さらにこれらの官能基がカ
ルボキシル基、スルホン酸基、りん酸基等の親水性の置
換基を有していてもよい。
The combination of the side chain groups may not necessarily be composed of a single group, but may be a combination selected from a plurality of these groups.
It can be arbitrarily selected to have a solubility of 1 g or less in 100 g of a 40 ° C. aqueous solution adjusted to H10.00.
In addition, Chem. Rev .. , 1972, vol72,
No. And functional groups contained in the compounds shown in Nos. 4,315 to 356. These functional groups may further have a hydrophilic substituent such as a carboxyl group, a sulfonic acid group or a phosphoric acid group. Is also good.

【0034】次に一般式(1)又は(2)で表される化
合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されな
い。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula (1) or (2) are shown, but the present invention is not limited to these.

【0035】 (鎖状化合物) L−1 [NP(NCS)2n L−2 [NP(OMe)2n L−3 [NP(OEt)2n L−4 [NP(OCH2CF32n L−5 [NP(OCH2252n L−6 [NP(OCH2CF2CF2H)2n L−7 [NP(OCH2372n L−8 [NP(OCH2CF3)(OCH237)]n L−9 [NP(OCH2(CF26CF32n L−10 [NP(OCH225)(OCH237)]n L−11 [NP(OCH2CF2CF2H)(OCH2612H)]n L−12 [NP(OPh)2n L−13 [NP(OC64F−p)2n L−14 [NP(OC64CF3−m)2n L−15 [NP(OC64Cl−p)2n L−16 [NP(OC63Cl2−2,4)2n L−17 [NP(OC6465−p)2n L−18 [NP(NHMe)2n L−19 [NP(NHEt)2n L−20 [NP(NHPr−n)2n L−21 [NP(NHBu−n)2n L−22 [NP(NHPh)2n L−23 [NP(NMe22n L−24 [NP(NC5102n L−25 [NP(NEt2)Cl]n L−26 [NP(NEt2)(NH2)]n L−27 [NP(NEt2)(NHMe)]n L−28 [NP(NEt2)(NHEt)]n L−29 [NP(NEt2)(NHPr−n)]n L−30 [NP(NEt2)(NHBu−n)]n L−31 (NPPh2n L−32 [NP(SEt)2 (Chain compound) L-1 [NP (NCS) 2 ] n L-2 [NP (OMe) 2 ] n L-3 [NP (OEt) 2 ] n L-4 [NP (OCH 2 CF) 3 ) 2 ] n L-5 [NP (OCH 2 C 2 F 5 ) 2 ] n L-6 [NP (OCH 2 CF 2 CF 2 H) 2 ] n L-7 [NP (OCH 2 C 3 H 7) ) 2 ] n L-8 [NP (OCH 2 CF 3 ) (OCH 2 C 3 F 7 )] n L-9 [NP (OCH 2 (CF 2 ) 6 CF 3 ) 2 ] n L-10 [NP ( OCH 2 C 2 F 5 ) (OCH 2 C 3 F 7 )] n L-11 [NP (OCH 2 CF 2 CF 2 H) (OCH 2 C 6 F 12 H)] n L-12 [NP (OPh) 2 ] n L-13 [NP (OC 6 H 4 F-p) 2 ] n L-14 [NP (OC 6 H 4 CF 3 -m) 2 ] n L-15 [NP (OC 6 H 4 Cl−) p) 2] n L-1 [NP (OC 6 H 3 Cl 2 -2,4) 2] n L-17 [NP (OC 6 H 4 C 6 H 5 -p) 2] n L-18 [NP (NHMe) 2] n L- 19 [NP (NHEt) 2 ] n L-20 [NP (NHPr-n) 2 ] n L-21 [NP (NHBu-n) 2 ] n L-22 [NP (NHPh) 2 ] n L-23 [ NP (NMe 2) 2] n L-24 [NP (NC 5 H 10) 2] n L-25 [NP (NEt 2) Cl] n L-26 [NP (NEt 2) (NH 2)] n L -27 [NP (NEt 2 ) (NHMe)] n L-28 [NP (NEt 2 ) (NHEt)] n L-29 [NP (NEt 2 ) (NHPr-n)] n L-30 [NP (NEt) 2 ) (NHBu-n)] n L-31 (NPPh 2 ) n L-32 [NP (SEt) 2 ] n

【0036】[0036]

【化10】 Embedded image

【0037】 (環状化合物) C−1 [NP(CF23 C−2 (NPPh23 C−3 (NPPh24 C−4 [NP(C64Cl−p)23 C−5 (NPEt23 C−6 (NPEt24 C−7 [NP(OCH2CF32] C−8 [NP(OMe)23 C−9 [NP(OMe)24 C−10 [NP(OEt)23 C−11 [NP(OEt)24 C−12 [NP(OPr−i)23 C−13 [NP(OPr−i)24 C−14 [NP(OBu−n)23 C−15 [NP(OBu−n)24 C−16 [NP(OCH2Ph)23 C−17 [NP(OCH2Ph)24 C−18 [NP(OPh)23 C−19 [NP(OPh)24 C−20 [NP(SEt)24 C−21 [NP(SPh)23 C−22 [NP(NHMe)23 C−23 [NP(NHMe)24 C−24 [NP(NHEt)23 C−25 [NP(NHEt)24 C−26 [NP(NHBu−n)23 C−27 [NP(NHBu−n)2n C−28 [NP(NMe223 C−29 [NP(NMe224 C−30 [NP(NEt223 C−31 [NP(NEt224 C−32 [NP(NMePh)23 C−33 N33Ph3(NHMe)3(cis) C−34 N33Ph3(NHMe)3(trans) C−35 N33Ph3(NHEt)3(cis) C−36 N33Ph3(NHEt)3(trans) C−37 N33(NHEt)4(OCH2CF32(gem) C−38 N33(NHEt)4(OCH2CF32(non−gem) C−39 N33(OC654(NH22(gem) C−40 N33(OC654(NH22(non−gem) C−41 [NP(NCS)23 C−42 [NP(N323 C−43 [NP(OPr−n)23 C−44 [NP(OCH2CF323 C−45 [NP(SEt)23 C−46 [NP(NH223 C−47 [NP(CF324 C−48 (NPPh24 C−49 [NP(OPr−n)24 C−50 [NP(NH224 C−51 [NP(OMe)25 C−52 [NP(NMe225 C−53 [NP(OMe)26 C−54 [NP(NMe226 C−55 [NP(OMe)28 C−56 [NP(NMe22 (Cyclic compound) C-1 [NP (CF 3 ) 2 ] 3 C-2 (NPPh 2 ) 3 C-3 (NPPh 2 ) 4 C-4 [NP (C 6 H 4 Cl-p) 2 ] 3 C-5 (NPet 2 ) 3 C-6 (NPet 2 ) 4 C-7 [NP (OCH 2 CF 3 ) 2 ] C-8 [NP (OMe) 2 ] 3 C-9 [NP (OMe) 2 ] 4 C-10 [NP (OEt) 2 ] 3 C-11 [NP (OEt) 2 ] 4 C-12 [NP (OPr-i) 2 ] 3 C-13 [NP (OPr-i) 2 ] 4 C-14 [NP (OBu-n) 2 ] 3 C-15 [NP (OBu-n) 2 ] 4 C-16 [NP (OCH 2 Ph) 2 ] 3 C-17 [NP (OCH 2 Ph) 2] 4 C-18 [NP (OPh) 2] 3 C-19 [NP (OPh) 2] 4 C-20 [NP (SEt) 2] 4 C-21 [NP (SP ) 2] 3 C-22 [ NP (NHMe) 2] 3 C-23 [NP (NHMe) 2] 4 C-24 [NP (NHEt) 2] 3 C-25 [NP (NHEt) 2] 4 C- 26 [NP (NHBu-n) 2 ] 3 C-27 [NP (NHBu-n) 2 ] n C-28 [NP (NMe 2 ) 2 ] 3 C-29 [NP (NMe 2 ) 2 ] 4 C- 30 [NP (NEt 2 ) 2 ] 3 C-31 [NP (NEt 2 ) 2 ] 4 C-32 [NP (NMePh) 2 ] 3 C-33 N 3 P 3 Ph 3 (NHMe) 3 (cis) C -34 N 3 P 3 Ph 3 (NHMe) 3 (trans) C-35 N 3 P 3 Ph 3 (NHEt) 3 (cis) C-36 N 3 P 3 Ph 3 (NHEt) 3 (trans) C-37 N 3 P 3 (NHEt) 4 (OCH 2 CF 3 ) 2 (gem) C-38 N 3 P 3 (NHEt) 4 (OCH 2 CF 3 ) 2 (non-gem) C-39 N 3 P 3 (OC 6 H 5 ) 4 (NH 2 ) 2 (gem) C-40 N 3 P 3 (OC 6 H 5 ) 4 (NH 2 ) 2 (non-gem) C-41 [NP (NCS) 2 ] 3 C-42 [NP (N 3 ) 2 ] 3 C-43 [NP (OPr-n) 2 ] 3 C-44 [NP ( OCH 2 CF 3 ) 2 ] 3 C-45 [NP (SEt) 2 ] 3 C-46 [NP (NH 2 ) 2 ] 3 C-47 [NP (CF 3 ) 2 ] 4 C-48 (NPPh 2 ) 4 C-49 [NP (OPr-n) 2 ] 4 C-50 [NP (NH 2 ) 2 ] 4 C-51 [NP (OMe) 2 ] 5 C-52 [NP (NMe 2 ) 2 ] 5 C −53 [NP (OMe) 2 ] 6 C-54 [NP (NMe 2 ) 2 ] 6 C-55 [NP (OMe) 2 ] 8 C-56 [NP (NMe 2 ) 2 ] 8

【0038】[0038]

【化11】 Embedded image

【0039】[0039]

【化12】 Embedded image

【0040】[0040]

【化13】 Embedded image

【0041】[0041]

【化14】 Embedded image

【0042】(環鎖状化合物)(Chain compound)

【0043】[0043]

【化15】 Embedded image

【0044】本発明においては、前記一般式(1)又は
(2)で表される化合物の銀錯塩化合物を添加すること
によっても本発明の目的を達成することができる。銀錯
塩化合物は、該化合物と硝酸銀を混合することによって
得られる。正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9
−127643号に記載されている様なコントロールド
ダブルジェット法等が好ましく用いられる。
In the present invention, the object of the present invention can also be achieved by adding a silver complex compound of the compound represented by the general formula (1) or (2). The silver complex compound is obtained by mixing the compound with silver nitrate. Forward mixing method, reverse mixing method, simultaneous mixing method,
A controlled double jet method as described in JP-A-1227643 is preferably used.

【0045】本発明においては、前記一般式(1)又は
(2)で表される化合物またはそれらの銀錯塩化合物を
添加するのはハロゲン化銀乳剤層であれば塗布されるま
でに添加すれば良いが、該ハロゲン化銀乳剤層のハロゲ
ン化銀粒子に対する化学熟成が終了するまでが好まし
く、化学熟成の開始前に添加することが更に好ましい。
In the present invention, the compound represented by the above general formula (1) or (2) or a silver complex salt thereof is added only when the silver halide emulsion layer is added before coating. It is good, but it is preferred that the chemical ripening of the silver halide grains in the silver halide emulsion layer is completed, and it is more preferable to add it before the start of the chemical ripening.

【0046】次に、前記一般式(3)または(4)で表
される化合物について説明する。
Next, the compound represented by formula (3) or (4) will be described.

【0047】前記一般式(3)または(4)において、
炭素数1〜4までのアルキル基とは、例えばメチル、エ
チル、プロピル又はブチル基などが挙げられる。
In the above general formula (3) or (4),
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl, ethyl, propyl and butyl group.

【0048】炭素数18までのアシル基とは、例えばア
セチル基、ベンゾイル基などが挙げられ、炭素数15ま
でのアラルキル基とは、例えばベンジル基、フェネチル
基などが挙げられる。アリール基とはフェニル基、ナフ
チル基などが挙げられる。
The acyl group having up to 18 carbon atoms includes, for example, an acetyl group and a benzoyl group, and the aralkyl group having up to 15 carbon atoms includes, for example, a benzyl group and a phenethyl group. The aryl group includes a phenyl group, a naphthyl group and the like.

【0049】又、Mのアルカリ金属原子としては、例
えばナトリウムイオン、カリウムイオンなどである。
[0049] As the alkali metal atom M 1, for example, sodium ions, potassium ions.

【0050】本発明の上記の化合物は種々の合成法が知
られているが、例えばアミノ酸合成法として知られいる
シュトレッカーアミノ酸合成法を用いてもよく、アミノ
酸のアセチル化は水溶液中でアルカリと無水酢酸を交互
に添加して行う。
Various synthetic methods are known for the above-mentioned compound of the present invention. For example, a Strecker amino acid synthetic method known as an amino acid synthetic method may be used. The reaction is performed by alternately adding acetic anhydride.

【0051】次に本発明の一般式(3)または(4)で
表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
Next, specific examples of the compound represented by formula (3) or (4) of the present invention are shown, but the present invention is not limited to these.

【0052】[0052]

【化16】 Embedded image

【0053】[0053]

【化17】 Embedded image

【0054】本発明においては、前記一般式(3)と一
般式(4)で表される化合物の銀錯塩化合物を添加する
ことによっても本発明の目的を達成することができる。
銀錯塩化合物は、該化合物と硝酸銀を混合することによ
って得られる。正混合法、逆混合法、同時混合法、特開
平9−127643号に記載されている様なコントロー
ルドダブルジェット法等が好ましく用いられる。
In the present invention, the object of the present invention can also be achieved by adding a silver complex salt compound of the compounds represented by the general formulas (3) and (4).
The silver complex compound is obtained by mixing the compound with silver nitrate. A forward mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, and a controlled double jet method as described in JP-A-9-127463 are preferably used.

【0055】本発明においては、前記一般式(3)又は
(4)で表される化合物またはそれらの銀錯塩化合物を
添加するにはハロゲン化銀乳剤層であれば塗布されるま
でに添加すれば良いが、該ハロゲン化銀乳剤層のハロゲ
ン化銀粒子に対する化学熟成が終了するまでが好まし
く、化学熟成の開始前に添加することが更に好ましい。
In the present invention, in order to add the compound represented by formula (3) or (4) or a silver complex salt thereof, if the silver halide emulsion layer is added before coating. It is good, but it is preferred that the chemical ripening of the silver halide grains in the silver halide emulsion layer is completed, and it is more preferable to add it before the start of the chemical ripening.

【0056】本発明の上記の化合物は、それぞれ単独又
は組み合わせて用いてもよい。
The above compounds of the present invention may be used alone or in combination.

【0057】本発明の熱現像写真感光材料には、本発明
の化合物に加えて感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元
剤及び硬調化剤を含有するが、硬調化剤としてはヒドラ
ジン系化合物やエチレン系化合物が好ましく用いられ
る。
The photothermographic material of the present invention contains a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a contrasting agent in addition to the compound of the present invention. And ethylene compounds are preferably used.

【0058】特に好ましく用いられるヒドラジン系硬調
化剤としては、下記一般式〔H〕で表される化合物が挙
げられる。
The hydrazine-based high contrast agent particularly preferably used includes a compound represented by the following general formula [H].

【0059】[0059]

【化18】 Embedded image

【0060】式中、A0は脂肪族基、芳香族基、複素環
基または−G0−D0基を表し、B0はブロッキング基を
表し、A1、A2はともに水素原子または一方が水素原子
で他方はアシル基、スルホニル基またはオキザリル基を
表す。ここで、G0は−CO−基、−COCO−基、−
CS−基、−C(=NG11)−基、−SO−基、−S
2−基または−P(O)(G11)−基を表し、G1
結合手、−O−基、−S−基または−N(D1)−基を
表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素
原子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それ
らは同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、
脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ
ル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリー
ルチオ基を表す。
In the formula, A 0 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a -G 0 -D 0 group, B 0 represents a blocking group, and A 1 and A 2 are both hydrogen atoms or Represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group or an oxalyl group. Here, G 0 is a -CO- group, a -COCO- group,-
CS-group, -C (= NG 1 D 1 ) -group, -SO- group, -S
O 2 - group or -P (O) (G 1 D 1) - represents a group, G 1 is a bond, -O- group, -S- group, or -N (D 1) - represents a group, D 1 Represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different. D 0 is a hydrogen atom,
Represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group.

【0061】前記一般式〔H〕において、A0で表され
る脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、
特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル
基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル
基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げ
られ、これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、
アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置
換されていてもよい。
In the general formula [H], the aliphatic group represented by A 0 preferably has 1 to 30 carbon atoms.
Particularly, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, an octyl group, a cyclohexyl group, and a benzyl group. (For example, an aryl group,
Alkoxyl group, aryloxy group, alkylthio group,
Arylthio, sulfoxy, sulfonamido, sulfamoyl, acylamino, ureido, etc.).

【0062】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環または縮合環のアリール基が好ましく、
例えばベンゼン環またはナフタレン環が挙げられ、A0
で表される複素環基としては、単環または縮合環で窒
素、硫黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテ
ロ原子を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、
イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン
環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が
挙げられ、A0で表される−G0−D0基において、G0
−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=N
11)−基、−SO−基、−SO2−基または−P
(O)(G11)−基を表す。G1は単なる結合手、−
O−基、−S−基または−N(D1)−基を表し、D1
脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表し、
分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであ
っても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳
香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシル基、アリー
ルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、
好ましいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキ
シル基、アミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複
素環基及び−G0−D0基は置換基を有していてもよい。
In the general formula [H], the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed-ring aryl group.
For example, a benzene ring or a naphthalene ring is mentioned, and A 0
The heterocyclic group represented by is preferably a heterocyclic ring containing at least one hetero atom selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atom in a single ring or a condensed ring, for example, a pyrrolidine ring,
Imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a quinoline ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring, a furan ring, and, in -G 0 -D 0 group represented by A 0, G 0 represents a -CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= N
G 1 D 1 ) —, —SO—, —SO 2 —, or —P
(O) represents a (G 1 D 1 ) — group. G 1 is just a bond,
O—, —S— or —N (D 1 ) —, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom;
When multiple D 1 are present in a molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group,
Preferred D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyl group, an amino group and the like. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent.

【0063】A0として特に好ましいものはアリール基
及び−G0−D0基である。
Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a -G 0 -D 0 group.

【0064】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基またはハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むこと
が好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真
用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラス
ト基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシル基、フェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置
換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好まし
い。
In the general formula [H], A 0 preferably contains at least one diffusion-resistant group or silver halide-adsorbing group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable, and as the ballast group, a photographically inert alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxyl group, phenyl group,
Examples thereof include a phenoxy group and an alkylphenoxy group, and the total number of carbon atoms in the substituent is preferably 8 or more.

【0065】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
In the general formula [H], examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group, 64-9
No. 0439.

【0066】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基または−P
(O)(G11)−基を表す、好ましいG0としては−
O−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合
手、−O−基、−S−基または−N(D1)−基を表
し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原
子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それら
は同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂
肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシル
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基を表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル
基、アルコキシル基、アミノ基等が挙げられる。A1
2はともに水素原子、または一方が水素原子で他方は
アシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベン
ゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、ト
ルエンスルホニル基等)、またはオキザリル基(エトキ
ザリル基等)を表す。
In the general formula [H], B 0 represents a blocking group, preferably a -G 0 -D 0 group, and G 0 represents-
CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P
(O) A preferred (G 0 ) representing a (G 1 D 1 ) — group is
C O - group, -COCO- group, and the like, G 1 is a single bond, -O- group, -S- group, or -N (D 1) - represents a group, D 1 is an aliphatic group, an aromatic Represents a group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in a molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyl group, And an amino group. A 1 ,
A 2 is a hydrogen atom, or one is a hydrogen atom, and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or an oxalyl group (ethoxalyl group) Etc.).

【0067】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されない。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula [H] are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0068】[0068]

【化19】 Embedded image

【0069】[0069]

【化20】 Embedded image

【0070】[0070]

【化21】 Embedded image

【0071】[0071]

【化22】 Embedded image

【0072】[0072]

【化23】 Embedded image

【0073】[0073]

【化24】 Embedded image

【0074】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号報カラム9〜カラム1
1に記載の化合物1〜12である。これらのヒドラジン
誘導体は公知の方法で合成することができる。
Other hydrazine derivatives which can be preferably used include compounds H-1 to H-29 described in columns 11 to 20 of US Pat. No. 5,545,505.
U.S. Pat. No. 5,464,738, column 9 to column 1
Compounds 1 to 12 described in 1. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.

【0075】ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲン化
銀を含む感光層及び/または感光層に隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6モル〜
10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モルの範囲が
好ましい。
The hydrazine derivative-added layer is a photosensitive layer containing silver halide and / or a layer adjacent to the photosensitive layer. The optimum amount is not uniform depending on the particle size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor, etc., but is preferably from 10 -6 mol per mol of silver halide.
The range is preferably about 10 -1 mol, particularly preferably 10 -5 mol to 10 -2 mol.

【0076】次に、好ましく用いられるエチレン系硬調
化剤としては、下記一般式〔G〕で表される化合物が挙
げられる。
Next, as the ethylene hardening agent preferably used, a compound represented by the following general formula [G] can be mentioned.

【0077】[0077]

【化25】 Embedded image

【0078】一般式〔G〕において、XとRはシスの形
で表示してあるが、XとRがトランスの形も一般式
〔G〕に含まれる。この事は具体的化合物の構造表示に
おいても同様である。
In the general formula [G], X and R are represented in the form of cis. However, the general formula [G] includes X and R in the form of trans. This is the same in the structural representation of a specific compound.

【0079】式中、Xは電子吸引性基を表し、Wは水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アシル基、チオア
シル基、オキザリル基、オキシオキザリル基、チオオキ
ザリル基、オキサモイル基、オキシカルボニル基、チオ
カルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、
スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルフィニル
基、チオスルフィニル基、スルファモイル基、オキシス
ルフィニル基、チオスルフィニル基、スルフィナモイル
基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニ
ルイミノ基、N−スルホニルイミノ基、ジシアノエチレ
ン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム
基、ピリリウム基、インモニウム基を表す。
In the formula, X represents an electron-withdrawing group, and W is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, an acyl group, a thioacyl group, an oxalyl group, an oxyoxalyl group. , Thiooxalyl group, oxamoyl group, oxycarbonyl group, thiocarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group,
Sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfinyl group, thiosulfinyl group, sulfamoyl group, oxysulfinyl group, thiosulfinyl group, sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group, N-sulfonylimino group, dicyano It represents an ethylene group, an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, a pyrylium group, or an immonium group.

【0080】Rはハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコ
キシル基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アル
ケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカル
ボニルチオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシ基
またはメルカプト基の有機または無機の塩(例えば、ナ
トリウム塩、カリウム塩、銀塩等)、アミノ基、アルキ
ルアミノ基、環状アミノ基(例えば、ピロリジノ基)、
アシルアミノ基、オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環
基(5〜6員の含窒素ヘテロ環、例えばベンズトリアゾ
リル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリ
ル基等)、ウレイド基、スルホンアミド基を表す。Xと
W、XとRは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成
してもよい。XとWが形成する環としては、例えばピラ
ゾロン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β−
ケトラクトン、β−ケトラクタム等が挙げられる。
R represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxyl group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aminocarbonyloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, Organic or inorganic salts of ring thio group, alkenylthio group, acylthio group, alkoxycarbonylthio group, aminocarbonylthio group, hydroxy group or mercapto group (for example, sodium salt, potassium salt, silver salt, etc.), amino group, alkyl Amino group, cyclic amino group (for example, pyrrolidino group),
It represents an acylamino group, an oxycarbonylamino group, a heterocyclic group (e.g., a 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring such as a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group, or a tetrazolyl group), a ureido group, or a sulfonamide group. X and W, and X and R may be bonded to each other to form a cyclic structure. The ring formed by X and W includes, for example, pyrazolone, pyrazolidinone, cyclopentanedione, β-
Ketoractone, β-ketolactam and the like.

【0081】一般式〔G〕について更に説明すると、X
の表す電子吸引性基とは、ハメットの置換基定数σpが
正の値をとりうる置換基のことである。具体的には、置
換アルキル基(ハロゲン置換アルキル等)、置換アルケ
ニル基(シアノビニル等)、置換・未置換のアルキニル
基(トリフルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレ
ニル等)、置換アリール基(シアノフェニル等)、置換
・未置換のヘテロ環基(ピリジル、トリアジニル、ベン
ゾオキサゾリル等)、ハロゲン原子、シアノ基、アシル
基(アセチル、トリフルオロアセチル、ホルミル等)、
チオアセチル基(チオアセチル、チオホルミル等)、オ
キサリル基(メチルオキサリル等)、オキシオキサリル
基(エトキサリル等)、チオオキサリル基(エチルチオ
オキサリル等)、オキサモイル基(メチルオキサモイル
等)、オキシカルボニル基(エトキシカルボニル等)、
カルボキシル基、チオカルボニル基(エチルチオカルボ
ニル等)、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スル
ホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基(エト
キシスルホニル等)、チオスルホニル基(エチルチオス
ルホニル等)、スルファモイル基、オキシスルフィニル
基(メトキシスルフィニル等)、チオスルフィニル基
(メチルチオスルフィニル等)、スルフィナモイル基、
スフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ
基、N−カルボニルイミノ基(N−アセチルイミノ
等)、N−スルホニルイミノ基(N−メタンスルホニル
イミノ等)、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、ス
ルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモ
ニウム基が挙げられるが、アンモニウム基、スルホニウ
ム基、ホスホニウム基、インモニウム基等が環を形成し
たヘテロ環状のものも含まれる。σp値として特に好ま
しく用いられるのは、0.30以上の置換基である。
The general formula [G] will be further described.
Is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value. Specifically, a substituted alkyl group (eg, halogen-substituted alkyl), a substituted alkenyl group (eg, cyanovinyl), a substituted / unsubstituted alkynyl group (eg, trifluoromethylacetylenyl, cyanoacetylenyl), and a substituted aryl group (eg, cyanovinyl) Phenyl, etc.), substituted / unsubstituted heterocyclic groups (pyridyl, triazinyl, benzoxazolyl, etc.), halogen atoms, cyano groups, acyl groups (acetyl, trifluoroacetyl, formyl, etc.),
Thioacetyl group (thioacetyl, thioformyl, etc.), oxalyl group (methyloxalyl, etc.), oxyoxalyl group (ethoxalyl, etc.), thiooxalyl group (ethylthiooxalyl, etc.), oxamoyl group (methyloxamoyl, etc.), oxycarbonyl group (ethoxycarbonyl, etc.) etc),
Carboxyl group, thiocarbonyl group (such as ethylthiocarbonyl), carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfonyl group (such as ethoxysulfonyl), thiosulfonyl group (such as ethylthiosulfonyl), sulfamoyl group, and oxysulfinyl Group (such as methoxysulfinyl), thiosulfinyl group (such as methylthiosulfinyl), sulfinamoyl group,
Sphinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group (N-acetylimino, etc.), N-sulfonylimino group (N-methanesulfonylimino, etc.), dicyanoethylene group, ammonium group, sulfonium group, phosphonium Groups, a pyrylium group, and an immonium group, and a heterocyclic group in which an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an immonium group, and the like form a ring is also included. Particularly preferred as the σp value is a substituent having a value of 0.30 or more.

【0082】Wとして表されるアルキル基としてはメチ
ル、エチル、トリフルオロメチル等が、アルケニル基と
してはビニル、ハロゲン置換ビニル、シアノビニル等
が、アルキニル基としてはアセチレニル、シアノアセチ
レニル等が、アリール基としてはニトロフェニル、シア
ノフェニル、ペンタフルオロフェニル等が、ヘテロ環基
としてはピリジル、ピリミジル、トリアジニル、スクシ
ンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。Wとしてはσ
p値が正の電子吸引性基が好ましく、更にはその値が
0.30以上のものが好ましい。
Examples of the alkyl group represented by W include methyl, ethyl, trifluoromethyl and the like, examples of the alkenyl group include vinyl, halogen-substituted vinyl and cyanovinyl, and examples of the alkynyl group include acetylenyl and cyanoacetylenyl. Examples of the group include nitrophenyl, cyanophenyl, and pentafluorophenyl, and examples of the heterocyclic group include pyridyl, pyrimidyl, triazinyl, succinimide, tetrazolyl, triazolyl, imidazolyl, and benzoxazolyl. W is σ
A p-value is preferably a positive electron-withdrawing group, and more preferably, the value is 0.30 or more.

【0083】上記Rの置換基の内、好ましくはヒドロキ
シ基、メルカプト基、アルコキシル基、アルキルチオ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基またはメルカプト基の
有機または無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、更に好ま
しくはヒドロキシ基、アルコキシル基、ヒドロキシ基ま
たはメルカプト基の有機または無機の塩、ヘテロ環基が
挙げられ、特に好ましくはヒドロキシ基、ヒドロキシ基
またはメルカプト基の有機または無機の塩が挙げられ
る。
Among the above substituents for R, preferred are a hydroxy group, a mercapto group, an alkoxyl group, an alkylthio group, a halogen atom, an organic or inorganic salt of a hydroxy group or a mercapto group, and a heterocyclic group. Examples include an organic or inorganic salt of a hydroxy group, an alkoxyl group, a hydroxy group or a mercapto group, and a heterocyclic group, and particularly preferably an organic or inorganic salt of a hydroxy group, a hydroxy group or a mercapto group.

【0084】また上記X及びWの置換基の内、置換基中
にチオエーテル結合を有するものが好ましい。
Further, among the substituents of X and W, those having a thioether bond in the substituent are preferable.

【0085】次に一般式〔G〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula [G] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0086】[0086]

【化26】 Embedded image

【0087】[0087]

【化27】 Embedded image

【0088】[0088]

【化28】 Embedded image

【0089】[0089]

【化29】 Embedded image

【0090】[0090]

【化30】 Embedded image

【0091】[0091]

【化31】 Embedded image

【0092】[0092]

【化32】 Embedded image

【0093】[0093]

【化33】 Embedded image

【0094】[0094]

【化34】 Embedded image

【0095】[0095]

【化35】 Embedded image

【0096】[0096]

【化36】 Embedded image

【0097】[0097]

【化37】 Embedded image

【0098】[0098]

【化38】 Embedded image

【0099】[0099]

【化39】 Embedded image

【0100】[0100]

【化40】 Embedded image

【0101】[0101]

【化41】 Embedded image

【0102】[0102]

【化42】 Embedded image

【0103】[0103]

【化43】 Embedded image

【0104】[0104]

【化44】 Embedded image

【0105】[0105]

【化45】 Embedded image

【0106】[0106]

【化46】 Embedded image

【0107】[0107]

【化47】 Embedded image

【0108】[0108]

【化48】 Embedded image

【0109】[0109]

【化49】 Embedded image

【0110】[0110]

【化50】 Embedded image

【0111】また本発明の熱現像感光材料には、米国特
許第5,545,505号に記載のヒドロキシルアミン
化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アンモニ
ウム化合物、同第5,545,507号に記載のヒドロ
キサム酸化合物、同第5,558,983号に記載のN
−アシル−ヒドラジン化合物、同第5,545,515
号に記載のアクリロニトリロ化合物、同第5,937,
449号に記載のベンズヒドロールやジフェニルフォス
フィンやジアルキルピペリジンやアルキル−β−ケトエ
ステルなどの水素原子ドナー化合物、などの硬調化促進
剤を添加することが好ましい。その中でも下記一般式
(P)で表される4級オニウム化合物が好ましく用いら
れる。
The photothermographic material of the present invention includes hydroxylamine compounds, alkanolamine compounds and ammonium phthalate compounds described in US Pat. No. 5,545,505, and US Pat. No. 5,545,507. Hydroxamic acid compounds; N described in 5,558,983
-Acyl-hydrazine compounds, 5,545,515
Acrylonitrilo compound described in No. 5,937,
No. 449, it is preferable to add a high-contrast accelerator such as a hydrogen atom donor compound such as benzhydrol, diphenylphosphine, dialkylpiperidine or alkyl-β-ketoester. Among them, a quaternary onium compound represented by the following general formula (P) is preferably used.

【0112】[0112]

【化51】 Embedded image

【0113】式中、Qは窒素原子または燐原子を表し、
11、R12、R13及びR14は各々、水素原子または置換
基を表し、X1 -はアニオンを表す。尚、R11〜R14は互
いに連結して環を形成してもよい。
In the formula, Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom;
Each R 11, R 12, R 13 and R 14 represents a hydrogen atom or a substituent, X 1 - represents an anion. Incidentally, R 11 to R 14 may be connected to each other to form a ring.

【0114】一般式(P)において、R11〜R14で表さ
れる置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、
アルキニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリ
ール基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペ
リジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジ
ル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、
テトラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ
基等が挙げられる。
In the general formula (P), examples of the substituent represented by R 11 to R 14 include an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group) and an alkenyl group ( Allyl group, butenyl group, etc.),
Alkynyl group (propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group,
Tetrahydrothienyl group, sulfolanyl group, etc.), amino group and the like.

【0115】R11〜R14が互いに連結して形成しうる環
としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダ
ゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げら
れる。
Examples of the ring which can be formed by connecting R 11 to R 14 include a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring and a tetrazole ring. .

【0116】R11〜R14で表される基としては、ヒドロ
キシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、カルボ
キシル基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換
基を有してもよい。
The groups represented by R 11 to R 14 may have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group and an aryl group.

【0117】R11、R12、R13及びR14としては、水素
原子及びアルキル基が好ましい。
R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are preferably a hydrogen atom and an alkyl group.

【0118】Xp -が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
[0118] X p - as represented anion, a halogen ion, sulfate ion, nitrate ion, acetate ion, and inorganic and organic anions, such as p- toluenesulfonic acid ion.

【0119】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)または(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
More preferably, the following general formulas (Pa) and (P
a compound represented by b) or (Pc); and a compound represented by the following general formula [T].

【0120】[0120]

【化52】 Embedded image

【0121】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシル基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例として、ピリジン環が挙げられる。
In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 represent a group of nonmetal atoms for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom. And the benzene ring may be condensed. A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5
May have a substituent and may be the same or different. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfo group, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxyl group, and an aryloxy group. Amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, amino group, sulfonamide group, sulfonyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, alkylthio group and arylthio group. Preferred examples of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 include a 5- to 6-membered ring (pyridine,
Imidazole, thiazole, oxazole, pyrazine,
Each ring such as pyrimidine), and a more preferred example is a pyridine ring.

【0122】BPは2価の連結基を表し、mは0または
1を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリ
ーレン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−
O−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキ
ル基、アリール基、水素原子を表す)を単独または組み
合わせて構成されるものを表す。Bpとして好ましく
は、アルキレン基、アルケニレン基を挙げることができ
る。
B P represents a divalent linking group, and m represents 0 or 1. Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, -SO 2 -, - SO - , -
O -, - S -, - CO -, - N (R 6) - (R 6 is an alkyl group, an aryl group, a hydrogen atom) represents what is configured alone or in combination. Preferred examples of B p include an alkylene group and an alkenylene group.

【0123】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
R 1 , R 2 and R 5 each have 1 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group. R 1 and R 2 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and the substituent is the same as the substituents described as the substituents for A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 .

【0124】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、アリール基で置換されたアルキル基が
挙げられる。
Preferred examples of R 1 , R 2 and R 5 include:
Each is an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferred examples include an alkyl group substituted with an aryl group.

【0125】Xp -は分子全体の電荷を中和させるのに必
要な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の
電荷を中和するのに必要な対イオンの数を表し、分子内
塩の場合にはnpは0である。
[0125] X p - represents a counter ion necessary to neutralize the charge of the whole molecule, for example chloride, bromide,
It represents iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate, oxalate and the like. n p represents the number of counter ions required to neutralize the charge of the whole molecule, and n p is 0 in the case of an internal salt.

【0126】[0126]

【化53】 Embedded image

【0127】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R6、R7
8は、水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメット
のシグマ値(σP)が負のものが好ましい。
The substituents R 6 and R 7 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the general formula [T],
R 8 is preferably a hydrogen atom or a compound having a negative Hammett's sigma value (σP) indicating electron-withdrawing degree.

【0128】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年に記
載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見
ることが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基と
しては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れも
σP値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシ基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エ
トキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
The Hammett's sigma value at the phenyl group is described in many literatures, for example, Journal of Medical Chemistry.
chemistry, 20, 304, 1977. The group having a particularly preferable negative sigma value is, for example, a methyl group (σP = −0.17 or less, all σP values) and an ethyl group (− 0.15), cyclopropyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), is
o-propyl group (-0.15), cyclobutyl group (-
0.15), n-butyl group (-0.16), iso-butyl group (-0.20), n-pentyl group (-0.1
5), cyclohexyl group (-0.22), amino group (-
0.66), acetylamino group (-0.15), hydroxy group (-0.37), methoxy group (-0.27), ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.2
5), butoxy group (-0.32), pentoxy group (-
0.34), etc., each of which has the general formula [T]
Is useful as a substituent of the compound of

【0129】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
N represents 1 or 2, and examples of the anion represented by X T n- include halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, nitric acid, sulfuric acid, and the like.
Acid radicals of inorganic acids such as perchloric acid, acid radicals of organic acids such as sulfonic acid and carboxylic acid, anionic activators, specifically p-
Lower alkylbenzene sulfonic acid anions such as toluene sulfonic acid anion; higher alkyl benzene sulfonic acid anions such as p-dodecyl benzene sulfonic acid anion; higher alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate anion; boric acid anions such as tetraphenyl boron; Dialkyl sulfosuccinate anions such as 2-ethylhexyl sulfosuccinate anion,
Examples thereof include higher fatty acid anions such as cetyl polyethenoxy sulfate anion, and polymers having an acid radical attached to a polymer such as polyacrylate anion.

【0130】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
Hereinafter, specific examples of the quaternary onium compound will be shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0131】[0131]

【化54】 Embedded image

【0132】[0132]

【化55】 Embedded image

【0133】[0133]

【化56】 Embedded image

【0134】[0134]

【化57】 Embedded image

【0135】[0135]

【化58】 Embedded image

【0136】[0136]

【化59】 Embedded image

【0137】[0137]

【化60】 Embedded image

【0138】[0138]

【化61】 Embedded image

【0139】[0139]

【化62】 Embedded image

【0140】[0140]

【化63】 Embedded image

【0141】上記4級オニウム化合物は公知の方法を参
考にして合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物は
Chemical Reviews,55,p.335
〜483に記載の方法が参照できる。
The above quaternary onium compound can be synthesized with reference to a known method. For example, the above tetrazolium compound can be synthesized as described in Chemical Reviews, 55, p. 335
To 483 can be referred to.

【0142】これら4級オニウム化合物の添加量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。
The addition amount of these quaternary onium compounds is about 1 × 10 -8 to 1 mol, preferably 1 × 10 -7 to 1 × 10 -1 mol per mol of silver halide. These can be added to the light-sensitive material at any time from the time of silver halide grain formation to the time of coating.

【0143】4級オニウム化合物は、単独で用いても2
種以上を適宜併用して用いてもよい。また感光材料の構
成層中のいかなる層に添加してもよいが、好ましくは感
光層を有する側の構成層の少なくとも1層、更には感光
層及び/またはその隣接層に添加する。
The quaternary onium compound may be used alone or
More than one species may be used in combination. The compound may be added to any of the constituent layers of the photosensitive material, but is preferably added to at least one of the constituent layers on the side having the photosensitive layer, and further to the photosensitive layer and / or a layer adjacent thereto.

【0144】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は
光センサーとして機能する。本発明においては、画像形
成後の白濁を低く抑え、且つ、良好な画質を得るために
ハロゲン化銀の平均粒子サイズは0.1μm以下が好ま
しく、更に好ましくは0.01μm〜0.1μmであ
り、特に好ましくは0.02μm〜0.08μmであ
る。
The light-sensitive silver halide used in the present invention functions as a light sensor. In the present invention, the average grain size of the silver halide is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.01 μm to 0.1 μm in order to suppress white turbidity after image formation and obtain good image quality. And particularly preferably from 0.02 μm to 0.08 μm.

【0145】ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀
粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合
には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、正常
晶でない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子
の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考え
たときの直径を示す。また、ハロゲン化銀は単分散であ
ることが好ましい。
When the silver halide grains are cubic or octahedral, so-called normal crystals, the grain size refers to the length of the edge of the silver halide grains. In the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical, rod-shaped, or tabular grains, the diameter indicates the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains. Further, the silver halide is preferably monodispersed.

【0146】ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が40%以下の場合を表す。本発明において
は、単分散度としては、30%以下が更に好ましく、特
に好ましくは0.1%以上20%以下である。
The term “monodispersion” as used herein means a case where the degree of monodispersion determined by the following equation is 40% or less. In the present invention, the monodispersity is more preferably 30% or less, particularly preferably 0.1% or more and 20% or less.

【0147】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲で画像の粒状性も向上する。
Monodispersity = (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100 In the invention, the silver halide particles have an average particle size of 0.1.
μm or less and more preferably monodisperse particles,
Within this range, the graininess of the image is also improved.

【0148】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is not particularly limited, but it is preferable that the ratio occupied by the Miller index [100] plane is high, and this ratio is 50% or more, more preferably 7%.
It is preferably at least 0%, particularly preferably at least 80%. The ratio of the Miller index [100] plane is determined by the T.M. Tani, J .; Imaging Sci. , 29,
165 (1985).

【0149】またもう一つの好ましい感光性ハロゲン化
銀の形状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子と
は、投影面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚
みがhμmである場合のアスペクト比=r/hが3以上
のものをいう。その中でも、更に好ましくはアスペクト
比が3以上50以下である。また粒径は0.1μm以下
であることが好ましく、さらに0.01μm〜0.08
μmが好ましい。これらは米国特許第5,264,33
7号、第5,314,798号、第5,320,958
号等に記載されており、上記特許を参考にして目的の平
板状粒子を得ることができる。
Another preferred form of photosensitive silver halide is tabular grains. The term “tabular grains” as used herein means those having an aspect ratio = r / h of 3 or more when the thickness in the vertical direction is h μm, where the square root of the projected area is r μm. Among them, the aspect ratio is more preferably 3 or more and 50 or less. The particle size is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.01 μm to 0.08 μm.
μm is preferred. These are disclosed in US Pat. No. 5,264,33.
No. 7, No. 5,314,798, No. 5,320,958
The target tabular grains can be obtained by referring to the above patents.

【0150】本発明においてこれらの平板状粒子を用い
た場合、更に画像の鮮鋭性も向上する。ハロゲン組成と
しては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよ
い。本発明に用いられるAgX粒子は、P.Glafk
ides著 Chimie et Physique
Photographique(Paul Monte
l社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Ph
otographic Emulsion Chemi
stry(The Focal Press刊、196
6年)、V.L.Zelikman et al著 M
aking and Coating Photogr
aphic Emulsion(The Focal
Press刊、1964年)等に記載された方法を用い
て作製されたAg乳剤を用いて調製することが出来る。
When these tabular grains are used in the present invention, the sharpness of an image is further improved. The halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide. AgX particles used in the present invention are P.A. Glafk
by chimes et Physique
Photographique (Paul Monte)
l, 1967); F. Duffin's Ph
autographic Emulsion Chemi
story (published by The Focal Press, 196)
6 years). L. By Zelikman et al M
aking and Coating Photogr
aphic Emulsion (The Focal
Press, 1964) and the like, and can be prepared using an Ag emulsion prepared by a method described in US Pat.

【0151】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は
有機銀塩に対して0.75〜30重量%の量で含有され
ることが好ましい。
The photosensitive silver halide used in the present invention is preferably contained in an amount of 0.75 to 30% by weight based on the organic silver salt.

【0152】本発明に用いられるハロゲン化銀には、周
期表の6族から11族に属する金属イオンを含有するこ
とが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、
Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、P
t、Auが好ましい。
The silver halide used in the present invention preferably contains metal ions belonging to groups 6 to 11 of the periodic table. As the above metals, W, Fe, Co,
Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, P
t and Au are preferred.

【0153】これらの金属イオンは金属錯体または金属
錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの
金属錯体または金属錯体イオンとしては、下記一般式で
表される6配位金属錯体が好ましい。
These metal ions can be introduced into silver halide in the form of a metal complex or a metal complex ion. As these metal complexes or metal complex ions, hexacoordinate metal complexes represented by the following general formula are preferable.

【0154】一般式〔ML6m 式中、Mは周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移
金属、Lは配位子、mは0、−、2−、3−または4−
を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲ
ン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン
化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニ
トロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはア
コ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位
子が存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占め
ることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なってい
てもよい。
In the formula [ML 6 ] m , M is a transition metal selected from the elements of Groups 6 to 11 of the periodic table, L is a ligand, and m is 0,-, 2-, 3- or 4-
Represents Specific examples of the ligand represented by L include halides (fluoride, chloride, bromide and iodide), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide and aquo. Ligand, nitrosyl, thionitrosyl and the like, preferably aquo, nitrosyl and thionitrosyl. If an aquo ligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

【0155】Mとして特に好ましい具体例は、ロジウム
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イ
リジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
Particularly preferred examples of M are rhodium (Rh), ruthenium (Ru), rhenium (Re), iridium (Ir) and osmium (Os).

【0156】以下に遷移金属錯体イオンの具体例を示す
が、本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of transition metal complex ions are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0157】 1:〔RhCl63- 2:〔RuCl63- 3:〔ReCl63- 4:〔RuBr63- 5:〔OsCl63- 6:〔IrCl64- 7:〔Ru(NO)Cl52- 8:〔RuBr4(H2O)〕2- 9:〔Ru(NO)(H2O)Cl4- 10:〔RhCl5(H2O)〕2- 11:〔Re(NO)Cl52- 12:〔Re(NO)(CN)52- 13:〔Re(NO)Cl(CN)42- 14:〔Rh(NO)2Cl4- 15:〔Rh(NO)(H2O)Cl4- 16:〔Ru(NO)(CN)52- 17:〔Fe(CN)63- 18:〔Rh(NS)Cl52- 19:〔Os(NO)Cl52- 20:〔Cr(NO)Cl52- 21:〔Re(NO)Cl5- 22:〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕2- 23:〔Ru(NS)Cl52- 24:〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕2- 25:〔Os(NS)Cl(SCN)42- 26:〔Ir(NO)Cl52- 27:〔Ir(NS)Cl52− これらの金属イオン、金属錯体または金属錯体イオンは
一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以
上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体また
は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10−9〜1×10-2モルが適
当であり、好ましくは1×10-8〜1×10-4モルであ
る。
[0157] 1: [RhCl 6] 3- 2: [RuCl 6] 3- 3: [ReCl 6] 3- 4: [RuBr 6] 3- 5: [OsCl 6] 3- 6: [IrCl 6] 4 - 7: [Ru (NO) Cl 5] 2- 8: [RuBr 4 (H 2 O)] 2- 9: [Ru (NO) (H 2 O ) Cl 4 ] - 10: [RhCl 5 (H 2 O)] 2-11 : [Re (NO) Cl 5 ] 2-12 : [Re (NO) (CN) 5 ] 2-13 : [Re (NO) Cl (CN) 4 ] 2-14 : [Rh (NO) 2 Cl 4] - 15: [Rh (NO) (H 2 O ) Cl 4 ] - 16: [Ru (NO) (CN) 5] 2- 17: [Fe (CN) 6] 3- 18 : [Rh (NS) Cl 5] 2- 19: [Os (NO) Cl 5] 2- 20: [Cr (NO) Cl 5] 2- 21: [Re (NO) Cl 5] - 22: [Os (NS) Cl 4 (TeCN)] 2- 23: [Ru (NS) Cl 5] 2- 24: [Re (NS) Cl 4 (SeCN ) ] 2- 25: [Os (NS) Cl (SCN) 4 ] 2- 26: [Ir (NO ) Cl 5 ] 2-27 : [Ir (NS) Cl 5 ] 2- These metal ions, metal complexes or metal complex ions may be of one kind or a combination of two or more of the same and different metals. Is also good. The content of these metal ions, metal complexes or metal complex ions, generally is suitably 1 × 10 -9 ~1 × 10 -2 mol per mol of silver halide, preferably 1 × 10 - It is 8 to 1 × 10 -4 mol.

【0158】これらの金属のイオンまたは錯体イオンを
提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハ
ロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟
成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特
に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好まし
く、更には核形成、成長の段階で添加するのが好まし
く、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
Compounds which provide these metal ions or complex ions are added during silver halide grain formation.
It is preferably incorporated into silver halide grains, and may be added at any stage before and after preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening, and chemical sensitization. It is preferably added at the stage of physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth, and most preferably at the stage of nucleation.

【0159】添加に際しては、数回に亘って分割して添
加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭63−29603号、特開平2
−306236号、同3−167545号、同4−76
534号、同6−110146号、同5−273683
号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有
させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもた
せることができる。
In the addition, it may be added several times in several portions, may be added uniformly in silver halide grains, or may be added to silver halide grains.
-306236, 3-167545, 4-76
No. 534, No. 6-110146, No. 5-273683
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-284, etc., the particles can be contained in the particles with a distribution. Preferably, a distribution can be provided inside the particles.

【0160】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水
溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶
液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液
として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子
を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水
溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調
製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープして
ある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等
がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属
化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を
水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。
These metal compounds can be added by dissolving them in water or a suitable organic solvent (eg, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method in which an aqueous solution of a powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl and KCl are dissolved together is added to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during grain formation, or a silver salt solution and a halide solution are used. When they are mixed simultaneously, they are added as a third aqueous solution to prepare silver halide grains by a three-liquid simultaneous mixing method, a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal compound is charged into a reaction vessel during grain formation, or a method in which halogen is added. There is a method in which another silver halide grain doped with metal ions or complex ions in advance during the preparation of silver halide is added and dissolved. In particular, a method of adding an aqueous solution of a powder of a metal compound or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl and KCl are dissolved together is added to a water-soluble halide solution.

【0161】粒子表面に添加する時には、粒子形成直後
または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時
に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
When adding to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or during physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0162】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は粒
子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を施す場
合、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知
られている方法を用いて水洗することにより脱塩するこ
とができる。
The silver halide grains used in the present invention may or may not be desalted after grain formation. When desalting is performed, methods known in the art such as a noodle method and a flocculation method are used. Can be desalted by washing with water.

【0163】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は化
学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法
としては当業界でよく知られているように硫黄増感法、
セレン増感法、テルル増感法を用いることができる。ま
た金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の
貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。硫黄
増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いら
れる化合物としては公知の化合物を用いることができる
が、特開平7−128768号等に記載の化合物を使用
することができる。テルル増感剤としては例えばジアシ
ルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テルリド類、
ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテルリド
類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビス(カ
ルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有する化合
物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテルロカ
ルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テルリド
類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロスルホ
ナート類、P−Te結合を有する化合物、含Teヘテロ
環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合物、コ
ロイド状テルルなどを用いることができる。貴金属増感
法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩化金
酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシ
アネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特許第
2,448,060号、英国特許第618,061号な
どに記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。
The silver halide grains used in the present invention are preferably chemically sensitized. Preferred chemical sensitization methods are sulfur sensitization, as is well known in the art,
Selenium sensitization and tellurium sensitization can be used. Further, a noble metal sensitization method or a reduction sensitization method of a gold compound, platinum, palladium, an iridium compound or the like can be used. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method, known compounds can be used, and the compounds described in JP-A-7-128768 can be used. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides,
Bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, compounds having a P = Te bond, tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, Use of (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, Te-containing heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, etc. Can be. Compounds preferably used for the noble metal sensitization method include, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, US Pat. No. 2,448,060, British Patent No. 618,061 and the like. Can be preferably used.

【0164】還元増感法の具体的な化合物としてはアス
コルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上また
はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還
元増感することができる。また、粒子形成中に銀イオン
のシングルアディション部分を導入することにより還元
増感することができる。
As specific compounds for the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like are used. be able to. Further, reduction sensitization can be achieved by ripening the emulsion while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or the pAg at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.

【0165】本発明に用いられる有機銀塩は還元可能な
銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸で
ある。本発明において用いられる有機酸としては、脂肪
族カルボン酸、炭素環式カルボン酸、複素環式カルボン
酸、複素環式化合物等があるが、特に長鎖(10〜3
0、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族カル
ボン酸及び含窒素複素環を有する複素環式カルボン酸等
が好ましく用いられる。また、配位子が4.0〜10.
0の銀イオンに対する総安定定数を有する有機銀塩錯体
も有用である。
The organic silver salt used in the present invention is a reducible silver source, and is an organic acid containing a reducible silver ion source. Examples of the organic acid used in the present invention include an aliphatic carboxylic acid, a carbocyclic carboxylic acid, a heterocyclic carboxylic acid, and a heterocyclic compound.
An aliphatic carboxylic acid having 0, preferably 15 to 25 carbon atoms) and a heterocyclic carboxylic acid having a nitrogen-containing heterocyclic ring are preferably used. Moreover, when the ligand is 4.0-10.
Organic silver salt complexes having a total stability constant for silver ions of 0 are also useful.

【0166】本発明に用いられる有機酸銀塩の例として
は、Research Disclosure第170
29及び29963に記載されており、次のものがあ
る:脂肪酸の銀塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘ
ン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラ
ウリン酸等の銀塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素
塩(例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿
素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチ
ルチオ尿素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カ
ルボン酸との重合反応生成物の銀錯体(例えば、アルデ
ヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチル
アルデヒド等)とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸類
(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキ
シ安息香酸、5,5−チオジサリチル酸等)との重合反
応生成物の銀錯体等)、チオン類の銀塩または錯体(例
えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシ
メチル−4−チアゾリン−2−チオン、及び3−カルボ
キシメチル−4−チアゾリン−2−チオン)、イミダゾ
ール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾー
ル及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジル
チオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾー
ルから選択される窒素酸と銀との錯体また塩;サッカリ
ン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメ
ルカプチド類の銀塩。上記記載の有機銀塩の中でも、脂
肪酸の銀塩が好ましく用いられ、更に好ましく用いられ
るのは、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀およびステアリン
酸銀である。
Examples of the silver salt of an organic acid used in the present invention include Research Disclosure No. 170.
And silver salts of fatty acids (eg, silver salts of gallic acid, oxalic acid, behenic acid, arachidic acid, stearic acid, palmitic acid, lauric acid, etc.); Carboxyalkylthiourea salts (eg, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea); polymerization reaction products of aldehydes and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (E.g., aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.) and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (e.g., salicylic acid, benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid, etc.) Silver complex or the like of a polymerization reaction product of), a silver salt or complex of a thione (for example, 3- (2-carbo) (Silethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thione and 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2-thione), imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, -Amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benzotriazole, and complexes and salts of silver with nitrogen acids; silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides . Among the organic silver salts described above, silver salts of fatty acids are preferably used, and silver behenate, silver arachidate and silver stearate are more preferably used.

【0167】本発明に用いられる水系有機銀塩の分散物
は、硝酸銀と有機酸アルカリ金属塩を混合することによ
り得られるが、有機銀塩生成時に硝酸銀とハロゲン化銀
を同時に添加、混合する同時混合法を用いて製造される
のが好ましい。
The dispersion of the aqueous organic silver salt used in the present invention can be obtained by mixing silver nitrate and an organic acid alkali metal salt. At the same time, silver nitrate and silver halide are added and mixed simultaneously when the organic silver salt is formed. It is preferably produced using a mixing method.

【0168】例えば、有機酸にアルカリ金属水酸化物
(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)を
加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、ベヘン酸
ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を作製した
後に、コントロールドダブルジェット法を用いて、硝酸
銀とハロゲン化銀を同時に添加、混合して本発明に用い
られる水系有機銀塩分散物を作製する事が出来る。
For example, an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium behenate, sodium arachidate, etc.) is prepared by adding an alkali metal hydroxide (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) to an organic acid. By using a controlled double jet method, silver nitrate and silver halide can be simultaneously added and mixed to prepare an aqueous organic silver salt dispersion used in the present invention.

【0169】更に、有機酸のアルカリ金属塩、硝酸銀及
びハロゲン化銀を各々、同時に添加、混合するいわゆる
コントロールドトリプルジェット法を用いて本発明に用
いられる水系有機銀塩分散物を作製することができる。
Further, the aqueous organic silver salt dispersion used in the present invention can be prepared by a so-called controlled triple jet method in which an alkali metal salt of an organic acid, silver nitrate and silver halide are simultaneously added and mixed, respectively. it can.

【0170】本発明においては、生産工程上の簡便性の
観点からは、上記のコントロールドダブルジェット法を
用いた水系有機銀塩分散物の製造方法が好ましく用いら
れる。また、高感度の熱現像感光材料を製造する観点か
らは、上記のコントロールドトリプルジェット法を用い
た水系有機銀塩分散物の製造方法が好ましく用いられ
る。
In the present invention, the method for producing an aqueous organic silver salt dispersion using the above-described controlled double jet method is preferably used from the viewpoint of simplicity in the production process. From the viewpoint of producing a high-sensitivity photothermographic material, the method for producing an aqueous organic silver salt dispersion using the above-described controlled triple jet method is preferably used.

【0171】本発明の熱現像感光材料には還元剤を含有
する。好適な還元剤の例は、米国特許第3,770,4
48号、同第3,773,512号、同第3,593,
863号、及びResearch Disclosur
e第17029及び29963に記載されており、次の
ものがある。アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ−2−シクロヘキ
セノン);還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類
(reductones)エステル(例えば、ピペリジ
ノヘキソースリダクトンモノアセテート);N−ヒドロ
キシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニル−N
−ヒドロキシ尿素);アルデヒドまたはケトンのヒドラ
ゾン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒド
ラゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホスファー
アミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類(例え
ば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、イソプ
ロピルヒドロキノン及び(2,5−ジヒドロキシ−フェ
ニル)メチルスルホン);スルフヒドロキサム酸類(例
えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);スルホンアミ
ドアニリン類(例えば、4−(N−メタンスルホンアミ
ド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒドロキノン類
(例えば、2−メチル−5−(1−フェニル−5−テト
ラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒドロキノキサ
リン類(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロキノキ
サリン);アミドオキシム類(例えば、フェニルアミド
オキシム、2−チエニルアミドオキシム);アジン類
(例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラザイド類と
アスコルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼ
ンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リダクトン及び
/またはヒドラジン;ヒドロキサム酸類;アジン類とス
ルホンアミドフェノール類の組み合わせ;α−シアノフ
ェニル酢酸誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジ
ヒドロキシベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロ
ン類;スルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニル
インダン−1,3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒ
ドロピリジン類(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5
−ジカルボエトキシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビ
スフェノール類(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−
t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、ビス(6−
ヒドロキシ−m−トリ)メシトール(mesito
l)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)プロパン、4,5−エチリデン−ビス(2−t−
ブチル−6−メチル)フェノール)、紫外線感応性アス
コルビン酸誘導体及び3−ピラゾリドン類。中でも特に
好ましい還元剤はヒンダードフェノール類である。ヒン
ダードフェノール類としては下記一般式(A)で表され
る化合物が挙げられる。
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent. Examples of suitable reducing agents are described in US Pat. No. 3,770,4.
No. 48, No. 3,773, 512, No. 3,593,
No. 863 and Research Disclosur
e, Nos. 17029 and 29996, and include: Aminohydroxycycloalkenonone compounds (eg, 2-hydroxypiperidino-2-cyclohexenone); aminoreductones esters (eg, piperidinohexose reductone monoacetate) as precursors of reducing agents; N- Hydroxyurea derivatives (for example, Np-methylphenyl-N
Hydrazones of aldehydes or ketones (eg, anthracenaldehyde phenylhydrazone); phosphoramidophenols; phosphoramidoanilines; polyhydroxybenzenes (eg, hydroquinone, t-butyl-hydroquinone, isopropylhydroquinone and (2,5-dihydroxy-phenyl) methylsulfone); sulfhydroxamic acids (for example, benzenesulfhydroxamic acid); sulfonamidoanilines (for example, 4- (N-methanesulfonamido) aniline); 2-tetrazoli Ruthiohydroquinones (eg, 2-methyl-5- (1-phenyl-5-tetrazolylthio) hydroquinone); tetrahydroquinoxalines (eg, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline); Sims (e.g., phenylamidoxime, 2-thienylamidoxime); Azines (e.g., a combination of aryl hydrazides of aliphatic carboxylic acids and ascorbic acid); Combinations of polyhydroxybenzene and hydroxylamine, reductone and / or hydrazine Hydroxamic acids; combinations of azines and sulfonamidophenols; α-cyanophenylacetic acid derivatives; combinations of bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives; 5-pyrazolones; sulfonamidophenol reducing agents; Phenylindan-1,3-dione and the like; chroman; 1,4-dihydropyridines (for example, 2,6-dimethoxy-3,5
-Dicarbethoxy-1,4-dihydropyridine); bisphenols (for example, bis (2-hydroxy-3-
t-butyl-5-methylphenyl) methane, bis (6-
Hydroxy-m-tri) mesitol
l), 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,5-ethylidene-bis (2-t-
Butyl-6-methyl) phenol), ultraviolet-sensitive ascorbic acid derivatives and 3-pyrazolidones. Among them, particularly preferred reducing agents are hindered phenols. Examples of the hindered phenols include compounds represented by the following general formula (A).

【0172】[0172]

【化64】 Embedded image

【0173】式中、Rは水素原子または炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、ブチル基、2,4,4−ト
リメチルペンチル基等)を表し、R′及びR″は炭素原
子数1〜5のアルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、t−ブチル基等)を表す。
In the formula, R is a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms.
Represents an alkyl group of 10 (eg, butyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, etc.), and R ′ and R ″ represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, t- Butyl group).

【0174】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、これらに限定されな
い。
Specific examples of the compound represented by formula (A) are shown below. However, the present invention is not limited to these.

【0175】[0175]

【化65】 Embedded image

【0176】[0176]

【化66】 Embedded image

【0177】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
The amount of the reducing agent including the compound represented by the formula (A) is preferably 1 × 1 per mol of silver.
It is from 0 -2 to 10 mol, especially from 1 x 10 -2 to 1.5 mol.

【0178】本発明の熱現像感光材料中にはカブリ防止
剤が含まれて良い。有効なカブリ防止剤として知られて
いるものは水銀イオンであり、感光材料中にカブリ防止
剤として水銀化合物を使用することについては、例えば
米国特許第3,589,903号に開示されている。し
かし、水銀化合物は環境的に好ましくないので、例えば
米国特許第4,546,075号及び同第4,452,
885号及び特開昭59−57234号に開示されてい
る様な非水銀カブリ防止剤が本発明においては好ましく
用いられる。
The photothermographic material of the present invention may contain an antifoggant. Known as an effective antifoggant is mercury ion, and the use of a mercury compound as an antifoggant in a light-sensitive material is disclosed in, for example, US Pat. No. 3,589,903. However, mercury compounds are environmentally unfavorable and are, for example, disclosed in U.S. Patent Nos. 4,546,075 and 4,452.
Non-mercury antifoggants such as those disclosed in JP-A-885-85 and JP-A-59-57234 are preferably used in the present invention.

【0179】特に好ましい非水銀カブリ防止剤として
は、米国特許第3,874,946号及び同第4,75
6,999号に開示されているような化合物、−C(X
1)(X2)(X3)(ここでX1及びX2はハロゲン原子
を表し、X3は水素またはハロゲン原子を表す)で表さ
れる置換基を1以上備えたヘテロ環状化合物が挙げられ
る。
Particularly preferred non-mercury antifoggants include US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,753.
No. 6,999, the compound -C (X
1 ) Heterocyclic compounds having at least one substituent represented by (X 2 ) (X 3 ) (where X 1 and X 2 each represent a halogen atom, and X 3 represents hydrogen or a halogen atom). Can be

【0180】また、その他に好適なカブリ防止剤として
は、特開平9−288328号の段落番号〔0030〕
〜〔0036〕に記載されている化合物、特開平9−9
0550号の段落番号〔0062〕〜〔0063〕に記
載されている化合物、米国特許第5,028,523号
及び欧州特許第600,587号、同第605,981
号、同第631,176号等に開示の化合物等を用いる
ことが出来る。
Other suitable antifoggants include paragraph No. [0030] of JP-A-9-288328.
To [0036], JP-A-9-9
Compounds described in paragraph Nos. [0062] to [0063] of US Pat. No. 0550, US Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587 and 605,981.
Nos. 631,176 and the like can be used.

【0181】本発明の熱現像感光材料には、現像後の銀
色調を改良する目的で色調剤を添加することが好まし
い。好適な色調剤の例はResearch Discl
osure第17029号に開示されており、次のもの
がある。
It is preferable to add a toning agent to the photothermographic material of the present invention for the purpose of improving the silver tone after development. Examples of suitable toning agents are Research Discl
No. 17029, which includes the following:

【0182】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウムま
たは8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナト
リウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラ
ジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水
物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸ま
たはo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、
フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なく
とも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン
類、ベンゾオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンゾ
オキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベン
ゾオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不
斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、
3,6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4
H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好
ましい色調剤としてはフタラゾンまたはフタラジンであ
る。
Imides (for example, phthalimide); cyclic imides, pyrazolin-5-ones and quinazolinones (for example, succinimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2 , 4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, hexamine trifluoroacetate of cobalt); mercaptans (eg, 3
-Mercapto-1,2,4-triazole); N- (aminomethyl) aryldicarboximides (for example,
N- (dimethylaminomethyl) phthalimide); blocked pyrazoles, isothiuronium (isoth
uronium) derivatives and certain photobleaches (eg, N, N'-hexamethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8-
A combination of (3,6-dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole; a merocyanine dye (e.g., 3-ethyl-5-((3-ethyl -2-benzothiazolinylidene (benzothiazolinylidene))-1-methylethylidene) -2-thio-2,4
Oxazolidinedione); phthalazinone, a phthalazinone derivative or a metal salt of these derivatives (for example, 4-
(1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3
-Dihydro-1,4-phthalazinedione); a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (for example, 6-chlorophthalazinone + sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone + sodium p-trisulfonate); phthalazine + phthalate Combinations of acids; phthalazine (including adducts of phthalazine) and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (for example,
Combination with at least one compound selected from phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride; quinazolinediones, benzoxazine, naloxazine derivatives; benzoxazine-2,4-dione (Eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione); pyrimidines and asymmetric-triazines (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine), and tetraazapentalene derivatives (eg,
3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4
H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene). Preferred toning agents are phthalazone or phthalazine.

【0183】本発明の熱現像感光材料には、例えば特開
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
第4,639,414号、同第4,740,455号、
同第4,741,966号、同第4,751,175
号、同第4,835,096号に記載された増感色素が
使用できる。
The photothermographic materials of the present invention include, for example, JP-A-63-159814, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651 and JP-A-6-259351.
3-304242, 63-15245, U.S. Pat. Nos. 4,639,414 and 4,740,455,
Nos. 4,741,966 and 4,751,175
No. 4,835,096.

【0184】本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばResearch Disclosure Item
17643IV−A項(1978年12月p.23)、同
Item18431(1979年8月p.437)等に
記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各
種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する
増感色素を有利に選択することができる。例えば特開平
9−34078号、同9−54409号、同9−806
79号記載の化合物が好ましく用いられる。
Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, Research Disclosure Item
17643 IV-A (p. 23, December 1978), and Item 18431 (p. 437, August 1979), etc. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, JP-A-9-34078, JP-A-9-54409, and JP-A-9-806
The compounds described in No. 79 are preferably used.

【0185】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどに芳香環或いは複
素芳香環メルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオ
ン化合物を含有させることができる。
In the present invention, an aromatic or heteroaromatic mercapto compound, a disulfide compound or the like is used in order to control the development by suppressing or accelerating the development, to improve the spectral sensitization efficiency, and to improve the storage stability before and after the development. , A thione compound.

【0186】本発明に用いられるメルカプト化合物とし
ては、Ar−SM、Ar−S−S−Arで表されるもの
が好ましい。式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原
子であり、Arは1個以上の窒素、イオウ、酸素、セレ
ニウムまたはテルリウム原子を有する芳香環または複素
芳香環を表す。
As the mercapto compound used in the present invention, those represented by Ar-SM and Ar-SS-Ar are preferable. In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar represents an aromatic ring or a heteroaromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms.

【0187】本発明においては複素芳香族環が好ましく
用いられる。複素芳香族環としては、例えばベンゾイミ
ダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナ
フトチアゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾ
ール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミ
ダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、
チアジアゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリ
ンまたはキナゾリノンである。この複素芳香族環は、例
えば、ハロゲン原子(例えば、BrおよびCl等)、ヒ
ドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、アルキル基(例
えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素
原子を有するもの)およびアルコキシル基(例えば、1
個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有
するもの)からなる置換基群から選択されるものを有し
てもよい。メルカプト置換複素芳香族化合物としては、
2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベ
ンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、
2−メルカプト−5−メチルベンゾチアゾール、3−メ
ルカプト−1,2,4−トリアゾール、2−メルカプト
キノリン、8−メルカプトプリン、2,3,5,6−テ
トラクロロ−4−ピリジンチオール、4−ヒドロキシ−
2−メルカプトピリミジン、2−メルカプト−4−フェ
ニルオキサゾールなどが挙げられるが、本発明はこれら
に限定されない。
In the present invention, a heteroaromatic ring is preferably used. As the heteroaromatic ring, for example, benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole,
Thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (for example, Br and Cl), a hydroxy group, an amino group, a carboxy group, an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). And an alkoxyl group (for example, 1
At least one carbon atom, preferably one having 1 to 4 carbon atoms). As mercapto-substituted heteroaromatic compounds,
2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole,
2-mercapto-5-methylbenzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4- Hydroxy-
Examples thereof include 2-mercaptopyrimidine and 2-mercapto-4-phenyloxazole, but the present invention is not limited thereto.

【0188】本発明においては、感光層側にマット剤を
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のためには感光材料の表面にマット剤を配することが好
ましく、そのマット剤を乳剤層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
In the present invention, a matting agent is preferably contained on the photosensitive layer side. In order to prevent damage to the image after thermal development, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material. Is preferably contained in a weight ratio of 0.5 to 30% based on all binders on the emulsion layer side.

【0189】本発明に用いられるマット剤の材質は有機
物及び無機物のいずれでもよい。
The material of the matting agent used in the present invention may be either an organic substance or an inorganic substance.

【0190】例えば、無機物としては、スイス特許第3
30,158号等に記載のシリカ、仏国特許第1,29
6,995号等に記載のガラス粉、英国特許第1,17
3,181号等に記載のアルカリ土類金属またはカドミ
ウム、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用いることが
できる。有機物としては、米国特許第2,322,03
7号等に記載の澱粉、ベルギー特許第625,451号
や英国特許第981,198号等に記載された澱粉誘導
体、特公昭44−3643号等に記載のポリビニルアル
コール、スイス特許第330,158号等に記載のポリ
スチレン或いはポリメタクリレート、米国特許第3,0
79,257号等に記載のポリアクリロニトリル、米国
特許第3,022,169号等に記載されたポリカーボ
ネートの様な有機マット剤を用いることができる。
For example, as the inorganic substance, Swiss Patent No. 3
Silica described in No. 30,158, French Patent No. 1,29
No. 6,995, etc., British Patent No. 1,17
Alkaline earth metals or carbonates such as cadmium and zinc described in 3,181 and the like can be used as a matting agent. As organic substances, US Pat. No. 2,322,03
7, starch derivatives described in Belgian Patent No. 625,451 and British Patent No. 981,198, polyvinyl alcohol described in Japanese Patent Publication No. 44-3643, and Swiss Patent No. 330,158. Polystyrene or polymethacrylate described in U.S. Pat.
Organic matting agents such as polyacrylonitrile described in No. 79,257 and polycarbonate described in U.S. Pat. No. 3,022,169 can be used.

【0191】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
The shape of the matting agent may be either regular or irregular, but is preferably regular and spherical. The size of the matting agent is represented by a diameter when the volume of the matting agent is converted into a sphere. In the present invention, the particle diameter of the matting agent indicates the diameter converted into a sphere.

【0192】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好まし
くは30%以下となるマット剤である。
The matting agent used in the present invention preferably has an average particle size of 0.5 μm to 10 μm, more preferably 1.0 μm to 8.0 μm. The matting agent has a coefficient of variation of the particle size distribution of preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less.

【0193】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
Here, the coefficient of variation of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

【0194】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 本発明に用いられるマット剤は任意の構成層中に含むこ
とができるが、本発明の目的を達成するためには好まし
くは感光性層以外の構成層であり、更に好ましくは支持
体から見て最も外側の層である。
(Standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100 The matting agent used in the present invention can be contained in any constituent layer, but in order to achieve the object of the present invention, It is preferably a constituent layer other than the photosensitive layer, and more preferably the outermost layer as viewed from the support.

【0195】本発明に用いられるマット剤の添加方法
は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっても
よいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマ
ット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用しても
よい。
The method for adding the matting agent used in the present invention may be a method in which the matting agent is dispersed in a coating solution in advance and the matting agent may be sprayed after the coating solution is applied and before the drying is completed. May be used. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used in combination.

【0196】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれる。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be contained in the constituent layer in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably contained in an undercoat layer, a backing layer, a layer between the photosensitive layer and the undercoat, and the like.

【0197】本発明においては米国特許第5,244,
773号カラム14〜20に記載された導電性化合物が
好ましく用いられる。
In the present invention, US Pat.
The conductive compounds described in No. 773 columns 14 to 20 are preferably used.

【0198】各種の添加剤は感光性層、非感光性層、ま
たはその他の構成層のいずれに添加しても良い。本発明
の熱現像感光材料には上述した以外に例えば、界面活性
剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被
覆助剤等を用いても良い。これらの添加剤及び上述した
その他の添加剤はResearch Disclosu
re Item17029(1978年6月、p.9〜
15)に記載されている化合物を好ましく用いることが
できる。
Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other constituent layers. In the photothermographic material of the present invention, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a coating aid, and the like may be used in addition to the above. These additives and the other additives mentioned above are used in Research Disclosure.
re Item 17029 (June 1978, p. 9-
The compound described in 15) can be preferably used.

【0199】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィル
ムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、
ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水
性でも非親水性でもよい。また感光材料の表面を保護し
たり擦り傷を防止するために、感光性層の外側に非感光
性層を有することができる。これらの非感光性層に用い
られるバインダーは感光性層に用いられるバインダーと
同じ種類でも異なった種類でもよい。
Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic,
Poly (vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid) ), Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (ester) ), Poly (urethane), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxide),
Poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate),
There are cellulose esters and poly (amides). It may be hydrophilic or non-hydrophilic. In order to protect the surface of the light-sensitive material and prevent abrasion, a non-light-sensitive layer may be provided outside the light-sensitive layer. The binder used for these non-photosensitive layers may be the same as or different from the binder used for the photosensitive layers.

【0200】本発明においては、バインダー量は感光層
と保護層を含めた感光層側の全素材付量の5〜90wt
%が好ましく、0.5〜20g/m2であることが好ま
しく、バック層についても同じ範囲が好まく用いられ
る。バインダーや各素材を含めた全付量は片面当り1〜
30g/m2が好ましい。
In the present invention, the amount of the binder is 5 to 90 wt% of the total amount of the material on the photosensitive layer side including the photosensitive layer and the protective layer.
%, Preferably 0.5 to 20 g / m 2 , and the same range is preferably used for the back layer. The total weight including binder and each material is 1 to 1 per side
30 g / m 2 is preferred.

【0201】更に、本発明においては、熱現像の速度を
速めるために感光層のバインダー量が1.5〜10g/
2であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜
8g/m2である。
Further, in the present invention, in order to increase the speed of thermal development, the amount of binder in the photosensitive layer is 1.5 to 10 g / g.
m 2 is preferred. More preferably 1.7 to
8 g / m 2 .

【0202】本発明で用いられる支持体は現像処理後の
画像の変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポ
リエチレンナフタレート)であることが好ましい。
The support used in the present invention may be a plastic film (for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, or the like) for preventing image deformation after the development processing.
Polyimide, nylon, cellulose triacetate, polyethylene naphthalate) are preferred.

【0203】その中でも好ましい支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられ
る。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ま
しくは70〜180μmである。
Among them, a preferred support is a support made of polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) and a plastic (hereinafter abbreviated as SPS) containing a styrene polymer having a syndiotactic structure. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

【0204】また熱処理したプラスチック支持体を用い
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光性層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、
好ましくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。
A heat-treated plastic support can also be used. The plastics to be employed include the above-mentioned plastics. The heat treatment of the support means that after forming these supports and before the photosensitive layer is applied, at a temperature higher than the glass transition point of the support by 30 ° C. or more,
Preferably at a temperature higher than 35 ° C., more preferably 40 ° C.
It is preferable to heat at a temperature higher than ℃. However, the effect of the present invention cannot be obtained by heating at a temperature exceeding the melting point of the support.

【0205】次に用いられるプラスチックについて説明
する。
Next, the plastic used will be described.

【0206】PETはポリエステルの成分が全てポリエ
チレンテレフタレートからなるものであるが、ポリエチ
レンテレフタレート以外に、酸成分としてテレフタル
酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸、イソフタル
酸、ブチレンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソ
フタル酸、アジピン酸等と、グリコール成分としてエチ
レングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオー
ル、シクロヘキサンジメタノール等との変性ポリエステ
ル成分が全ポリエステルの10モル%以下含まれたポリ
エステルであってもよい。
In PET, all the polyester components are made of polyethylene terephthalate. In addition to polyethylene terephthalate, terephthalic acid, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, isophthalic acid, butylene dicarboxylic acid, and 5-sodium sulfo acid are used as acid components. A polyester containing a modified polyester component of isophthalic acid, adipic acid or the like and a glycol component such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, cyclohexanedimethanol or the like in an amount of 10 mol% or less of the entire polyester may be used.

【0207】SPSは通常のポリスチレン(アタクチッ
クポリスチレン)と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。SPSの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、2連鎖、3連鎖、5連鎖、あるい
はそれ以上と規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、2連鎖で85%以
上、3連鎖で75%以上、5連鎖で50%以上、それ以
上の連鎖で30%以上であることが好ましい。SPSの
重合は特開平3−131843号明細書記載の方法に準
じて行うことが出来る。
SPS is polystyrene having steric regularity unlike ordinary polystyrene (atactic polystyrene). The regular stereoregular structure part of SPS is called a racemo chain, and it is preferable that there are more regular parts such as two, three, five or more. In the present invention, the racemo chain is 2 It is preferably 85% or more in the chain, 75% or more in the three chains, 50% or more in the five chains, and 30% or more in the further chains. The polymerization of SPS can be carried out according to the method described in JP-A-3-131843.

【0208】本発明に用いられる支持体の製膜方法及び
下引製造方法は公知の方法を用いることができるが、好
ましくは、特開平9−50094号の段落〔0030〕
〜〔0070〕に記載された方法を用いることである。
As the method of forming a support and the method of producing an undercoat used in the present invention, known methods can be used, and preferably, paragraph [0030] of JP-A-9-50094 is used.
To [0070].

【0209】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材
料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしに進行する。
The photothermographic material of the present invention, which forms a photographic image by a heat development process, comprises a reducible silver source (organic silver salt), a photosensitive silver halide, a reducing agent and, if necessary, silver. It is preferable that the photothermographic material contains a color toning agent which suppresses the color tone of the present invention in a state of being usually dispersed in an (organic) binder matrix. The photothermographic material of the present invention is stable at room temperature, but is exposed to high temperature (for example,
(0 ° C.). Heating generates silver through an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This oxidation-reduction reaction is accelerated by the catalytic action of the latent image generated on the silver halide upon exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image. This reaction process proceeds without supplying a processing liquid such as water from the outside.

【0210】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも1層の感光性層を有している。支持体の上に感光
性層のみを形成しても良いが、感光性層の上に少なくと
も1層の非感光性層を形成することが好ましい。感光性
層に通過する光の量または波長分布を制御するために感
光性層と同じ側にフィルター染料層および/または反対
側にアンチハレーション染料層、いわゆるバッキング層
を形成しても良いし、感光性層に染料または顔料を含ま
せても良い。用いられる染料としては所望の波長範囲で
目的の吸収を有するものであればいかなる化合物でも良
いが、例えば特開昭59−6481号、特開昭59−1
82436号、米国特許第4,271,263号、米国
特許第4,594,312号、欧州特許公開533,0
08号、欧州特許公開652,473号、特開平2−2
16140号、特開平4−348339号、特開平7−
191432号、特開平7−301890号などの記載
の化合物が好ましく用いられる。
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only a photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. To control the amount or wavelength distribution of light passing through the photosensitive layer, a filter dye layer on the same side as the photosensitive layer and / or an antihalation dye layer, a so-called backing layer, may be formed on the opposite side. A dye or pigment may be included in the active layer. As the dye to be used, any compound may be used as long as it has a desired absorption in a desired wavelength range, and examples thereof include JP-A-59-6481 and JP-A-59-1.
No. 82436, U.S. Pat. No. 4,271,263, U.S. Pat. No. 4,594,312, European Patent Publication 533,0
08, European Patent Publication 652,473, JP-A-2-2-2
No. 16140, JP-A-4-348339, JP-A-7-
Compounds described in JP-A-191432 and JP-A-7-301890 are preferably used.

【0211】またこれらの非感光性層には前記のバイン
ダーやマット剤を含有することが好ましく、さらにポリ
シロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのような
スベリ剤を含有してもよい。
These non-photosensitive layers preferably contain the binder or matting agent described above, and may further contain a slip agent such as a polysiloxane compound, wax or liquid paraffin.

【0212】感光性層は複数層にしても良く、また階調
の調節のため感度を高感層/低感層または低感層/高感
層にしても良い。
The light-sensitive layer may be composed of a plurality of layers, and the sensitivity may be changed to a high-sensitive layer / low-sensitive layer or a low-sensitive layer / high-sensitive layer for adjusting the gradation.

【0213】熱現像感光材料の詳細は前述のとおり例え
ば米国特許第3,152,904号、同第3,457,
075号、及びD.モーガン(Morgan)による
「ドライシルバー写真材料(Dry Silver P
hotographic Material)」やD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shel
y)による「熱によって処理される銀システム(The
rmally Processed Silver S
ystems)」(イメージング・プロセッシーズ・ア
ンド・マテリアルズ(Imaging Process
es and Materials)Neblette
第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワ
ース(Walworth)、A.シェップ(Shep
p)編集、第2頁、1969年)等に開示されている。
その中でも本発明においては、感光材料を80〜140
℃で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わない
ことが特徴である。そのため、未露光部に残ったハロゲ
ン化銀や有機銀塩は除去されずにそのまま感光材料中に
残る。
The details of the photothermographic material are described in, for example, US Pat. Nos. 3,152,904 and 3,457,
No. 075, and D.A. “Dry Silver Photographic Materials (Dry Silver P) by Morgan
photographic Material) ”and D.C.
Morgan and B.A. Shelley
y) "Heat treated silver system (The
rally Processed Silver S
systems) "(Imaging Processes and Materials)
es and Materials) Neblette
Eighth Edition, Sturge, V.S. Walworth, A .; Shep
p) Edit, page 2, 1969).
Among them, in the present invention, the photosensitive material is 80 to 140
It is characterized in that an image is formed by heat development at a temperature of ° C. and no fixing is performed. Therefore, the silver halide and the organic silver salt remaining in the unexposed area remain in the photosensitive material without being removed.

【0214】本発明においては、熱現像処理した後の、
400nmにおける支持体を含んだ感光材料の光学透過
濃度が0.2以下であることが好ましい。光学透過濃度
の更に好ましい値は0.02以上0.2以下である。
In the present invention, after the heat development,
The optical transmission density of the light-sensitive material containing the support at 400 nm is preferably 0.2 or less. A more preferable value of the optical transmission density is 0.02 or more and 0.2 or less.

【0215】[0215]

【実施例】以下本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれにより限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0216】実施例1 〈PET支持体の作製〉PETペレットを130℃で4
時間乾燥した後、300℃で溶融後T型ダイから押し出
した後急冷し、未延伸のフィルムを作製した。これを周
速の異なるロールを用い3.0倍に縦延伸、ついでテン
ターで4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそ
れぞれ110℃、130℃であった。この後、240℃
で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和
した。この後テンターのチャック部をスリッターした
後、両端にナール加工を行い、4kg/cm2で巻き取
った。このようにして巾2.4m、長さ800m、厚み
100μmのPETフィルムのロールを得た。PETも
ガラス転移点は79℃であった。
Example 1 <Preparation of PET support> PET pellets were
After drying for an hour, it was melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and quenched to prepare an unstretched film. This was longitudinally stretched 3.0 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After this, 240 ° C
After heat setting for 20 seconds, the film was relaxed 4% in the horizontal direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slitter, and both ends were knurled and wound at 4 kg / cm 2 . Thus, a roll of a PET film having a width of 2.4 m, a length of 800 m and a thickness of 100 μm was obtained. PET also had a glass transition point of 79 ° C.

【0217】上記のようにして作製した2軸延伸熱固定
済みの厚さ100μmの厚みをもったPETフィルム支
持体の両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を施し、
一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μm
になるように塗設し乾燥させて下引層A−1とし、また
反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布液b−1を
乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥させて帯電
防止加工下引層B−1とした。
A biaxially stretched heat-fixed PET film support having a thickness of 100 μm and having a thickness of 100 μm was subjected to a corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min.
On one surface, the following undercoating coating solution a-1 was dried to a thickness of 0.8 μm.
And then dried to form an undercoat layer A-1. On the other side, an undercoat coating solution b-1 which has been subjected to the following antistatic treatment is applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm. The resultant was dried to obtain an antistatic subbing layer B-1.

【0218】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%)、 t−ブチルアクリレート(20重量%)、スチレン(25重量%)、 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25重量%)の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1リットルに仕上げる 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30重量%)、スチレン(20重量%)、 グリシジルアクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1リットルに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引上層A−2として、下引層B−1の上に
は下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmにな
る様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
<< Undercoat Coating Solution a-1 >> Co-weight of butyl acrylate (30% by weight), t-butyl acrylate (20% by weight), styrene (25% by weight), and 2-hydroxyethyl acrylate (25% by weight) Combined latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g Polystyrene fine particles (average particle size 3 μm) 0.05 g Colloidal silica (average particle size) (90 μm) 0.1 g Finished to 1 liter with water << Undercoat coating solution b-1 >> SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.18 μm) Amount to become 200 mg / m 2 Butyl acrylate (30 weight %), Styrene (20% by weight), glycidyl acrylate (40% by weight) copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) .6g hexamethylene-1,6-bis (ethyleneurea) subsequently finished in 0.8g water to 1 liter, the undercoat layer A-1 and the upper surface undercoat layer B-1,
A corona discharge of 8 W / m 2 · min. Was performed, and the following lower coating liquid a-2 was coated on the lower coating layer A-1 with a dry film thickness of 0.1 μm.
The lower coating layer B-2 is coated with the following coating liquid b-2 on the lower coating layer B-1 so as to have a dry film thickness of 0.8 μm. Coated as B-2.

【0219】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1リットルに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1リットルに仕上げる<< Coating Solution a-2 for Subbing Upper Layer >> Gelatin 0.4 g / m 2 Weight (C-1) 0.2 g (C-2) 0.2 g (C-3) 0.1 g Silica particles ( (Average particle size: 3 μm) 0.1 g Finished to 1 liter with water << Lower coating solution for upper layer b-2 >> (C-4) 60 g Latex liquid containing (C-5) as a component (solid content: 20%) 80 g Ammonium sulfate 0 0.5 g (C-6) 12 g Polyethylene glycol (weight average molecular weight 600) 6 g Finish to 1 liter with water

【0220】[0220]

【化67】 Embedded image

【0221】[0221]

【化68】 Embedded image

【0222】(支持体の熱処理)上記の5種類の下引済
み支持体の下引乾燥工程において、支持体を140℃で
加熱し、その後徐々に冷却した。
(Heat Treatment of Support) In the above-mentioned undercoat drying step of the five types of undercoated support, the support was heated at 140 ° C. and then gradually cooled.

【0223】(ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900m
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウム、臭化カリウムと沃
化カリウム(硝酸銀と当モル量)及びK2〔Ir(N
O)Cl5〕を銀1モル当たり1×10-6モル及び塩化
ロジウム塩を銀1モル当たり1×10-6モルを含む水溶
液370mlを、pAg7.7に保ちながらコントロー
ルドダブルジェット法で添加した。その後4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
を添加しNaOHでpHを8、pAg6.5に調整する
ことで還元増感を行い平均粒子サイズ0.06μm、単
分散度10%の投影直径面積の変動係数8%、〔10
0〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳
剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フ
ェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、pA
g7.5に調整して、ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
(Preparation of silver halide emulsion A) 900 m of water
7.5 g of inert gelatin and 10 ml of potassium bromide
mg, and adjusted to a temperature of 35 ° C. and a pH of 3.0, and 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate (60/3
8/2) molar ratio of sodium chloride, potassium bromide and potassium iodide (equimolar to silver nitrate) and K 2 [Ir (N
Added O) Cl 5] per mole silver 1 × 10 -6 mol and aqueous rhodium chloride salt containing 1 × 10 -6 mol per mol of silver 370 ml, by the controlled double jet method while maintaining the pAg7.7 did. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added, the pH was adjusted to 8 with NaOH, and the pAg was adjusted to 6.5 to perform reduction sensitization. The coefficient of variation of the projected diameter area with a dispersion degree of 10% is 8%, [10
0] Cubic silver iodobromide grains having an area ratio of 87% were obtained. This emulsion was subjected to coagulation sedimentation using a gelatin coagulant and desalting treatment, followed by addition of 0.1 g of phenoxyethanol, pH 5.9, pA
g was adjusted to 7.5 to obtain silver halide emulsion A.

【0224】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で撹
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
(Preparation of Na Behenate Solution) In 945 ml of pure water, 32.4 g of behenic acid, 9.9 g of arachidic acid and 5.6 g of stearic acid were dissolved at 90 ° C. Next, while stirring at a high speed, 98 ml of a 1.5 M aqueous sodium hydroxide solution
Was added. Next, 0.93 ml of concentrated nitric acid was added.
C. and stirred for 30 minutes to obtain a sodium behenate solution.

【0225】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレ
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハ
ロゲン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム
溶液でpH8.1に調整した後に1Mの硝酸銀溶液14
7mlを7分間かけて加え、さらに20分撹拌し限外濾
過により水溶性塩類を除去した。できたベヘン酸銀は平
均粒子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であっ
た。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6
回の水洗と水の除去を行った後乾燥させた。
(Preparation of Preform Emulsion of Silver Behenate and Silver Halide Emulsion A) 15.1 g of the silver halide emulsion A was added to the above sodium behenate solution, and the pH was adjusted to 8.1 with a sodium hydroxide solution. Later, 1M silver nitrate solution 14
7 ml was added over 7 minutes, the mixture was further stirred for 20 minutes, and water-soluble salts were removed by ultrafiltration. The resulting silver behenate was grains having an average grain size of 0.8 μm and a monodispersity of 8%. After the floc of the dispersion has formed, the water is removed and an additional 6
After washing with water and removing water several times, it was dried.

【0226】(感光性乳剤の調製)できあがったプレフ
ォーム乳剤を1/2に分割し、それにポリビニルブチラ
ール(平均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液
(17wt%)544gとトルエン107gを徐々に添
加して混合した後に、0.5mmサイズZrO2のビー
ズミルを用いたメディア分散機で4000psiで30
℃、10分間の分散を行った。
(Preparation of Photosensitive Emulsion) The preform emulsion thus prepared was divided into 、, and 544 g of a methyl ethyl ketone solution (17 wt%) of polyvinyl butyral (average molecular weight: 3000) and 107 g of toluene were gradually added and mixed. Later, the medium was dispersed at 4000 psi using a 0.5 mm size ZrO2 bead mill.
The dispersion was performed at 10 ° C. for 10 minutes.

【0227】支持体上にそれぞれ以下の各層を両面同時
塗布し、試料を作製した。尚、乾燥は60℃、15分間
で行った。
The following layers were simultaneously coated on both sides of the support to prepare samples. The drying was performed at 60 ° C. for 15 minutes.

【0228】(バック面側塗布)支持体のB−1層の上
に以下の組成の液を塗布した。
(Back surface side coating) A liquid having the following composition was coated on layer B-1 of the support.

【0229】 セルロースアセテートブチレート(10%メチルエチルケトン溶液) 15ml/m2 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 90mg/m2817(CH2CH2O)12817 50mg/m2917−C64−SO3Na 10mg/m Cellulose acetate butyrate (10% methyl ethyl ketone solution) 15 ml / m 2 dye-A 7 mg / m 2 dye-B 7 mg / m 2 Matting agent: monodispersity 15% average particle size 8 μm monodisperse silica 90 mg / m 2 C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 50mg / m 2 C 9 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 10mg / m 2

【0230】[0230]

【化69】 Embedded image

【0231】(感光層面側塗布) 感光層1:支持体のA−1層の上に以下の組成の液を塗
布銀量が2.4g/mになる様に塗布した。
(Coating on Photosensitive Layer Side) Photosensitive Layer 1: A solution having the following composition was coated on layer A-1 of the support so that the coated silver amount was 2.4 g / m 2 .

【0232】 前記感光性乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液)9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml ヒドラジン誘導体H−26 0.4g 硬調化促進剤P−51 0.3g フタラジン 0.6g 表1に示す一般式(1)また(2)記載の化合物 表1に記載の量 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2 −メチルプロパン(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物(モーベイ社製、Desmodur N3300) 0.5gThe above-mentioned photosensitive emulsion 240 g Sensitizing dye (0.1% methanol solution) 1.7 ml Pyridinium bromide perbromide (6% methanol solution) 3 ml Calcium bromide (0.1% methanol solution) 1.7 ml Oxidizing agent (10% methanol solution) 1.2 ml 2-4-chlorobenzoylbenzoic acid (12% methanol solution) 9.2 ml 2-mercaptobenzimidazole (1% methanol solution) 11 ml tribromomethylsulfoquinoline (5% methanol solution) 17 ml Hydrazine derivative H-26 0.4 g High-contrast enhancer P-51 0.3 g Phthalazine 0.6 g Compound described in general formula (1) or (2) shown in Table 1 Amount shown in Table 1 4-methylphthalic acid 0. 25 g Tetrachlorophthalic acid 0.2 g Calcium carbonate 0.1 g with an average particle size of 3 μm , 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -2 - methylpropane (20% methanol solution) 20.5 ml isocyanate compound (Mobay Corp., Desmodur N3300) 0.5 g

【0233】[0233]

【化70】 Embedded image

【0234】表面保護層:以下の組成の液を感光層の上
になるよう同時塗布した。
Surface protective layer: A solution having the following composition was coated simultaneously on the photosensitive layer.

【0235】 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤 C1225(CH2CH2O)101225 10mg/m2817−C64−SO3Na 10mg/m2 塗膜形成した後の試料を用い、バインダーを除去した後
に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定したところ、
有機銀粒子は、長軸径0.5±0.05μm、短軸径
0.4±0.05μm、厚み0.01μmの平板状粒子
が全有機銀粒子の90%である単分散度5%の粒子であ
った。
[0235] Acetone 5 ml / m 2 methyl ethyl ketone 21 ml / m 2 Cellulose acetate butyrate 2.3 g / m 2 methanol 7 ml / m 2 phthalazine 250 mg / m 2 Matting agent: monodisperse degree of 10% average particle size 4μm monodisperse silica 5mg / m 2 CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 35 mg / m 2 Fluorinated surfactant C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 10 mg / m 2 C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 10mg / m 2 using a sample after film formation, where after removal of the binder was measured by an electron microscope with a replica method,
The organic silver particles have a monodispersity of 5% in which tabular grains having a major axis diameter of 0.5 ± 0.05 μm, a minor axis diameter of 0.4 ± 0.05 μm, and a thickness of 0.01 μm are 90% of all organic silver particles. Particles.

【0236】《露光及び現像処理》光源として810n
mの半導体レーザーを用いたレーザー感光計で1.5×
10-7秒で光量変化しながらステップ露光を行い、11
0℃で15秒熱現像処理した。その際、露光及び現像は
23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。
<< Exposure and Development >> 810 n as a light source
1.5 × with a laser sensitometer using a semiconductor laser
Step exposure is performed while changing the amount of light in 10 -7 seconds.
The film was thermally developed at 0 ° C. for 15 seconds. At that time, exposure and development were performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.

【0237】(かぶり及び濃度の評価) かぶり:未露光の処理済みの試料をX−RiteのUV
モードで測定した。
(Evaluation of Fog and Density) Fog: A non-exposed processed sample was subjected to UV irradiation of X-Rite.
Mode.

【0238】濃度:得られた現像済みの試料についてP
DA−65(コニカデジタル濃度計)で黒化濃度を測定
した。
Density: P for the obtained developed sample
The blackening density was measured with DA-65 (Konica Digital Densitometer).

【0239】(感度の評価) 試料100の濃度=2.5における感度を100として
相対感度で示した。
(Evaluation of Sensitivity) The sensitivity at the concentration of the sample 100 of 2.5 was set as 100 and the relative sensitivity was shown.

【0240】(ガンマの評価)ガンマは濃度0.1と
3.0の正接をもって表し、表中のガンマ値が10以上
ではじめて超硬調な画像が得られることを示す。
(Evaluation of gamma) Gamma is represented by the tangent of density 0.1 and 3.0, and it is shown that a super-high contrast image can be obtained only when the gamma value in the table is 10 or more.

【0241】(保存性の評価)フィルム試料を50℃、
50%RHの環境下に1日間保存した試料と即日(フレ
ッシュ)試料を比較評価した。評価した結果を表1に示
す。
(Evaluation of Storage Property) A film sample was prepared at 50 ° C.
A sample stored for 1 day in an environment of 50% RH was compared with a fresh sample on the same day (fresh). Table 1 shows the results of the evaluation.

【0242】[0242]

【表1】 [Table 1]

【0243】実施例2 実施例1において、表1に示す一般式(1)また(2)
記載の化合物の代わりに、該化合物の銀錯体を表2に示
すように添加した以外は、実施例1と同様に試料を作製
し、評価を行った。結果を表2に示す。
Example 2 In Example 1, the general formulas (1) and (2) shown in Table 1 were used.
A sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that a silver complex of the compound was added as shown in Table 2 instead of the described compound. Table 2 shows the results.

【0244】[0244]

【表2】 [Table 2]

【0245】実施例3 実施例1において、一般式(1)または(2)で表され
る化合物の代わりに一般式(3)または(4)で表され
る化合物または下記比較化合物を用いた以外は実施例1
と同様に試料を作製し、同様の評価を行った。結果を表
3に示す。
Example 3 In Example 1, a compound represented by the general formula (3) or (4) or a comparative compound shown below was used instead of the compound represented by the general formula (1) or (2). Is Example 1
A sample was prepared in the same manner as described above, and the same evaluation was performed. Table 3 shows the results.

【0246】[0246]

【表3】 [Table 3]

【0247】[0247]

【化71】 Embedded image

【0248】実施例4 実施例3において、表3に示す化合物の代わりに、該化
合物の銀錯体を表4に示すように添加した以外は、実施
例3と同様にして試料を作製し、同様の評価を行った。
結果を表4に示す。
Example 4 A sample was prepared in the same manner as in Example 3 except that a silver complex of the compound was added as shown in Table 4 in place of the compound shown in Table 3, and a sample was prepared. Was evaluated.
Table 4 shows the results.

【0249】[0249]

【表4】 [Table 4]

【0250】[0250]

【発明の効果】ホスファゼン化合物或いはメルカプト基
を有するアミノ酸或いはそれらの銀錯体化合物を用いる
ことにより、高感度でカブリが低く、保存性に優れ、高
濃度の画像が得られ、超硬調な網点の再現性に優れた熱
現像写真感光材料を提供することができる。
By using a phosphazene compound or an amino acid having a mercapto group or a silver complex compound thereof, high sensitivity, low fog, excellent preservability, high density image can be obtained, and ultra-high contrast halftone dots can be obtained. A heat-developable photographic material having excellent reproducibility can be provided.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤
及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料において、
下記一般式(1)または(2)で表される化合物を少な
くとも1種含有することを特徴とする熱現像写真感光材
料。 【化1】 〔式中、R1、R2は各々アルキル基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アリール基、イソチオシアナート基、
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アジド
基、又はこれらの誘導体を表し、R1、R2は同じであっ
ても異なっていても良い。n1は1以上の正の整数を表
し、n1が2以上のとき、複数のR1およびR2は各々同
じであっても異なっていても良い。〕 【化2】 〔式中、R1、R2は、各々上記一般式(1)のR1、R2
と同義の基を表し、R1、R2は同じであっても異なって
いても良い。n2は3以上の正の整数を表し、複数のR
1およびR2は各々同じであっても異なっていても良
い。〕
1. A photothermographic material comprising a light-sensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a high contrast agent,
A photothermographic material comprising at least one compound represented by the following general formula (1) or (2). Embedded image [Wherein R 1 and R 2 each represent an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryl group, an isothiocyanate group,
Represents an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, an azido group, or a derivative thereof, and R 1 and R 2 may be the same or different. n1 represents a positive integer of 1 or more, and when n1 is 2 or more, a plurality of R 1 and R 2 may be the same or different. [Chemical formula 2] [Wherein, R 1, R 2 is, R 1 of each above-mentioned general formula (1), R 2
And R 1 and R 2 may be the same or different. n2 represents a positive integer of 3 or more;
1 and R 2 may be the same or different. ]
【請求項2】 感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤
及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料において、
前記一般式(1)または(2)で表される化合物の銀錯
塩を少なくとも1種含有することを特徴とする熱現像写
真感光材料。
2. A photothermographic material comprising a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a contrast agent,
A photothermographic material comprising at least one silver complex salt of the compound represented by formula (1) or (2).
【請求項3】 感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤
及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料において、
下記一般式(3)または(4)で表される化合物を少な
くとも1種含有することを特徴とする熱現像写真感光材
料。 【化3】 〔式中、R3、R4は水素原子、炭素数1〜3までのアル
キル基を表す。但しR3とR4は同時に水素原子になるこ
とはない。R5、R6は水素原子、炭素数1〜3までのア
ルキル基を表し、R7は水酸基、アミノ基又は炭素数1
〜3までのアルキル基を表す。R8、R9は水素原子、炭
素数1〜5までのアルキル基、炭素数18までのアシル
基又は−COOM2基を表す。但しR8とR9は同時に水
素原子になることはない。M1は水素原子、アルカリ金
属原子、アンモニウム基を表す。M2は水素原子、炭素
数1〜4までのアルキル基、アルカリ金属原子、アリー
ル基、炭素数15までのアラルキル基を表す。mは0、
1又は2を表す。〕
3. A photothermographic material comprising a light-sensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a high contrast agent,
A photothermographic material comprising at least one compound represented by the following general formula (3) or (4). Embedded image [In the formula, R 3 and R 4 represent a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. However, R 3 and R 4 are not simultaneously hydrogen atoms. R 5 and R 6 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 7 represents a hydroxyl group, an amino group or
Represents up to 3 alkyl groups. R 8, R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 5 carbon atoms, an acyl group or a -COOM 2 group up to 18 carbon atoms. However, R 8 and R 9 are not hydrogen atoms at the same time. M 1 represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, or an ammonium group. M 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having up to 4 carbon atoms, an alkali metal atom, an aryl group, an aralkyl group having up to 15 carbon atoms. m is 0,
Represents 1 or 2. ]
【請求項4】 感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤
及び硬調化剤を含有する熱現像写真感光材料において、
前記一般式(3)または(4)で表される化合物の銀錯
塩を少なくとも1種含有することを特徴とする熱現像写
真感光材料。
4. A photothermographic material comprising a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a contrast agent,
A photothermographic material comprising at least one silver complex salt of the compound represented by formula (3) or (4).
【請求項5】 感光性層又はその隣接層にヒドラジン誘
導体を含有することを特徴とする請求項1〜4の何れか
1項記載の熱現像写真感光材料。
5. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive layer or a layer adjacent thereto contains a hydrazine derivative.
【請求項6】 少なくとも1種のアミン化合物又は4級
オニウム化合物を含有することを特徴とする請求項1〜
5の何れか1項記載の熱現像写真感光材料。
6. The composition according to claim 1, which comprises at least one kind of an amine compound or a quaternary onium compound.
6. The photothermographic material according to any one of the above items 5.
【請求項7】 ガンマが10以上の硬調な画像を形成す
ることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項記載の熱
現像写真感光材料。
7. The photothermographic material according to claim 1, wherein a high-contrast image having a gamma of 10 or more is formed.
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