JP2001165398A - ハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法及び装置 - Google Patents
ハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハイドレート生成設備の管路の閉塞を防止す
る。 【解決手段】 ガス加温器３７及び流量調整弁３８を有
するガス送給管３９の上流端を圧縮機１３の吐出口に接
続し、ガス送給管３９の下流端を生成反応器９に連通す
る管路１８に接続し、開閉弁Ｖ及び微小流量設定用オリ
フィスＲＯを有するガス送給管４０〜４５の上流端を、
ガス送給管３９に連通する分岐管４６に接続し、ガス送
給管４０〜４５の下流端を、生成反応器９に連通する管
路２５，２７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂに接
続し、圧縮機１３から吐出され且つガス加温器３７で温
度が上昇した天然ガスＧを、各管路１８，２５，２７，
２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂへ送給して、その内
部温度をハイドレート平衡温度以上に保つ。
る。 【解決手段】 ガス加温器３７及び流量調整弁３８を有
するガス送給管３９の上流端を圧縮機１３の吐出口に接
続し、ガス送給管３９の下流端を生成反応器９に連通す
る管路１８に接続し、開閉弁Ｖ及び微小流量設定用オリ
フィスＲＯを有するガス送給管４０〜４５の上流端を、
ガス送給管３９に連通する分岐管４６に接続し、ガス送
給管４０〜４５の下流端を、生成反応器９に連通する管
路２５，２７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂに接
続し、圧縮機１３から吐出され且つガス加温器３７で温
度が上昇した天然ガスＧを、各管路１８，２５，２７，
２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂへ送給して、その内
部温度をハイドレート平衡温度以上に保つ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はハイドレート生成設
備の管路閉塞防止方法及び装置に関するものである。
備の管路閉塞防止方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】沿岸部の液化天然ガスの受入基地から離
れた内陸部の都市には、その都市でのガスの消費量に応
じたガス貯蔵設備が設けられている。
れた内陸部の都市には、その都市でのガスの消費量に応
じたガス貯蔵設備が設けられている。
【０００３】図２は従来のガス貯蔵設備の一例であり、
このガス貯蔵設備は、ガスタンク１と、開閉弁６を有す
る管路７とを備えている。
このガス貯蔵設備は、ガスタンク１と、開閉弁６を有す
る管路７とを備えている。
【０００４】管路７は、受入基地から内陸部の都市への
ガス送給用の導管８とガスタンク１とを接続しており、
導管８には、ガス流通方向上流端から下流端へ向かって
順に開閉弁２、圧縮機３及び逆止弁４を有する管路５が
接続されている。
ガス送給用の導管８とガスタンク１とを接続しており、
導管８には、ガス流通方向上流端から下流端へ向かって
順に開閉弁２、圧縮機３及び逆止弁４を有する管路５が
接続されている。
【０００５】図２に示すガス貯蔵設備では、深夜及び早
朝などのガス使用量が減少する閑散時間帯に、受入基地
の圧縮機３より導管８に送給されるガスをガスタンク１
に貯蔵する。
朝などのガス使用量が減少する閑散時間帯に、受入基地
の圧縮機３より導管８に送給されるガスをガスタンク１
に貯蔵する。
【０００６】また、日中及び夕方などのガス使用量が増
加する繁忙時間帯に、ガスタンク１に貯蔵したガスを導
管８へ送給し、需要者へのガス送給量を確保する。
加する繁忙時間帯に、ガスタンク１に貯蔵したガスを導
管８へ送給し、需要者へのガス送給量を確保する。
【０００７】上述したガス貯蔵設備は、ガスタンク１の
貯蔵密度が大きくないので、繁忙時間帯における需要者
へのガス供給量を確保するためには、ガスタンク１を多
数設ける必要がある。
貯蔵密度が大きくないので、繁忙時間帯における需要者
へのガス供給量を確保するためには、ガスタンク１を多
数設ける必要がある。
【０００８】そこで、近年、図３に示すようなガス貯蔵
プラントが提案されている。
プラントが提案されている。
【０００９】このガス貯蔵プラントは、耐圧構造の生成
反応器９と、サクションドラム１０と、取入弁１１を有
する管路１２と、ガス流通方向上流側から下流側へ向か
って順に圧縮機１３、ガス冷却器１４及び逆止弁１５を
有する管路１６と、中間弁１７を有する管路１８と、送
出弁１９を有する管路２０と、生成反応器９の内底部近
傍に配置した散気管２１と、生成反応器９の外側部に配
置した冷却管２２と、該冷却管２２に対して冷媒を連続
的に供給し得る冷媒源２３とを備えている。
反応器９と、サクションドラム１０と、取入弁１１を有
する管路１２と、ガス流通方向上流側から下流側へ向か
って順に圧縮機１３、ガス冷却器１４及び逆止弁１５を
有する管路１６と、中間弁１７を有する管路１８と、送
出弁１９を有する管路２０と、生成反応器９の内底部近
傍に配置した散気管２１と、生成反応器９の外側部に配
置した冷却管２２と、該冷却管２２に対して冷媒を連続
的に供給し得る冷媒源２３とを備えている。
【００１０】生成反応器９の底部には、開閉弁２４を有
するドレン管路２５が接続され、生成反応器９の側部に
は、圧力検出器２６が管路２７を介して接続されてい
る。
するドレン管路２５が接続され、生成反応器９の側部に
は、圧力検出器２６が管路２７を介して接続されてい
る。
【００１１】また、生成反応器９内には、貯蔵すべき天
然ガスＧと反応してハイドレートＨ（固体の水和物）を
生成し得る物性の媒質Ｗ（水）が貯留されている。
然ガスＧと反応してハイドレートＨ（固体の水和物）を
生成し得る物性の媒質Ｗ（水）が貯留されている。
【００１２】サクションドラム１０の底部には、開閉弁
２８を有するドレン管路２９が接続され、サクションド
ラム１０の側部には、液位検出器３０が管路３１を介し
て接続されている。
２８を有するドレン管路２９が接続され、サクションド
ラム１０の側部には、液位検出器３０が管路３１を介し
て接続されている。
【００１３】管路１２のガス流通方向上流端は、受入基
地から内陸部の都市へのガス送給用の導管８に接続さ
れ、管路１２のガス流通方向下流端は、サクションドラ
ム１０の側部に接続されている。
地から内陸部の都市へのガス送給用の導管８に接続さ
れ、管路１２のガス流通方向下流端は、サクションドラ
ム１０の側部に接続されている。
【００１４】管路１６のガス流通方向上流端は、サクシ
ョンドラム１０の頂部に接続され、管路１６のガス流通
方向下流端は、前記の散気管２１に接続されている。
ョンドラム１０の頂部に接続され、管路１６のガス流通
方向下流端は、前記の散気管２１に接続されている。
【００１５】管路１８のガス流通方向上流端は、生成反
応器９内上部の非媒質貯留空間Ｓに連通するように生成
反応器９の頂部に接続され、管路１８のガス流通方向下
流端は、サクションドラム１０の側部に接続されてい
る。
応器９内上部の非媒質貯留空間Ｓに連通するように生成
反応器９の頂部に接続され、管路１８のガス流通方向下
流端は、サクションドラム１０の側部に接続されてい
る。
【００１６】この管路１８には、圧力検出器３２が管路
３３を介して接続され、また、流量検出器３４が管路３
５ａ，３５ｂを介して接続されている。
３３を介して接続され、また、流量検出器３４が管路３
５ａ，３５ｂを介して接続されている。
【００１７】管路２０のガス流通方向上流端は、管路１
６のガス冷却器１４のガス吐出口寄り部分に接続され、
管路２０のガス流通方向下流端は、導管８に接続されて
いる。
６のガス冷却器１４のガス吐出口寄り部分に接続され、
管路２０のガス流通方向下流端は、導管８に接続されて
いる。
【００１８】図３に示すガス貯蔵プラントでは、深夜及
び早朝などのガスの使用量が減少する閑散時間帯に、取
入弁１１及び中間弁１７を開き且つ送出弁１９を閉じ
て、圧縮機１３及び冷媒源２３を運転する。
び早朝などのガスの使用量が減少する閑散時間帯に、取
入弁１１及び中間弁１７を開き且つ送出弁１９を閉じ
て、圧縮機１３及び冷媒源２３を運転する。
【００１９】これにより、導管８を流通する天然ガスＧ
の一部を、サクションドラム１０及び管路１６を介して
散気管２１から媒質Ｗ中に通気させ、生成反応器９内を
昇圧するとともに、冷却管２２へ冷媒を連続的に供給し
て、生成反応器９内を冷却する。
の一部を、サクションドラム１０及び管路１６を介して
散気管２１から媒質Ｗ中に通気させ、生成反応器９内を
昇圧するとともに、冷却管２２へ冷媒を連続的に供給し
て、生成反応器９内を冷却する。
【００２０】生成反応器９の内圧が３０ｋｇ／ｃｍ2程
度に上昇し且つ内部温度が２〜３℃程度まで低下する
と、メタンハイドレート（ＣＨ4・５．７５Ｈ2Ｏ）を主
成分として、エタンハイドレート（Ｃ2Ｈ6・７．６７Ｈ
2Ｏ）及びブタンハイドレート（Ｃ3Ｈ8・１７Ｈ2Ｏ）な
どのハイドレートＨが、天然ガスＧと媒質Ｗとから生成
され、天然ガスＧがハイドレートＨとして生成反応器９
の内部に徐々に貯蔵される。
度に上昇し且つ内部温度が２〜３℃程度まで低下する
と、メタンハイドレート（ＣＨ4・５．７５Ｈ2Ｏ）を主
成分として、エタンハイドレート（Ｃ2Ｈ6・７．６７Ｈ
2Ｏ）及びブタンハイドレート（Ｃ3Ｈ8・１７Ｈ2Ｏ）な
どのハイドレートＨが、天然ガスＧと媒質Ｗとから生成
され、天然ガスＧがハイドレートＨとして生成反応器９
の内部に徐々に貯蔵される。
【００２１】組成がメタン（ＣＨ4）９２ｍｏｌ％、エ
タン（Ｃ2Ｈ6）５ｍｏｌ％、ブタン（Ｃ3Ｈ8）の天然ガ
スＧ（都市ガス）と媒質Ｗ（水）とから生成されるハイ
ドレートＨの密度は、氷と同程度になる。
タン（Ｃ2Ｈ6）５ｍｏｌ％、ブタン（Ｃ3Ｈ8）の天然ガ
スＧ（都市ガス）と媒質Ｗ（水）とから生成されるハイ
ドレートＨの密度は、氷と同程度になる。
【００２２】図４は、上記組成の天然ガスＧと媒質Ｗと
から生成されるハイドレートＨの温度圧力平衡線図の一
例である。
から生成されるハイドレートＨの温度圧力平衡線図の一
例である。
【００２３】媒質Ｗと反応せずに媒質Ｗ中から生成反応
器９の非媒質貯留空間Ｓに達した天然ガスＧは、管路１
８を経てサクションドラム１０へ送出され、散気管２１
から再度媒質Ｗ中へ通気される。
器９の非媒質貯留空間Ｓに達した天然ガスＧは、管路１
８を経てサクションドラム１０へ送出され、散気管２１
から再度媒質Ｗ中へ通気される。
【００２４】また、日中及び夕方などのガス使用量が増
加する繁忙時間帯に、取入弁１１を閉じ且つ中間弁１７
及び送出弁１９を開いて、圧縮機１３を運転するととも
に、冷媒源２３の運転を停止し、生成反応器９内を昇温
させる。
加する繁忙時間帯に、取入弁１１を閉じ且つ中間弁１７
及び送出弁１９を開いて、圧縮機１３を運転するととも
に、冷媒源２３の運転を停止し、生成反応器９内を昇温
させる。
【００２５】生成反応器９の内部温度が２〜３℃以上に
上昇すると、平衡状態が保持されなくなって、ハイドレ
ートＨが天然ガスＧと媒質Ｗとに分離する。
上昇すると、平衡状態が保持されなくなって、ハイドレ
ートＨが天然ガスＧと媒質Ｗとに分離する。
【００２６】媒質Ｗ中から生成反応器９の非媒質貯留空
間Ｓに達した天然ガスＧは、管路１８を経てサクション
ドラム１０へ送出され、更に圧縮機１３により管路１
６，２０を経て導管８へ送給され、繁忙時間帯における
需要者へのガス送給量が確保される。
間Ｓに達した天然ガスＧは、管路１８を経てサクション
ドラム１０へ送出され、更に圧縮機１３により管路１
６，２０を経て導管８へ送給され、繁忙時間帯における
需要者へのガス送給量が確保される。
【００２７】このように、図３に示すガス貯蔵プラント
では、生成反応器９内で天然ガスＧと媒質Ｗとを反応さ
せて、圧縮ガスよりも高密度のハイドレートＨを生成す
るのでガスの貯蔵効率の向上を図ることができる。
では、生成反応器９内で天然ガスＧと媒質Ｗとを反応さ
せて、圧縮ガスよりも高密度のハイドレートＨを生成す
るのでガスの貯蔵効率の向上を図ることができる。
【００２８】また、生成反応器９内を昇温させることに
より、天然ガスＧを生成反応器９外へ容易に送出するこ
とができる。
より、天然ガスＧを生成反応器９外へ容易に送出するこ
とができる。
【００２９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図３に
示すガス貯蔵プラントでは、生成反応器９内で急速にハ
イドレートＨの生成が進行すると、生成反応器９及びサ
クションドラム１０のドレン管路２５，２９、圧力検出
器２６、液位検出器３０、圧力検出器３２及び流量検出
器３４などの計測機器に付帯する管路２７，３１，３
３，３５ａ，３５ｂ、あるいは、生成反応器９からサク
ションドラム１０へ天然ガスＧを導くための管路１８
が、ハイドレートＨによって閉塞することが懸念され
る。
示すガス貯蔵プラントでは、生成反応器９内で急速にハ
イドレートＨの生成が進行すると、生成反応器９及びサ
クションドラム１０のドレン管路２５，２９、圧力検出
器２６、液位検出器３０、圧力検出器３２及び流量検出
器３４などの計測機器に付帯する管路２７，３１，３
３，３５ａ，３５ｂ、あるいは、生成反応器９からサク
ションドラム１０へ天然ガスＧを導くための管路１８
が、ハイドレートＨによって閉塞することが懸念され
る。
【００３０】本発明は上述した実情に鑑みてなしたもの
で、ハイドレート生成設備の管路の閉塞を防止できるよ
うにすることを目的としている。
で、ハイドレート生成設備の管路の閉塞を防止できるよ
うにすることを目的としている。
【００３１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の請求項１は、生成反応器内に貯留した媒質
に貯蔵すべきガスを通気させて生成反応器内を昇圧する
とともに、生成反応器内を冷却してガスと媒質とのハイ
ドレートを生成するハイドレート生成設備の管路閉塞防
止方法であって、貯蔵すべきガスと同一種で且つ温度が
ハイドレート平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に
連通する管路に対して微小流量を連続的に送給する。
め、本発明の請求項１は、生成反応器内に貯留した媒質
に貯蔵すべきガスを通気させて生成反応器内を昇圧する
とともに、生成反応器内を冷却してガスと媒質とのハイ
ドレートを生成するハイドレート生成設備の管路閉塞防
止方法であって、貯蔵すべきガスと同一種で且つ温度が
ハイドレート平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に
連通する管路に対して微小流量を連続的に送給する。
【００３２】本発明の請求項２は、生成反応器内に貯留
した媒質に貯蔵すべきガスを通気させて生成反応器内を
昇圧するとともに、生成反応器内を冷却してガスと媒質
とのハイドレートを生成するハイドレート生成設備の管
路閉塞防止方法であって、貯蔵すべきガスと同一種で且
つ温度がハイドレート平衡温度よりも高いガスを、生成
反応器に連通する管路に対して該管路内の温度に基づき
適宜送給する。
した媒質に貯蔵すべきガスを通気させて生成反応器内を
昇圧するとともに、生成反応器内を冷却してガスと媒質
とのハイドレートを生成するハイドレート生成設備の管
路閉塞防止方法であって、貯蔵すべきガスと同一種で且
つ温度がハイドレート平衡温度よりも高いガスを、生成
反応器に連通する管路に対して該管路内の温度に基づき
適宜送給する。
【００３３】本発明の請求項３は、貯蔵すべきガスと反
応してハイドレートを生成し得る媒質を貯留する生成反
応器と、生成反応器内の底部近傍に配置した散気管へガ
スを送給し得る圧縮機と、生成反応器内を冷却し得る冷
却器とを備えたハイドレート生成設備の管路閉塞防止装
置であって、流量制限手段を有するガス送給管のガス流
通方向上流端を、圧縮機の吐出口に連通させ、ガス送給
管のガス流通方向下流端を、生成反応器に連通する管路
に接続している。
応してハイドレートを生成し得る媒質を貯留する生成反
応器と、生成反応器内の底部近傍に配置した散気管へガ
スを送給し得る圧縮機と、生成反応器内を冷却し得る冷
却器とを備えたハイドレート生成設備の管路閉塞防止装
置であって、流量制限手段を有するガス送給管のガス流
通方向上流端を、圧縮機の吐出口に連通させ、ガス送給
管のガス流通方向下流端を、生成反応器に連通する管路
に接続している。
【００３４】本発明の請求項４は、貯蔵すべきガスと反
応してハイドレートを生成し得る媒質を貯留する生成反
応器と、生成反応器内の底部近傍に配置した散気管へガ
スを送給し得る圧縮機と、生成反応器内を冷却し得る冷
却器とを備えたハイドレート生成設備の管路閉塞防止装
置であって、生成反応器に連通する管路に温度検出手段
を設け、該温度検出手段からの信号に基づき開度を調整
可能な流量調整弁を有するガス送給管のガス流通方向上
流端を、圧縮機の吐出口に連通させ、ガス送給管のガス
流通方向下流端を、生成反応器に連通する管路に接続し
ている。
応してハイドレートを生成し得る媒質を貯留する生成反
応器と、生成反応器内の底部近傍に配置した散気管へガ
スを送給し得る圧縮機と、生成反応器内を冷却し得る冷
却器とを備えたハイドレート生成設備の管路閉塞防止装
置であって、生成反応器に連通する管路に温度検出手段
を設け、該温度検出手段からの信号に基づき開度を調整
可能な流量調整弁を有するガス送給管のガス流通方向上
流端を、圧縮機の吐出口に連通させ、ガス送給管のガス
流通方向下流端を、生成反応器に連通する管路に接続し
ている。
【００３５】本発明の請求項５は、本発明の請求項３あ
るいは請求項４のいずれかに記載のハイドレート生成設
備の管路閉塞防止装置の構成に加えて、ガス送給管にガ
ス加温器を設けている。
るいは請求項４のいずれかに記載のハイドレート生成設
備の管路閉塞防止装置の構成に加えて、ガス送給管にガ
ス加温器を設けている。
【００３６】本発明の請求項１に記載のハイドレート生
成設備の管路閉塞防止方法では、生成反応器に連通する
管路にハイドレート平衡温度よりも高いガスを、微小流
量連続的に送給し、生成反応器に連通する管路内の温度
をハイドレート平衡温度以上に保つ。
成設備の管路閉塞防止方法では、生成反応器に連通する
管路にハイドレート平衡温度よりも高いガスを、微小流
量連続的に送給し、生成反応器に連通する管路内の温度
をハイドレート平衡温度以上に保つ。
【００３７】本発明の請求項２に記載のハイドレート生
成設備の管路閉塞防止方法では、生成反応器に連通する
管路にハイドレート平衡温度よりも高いガスを、該管路
内の温度に基づき適宜送給し、生成反応器に連通する管
路内の温度をハイドレート平衡温度以上に保つ。
成設備の管路閉塞防止方法では、生成反応器に連通する
管路にハイドレート平衡温度よりも高いガスを、該管路
内の温度に基づき適宜送給し、生成反応器に連通する管
路内の温度をハイドレート平衡温度以上に保つ。
【００３８】本発明の請求項３に記載のハイドレート生
成設備の管路閉塞防止装置では、生成反応器に連通する
管路に対して圧縮機から吐出される温度が上昇したガス
を、流量制限手段を有するガス送給管を介して微小流量
連続的に送給し、生成反応器に連通する管路内の温度を
ハイドレート平衡温度以上に保つ。
成設備の管路閉塞防止装置では、生成反応器に連通する
管路に対して圧縮機から吐出される温度が上昇したガス
を、流量制限手段を有するガス送給管を介して微小流量
連続的に送給し、生成反応器に連通する管路内の温度を
ハイドレート平衡温度以上に保つ。
【００３９】本発明の請求項４に記載のハイドレート生
成設備の管路閉塞防止装置では、生成反応器に連通する
管路に対して圧縮機から吐出される温度が上昇したガス
を、温度検出手段からの信号に基づき開度が調整可能な
流量調整弁を有するガス送給管を介して適宜送給し、生
成反応器に連通する管路内の温度をハイドレート平衡温
度以上に保つ。
成設備の管路閉塞防止装置では、生成反応器に連通する
管路に対して圧縮機から吐出される温度が上昇したガス
を、温度検出手段からの信号に基づき開度が調整可能な
流量調整弁を有するガス送給管を介して適宜送給し、生
成反応器に連通する管路内の温度をハイドレート平衡温
度以上に保つ。
【００４０】本発明の請求項５に記載のハイドレート生
成設備の管路閉塞防止装置では、圧縮機が吐出されるガ
スの温度を、ガス加温器で上昇させた後、生成反応器に
連通する管路へ送給する。
成設備の管路閉塞防止装置では、圧縮機が吐出されるガ
スの温度を、ガス加温器で上昇させた後、生成反応器に
連通する管路へ送給する。
【００４１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。
に基づき説明する。
【００４２】図１は本発明のハイドレート生成設備の管
路閉塞防止装置の実施の形態の一例を適用したガス貯蔵
プラントを示すものであり、図中、図３と同一の符号を
付した部分は同一物を表している。
路閉塞防止装置の実施の形態の一例を適用したガス貯蔵
プラントを示すものであり、図中、図３と同一の符号を
付した部分は同一物を表している。
【００４３】このガス貯蔵プラントは、先に述べた図３
に示すガス貯蔵プラントの構成に加えて、生成反応器９
からサクションドラム１０へ天然ガスＧを導く管路１８
内の温度を検出する温度検出器３６と、ガス流通方向上
流端から下流端へ向かって順にガス加温器３７及び流量
調整弁３８を有するガス送給管３９と、それぞれガス流
通方向上流端から下流端へ向かって順に開閉弁Ｖ及び微
小流量設定用オリフィス（Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ Ｏ
ｒｉｆｉｃｅ）ＲＯを有するガス送給管４０，４１，４
２，４３，４４と、ガス流通方向上流端から下流端へ向
かって開閉弁Ｖ及び該開閉弁Ｖに対して並列に接続され
た２つの微小流量設定用オリフィスＲＯを有するガス送
給管４５とを備えている。
に示すガス貯蔵プラントの構成に加えて、生成反応器９
からサクションドラム１０へ天然ガスＧを導く管路１８
内の温度を検出する温度検出器３６と、ガス流通方向上
流端から下流端へ向かって順にガス加温器３７及び流量
調整弁３８を有するガス送給管３９と、それぞれガス流
通方向上流端から下流端へ向かって順に開閉弁Ｖ及び微
小流量設定用オリフィス（Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ Ｏ
ｒｉｆｉｃｅ）ＲＯを有するガス送給管４０，４１，４
２，４３，４４と、ガス流通方向上流端から下流端へ向
かって開閉弁Ｖ及び該開閉弁Ｖに対して並列に接続され
た２つの微小流量設定用オリフィスＲＯを有するガス送
給管４５とを備えている。
【００４４】温度検出器３６は、管路１８内の温度が低
下してハイドレート平衡温度に近付く際に、温度降下に
基づき弁開度を増大させる開度指令信号３６ｓを流量調
整弁３８に対して出力するよう構成されている。
下してハイドレート平衡温度に近付く際に、温度降下に
基づき弁開度を増大させる開度指令信号３６ｓを流量調
整弁３８に対して出力するよう構成されている。
【００４５】ガス送給管３９のガス流通方向上流端は、
管路１６の圧縮機１３のガス吐出口寄り部分に接続さ
れ、ガス送給管３９のガス流通方向下流端は、管路１８
の生成反応器９寄り部分に接続されている。
管路１６の圧縮機１３のガス吐出口寄り部分に接続さ
れ、ガス送給管３９のガス流通方向下流端は、管路１８
の生成反応器９寄り部分に接続されている。
【００４６】また、ガス送給管３９のガス加温器３７の
ガス吐出口寄り部分には、分岐管４６が接続されてい
る。
ガス吐出口寄り部分には、分岐管４６が接続されてい
る。
【００４７】ガス送給管４０，４１，４２，４３，４
４，４５のガス流通方向上流端は、上記の分岐管４６に
接続されている。
４，４５のガス流通方向上流端は、上記の分岐管４６に
接続されている。
【００４８】ガス送給管４０，４１，４２，４３，４４
のガス流通方向下流端は、ドレン管路２５、管路２７、
ドレン管路２９、管路３１，３３に接続され、また、ガ
ス送給管４５のガス流通方向下流端は、管路３５ａ，３
５ｂに接続されている。
のガス流通方向下流端は、ドレン管路２５、管路２７、
ドレン管路２９、管路３１，３３に接続され、また、ガ
ス送給管４５のガス流通方向下流端は、管路３５ａ，３
５ｂに接続されている。
【００４９】図１に示すガス貯蔵プラントでは、生成反
応器９内でハイドレートＨを生成する際に、ガス加温器
３７を運転したうえ、ガス送給管４０〜４５の開閉弁Ｖ
を開き、圧縮機１３より吐出される天然ガスＧのごく一
部を、ガス送給管３９、分岐管４６、各ガス送給管４０
〜４５、及び該ガス送給管４０〜４５のそれぞれに設け
た微小流量設定用オリフィスＲＯを介して各管路２５，
２７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂへ導く。
応器９内でハイドレートＨを生成する際に、ガス加温器
３７を運転したうえ、ガス送給管４０〜４５の開閉弁Ｖ
を開き、圧縮機１３より吐出される天然ガスＧのごく一
部を、ガス送給管３９、分岐管４６、各ガス送給管４０
〜４５、及び該ガス送給管４０〜４５のそれぞれに設け
た微小流量設定用オリフィスＲＯを介して各管路２５，
２７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂへ導く。
【００５０】これにより、圧縮機１３及びガス加温器３
７により温度が上昇した天然ガスＧが、各管路２５，２
７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂに対して微小流
量連続的に送給され、管路２５，２７，２９，３１，３
３，３５ａ，３５ｂ内がハイドレート平衡温度よりも高
い温度に保たれ、ハイドレートＨの生成に起因した管路
２５，２７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂの閉塞
が防止される。
７により温度が上昇した天然ガスＧが、各管路２５，２
７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂに対して微小流
量連続的に送給され、管路２５，２７，２９，３１，３
３，３５ａ，３５ｂ内がハイドレート平衡温度よりも高
い温度に保たれ、ハイドレートＨの生成に起因した管路
２５，２７，２９，３１，３３，３５ａ，３５ｂの閉塞
が防止される。
【００５１】また、生成反応器９からサクションドラム
１０へ天然ガスＧを導くための管路１８内の温度が低下
してハイドレート平衡温度に近付くと、この温度降下に
基づき弁開度を増大させる開度指令信号３６ｓが、温度
検出器３６から流量調整弁３８へ出力される。
１０へ天然ガスＧを導くための管路１８内の温度が低下
してハイドレート平衡温度に近付くと、この温度降下に
基づき弁開度を増大させる開度指令信号３６ｓが、温度
検出器３６から流量調整弁３８へ出力される。
【００５２】これにより、圧縮機１３及びガス加温器３
７により温度が上昇した天然ガスＧが、管路１８に対し
てその内部温度に応じた流量で送給され、管路１８内が
ハイドレート平衡温度よりも高い温度に保たれ、ハイド
レートＨの生成に起因した管路１８の閉塞が防止され
る。
７により温度が上昇した天然ガスＧが、管路１８に対し
てその内部温度に応じた流量で送給され、管路１８内が
ハイドレート平衡温度よりも高い温度に保たれ、ハイド
レートＨの生成に起因した管路１８の閉塞が防止され
る。
【００５３】このように、図１に示すガス貯蔵プラント
では、生成反応器９に接続されている管路２５，２７、
サクションドラム１０に接続されている管路２９，３
１、及び生成反応器９からサクションドラム１０へ天然
ガスＧを送給する管路１８に接続されている管路３５
ａ，３５ｂのそれぞれに対して、ハイドレート平衡温度
よりも温度が高いガスを、微小流量設定用オリフィスＲ
Ｏにより連続的に送給し、また、上記の管路１８に対し
て、ハイドレート平衡温度よりも温度が高いガスを、温
度検出器３６に検出値に基づき適宜送給するので、生成
反応器９内におけるハイドレートＨの生成を阻害するこ
となく、管路１８，２５，２７，２９，３１，３３，３
５ａ，３５ｂの閉塞を防止できる。
では、生成反応器９に接続されている管路２５，２７、
サクションドラム１０に接続されている管路２９，３
１、及び生成反応器９からサクションドラム１０へ天然
ガスＧを送給する管路１８に接続されている管路３５
ａ，３５ｂのそれぞれに対して、ハイドレート平衡温度
よりも温度が高いガスを、微小流量設定用オリフィスＲ
Ｏにより連続的に送給し、また、上記の管路１８に対し
て、ハイドレート平衡温度よりも温度が高いガスを、温
度検出器３６に検出値に基づき適宜送給するので、生成
反応器９内におけるハイドレートＨの生成を阻害するこ
となく、管路１８，２５，２７，２９，３１，３３，３
５ａ，３５ｂの閉塞を防止できる。
【００５４】なお、本発明のハイドレート生成設備の管
路閉塞防止方法及び装置は上述した実施の形態のみに限
定されるものでなく、ガス加温器３７を設けずに圧縮機
１３で温度が上昇した天然ガスＧを微小流量設定用オリ
フィスＲＯを介して管路２５，２７，２９，３１，３
３，３５ａ，３５ｂに送給する構成とすること、その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変更を加え
得ることは勿論である。
路閉塞防止方法及び装置は上述した実施の形態のみに限
定されるものでなく、ガス加温器３７を設けずに圧縮機
１３で温度が上昇した天然ガスＧを微小流量設定用オリ
フィスＲＯを介して管路２５，２７，２９，３１，３
３，３５ａ，３５ｂに送給する構成とすること、その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変更を加え
得ることは勿論である。
【００５５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のハイドレー
ト生成設備の管路閉塞防止方法及び装置によれば、下記
のような種々の優れた効果を奏し得る。
ト生成設備の管路閉塞防止方法及び装置によれば、下記
のような種々の優れた効果を奏し得る。
【００５６】（１）本発明の請求項１に記載のハイドレ
ート生成設備の管路閉塞防止方法においては、ハイドレ
ート平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に連通する
管路へ微小流量連続的に送給して、管路内の温度をハイ
ドレート平衡温度以上に保つので、ハイドレートの生成
に起因した管路の閉塞を防止することができる。
ート生成設備の管路閉塞防止方法においては、ハイドレ
ート平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に連通する
管路へ微小流量連続的に送給して、管路内の温度をハイ
ドレート平衡温度以上に保つので、ハイドレートの生成
に起因した管路の閉塞を防止することができる。
【００５７】（２）本発明の請求項２に記載のハイドレ
ート生成設備の管路閉塞防止方法においては、ハイドレ
ート平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に連通する
管路へ適宜送給し、管路内の温度をハイドレート平衡温
度以上に保つので、ハイドレートの生成に起因した管路
の閉塞を防止することができる。
ート生成設備の管路閉塞防止方法においては、ハイドレ
ート平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に連通する
管路へ適宜送給し、管路内の温度をハイドレート平衡温
度以上に保つので、ハイドレートの生成に起因した管路
の閉塞を防止することができる。
【００５８】（３）本発明の請求項３に記載のハイドレ
ート生成設備の管路閉塞防止装置においては、圧縮機か
ら吐出される温度が上昇したガスを、流量制限手段を有
するガス送給管を介して生成反応器に連通する管路へ微
小流量連続的に送給し、管路内の温度をハイドレート平
衡温度以上に保つので、ハイドレートの生成に起因した
管路の閉塞を防止することができる。
ート生成設備の管路閉塞防止装置においては、圧縮機か
ら吐出される温度が上昇したガスを、流量制限手段を有
するガス送給管を介して生成反応器に連通する管路へ微
小流量連続的に送給し、管路内の温度をハイドレート平
衡温度以上に保つので、ハイドレートの生成に起因した
管路の閉塞を防止することができる。
【００５９】（４）本発明の請求項４に記載のハイドレ
ート生成設備の管路閉塞防止装置においては、圧縮機か
ら吐出される温度が上昇したガスを、温度検出手段から
の信号に基づき開度が調整可能な流量調整弁を有するガ
ス送給管を介して生成反応器に連通する管路へ適宜送給
し、管路内の温度をハイドレート平衡温度以上に保つの
で、ハイドレートの生成に起因した管路の閉塞を防止す
ることができる。
ート生成設備の管路閉塞防止装置においては、圧縮機か
ら吐出される温度が上昇したガスを、温度検出手段から
の信号に基づき開度が調整可能な流量調整弁を有するガ
ス送給管を介して生成反応器に連通する管路へ適宜送給
し、管路内の温度をハイドレート平衡温度以上に保つの
で、ハイドレートの生成に起因した管路の閉塞を防止す
ることができる。
【００６０】（５）本発明の請求項５に記載のハイドレ
ート生成設備の管路閉塞防止装置では、圧縮機が吐出さ
れるガスの温度を、ガス加温器で上昇させた後、生成反
応器に連通する管路へ送給するので、生成反応器に連通
する管路内でのハイドレートの生成をより確実に防止す
ることができる。
ート生成設備の管路閉塞防止装置では、圧縮機が吐出さ
れるガスの温度を、ガス加温器で上昇させた後、生成反
応器に連通する管路へ送給するので、生成反応器に連通
する管路内でのハイドレートの生成をより確実に防止す
ることができる。
【図１】本発明のハイドレート生成設備の管路閉塞防止
装置の実施の形態の一例を適用したガス貯蔵プラントを
示す概念図である。
装置の実施の形態の一例を適用したガス貯蔵プラントを
示す概念図である。
【図２】従来のガス貯蔵設備の一例を示す概念図であ
る。
る。
【図３】近年提案されているガス貯蔵プラントの一例を
示す概念図である。
示す概念図である。
【図４】天然ガスと水とから生成されるハイドレートの
温度圧力平衡線図である。
温度圧力平衡線図である。
９ 生成反応器 １３ 圧縮機 １８ 管路 ２１ 散気管 ２２ 冷却器 ２５，２９ ドレン管路 ２７，３１，３３ 管路 ３５ａ，３５ｂ 管路 ３６ 温度検出器（温度検出手段） ３６ｓ 開度指令信号 ３７ ガス加温器 ３８ 流量調整弁 ３９〜４５ ガス送給管 Ｇ 天然ガス（ガス） Ｈ ハイドレート ＲＯ 微小流量設定用オリフィス（流量制限手段） Ｗ 媒質
Claims (5)
- 【請求項１】 生成反応器内に貯留した媒質に貯蔵すべ
きガスを通気させて生成反応器内を昇圧するとともに、
生成反応器内を冷却してガスと媒質とのハイドレートを
生成するハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法であ
って、貯蔵すべきガスと同一種で且つ温度がハイドレー
ト平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に連通する管
路に対して微小流量を連続的に送給することを特徴とす
るハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法。 - 【請求項２】 生成反応器内に貯留した媒質に貯蔵すべ
きガスを通気させて生成反応器内を昇圧するとともに、
生成反応器内を冷却してガスと媒質とのハイドレートを
生成するハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法であ
って、貯蔵すべきガスと同一種で且つ温度がハイドレー
ト平衡温度よりも高いガスを、生成反応器に連通する管
路に対して該管路内の温度に基づき適宜送給することを
特徴とするハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法。 - 【請求項３】 貯蔵すべきガスと反応してハイドレート
を生成し得る媒質を貯留する生成反応器と、生成反応器
内の底部近傍に配置した散気管へガスを送給し得る圧縮
機と、生成反応器内を冷却し得る冷却器とを備えたハイ
ドレート生成設備の管路閉塞防止装置であって、流量制
限手段を有するガス送給管のガス流通方向上流端を、圧
縮機の吐出口に連通させ、ガス送給管のガス流通方向下
流端を、生成反応器に連通する管路に接続したことを特
徴とするハイドレート生成設備の管路閉塞防止装置。 - 【請求項４】 貯蔵すべきガスと反応してハイドレート
を生成し得る媒質を貯留する生成反応器と、生成反応器
内の底部近傍に配置した散気管へガスを送給し得る圧縮
機と、生成反応器内を冷却し得る冷却器とを備えたハイ
ドレート生成設備の管路閉塞防止装置であって、生成反
応器に連通する管路に温度検出手段を設け、該温度検出
手段からの信号に基づき開度を調整可能な流量調整弁を
有するガス送給管のガス流通方向上流端を、圧縮機の吐
出口に連通させ、ガス送給管のガス流通方向下流端を、
生成反応器に連通する管路に接続したことを特徴とする
ハイドレート生成設備の管路閉塞防止装置。 - 【請求項５】 ガス送給管にガス加温器を設けた請求項
３あるいは請求項４のいずれかに記載のハイドレート生
成設備の管路閉塞防止装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35166399A JP2001165398A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | ハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35166399A JP2001165398A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | ハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001165398A true JP2001165398A (ja) | 2001-06-22 |
Family
ID=18418786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35166399A Pending JP2001165398A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | ハイドレート生成設備の管路閉塞防止方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001165398A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100808777B1 (ko) | 2007-02-09 | 2008-03-03 | 현대중공업 주식회사 | 액화천연가스 재 기화 설비의 배출 가스 처리 장치 |
| JP2012236740A (ja) * | 2011-05-11 | 2012-12-06 | Central Research Institute Of Electric Power Industry | 水素ハイドレート生成方法及び水素貯蔵システム |
| KR101422593B1 (ko) * | 2012-05-15 | 2014-07-23 | 삼성중공업 주식회사 | 하이드레이트 생성을 방지하는 수송관 |
| JP2014214284A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレート製造装置 |
| JP2017180573A (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 東京瓦斯株式会社 | ガス供給システム |
| CN114320232A (zh) * | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 中国石油天然气股份有限公司 | 气井环空泄压管线的加热控制装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09159142A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-20 | Ship & Ocean Zaidan | 炭酸水排出システム |
| WO1999019282A1 (en) * | 1997-10-14 | 1999-04-22 | Mobil Oil Corporation | Method and apparatus for producing gas hydrates |
| JPH11130700A (ja) * | 1997-10-28 | 1999-05-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | メタンハイドレートの製造方法及び製造装置 |
| JP2001010988A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | メタンハイドレートの製造方法 |
-
1999
- 1999-12-10 JP JP35166399A patent/JP2001165398A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09159142A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-20 | Ship & Ocean Zaidan | 炭酸水排出システム |
| WO1999019282A1 (en) * | 1997-10-14 | 1999-04-22 | Mobil Oil Corporation | Method and apparatus for producing gas hydrates |
| JPH11130700A (ja) * | 1997-10-28 | 1999-05-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | メタンハイドレートの製造方法及び製造装置 |
| JP2001010988A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | メタンハイドレートの製造方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100808777B1 (ko) | 2007-02-09 | 2008-03-03 | 현대중공업 주식회사 | 액화천연가스 재 기화 설비의 배출 가스 처리 장치 |
| JP2012236740A (ja) * | 2011-05-11 | 2012-12-06 | Central Research Institute Of Electric Power Industry | 水素ハイドレート生成方法及び水素貯蔵システム |
| KR101422593B1 (ko) * | 2012-05-15 | 2014-07-23 | 삼성중공업 주식회사 | 하이드레이트 생성을 방지하는 수송관 |
| JP2014214284A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレート製造装置 |
| JP2017180573A (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 東京瓦斯株式会社 | ガス供給システム |
| CN114320232A (zh) * | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 中国石油天然气股份有限公司 | 气井环空泄压管线的加热控制装置 |
| CN114320232B (zh) * | 2020-09-30 | 2024-03-26 | 中国石油天然气股份有限公司 | 气井环空泄压管线的加热控制装置 |
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