JP2001160242A - Method for manufacturing master disk for optical information recording medium and apparatus for the same - Google Patents

Method for manufacturing master disk for optical information recording medium and apparatus for the same

Info

Publication number
JP2001160242A
JP2001160242A JP34266099A JP34266099A JP2001160242A JP 2001160242 A JP2001160242 A JP 2001160242A JP 34266099 A JP34266099 A JP 34266099A JP 34266099 A JP34266099 A JP 34266099A JP 2001160242 A JP2001160242 A JP 2001160242A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
primer
photoresist
glass substrate
information recording
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34266099A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuya Atokawa
和也 後川
Kiyohiko Takagi
清彦 高木
Hideyuki Ishimaru
秀行 石丸
Kazuyuki Inoue
和行 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP34266099A priority Critical patent/JP2001160242A/en
Publication of JP2001160242A publication Critical patent/JP2001160242A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a master disk for a high-accuracy and high-density optical information recording medium which assures the uniformity of the thickness of a resist coating film on a substrate surface in order to increase the memory capacity of the optical information recording medium, such as optical disk. SOLUTION: The method for manufacturing the master disk of the optical information recording medium including a means for applying a primer 19 on a glass substrate 2, a means for drying this primer 19, a means for applying a photoresist 13 onto a primer layer 20 and a means for drying the applied photoresist 13 consists of stages for repeating the steps of applying the primer 19 on the glass substrate 2 within a closed vessel 1, then forcibly discharging the gas evaporated from the primer 19 from the vessel 1, applying the primer 19 in the enclosed vessel 1 and forcibly discharging the evaporated gas of the primer 19 in the same manner as described above, then applying the photoresist 13 in the reclosed vessel 1 and opening the inside of the vessel to the outdoor air, thereby drying the photoresist.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学的情報記録媒
体の基板に情報記録層を形成する原盤の製造方法と製造
装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a master for forming an information recording layer on a substrate of an optical information recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザ光を利用して高密度な情報の再
生、あるいは記録を行う技術は公知であり、主に光ディ
スクとして実用化されている。この、光ディスクは再生
専用型、追記型、書き換え型に大別することができ、再
生専用型は音楽情報を記録したコンパクト・ディスクと
称されるディスクや画像情報を記録したレーザディスク
と称されるディスク等として、また追記型は文書ファイ
ルや静止画ファイル等として、さらに書き換え型はパソ
コン用のデータファイル等として商品化されている。
2. Description of the Related Art A technique for reproducing or recording high-density information using a laser beam is well known, and is mainly put to practical use as an optical disk. The optical disks can be broadly classified into a read-only type, a write-once type, and a rewritable type. The read-only type is called a disk called a compact disk on which music information is recorded or a laser disk on which image information is recorded. Disks and the like, and the write-once type are commercialized as document files and still image files, and the rewritable type are commercialized as data files for personal computers.

【0003】光ディスクの形態としては、厚さ1.2m
mの透明樹脂基板の一方の主面に情報層を設け、その上
にオーバコート等の保護膜を設けたもの、あるいは基板
と同一の保護板を接着剤により貼り合わせたものが一般
的である。ところで上記光ディスクの基板主面に設けら
れる情報層は、透明樹脂基板を成形する際に記録情報層
を形成した原盤よりプレスなどにより転写される。
[0003] The optical disk has a thickness of 1.2 m.
In general, an information layer is provided on one main surface of a transparent resin substrate of m, and a protective film such as an overcoat is provided thereon, or the same protective plate as the substrate is bonded with an adhesive. . The information layer provided on the main surface of the substrate of the optical disk is transferred from a master on which a recording information layer is formed by pressing or the like when a transparent resin substrate is molded.

【0004】また、このような光ディスクの記録容量を
増加するには、記録情報パターンの微細化が不可欠とな
る。次に、従来の光ディスク原盤の製造方法を図6に示
す。まず、極めて平滑性の高いガラス基板2を図6
(A)に示すように回転テーブル5上に固定する。な
お、回転テーブル5は回転軸6の上部に取り付けられて
おり、モーター(図示せず)により駆動可能とされてい
る。
In order to increase the recording capacity of such an optical disc, it is essential to make the recording information pattern finer. Next, a method of manufacturing a conventional optical disk master is shown in FIG. First, an extremely smooth glass substrate 2 was prepared as shown in FIG.
It is fixed on the turntable 5 as shown in FIG. The turntable 5 is mounted on the upper part of the rotary shaft 6 and can be driven by a motor (not shown).

【0005】この状態でガラス基盤2の表面を超音波洗
浄などの方法で洗浄した後、乾燥させる。次に、図6
(B)に示すようにガラス基盤2の表面にプライマー塗
布ノズル3よりプライマー10を塗布し、乾燥させるこ
とによりプライマー層12(図6(C))を形成する。
In this state, the surface of the glass substrate 2 is cleaned by a method such as ultrasonic cleaning and then dried. Next, FIG.
As shown in (B), the primer 10 is applied to the surface of the glass substrate 2 from the primer application nozzle 3 and dried to form the primer layer 12 (FIG. 6C).

【0006】その後、図6(C)に示すように、フォト
レジスト塗布ノズル4より一定量のフォトレジスト11
をプライマー層12を形成したガラス基板2上に塗布
し、テーブル5を回転させることで、ガラス基板2上に
均一に分散させフォトレジスト層13(図6(D))を
形成する。その後、フォトレジスト層13の有機溶剤分
を揮発させるため、ホットプレートあるいはオーブン
(図示省略)などで加熱を行う。
[0006] Thereafter, as shown in FIG.
Is applied on the glass substrate 2 on which the primer layer 12 is formed, and the table 5 is rotated to be uniformly dispersed on the glass substrate 2 to form a photoresist layer 13 (FIG. 6D). Thereafter, in order to volatilize the organic solvent component of the photoresist layer 13, heating is performed using a hot plate or an oven (not shown).

【0007】上記図6(B)に示したプライマー10
は、図6(C)のフォトレジスト11とガラス基板2の
表面との密着性を高めるものであり、従来では一般にヘ
キサメチルジシラザン(以下HMDS)、シランカップ
リング剤、チタンカップリング剤などが用いられてい
る。次いで、図6(D)に示すようにレーザ光Lを照射
し、所定の情報信号に対応したパターンをフォトレジス
ト層13に露光する。
The primer 10 shown in FIG.
Is to enhance the adhesion between the photoresist 11 of FIG. 6 (C) and the surface of the glass substrate 2, and conventionally, hexamethyldisilazane (hereinafter, HMDS), a silane coupling agent, a titanium coupling agent and the like are generally used. Used. Next, as shown in FIG. 6D, a laser beam L is irradiated to expose the photoresist layer 13 to a pattern corresponding to a predetermined information signal.

【0008】続いて、図6(E)に示すように露光した
フォトレジスト層13を現像液14で処理することによ
り露光部分を現像除去する。その結果、図6(F)に示
すような情報信号に対応した凹凸パターン15が形成さ
れる。次に、図6(G)に示すような凹凸パターン15
にスパッタリング法、蒸着法、無電解めっき法などの方
法でニッケルの金属皮膜16を形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 6E, the exposed portion of the photoresist layer 13 is treated with a developing solution 14 to develop and remove the exposed portion. As a result, an uneven pattern 15 corresponding to the information signal as shown in FIG. Next, an uneven pattern 15 as shown in FIG.
Then, a nickel metal film 16 is formed by a method such as a sputtering method, a vapor deposition method, and an electroless plating method.

【0009】そして、図6(H)に示すように、この金
属皮膜16を電極として電気めっき法により所望の厚さ
にニッケル層17を析出形成し、金属皮膜16およびニ
ッケル層17をガラス基板2から引き剥がし、表面に残
留しているフォトレジストを洗浄後、乾燥させて、図6
(I)に示すような原盤(以下スタンパ)18が完成す
る。
Then, as shown in FIG. 6H, a nickel layer 17 is deposited and formed to a desired thickness by electroplating using the metal film 16 as an electrode, and the metal film 16 and the nickel layer 17 are formed on the glass substrate 2. 6 and the photoresist remaining on the surface is washed and dried, and FIG.
A master (hereinafter, stamper) 18 as shown in (I) is completed.

【0010】このような原盤の製造方法において、記憶
容量を増加させるため前述した記録情報パターンの微細
化に対応するためには、フォトレジスト層13の厚みを
薄く且つ均一化する事が必須となり、更にこのために
は、ガラス基板2とフォトレジスト層13との密着性を
十分に高めておく必要があり、プライマーの性能が問題
になる。
In such a method of manufacturing a master, it is essential to make the thickness of the photoresist layer 13 thin and uniform in order to cope with the above-described miniaturization of the recording information pattern in order to increase the storage capacity. Further, for this purpose, it is necessary to sufficiently increase the adhesion between the glass substrate 2 and the photoresist layer 13, and the performance of the primer becomes a problem.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のフォ
トレジスト層13を製造する工程ではプライマーとして
HMDS、シランカップリング剤、チタンカップリング
剤などが用いられているが、従来にも増して薄く且つ均
一なフォトレジスト層を成層するには、どのプライマー
も以下のようにそれぞれに問題を有している。
In the process of manufacturing the conventional photoresist layer 13, HMDS, a silane coupling agent, a titanium coupling agent and the like are used as primers. In order to form a uniform photoresist layer, each primer has its own problems as follows.

【0012】まず、シランカップリング剤はガラス基板
2に塗布した後に超純水、イソプロピルアルコールで洗
浄し、さらに100℃以上で数時間ベークしてから冷却
するといった処理が必要で、処理に非常に時間がかか
り、また、洗浄機やオーブンなどの専用設備を設けなけ
ればならないといった問題がある。次に、チタンカップ
リング剤はガラス基板2にスピンコーターなどで塗布
し、振り切り乾燥させればよいので塗布工程は簡単であ
るが、チタンカップリング剤の取扱が難しく、空気中に
放置するだけで空気中の水分と反応して白く結晶化す
る。
First, the silane coupling agent needs to be applied to the glass substrate 2, washed with ultrapure water and isopropyl alcohol, baked at 100 ° C. or higher for several hours, and then cooled. There are problems that it takes time and that dedicated equipment such as a washing machine and an oven must be provided. Next, the titanium coupling agent is applied to the glass substrate 2 with a spin coater or the like, and is then shaken off and dried. Therefore, the application process is simple. Reacts with moisture in the air to form white crystals.

【0013】従って、プライマーを塗布するノズルの先
端にチタンカップリング剤が付着して固化し、固化した
チタンカップリング剤がガラス基板2上に落下するなど
して表面に付着し、後に塗布するフォトレジストのムラ
やシミとなって現れ、微細化されたパターンを形成し得
る良好なスタンパ18が得られない場合が起こりやす
い。
Accordingly, the titanium coupling agent adheres to the tip of the nozzle for applying the primer and solidifies, and the solidified titanium coupling agent adheres to the surface by dropping onto the glass substrate 2 or the like, and is subsequently applied to the photo-coating layer. It tends to occur that a good stamper 18 that appears as unevenness or spots on the resist and can form a miniaturized pattern cannot be obtained.

【0014】一方、HMDSは他のプライマーに比べ密
着の点で劣るという欠点を有しているが、塗布工程は簡
単である利点を有する。また、従来の塗布方法において
も、薄く且つ均一なフォトレジスト層を成形するには困
難となる問題があった。即ち、図5は従来の塗布手段の
説明図であり、図5(A)に示すように、蓋体8a、9
aを閉じることにより密閉した容器1内にガラス基板2
を支持し、このガラス基板2を低速回転させながら、バ
ブリング装置(図示せず)で気化させたプライマー蒸気
19を塗布ノズル3より吹き付け、その後図5(C)に
示すようにフォトレジスト11を塗布するという方法が
行なわれている。
On the other hand, HMDS has a disadvantage that it is inferior in adhesion to other primers, but has the advantage that the coating process is simple. In addition, the conventional coating method has a problem that it is difficult to form a thin and uniform photoresist layer. That is, FIG. 5 is an explanatory view of a conventional coating means, and as shown in FIG.
a in a closed container 1 by closing the glass substrate 2
While the glass substrate 2 is rotated at a low speed, the primer vapor 19 vaporized by a bubbling device (not shown) is sprayed from the application nozzle 3 and then the photoresist 11 is applied as shown in FIG. The method of doing is performed.

【0015】しかし、この方法では、プライマー蒸気1
9の噴出に脈動が生じると、ガラス基板2の表面に一様
にプライマー層12を作ることが困難となり、この結果
ガラス基板表面のプライマー蒸気19の濡れ性がばらつ
き、後に塗布するフォトレジスト11をガラス板2表面
に均一に分散し、フォトレジスト層13の膜厚を均一に
確保することが困難となる問題があった。
However, in this method, the primer vapor 1
When pulsation occurs in the ejection of the nozzle 9, it becomes difficult to uniformly form the primer layer 12 on the surface of the glass substrate 2, and as a result, the wettability of the primer vapor 19 on the surface of the glass substrate varies, so that There is a problem that it is difficult to uniformly distribute the photoresist layer 13 on the surface of the glass plate 2 and to ensure a uniform thickness of the photoresist layer 13.

【0016】また、プライマー塗布後、同一の容器1内
で続けてフォトレジスト11の塗布を行うと、図5
(B)に示すように容器中にプライマー蒸気21が充満
するので図5(C)に示すように、容器中の残留プライ
マー蒸気21が、塗布されたフォトレジスト11に含ま
れる有機溶剤分23の揮発の妨げとなり、フォトレジス
ト13の膜厚を均一に確保することが困難となる問題が
あった。
After the application of the primer, the photoresist 11 is continuously applied in the same container 1 as shown in FIG.
As shown in FIG. 5B, since the primer vapor 21 is filled in the container, as shown in FIG. 5C, the residual primer vapor 21 in the container becomes the organic solvent component 23 contained in the applied photoresist 11. There is a problem that the evaporation is hindered and it is difficult to ensure a uniform film thickness of the photoresist 13.

【0017】本発明は、上記問題に鑑み、基板面レジス
ト塗布膜厚の均一性を確保し、高精度で且つ高密度な光
学的情報記録媒体の原盤製造方法を提供することを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a method of manufacturing a master of an optical information recording medium with high accuracy and high density, while ensuring uniformity of a resist coating thickness on a substrate surface.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明による光学的情報
記録媒体の原盤製造方法は、ガラス基板上にプライマー
を塗布する手段と、前記プライマーを乾燥させる手段
と、プライマー層上にフォトレジストを塗布する手段
と、塗布した前記フォトレジストを乾燥させる手段とを
含む光学的情報記録媒体の原盤製造方法において、閉じ
た容器中で前記ガラス基板上にプライマーを塗布後、前
記プライマーからの蒸発ガスを前記容器から強制排気
し、次に、再び閉じた前記容器中で前記プライマーを塗
布後、前記と同様に前記プライマーの蒸発ガスを強制排
気することを繰り返し、その後再度閉じた容器内でフォ
トレジストを塗布後、容器内を外気と開通して乾燥させ
るものである。
According to the present invention, there is provided a method for producing a master of an optical information recording medium, comprising: means for applying a primer on a glass substrate; means for drying the primer; and applying a photoresist on the primer layer. Means, and a method of manufacturing a master disc of an optical information recording medium including means for drying the applied photoresist, after applying a primer on the glass substrate in a closed container, the evaporating gas from the primer the said gas Forcibly evacuate the container, then apply the primer in the closed container again, repeat the forced evacuation of the evaporating gas of the primer in the same manner as above, and then apply the photoresist in the closed container again Thereafter, the inside of the container is opened with the outside air and dried.

【0019】即ち、従来1回の塗布工程で行っていたプ
ライマー蒸気の塗布処理を数段階に分け、これによって
ガラス基板表面の濡れ性を均一にし、かつフォトレジス
トの有機溶剤分の揮発の妨げとなる容器中の残留プライ
マー蒸気を排気・除去した後に、フォトレジスト塗布工
程を行うので基板面レジスト塗布膜厚の均一性が確保で
き、高精度で且つ高密度な光学的情報記録媒体の原盤が
得られるのである。
That is, the coating process of the primer vapor, which has been conventionally performed in one coating process, is divided into several steps, thereby making the wettability of the surface of the glass substrate uniform and preventing the volatilization of the organic solvent component of the photoresist. After exhausting and removing the residual primer vapor in the container, the photoresist coating process is performed, so that the uniformity of the resist coating film thickness on the substrate surface can be ensured, and a high-precision and high-density optical information recording medium master can be obtained. It is done.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、ガラス基板上に情報記録層を形成するための原盤の
製造方法であって、ガラス基板上にプライマーを塗布す
る手段と、前記プライマーを乾燥させる手段と、プライ
マー層上にフォトレジストを塗布する手段と、塗布した
前記フォトレジストを乾燥させる手段とを含む光学的情
報記録媒体の原盤製造方法において、閉じた容器中で前
記ガラス基板上にプライマーを塗布後、前記プライマー
からの蒸発ガスを前記容器から強制排気し、次に、再び
閉じた前記容器中で前記プライマーを塗布後、前記と同
様にプライマーの蒸発ガスを強制排気することを繰り返
し、その後再度閉じた容器内でフォトレジストを塗布
後、容器内を外気と開通して乾燥させるのである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 of the present invention is a method for manufacturing a master for forming an information recording layer on a glass substrate, comprising: means for applying a primer on the glass substrate; Means for drying the primer, means for applying a photoresist on the primer layer, and means for drying the coated photoresist, the method for producing a master of an optical information recording medium, wherein the glass in a closed container After applying the primer on the substrate, the evaporative gas from the primer is forcibly exhausted from the container, and then, after applying the primer in the closed container again, the evaporative gas for the primer is forcibly exhausted as described above. This is repeated, and thereafter, the photoresist is applied in the closed container, and the inside of the container is opened to the outside air and dried.

【0021】即ちこの発明は、フォトレジスト塗布前の
プライマー層を多数回に分けて塗布し、プライマー層を
一様にし、かつフォトレジストの有機溶剤分の揮発の妨
げとなる容器中の残留プライマー蒸気を排気・除去する
ことにより、フォトレジストの膜厚分布の均一性を確保
するのである。請求項2に記載の発明は、上記の光学的
情報記録媒体の原盤製造方法において、ガラス基板上に
一次プライマーを塗布した後、該塗布面に20℃〜25
℃に保った乾燥空気を流量3m3/分〜5m3/分で吹き
つけ前記一次プライマーを乾燥させるものである。
That is, the present invention relates to a method of applying a primer layer before applying a photoresist in a number of steps to make the primer layer uniform and to prevent residual organic solvent vapor from evaporating in an organic solvent in the photoresist. Is exhausted and removed to ensure uniformity of the photoresist film thickness distribution. According to a second aspect of the present invention, in the above-mentioned method for producing a master for an optical information recording medium, after applying a primary primer on a glass substrate, the coated surface is coated at a temperature of 20 ° C to 25 ° C.
℃ in dry air blown at a flow rate of 3m 3 / min ~5m 3 / min was maintained above is used for drying the primary primer.

【0022】この発明によれば、フォトレジスト塗布前
のガラス基板表面のプライマー層からの蒸発ガスを一定
条件の乾燥空気の吹き付けによって早期に乾燥させ、プ
ライマー層の状態を一様にすると共に、フォトレジスト
の有機溶剤分の揮発の妨げとなる容器中の残留プライマ
ー蒸気をより確実に排気・除去することにより、フォト
レジストの膜厚分布の更なる均一性を確保するという作
用を有する。
According to the present invention, the evaporation gas from the primer layer on the surface of the glass substrate before the application of the photoresist is dried at an early stage by spraying dry air under a certain condition to make the state of the primer layer uniform and to make the photoconductive layer uniform. By more reliably evacuating and removing the residual primer vapor in the container that hinders the volatilization of the organic solvent component of the resist, it has the effect of ensuring further uniformity of the photoresist film thickness distribution.

【0023】乾燥空気の温度条件を20℃〜25℃とす
るのは、常温処理を目的としており、特に冷却したり加
熱するコストを省略するためである。流量を3m3/分
〜5m3/分とするのは、3m3/分より少なくすると、
乾燥のための空気量が不足し、所定の乾燥状態となるま
でに処理時間が掛かり過ぎるためであり、5m3/分よ
り多くすると風速によりプライマー層が影響を受けるこ
とがあり、また、送風のための大掛かりな設備も必要と
なり却って不経済となるからである。
The reason why the temperature condition of the dry air is set to 20 ° C. to 25 ° C. is to perform a normal temperature treatment, and particularly to omit the cost of cooling and heating. To the flow rate and 3m 3 / min ~5m 3 / min, when less than 3m 3 / min,
This is because the amount of air for drying is insufficient and it takes too much processing time to reach a predetermined drying state. If the air amount is more than 5 m 3 / min, the primer layer may be affected by the wind speed, and This requires large-scale equipment, which is uneconomical.

【0024】請求項3の発明は上記方法を実施する光学
的情報記録媒体の原盤製造装置に関し、上面に給気口、
床面に排気口が形成され、蓋閉可能な容器内に、ガラス
基板を支持する回転テーブルが回転可能に軸支され、該
回転テーブル上面には塗布ノズルが前記回転テーブルの
径方向に移動可能に支持されてなるものである。この装
置により、上記発明が容易に実施可能となる。
A third aspect of the present invention relates to an apparatus for manufacturing a master of an optical information recording medium for performing the above method, wherein an air supply port is provided on an upper surface.
An exhaust port is formed on the floor surface, and a rotating table that supports the glass substrate is rotatably supported in a container that can be closed, and a coating nozzle can be moved in the radial direction of the rotating table on the upper surface of the rotating table. It is supported by. With this device, the above invention can be easily implemented.

【0025】請求項4の発明は、上記請求項3の光学的
情報記録媒体の原盤製造装置において、蓋閉可能な容器
の上面に形成された給気口に、調和空気供給手段が連通
されているものである。この調和空気供給手段により、
任意の温度、乾燥条件の空気を供給でき、プライマーや
フォトレジストに最も適した乾燥条件を設定できるので
ある。
According to a fourth aspect of the present invention, in the apparatus for manufacturing a master of an optical information recording medium according to the third aspect, a conditioned air supply means is communicated with an air supply port formed on an upper surface of a container that can be closed. Is what it is. By this conditioned air supply means,
Air at any temperature and drying conditions can be supplied, and drying conditions most suitable for primers and photoresists can be set.

【0026】以下、本発明の実施の形態について、図
1、図2を用いて説明する。 (実施の形態)図1にガラス基板上に情報記録層を形成
するための原盤の製造装置におけるガラス基板のプライ
マー処理およびフォトレジスト塗布処理を行う装置を示
す。本装置の場合、プライマー処理とフォトレジスト塗
布は同一容器内で引き続いて行われる。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. (Embodiment) FIG. 1 shows an apparatus for performing a primer treatment and a photoresist coating treatment on a glass substrate in an apparatus for manufacturing an original master for forming an information recording layer on a glass substrate. In the case of this apparatus, the priming and the photoresist application are performed successively in the same container.

【0027】図1において容器1は、内部に設置される
ガラス基板2上にプライマーを塗布し、蒸発乾燥させ、
続いてフォトレジスト塗布を行い振り切り乾燥させるも
ので内部には、ホルダーテーブル5が回転軸6に支持さ
れ、この回転軸6にはモータ7が設けられて低速〜高速
に回転制御可能とされている。上記ホルダーテーブル5
上面には、プライマー塗布ノズル3とフォトレジスト塗
布ノズル4とが、ホルダーテーブル5の径方向へ平行移
動可能に支持されており、さらに前記容器1に、開閉自
在な蓋体8a、9aを備えたエアー吹き出し口8と排気
口9とを備えている。
In FIG. 1, a container 1 is applied with a primer on a glass substrate 2 installed therein, and is dried by evaporation.
Subsequently, a photoresist is applied and shake-dried. Inside, a holder table 5 is supported by a rotating shaft 6, and a motor 7 is provided on the rotating shaft 6 so that rotation can be controlled at a low speed to a high speed. . The above holder table 5
On the upper surface, a primer coating nozzle 3 and a photoresist coating nozzle 4 are supported so as to be able to move in parallel in the radial direction of the holder table 5, and the container 1 is provided with lids 8a and 9a that can be opened and closed. An air outlet 8 and an exhaust port 9 are provided.

【0028】また、図示は省略したが、上記容器1内に
はホルダーテーブル5に取り付けたガラス基板2表面を
洗浄する超音波洗浄装置(図示省略)も備えられてい
る。上記におけるプライマー塗布ノズル3、フォトレジ
スト塗布ノズル4は共に回転するガラス基板2の回転中
心2aから径方向に平行移動可能に支持されており、図
2に示すように伸縮パイプ3aによりノズル3(4)を
ガラス基板2の径方向に直線的に移動させる場合と、図
5に示すようにスイングアーム3bによりガラス基板2
の中心を通って径方向に近似直線式に移動させるように
する場合とがある。
Although not shown, the container 1 is also provided with an ultrasonic cleaning device (not shown) for cleaning the surface of the glass substrate 2 attached to the holder table 5. The above-mentioned primer coating nozzle 3 and photoresist coating nozzle 4 are supported so as to be able to move in parallel in the radial direction from the rotation center 2a of the glass substrate 2 which rotates together, and as shown in FIG. ) Is linearly moved in the radial direction of the glass substrate 2 and, as shown in FIG.
May be moved in an approximate linear manner in the radial direction through the center.

【0029】また、プライマー塗布ノズル3のプライマ
ー供給源には、図示は省略したが、窒素ガスなどを使用
してプライマーをバブリングするバブリング装置が接続
されている。エアー吹き出し口8、排気口9の開閉蓋8
a、9aはそれぞれ密閉蓋とされ、蓋閉時は容器1内を
密閉できるようにされている。
Although not shown, a bubbling device for bubbling the primer using a nitrogen gas or the like is connected to the primer supply source of the primer coating nozzle 3. Open / close lid 8 for air outlet 8 and exhaust port 9
Reference numerals a and 9a denote hermetic lids, respectively, so that the inside of the container 1 can be sealed when the lid is closed.

【0030】そして、このエアー吹き出し口8、排気口
9からのエアー供給と排気を強制的に行うことにより容
器1内の雰囲気を制御できるようにされている。次に、
上記装置を使用した光学的情報記録媒体の原盤製造方法
を説明する。最初に、極めて平滑性の高いガラス基板2
を図1に示すようにテーブル5上に接着または回転テー
ブル5に設けた吸引装置(図示省略)により固定し、前
記ガラス基板2表面を超音波洗浄装置(図示省略)で洗
浄した後乾燥させる。
The atmosphere in the container 1 can be controlled by forcibly supplying and exhausting air from the air outlet 8 and the exhaust port 9. next,
A method for manufacturing a master of an optical information recording medium using the above apparatus will be described. First, an extremely smooth glass substrate 2
Is fixed on the table 5 by a suction device (not shown) provided on the rotating table 5 as shown in FIG. 1, and the surface of the glass substrate 2 is washed with an ultrasonic cleaning device (not shown) and then dried.

【0031】なお、このときガラス基板2上に水滴が残
っていると後のフォトレジスト塗布工程にて均一なフォ
トレジスト層が成形できないため、ガラス基板2の表面
は十分に乾燥させておく。具体的には、回転振り切り乾
燥を行う場合は、ガラス基板2を1000rpm以上の
回転数で2分以上回転させることが望ましい。次にプラ
イマー塗装工程に移る。図4(A)〜(F)にプライマ
ー及びフォトレジスト塗布工程を示す。
At this time, if water droplets remain on the glass substrate 2, a uniform photoresist layer cannot be formed in the subsequent photoresist coating step, so that the surface of the glass substrate 2 is sufficiently dried. Specifically, in the case of performing the spin-off drying, it is desirable to rotate the glass substrate 2 at a rotation speed of 1000 rpm or more for 2 minutes or more. Next, the process proceeds to a primer coating process. 4 (A) to 4 (F) show the steps of applying a primer and a photoresist.

【0032】まず、図4(A)に示すように、エアー吹
き出し口8、排気口9を閉じて容器1を密閉し、50〜
100rpmの低速で回転テーブル5を回転させ、回転
テーブル5上のガラス基板2に、N2ガスにてバブリン
グしたHMDSから成るプライマー蒸気19をガラス基
板5表面から3mm〜10mmの高さより噴出させ塗布
する。
First, as shown in FIG. 4A, the air outlet 8 and the exhaust port 9 are closed to seal the container 1, and
The rotary table 5 is rotated at a low speed of 100 rpm, and the glass substrate 2 on the rotary table 5 is sprayed with a primer vapor 19 made of HMDS bubbled with N 2 gas from the surface of the glass substrate 5 at a height of 3 mm to 10 mm for coating. .

【0033】このとき、バブリング装置(図示せず)に
接続された塗布ノズル3はガラス基板2の最外周から中
心へ矢印出示すように移動させつつ塗布を行い、ガラス
基板2全体にプライマー蒸気19が行き渡るようにす
る。そして、ガラス基板表面に塗布されてプライマーは
基板表面の水分子と反応し一次プライマー層20(図4
(B))を形成する。
At this time, the coating nozzle 3 connected to a bubbling device (not shown) performs coating while moving from the outermost periphery of the glass substrate 2 to the center as shown by an arrow, and the primer vapor 19 spreads over the entire glass substrate 2. So that it is distributed. Then, the primer is applied to the glass substrate surface, and the primer reacts with water molecules on the substrate surface, and the primary primer layer 20 (FIG. 4)
(B)) is formed.

【0034】ちなみに容器1を密閉せず、排気口9から
排気を行いながら上記方法でプライマー塗布を行った場
合には、プライマーがガラス基板表面に付着し反応する
前に排出されてしまい、ガラス基板表面に十分なプライ
マー層を形成することができず、後で塗布するフォトレ
ジスト層との密着性が得られず、現像工程でレジスト層
がガラス基板から剥がれるといった問題が起こる。
Incidentally, when the primer is applied by the above-mentioned method while the container 1 is not sealed and the air is exhausted from the exhaust port 9, the primer adheres to the surface of the glass substrate and is discharged before reacting. There is a problem that a sufficient primer layer cannot be formed on the surface, adhesion to a photoresist layer to be applied later cannot be obtained, and the resist layer is peeled off from the glass substrate in the developing step.

【0035】このプライマー19をガラス基板5全面に
塗布した後、図4(B)に示すようにエアー吹き出し口
8、排気口9を開放すると共にエアー吹き出し口8よ
り、22℃に保たれ湿度55%に調整された乾燥空気
を、流量4m3/分吹きつけ、同時に遠心送風機(図示
せず)と接続された排気口9より容器1内の空気を強制
排気し、基板2上に塗布されたHMDSから成るプライ
マー19をガラス基板2の表面に拡散浸透させつつ乾燥
させる。
After the primer 19 is applied to the entire surface of the glass substrate 5, the air outlet 8 and the air outlet 9 are opened as shown in FIG. % Of dry air was blown at a flow rate of 4 m 3 / min, and at the same time, the air in the container 1 was forcibly exhausted from an exhaust port 9 connected to a centrifugal blower (not shown) to apply the air onto the substrate 2. The primer 19 made of HMDS is dried while diffusing and penetrating into the surface of the glass substrate 2.

【0036】十分に乾燥後、再び図5(C)に示すよう
に、エアー吹き出し口8、排気口9を閉じて容器1を密
閉し、再びガラス基板2の表面にバブリング装置にて気
化されたプライマー蒸気19をプライマー塗布ノズル3
よりガラス基板表面から3mm〜10mmの高さより塗
布する。このときも前記と同様、ガラス基板2を50r
pm〜100rpmの低速で回転させ、また、プライマ
ー塗布ノズル3をガラス基板2の最外周から中心へ移動
させてプライマー蒸気19をガラス基板2の表面に行き
渡るようにする。ガラス基板2表面のプライマーは基板
表面の水分子と反応しプライマー層20を形成する。
After sufficient drying, as shown in FIG. 5C, the air outlet 8 and the exhaust port 9 were closed to close the container 1, and the surface of the glass substrate 2 was vaporized again by the bubbling device. Primer vapor 19 is applied to primer application nozzle 3
It is applied from a height of 3 mm to 10 mm from the surface of the glass substrate. At this time, similarly to the above, the glass substrate 2 is
It is rotated at a low speed of pm to 100 rpm, and the primer application nozzle 3 is moved from the outermost periphery of the glass substrate 2 to the center so that the primer vapor 19 spreads over the surface of the glass substrate 2. The primer on the surface of the glass substrate 2 reacts with water molecules on the surface of the substrate to form a primer layer 20.

【0037】次に、図4(D)に示すようにエアー吹き
出し口8、排気口9を開放すると共にエアー吹き出し口
8から温度22℃湿度55%に調整した清浄調和空気を
ガラス基板表面に吹き付け、同時に排気口19を開くこ
とにより、容器1中に残留するプライマー蒸気21を排
気口19より強制排気する。なお、残留するプライマー
蒸気21を十分に排気するためには、前記清浄調和空気
の流量を4m3/分で行った場合、排気時間は5分以上
が望ましい。
Next, as shown in FIG. 4 (D), the air outlet 8 and the air outlet 9 are opened, and clean conditioned air adjusted to a temperature of 22 ° C. and a humidity of 55% is blown from the air outlet 8 onto the surface of the glass substrate. Simultaneously, by opening the exhaust port 19, the primer vapor 21 remaining in the container 1 is forcibly exhausted from the exhaust port 19. In order to sufficiently exhaust the residual primer vapor 21, when the flow rate of the clean conditioned air is 4 m 3 / min, the exhaust time is desirably 5 minutes or more.

【0038】上述の、図4(A)〜図4(D)のプライ
マー塗布と強制排気を数回にわたり繰り返して行うこと
により、フォトレジスト塗布前に形成されるプライマー
層によるガラス基板表面の濡れ性を一様とする。つづい
て、図4(E)に示すように開閉蓋8a、9aを閉じ、
再度容器1を密閉し、フォトレジスト塗布ノズル4より
一定量のフォトレジスト11をガラス基板上に供給し、
図4(F)に示すように残留プライマー排気時と条件と
同じ条件で排気を行いながら、ガラス基盤2を高速回転
させることによりフォトレジストをガラス基板表面に均
一に分散させ、同時に有機溶剤分23を揮発させ、ガラ
ス基板2上にフォトレジスト層13を形成する。
By repeating the above-described primer application and forced evacuation several times in FIGS. 4A to 4D, the wettability of the glass substrate surface by the primer layer formed before the photoresist application is obtained. Is uniform. Subsequently, as shown in FIG. 4E, the open / close lids 8a and 9a are closed,
The container 1 is sealed again, and a certain amount of the photoresist 11 is supplied from the photoresist coating nozzle 4 onto the glass substrate.
As shown in FIG. 4 (F), the photoresist is uniformly dispersed on the surface of the glass substrate by rotating the glass substrate 2 at a high speed while evacuating the residual primer under the same conditions as when exhausting the residual primer. Is volatilized to form a photoresist layer 13 on the glass substrate 2.

【0039】上述の、図4(A)〜図4(D)のプライ
マー塗布と強制排気を数回にわたり繰り返して行うこと
により、フォトレジスト塗布前に形成されるプライマー
層によるガラス基板表面の濡れ性が一様とすることと、
フォトレジストの有機溶剤分の揮発の妨げとなる残留プ
ライマーを容器1から除去するといった効果から、後に
塗布、形成するフォトレジスト層13の膜厚を均一に保
つことができるのである。
By repeating the above-described primer application and forced evacuation several times in FIGS. 4A to 4D, the wettability of the glass substrate surface by the primer layer formed before the photoresist application is obtained. Is uniform, and
Due to the effect of removing the residual primer that hinders the volatilization of the organic solvent component of the photoresist from the container 1, the thickness of the photoresist layer 13 to be applied and formed later can be kept uniform.

【0040】このフォトレジスト層の膜厚および分布は
フォトレジストの粘度、滴下量、ガラス基板の回転速
度、容器1内の雰囲気などにより決まる。なお、プライ
マー19としてはマイクロポジットプライマー(シプレ
イ社)、フォトレジスト11としてはS1805(シプ
レイ社)、IP3000シリーズ(東京応化)などを用
いることができる。
The thickness and distribution of the photoresist layer are determined by the viscosity of the photoresist, the amount of drop, the rotation speed of the glass substrate, the atmosphere in the container 1, and the like. In addition, as the primer 19, a micropositive primer (Shipley), and as the photoresist 11, S1805 (Shipley), IP3000 series (Tokyo Oka) and the like can be used.

【0041】その後のスタンパを製造する工程は従来と
基本的に同じである。即ち、フォトレジスト13を塗布
した後は、フォトレジストに含まれる有機溶剤分を十分
に揮発させ、膜厚を安定させると共にフォトレジストの
感度を調整するため、ホットプレートあるいはオーブン
などで加熱する。即ち、既述の図6(D)に示すように
フォトレジスト層13が形成されたガラス基板2にレー
ザ光Lを照射することで、所定の情報信号に対応したパ
ターンでフォトレジスト層13を露光する。
Subsequent steps for manufacturing the stamper are basically the same as those in the related art. That is, after the photoresist 13 is applied, the photoresist 13 is heated on a hot plate or an oven in order to sufficiently volatilize the organic solvent contained in the photoresist, stabilize the film thickness and adjust the sensitivity of the photoresist. That is, by irradiating the glass substrate 2 on which the photoresist layer 13 is formed with laser light L as shown in FIG. 6 (D), the photoresist layer 13 is exposed in a pattern corresponding to a predetermined information signal. I do.

【0042】続いて、図6(E)に示すようにフォトレ
ジスト層13を現像液14で処理することにより露光部
分を現像除去し、図6(F)に示すような情報信号に対
応した凹凸パターン15を形成する。次に、図6(G)
に示すように凹凸パターン15にスパッタリング法でニ
ッケルの金属皮膜16を形成する。その後、図6(H)
に示すようにこの金属皮膜16を電極として電気めっき
法により所望の厚さにニッケル層17を析出形成し、そ
の後、金属皮膜16およびニッケル層17をガラス基板
2から引き剥がし、表面に残留しているフォトレジスト
を洗浄後、乾燥させて、図6(I)に示すようなスタン
パ原盤18を完成するのである。
Subsequently, as shown in FIG. 6 (E), the exposed portion is developed and removed by treating the photoresist layer 13 with a developing solution 14, and the unevenness corresponding to the information signal as shown in FIG. 6 (F) is obtained. The pattern 15 is formed. Next, FIG.
As shown in FIG. 6, a nickel metal film 16 is formed on the uneven pattern 15 by a sputtering method. Then, FIG.
As shown in FIG. 5, a nickel layer 17 is formed by electroplating using the metal film 16 as an electrode to a desired thickness, and then the metal film 16 and the nickel layer 17 are peeled off from the glass substrate 2 and remain on the surface. The remaining photoresist is washed and dried to complete the stamper master 18 as shown in FIG. 6 (I).

【0043】[0043]

【発明の効果】上記のように、本発明によれば、プライ
マー塗布と薬品処理室排気を数回に渡り繰り返して行う
ことにより、フォトレジスト塗布前に形成されるプライ
マー層によるガラス基板表面の濡れ性が一様になると共
に、フォトレジストの有機溶剤分の揮発の妨げとなる容
器内の残留プライマーが除去されるといった効果から、
後に塗布、形成するフォトレジスト層の膜層を均一に保
つことができる。
As described above, according to the present invention, the primer coating and the evacuation of the chemical treatment chamber are repeatedly performed several times to thereby wet the glass substrate surface by the primer layer formed before the photoresist coating. The uniformity of the properties and the effect of removing the residual primer in the container that hinders the volatilization of the organic solvent component of the photoresist,
The film layer of the photoresist layer to be applied and formed later can be kept uniform.

【0044】このような原盤の製造方法において、レジ
ストの塗布厚みを薄く且つ均一化する事で、精度の高い
光学的情報記録媒体の原盤を製造することができ、記録
容量の増加に伴う記録情報パターンの微細化への対応が
可能となる。
In such a method of manufacturing a master, a master of a high-precision optical information recording medium can be manufactured by making the coating thickness of the resist thinner and uniform, and the recording information accompanying the increase in the recording capacity is increased. It is possible to cope with miniaturization of patterns.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態である光学的情報記録媒体
の原盤の製造装置の概略構成を示す縦断面図
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of an optical information recording medium master manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態である光学的情報記録媒体
の原盤の製造装置のノズル部の概略構成を示す縦断面図
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a nozzle portion of an optical information recording medium master manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態である光学的情報記録媒体
の原盤の製造装置のノズル部の他の概略構成を示す要部
平面図
FIG. 3 is a main part plan view showing another schematic configuration of the nozzle portion of the optical information recording medium master manufacturing apparatus according to the embodiment of the present invention;

【図4】本発明の実施の形態である光学的情報記録媒体
の原盤の製造方法の工程説明図で、(A)〜(D)はプ
ライマー塗布状態を、(E)〜(F)はフォトレジスト
塗布状態を示す工程説明図
FIGS. 4A to 4D are process explanatory views of a method for manufacturing a master of an optical information recording medium according to an embodiment of the present invention, wherein FIGS. Process explanatory view showing resist application state

【図5】従来の光学的情報記録媒体のフォトレジスト層
を製造する場合の概略構成を示す説明図で(A)〜
(B)はプライマー塗布状態を、(C)〜(D)はフォ
トレジスト塗布状態を示す工程説明図
FIG. 5 is an explanatory view showing a schematic configuration in the case of manufacturing a photoresist layer of a conventional optical information recording medium (A) to (A).
(B) is a process explanatory view showing a primer applied state, and (C) to (D) are photoresist applied states.

【図6】従来の光学的情報記録媒体の原盤の製造方法の
概略構成を示す図
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional method for manufacturing a master of an optical information recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 容器 2 ガラス基板 3 プライマー塗布ノズル 4 レジスト塗布ノズル 5 ホルダーテーブル 6 回転軸 7 モーター 8 エアー吹き出し口 9 排気口 10 プライマー 11 フォトレジスト 12 プライマー層 13 フォトレジスト層 14 現像液 15 パターン 16 金属皮膜 17 ニッケル層 18 スタンパ 19 プライマー蒸気 20 プライマー層 21 残留プライマー 23 揮発した有機溶剤分 REFERENCE SIGNS LIST 1 container 2 glass substrate 3 primer coating nozzle 4 resist coating nozzle 5 holder table 6 rotating shaft 7 motor 8 air outlet 9 exhaust port 10 primer 11 photoresist 12 primer layer 13 photoresist layer 14 developer 15 pattern 16 metal film 17 nickel Layer 18 Stamper 19 Primer vapor 20 Primer layer 21 Residual primer 23 Volatile organic solvent

フロントページの続き (72)発明者 石丸 秀行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井上 和行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA14 AB20 AC08 AD03 DA19 DA35 EA05 FA10 5D121 BA03 BA05 BB02 BB04 BB38 EE16 EE19 EE22 EE23 EE24 GG18 GG20 Continuing on the front page (72) Inventor Hideyuki Ishimaru 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reference) 2H025 AA14 AB20 AC08 AD03 DA19 DA35 EA05 FA10 5D121 BA03 BA05 BB02 BB04 BB38 EE16 EE19 EE22 EE23 EE24 GG18 GG20

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板上にプライマーを塗布する手
段と、前記プライマーを乾燥させる手段と、プライマー
層上にフォトレジストを塗布する手段と、塗布した前記
フォトレジストを乾燥させる手段とを含む光学的情報記
録媒体の原盤製造方法において、 閉じた容器中で前記ガラス基板上にプライマーを塗布
後、前記プライマーからの蒸発ガスを前記容器から強制
排気し、次に、再び閉じた前記容器中で前記プライマー
を塗布後、前記と同様にプライマーの蒸発ガスを強制排
気することを繰り返し、その後再度閉じた容器内でフォ
トレジストを塗布後、容器内を外気と開通して乾燥させ
る光学的情報記録媒体の原盤製造方法。
1. An optical system comprising: means for applying a primer on a glass substrate; means for drying the primer; means for applying a photoresist on a primer layer; and means for drying the applied photoresist. In the method for manufacturing a master for an information recording medium, after applying a primer on the glass substrate in a closed container, the evaporating gas from the primer is forcibly exhausted from the container, and then the primer is re-closed in the closed container. After the application, the repeated evacuation of the evaporating gas of the primer is repeated in the same manner as described above, and then the photoresist is applied in a closed container again, and the inside of the container is opened to the outside air and dried, and the master of the optical information recording medium is dried. Production method.
【請求項2】 請求項1の光学的情報記録媒体の原盤製
造方法において、ガラス基板上にプライマーを塗布した
後、該塗布面に20℃〜25℃、湿度50%〜58%に
保った乾燥空気を流量3m3/分〜5m3/分で吹きつけ
前記プライマーを乾燥させる光学的情報記録媒体の原盤
製造方法。
2. The method for manufacturing a master of an optical information recording medium according to claim 1, wherein a primer is applied on a glass substrate, and then the coated surface is dried at a temperature of 20 ° C. to 25 ° C. and a humidity of 50% to 58%. master method of manufacturing an optical information recording medium of drying the primer blowing air at a flow rate 3m 3 / min ~5m 3 / min.
【請求項3】 上面に給気口、床面に排気口が形成さ
れ、蓋閉可能な容器内に、ガラス基板を支持する回転テ
ーブルが回転可能に軸支され、該回転テーブル上面には
塗布ノズルが前記回転テーブルの径方向に移動可能に支
持されてなる光学的情報記録媒体の原盤製造装置。
3. An air supply port is formed on an upper surface, and an exhaust port is formed on a floor surface. A rotary table for supporting a glass substrate is rotatably supported in a container whose lid can be closed. An apparatus for manufacturing a master of an optical information recording medium, wherein a nozzle is supported movably in a radial direction of the rotary table.
【請求項4】 請求項3の光学的情報記録媒体の原盤製
造装置において、蓋閉可能な容器の上面に形成された給
気口に、調和空気供給手段が連通されている光学的情報
記録媒体の原盤製造装置。
4. The optical information recording medium according to claim 3, wherein a conditioned air supply means communicates with an air supply port formed on an upper surface of the lid-closable container. Master production equipment.
JP34266099A 1999-12-02 1999-12-02 Method for manufacturing master disk for optical information recording medium and apparatus for the same Pending JP2001160242A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34266099A JP2001160242A (en) 1999-12-02 1999-12-02 Method for manufacturing master disk for optical information recording medium and apparatus for the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34266099A JP2001160242A (en) 1999-12-02 1999-12-02 Method for manufacturing master disk for optical information recording medium and apparatus for the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001160242A true JP2001160242A (en) 2001-06-12

Family

ID=18355507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34266099A Pending JP2001160242A (en) 1999-12-02 1999-12-02 Method for manufacturing master disk for optical information recording medium and apparatus for the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001160242A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001160242A (en) Method for manufacturing master disk for optical information recording medium and apparatus for the same
US6177132B1 (en) Optical recording medium and method of its manufacture
US20070228375A1 (en) Multilayer Information Recording Medium and Method for Manufacturing Same
WO2006123619A1 (en) Multilayer information recording medium and production method therefor
JP2003021917A (en) Method for manufacturing stamper for optical recording medium
JP2008282495A (en) Glass substrate for use in unexposed master disk for optical recording medium, surface modification method therefor and surface modification apparatus therefor, and surface modification system thereof, and unexposed master disk for the optical recording medium and method of manufacturing master disk for the optical recording medium
JP3344602B2 (en) Optical disk master and method of making the same
JPH05347032A (en) Manufacturing device for optical master disk
JP2002093680A (en) Coater and coating method of photoresist
JPH06226192A (en) Coating device
JPH0871484A (en) Spin coater
JP2004152368A (en) Method for manufacturing optical disk stamper
JP2004110936A (en) Method of manufacturing optical disk stamper
JPH01201842A (en) Manufacture of guide groove stamper
JPH05317797A (en) Rotary coating
JPH07106334B2 (en) Resist coating device
JPH0620309A (en) Treatment of hard coating film for optical disk
JP2545677B2 (en) How to apply photoresist
JP2001357566A (en) Method for manufacturing optical disk master
JPS60171650A (en) Method for forming photoresist film
JPH05282712A (en) Production of master optical disk
JPH06180867A (en) Stamper for optical disk and its production
JPH05309319A (en) Rotary coating method
JPS62298951A (en) Production of optical disk substrate
JP2003031476A (en) Resist film, its formation method and apparatus thereof