JP2001153798A - 試料位置出し機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】対象試料と測定試料が適切な位置と適切な向き
で配置され得る偏光解析装置を提供する。 【解決手段】偏光解析装置１００は、対象試料１１４と
測定試料１２４の高さと傾きの調整のために、試料位置
出し機構を備えている。試料位置出し機構は対象試料と
測定試料の高さ傾き調整手段３００と４００を備えてい
る。高さ傾き調整手段３００と４００は、それぞれ、高
さ測定用ＣＣＤユニット３１０と４１０と、傾き測定用
ＣＣＤユニット３２０と４２０を備えている。高さ測定
用ＣＣＤユニット３１０と４１０は、それぞれ、適宜光
ビームを偏向するミラー３１２と４１２と、ＣＣＤカメ
ラ３１６と４１６を備えている。傾き測定用ＣＣＤユニ
ット３２０と４２０は、それぞれ、適宜光ビームを偏向
するミラー３２２と４２２と、対物レンズ３２６と４２
６と、ＣＣＤカメラ３２８と４２８を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、直線偏光を試料表
面で反射させ、偏光の変化を調べることにより、試料の
光学的性質や膜厚等を調べる偏光解析装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】偏光解析装置は、基本的に、特定の偏光
面を持つ直線偏光を、試料表面で反射させ、その結果と
して生じた楕円偏光を調べることにより、試料の光学的
性質や膜厚等を求める装置である。

【０００３】このような偏光解析装置のひとつに、特定
の偏光面を持つ直線偏光を、測定試料と、比較の基準と
なる対象試料とで順に反射させるタイプのものがある。
このタイプの偏光解析装置では、測定試料の表面の光学
的特性が対象試料の表面の光学的特性と同じ場合に、そ
れぞれの試料での反射が偏光に与える影響が相殺される
ように設計されている。この偏光解析装置は、対象試料
と測定試料の両者の表面の光学的特性の相違を検出して
いるため、比較的高い感度が実現されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このように対象試料と
測定試料を用いる偏光解析装置では、対象試料と測定試
料が共に正確に位置決めされる必要がある。つまり、対
象試料と測定試料は共に適切な位置に適切な向きで配置
される必要がある。

【０００５】本発明の目的は、対象試料と測定試料が適
切な位置に適切な向きで配置され得る偏光解析装置を提
供することであり、そのための試料位置出し機構を提供
することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、偏光を測定試
料と比較の基準となる対象試料とで反射させ、両者の表
面の光学的特性の違いにより偏光が受けた影響を調べる
ことにより、測定試料の表面の光学的特性を解析する偏
光解析装置に用いられる試料位置出し機構であって、少
なくとも測定試料の高さと傾きを調整するための高さ傾
き調整手段を備えている。試料位置出し機構は、さら
に、測定試料の高さと傾きを調整するための高さ傾き調
整手段を備えている。二つの高さ傾き調整手段は、それ
ぞれ、高さ測定用光検出ユニットと、傾き測定用光検出
ユニットとを備えている。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について説明する。本発明の実施の形態の
試料位置出し機構を備える偏光解析装置が図１に示され
る。

【０００８】図１に示されるように、本実施の形態に関
する偏光解析装置１００は、二種類の試料を保持するた
めの一対の試料固定台ユニット１１２と１２２を備えて
いる。例えば、試料固定台ユニット１１２は対象試料１
１４を保持し、試料固定台ユニット１２２は測定試料１
２４を保持する。対象試料１１４は、偏光解析処理時に
おける測定試料１２４に対する比較対象として用いられ
る。

【０００９】試料固定台ユニット１１２が対象試料の代
わりに測定試料を保持し、試料固定台ユニット１２２が
測定試料の代わりに対象試料を保持してもよい。このよ
うな交換は光学特性や測定結果に何ら相違を生じさせな
い。しかし、ここでは、試料固定台ユニット１１２が対
象試料を保持し、試料固定台ユニット１２２が測定試料
を保持するものとして話を進める。

【００１０】試料固定台ユニット１１２と試料固定台ユ
ニット１２２は共に、ベース１０２の上に設けられたＸ
Ｙステージ１０８によって、ベース１０２の上面に平行
に移動可能に保持されている。

【００１１】偏光解析装置１００は、対象試料１１４に
向けて光ビームを射出するビーム射出部１３０と、偏光
子１３８と、対象試料１１４で反射された光ビームを間
隔おいて平行に折り返して測定試料１２４に方向付ける
折り返しプリズム１７０と、検光子１４０と、検光子１
４０を透過した光を検出するための光検出器１５０とを
備えている。ビーム射出部１３０は、光源１３２と、光
ファイバー１３４と、光ファイバー固定部１３６とを備
えている。光源１３２は、例えば、固体レーザー、気体
レーザー、半導体レーザー、色素レーザーである。

【００１２】別の見方をすれば、偏光解析装置１００
は、光ファイバー固定部１３６から対象試料１１４を経
由して折り返しプリズム１７０に延びる第一の光路ある
いは行きの光路と、折り返しプリズム１７０から測定試
料１２４を経由して光検出器１５０に延びる第二の光路
あるいは戻りの光路とを有しており、両者は、間隔を置
いて平行に延び、折り返しプリズム１７０を介して連絡
されている。

【００１３】偏光子１３８は、光ファイバー固定部１３
６と対象試料１１４の間において、行きの光路上に配置
され、検光子１４０は、測定試料１２４と光検出器１５
０の間において、戻りの光路上に配置されている。

【００１４】偏光子１３８と検光子１４０は、好ましく
は、共にグラントムソンプリズムで作られ、両者は、偏
光子１３８と検光子１４０は、これを透過する直線偏光
の偏光面が互いに直交するように配置されている。つま
り、偏光子１３８と検光子１４０は、互いに、直交ニコ
ル(crossed Nicols)を満足するように配置されている。

【００１５】偏光子１３８は、対象試料１１４に対する
入射面に対して＋４５°傾いた偏光面を持つ直線偏光を
透過するように位置決めされている。ここで用いる「対
象試料１１４に対する入射面」という用語は、対象試料
１１４の表面に入射する光の波面法線すなわち進行方向
と試料面に立てた法線を含む平面をいう。

【００１６】光検出部１５０は、例えばフォトダイオー
ド、ＡＰＤ、フォトマルチプライヤーを備えていて、キ
セノンランプ、ハロゲンランプ等のマルチ波長の光源を
用いた場合には分光ディテクターを備えている。

【００１７】光ファイバー固定部１３６と偏光子１３８
と検光子１４０と光検出器１５０は共に第一の支持台１
０４に搭載されている。第一の支持台１０４はベース１
０２に対して所定の角度で傾けられており、これにより
偏光子１３８を透過した直線偏光のビームの対象試料１
１４に対する入射角がきまる。

【００１８】折り返しプリズム１７０は、図２に示され
るように、互いに接合された三つの直角プリズム１７２
と１７４と１７６を備えており、入射光のビームを内部
で四回反射し、射出光のビームは入射光のビームに対し
て所定の間隔おいて平行に射出される。折返しプリズム
１７０は、入射光のビームの軸と射出光のビームの軸を
含む平面が第二の支持台１０６の面に平行になるよう
に、４５°傾けて第二の支持台１０６に固定されてい
る。

【００１９】図１において、第二の支持台１０６は、ベ
ース１０２に対して、第一の支持台１０４がベース１０
２に対して成す角度と同じ角度で傾けられている。

【００２０】図１において、光源１３２から発せられた
光は、光ファイバー１３４の中を伝搬し、光ファイバー
固定部１３６から射出される。光ファイバー固定部１３
６から射出された光のビームは、偏光子１３８を通過す
ることにより、試料１１４の入射面に対して＋４５°傾
いた直線偏光のビームに変えられ、試料固定台ユニット
１１２に固定された対象試料１１４の表面で反射され
る。反射により、直線偏光のビームは、対象試料の光学
的性質や膜厚等に対応する楕円偏光のビームに変えられ
る。

【００２１】楕円偏光のビームは、折り返しプリズム１
７０によって、間隔をおいて平行に折り返えされる。折
り返しプリズム１７０から折り返された光のビームは、
折り返しプリズム１７０の内部で四回反射された結果、
折り返される前の楕円偏光に対して、長軸成分と短軸成
分の大きさと(例えば長軸の)方向は同じだが回転方向が
反対の楕円偏光を有する。

【００２２】折返しプリズム１７０から折り返された光
のビームは、試料固定台１２２に固定された測定試料１
２４で反射され、検光子１４０に向けられる。検光子１
４０は楕円偏光の短軸成分だけを透過させるため、楕円
偏光の短軸成分のビームだけが、検光子１４０を透過
し、光検出部１５０に達する。

【００２３】光検出部１５０に入った光は、マルチ波長
の場合に分光処理され、各波長毎に光電変換される。光
検出部１５０から出力される電気信号は、コンピュータ
に取り込まれ、所定の演算処理が施され、その結果、例
えば試料の光学的性質や膜厚等の測定データが得られ
る。

【００２４】なお、対象試料１１４と測定試料１２４が
全く同じ場合には、両者が光のビームに与える影響が互
いに打ち消し合うため、検出器１５０で光が全く検出さ
れない消光状態となる。

【００２５】このような偏光解析装置１００において
は、光検出器１５０で光が正しく検出されるため、対象
試料１１４と測定試料１２４は共に適切な位置に適切な
向きで配置される必要がある。位置に関しては、特に高
さが重要であり、従って、言い換えれば、対象試料１１
４と測定試料１２４は共に適切な高さに適切な傾きで配
置される必要がある。このため、対象試料１１４は試料
固定台ユニット１１２により高さと傾きが調整され、測
定試料１２４は試料固定台ユニット１２２により高さと
傾きが調整される。

【００２６】ここで、「傾き」とは、ベース１０２の上面
に対する試料面の非平行の度合いであり、これは、ベー
ス１０２の上面に平行で、しかも、行きの光路または戻
りの光路のベース１０２の上面への射影に平行な第一の
軸の周りの傾きと、ベース１０２の上面に平行かつ第一
の軸に直交する第二の軸の周りの傾きとに分解される。
また、「高さ」とは、ベース１０２の上面に直交する第三
の軸に沿った位置をいう。以下では、第一の軸をＸ軸、
第二の軸をＹ軸、第三の軸をＺ軸と呼ぶことにする。

【００２７】対象試料用の試料固定台ユニット１１２と
測定試料用の試料固定台ユニット１２２は、同じ構造体
であり、その各々は、図３に示されるように、試料固定
台１８２と、試料固定台１８２をＸ軸の周りに傾けるた
めのゴニオステージ１９２と、試料固定台１８２をゴニ
オステージ１９２と共にＹ軸の周りに傾けるためのゴニ
オステージ１９４と、試料固定台１８２を二つのゴニオ
ステージ１９２と１９４と共にＺ軸に沿って移動させる
高さ調整ステージ１９６とを備えている。

【００２８】試料固定台１８２は、試料を収容する凹部
１８４と、その中に設けられた試料を受けるための三個
の支持部１８６とを有している。それぞれの支持体１８
６は吸引口１８８を有し、これは吸引システム１９０に
連絡されており、吸引システム１９０により吸引口７２
を負圧に引くことによって、試料は三個の支持体１８６
上に吸引固定される。

【００２９】ゴニオステージ１９２は傾き調節のための
回転可能な入力軸１９２ａを備え、入力軸１９２ａの回
転は試料固定台１８２をＸ軸の周りに傾かせる。ゴニオ
ステージ１９４は傾き調節のための回転可能な入力軸１
９４ａを備え、入力軸１９４ａの回転は試料固定台１８
２をＹ軸の周りに傾かせる。高さ調整ステージ１９６は
高さ調節のための回転可能な入力軸１９６ａを備え、入
力軸１９６ａの回転は試料固定台１８２をＺ軸に沿って
移動させる。

【００３０】二つの試料固定台ユニット１１２と１２２
の高さ調整ステージ１９６は一体化されてもよい。つま
り、対象試料用の試料固定台ユニット１１２の試料固定
台１８２とゴニオステージ１９２とゴニオステージ１９
４と、測定試料用の試料固定台ユニット１２２の試料固
定台１８２とゴニオステージ１９２とゴニオステージ１
９４とが共に、一つの高さ調整ステージ１９６の上に設
けられてもよい。

【００３１】偏光解析装置１００は、図１において、対
象試料１１４と測定試料１２４の高さと傾きの調整のた
めに、試料位置出し機構を備えている。試料位置出し機
構は、前述の二つの試料固定台ユニット１１２と１２２
を含み、これらに加えて、対象試料の高さ傾き調整手段
３００と、測定試料の高さ傾き調整手段４００とを備え
ている。

【００３２】対象試料の高さ傾き調整手段３００は、高
さ測定用ＣＣＤユニット３１０と、傾き測定用ＣＣＤユ
ニット３２０と、それぞれのユニット３１０と３２０で
得られる情報を処理する処理部３３０とを備えている。

【００３３】高さ測定用ＣＣＤユニット３１０は、必要
に応じて光ビームを偏向するためのミラー３１２と、光
路を横切る位置と光路から外れた位置の間でミラー３１
２を移動させるためのロータリー３１４と、ミラー３１
２で偏向された光ビームを撮像するためのＣＣＤカメラ
３１６とを備えている。

【００３４】傾き測定用ＣＣＤユニット３２０は、必要
に応じて光ビームを偏向するためのミラー３２２と、光
路を横切る位置と光路から外れた位置の間でミラー３２
２を移動させるためのロータリー３２４と、ミラー３２
２で偏向された光ビームを絞るための対物レンズ３２６
と、ミラー３２２で偏向された光ビームを撮像するため
のＣＣＤカメラ３２８とを備えている。

【００３５】図１では、光ビームの進行方向に関して、
高さ測定用ＣＣＤユニット３１０が上手に位置し、傾き
測定用ＣＣＤユニット３２０が下手に位置しているが、
この配置は逆であってもよい。つまり、傾き測定用ＣＣ
Ｄユニット３２０が上手に位置し、高さ測定用ＣＣＤユ
ニット３１０が下手に位置していてもよい。

【００３６】同様に、測定試料の高さ傾き調整手段４０
０は、高さ測定用ＣＣＤユニット４１０と、傾き測定用
ＣＣＤユニット４２０と、それぞれのユニット４１０と
４２０で得られる情報を処理する処理部４３０とを備え
ている。

【００３７】高さ測定用ＣＣＤユニット４１０は、必要
に応じて光ビームを偏向するためのミラー４１２と、光
路を横切る位置と光路から外れた位置の間でミラー４１
２を移動させるためのロータリー４１４と、ミラー４１
２で偏向された光ビームを撮像するためのＣＣＤカメラ
４１６とを備えている。

【００３８】傾き測定用ＣＣＤユニット４２０は、必要
に応じて光ビームを偏向するためのミラー４２２と、光
路を横切る位置と光路から外れた位置の間でミラー４２
２を移動させるためのロータリー４２４と、ミラー４２
２で偏向された光ビームを絞るための対物レンズ４２６
と、ミラー４２２で偏向された光ビームを撮像するため
のＣＣＤカメラ４２８とを備えている。

【００３９】図１では、光ビームの進行方向に関して、
高さ測定用ＣＣＤユニット４１０が上手に位置し、傾き
測定用ＣＣＤユニット４２０が下手に位置しているが、
この配置は逆であってもよい。つまり、傾き測定用ＣＣ
Ｄユニット４２０が上手に位置し、高さ測定用ＣＣＤユ
ニット４１０が下手に位置していてもよい。

【００４０】対象試料１１４の高さと傾きの調整は、手
動により行なわれても、自動により行なわれてもよい。

【００４１】手動による対象試料１１４の高さと傾きの
調整に対しては、処理部３３０は、高さ測定用ＣＣＤユ
ニット３１０のＣＣＤカメラ３１６で得られる画像中の
スポットの像の位置と、傾き測定用ＣＣＤユニット３２
０のＣＣＤカメラ３２８で得られる画像中の集光スポッ
トの像を表示するためのモニターを有している。

【００４２】その調整手順は、まず、高さ測定用ＣＣＤ
ユニット３１０のミラー３１２が光路を横切る位置に配
置され、ＣＣＤカメラ３１６で得られる画像中のスポッ
トの像の位置がモニターに表示される。使用者はこれを
見ながら高さ調整ステージ１９６の入力軸１９６ａを手
で操作して、スポットの像を予め設定した位置となるよ
うに、高さ調整ステージ１９６を調整する。調整後、ミ
ラー３１２は光路から外れた位置に戻される。

【００４３】次に、傾き測定用ＣＣＤユニット３２０の
ミラー３２２が光路を横切る位置に配置され、ＣＣＤカ
メラ３２８で得られる画像中の集光スポットの像がモニ
ターに表示される。使用者はこれを見ながら二つのゴニ
オステージ１９２と１９４の入力軸１９２ａと１９４ａ
を手で操作して、集光スポットの像が適切な位置たとえ
ば中心に位置するように、二つのゴニオステージ１９２
と１９４を調整する。調整後、ミラー３２２は光路から
外れた位置に戻される。

【００４４】一方、自動による対象試料１１４の高さと
傾きの調整に対しては、処理部３３０は、対象試料１１
４の高さ情報と傾き情報を得る演算手段と、ゴニオステ
ージ１９２の入力軸１９２ａとゴニオステージ１９４の
入力軸１９４ａと高さ調整ステージ１９６の入力軸１９
６ａを回転させるための駆動手段と、高さ情報と傾き情
報に基づいて駆動手段を制御する制御手段とを含んでい
る。

【００４５】演算手段は、高さ測定用ＣＣＤユニット３
１０のＣＣＤカメラ３１６で得られる画像中のスポット
の像を二値化して、その重心を求めることにより、高さ
情報を得ると共に、傾き測定用ＣＣＤユニット３２０の
ＣＣＤカメラ３２８で得られる画像中の集光スポットの
像の位置に基づいて傾き情報を得る。駆動手段は、例え
ば、三つのステッピングモーターを含んでおり、それぞ
れのステッピングモーターの回転軸は、それぞれの対応
する入力軸に、直接連結されても、ゴムやベルト等の部
材を介して連結されてもよい。

【００４６】その調整手順は、まず、高さ測定用ＣＣＤ
ユニット３１０のミラー３１２が光路を横切る位置に配
置される。演算手段は、ＣＣＤカメラ３１６で得られる
画像中のスポットの像の重心の位置に基づいて高さ情報
を得る。制御手段は、得られる高さ情報が適切な値にな
るように、駆動手段を制御する。これにより、高さ調整
ステージ１９６が正しく調整される。調整後、ミラー３
１２は光路から外れた位置に戻される。

【００４７】次に、傾き測定用ＣＣＤユニット３２０の
ミラー３２２が光路を横切る位置に配置される。演算手
段は、ＣＣＤカメラ３２８で得られる画像中の集光スポ
ットの像の位置に基づいて傾き情報を得る。制御手段
は、得られる高さ情報が適切な値になるように、駆動手
段を制御する。これにより、二つのゴニオステージ１９
２と１９４が正しく調整される。調整後、ミラー３２２
は光路から外れた位置に戻される。

【００４８】ここでは、高さ調整が先に行なわれ、続い
て傾き調整が行なわれているが、両者は逆の順番で行な
われてもよい。つまり、傾き調整が先に行なわれ、続い
て高さ調整が行なわれてもよい。

【００４９】対象試料１１４と同様に、測定試料１２４
の高さと傾きの調整は、手動により行なわれても、自動
により行なわれてもよい。

【００５０】手動による測定試料１２４の高さと傾きの
調整に対しては、処理部４３０は、高さ測定用ＣＣＤユ
ニット４１０のＣＣＤカメラ４１６で得られる画像中の
スポットの像の重心と、傾き測定用ＣＣＤユニット４２
０のＣＣＤカメラ４２８で得られる画像中の集光スポッ
トの像を表示するためのモニターを有している。

【００５１】その調整手順は、まず、高さ測定用ＣＣＤ
ユニット４１０のミラー４１２が光路を横切る位置に配
置され、ＣＣＤカメラ４１６で得られる画像中のスポッ
トの像の重心がモニターに表示される。使用者はこれを
見ながら高さ調整ステージ１９６の入力軸１９６ａを手
で操作して、スポットの像の重心が適切な位置たとえば
中心に位置するように、高さ調整ステージ１９６を調整
する。調整後、ミラー４１２は光路から外れた位置に戻
される。

【００５２】次に、傾き測定用ＣＣＤユニット４２０の
ミラー４２２が光路を横切る位置に配置され、ＣＣＤカ
メラ４２８で得られる画像中の集光スポットの像がモニ
ターに表示される。使用者はこれを見ながら二つのゴニ
オステージ１９２と１９４の入力軸１９２ａと１９４ａ
を手で操作して、集光スポットの像が適切な位置たとえ
ば中心に位置するように、二つのゴニオステージ１９２
と１９４を調整する。調整後、ミラー４２２は光路から
外れた位置に戻される。

【００５３】一方、自動による測定試料１２４の高さと
傾きの調整に対しては、処理部４３０は、測定試料１２
４の高さ情報と傾き情報を得る演算手段と、ゴニオステ
ージ１９２の入力軸１９２ａとゴニオステージ１９４の
入力軸１９４ａと高さ調整ステージ１９６の入力軸１９
６ａを回転させるための駆動手段と、高さ情報と傾き情
報に基づいて駆動手段を制御する制御手段とを含んでい
る。

【００５４】演算手段は、高さ測定用ＣＣＤユニット４
１０のＣＣＤカメラ４１６で得られる画像中のスポット
の像を二値化して、その重心を求めることにより、高さ
情報を得ると共に、傾き測定用ＣＣＤユニット４２０の
ＣＣＤカメラ４２８で得られる画像中の集光スポットの
像の位置に基づいて傾き情報を得る。駆動手段は、例え
ば、三つのステッピングモーターを含んでおり、それぞ
れのステッピングモーターの回転軸は、それぞれの対応
する入力軸に、直接連結されても、ゴムやベルト等の部
材を介して連結されてもよい。

【００５５】その調整手順は、まず、高さ測定用ＣＣＤ
ユニット４１０のミラー４１２が光路を横切る位置に配
置される。演算手段は、ＣＣＤカメラ４１６で得られる
画像中のスポットの像の重心の位置に基づいて高さ情報
を得る。制御手段は、得られる高さ情報が適切な値にな
るように、駆動手段を制御する。これにより、高さ調整
ステージ１９６が正しく調整される。調整後、ミラー４
１２は光路から外れた位置に戻される。

【００５６】次に、傾き測定用ＣＣＤユニット４２０の
ミラー４２２が光路を横切る位置に配置される。演算手
段は、ＣＣＤカメラ４２８で得られる画像中の集光スポ
ットの像の位置に基づいて傾き情報を得る。制御手段
は、得られる高さ情報が適切な値になるように、駆動手
段を制御する。これにより、二つのゴニオステージ１９
２と１９４が正しく調整される。調整後、ミラー４２２
は光路から外れた位置に戻される。

【００５７】ここでは、高さ調整が先に行なわれ、続い
て傾き調整が行なわれているが、両者は逆の順番で行な
われてもよい。つまり、傾き調整が先に行なわれ、続い
て高さ調整が行なわれてもよい。

【００５８】本実施の形態の偏光解析装置１００は、対
象試料１１４と測定試料１２４の高さと傾きを調整する
ための試料位置出し機構を備えているので、より高い再
現性で、より高い精度で、測定を行なえる。

【００５９】上述した実施の形態の偏光解析装置１００
は、様々な変形や変更が可能である。例えば、実施の形
態では、対象試料１１４は交換可能であるが、これは交
換不能であってもよい。対象試料１１４が交換不能な好
ましい偏光解析装置１００では、対象試料１１４は予め
位置決めされ適切な位置に固定される。このため、この
ような偏光解析装置１００は、対象試料用の高さ傾き調
整手段３００は不要であり、測定試料用の高さ傾き調整
手段４００だけを備えていてもよい。

【００６０】また、偏光解析装置１００は、対象試料１
１４と測定試料１２４の水平方向(Ｘ軸とＹ軸を含む平
面に平行な方向)の位置調整を行なうために、対象試料
１１４と測定試料１２４を上方から撮影するＣＣＤカメ
ラユニットを備えていてもよい。さらに、水平方向の自
動調整のために、このＣＣＤカメラユニットで得られる
情報に基づいてＸＹステージを制御する機構を備えてい
てもよい。

【００６１】本発明は、上述した実施の形態に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で行なわれ
るすべての実施を含む。例えば、光源からの光は、光フ
ァイバーを用いずダイレクトに入射させる構成でもよ
い。また、半導体レーザーを用いた場合には、コリメー
ターを設けるのが好ましい。

【００６２】

【発明の効果】本発明によれば、対象試料と測定試料が
適切な高さと適切な傾きで配置され得る偏光解析装置が
提供される。これは、再現性の向上と測定精度の向上に
有益である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の試料位置出し機構を備え
る偏光解析装置の平面図である。

【図２】図１に示される折り返しプリズムの斜視図であ
る。

【図３】図１に示される試料固定台ユニットの斜視図で
ある。

【符号の説明】

１００ 偏光解析装置 ３００ 対象試料の高さ傾き調整手段 ３１０ 高さ測定用ＣＣＤユニット ３１２ ミラー ３１６ ＣＣＤカメラ ３２０ 傾き測定用ＣＣＤユニット ３２２ ミラー ３２６ 対物レンズ ３２８ ＣＣＤカメラ ４００ 対象試料の高さ傾き調整手段 ４１０ 高さ測定用ＣＣＤユニット ４１２ ミラー ４１６ ＣＣＤカメラ ４２０ 傾き測定用ＣＣＤユニット ４２２ ミラー ４２６ 対物レンズ ４２８ ＣＣＤカメラ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA03 AA37 BB01 DD00 FF01 FF26 FF50 FF61 GG04 GG12 HH04 HH09 HH12 JJ03 JJ05 JJ08 JJ17 JJ18 JJ26 LL02 LL17 LL33 LL34 MM02 PP04 QQ28 SS13 TT02 UU04 2G059 AA02 AA03 BB08 DD13 GG01 GG03 GG04 JJ11 JJ12 JJ13 JJ17 JJ19 KK02 KK04 PP04

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偏光を測定試料と比較の基準となる対象
   試料とで反射させ、両者の表面の光学的特性の違いによ
   り偏光が受けた影響を調べることにより、測定試料の表
   面の光学的特性を解析する偏光解析装置に用いられる試
   料位置出し機構であって、少なくとも測定試料の高さと
   傾きを調整するための高さ傾き調整手段を備えている試
   料位置出し機構。
2. 【請求項２】 前記高さ傾き調整手段は、高さ測定用光
   検出ユニットと、傾き測定用光検出ユニットとを備えて
   いる、請求項１に記載の試料位置出し機構。
3. 【請求項３】 測定試料の高さと傾きを調整するための
   高さ傾き調整手段を更に備えている、請求項１に記載の
   試料位置出し機構。
4. 【請求項４】 前記高さ傾き調整手段は、手動もしくは
   自動で調整される、請求項１に記載の試料位置出し機
   構。
5. 【請求項５】 試料位置出し機構は、測定試料の高さと
   傾きを調整可能な試料固定台ユニットを更に備えてお
   り、前記高さ傾き調整手段は、測定試料の高さ傾き調整
   手段は、高さ測定用光検出ユニットと、傾き測定用光検
   出ユニットと、これらから得られる情報を処理して高さ
   情報と傾き情報を求め、これに基づいて試料固定台ユニ
   ットを調整する処理部とを備えている、請求項１に記載
   の試料位置出し機構。