JP2001144144A - Film carrier tape for mounting electronic component, manufacturing method therefor, film carrier tape package body for mounting the electronic component and preserving/transfer method - Google Patents

Film carrier tape for mounting electronic component, manufacturing method therefor, film carrier tape package body for mounting the electronic component and preserving/transfer method

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JP2001144144A
JP2001144144A JP32141999A JP32141999A JP2001144144A JP 2001144144 A JP2001144144 A JP 2001144144A JP 32141999 A JP32141999 A JP 32141999A JP 32141999 A JP32141999 A JP 32141999A JP 2001144144 A JP2001144144 A JP 2001144144A
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JP
Japan
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carrier tape
film carrier
mounting
electronic component
film
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JP32141999A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Koyanagi
柳 章 小
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce shift in the total pitch width of an inner lead in storage/ transfer. SOLUTION: In a film carrier tape for mounting electronic components, a prescribed wiring pattern formed of conductive metal foil is formed on the surface of an insulating film. A solder resist is applied to the wiring pattern by leaving a lead part and the lead part is plated. The film carrier tape for mounting electronic components has humidification history, where humidity is kept to the condition of 60%±5% after the lead part is plated. The tape is further closed and stored in a water impermeable package body.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、TAB(Tape Automated
Bonding)テープのような電子部品を実装するためのフィ
ルムキャリアテープ、その製造方法、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ包装体、この包装体を用いる方法
に関する。さらに詳しくは本発明は、電子部品を実装す
る際にボンディング不良が発生しにくい電子部品実装用
フィルムキャリアテープ、その製造方法、包装された電
子部品実装用フィルムキャリアテープ、この包装体を用
いる方法に関する。
The present invention relates to a TAB (Tape Automated
The present invention relates to a film carrier tape for mounting an electronic component such as a bonding tape, a method for manufacturing the same, a film carrier tape package for mounting an electronic component, and a method using the package. More particularly, the present invention relates to a film carrier tape for mounting electronic components, in which bonding failure is less likely to occur when mounting electronic components, a method for manufacturing the same, a packaged film carrier tape for mounting electronic components, and a method for using the package. .

【0002】[0002]

【従来技術】従来から、半導体などの電子部品を電子機
器に搭載するためにTABテープのような電子部品実装
用フィルムキャリアテープが使用されている。そして、
このような半導体などが実装された電子機器は、凄まじ
い勢いで高性能化および小型軽量化されており、こうし
た電子機器の高性能化および小型軽量化には、半導体な
どを大容量化することが必要であると共に、大容量化し
た半導体などの電子部品を電子機器に搭載するための実
装技術が非常に重要になってきている。即ち、半導体な
どの電子部品が大容量化すると、電極数が増加すること
から、これに対応してTABテープのリード本数も多く
する必要がある。そして、小型軽量化の要請から、TA
Bテープに非常に細いリードを形成する必要があり、こ
のインナーリードのリード幅を十数μm以下にすること
が試みられつつある。
2. Description of the Related Art Conventionally, film carrier tapes for mounting electronic components, such as TAB tapes, have been used for mounting electronic components such as semiconductors on electronic devices. And
The performance and size and weight of electronic devices on which such semiconductors are mounted are increasing at a tremendous pace. In addition to the necessity, mounting technology for mounting electronic components such as semiconductors having a large capacity on electronic devices has become very important. That is, when the capacity of an electronic component such as a semiconductor increases, the number of electrodes increases, and accordingly, the number of leads of the TAB tape needs to be increased. And because of the demand for smaller and lighter, TA
It is necessary to form very thin leads on the B tape, and attempts are being made to reduce the lead width of the inner leads to ten and several micrometers or less.

【0003】このようなTABテープは、スプリケット
ホール、デバイスホールなどを形成した絶縁フィルムに
金属箔を貼着し、この金属箔の上にフォトレジストを塗
布してこのフォトレジストを所望の形状に露光し不要部
分を除去してマスキングした後、酸でエッチングして金
属箔を所望のパターンにエッチングし、マスキング剤を
除去し、さらに、形成されたリード部を除いてソルダー
レジストを塗布した後、リード部にスズ等のようなデバ
イスのバンプと例えば共晶物を形成してデバイスをボン
ディング可能な金属メッキをすることにより製造されて
いる。
[0003] In such a TAB tape, a metal foil is attached to an insulating film in which sprinket holes, device holes, and the like are formed, and a photoresist is applied on the metal foil to form the photoresist into a desired shape. After exposing and removing unnecessary portions and masking, etching with a metal to etch the metal foil into a desired pattern, removing the masking agent, and further applying a solder resist except for the formed lead portion, It is manufactured by forming, for example, a eutectic with a bump of a device such as tin on a lead portion and performing metal plating for bonding the device.

【0004】こうして形成されるTABテープの一例を
図1に示す。図1に示すように、絶縁フィルム10に
は、デバイスホール21、アウターリードホール22、
スプリケットホール23などが形成されており、この絶
縁フィルム10の表面に所定の配線パターン14が形成
されている。配線パターン14の一方の端部は、デバイ
スホール21内に延出されたインナーリード15を形成
しており、配線パターン14の他方の端部は、アウター
リードホール22を跨ぐようにしてアウターリード16
を形成し、さらにその先端には、テストパッド17が形
成されている。
FIG. 1 shows an example of the TAB tape thus formed. As shown in FIG. 1, device holes 21, outer lead holes 22,
A sprinkle hole 23 and the like are formed, and a predetermined wiring pattern 14 is formed on the surface of the insulating film 10. One end of the wiring pattern 14 forms an inner lead 15 extending into the device hole 21, and the other end of the wiring pattern 14 extends over the outer lead hole 22.
, And a test pad 17 is formed at the tip thereof.

【0005】このようにして形成されているTABテー
プのデバイスホール15に延出して形成されたインナー
リード15に、図2に示すようにして、半導体などの電
子部品26のバンプ電極25を当接して一括して溶着す
ることにより、電子部品26を実装することができる。
ところで、このようにして使用されるTABテープにお
いて、絶縁フィルムとしてポリイミドフィルムが使用さ
れている。
As shown in FIG. 2, the bump electrode 25 of an electronic component 26 such as a semiconductor is brought into contact with the inner lead 15 formed so as to extend to the device hole 15 of the TAB tape formed as described above. The electronic components 26 can be mounted by batch welding.
By the way, in the TAB tape used in this way, a polyimide film is used as an insulating film.

【0006】この絶縁フィルムを形成するポリイミド
は、1〜3%程度の吸湿性を有しており、そしてポリイ
ミドは吸湿することによりその寸法が変化する。このポ
リアミドフィルムに吸収される水分の量は、TABテー
プの製造条件、保管条件、気象条件などによって日々異
なり、従って、同一の配線パターンを形成しても、イン
ナーリードの位置が微妙にずれるという現象が見られ
る。即ち、TABテープは、湿度が1%変化するとトー
タルピッチ幅で20 ppm 程度変化する。冬季における
平均的な湿度を40%、夏季における平均的な湿度を8
0%とすれば、例えばTABテープを冬季に製造し、夏
季にこのTABテープを使用したとすれば、この40%
の湿度差によって、インナーリードが形成されている部
分の幅であるトータルピッチ幅が例えば2cm(20000μ
m)のTABテープでは計算上では最大16μm変化す
ることになる。TABテープに電子部品を実装する際
に、こうしたトータルピッチ幅は、例えば張力をかける
などして調整されるが、電子部品を実装する際に調整可
能なトータルピッチ幅は上記トータルピッチ幅が2cmの
TABテープでは5μm程度が限度である。従来のピッ
チ幅の広いTABテープでは、上記のようにトータルピ
ッチ幅を是正しながら電子部品を実装することにより、
インナーリードの位置に電子部品のバンプを当接するこ
とは可能であった。しかしながら、昨今のファインピッ
チのTABテープでは、設計値に対して250ppmを超
えてトータルピッチ幅が異なるTABテープを用いて電
子部品を正常に実装することができない。
The polyimide forming this insulating film has a hygroscopicity of about 1 to 3%, and the dimensions of the polyimide change due to moisture absorption. The amount of water absorbed by the polyamide film varies daily depending on the TAB tape manufacturing conditions, storage conditions, weather conditions, and the like. Therefore, even if the same wiring pattern is formed, the position of the inner leads is slightly shifted. Can be seen. That is, when the humidity changes by 1%, the TAB tape changes by about 20 ppm in total pitch width. The average humidity in winter is 40% and the average humidity in summer is 8%.
If it is 0%, for example, if a TAB tape is manufactured in winter and this TAB tape is used in summer, this 40%
Due to the humidity difference, the total pitch width, which is the width of the portion where the inner leads are formed, is, for example, 2 cm (20000 μm).
In the case of the TAB tape of m), the calculated value changes by a maximum of 16 μm. When mounting electronic components on a TAB tape, such a total pitch width is adjusted by, for example, applying tension, but the total pitch width that can be adjusted when mounting electronic components is such that the total pitch width is 2 cm. For a TAB tape, the limit is about 5 μm. In conventional TAB tapes with a wide pitch, by mounting electronic components while correcting the total pitch as described above,
It was possible to contact the bump of the electronic component at the position of the inner lead. However, with a recent fine pitch TAB tape, electronic components cannot be normally mounted using a TAB tape having a total pitch width exceeding 250 ppm with respect to a design value.

【0007】ところで、上記のようなTABテープのト
ータルピッチ幅の変動は、TABテープを正常に製造し
たとしても、このTABテープを保存あるいは移送する
過程で上記のように絶縁フィルムが大気中の水分を吸収
することによっても生ずる。従来、TABテープは、リ
ード部などにメッキ処理した後、加熱処理されてポリオ
レフィンなどのプラスチックフィルムから形成された包
装袋に封入されて保持移送されていた。ここで使用され
ているプラスチックフィルムは、水分透過性を有してお
り、移送あるいは貯蔵されている間に包装袋内の湿度が
変化しやすく、従って、貯蔵中あるいは移送中にTAB
テープのトータルピッチ幅は包装状態によってさまざま
に変化していたであろうと考えられる。
[0007] By the way, even if the TAB tape is manufactured normally, the fluctuation of the total pitch width of the TAB tape causes the insulating film to become wet in the atmosphere as described above in the process of storing or transferring the TAB tape. It is also caused by absorbing Conventionally, a TAB tape has been subjected to a plating treatment on a lead portion or the like, and then subjected to a heating treatment, sealed in a packaging bag formed of a plastic film such as polyolefin, and held and transported. The plastic film used here has moisture permeability, and the humidity in the packaging bag tends to change during transportation or storage.
It is thought that the total pitch width of the tape would have varied in various ways depending on the packaging.

【0008】従来のTABテープでは、貯蔵中あるいは
移送中にトータルピッチ幅が問題になることが少なかっ
たが、昨今のファインピッチ化されたTABテープにお
いては、こうした貯蔵中あるいは移送中におけるトータ
ルピッチ幅の変動によって、電子部品を実装できないと
いった問題が生ずる蓋然性が日に日に高くなってきてい
る。
[0008] In the conventional TAB tape, the total pitch width rarely becomes a problem during storage or transfer, but in recent fine-pitch TAB tapes, the total pitch width during storage or transfer is low. The probability that electronic components cannot be mounted due to the fluctuation of the electronic components is increasing.

【0009】[0009]

【発明の目的】本発明は、トータルピッチ幅の変動が少
ない電子部品実装用フィルムキャリアテープおよびこの
ような電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造す
る方法を提供することを目的としている。また、上記の
ようなトータルピッチ幅の変動が少ない電子部品実装用
フィルムキャリアテープを、貯蔵中あるいは移送中にお
いても湿度の変化によるトータルピッチ幅の変動を抑制
することができる保管・移送方法を提供することを目的
としている。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a film carrier tape for mounting electronic components having a small variation in the total pitch width, and a method for manufacturing such a film carrier tape for mounting electronic components. Further, a storage / transfer method capable of suppressing fluctuations in the total pitch width due to changes in humidity even during storage or transfer of an electronic component mounting film carrier tape having a small fluctuation in the total pitch width as described above is provided. It is intended to be.

【0010】また、本発明は、こうした保管・移送の際
に好適な電子部品実装用フィルムキャリアテープの包装
体を提供することを目的としている。
Another object of the present invention is to provide a package of a film carrier tape for mounting electronic components, which is suitable for such storage and transfer.

【0011】[0011]

【発明の概要】本発明の電子部品実装用フィルムキャリ
アテープは、絶縁フィルムの表面に導電性金属箔からな
る所定の配線パターンが形成され、該配線パターンの上
にソルダーレジストがリード部を残して塗布されてお
り、そして該リード部がメッキ処理された電子部品実装
用フィルムキャリアテープであって、該電子部品実装用
フィルムキャリアテープが、リード部をメッキ処理した
後に湿度60%±5%の条件に保持した調湿履歴を有す
ることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION In a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention, a predetermined wiring pattern made of a conductive metal foil is formed on the surface of an insulating film, and a solder resist is left on the wiring pattern while leaving a lead portion. An electronic component mounting film carrier tape which is coated and whose leads are plated, wherein the electronic component mounting film carrier tape has a humidity of 60% ± 5% after plating the leads. Characterized by having a humidity control history held in

【0012】上記本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープは、絶縁フィルムの表面に貼着された導電性
金属箔をエッチングして所定の配線パターンを形成し、
該配線パターンの上にソルダーレジストを、リード部を
残して塗布し、次いで該リード部をメッキする工程を有
する電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法
であって、該電子部品実装用フィルムキャリアテープの
リード部にメッキした後に、該電子部品実装用フィルム
キャリアテープを、湿度60%±5%の条件に保持する
ことにより製造することができる。
The film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention forms a predetermined wiring pattern by etching a conductive metal foil attached to a surface of an insulating film;
A method for producing a film carrier tape for mounting an electronic component, comprising: applying a solder resist on the wiring pattern while leaving a lead portion, and then plating the lead portion. After plating on the lead portions, the film carrier tape for mounting electronic components can be manufactured by maintaining the humidity at 60% ± 5%.

【0013】また、本発明の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープ包装体は、絶縁フィルムの表面に導電性金
属箔からなる所定の配線パターンが形成され、該配線パ
ターンの上にソルダーレジストがリード部を残して塗布
されており、そして該リード部がメッキ処理された電子
部品実装用フィルムキャリアテープを内包する包装体で
あって、該電子部品実装用フィルムキャリアテープが、
リード部をメッキ処理した後に、湿度60%±5%の条
件に保持した調湿履歴を有すると共に、該電子部品実装
用フィルムキャリアテープが、内部の空気を不活性ガス
で置換した水不透過性包装袋内に封入されていることを
特徴としている。
Further, in the film carrier tape package for electronic component mounting of the present invention, a predetermined wiring pattern made of a conductive metal foil is formed on the surface of the insulating film, and a solder resist has a lead portion on the wiring pattern. The package is coated with an electronic component mounting film carrier tape, which has been coated with the lead portion and the lead portion is plated, and the electronic component mounting film carrier tape is
After the lead portion is plated, the film carrier tape for mounting electronic components has a humidity control history maintained at a humidity of 60% ± 5%, and has a water-impermeable property in which air inside is replaced with an inert gas. It is characterized by being enclosed in a packaging bag.

【0014】さらに、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープの保存・移送方法は、絶縁フィルムの表
面に導電性金属箔からなる所定の配線パターンが形成さ
れ、該配線パターンの上にソルダーレジストがリード部
を残して塗布されており、そして該リード部がメッキ処
理された電子部品実装用フィルムキャリアテープの保存
・移送する方法であって、該リード部にメッキした後
に、該電子部品実装用フィルムキャリアテープを湿度6
0%±5%の条件に保持し、次いで、内部の空気を不活
性ガスで置換した水不透過性包装袋内に封入して保存・
移送することを特徴としている。
Further, in the method for storing and transferring a film carrier tape for mounting electronic parts according to the present invention, a predetermined wiring pattern made of a conductive metal foil is formed on a surface of an insulating film, and a solder resist is formed on the wiring pattern. A method for storing and transferring an electronic component mounting film carrier tape in which a lead portion is applied and the lead portion is plated, wherein the electronic component mounting film is plated after the lead portion. Carrier tape at humidity 6
0% ± 5%, then sealed in a water-impermeable packaging bag in which the air inside has been replaced with inert gas.
It is characterized by being transported.

【0015】本発明の電子部品実装用フィルムキャリア
テープは、メッキ後に湿度60%±5%の条件に保持さ
れた調湿履歴を有している。このようにリード部などに
メッキ処理されて得られた電子部品実装用フィルムキャ
リアテープを、例えば調湿庫に収容して、電子部品実装
用フィルムキャリアテープ、特に絶縁フィルム中に含有
される水分量を一定の範囲に調湿して包装することによ
り、この電子部品実装用フィルムキャリアテープの湿度
変化に対するトータルリード幅の変化量を低減すること
ができる。
The film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention has a humidity control history maintained at a humidity of 60% ± 5% after plating. The film carrier tape for mounting electronic components obtained by plating the leads and the like in this way is housed in, for example, a humidity control chamber, and the amount of moisture contained in the film carrier tape for mounting electronic components, particularly, the insulating film. Is packaged by controlling the humidity within a certain range, the amount of change in the total lead width with respect to the change in humidity of the film carrier tape for mounting electronic components can be reduced.

【0016】特に上記のような調湿履歴を有する電子部
品実装用フィルムキャリアテープを、水不透過性包装袋
の中に、この包装袋内部の空気を不活性ガスで置換し
て、封入することにより、この包装体が開封されるま
で、収容されている電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープを調湿した直後の状態で保持することができる。こ
のように水不透過性包装袋内に密閉して保存あるいは移
送すれば、外部の状況に関係なく、本発明の電子部品実
装用フィルムキャリアテープを安定に維持することがで
きる。
In particular, the film carrier tape for mounting electronic parts having the humidity control history as described above is sealed in a water-impermeable packaging bag by replacing the air inside the packaging bag with an inert gas. Accordingly, until the package is opened, the contained electronic component mounting film carrier tape can be held in a state immediately after the humidity control. When stored or transferred in a water-impermeable packaging bag in this manner, the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention can be stably maintained regardless of external conditions.

【0017】[0017]

【発明の具体的な説明】次に、本発明の電子部品実装用
フィルムキャリアテープ、その製造方法、包装体および
保存・移送方法について、図面を参照しながら具体的に
説明する。なお、本発明で示す図面において、共通の部
材には共通の付番を付してある。本発明の電子部品実装
用フィルムキャリアテープは、図1〜図3に示すよう
に、絶縁フィルム10の表面に導電性金属箔からなる所
定の配線パターン14が形成され、該配線パターン14
の上にソルダーレジスト18がリード部15,16を残
して塗布されており、そして該リード部15,16がメ
ッキ処理されているという構成を有する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Next, a film carrier tape for mounting electronic parts, a method for manufacturing the same, a package, and a method for storing and transporting the same according to the present invention will be specifically described with reference to the drawings. In the drawings shown in the present invention, common members are assigned common numbers. As shown in FIGS. 1 to 3, the electronic component mounting film carrier tape of the present invention has a predetermined wiring pattern 14 made of a conductive metal foil formed on the surface of an insulating film 10.
A solder resist 18 is applied on the substrate, leaving the lead portions 15 and 16, and the lead portions 15 and 16 are plated.

【0018】絶縁性フィルム10は可撓性樹脂フィルム
からなる。また、この絶縁フィルム10は、エッチング
する際に酸などと接触することからこうした薬品に侵さ
れない耐薬品性、および、ボンディングする際の加熱に
よっても変質しないような耐熱性を有している。このよ
うな可撓性樹脂フィルムを素材の例としては、ガラスエ
ポキシ、BTレジン、ポリエステル、ポリアミドおよび
ポリイミドなどを挙げることができる。特に本発明では
ポリイミドからなるフィルムを用いることが好ましい。
The insulating film 10 is made of a flexible resin film. In addition, the insulating film 10 has chemical resistance that is not affected by such a chemical because it comes into contact with an acid or the like at the time of etching, and has heat resistance that does not deteriorate even by heating during bonding. Examples of such a flexible resin film include glass epoxy, BT resin, polyester, polyamide, and polyimide. Particularly, in the present invention, it is preferable to use a film made of polyimide.

【0019】絶縁フィルム10を構成するポリイミドフ
ィルムの例としては、ピロメリット酸2無水物と芳香族
ジアミンとから合成される全芳香族ポリイミド、ビフェ
ニルテトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンとから
合成されるビフェニル骨格を有する全芳香族ポリイミド
を挙げることができる。特に本発明ではビフェニル骨格
を有する全芳香族ポリイミド(例;商品名:ユーピレッ
クス、宇部興産(株)製)が好ましく使用される。この
ような絶縁フィルム10の厚さは、通常は25〜125
μm、好ましくは50〜75μmの範囲内にある。このよ
うな絶縁フィルムとしてポリイミドを使用する場合、こ
のポリイミドフィルムは1〜3%程度の吸水性を有して
おり、ポリイミドフィルムが上記のように吸水すること
によりポリイミドフィルムは膨張する。
Examples of the polyimide film forming the insulating film 10 include a wholly aromatic polyimide synthesized from pyromellitic dianhydride and an aromatic diamine, and a synthetic film formed from biphenyltetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine. Wholly aromatic polyimide having a biphenyl skeleton. Particularly, in the present invention, a wholly aromatic polyimide having a biphenyl skeleton (eg, trade name: Upilex, manufactured by Ube Industries, Ltd.) is preferably used. The thickness of the insulating film 10 is usually 25 to 125.
μm, preferably in the range of 50 to 75 μm. When polyimide is used as such an insulating film, this polyimide film has a water absorption of about 1 to 3%, and the polyimide film expands when the polyimide film absorbs water as described above.

【0020】本発明で使用する絶縁フィルム10には、
デバイスホール21、スプロケットホール23、アウタ
ーリードホール22、さらに屈曲部を有する場合には、
屈曲位置にフレックススリット等がパンチングにより形
成されている。配線パターン14は、上記のような所定
の穴21、22、23・・・が形成された絶縁フィルム1
0の少なくとも一方の面に貼着された金属箔をエッチン
グすることにより形成される。金属箔は、接着剤を用い
て或いは用いることなく絶縁フィルム10の少なくとも
一方の面に貼着される。ここで接着剤を用いて金属箔を
貼着する場合には、絶縁性の接着剤を使用して接着剤層
12を形成する。
The insulating film 10 used in the present invention includes:
When the device hole 21, the sprocket hole 23, the outer lead hole 22, and the bent portion are provided,
Flex slits and the like are formed at the bending positions by punching. The wiring pattern 14 is formed on the insulating film 1 on which the predetermined holes 21, 22, 23,.
0 is formed by etching a metal foil attached to at least one surface of the metal foil. The metal foil is attached to at least one surface of the insulating film 10 with or without using an adhesive. When the metal foil is attached using an adhesive, the adhesive layer 12 is formed using an insulating adhesive.

【0021】ここで使用される接着剤には、耐熱性、耐
薬品性、接着力、可撓性等の特性が必要になる。このよ
うな特性を有する接着剤の例としては、エポキシ系接着
剤、ポリイミド系接着剤およびフェノール系接着剤を挙
げることができる。このような接着剤は、ウレタン樹
脂、メラミン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などで変
性されていてもよく、またエポキシ樹脂自体がゴム変性
されていてもよい。このような接着剤は通常は加熱硬化
性である。
The adhesive used here must have properties such as heat resistance, chemical resistance, adhesive strength and flexibility. Examples of the adhesive having such properties include an epoxy-based adhesive, a polyimide-based adhesive, and a phenol-based adhesive. Such an adhesive may be modified with a urethane resin, a melamine resin, a polyvinyl acetal resin, or the like, or the epoxy resin itself may be modified with a rubber. Such adhesives are usually heat-curable.

【0022】接着剤層12の厚さは、通常は8〜23μ
m、好ましくは10〜21μmの範囲内にある。なお、上
記のような絶縁フィルム10に金属箔を貼着する際に
は、接着剤を用いることなく貼着することもできる。接
着剤層12は、絶縁フィルム10の表面に接着剤を塗布
して設けても良いし、また金属箔の表面に接着剤を塗布
して設けても良い。
The thickness of the adhesive layer 12 is usually 8 to 23 μm.
m, preferably in the range of 10 to 21 μm. When the metal foil is attached to the insulating film 10 as described above, the metal foil can be attached without using an adhesive. The adhesive layer 12 may be provided by applying an adhesive to the surface of the insulating film 10, or may be provided by applying an adhesive to the surface of the metal foil.

【0023】本発明で使用される金属箔は導電性を有し
ており、このような金属箔としては、銅箔およびアルミ
ニウム箔を挙げることができる。特に本発明では金属箔
として銅箔を使用することが好ましい。本発明で金属箔
として使用される銅箔には、電解銅箔および圧延銅箔が
あり、本発明ではいずれの銅箔を使用することも可能で
あるが、ファインピッチの電子部品実装用フィルムキャ
リアテープを製造するに際しては、金属箔として電解銅
箔を使用することが好ましい。
The metal foil used in the present invention has conductivity, and examples of such a metal foil include a copper foil and an aluminum foil. In particular, in the present invention, it is preferable to use a copper foil as the metal foil. Copper foil used as a metal foil in the present invention includes an electrolytic copper foil and a rolled copper foil, and any of the copper foils can be used in the present invention. In producing the tape, it is preferable to use an electrolytic copper foil as the metal foil.

【0024】ここで使用される電解銅箔としては電子部
品実装用フィルムキャリアテープの製造に通常使用され
ている厚さの電気銅箔を使用することができるが、ファ
インピッチのTABテープを製造するためには、平均厚
さが通常は6〜150μm、好ましくは6〜75μmの
範囲内、特に好ましくは9〜75μm、さらに好ましく
は9〜50μmの範囲内にある電解銅箔を使用する。こ
のような平均厚さを有する電解銅箔を使用することによ
り、狭ピッチ幅のインナーリードを容易に形成すること
ができる。
As the electro-deposited copper foil used here, an electro-deposited copper foil having a thickness usually used for manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components can be used, but a TAB tape having a fine pitch is manufactured. For this purpose, an electrolytic copper foil having an average thickness of usually 6 to 150 μm, preferably 6 to 75 μm, particularly preferably 9 to 75 μm, more preferably 9 to 50 μm is used. By using the electrolytic copper foil having such an average thickness, inner leads having a narrow pitch can be easily formed.

【0025】このベースフィルムを製造するまでの工程
は、乾式工程であり、しかも金属箔を絶縁フィルムに貼
着する際には加圧下に加熱することから、この工程を経
て、フォトレジストを塗布し、所望の配線パターンを露
光するまでの間のベースフィルム(絶縁フィルムと金属
箔との積層体(以下、「ベースフィルム」と記載するこ
ともある))の含有水分量は、湿度60%±5%の条件
で調湿したのと同程度になる。
The process up to the production of this base film is a dry process, and since the metal foil is heated under pressure when attaching it to the insulating film, the photoresist is applied through this process. The moisture content of the base film (laminated body of insulating film and metal foil (hereinafter, also referred to as “base film”)) until the desired wiring pattern is exposed is 60% ± 5% humidity. %, Which is almost the same as humidity control.

【0026】こうして形成されたベースフィルムにフォ
トレジストを塗布し、このフォトレジストに所定の配線
パターンを焼き付けて、不要のフォトレジストを除去し
てベースフィルムの金属箔表面に所定のパターンを形成
し、このパターンをマスキング材として、金属箔をエッ
チングする。即ち、ベースフィルムの金属箔表面に、フ
ィトレジストを塗布し、所定の配線パターンを露光して
焼き付けして、水性媒体に可溶な部分と不溶な部分とを
形成し、可溶部を水性媒体などで除去することにより、
不溶性フォトレジストからなるマスキング材を金属箔表
面に形成することができる。なお、ここで不溶性フォト
レジストからなるマスキング材は、露光することにより
硬化するフォトレジストから形成されていてもよいし、
また、逆に、露光することにより水性媒体などの特定の
溶媒に溶解可能となるフォトレジストを用いて露光した
後、特定の溶媒により可溶化された部分のフォトレジス
トを除去することによって形成することもできる。
A photoresist is applied to the base film thus formed, a predetermined wiring pattern is baked on the photoresist, unnecessary photoresist is removed, and a predetermined pattern is formed on the metal foil surface of the base film. Using this pattern as a masking material, the metal foil is etched. That is, a phytoresist is applied to the surface of the metal foil of the base film, and a predetermined wiring pattern is exposed and baked to form a soluble portion and an insoluble portion in the aqueous medium. By removing with
A masking material made of an insoluble photoresist can be formed on the surface of the metal foil. Here, the masking material made of an insoluble photoresist may be formed from a photoresist that is cured by exposure,
Conversely, after exposure using a photoresist that can be dissolved in a specific solvent such as an aqueous medium by exposure, the photoresist is formed by removing a portion of the photoresist solubilized by the specific solvent. Can also.

【0027】こうしてフォトレジストによりマスキング
されたベースフィルムを、エッチング液と接触すること
により、マスキングされていない部分の金属箔は溶出し
て、マスキングされた部分の金属箔が絶縁フィルム上に
残り、絶縁フィルム上に溶出しなかった金属箔からなる
配線パターンが形成される。ここで使用されるエッチン
グ液としては既に通常使用されている酸性のエッチング
液を用いることができる。
When the base film masked by the photoresist is brought into contact with an etching solution, the metal foil of the unmasked portion elutes, and the metal foil of the masked portion remains on the insulating film. A wiring pattern made of the metal foil that has not been eluted is formed on the film. As the etchant used here, an acidic etchant which is already usually used can be used.

【0028】こうして形成される配線パターンにおい
て、インナーリードの各ピッチ幅は、通常は30〜60
μm、好ましくは35〜55μmであり、本発明はこうし
たファインピッチの電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープに対して有用性が高い。なお、このようにしてエッ
チングした後のマスキング材(不溶性フォトレジスト)
は、例えばアルカリ洗浄液で洗浄することにより除去す
ることができる。
In the wiring pattern thus formed, the pitch width of the inner leads is usually 30 to 60.
μm, preferably 35 to 55 μm, and the present invention is highly useful for such a fine pitch film carrier tape for mounting electronic components. In addition, the masking material (insoluble photoresist) after etching in this way
Can be removed by washing with, for example, an alkaline washing solution.

【0029】また、デバイスホール、アウターリードホ
ールなどでは、そのままでは裏面からのエッチング液の
浸入によってこうしたホール部の金属箔がエッチングさ
れることから、通常はこのような絶縁フィルムの厚さ方
向に貫通孔を形成した場合には、ベースフィルムの裏面
から貫通孔に保護樹脂を塗布して裏面からの金属箔の溶
出を防止することが好ましい。
In the case of a device hole, an outer lead hole or the like, the metal foil in such a hole portion is etched by the infiltration of an etching solution from the back surface as it is, so that the insulating film usually penetrates in the thickness direction. When the holes are formed, it is preferable to apply a protective resin to the through holes from the back surface of the base film to prevent the metal foil from being eluted from the back surface.

【0030】本発明では、このように所定の配線パター
ンを形成した後、次の工程でメッキするインナーリード
15の先端部およびアウターリード16の先端部を除い
てソルダーレジストを塗布する。本発明で使用されるソ
ルダーレジスト塗布液は、硬化性樹脂が有機溶媒に溶解
若しくは分散された比較的高粘度の塗布液である。
In the present invention, after a predetermined wiring pattern is formed as described above, a solder resist is applied except for the tip of the inner lead 15 and the tip of the outer lead 16 to be plated in the next step. The solder resist coating liquid used in the present invention is a coating liquid having a relatively high viscosity in which a curable resin is dissolved or dispersed in an organic solvent.

【0031】本発明のソルダーレジスト塗布液中に含有
される硬化性樹脂は、エポキシ系樹脂、エポキシ系樹脂
のエラストマー変性物、ウレタン樹脂、ウレタン樹脂の
エラストマー変性物、ポリイミド樹脂およびポリイミド
樹脂のエラストマー変性物よりなる群から選ばれる少な
くとも一種類の樹脂成分を含有するものであることが好
ましい。特にエラストマー変性物を使用することが好ま
しい。このエラストマー変性には、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂あるいはポリイミド樹脂にエラストマー成分を
混合して変性する方法と、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂
あるいはポリイミド樹脂を形成するモノマーと、エラス
トマーを形成するモノマーとを共重合させる方法がある
が、本発明ではいずれのエラストマー変性物を使用する
ことができるが、特にエラストマーを形成するモノマー
を共重合させて、主成分である樹脂に弾性を付与する方
法によって形成されたエラストマー変性物を使用するこ
とが特に好ましい。
The curable resin contained in the solder resist coating solution of the present invention includes an epoxy resin, an elastomer modified epoxy resin, a urethane resin, an elastomer modified urethane resin, a polyimide resin and an elastomer modified polyimide resin. It is preferable that the resin contains at least one resin component selected from the group consisting of a product. In particular, it is preferable to use a modified elastomer. This elastomer modification is carried out by mixing an epoxy resin, urethane resin or polyimide resin with an elastomer component and modifying the mixture, and copolymerizing a monomer forming an epoxy resin, a urethane resin or a polyimide resin with a monomer forming an elastomer. Although there is a method, any modified elastomer can be used in the present invention. In particular, the modified elastomer formed by a method of imparting elasticity to a resin as a main component by copolymerizing a monomer forming the elastomer is used. It is particularly preferred to use a substance.

【0032】また、本発明において、ソルダーレジスト
塗布液中には、上記のような樹脂成分の他に、硬化促進
剤、充填剤、添加剤、チキソ剤および溶剤等、通常ソル
ダーレジスト塗布液に添加される物質を添加することが
できる。さらに、ソルダーレジスト層の可撓性等の特性
を向上させるために、ゴム微粒子のような弾性を有する
微粒子などを配合することも可能である。
In the present invention, in addition to the resin components described above, the solder resist coating solution usually contains a curing accelerator, a filler, an additive, a thixotropic agent, a solvent, and the like. Can be added. Further, in order to improve the properties such as flexibility of the solder resist layer, fine particles having elasticity such as rubber fine particles can be blended.

【0033】このようなソルダーレジスト塗布液は、ス
クリーン印刷技術を利用して塗布することができる。ソ
ルダーレジスト塗布液は、インナーリード部およびアウ
ターリード部など、次の工程で通常メッキ処理される部
分を除いて塗布される。このようなソルダーレジストの
塗布平均厚さは、通常は1〜100μm、好ましくは5
〜40μmの範囲内にある。
Such a solder resist coating solution can be applied using a screen printing technique. The solder resist coating solution is applied except for portions that are usually plated in the next step, such as inner lead portions and outer lead portions. The average coating thickness of such a solder resist is usually 1 to 100 μm, preferably 5 to 100 μm.
〜40 μm.

【0034】こうしてソルダーレジストを塗布した後、
通常は加熱することによりソルダーレジストは硬化す
る。こうしてリード部を残してソルダーレジストを塗布
した後、ソルダーレジストから露出しているリード部な
どにメッキ処理する。このようなメッキ処理には、スズ
メッキ処理、金メッキ処理、ニッケルメッキ処理、銀メ
ッキ処理、半田メッキ処理などがあり、本発明ではこれ
らの処理を単独であるいは組み合わせて採用することが
できる。特に本発明では、スズメッキ処理が好ましい。
After applying the solder resist in this manner,
Normally, the solder resist is cured by heating. After the solder resist is applied while leaving the lead portion in this way, the lead portion exposed from the solder resist is plated. Such plating treatments include tin plating treatment, gold plating treatment, nickel plating treatment, silver plating treatment, solder plating treatment, and the like. In the present invention, these treatments can be used alone or in combination. Particularly, in the present invention, tin plating is preferable.

【0035】例えば、スズメッキする場合、スズメッキ
を複数段に分けて行うこともできる。このように段階的
にスズメッキすることによりホイスカー発生を防止する
ことができる。また、上記は、ソルダーレジストを塗布
硬化させた後、スズメッキ処理する態様を示したが、形
成された配線パターンに薄いスズメッキ層を形成した
後、ソルダーレジストを塗布し、さらにスズメッキをす
ることもできる。
For example, in the case of tin plating, tin plating may be performed in a plurality of stages. Whisker generation can be prevented by performing tin plating stepwise in this manner. Further, the above shows an embodiment in which tin plating treatment is performed after coating and curing the solder resist, but after forming a thin tin plating layer on the formed wiring pattern, a solder resist can be applied and further tin plating can be performed. .

【0036】スズメッキ層は、無電解スズメッキあるい
は電気スズメッキ等の方法によって形成される。こうし
て形成された当初のスズメッキ層は、通常は実質的にス
ズから形成されているが、このスズメッキ層の特性を損
なわない範囲内で他の金属が含有されていても良い。ス
ズメッキ層の平均厚さは、0.1〜0.6μmの範囲内に
あることが好ましい。このような厚さでスズメッキ層を
形成することにより、インナーリードとデバイスのバン
プをボンディングする際、バンプを形成する金とリード
部のスズとが適量の共晶物が供給され過度の共晶物の供
給によるインナーリード部での短絡を防止することがで
きる。
The tin plating layer is formed by a method such as electroless tin plating or electric tin plating. The initial tin plating layer thus formed is usually substantially made of tin, but may contain other metals as long as the characteristics of the tin plating layer are not impaired. The average thickness of the tin plating layer is preferably in the range of 0.1 to 0.6 μm. By forming a tin plating layer with such a thickness, when bonding the inner lead to the bump of the device, an appropriate amount of eutectic is supplied from the gold forming the bump and tin of the lead, and excessive eutectic Can be prevented from being short-circuited in the inner lead portion due to the supply of the liquid.

【0037】本発明の電子部品実装用フィルムキャリア
テープは、上記のようにしてメッキ層を形成して得られ
た電子部品実装用フィルムキャリアテープを、湿度60
%±5%の調湿条件に保持する。特に本発明では、湿度
60%±5%、温度20〜100℃、好ましくは22〜
30℃の条件で、1〜60時間、好ましくは5〜50時
間に保持することが望ましい。この調湿条件において
は、低温では比較的長時間保持し、高温では比較的短時
間の保持で足りる。即ち、本発明の方法において、上記
のように湿度60%±5%の条件で所定温度、所定時間
保持することにより、電子部品実装用フィルムキャリア
テープの絶縁フィルム(好ましくはポリイミドフィル
ム)中に含有される水分が一定量になる。
The film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention is obtained by forming a film carrier tape for mounting electronic parts obtained by forming a plating layer
% ± 5%. In particular, in the present invention, the humidity is 60% ± 5%, the temperature is 20 to 100 ° C., preferably 22 to 100 ° C.
It is desirable that the temperature is maintained at 30 ° C. for 1 to 60 hours, preferably 5 to 50 hours. Under these humidity control conditions, it is sufficient to hold for a relatively long time at a low temperature and for a relatively short time at a high temperature. That is, in the method of the present invention, the film is held in the insulating film (preferably a polyimide film) of the film carrier tape for mounting electronic components by maintaining the film at a predetermined temperature and a predetermined time under the condition of 60% ± 5% humidity as described above. A certain amount of water is produced.

【0038】そして、上記のように湿度60%±5%の
条件で調湿することにより、図4に詳細に示すトータル
ピッチのずれ幅は、トータルピッチの設計値に対して、
通常は±0.0225%の範囲内になる。例えば、トー
タルピッチ幅が設計値20000μm(2cm)でありピ
ッチ幅が50μmの電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープの場合、許容されるトータルピッチ幅のずれ幅は、
設計値に対して±4μm程度であり、これを超えると、
電子部品の実装工程でこうしたトータルピッチ幅のずれ
を解消しながら電子部品を実装することは事実上できな
い。従って、トータルピッチのずれ幅は、設計値に対し
て、±0.0225%の範囲内、好ましくは±0.02
00%の範囲内に制御されていることが望ましく、上記
のように調湿工程に付することにより、本発明の電子部
品実装用フィルムキャリアテープのトータルピッチのず
れ幅を上記範囲内に制御することができる。
By controlling the humidity under the condition of 60% ± 5% humidity as described above, the deviation width of the total pitch shown in detail in FIG.
Usually, it is within the range of ± 0.0225%. For example, in the case of a film carrier tape for mounting electronic components having a total pitch width of a design value of 20000 μm (2 cm) and a pitch width of 50 μm, the allowable deviation width of the total pitch width is as follows:
It is about ± 4 μm with respect to the design value.
It is virtually impossible to mount the electronic component while eliminating such a shift in the total pitch width in the mounting process of the electronic component. Therefore, the deviation width of the total pitch is within a range of ± 0.0225% with respect to the design value, preferably ± 0.02%.
It is desirable that the total pitch of the film carrier tape for mounting electronic components according to the present invention is controlled within the above range by applying the humidity control step as described above. be able to.

【0039】このように湿度60%±5%の範囲内に保
持した調湿履歴を有する本発明の電子部品実装用フィル
ムキャリアテープを、この調湿状態を維持できるように
包装することが好ましい。そして、本発明では、上記の
ような調湿履歴を有する電子部品実装用フィルムキャリ
アテープを、水不透過性包装袋内に収容することが好ま
しい。このような水不透過性包装体は、低水分透過性の
樹脂と他の樹脂との積層フィルム、金属を積層した複合
フィルム、金属蒸着複合フィルムを使用して形成するこ
とが好ましい。
It is preferable that the film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention having the humidity control history maintained in the range of 60% ± 5% of humidity is packed so as to maintain the humidity control state. And in this invention, it is preferable to accommodate the film carrier tape for electronic component mounting which has a humidity control history as described above in a water-impermeable packaging bag. Such a water-impermeable package is preferably formed using a laminated film of a resin having low moisture permeability and another resin, a composite film in which metals are laminated, or a metal-deposited composite film.

【0040】ここで使用される樹脂の例としては、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニ
ルなどを挙げることができる。このような樹脂を用いて
積層フィルムを製造する際には、水分透過性の低い樹脂
(例えば、ポリアミドなど)を低水分透過性樹脂として
この少なくとも一方の面、好ましくは両面にポリエステ
ル、ポリオレフィンなどの通常の樹脂を積層する。この
ような積層フィルムは、2層以上であり、3層以上の積
層体であってもよい。
Examples of the resin used here include polyolefin, polyester, polyamide, polyvinyl chloride and the like. When a laminated film is produced using such a resin, a resin having low moisture permeability (for example, polyamide) is used as a low moisture permeable resin on at least one surface, preferably both surfaces, of polyester, polyolefin or the like. Normal resin is laminated. Such a laminated film has two or more layers, and may be a laminate of three or more layers.

【0041】水分不透過性包装袋を形成する素材とし
て、樹脂と金属との複合フィルムの有用性が高い。ここ
で使用される金属の例としては、アルミニウム、スズ、
亜鉛、銅を挙げることができる。また、この金属と複合
フィルムを形成する合成樹脂としては、ポリオレフィ
ン、ポリエステル、ポリアミドを挙げることができる。
上記の金属から金属箔を形成し、この金属箔を樹脂とラ
ミネートすることもできるし、また、樹脂フィルムに金
属を蒸着させることもできる。
As a material for forming the moisture-impermeable packaging bag, a composite film of a resin and a metal is highly useful. Examples of metals used here are aluminum, tin,
Zinc and copper can be mentioned. Examples of the synthetic resin forming the composite film with the metal include polyolefin, polyester, and polyamide.
A metal foil can be formed from the above-mentioned metals, and this metal foil can be laminated with a resin, or a metal can be deposited on a resin film.

【0042】上記のような水分不透過性樹脂から形成さ
れた包装袋に、上記湿度60%±5%に保持された調湿
履歴を有する電子部品実装用フィルムキャリアテープを
封入する。このとき、水分不透過性包装袋内に存在する
空気を窒素、アルゴンなどの不活性ガスで置換して電子
部品実装用フィルムキャリアテープを封入する。なお、
ここで使用される不活性ガスの湿度も60%±5%の範
囲内に調湿されていることが望ましい。このように不活
性ガスを包装袋内に導入することにより、包装袋内に存
在する空気はこの不活性ガスで置換され、包装袋内は不
活性ガス雰囲気になる。従って、こうして形成された不
活性ガス雰囲気に電子部品実装用フィルムキャリアテー
プを収納して密閉することにより、この包装袋内を調湿
条件と同一の湿度60%±5%に維持することができる
と共に、この電子部品実装用フィルムキャリアテープの
酸化劣化を防止するができる。
A film carrier tape for mounting electronic components having a humidity control history maintained at a humidity of 60% ± 5% is sealed in a packaging bag formed of the above-described moisture-impermeable resin. At this time, the air present in the moisture-impermeable packaging bag is replaced with an inert gas such as nitrogen or argon, and the electronic component mounting film carrier tape is sealed. In addition,
It is desirable that the humidity of the inert gas used here is also controlled within the range of 60% ± 5%. By introducing the inert gas into the packaging bag in this manner, the air present in the packaging bag is replaced by the inert gas, and the inside of the packaging bag becomes an inert gas atmosphere. Therefore, by storing and sealing the film carrier tape for mounting electronic components in the inert gas atmosphere thus formed, the inside of the packaging bag can be maintained at the same humidity of 60% ± 5% as the humidity control condition. At the same time, oxidation deterioration of the film carrier tape for mounting electronic components can be prevented.

【0043】リールにスペーサーと共に巻き取られた電
子部品実装用フィルムキャリアテープを不活性ガスを導
入して内部の空気を不活性ガスで置換した包装袋に収容
した後、ガス抜き口を残して包装袋のテープ導入口をヒ
ートシールなどの方法で密閉し、次いで包装袋内の余剰
の不活性ガスをガス抜き口にガス導出管を差し込んで抜
き取り、最後にこのガス導出管を抜き取りながらガス抜
き口をヒートシールなどで密閉することにより電子部品
実装用フィルムキャリアテープを包装袋内に密封するこ
とができる。
The film carrier tape for mounting electronic components wound up together with the spacer on the reel is housed in a packaging bag in which an inert gas has been introduced and the air inside has been replaced with the inert gas, and then the packaging has been carried out while leaving the vent hole. Seal the tape inlet of the bag with a method such as heat sealing, then insert the gas outlet tube into the gas outlet to remove excess inert gas in the packaging bag, and finally pull out the gas outlet while removing the gas outlet tube. Is sealed by heat sealing or the like, so that the film carrier tape for mounting electronic components can be sealed in a packaging bag.

【0044】本発明の電子部品実装用フィルムキャリア
テープ包装体内は、上述のように、湿度60%±5%に
保持した調湿履歴を有する電子部品実装用フィルムキャ
リアテープと少量の不活性ガスとが含有されており、し
かもこの包装袋は、水分不透過性であるので、外部の湿
度変化によっては、包装体内部の湿度が変動しない。従
って、本発明の包装体の内部には、乾燥剤あるいは調湿
剤を別途入れることを特に必要とはしない。
As described above, the electronic component mounting film carrier tape having a humidity control history maintained at a humidity of 60% ± 5% and a small amount of inert gas are contained in the electronic component mounting film carrier tape package of the present invention. And the packaging bag is impermeable to moisture, so that the humidity inside the package does not fluctuate due to changes in external humidity. Therefore, it is not particularly necessary to separately add a desiccant or a humectant inside the package of the present invention.

【0045】このようにして包装袋に密封収納された本
発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、この
包装袋に密閉収納されたそのままの状態で安定に保管す
ることができる。即ち、このような包装袋に密閉収納さ
れた電子部品実装用フィルムキャリアテープは、外部湿
度に影響されず、この包装袋内は一定の湿度に保たれる
ことから、湿度変化によるトータルピッチ幅が変動する
ことがない。また、移送の際にも同様に外部湿度の影響
を受けることがない。従って、従来一部行われていた冷
蔵輸送などを行う必要がないので、移送コストも著しく
低減される。
The electronic component mounting film carrier tape of the present invention hermetically sealed in the packaging bag as described above can be stably stored as it is hermetically sealed in the packaging bag. That is, the film carrier tape for mounting electronic components tightly housed in such a packaging bag is not affected by the external humidity, and the inside of the packaging bag is kept at a constant humidity. Does not fluctuate. Also, the transfer is not similarly affected by the external humidity. Therefore, since there is no need to perform refrigerated transportation, which has been partially performed in the past, the transportation cost is also significantly reduced.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明の電子部品実装用フィルムキャリ
アテープは、メッキ工程終了後に湿度60%±5%の条
件で保持された調湿履歴を有しており、そして、特にこ
の電子部品実装用フィルムキャリアテープを水不透過性
包装体に不活性ガスと共に分有することにより、この電
子部品実装用フィルムキャリアテープにおけるトータル
ピッチの変動幅を低減することができる。従って、本発
明の電子部品実装用フィルムキャリアテープを用いるこ
とにより、リードとバンプ電極とが一致し、電子部品の
実装不良率が低下する。
The film carrier tape for mounting electronic parts according to the present invention has a humidity control history maintained at a humidity of 60% ± 5% after the completion of the plating step. By including the film carrier tape in the water-impermeable packaging together with the inert gas, the fluctuation width of the total pitch in the electronic component mounting film carrier tape can be reduced. Therefore, by using the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention, the leads and the bump electrodes coincide with each other, and the defective mounting rate of the electronic components is reduced.

【0047】また、本発明の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープを水不透過性包装袋に入れた包装体を用い
て電子部品実装用フィルムキャリアテープを保管し、移
送すると、外気の状態、特に湿度変化によっては本発明
の電子部品実装用フィルムキャリアテープのトータルピ
ッチは変動しないので、特別な保存施設、輸送手段を用
いることなく安定した状態で保存・移送することができ
る。
Further, when the film carrier tape for mounting electronic components is stored and transported by using a package in which the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention is placed in a water-impermeable packaging bag, the state of the outside air, especially humidity Since the total pitch of the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention does not change depending on the change, the film carrier tape can be stably stored and transported without using any special storage facility or transportation means.

【0048】特に本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープは、ピッチ幅が狭いファインピッチのフィル
ムキャリアテープとして極めて有用性が高い。
In particular, the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention is extremely useful as a fine pitch film carrier tape having a narrow pitch width.

【0049】[0049]

【実施例】次に本発明の実施例を示して本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定される
ものではない。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples of the present invention, but the present invention is not limited to these examples.

【0050】[0050]

【実施例1】厚さ75μmのポリイミドフィルムに、パ
ンチングにより、デバイスホール、スプロケットホール
を形成した。次いで、このポリイミドフィルム表面に、
エポキシ系接着剤を塗布し、厚さ18μmの銅箔を貼着
した。さらに、この銅箔上にフォトレジストを塗布し、
このフォトレジストを露光し、さらにエッチングするこ
とにより銅箔に配線パターンを形成した。形成した配線
パターンのインナーリードの設計上のトータルピッチ幅
は20000μmであり、各リードのピッチ幅は50μ
mである。
Example 1 Device holes and sprocket holes were formed in a 75 μm thick polyimide film by punching. Then, on this polyimide film surface,
An epoxy adhesive was applied, and a copper foil having a thickness of 18 μm was adhered. Furthermore, apply a photoresist on this copper foil,
The photoresist was exposed and etched to form a wiring pattern on the copper foil. The designed total pitch width of the inner leads of the formed wiring pattern is 20000 μm, and the pitch width of each lead is 50 μm.
m.

【0051】こうして形成された配線パターンにウレタ
ン系ソルダーレジストを塗布した後、80〜140℃の
温度に段階的に2.5時間かけて昇温して加熱してソル
ダーレジストを硬化させた。こうしてソルダーレジスト
層を形成した後、このフィルムを無電解スズメッキ層に
移してソルダーレジストが塗工されていない配線パター
ン(インナーリードおよびアウターリード)表面に0.
2μmの厚さでスズメッキ層を形成した。
After applying a urethane solder resist to the wiring pattern thus formed, the solder resist was hardened by heating to a temperature of 80 to 140 ° C. stepwise over 2.5 hours and heating. After the solder resist layer is formed in this manner, the film is transferred to an electroless tin plating layer, and the surface of the wiring pattern (inner lead and outer lead) on which the solder resist is not applied is coated with a surface having a thickness of 0.1 mm.
A tin plating layer was formed with a thickness of 2 μm.

【0052】スズメッキ層を形成した後、このTABテ
ープを120℃の温度に1時間保持した。こうして製造
されたTABテープの一部を切り取りサンプル1とし
た。次いで、このTABテープを湿度60%±5%、温
度25℃±2℃に調湿された調湿庫に移し48時間保持
した。24時間経過後、このTABテープを取り出し、
インナーリードのトータルピッチ幅を測定したところ、
20002μmであり、設計値に対するトータルピッチ
のずれ幅は2μm、即ち0.01%であった。
After forming the tin plating layer, the TAB tape was kept at a temperature of 120 ° C. for one hour. A part of the TAB tape thus manufactured was cut out to obtain Sample 1. Next, this TAB tape was transferred to a humidity control chamber conditioned at a humidity of 60% ± 5% and a temperature of 25 ° C. ± 2 ° C., and was held for 48 hours. After 24 hours, remove this TAB tape,
When measuring the total pitch width of the inner lead,
20002 μm, and the deviation width of the total pitch from the design value was 2 μm, that is, 0.01%.

【0053】次いで、上記のように湿度60%±5%、
温度25℃±2、時間48時間の条件で保持された調湿
履歴を有するTABテープを、アルミ蒸着されたポリエ
ステルフィルムからなる水分不透過性包装袋に窒素ガス
と共に入れ、一部を残して出し入れ口をヒートシールし
た後、シールされていない部分から吸引ホースを挿入し
て余剰の窒素ガスを吸引し、次いで、この吸引口をヒー
トシールした。
Next, as described above, the humidity was 60% ± 5%,
A TAB tape having a humidity control history maintained at a temperature of 25 ° C. ± 2 and a time of 48 hours is put into a moisture-impermeable packaging bag made of an aluminum-evaporated polyester film together with nitrogen gas, and a part of the TAB tape is taken in and out. After heat sealing the opening, a suction hose was inserted from an unsealed portion to suck excess nitrogen gas, and then the suction opening was heat sealed.

【0054】上記のようにして水分不透過性包装袋に封
入したTABテープを6ヶ月、室温で保持した。この間
の室内の湿度は30〜80%の間で変化した。6ヶ月経
過後、水分透過性包装袋からTABテープを取り出し、
インナーリードのトータルピッチ幅を測定したところ、
20004μmであり、設計値に対するトータルピッチ
のずれ幅は4μm、即ち0.02%であった。
The TAB tape sealed in the moisture-impermeable packaging bag as described above was kept at room temperature for 6 months. During this time, the room humidity varied between 30-80%. After 6 months, remove the TAB tape from the moisture-permeable packaging bag,
When measuring the total pitch width of the inner lead,
20004 μm, and the deviation width of the total pitch from the design value was 4 μm, that is, 0.02%.

【0055】上記の結果から、水分不透過性包装袋に入
れる前後で、インナーリードのトータルピッチ幅の変動
はきわめて小さいことがわかった。比較のために調湿庫
に入れる前に採取してそのまま室内に放置したサンプル
1についてトータルピッチのずれ幅を測定したところ、
トータルピッチは19988μmであり、設計値に対す
るトータルピッチのずれ幅は122μm、即ち0.06
%であった。
From the above results, it was found that the fluctuation of the total pitch width of the inner leads before and after placing in the moisture-impermeable packaging bag was extremely small. For comparison, the total pitch deviation width was measured for Sample 1 which was collected before being placed in the humidity control chamber and left as it was in the room.
The total pitch is 19988 μm, and the deviation width of the total pitch from the design value is 122 μm, that is, 0.06 μm.
%Met.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、電子部品実装用フィルムキャリアテー
プの一例を示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a film carrier tape for mounting electronic components.

【図2】図2は、電子部品実装用フィルムキャリアテー
プにデバイスを実装したときの、リードとバンプ電極と
の状態を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a state of leads and bump electrodes when a device is mounted on a film carrier tape for mounting electronic components.

【図3】図3は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープの断面を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a cross section of the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.

【図4】図4は、インナーリードのトータルピッチを示
す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a total pitch of inner leads.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・絶縁フィルム 15・・・インナーリード 16・・・アウターリード 21・・・デバイスホール 22・・・アウターリードホール 23・・・スプリケットホール 25・・・バンプ電極 26・・・電子部品 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Insulating film 15 ... Inner lead 16 ... Outer lead 21 ... Device hole 22 ... Outer lead hole 23 ... Spricket hole 25 ... Bump electrode 26 ... Electronic components

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁フィルムの表面に導電性金属箔から
なる所定の配線パターンが形成され、該配線パターンの
上にソルダーレジストがリード部を残して塗布されてお
り、そして該リード部がメッキ処理された電子部品実装
用フィルムキャリアテープであって、該電子部品実装用
フィルムキャリアテープが、リード部をメッキ処理した
後に湿度60%±5%の条件に保持した調湿履歴を有す
ることを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープ。
1. A predetermined wiring pattern made of a conductive metal foil is formed on a surface of an insulating film, a solder resist is applied on the wiring pattern except for a lead portion, and the lead portion is plated. A film carrier tape for mounting electronic components, characterized in that the film carrier tape for mounting electronic components has a humidity control history maintained at a humidity of 60% ± 5% after plating a lead portion. Electronic component mounting film carrier tape.
【請求項2】 前記電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープが、湿度60%±5%、温度25〜100℃の条件
で、1〜60時間に保持した調湿履歴を有することを特
徴とする請求項第1項記載の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープ。
2. The electronic component mounting film carrier tape according to claim 1, wherein the film carrier tape has a humidity control history maintained for 1 to 60 hours at a humidity of 60% ± 5% and a temperature of 25 to 100 ° C. 2. The film carrier tape for electronic component mounting according to claim 1.
【請求項3】 前記絶縁フィルムに形成されたデバイス
ホール内に延出して設けられたインナーリード部のトー
タルピッチのずれ幅が、設計値に対して±0.0225
%の範囲内にあることを特徴とする請求項第1項記載の
電子部品実装用フィルムキャリアテープ。
3. A deviation of a total pitch of an inner lead portion extending into a device hole formed in the insulating film is ± 0.0225 with respect to a design value.
2. The electronic component mounting film carrier tape according to claim 1, wherein the content is in the range of%.
【請求項4】 前記絶縁フィルムに形成されたデバイス
ホール内に延出して設けられたインナーリードのピッチ
幅が10〜60μmの範囲内にあることを特徴とする請
求項第1項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテー
プ。
4. The electronic component according to claim 1, wherein a pitch width of an inner lead provided to extend into a device hole formed in the insulating film is within a range of 10 to 60 μm. Film carrier tape for mounting.
【請求項5】 前記絶縁フィルムが、ポリイミドフィル
ムであることを特徴とする請求項第1項記載の電子部品
実装用フィルムキャリアテープ。
5. The film carrier tape according to claim 1, wherein the insulating film is a polyimide film.
【請求項6】 前記導電性金属箔が、平均厚さ5〜70
μmの電解銅箔であることを特徴とする請求項第1項記
載の電子部品実装用フィルムキャリアテープ。
6. The conductive metal foil has an average thickness of 5 to 70.
2. The film carrier tape for mounting electronic parts according to claim 1, wherein the film carrier tape is a μm electrolytic copper foil.
【請求項7】 前記電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープが、内部の空気を不活性ガス置換した水分不透過性
包装袋に封入されていることを特徴とする請求項第1項
記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープ。
7. The electronic component mounting according to claim 1, wherein the electronic component mounting film carrier tape is sealed in a moisture-impermeable packaging bag in which the air inside is replaced with an inert gas. Film carrier tape.
【請求項8】 絶縁フィルムの表面に貼着された導電性
金属箔をエッチングして所定の配線パターンを形成し、
該配線パターンの上にソルダーレジストを、リード部を
残して塗布し、次いで該リード部をメッキする工程を有
する電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法
であって、該電子部品実装用フィルムキャリアテープの
リード部にメッキした後に、該電子部品実装用フィルム
キャリアテープを、湿度60%±5%の条件に保持する
ことを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテー
プの製造方法。
8. A predetermined wiring pattern is formed by etching a conductive metal foil attached to a surface of an insulating film;
A method for producing a film carrier tape for mounting an electronic component, comprising: applying a solder resist on the wiring pattern while leaving a lead portion, and then plating the lead portion. 3. A method for manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components, comprising: holding the film carrier tape for mounting electronic components at a humidity of 60% ± 5% after plating the lead portion of (1).
【請求項9】 前記電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープを、湿度60%±5%、温度25〜100℃の条件
で、1〜60時間に保持することを特徴とする請求項第
8項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製
造方法。
9. The film carrier tape according to claim 8, wherein the film carrier tape for mounting electronic components is maintained at a humidity of 60% ± 5% and a temperature of 25 to 100 ° C. for 1 to 60 hours. A method for manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components.
【請求項10】 前記絶縁フィルムに形成されたデバイ
スホール内に延出して設けられたインナーリード部のト
ータルピッチのずれ幅が、設計値に対して±0.022
5%の範囲内にあることを特徴とする請求項第8項記載
の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法。
10. A deviation of a total pitch of an inner lead portion provided to extend into a device hole formed in the insulating film is ± 0.022 with respect to a design value.
9. The method for producing a film carrier tape for mounting electronic parts according to claim 8, wherein the content is within a range of 5%.
【請求項11】 前記絶縁フィルムに形成されたデバイ
スホール内に延出して設けられたインナーリードのピッ
チ幅が30〜60μmの範囲内にあることを特徴とする
請求項第8項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテ
ープの製造方法。
11. The electronic component according to claim 8, wherein a pitch width of an inner lead extending into a device hole formed in the insulating film is within a range of 30 to 60 μm. Manufacturing method of film carrier tape for mounting.
【請求項12】 前記絶縁フィルムが、ポリイミドフィ
ルであることを特徴とする請求項第7項記載の電子部品
実装用フィルムキャリアテープの製造方法。
12. The method according to claim 7, wherein the insulating film is a polyimide fill.
【請求項13】 前記導電性金属箔が、平均厚さ6〜1
50μmの電解銅箔であることを特徴とする請求項第8
項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造
方法。
13. The conductive metal foil having an average thickness of 6 to 1
9. An electrolytic copper foil having a thickness of 50 μm.
The method for producing a film carrier tape for mounting electronic components according to the above item.
【請求項14】 前記電子部品実装用フィルムキャリア
テープを、内部の空気を不活性ガスで置換した水分不透
過性包装袋に封入することを特徴とする請求項第8項記
載の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方
法。
14. The electronic component mounting device according to claim 8, wherein the electronic component mounting film carrier tape is sealed in a moisture-impermeable packaging bag in which the air inside is replaced with an inert gas. A method for manufacturing a film carrier tape.
【請求項15】 絶縁フィルムの表面に導電性金属箔か
らなる所定の配線パターンが形成され、該配線パターン
の上にソルダーレジストがリード部を残して塗布されて
おり、そして該リード部がメッキ処理された電子部品実
装用フィルムキャリアテープを内包する包装体であっ
て、該電子部品実装用フィルムキャリアテープが、リー
ド部をメッキ処理した後に、湿度60%±5%の条件に
保持した調湿履歴を有すると共に、該電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープが、内部の空気を不活性ガスで置
換した水不透過性包装袋内に封入されていることを特徴
とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ包装体。
15. A predetermined wiring pattern made of a conductive metal foil is formed on the surface of the insulating film, a solder resist is applied on the wiring pattern except for a lead portion, and the lead portion is plated. A packaging body including the electronic component mounting film carrier tape, wherein the electronic component mounting film carrier tape has a humidity control history of 60% ± 5% after plating a lead portion. Wherein the electronic component mounting film carrier tape is enclosed in a water-impermeable packaging bag in which the air inside has been replaced with an inert gas. .
【請求項16】 前記水不透過性包装袋が、金属層を有
するプラスチック複合フィルムから形成されていること
を特徴とする請求項第15項記載の電子部品実装用フィ
ルムキャリアテープの包装体。
16. The package according to claim 15, wherein said water-impermeable packaging bag is formed of a plastic composite film having a metal layer.
【請求項17】 絶縁フィルムの表面に導電性金属箔か
らなる所定の配線パターンが形成され、該配線パターン
の上にソルダーレジストがリード部を残して塗布されて
おり、そして該リード部がメッキ処理された電子部品実
装用フィルムキャリアテープの保存・移送する方法であ
って、該リード部にメッキした後に、該電子部品実装用
フィルムキャリアテープを湿度60%±5%の条件に保
持し、次いで、内部の空気を不活性ガスで置換した水不
透過性包装袋内に封入して保存・移送することを特徴と
する電子部品実装用フィルムキャリアテープの保存・移
送方法。
17. A predetermined wiring pattern made of a conductive metal foil is formed on a surface of an insulating film, a solder resist is applied on the wiring pattern except for a lead portion, and the lead portion is plated. A method for storing and transferring the obtained electronic component mounting film carrier tape, wherein after plating the lead portion, the electronic component mounting film carrier tape is maintained at a humidity of 60% ± 5%, A method for storing and transferring a film carrier tape for mounting electronic components, wherein the method is sealed and stored and transferred in a water-impermeable packaging bag in which the air inside is replaced with an inert gas.
【請求項18】 前記水不透過性包装袋が、金属層を有
するプラスチック複合フィルムから形成されていること
を特徴とする請求項第17項記載の電子部品実装用フィ
ルムキャリアテープの保存・移送方法。
18. The method as claimed in claim 17, wherein the water-impermeable packaging bag is formed of a plastic composite film having a metal layer. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6699737B2 (en) 2001-10-09 2004-03-02 Renesas Technology Corporation Method of manufacturing a semiconductor device
US7262083B2 (en) 2001-10-09 2007-08-28 Renesas Technology Corp. Method of manufacturing a semiconductor device
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