JP2001143619A - Method for forming rib structure and method for manufacturing flat display - Google Patents

Method for forming rib structure and method for manufacturing flat display

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JP2001143619A
JP2001143619A JP32089399A JP32089399A JP2001143619A JP 2001143619 A JP2001143619 A JP 2001143619A JP 32089399 A JP32089399 A JP 32089399A JP 32089399 A JP32089399 A JP 32089399A JP 2001143619 A JP2001143619 A JP 2001143619A
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JP
Japan
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rib
multilayer
forming
ribs
substrate
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JP32089399A
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Japanese (ja)
Inventor
Sashiro Kamimura
佐四郎 上村
Takeshi Nagameguri
武志 長廻
Junko Yotani
純子 余谷
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Noritake Itron Corp
Original Assignee
Ise Electronics Corp
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the end portions of a rib structure from being bent. SOLUTION: A shape of side face of end portion of multiple-layered rib 10 is made as stair step-wise composed of plural steps, arranged with the upper steps positioning inner side than the lower one.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、厚みより高さが高
い板状の複数のリブからなるリブ構造の形成方法、およ
び、外囲器の内面上にリブが所定の間隔で複数形成され
ており各リブに挟まれた領域に発光部が形成された平面
ディスプレイの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming a rib structure comprising a plurality of plate-like ribs having a height higher than a thickness, and a method in which a plurality of ribs are formed at predetermined intervals on an inner surface of an envelope. The present invention relates to a method of manufacturing a flat display in which a light emitting portion is formed in a region sandwiched between cage ribs.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、従来のリブ構造の形成方法を説
明するための工程図である。この図には、リブの側面が
示されている。まず、図7(a)に示すように、ガラス
基板111上のリブ形成領域に、スクリーン印刷法を用
いてリブ101を形成する。このとき、印刷ペーストと
して、低融点ガラス材料を主体として樹脂を混ぜ溶剤に
溶かしたものを用いる。次に、図7(b)に示すよう
に、リブ101を焼成して、リブ112を形成する。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a process chart for explaining a conventional method for forming a rib structure. In this figure, the side surface of the rib is shown. First, as shown in FIG. 7A, a rib 101 is formed in a rib forming region on a glass substrate 111 by using a screen printing method. At this time, as the printing paste, one obtained by mixing a resin mainly with a low melting point glass material and dissolving it in a solvent is used. Next, as shown in FIG. 7B, the ribs 101 are fired to form the ribs 112.

【0003】このようにして形成されるリブ構造は、例
えばFED(Field Emissin Display )などに使用され
ている。このFEDは、2次元マトリクス状に配置され
た電子源から放出された電子を、対向電極に形成された
蛍光体からなる発光部に衝突させて発光させるフラット
パネルディスプレイである。図8は、リブ構造を有する
FEDの一部の構成を示す斜視図である。
The rib structure thus formed is used for, for example, an FED (Field Emissin Display). This FED is a flat panel display that emits light by colliding electrons emitted from electron sources arranged in a two-dimensional matrix with a light emitting portion formed of a phosphor formed on a counter electrode. FIG. 8 is a perspective view showing a partial configuration of an FED having a rib structure.

【0004】図8に示すFEDでは、複数のリブ122
が陰極側ガラス基板121上に所定の間隔で形成されて
いる。このリブ122の寸法は、厚み50μm程度、高
さ100μm程度である。また、各リブ122により挟
まれた陰極側ガラス基板121上の領域に、陰極として
の電子放出部123がストライプ状に形成されている。
そして、リブ122上に、多数の開口部124aを有す
る電子引き出し電極124が配置されている。この電極
引き出し電極124は、電子放出部123と直交する方
向にストライプ状に分割されている。これら電子放出部
123と電子引き出し電極124との交差する領域が、
1つの表示ドットを構成することになる。
[0004] In the FED shown in FIG.
Are formed on the cathode-side glass substrate 121 at predetermined intervals. The dimensions of the rib 122 are about 50 μm in thickness and about 100 μm in height. In a region on the cathode-side glass substrate 121 sandwiched between the ribs 122, an electron emission portion 123 as a cathode is formed in a stripe shape.
On the rib 122, an electron extraction electrode 124 having a large number of openings 124a is arranged. The electrode lead-out electrode 124 is divided into stripes in a direction orthogonal to the electron emission section 123. The region where the electron emission portion 123 and the electron extraction electrode 124 intersect is
This constitutes one display dot.

【0005】さらに、複数のリブ126がリブ122上
に直交配置されている。これらのリブ126は、ストラ
イプ状に分割された電子引き出し電極124の境界領域
に配置されている。リブ126の寸法は、厚み30μm
程度、高さ100μm程度である。そして、リブ126
上に陽極側ガラス基板125が配置されている。これら
陽極側ガラス基板125と陰極側ガラス基板121とに
より真空容器が構成される。また、陽極側ガラス基板1
25の内面に、陽極としての透明電極128と、蛍光体
からなる発光部127とが形成されている。
Further, a plurality of ribs 126 are arranged orthogonally on the rib 122. These ribs 126 are arranged in a boundary region between the electron extraction electrodes 124 divided into stripes. The size of the rib 126 is 30 μm in thickness.
And the height is about 100 μm. Then, the rib 126
An anode-side glass substrate 125 is disposed thereon. The anode side glass substrate 125 and the cathode side glass substrate 121 constitute a vacuum container. In addition, the anode side glass substrate 1
A transparent electrode 128 as an anode and a light emitting unit 127 made of a phosphor are formed on the inner surface of the light emitting device 25.

【0006】このような構成において、電子放出部12
3に−数十V程度の電位を印加すると共に、電子引き出
し電極124に+数十V程度の電位を印加すると、電子
放出部123と電子引き出し電極124との交差領域か
ら電子が放出される。このとき、透明電極128に+数
十V程度の電位を印加しておくと、放出された電子は上
記の交差領域と対向する部分の発光部127に到達する
ので、この部分の発光部127が点灯する。
In such a configuration, the electron emitting portion 12
When a potential of about −several tens of volts is applied to 3 and a potential of about + several tens of volts is applied to the electron extracting electrode 124, electrons are emitted from the intersection region between the electron emitting portion 123 and the electron extracting electrode 124. At this time, if a potential of about + several tens of volts is applied to the transparent electrode 128, the emitted electrons reach the light-emitting portion 127 in a portion facing the above-described crossing region. Light.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】前述したように、図8
に示した従来のFEDでは、リブ122,126とし
て、高さが100μm程度のリブが使用されている。し
たがって、陰極としての電子放出部123と陽極として
の透明電極128との間隔は概ね200μm程度であ
る。しかしながら、この間隔は電子放出部123から放
出された電子の走行距離としては十分でなく、電子の軌
道を均一にすることができない。このため、各表示ドッ
ト内で輝度斑が生じるので、FED全体の発光表示がざ
らついた印象となるという問題があった。また、FED
の輝度を高めるために陰極−陽極間に数kV程度の高電
圧を印加しようとすると、陰極−陽極間が狭いので、放
電が起きてしまうという問題があった。
As described above, FIG.
In the conventional FED shown in (1), ribs having a height of about 100 μm are used as the ribs 122 and 126. Therefore, the distance between the electron emitting portion 123 as a cathode and the transparent electrode 128 as an anode is approximately 200 μm. However, this interval is not sufficient for the traveling distance of the electrons emitted from the electron emitting portion 123, and the trajectory of the electrons cannot be made uniform. For this reason, there is a problem that luminance unevenness occurs in each display dot, so that the light emission display of the entire FED has a rough impression. Also, FED
When applying a high voltage of about several kV between the cathode and the anode in order to increase the brightness of the device, there is a problem that the discharge occurs because the gap between the cathode and the anode is narrow.

【0008】これらの問題を解決するために、電子引き
出し電極124と透明電極128との間隔を保つリブ1
26として、従来よりも高さのあるリブを使用すること
が検討された。しかしながら、高さ450μm程度(厚
み100μm程度)のリブを前述した従来のリブ構造の
形成方法を用いて形成すると、図9に示すリブ112a
のように、リブ112aの長手方向の両端部が上方に反
ってしまう。図10は、図9に示したリブ112aの両
端部が上方に反る原理を説明するための模式図である。
この図には、図7(a)に示したリブ101の左端部X
の側面が示されている。
In order to solve these problems, a rib 1 for keeping a space between the electron extraction electrode 124 and the transparent electrode 128 is required.
As 26, the use of ribs that are taller than in the past was considered. However, when a rib having a height of about 450 μm (about 100 μm in thickness) is formed by using the above-described conventional rib structure forming method, the rib 112a shown in FIG.
As described above, both ends in the longitudinal direction of the rib 112a are warped upward. FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the principle that both ends of the rib 112a shown in FIG. 9 warp upward.
This figure shows the left end X of the rib 101 shown in FIG.
The side view is shown.

【0009】リブ101を焼成すると、印刷ペースト中
のガラス材料以外の成分が蒸発するため、リブ101の
体積は収縮してゆく。このため、リブ101の端面13
1は中央部に引き寄せられるので、リブ101の端面1
31には中央部に向かう張力132がかかる。この張力
132は、端面131全面にほぼ均等に発生する。一
方、力のモーメントは、(1)式で表される。 力のモーメント=力×腕の長さ ・・・(1) リブ101の端面底部133がガラス基板111に固着
されているので、リブ101の端面131をモーメント
の腕とすると、端面131に作用する力のモーメントは
(1)式より端面底部133から遠い位置ほど大きくな
ることがわかる。
When the rib 101 is fired, the components other than the glass material in the printing paste evaporate, so that the volume of the rib 101 shrinks. For this reason, the end face 13 of the rib 101
1 is drawn to the center, so that the end face 1 of the rib 101
A tension 132 is applied to 31 toward the center. The tension 132 is generated almost uniformly on the entire end face 131. On the other hand, the moment of the force is expressed by equation (1). Moment of force = force × arm length (1) Since the bottom face 133 of the end face of the rib 101 is fixed to the glass substrate 111, if the end face 131 of the rib 101 is used as the arm of the moment, it acts on the end face 131. It can be seen from equation (1) that the moment of the force increases as the distance from the end face bottom 133 increases.

【0010】リブ101の高さが十分高い場合、焼成開
始当初は張力132に基づくモーメントにより端面13
1が傾斜するが、このモーメントが端面底部133にお
ける接着力に勝った時点で、リブ101の端面底部13
3がガラス基板111からはがれる。その後も、端面1
31には張力132がかかり続けるので、リブ101の
端部は上方に反ってゆき、完成したリブ112aの側面
形状が図9に示すようになるのである。
When the height of the rib 101 is sufficiently high, the end face 13 is initially actuated by a moment based on the tension 132 at the start of firing.
1 is inclined, but when this moment exceeds the adhesive force at the end face bottom 133, the end face bottom 13
3 comes off the glass substrate 111. After that, the end face 1
Since the tension 132 continues to be applied to 31, the end of the rib 101 warps upward, and the side shape of the completed rib 112 a becomes as shown in FIG. 9.

【0011】このようにしてリブ112aの両端部が上
方に反ってしまうと、リブ112a上面の高さが不均一
になる。このようなリブ112aを図8に示すFEDの
リブ126に使用しては、陰極および電子引き出し電極
と、陽極との間隔が一定にならない。このため、発光部
127に到達する電子にばらつきができ、各表示ドット
間で均一な発光が得られないという問題が生じる。ま
た、リブ112aの両端部が上方に反ってしまうと、こ
の両端部におけるリブ112aとガラス基板111との
接着強度が弱くなるという問題も生じる。
When the both ends of the rib 112a warp upward in this manner, the height of the upper surface of the rib 112a becomes uneven. When such a rib 112a is used for the rib 126 of the FED shown in FIG. 8, the distance between the cathode and the electron extraction electrode and the anode is not constant. For this reason, there is a problem that electrons reaching the light emitting section 127 vary, and uniform light emission cannot be obtained between the display dots. Further, if both ends of the rib 112a are warped upward, there is a problem that the bonding strength between the rib 112a and the glass substrate 111 at the both ends is weakened.

【0012】本発明はこのような問題を解決するために
なされたものであり、その目的は、厚みより高さが高い
板状のリブの端部の反りを抑制することにある。また、
他の目的は、平面ディスプレイの均一な発光を損なうこ
となく、輝度を高めることにある。
The present invention has been made in order to solve such a problem, and an object of the present invention is to suppress warpage of an end of a plate-like rib having a height higher than a thickness. Also,
Another object is to increase the brightness without compromising the uniform light emission of the flat panel display.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明によるリブ構造の形成方法は、基板上
のリブ形成領域に絶縁ペーストを多層に重ねて塗布して
多層リブを形成する第1の工程と、形成された多層リブ
を焼成する第2の工程とを備え、第1の工程において、
多層リブの端部の側面形状が、上段が下段よりも内側に
位置する複数の段からなる階段状になるように多層リブ
を形成する。多層リブの端部の側面形状が階段状をして
いるので、各段の端面のそれぞれがモーメントの腕とし
て機能する。したがって、多層リブの端部を1段で形成
した場合よりも、モーメントの腕の長さを短くすること
ができる。このため、多層リブの端面に作用する力のモ
ーメントの最大値を小さくすることができる。
In order to achieve the above object, a method of forming a rib structure according to the present invention comprises forming a multilayer rib by applying an insulating paste in a multilayered manner on a rib forming region on a substrate. And a second step of firing the formed multi-layer ribs. In the first step,
The multilayer rib is formed such that the side surface shape of the end portion of the multilayer rib is a stepped shape including a plurality of steps in which the upper step is located inside the lower step. Since the side surface shape of the end of the multilayer rib is stepped, each end face of each step functions as a moment arm. Therefore, the arm length of the moment can be made shorter than when the end of the multilayer rib is formed in one step. For this reason, the maximum value of the moment of the force acting on the end face of the multilayer rib can be reduced.

【0014】本発明によるリブ構造の形成方法は、第1
の工程において、多層リブの端部を、各段の高さが多層
リブの厚みの1.5〜4.0倍である階段状に形成す
る。本発明によるリブ構造の形成方法は、第1の工程に
おいて、多層リブの端部を、各段の長さがそれぞれその
段の高さと同等以上の長さである階段状に形成する。本
発明による平面ディスプレイの製造方法は、第1または
第2の基板上のリブ形成領域に絶縁ペーストを多層に重
ねて塗布して多層リブを形成する第1の工程と、形成さ
れた多層リブを焼成してリブを形成する第2の工程とを
備え、第1の工程において、多層リブの端部の側面形状
が、上段が下段よりも内側に位置する複数の段からなる
階段状になるように多層リブを形成する。
The method for forming a rib structure according to the present invention comprises the following steps.
In the step (1), the end of the multilayer rib is formed in a step shape in which the height of each step is 1.5 to 4.0 times the thickness of the multilayer rib. In the method of forming a rib structure according to the present invention, in the first step, the end of the multilayer rib is formed in a step-like shape in which the length of each step is equal to or longer than the height of the step. The method for manufacturing a flat display according to the present invention includes a first step of forming a multilayer rib by applying an insulating paste in multiple layers on a rib forming region on the first or second substrate, and forming the multilayer rib on the first or second substrate. A second step of forming a rib by firing, wherein in the first step, the side surface shape of the end of the multilayer rib is a step-like shape including a plurality of steps in which the upper step is located inside the lower step. To form a multilayer rib.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を詳細に説明する。なお、本明細書では、リ
ブの長手方向と直交する方向の長さであって、基板面に
対して垂直な方向の長さをリブの「高さ」といい、同じ
く基板面に対して平行な方向の長さをリブの「厚み」と
いう。また、リブの面のうち、基板面と接触する面を
「底面」といい、この底面と隣り合う面のうちリブの長
手方向と平行な面を「側面」といい、同じくリブの長手
方向に対して垂直な面を「端面」という。また、特に断
らない限り、リブの長手方向の長さを「長さ」という。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In this specification, the length in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the rib and the length in the direction perpendicular to the substrate surface is referred to as the “height” of the rib, and is also parallel to the substrate surface. The length in the proper direction is called the “thickness” of the rib. Also, of the rib surfaces, the surface that comes into contact with the substrate surface is referred to as a “bottom surface”, and of the surfaces adjacent to the bottom surface, a surface parallel to the longitudinal direction of the rib is referred to as a “side surface”. A plane perpendicular to the plane is called an “end face”. Unless otherwise specified, the length of the rib in the longitudinal direction is referred to as “length”.

【0016】まず、本発明によるリブ構造の形成方法の
一実施の形態を説明する。図1は、この形態を説明する
ための工程図である。この図には、1個のリブの側面が
示されているが、このリブと平行に複数のリブが同時に
形成されるものとする。また、図2は、図1に示したリ
ブの各部の寸法を説明するための模式図であり、図2
(a)は、図1(a)に示すリブのIIa−IIa′線方向
の断面図、図2(b)は、図1(b)に示すリブ(多層
リブ)のIIb−IIb′線方向の断面図、図2(c)は、
図1(b)に示すリブ(多層リブ)の端部IIcの拡大図
である。
First, an embodiment of a method for forming a rib structure according to the present invention will be described. FIG. 1 is a process chart for explaining this embodiment. In this figure, the side surface of one rib is shown, but it is assumed that a plurality of ribs are formed in parallel with this rib. FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the dimensions of each part of the rib shown in FIG.
2A is a cross-sectional view taken along the line IIa-IIa ′ of the rib shown in FIG. 1A, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line IIb-IIb ′ of the rib (multilayer rib) shown in FIG. FIG. 2C is a sectional view of FIG.
FIG. 2 is an enlarged view of an end IIc of a rib (multilayer rib) shown in FIG.

【0017】まず、図1(a)に示すように、ガラス基
板11上のリブ形成領域に、スクリーン印刷法を用いて
リブ1を形成する。このとき、印刷ペーストとしては、
低融点ガラス材料を主体として樹脂を混ぜ溶剤に溶かし
た絶縁ペースト、例えばリブ印刷用ペーストNP−78
53J(株式会社ノリタケカンパニーリミテド製)を用
いる。この印刷ペーストNP−7853Jの焼成時の収
縮率(焼成後の体積/焼成前の体積)は、70〜75%
である。
First, as shown in FIG. 1A, a rib 1 is formed in a rib forming area on a glass substrate 11 by using a screen printing method. At this time, the printing paste
An insulating paste obtained by mixing a resin mainly with a low melting point glass material and dissolving in a solvent, for example, a rib printing paste NP-78.
53J (manufactured by Noritake Company Limited) is used. The shrinkage ratio (volume after firing / volume before firing) of the printing paste NP-7853J during firing is 70 to 75%.
It is.

【0018】この種の印刷ペーストでは、リブ1の長手
方向に対して垂直な断面の形状が長方形状である場合、
リブ1の高さをその厚みの4倍よりも高くすると、焼成
時に反りが発生する。したがって、図2(a)に示すリ
ブ1の寸法については、高さh1を厚みwの1.5〜
4.0倍とする。例えば厚みwが100μm程度である
場合、高さh1を300μm程度とする。この工程で
は、高さ20μm程度ずつ印刷ペーストを多層印刷し
て、リブ1を形成する。この際、ある層を印刷したら、
100〜150℃に加熱して乾燥させてから、この層の
上に次の層を印刷するようにする。
In this type of printing paste, when the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the rib 1 is rectangular,
If the height of the rib 1 is higher than four times its thickness, warpage occurs during firing. Therefore, regarding the dimensions of the rib 1 shown in FIG.
4.0 times. For example, when the thickness w is about 100 μm, the height h1 is set to about 300 μm. In this step, the printing paste is multi-layer printed at a height of about 20 μm to form the ribs 1. At this time, after printing a certain layer,
Heat to 100-150 ° C and dry before printing the next layer on top of this layer.

【0019】次に、図1(b)に示すように、リブ1上
にリブ2を形成する。リブ1,2を合わせて多層リブ1
0という。リブ2はリブ1と同様に印刷形成される。図
2(b)に示すリブ2の寸法もリブ1と同様に設定さ
れ、例えば厚みwを100μm程度、高さh2を300
μm程度とする。ただし、多層リブ10の長手方向の両
端部の側面形状が、上段が下段よりも内側に位置する階
段状になるように、リブ2を形成する。つまり、リブ1
の端面よりも内側にリブ2の端面が位置するようにす
る。このとき、図2(c)に示す階段状をした端部の1
段目の長手方向の長さ(すなわち、リブ1上面の露出部
分の長さ)L1が、同じく1段目の高さ(すなわち、リ
ブ1の高さ)h1と同等以上の長さを有するようにする
ことが望ましい。このようにすることで、焼成時の反り
を防止できる。
Next, as shown in FIG. 1B, a rib 2 is formed on the rib 1. Multi-layer rib 1 by combining ribs 1 and 2
It is called 0. The rib 2 is formed by printing in the same manner as the rib 1. The dimensions of the rib 2 shown in FIG. 2B are also set in the same manner as the rib 1, for example, the thickness w is about 100 μm and the height h2 is 300.
It is about μm. However, the ribs 2 are formed such that the side surfaces of both ends in the longitudinal direction of the multilayer rib 10 have a stepped shape in which the upper stage is located inside the lower stage. That is, the rib 1
The end surface of the rib 2 is located inside the end surface of the rib 2. At this time, one end of the stepped end shown in FIG.
The length L1 of the step in the longitudinal direction (that is, the length of the exposed portion of the upper surface of the rib 1) L1 is equal to or greater than the height h1 of the first step (that is, the height of the rib 1). Is desirable. By doing so, warpage during firing can be prevented.

【0020】次に、リブ1,2からなる多層リブ10を
500〜550℃程度で焼成して、図1(c)に示すよ
うなリブ12を形成する。焼成時に印刷ペースト中のガ
ラス材料以外の成分が蒸発するため、多層リブ10の体
積は徐々に収縮してゆく。このため、図10でリブ10
1について説明したのと同様に、図1(b)に示す多層
リブ10の端面にも中央部に向かう張力がかかる。
Next, the multilayer rib 10 composed of the ribs 1 and 2 is fired at about 500 to 550 ° C. to form the rib 12 as shown in FIG. During firing, components other than the glass material in the printing paste evaporate, so that the volume of the multilayer rib 10 gradually shrinks. For this reason, in FIG.
1, tension toward the center is also applied to the end face of the multilayer rib 10 shown in FIG.

【0021】しかし、多層リブ10の両端部の側面形状
は階段状をしているので、多層リブ10を構成するリブ
1,2の端面のそれぞれがモーメントの腕として機能す
る。多層リブ10の両端部を従来のように1段で形成し
た場合、モーメントの腕の長さは600μm(多層リブ
10の高さH)となるが、多層リブ10の両端部を図2
(c)に示すように2段で形成することにより、モーメ
ントの腕の長さは300μm(リブ1,2の高さh1,
h2)となり、従来の1/2となる。したがって、多層
リブ10の端面に作用する力のモーメントの最大値を小
さくすることができる。このため、多層リブ10(リブ
1)の底面とガラス基板11との接着力が、多層リブ1
0内の張力に基づくモーメントに勝り、多層リブ10
(リブ1)の端部底面はガラス基板11からはがれな
い。また、多層リブ10の両端部が上方に反り、この部
分が浮き上がることもない。
However, since the side surfaces of both ends of the multilayer rib 10 are stepped, each of the end surfaces of the ribs 1 and 2 constituting the multilayer rib 10 functions as a moment arm. When both ends of the multilayer rib 10 are formed in a single step as in the prior art, the arm length of the moment is 600 μm (the height H of the multilayer rib 10).
By forming the arm in two steps as shown in (c), the arm length of the moment is 300 μm (the heights h1, h1 of the ribs 1, 2).
h2), which is の of the conventional value. Therefore, the maximum value of the moment of the force acting on the end face of the multilayer rib 10 can be reduced. For this reason, the adhesive force between the bottom surface of the multilayer rib 10 (rib 1) and the glass substrate 11 is
0, overcoming the moment based on the tension in
The bottom surface at the end of the (rib 1) does not come off the glass substrate 11. Further, both ends of the multilayer rib 10 are warped upward, and this portion does not rise.

【0022】上述したように、印刷ペーストの収縮率は
70〜75%であるので、多層リブ10を焼成すること
で、高さが450μm程度、厚みが100μm程度のリ
ブ12ができあがる。これにより、厚みより高さが高い
板状の複数のリブ12からなるリブ構造が完成する。
As described above, since the shrinkage ratio of the printing paste is 70 to 75%, by firing the multilayer rib 10, a rib 12 having a height of about 450 μm and a thickness of about 100 μm is completed. Thus, a rib structure including a plurality of plate-shaped ribs 12 having a height higher than the thickness is completed.

【0023】以上では、多層リブ10の端部の側面形状
を2段の階段状に形成する場合を例に説明したが、3段
以上の階段状に形成してもよい。図3は、多層リブの端
部の側面形状を4段の階段状に形成した場合の各部の寸
法を示す側面図であり、図2(c)に相当するものであ
る。この場合、リブ2上に更にリブ3を形成し、続いて
このリブ3上にリブ4を形成する。これらリブ3,4に
ついてもリブ1,2と同様に形成する。このようにし
て、リブ1〜4からなる4層構造を有する多層リブ10
aを形成する。多層リブ10aについても、各段の長手
方向の長さがそれぞれその段の高さと同等以上の長さで
ある階段状に端部を形成することが望ましい。したがっ
て、i(i=1,2,3)段目の長手方向の長さ(すな
わち、リブiの露出部分の長さ)Liが、同じくi段目
の高さ(すなわち、リブiの高さ)hiと同等以上の長
さとなるようにする。
In the above, the case where the side surface shape of the end portion of the multilayer rib 10 is formed in two steps has been described as an example, but it may be formed in three or more steps. FIG. 3 is a side view showing the dimensions of each part when the side surface shape of the end of the multilayer rib is formed in a four-step shape, and corresponds to FIG. 2 (c). In this case, a rib 3 is further formed on the rib 2, and then a rib 4 is formed on the rib 3. These ribs 3 and 4 are formed similarly to the ribs 1 and 2. Thus, the multilayer rib 10 having a four-layer structure composed of the ribs 1 to 4 is provided.
a is formed. Also for the multilayer rib 10a, it is desirable to form an end portion in a stepwise manner in which the length of each step in the longitudinal direction is equal to or longer than the height of the step. Therefore, the length in the longitudinal direction of the i-th stage (i = 1, 2, 3) (that is, the length of the exposed portion of the rib i) Li is also the height of the i-th stage (that is, the height of the rib i). ) The length should be equal to or greater than hi.

【0024】図3に示した多層リブ10aについても印
刷ペーストを多層印刷してリブ1〜4のそれぞれを形成
するのであるが、1回印刷する毎に多層リブの両端部に
段ができるようにしてもよい。このように多層リブ10
aの端部を多段の階段状に形成することで、多層リブ1
0aのアスペクト比(高さH/厚みw)がより大きい場
合、すなわち多層リブ10aの長手方向に対して垂直な
断面の形状がより細長い場合でも、リブ構造の両端部が
反らないように形成できる。したがって、厚み100〜
150μmに対して、高さが500〜1000μmのリ
ブを形成することもできる。
The multi-layer rib 10a shown in FIG. 3 is also subjected to multi-layer printing of a printing paste to form each of the ribs 1 to 4. Each time printing is performed, a step is formed at both ends of the multi-layer rib. You may. Thus, the multilayer rib 10
a is formed in a multi-step shape so that the multilayer rib 1
Even when the aspect ratio of Oa (height H / thickness w) is larger, that is, when the cross-sectional shape perpendicular to the longitudinal direction of the multilayer rib 10a is longer, both ends of the rib structure are formed so as not to be warped. it can. Therefore, the thickness of 100 to
For 150 μm, a rib having a height of 500 to 1000 μm can be formed.

【0025】この実施の形態では、リブ1〜4について
はスクリーン印刷法を用いて形成するとしたが、これに
限らず、絶縁ペーストを多層に重ねて塗布してリブ1〜
4を形成し、多層リブ10,10aを形成すればよい。
以上説明したように、本発明によるリブ構造の形成方法
を用いることにより、リブの両端部が上方に反ることを
抑制できる。これにより、リブの高さを均一にすること
ができる。また、リブの両端部が反らず浮き上がらなけ
れば、この両端部におけるリブとガラス基板11との接
着強度を維持できる。このように、本発明によるリブ構
造の形成方法を用いることにより、リブの歩留まりを向
上できる。
In this embodiment, the ribs 1 to 4 are formed by the screen printing method. However, the present invention is not limited to this.
4 and the multilayer ribs 10 and 10a may be formed.
As described above, by using the method of forming a rib structure according to the present invention, both ends of the rib can be prevented from warping upward. Thereby, the height of the rib can be made uniform. In addition, if the both ends of the rib do not warp and do not float, the adhesive strength between the rib and the glass substrate 11 at both ends can be maintained. As described above, by using the method for forming a rib structure according to the present invention, the yield of ribs can be improved.

【0026】このようにして形成されるリブ構造は、例
えばFED(平面ディスプレイ)に使用される。図4
は、本発明により形成されたリブ構造を用いるFEDの
一部の構成を示す斜視図である。また、図5は、図4に
示す電子放出部と電子引き出し電極との関係を示す模式
図である。図4に示すFEDでは、複数のリブ22が陰
極側ガラス基板(第1の基板)21上に所定の間隔で形
成されている。これらのリブ22はガラスなどの絶縁性
部材からなる。これらのリブ22の寸法は、厚み50μ
m程度、高さ5〜100μm程度である。
The rib structure thus formed is used for, for example, an FED (flat display). FIG.
FIG. 2 is a perspective view showing a partial configuration of an FED using a rib structure formed according to the present invention. FIG. 5 is a schematic diagram showing the relationship between the electron emission portion and the electron extraction electrode shown in FIG. In the FED shown in FIG. 4, a plurality of ribs 22 are formed on a cathode side glass substrate (first substrate) 21 at predetermined intervals. These ribs 22 are made of an insulating member such as glass. The dimensions of these ribs 22 are 50 μm in thickness.
m and a height of about 5 to 100 μm.

【0027】また、各リブ22により挟まれた陰極側ガ
ラス基板21上の領域に、陰極としての電子放出部23
がストライプ状に形成されている。この電子放出部23
としては、カーボンナノチューブなどの炭素系電子放出
材料を使用できる。そして、リブ22上に、多数の開口
部24aを有する電子引き出し電極24が配置されてい
る。この電極引き出し電極24は、電子放出部23と直
交する方向にストライプ状に分割されている。図5に示
すように、これら電子放出部23と電子引き出し電極2
4との交差する領域が、1つの表示ドット29を構成す
ることになる。
In the region on the cathode-side glass substrate 21 sandwiched between the ribs 22, an electron emitting portion 23 as a cathode is provided.
Are formed in a stripe shape. This electron emitting portion 23
For example, a carbon-based electron-emitting material such as a carbon nanotube can be used. Then, on the rib 22, an electron extraction electrode 24 having a large number of openings 24a is arranged. The electrode lead-out electrode 24 is divided into stripes in a direction orthogonal to the electron emission portions 23. As shown in FIG. 5, the electron emission portion 23 and the electron extraction electrode 2
The area that intersects with No. 4 constitutes one display dot 29.

【0028】再び図4に戻って、複数のリブ26がリブ
22上に直交配置されている。これらのリブ22はガラ
スなどの絶縁性部材からなり、ストライプ状に分割され
た電子引き出し電極24の境界領域に配置されている。
したがって、分割された電子引き出し電極24のそれぞ
れは、リブ26により絶縁分離されることになる。リブ
26の寸法は、厚み100〜150μm、高さ500〜
1000μmである。そして、リブ26上に透明な陽極
側ガラス基板(第2の基板)25が、陰極側ガラス基板
に対向して配置されている。言い換えれば、複数のリブ
26は陽極側ガラス基板25上に所定の間隔で形成され
た構成となっている。これら陽極側ガラス基板25と陰
極側ガラス基板21とにより真空容器(外囲器)が構成
される。これらの基板21,25の間の空間はリブ2
2,26により保持されるので、内圧と外圧との差によ
って基板21,25の中央部が内側にたわむことはな
い。
Returning to FIG. 4 again, a plurality of ribs 26 are arranged orthogonally on the ribs 22. These ribs 22 are made of an insulating material such as glass, and are arranged in a boundary region between the electron extraction electrodes 24 divided into stripes.
Therefore, each of the divided electron extraction electrodes 24 is insulated and separated by the rib 26. The dimensions of the rib 26 are 100 to 150 μm in thickness, 500 to
1000 μm. A transparent anode-side glass substrate (second substrate) 25 is disposed on the rib 26 so as to face the cathode-side glass substrate. In other words, the plurality of ribs 26 are formed on the anode-side glass substrate 25 at predetermined intervals. The anode side glass substrate 25 and the cathode side glass substrate 21 form a vacuum container (envelope). The space between these substrates 21 and 25 is rib 2
Since they are held by the internal pressures 2 and 26, the central portions of the substrates 21 and 25 do not bend inward due to the difference between the internal pressure and the external pressure.

【0029】また、陽極側ガラス基板25の内面のリブ
26により挟まれた領域に、蛍光体からなる発光部27
が形成されており、さらにこの発光部27の内面に、陽
極としてのメタルバック膜28が形成されている。した
がって、発光部27およびメタルバック膜28は、電子
引き出し電極24に対応してストライプ状に分割された
構造となっている。
A light emitting portion 27 made of a phosphor is provided in a region between the ribs 26 on the inner surface of the anode-side glass substrate 25.
Are formed, and a metal back film 28 as an anode is formed on the inner surface of the light emitting portion 27. Therefore, the light emitting section 27 and the metal back film 28 have a structure divided into stripes corresponding to the electron extraction electrodes 24.

【0030】図4に示したFEDの動作を簡単に説明す
る。電子放出部23に−数百〜−数十Vの電位を印加す
ると共に、電子引き出し電極24に+数十〜+数百Vの
電位を印加すると、電子放出部23と電子引き出し電極
24との交差領域から電子が放出される。このとき、メ
タルバック膜28に4〜10kVの電位を印加しておく
と、放出された電子は上記の交差領域と対向する部分の
発光部27に到達するので、この部分の発光部27が点
灯する。なお、図4に示すように、電子引き出し電極2
4および発光部27は、その隣りの電子引き出し電極2
4および発光部27とリブ26で仕切られているので、
ある電子引き出し電極24により引き出された電子が、
その隣の電子引き出し電極24に対向する発光部27に
衝突することはない。
The operation of the FED shown in FIG. 4 will be briefly described. When a potential of several hundreds to several tens of volts is applied to the electron emitting portion 23 and a potential of several tens to several hundreds of volts is applied to the electron extracting electrode 24, the potential of the electron emitting portion 23 and the electron extracting electrode 24 is reduced. Electrons are emitted from the intersection region. At this time, if a potential of 4 to 10 kV is applied to the metal back film 28, the emitted electrons reach the light emitting portion 27 in the portion facing the above-mentioned intersection region, and the light emitting portion 27 in this portion is turned on. I do. In addition, as shown in FIG.
4 and the light-emitting portion 27 are connected to the adjacent electron extraction electrode 2.
4 and the light emitting part 27 and the rib 26,
Electrons extracted by a certain electron extraction electrode 24 are
There is no collision with the light emitting unit 27 facing the adjacent electron extraction electrode 24.

【0031】発光部27を構成する蛍光体としては、C
RTなどに用いられる高輝度の蛍光体を用いる。この種
の蛍光体は、4〜10keVという高いエネルギーを有
する電子を衝突させなければ発光しない。このような高
いエネルギーを電子に与えるためには、電子放出部23
とメタルバック膜28と間に数kV程度の高電圧を印加
しなければならない。このとき、電子放出部23とメタ
ルバック膜28との間隔が狭いと、放電が起きてしまう
ので、この間隔を500〜1000μmとする必要があ
る。
The fluorescent material constituting the light emitting section 27 is C
A high-luminance phosphor used for RT or the like is used. This kind of phosphor does not emit light unless electrons having a high energy of 4 to 10 keV are collided. In order to give such high energy to the electrons, the electron emission portion 23
A high voltage of about several kV must be applied between the metal back film 28 and the metal back film 28. At this time, if the distance between the electron emitting portion 23 and the metal back film 28 is small, a discharge occurs, so that the distance needs to be 500 to 1000 μm.

【0032】また、電子放出部23とメタルバック膜2
8との間隔を広げることで、電子放出部23から放出さ
れた電子の走行距離が長くなる。電子の走行距離が長け
れば、電子が拡散することで、電子の軌道を均一にする
ことができる。これにより、各表示ドット29内で輝度
斑が生じなくなるので、FED全体としてつやのある表
示を実現できるという効果も得られる。このため、リブ
26の寸法を前述したように厚み100〜150μm、
高さ500〜1000μmとする。
Further, the electron emitting portion 23 and the metal back film 2
The travel distance of the electrons emitted from the electron emission portion 23 is increased by increasing the interval between the electron emission portion 8 and the electron emission portion 8. If the traveling distance of the electrons is long, the trajectories of the electrons can be made uniform by diffusing the electrons. As a result, luminance unevenness does not occur in each display dot 29, and an effect that a glossy display can be realized as the whole FED is obtained. For this reason, the size of the rib 26 is set to a thickness of 100 to 150 μm as described above,
The height is 500 to 1000 μm.

【0033】しかし、このようにアスペクト比が大きい
リブ26を従来の方法で形成するとリブ26の両端部が
反ってしまう。このため、図1に示した方法、すなわち
多層リブ10,10aの両端部の側面形状を階段状に形
成して焼成時の反りを抑制する方法を用いて、リブ26
を形成する。この方法を用いて形成されたリブ26は高
さが均一であるので、電子放出部(陰極)23および電
子引き出し電極と、メタルバック膜(陽極)との間隔が
一定となる。このため、発光部27に均一に電子が到達
するので、各表示ドット29間で均一な発光が得られ
る。
However, when the rib 26 having such a large aspect ratio is formed by a conventional method, both ends of the rib 26 are warped. For this reason, the rib 26 is formed using the method shown in FIG. 1, that is, a method in which the side surfaces of both ends of the multilayer ribs 10 and 10a are formed in a step shape to suppress warpage during firing.
To form Since the ribs 26 formed using this method have a uniform height, the distance between the electron emitting portion (cathode) 23 and the electron extraction electrode and the metal back film (anode) becomes constant. For this reason, since the electrons reach the light emitting portion 27 uniformly, uniform light emission between the display dots 29 is obtained.

【0034】また、本発明により形成されたリブ構造
は、リブグリッドを用いる蛍光表示管(平面ディスプレ
イ)にも使用できる。この種の蛍光表示管は、例えば特
開平11−213924号公報に記載されている。図6
は、本発明により形成されたリブ構造を用いる蛍光表示
管の一部の構成を示す断面図である。この蛍光表示管で
は、基板(第1の基板)31上に、平面形状が正方形状
の陽極32が、数十〜数百列×数十行程度のマトリクス
状をなして配置されている。さらに、この陽極32上に
は、図6に示すように、蛍光体からなる発光部33が形
成されている。
The rib structure formed according to the present invention can also be used for a fluorescent display tube (flat display) using a rib grid. This type of fluorescent display tube is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-213924. FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a partial configuration of a fluorescent display tube using a rib structure formed according to the present invention. In this fluorescent display tube, an anode 32 having a square planar shape is arranged on a substrate (first substrate) 31 in a matrix of about several tens to several hundreds columns × several tens of rows. Further, on the anode 32, as shown in FIG. 6, a light emitting section 33 made of a phosphor is formed.

【0035】また、基板31上には、複数のリブ34が
所定の間隔で複数形成されており、対をなす陽極32お
よび発光部33のそれぞれは、これらのリブ34により
全周が囲まれている。これらのリブ34は絶縁性部材か
らなる。このため、陽極32および発光部33は、その
隣の陽極32および発光部33とリブ34により絶縁分
離されることになる。これらのリブ34として、図1に
示した方法で形成されたリブを用いる。
A plurality of ribs 34 are formed on the substrate 31 at a predetermined interval, and the anode 32 and the light emitting section 33 forming a pair are entirely surrounded by the ribs 34. I have. These ribs 34 are made of an insulating member. For this reason, the anode 32 and the light emitting unit 33 are insulated and separated from the adjacent anode 32 and light emitting unit 33 by the rib 34. As these ribs 34, ribs formed by the method shown in FIG. 1 are used.

【0036】このリブ34の上面には、リブグリッド3
5が形成されている。このリブグリッド34について
は、リブ34上に、銀、パラジウム、アルミニウム、ニ
ッケル、カーボン等の粒子状導電性物質を含む厚膜導体
ペーストを10〜50μmの厚みで印刷して、焼成する
ことにより固着形成する。また、リブグリッド35の上
方に、フィラメントからなる複数本の陰極36が互いに
平行に配設されている。これら陽極32、発光部33、
リブ34、リブグリッド35および陰極36を搭載した
基板31の周縁部に、枠状のスペーサ(図示せず)が配
置され、さらにこのスペーサを挟み基板31と対向して
透明なカバーガラス(第2の基板)37が配置されてい
る。これらの基板31、スペーサおよびカバーガラス3
7は相互にガラス封着されて、真空容器(外囲器)が構
成される。
On the upper surface of the rib 34, a rib grid 3
5 are formed. The rib grid 34 is fixed on the rib 34 by printing a thick-film conductor paste containing a particulate conductive material such as silver, palladium, aluminum, nickel, or carbon in a thickness of 10 to 50 μm, and firing. Form. Above the rib grid 35, a plurality of cathodes 36 composed of filaments are arranged in parallel with each other. These anode 32, light emitting section 33,
A frame-shaped spacer (not shown) is arranged on the periphery of the substrate 31 on which the ribs 34, the rib grid 35 and the cathode 36 are mounted, and a transparent cover glass (second Substrate 37) is disposed. These substrate 31, spacer and cover glass 3
7 are mutually glass-sealed to form a vacuum container (envelope).

【0037】図6に示した蛍光表示管の動作を簡単に説
明する。各陰極36にヒート電流を流した状態で、陰極
36に対して+数十V程度の正電圧(加速電圧)を所定
のリブグリッド35に印加すると、陰極36から放出さ
れた熱電子は、このリブグリッド35によって囲まれた
発光部33に向かって加速する。このとき、このリブグ
リッド35によって囲まれた陽極32に正電圧が印加さ
れていれば、熱電子は陽極32上の発光部33に衝突し
て、この発光部33を発光させる。一方、陽極32に正
電圧が印加されていても、この陽極32を囲むリブグリ
ッド35に負電圧(カットオフバイアス)が印加されて
いると、熱電子は発光部33に到達しないので発光しな
い。
The operation of the fluorescent display tube shown in FIG. 6 will be briefly described. When a positive voltage (acceleration voltage) of about several tens of volts is applied to a predetermined rib grid 35 with a heat current flowing through each cathode 36, thermions emitted from the cathode 36 are It accelerates toward the light emitting section 33 surrounded by the rib grid 35. At this time, if a positive voltage is applied to the anode 32 surrounded by the rib grid 35, the thermoelectrons collide with the light emitting unit 33 on the anode 32 to cause the light emitting unit 33 to emit light. On the other hand, even if a positive voltage is applied to the anode 32, if a negative voltage (cutoff bias) is applied to the rib grid 35 surrounding the anode 32, the thermoelectrons do not reach the light emitting section 33 and do not emit light.

【0038】このように動作する蛍光表示管において、
リブグリッド35の列(図6では、左右方向)毎に加速
電圧を順次印加して走査すると共に、この走査と同期し
て各陽極32に対して選択的に正電圧を印加すること
で、ダイナミック駆動により所望のパターンを発光表示
できる。図6に示す蛍光表示管では、リブグリッド35
を用いることで、すべての発光部33を覆うように配設
されるメッシュグリッドを用いる必要がない。このた
め、表示画面の大型化に伴ってメッシュグリッドを大き
くした場合に生じる問題、すなわち熱変形に起因する輝
度斑および短絡などの表示不良を解消できるなどの利点
がある。
In the fluorescent display tube operating as described above,
Scanning is performed by sequentially applying an acceleration voltage to each row of the rib grid 35 (in FIG. 6, in the left-right direction), and by selectively applying a positive voltage to each anode 32 in synchronization with the scanning, a dynamic A desired pattern can be displayed by driving. In the fluorescent display tube shown in FIG.
Is used, it is not necessary to use a mesh grid provided so as to cover all the light emitting units 33. For this reason, there is an advantage that a problem that occurs when the mesh grid is enlarged along with an increase in the size of the display screen, that is, display defects such as luminance unevenness and short circuit due to thermal deformation can be eliminated.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によるリブ
構造の形成方法では、多層リブの端部の側面形状を階段
状に形成する。このような多層リブを焼成することで、
完成したリブの端部が上方に反ることを抑制できる。こ
れにより、リブの高さを均一にすることができる。ま
た、リブの端部底面と基板との接着強度を維持できる。
このように、本発明により、リブ構造の歩留まりを向上
できる。また、本発明によるリブ構造の形成方法では、
多層リブの端部を、各段の高さが多層リブの厚みの1.
5〜4.0倍である階段状に形成する。また、多層リブ
の端部を、各段の長さがそれぞれその段の高さと同等以
上の長さである階段状に形成する。これにより、完成し
たリブの端部が上方に反ることを防止できる。
As described above, in the method of forming the rib structure according to the present invention, the side surface of the end of the multilayer rib is formed in a step shape. By firing such a multilayer rib,
The end of the completed rib can be suppressed from warping upward. Thereby, the height of the rib can be made uniform. Further, the adhesive strength between the bottom surface of the end of the rib and the substrate can be maintained.
As described above, according to the present invention, the yield of the rib structure can be improved. In the method for forming a rib structure according to the present invention,
The height of each step of the end of the multilayer rib is set at 1.
It is formed in a stepped form that is 5 to 4.0 times. In addition, the end of the multilayer rib is formed in a step shape in which the length of each step is equal to or longer than the height of the step. This can prevent the end of the completed rib from warping upward.

【0040】また、本発明による平面ディスプレイの製
造方法では、平面ディスプレイが有するリブ構造を上述
した方法で形成する。これにより、アスペクト比が大き
いリブであっても、その高さを均一に形成することがで
きる。このため、平面ディスプレイの均一な発光を損な
うことなく、輝度を高めることができる。
In the method of manufacturing a flat display according to the present invention, the rib structure of the flat display is formed by the above-described method. Thereby, even if the rib has a large aspect ratio, the height can be formed uniformly. Therefore, the brightness can be increased without impairing the uniform light emission of the flat display.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明によるリブ構造の形成方法の一実施の
形態を説明するための工程図である。
FIG. 1 is a process chart for explaining an embodiment of a method for forming a rib structure according to the present invention.

【図2】 図1に示したリブの各部の寸法を説明するた
めの模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining dimensions of each part of a rib shown in FIG. 1;

【図3】 多層リブの端部の側面形状を4段の階段状に
形成した場合の各部の寸法を示す側面図である。
FIG. 3 is a side view showing the dimensions of each part when the side surface shape of the end of the multilayer rib is formed in four steps.

【図4】 本発明により形成されたリブ構造を用いるF
EDの一部の構成を示す斜視図である。
FIG. 4 shows F using a rib structure formed according to the present invention.
FIG. 3 is a perspective view illustrating a configuration of a part of the ED.

【図5】 図4に示す電子放出部と電子引き出し電極と
の関係を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a relationship between an electron emission portion and an electron extraction electrode shown in FIG.

【図6】 本発明により形成されたリブ構造を用いる蛍
光表示管の一部の構成を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a partial configuration of a fluorescent display tube using a rib structure formed according to the present invention.

【図7】 従来のリブ構造の形成方法を説明するための
工程図である。
FIG. 7 is a process chart for explaining a conventional method for forming a rib structure.

【図8】 リブ構造を有するFEDの一部の構成を示す
斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a partial configuration of an FED having a rib structure.

【図9】 従来のリブ構造の形成方法の問題点を説明す
るための側面図である。
FIG. 9 is a side view for explaining a problem of a conventional method for forming a rib structure.

【図10】 図9に示したリブの両端部が上方に反る原
理を説明するための模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the principle that both ends of the rib shown in FIG. 9 are warped upward.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1〜4,12,26,34…リブ、10,10a…多層
リブ、11…ガラス基板、H,h1〜h4…高さ、L1
〜L3…長手方向の長さ、w…厚み。
1 to 4, 12, 26, 34: rib, 10, 10a: multilayer rib, 11: glass substrate, H, h1 to h4: height, L1
L3: length in the longitudinal direction, w: thickness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 余谷 純子 三重県伊勢市上野町字和田700番地 伊勢 電子工業株式会社内 Fターム(参考) 5C012 AA05 BB01 BB07  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Junko Yoya 700 Wada, Uenocho, Ise-shi, Mie F-term in Ise Electronics Industry Co., Ltd. (reference) 5C012 AA05 BB01 BB07

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成されかつ厚みより高さが高
い板状の複数のリブからなるリブ構造の形成方法におい
て、 前記基板上のリブ形成領域に絶縁ペーストを多層に重ね
て塗布して多層リブを形成する第1の工程と、 形成された前記多層リブを焼成する第2の工程とを備
え、 前記第1の工程において、前記多層リブの端部の側面形
状が、上段が下段よりも内側に位置する複数の段からな
る階段状になるように前記多層リブを形成することを特
徴とするリブ構造の形成方法。
1. A method for forming a rib structure comprising a plurality of plate-shaped ribs formed on a substrate and having a height higher than a thickness, wherein a plurality of insulating pastes are applied to the rib forming region on the substrate in a multilayer manner. A first step of forming a multilayer rib; and a second step of firing the formed multilayer rib. In the first step, the side shape of the end of the multilayer rib is such that the upper part is lower than the lower part. Forming the multi-layered ribs so as to form a stepped shape including a plurality of steps positioned inside.
【請求項2】 前記第1の工程において、前記多層リブ
の端部を、各段の高さが前記多層リブの厚みの1.5〜
4.0倍である階段状に形成することを特徴とする請求
項1記載のリブ構造の形成方法。
2. In the first step, the height of each step of the end of the multilayer rib is set to 1.5 to 1.5 times the thickness of the multilayer rib.
2. The method for forming a rib structure according to claim 1, wherein the rib structure is formed in a step-like shape which is 4.0 times.
【請求項3】 前記第1の工程において、前記多層リブ
の端部を、各段の長さがそれぞれその段の高さと同等以
上の長さである階段状に形成することを特徴とする請求
項1または2記載のリブ構造の形成方法。
3. The method according to claim 1, wherein, in the first step, an end of the multilayer rib is formed in a step shape in which each step has a length equal to or greater than the height of the step. Item 3. The method for forming a rib structure according to Item 1 or 2.
【請求項4】 第1の基板とこの第1の基板に対向して
配置された透明な第2の基板とからなる外囲器と、前記
第1または第2の基板の内面上に所定の間隔で複数形成
されたリブと、これらのリブが形成された前記第1また
は第2の基板の内面上の前記リブに挟まれた領域に形成
された発光部とを備える平面ディスプレイの製造方法に
おいて、 前記第1または第2の基板上のリブ形成領域に絶縁ペー
ストを多層に重ねて塗布して多層リブを形成する第1の
工程と、 形成された前記多層リブを焼成して前記リブを形成する
第2の工程とを備え、 前記第1の工程において、前記多層リブの端部の側面形
状が、上段が下段よりも内側に位置する複数の段からな
る階段状になるように前記多層リブを形成することを特
徴とする平面ディスプレイの製造方法。
4. An envelope comprising a first substrate and a transparent second substrate disposed opposite to the first substrate, and a predetermined space on an inner surface of the first or second substrate. A method of manufacturing a flat display, comprising: a plurality of ribs formed at intervals; and a light-emitting portion formed in a region between the ribs on the inner surface of the first or second substrate on which the ribs are formed. A first step of forming a multi-layer rib by applying an insulating paste in multiple layers on a rib formation region on the first or second substrate; and forming the rib by firing the formed multi-layer rib A second step of forming the multilayer rib in the first step so that a side surface shape of an end of the multilayer rib has a stepped shape including a plurality of steps in which an upper step is located inside a lower step. Manufacture of flat display characterized by forming Method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100711707B1 (en) * 2004-06-30 2007-04-30 캐논 가부시끼가이샤 Manufacturing method of thick film member pattern

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