JP2001138229A - ウェーハ研磨状態検出装置および方法 - Google Patents
ウェーハ研磨状態検出装置および方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高感度且つヘッド毎に検出可能であり、特に
マルチヘッド型研磨装置の研磨終点検出に用いて好適な
ウェーハ研磨状態検出装置と方法を提供する。 【解決手段】 ダイアフラム２１２の中心に対して対称
な位置に取り付けられた２組の歪みゲージＲ１〜Ｒ４
は、研磨状態を表すダイアフラム２１２の変位を検出す
る。このダイアフラム２１２の変位は、歪みゲージＲ１
〜Ｒ４が構成するホイートストーンブリッジ回路によっ
て電圧変位に変換されたのち、差動増幅回路１３２によ
って増幅される。次いで、電圧変位に変換されたダイア
フラム２１２の変位は、低域通過形フィルタ１２４によ
って外乱ノイズが減衰される。そして、同期検波回路１
２５がヘッドの回転に同期して検波し、ダイアフラム２
１２の研磨状態信号Ｃ１を形成して出力する。この研磨
状態信号Ｃ１とデータベース１１３に記憶される研磨終
点情報とを比較して研磨終点を検出する。
マルチヘッド型研磨装置の研磨終点検出に用いて好適な
ウェーハ研磨状態検出装置と方法を提供する。 【解決手段】 ダイアフラム２１２の中心に対して対称
な位置に取り付けられた２組の歪みゲージＲ１〜Ｒ４
は、研磨状態を表すダイアフラム２１２の変位を検出す
る。このダイアフラム２１２の変位は、歪みゲージＲ１
〜Ｒ４が構成するホイートストーンブリッジ回路によっ
て電圧変位に変換されたのち、差動増幅回路１３２によ
って増幅される。次いで、電圧変位に変換されたダイア
フラム２１２の変位は、低域通過形フィルタ１２４によ
って外乱ノイズが減衰される。そして、同期検波回路１
２５がヘッドの回転に同期して検波し、ダイアフラム２
１２の研磨状態信号Ｃ１を形成して出力する。この研磨
状態信号Ｃ１とデータベース１１３に記憶される研磨終
点情報とを比較して研磨終点を検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェーハ
の研磨装置に用いて好適なウェーハ研磨状態検出装置お
よび方法に関する。
の研磨装置に用いて好適なウェーハ研磨状態検出装置お
よび方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のウェーハ研磨装置として、例えば
特開平５−６９３１０号公報に記載されたものが知られ
ている。図６は、従来のウェーハ研磨装置におけるフロ
ーティング型ヘッド部の構造を示す断面図である。この
図において、１０はリング状の胴部であり、このリング
状の胴部１０の上端面は剛体板１１で閉塞されている。
そして、この剛体板１１の中央部には中空状のシャフト
１２が設けられており、このシャフト１２は、回転自在
にかつ昇降調整可能に設けられている。また、上記リン
グ状の胴部１０の下端面には、できるだけ薄いダイアフ
ラム（弾性膜）１３が、接着等の手段によって張られて
いる。この薄いダイアフラム１３と剛体板１１とで閉塞
された空間内には、流体供給手段２０によって、ウェー
ハ１６を研磨するに必要な圧力がエアーまたは水によっ
てかけられる。１８はプラテン（研磨定盤）である。ま
た、１７はウェーハ１６より若干大きい孔を持った案内
板であり、ダイアフラム１３の下側に接着されている。
ｄはウェーハ１６の直径、Ｄはダイアフラム１３の圧力
がかかる有効径、Ｈはプラテン１８の表面とダイアフラ
ム１３の表面との距離である。そして、従来のこのよう
なウェーハ研磨装置においては、プラテンやヘッドのト
ルクをモーター電流値等によって検出し、このトルクの
変化によってウェーハの研磨終点を検出する方法を用い
ていた。
特開平５−６９３１０号公報に記載されたものが知られ
ている。図６は、従来のウェーハ研磨装置におけるフロ
ーティング型ヘッド部の構造を示す断面図である。この
図において、１０はリング状の胴部であり、このリング
状の胴部１０の上端面は剛体板１１で閉塞されている。
そして、この剛体板１１の中央部には中空状のシャフト
１２が設けられており、このシャフト１２は、回転自在
にかつ昇降調整可能に設けられている。また、上記リン
グ状の胴部１０の下端面には、できるだけ薄いダイアフ
ラム（弾性膜）１３が、接着等の手段によって張られて
いる。この薄いダイアフラム１３と剛体板１１とで閉塞
された空間内には、流体供給手段２０によって、ウェー
ハ１６を研磨するに必要な圧力がエアーまたは水によっ
てかけられる。１８はプラテン（研磨定盤）である。ま
た、１７はウェーハ１６より若干大きい孔を持った案内
板であり、ダイアフラム１３の下側に接着されている。
ｄはウェーハ１６の直径、Ｄはダイアフラム１３の圧力
がかかる有効径、Ｈはプラテン１８の表面とダイアフラ
ム１３の表面との距離である。そして、従来のこのよう
なウェーハ研磨装置においては、プラテンやヘッドのト
ルクをモーター電流値等によって検出し、このトルクの
変化によってウェーハの研磨終点を検出する方法を用い
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たヘッドのトルクを検出する方法では、プラテンとヘッ
ドの回転数の組合せにより角速度が同一となり、ヘッド
のトルクが原理的に０になる場合等、トルク変化が小さ
い領域では、精度の良い検出が困難であった。また、プ
ラテンのトルクを検出する方法では、複数のヘッドを有
するマルチヘッド型の研磨装置においては、ヘッド毎に
独立で研磨終点検出を行うことは不可能であった。この
発明は、このような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的は高感度、且つヘッド毎に検出可能であり、特に
マルチヘッド型の研磨装置の研磨終点検出に用いて好適
なウェーハ研磨状態検出装置および方法を提供すること
にある。
たヘッドのトルクを検出する方法では、プラテンとヘッ
ドの回転数の組合せにより角速度が同一となり、ヘッド
のトルクが原理的に０になる場合等、トルク変化が小さ
い領域では、精度の良い検出が困難であった。また、プ
ラテンのトルクを検出する方法では、複数のヘッドを有
するマルチヘッド型の研磨装置においては、ヘッド毎に
独立で研磨終点検出を行うことは不可能であった。この
発明は、このような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的は高感度、且つヘッド毎に検出可能であり、特に
マルチヘッド型の研磨装置の研磨終点検出に用いて好適
なウェーハ研磨状態検出装置および方法を提供すること
にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１記載の発明は、フローティング型ヘッド
を有するウェーハ研磨装置において、前記フローティン
グ型ヘッドに固定されたダイアフラムの変位を検出する
変位検出手段と、前記変位検出手段の出力を、前記フロ
ーティング型ヘッドの回転に同期して検波し研磨状態を
示す信号を形成する研磨状態信号作成手段と、前記研磨
状態信号作成手段の出力と予め内部に記憶されている研
磨終点情報とを比較して研磨終点を検出する研磨終点検
出手段とを具備してなるものである。請求項２記載の発
明は、請求項１記載の発明において、前記変位検出手段
は、前記ダイアフラムの固定端部の内側近傍に取り付け
られた歪み検出器と、前記歪み検出器の抵抗の変化を電
圧の変化として出力する変位電圧信号出力回路とを具備
することを特徴とする。
めに、請求項１記載の発明は、フローティング型ヘッド
を有するウェーハ研磨装置において、前記フローティン
グ型ヘッドに固定されたダイアフラムの変位を検出する
変位検出手段と、前記変位検出手段の出力を、前記フロ
ーティング型ヘッドの回転に同期して検波し研磨状態を
示す信号を形成する研磨状態信号作成手段と、前記研磨
状態信号作成手段の出力と予め内部に記憶されている研
磨終点情報とを比較して研磨終点を検出する研磨終点検
出手段とを具備してなるものである。請求項２記載の発
明は、請求項１記載の発明において、前記変位検出手段
は、前記ダイアフラムの固定端部の内側近傍に取り付け
られた歪み検出器と、前記歪み検出器の抵抗の変化を電
圧の変化として出力する変位電圧信号出力回路とを具備
することを特徴とする。
【０００５】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、前記歪み検出器は、前記ダイアフラムの中
心に対して対称に取り付けられた２個の検出素子からな
ることを特徴とする。請求項４記載の発明は、請求項２
記載の発明において、前記歪み検出器は、前記ダイアフ
ラムの中心に対して対称に取り付けられた２個の検出素
子と、前記２個の検出素子を結んだ線と直角な方向の対
称位置に取り付けられた２個の検出素子とからなること
を特徴とする。請求項５記載の発明は、請求項３記載の
発明において、前記変位電圧信号出力回路は、前記ダイ
アフラムに取り付けられた２個の検出素子と２個の抵抗
素子とをブリッジ接続したホイートストーンブリッジ回
路であることを特徴とする。請求項６記載の発明は、請
求項４記載の発明において、前記変位電圧信号出力回路
は、前記ダイアフラムに取り付けられた４個の検出素子
をブリッジ接続したホイートストーンブリッジ回路であ
ることを特徴とする。
明において、前記歪み検出器は、前記ダイアフラムの中
心に対して対称に取り付けられた２個の検出素子からな
ることを特徴とする。請求項４記載の発明は、請求項２
記載の発明において、前記歪み検出器は、前記ダイアフ
ラムの中心に対して対称に取り付けられた２個の検出素
子と、前記２個の検出素子を結んだ線と直角な方向の対
称位置に取り付けられた２個の検出素子とからなること
を特徴とする。請求項５記載の発明は、請求項３記載の
発明において、前記変位電圧信号出力回路は、前記ダイ
アフラムに取り付けられた２個の検出素子と２個の抵抗
素子とをブリッジ接続したホイートストーンブリッジ回
路であることを特徴とする。請求項６記載の発明は、請
求項４記載の発明において、前記変位電圧信号出力回路
は、前記ダイアフラムに取り付けられた４個の検出素子
をブリッジ接続したホイートストーンブリッジ回路であ
ることを特徴とする。
【０００６】請求項７記載の発明は、請求項１乃至請求
項６のいずれかの項に記載の発明において、前記研磨状
態信号作成手段は、前記変位検出手段の出力から、外乱
ノイズを減衰する低域通過形フィルタを具備することを
特徴とする。請求項８記載の発明は、請求項１乃至請求
項６のいずれかの項に記載の発明において、前記研磨状
態信号作成手段は、前記変位検出手段の出力から、外乱
ノイズを減衰する高域遮断形フィルタを具備することを
特徴とする。
項６のいずれかの項に記載の発明において、前記研磨状
態信号作成手段は、前記変位検出手段の出力から、外乱
ノイズを減衰する低域通過形フィルタを具備することを
特徴とする。請求項８記載の発明は、請求項１乃至請求
項６のいずれかの項に記載の発明において、前記研磨状
態信号作成手段は、前記変位検出手段の出力から、外乱
ノイズを減衰する高域遮断形フィルタを具備することを
特徴とする。
【０００７】請求項９記載の発明は、請求項１乃至請求
項８のいずれかの項に記載の発明において、前記研磨終
点検出手段は、ウェーハの仕様に応じた複数の研磨終点
情報が記憶されているデータベースを具備することを特
徴とする。請求項１０記載の発明の方法は、フローティ
ング型ヘッドを有するウェーハ研磨装置において、前記
フローティング型ヘッドに固定されたダイアフラムの変
位を検出し、この検出された変位を前記フローティング
型ヘッドの回転に同期して検波することによって研磨状
態を示す信号を形成し、この研磨状態を示す信号と予め
記憶手段に記憶させた研磨終点情報とを比較して研磨終
点を検出することを特徴とする。
項８のいずれかの項に記載の発明において、前記研磨終
点検出手段は、ウェーハの仕様に応じた複数の研磨終点
情報が記憶されているデータベースを具備することを特
徴とする。請求項１０記載の発明の方法は、フローティ
ング型ヘッドを有するウェーハ研磨装置において、前記
フローティング型ヘッドに固定されたダイアフラムの変
位を検出し、この検出された変位を前記フローティング
型ヘッドの回転に同期して検波することによって研磨状
態を示す信号を形成し、この研磨状態を示す信号と予め
記憶手段に記憶させた研磨終点情報とを比較して研磨終
点を検出することを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照し、この発明の
一実施形態について説明する。図２は、この発明の一実
施形態によるウェーハ研磨状態検出装置を用いたウェー
ハ研磨システムの構成を示すブロック図である。この図
において、２０１はウェーハを研磨するウェーハ研磨装
置、１０１は研磨終点を検出する終点検出信号処理装置
である。ウェーハ研磨装置２０１において、２１１はダ
イアフラム（弾性膜）を有するフローティング型のヘッ
ドである。２１３はヘッド２１１を回転させるモータ
ー、２１４はプラテン（研磨定盤）１８を回転させるモ
ーターであり、共に制御器２１５によって回転の制御が
行われる。図３は、ヘッド２１１の構造を示す断面図で
あり、図６に示された従来のヘッドと同様な構造を持っ
ている。ただし、ダイアフラム２１２には、歪みゲージ
（歪み検出素子）Ｒ１〜Ｒ４（Ｒ３とＲ４は図示されて
いない）が取り付けられている。歪みゲージＲ１とＲ２
が取り付けられる位置は、ダイアフラム２１２が固定さ
れている胴部１０の内側近傍のウェーハ１６とは反対の
面であり、且つダイアフラム２１２の中心に対してそれ
ぞれ対称である。また、歪みゲージＲ３とＲ４は、歪み
ゲージＲ１とＲ２と同様な位置であるが、歪みゲージＲ
１とＲ２を結んだ線と直角な方向に取り付けられる。そ
して、このダイアフラム２１２が、ウェーハ１６に密着
しウェーハ１６に圧力を伝達する。
一実施形態について説明する。図２は、この発明の一実
施形態によるウェーハ研磨状態検出装置を用いたウェー
ハ研磨システムの構成を示すブロック図である。この図
において、２０１はウェーハを研磨するウェーハ研磨装
置、１０１は研磨終点を検出する終点検出信号処理装置
である。ウェーハ研磨装置２０１において、２１１はダ
イアフラム（弾性膜）を有するフローティング型のヘッ
ドである。２１３はヘッド２１１を回転させるモータ
ー、２１４はプラテン（研磨定盤）１８を回転させるモ
ーターであり、共に制御器２１５によって回転の制御が
行われる。図３は、ヘッド２１１の構造を示す断面図で
あり、図６に示された従来のヘッドと同様な構造を持っ
ている。ただし、ダイアフラム２１２には、歪みゲージ
（歪み検出素子）Ｒ１〜Ｒ４（Ｒ３とＲ４は図示されて
いない）が取り付けられている。歪みゲージＲ１とＲ２
が取り付けられる位置は、ダイアフラム２１２が固定さ
れている胴部１０の内側近傍のウェーハ１６とは反対の
面であり、且つダイアフラム２１２の中心に対してそれ
ぞれ対称である。また、歪みゲージＲ３とＲ４は、歪み
ゲージＲ１とＲ２と同様な位置であるが、歪みゲージＲ
１とＲ２を結んだ線と直角な方向に取り付けられる。そ
して、このダイアフラム２１２が、ウェーハ１６に密着
しウェーハ１６に圧力を伝達する。
【０００９】終点検出信号処理装置１０１において、１
２１は入力されるダイアフラム変位電圧信号Ｂ１と回転
波形信号Ｂ２とから、研磨終点を検出するための研磨状
態信号Ｃ１を作成して出力する研磨状態信号作成部であ
る。１１１は計算機であり、入力される研磨状態信号Ｃ
１と、内部のデータベースに記憶されている研磨終点情
報とから研磨終点を検出する。また、計算機１１１は、
研磨状態に応じた各モータの回転制御を行うために、フ
ィードバック信号Ｂ３を制御器２１５へ出力する。図１
はこの発明の一実施形態によるウェーハ研磨状態検出装
置の構成を示すブロック図である。この図において、ウ
ェーハ研磨状態検出装置は、ウェーハ研磨装置２０１が
有するダイアフラム変位電圧信号出力回路１３１および
ヘッド回転検出部１０２と、終点検出信号処理装置１０
１とから構成される。
２１は入力されるダイアフラム変位電圧信号Ｂ１と回転
波形信号Ｂ２とから、研磨終点を検出するための研磨状
態信号Ｃ１を作成して出力する研磨状態信号作成部であ
る。１１１は計算機であり、入力される研磨状態信号Ｃ
１と、内部のデータベースに記憶されている研磨終点情
報とから研磨終点を検出する。また、計算機１１１は、
研磨状態に応じた各モータの回転制御を行うために、フ
ィードバック信号Ｂ３を制御器２１５へ出力する。図１
はこの発明の一実施形態によるウェーハ研磨状態検出装
置の構成を示すブロック図である。この図において、ウ
ェーハ研磨状態検出装置は、ウェーハ研磨装置２０１が
有するダイアフラム変位電圧信号出力回路１３１および
ヘッド回転検出部１０２と、終点検出信号処理装置１０
１とから構成される。
【００１０】まず、ダイアフラム変位電圧信号出力回路
１３１の構成について説明する。ダイアフラム変位電圧
信号出力回路１３１は、ダイアフラム２１２に取り付け
られた歪みゲージＲ１〜Ｒ４を用いて構成されるホイー
トストーンブリッジ回路と差動増幅回路１３２を備え
る。このホイートストーンブリッジ回路において、対向
して配置された歪みゲージＲ１、Ｒ２は接続点Ａ２を介
し直列に接続され、もう一組の対向して配置された歪み
ゲージＲ３、Ｒ４は接続点Ａ１を介し直列に接続され
る。そして、歪みゲージＲ１とＲ４が接続点Ａ３を介し
て接続され、歪みゲージＲ２とＲ３が接続点Ａ４を介し
て接続される。また、接続点Ａ３にはブリッジ入力電圧
Ｖｃｃが供給され、接続点Ａ４は接地される。この接続
点Ａ１、Ａ２がそれぞれ抵抗Ｒ１１、Ｒ１２を介して接
続される差動増幅回路１３２は、演算増幅器ＯＰと抵抗
Ｒ１３、コンデンサＣから構成される。そして、接続点
Ａ１の電圧Ｖ１と接続点Ａ２の電圧Ｖ２との差の電圧
（Ｖ１−Ｖ２）を増幅し、これが出力電圧Ｖｏｕｔとな
る。この出力電圧Ｖｏｕｔはダイアフラム変位電圧信号
Ｂ１として、終点検出信号処理装置１０１へ出力され
る。
１３１の構成について説明する。ダイアフラム変位電圧
信号出力回路１３１は、ダイアフラム２１２に取り付け
られた歪みゲージＲ１〜Ｒ４を用いて構成されるホイー
トストーンブリッジ回路と差動増幅回路１３２を備え
る。このホイートストーンブリッジ回路において、対向
して配置された歪みゲージＲ１、Ｒ２は接続点Ａ２を介
し直列に接続され、もう一組の対向して配置された歪み
ゲージＲ３、Ｒ４は接続点Ａ１を介し直列に接続され
る。そして、歪みゲージＲ１とＲ４が接続点Ａ３を介し
て接続され、歪みゲージＲ２とＲ３が接続点Ａ４を介し
て接続される。また、接続点Ａ３にはブリッジ入力電圧
Ｖｃｃが供給され、接続点Ａ４は接地される。この接続
点Ａ１、Ａ２がそれぞれ抵抗Ｒ１１、Ｒ１２を介して接
続される差動増幅回路１３２は、演算増幅器ＯＰと抵抗
Ｒ１３、コンデンサＣから構成される。そして、接続点
Ａ１の電圧Ｖ１と接続点Ａ２の電圧Ｖ２との差の電圧
（Ｖ１−Ｖ２）を増幅し、これが出力電圧Ｖｏｕｔとな
る。この出力電圧Ｖｏｕｔはダイアフラム変位電圧信号
Ｂ１として、終点検出信号処理装置１０１へ出力され
る。
【００１１】次にヘッド回転検出部１０２は、ロータリ
ーエンコーダなどのヘッド回転検出器１２２と回転波形
出力回路１２３から構成される。回転波形出力回路１２
３は、ヘッド回転検出器１２２が検出するヘッド２１１
の回転状態を、回転波形信号Ｂ２として終点検出信号処
理装置１０１へ出力する。次に、終点検出信号処理装置
１０１の構成について説明する。終点検出信号処理装置
１０１は、研磨状態信号作成部１２１と計算機１１１か
ら構成されている。研磨状態信号作成部１２１におい
て、ダイアフラム変位電圧信号Ｂ１が入力される低域通
過形フィルタ１２４は、同期検波回路１２５に接続され
る。また、回転波形信号Ｂ２が入力される同期検波回路
１２５は、計算機１１１に接続されており、研磨状態信
号Ｃ１を出力する。計算機１１１は、演算器１１２とデ
ータベース１１３を有し、データベース１１３には、各
顧客仕様に応じたウェーハ１６の研磨終点情報が記憶さ
れている。
ーエンコーダなどのヘッド回転検出器１２２と回転波形
出力回路１２３から構成される。回転波形出力回路１２
３は、ヘッド回転検出器１２２が検出するヘッド２１１
の回転状態を、回転波形信号Ｂ２として終点検出信号処
理装置１０１へ出力する。次に、終点検出信号処理装置
１０１の構成について説明する。終点検出信号処理装置
１０１は、研磨状態信号作成部１２１と計算機１１１か
ら構成されている。研磨状態信号作成部１２１におい
て、ダイアフラム変位電圧信号Ｂ１が入力される低域通
過形フィルタ１２４は、同期検波回路１２５に接続され
る。また、回転波形信号Ｂ２が入力される同期検波回路
１２５は、計算機１１１に接続されており、研磨状態信
号Ｃ１を出力する。計算機１１１は、演算器１１２とデ
ータベース１１３を有し、データベース１１３には、各
顧客仕様に応じたウェーハ１６の研磨終点情報が記憶さ
れている。
【００１２】次に上記実施形態によるウェーハ研磨状態
検出装置の動作を説明する。ダイアフラム２１２に取り
付けた歪みゲージＲ１〜Ｒ４は、研磨抵抗をダイアフラ
ム２１２の変位として検出し、各歪みゲージＲ１〜Ｒ４
の抵抗を変化させる。そして、この歪みゲージＲ１〜Ｒ
４の抵抗の変化が、上述したホイートストーンブリッジ
回路の接続点Ａ１、Ａ２の電圧変化として表れる。ホイ
ートストーンブリッジ回路の構成として、対向して配置
された歪みゲージ同士がそれぞれ接続点Ａ１、Ａ２を介
し直列に接続されているので、接続点Ａ１の電圧Ｖ１は
歪みゲージＲ４とＲ３の抵抗の比を示す。同様に、接続
点Ａ２の電圧Ｖ２は、対向して配置された歪みゲージＲ
１とＲ２の抵抗の比を示す。そして、電圧Ｖ１とＶ２の
差の電圧（Ｖ１−Ｖ２）が増幅された出力電圧Ｖｏｕｔ
は、直角な方向に配置された２組の歪みゲージＲ１、Ｒ
２とＲ３、Ｒ４の位置において同相成分となる上下動な
どによる歪みゲージＲ１〜Ｒ４の抵抗変化の影響がキャ
ンセルされたダイアフラム２１２の研磨状態を示す。た
だし、各歪みゲージＲ１〜Ｒ４の抵抗変化は、ヘッド２
１１の回転の影響を受けて周期的に変化する。そのため
に、この出力電圧Ｖｏｕｔが示す信号も周期的に変化す
る。そして、この周期的に変化する信号はダイアフラム
変位電圧信号Ｂ１として出力される。
検出装置の動作を説明する。ダイアフラム２１２に取り
付けた歪みゲージＲ１〜Ｒ４は、研磨抵抗をダイアフラ
ム２１２の変位として検出し、各歪みゲージＲ１〜Ｒ４
の抵抗を変化させる。そして、この歪みゲージＲ１〜Ｒ
４の抵抗の変化が、上述したホイートストーンブリッジ
回路の接続点Ａ１、Ａ２の電圧変化として表れる。ホイ
ートストーンブリッジ回路の構成として、対向して配置
された歪みゲージ同士がそれぞれ接続点Ａ１、Ａ２を介
し直列に接続されているので、接続点Ａ１の電圧Ｖ１は
歪みゲージＲ４とＲ３の抵抗の比を示す。同様に、接続
点Ａ２の電圧Ｖ２は、対向して配置された歪みゲージＲ
１とＲ２の抵抗の比を示す。そして、電圧Ｖ１とＶ２の
差の電圧（Ｖ１−Ｖ２）が増幅された出力電圧Ｖｏｕｔ
は、直角な方向に配置された２組の歪みゲージＲ１、Ｒ
２とＲ３、Ｒ４の位置において同相成分となる上下動な
どによる歪みゲージＲ１〜Ｒ４の抵抗変化の影響がキャ
ンセルされたダイアフラム２１２の研磨状態を示す。た
だし、各歪みゲージＲ１〜Ｒ４の抵抗変化は、ヘッド２
１１の回転の影響を受けて周期的に変化する。そのため
に、この出力電圧Ｖｏｕｔが示す信号も周期的に変化す
る。そして、この周期的に変化する信号はダイアフラム
変位電圧信号Ｂ１として出力される。
【００１３】このように、対向した歪みゲージ同士を直
列接続してホイートストーンブリッジを構成し、差動的
に動作させることにより、ホイートストーンブリッジ回
路の出力電圧である電圧Ｖ１と電圧Ｖ２の差の電圧（Ｖ
１−Ｖ２）が増幅されて大きくなる。また、上下方向の
ダイアフラム２１２の変位によって歪みゲージＲ１〜Ｒ
４の抵抗が変化する影響を、低減することができる。さ
らに、ホイートストーンブリッジを構成する効果とし
て、ウェーハ１６の研磨時に発生する熱による温度変化
によって歪みゲージの抵抗が変化する影響も、低減する
ことが可能である。次に、低域通過形フィルタ１２４
は、入力されるダイアフラム変位電圧信号Ｂ１に含まれ
る外乱ノイズを減衰させる。特に、ヘッドの回転は低周
波なので、低域通過形フィルタ１２４によって、ダイア
フラム変位電圧信号Ｂ１が持つ研磨状態に対応した成分
だけを抽出することは有効である。一方、上述したよう
に、ダイアフラム変位電圧信号Ｂ１は、ヘッド２１１の
回転に応じて周期的に変化する。そこで、研磨状態を表
す安定した信号を得るには、ダイアフラム変位電圧信号
Ｂ１からヘッド２１１の回転に同期して研磨状態信号を
取り出し出力させる必要がある。そのために、同期検波
回路１２５は、ヘッド回転検出部１０２から出力される
回転波形信号Ｂ２に同期して低域通過形フィルタ１２４
の出力を検波し、研磨状態信号Ｃ１を形成して出力す
る。
列接続してホイートストーンブリッジを構成し、差動的
に動作させることにより、ホイートストーンブリッジ回
路の出力電圧である電圧Ｖ１と電圧Ｖ２の差の電圧（Ｖ
１−Ｖ２）が増幅されて大きくなる。また、上下方向の
ダイアフラム２１２の変位によって歪みゲージＲ１〜Ｒ
４の抵抗が変化する影響を、低減することができる。さ
らに、ホイートストーンブリッジを構成する効果とし
て、ウェーハ１６の研磨時に発生する熱による温度変化
によって歪みゲージの抵抗が変化する影響も、低減する
ことが可能である。次に、低域通過形フィルタ１２４
は、入力されるダイアフラム変位電圧信号Ｂ１に含まれ
る外乱ノイズを減衰させる。特に、ヘッドの回転は低周
波なので、低域通過形フィルタ１２４によって、ダイア
フラム変位電圧信号Ｂ１が持つ研磨状態に対応した成分
だけを抽出することは有効である。一方、上述したよう
に、ダイアフラム変位電圧信号Ｂ１は、ヘッド２１１の
回転に応じて周期的に変化する。そこで、研磨状態を表
す安定した信号を得るには、ダイアフラム変位電圧信号
Ｂ１からヘッド２１１の回転に同期して研磨状態信号を
取り出し出力させる必要がある。そのために、同期検波
回路１２５は、ヘッド回転検出部１０２から出力される
回転波形信号Ｂ２に同期して低域通過形フィルタ１２４
の出力を検波し、研磨状態信号Ｃ１を形成して出力す
る。
【００１４】次に、計算機１１１に具備される演算器１
１２は、この研磨状態信号Ｃ１とデータべース１１３に
記憶されているウェーハ１６の研磨終点情報とを比較し
て、研磨終点を検出する。また、演算器１１２は、研磨
状態を示す信号Ｂ３を各モータ２１３、２１４の回転制
御に対するフィードバック信号として制御器２１５へ出
力する。なお、同実施形態においては、ダイアフラム２
１２に取り付ける歪みゲージをＲ１〜Ｒ４の４個とした
が、対向して配置された２個としても良い。ただし、対
向して配置された２個を２組、つまり４個の歪みゲージ
を用いた方が、ダイアフラムの上下動や温度変化等の同
相成分が効率的に相殺され、またダイアフラム変位電圧
信号出力回路１３１の出力電圧Ｖｏｕｔが大きくなるた
め好ましい。そして、ダイアフラム２１２に取り付ける
歪みゲージを対向して配置された２個とする場合には、
ダイアフラム変位電圧信号出力回路１３１のホイートス
トーンブリッジ回路において、使用しない２個の歪みゲ
ージの代わりに２個の抵抗を接続してホイートストーン
ブリッジを構成する。例えば、歪みゲージＲ１、Ｒ２の
２個だけを用いる場合は、歪みゲージＲ３の代わりの抵
抗を接続点Ａ１とＡ４の間に接続し、歪みゲージＲ４の
代わりの抵抗を接続点Ａ１とＡ３の間に接続する。な
お、同実施形態においては、ダイアフラム変位電圧信号
Ｂ１に含まれる外乱ノイズを減衰させるために低域通過
形フィルタを用いたが、高域遮断形フィルタを用いても
良い。なお、同実施形態においては、研磨状態信号作成
部１２１を終点検出信号処理装置１０１に具備される構
成としたが、ウェーハ研磨装置２０１に具備しても良
い。
１２は、この研磨状態信号Ｃ１とデータべース１１３に
記憶されているウェーハ１６の研磨終点情報とを比較し
て、研磨終点を検出する。また、演算器１１２は、研磨
状態を示す信号Ｂ３を各モータ２１３、２１４の回転制
御に対するフィードバック信号として制御器２１５へ出
力する。なお、同実施形態においては、ダイアフラム２
１２に取り付ける歪みゲージをＲ１〜Ｒ４の４個とした
が、対向して配置された２個としても良い。ただし、対
向して配置された２個を２組、つまり４個の歪みゲージ
を用いた方が、ダイアフラムの上下動や温度変化等の同
相成分が効率的に相殺され、またダイアフラム変位電圧
信号出力回路１３１の出力電圧Ｖｏｕｔが大きくなるた
め好ましい。そして、ダイアフラム２１２に取り付ける
歪みゲージを対向して配置された２個とする場合には、
ダイアフラム変位電圧信号出力回路１３１のホイートス
トーンブリッジ回路において、使用しない２個の歪みゲ
ージの代わりに２個の抵抗を接続してホイートストーン
ブリッジを構成する。例えば、歪みゲージＲ１、Ｒ２の
２個だけを用いる場合は、歪みゲージＲ３の代わりの抵
抗を接続点Ａ１とＡ４の間に接続し、歪みゲージＲ４の
代わりの抵抗を接続点Ａ１とＡ３の間に接続する。な
お、同実施形態においては、ダイアフラム変位電圧信号
Ｂ１に含まれる外乱ノイズを減衰させるために低域通過
形フィルタを用いたが、高域遮断形フィルタを用いても
良い。なお、同実施形態においては、研磨状態信号作成
部１２１を終点検出信号処理装置１０１に具備される構
成としたが、ウェーハ研磨装置２０１に具備しても良
い。
【００１５】次に、図４と図５は、上述した実施形態に
よるホイートストーンブリッジ回路を用いたダイアフラ
ムの研磨状態を検出する動作について、シミュレーショ
ンした結果の波形を示す図である。これらの図におい
て、横軸はシミュレーションの経過時間である時刻ｔｉ
を示し、単位は秒である。また、縦軸は時刻ｔｉにおけ
るホイートストーンブリッジ回路の出力電圧Ａｉを示
し、単位はボルトである。ここで出力電圧Ａｉとは、接
続点Ａ１の電圧Ｖ１と接続点Ａ２の電圧Ｖ２の差の電圧
（Ｖ１−Ｖ２）である。
よるホイートストーンブリッジ回路を用いたダイアフラ
ムの研磨状態を検出する動作について、シミュレーショ
ンした結果の波形を示す図である。これらの図におい
て、横軸はシミュレーションの経過時間である時刻ｔｉ
を示し、単位は秒である。また、縦軸は時刻ｔｉにおけ
るホイートストーンブリッジ回路の出力電圧Ａｉを示
し、単位はボルトである。ここで出力電圧Ａｉとは、接
続点Ａ１の電圧Ｖ１と接続点Ａ２の電圧Ｖ２の差の電圧
（Ｖ１−Ｖ２）である。
【００１６】まず、シミュレーションに用いたパラメー
タの定義を下記に記述する。なお、用いた数値は便宜上
定めたものであり、実際に使用される数値とは異なる。
［］内は単位を示す。Whはヘッドの回転数であり、Wh=1
0 [rpm]（１分間当たりの回転数）。Ωhはヘッドの角速
度であり、Ωh=(π/30)・Wh [rad/秒]。Tは回転周期であ
り、T=60/Wh=6 [秒]。Rは歪みゲージの抵抗であり、R=3
0 [オーム]。Kは歪みゲージの感度であり、K=5 [オー
ム]。Vccはブリッジ入力電圧であり、Vcc=５ [ボル
ト]。計算時間領域の設定として、Timeはシミュレーシ
ョン時間であり、Time=20 [秒]。Δtはシミュレーショ
ン時間の刻み幅であり、Δt=0.05 [秒]。R1i〜R4iは、
それぞれ歪みゲージＲ１〜Ｒ４の時刻tiにおける抵抗で
ある。そして、時刻tiにおけるホイートストーンブリッ
ジ回路の出力電圧Ａｉは、 Ai=({R1i・R3i-R2i・R4i}/{[R1i+R2i]・[R3i+R4i]})・Vcc
[ボルト] となる。
タの定義を下記に記述する。なお、用いた数値は便宜上
定めたものであり、実際に使用される数値とは異なる。
［］内は単位を示す。Whはヘッドの回転数であり、Wh=1
0 [rpm]（１分間当たりの回転数）。Ωhはヘッドの角速
度であり、Ωh=(π/30)・Wh [rad/秒]。Tは回転周期であ
り、T=60/Wh=6 [秒]。Rは歪みゲージの抵抗であり、R=3
0 [オーム]。Kは歪みゲージの感度であり、K=5 [オー
ム]。Vccはブリッジ入力電圧であり、Vcc=５ [ボル
ト]。計算時間領域の設定として、Timeはシミュレーシ
ョン時間であり、Time=20 [秒]。Δtはシミュレーショ
ン時間の刻み幅であり、Δt=0.05 [秒]。R1i〜R4iは、
それぞれ歪みゲージＲ１〜Ｒ４の時刻tiにおける抵抗で
ある。そして、時刻tiにおけるホイートストーンブリッ
ジ回路の出力電圧Ａｉは、 Ai=({R1i・R3i-R2i・R4i}/{[R1i+R2i]・[R3i+R4i]})・Vcc
[ボルト] となる。
【００１７】このようなパラメータを用いてシミュレー
ションを行った結果の波形が、図４と図５に示されてい
る。そして、図４のシミュレーション波形は、上述した
実施形態のように、対向に配置された歪みゲージ同士を
直列接続してホイートストーンブリッジを構成した場合
のシミュレーション結果である。この場合の歪みゲージ
Ｒ１〜Ｒ４の時刻tiにおける抵抗は、 R1i=R+K・cos(Ωh・ti)、 R2i=R+K・cos(Ωh・ti+π)、 R3i=R+K・cos(Ωh・ti+π/2)、 R4i=R+K・cos(Ωh・ti+3・π/2)、 ただし、i=0〜Time/Δt、ti=Δt・i である。このシミュレーションにおける出力電圧Ａｉの
最大値は、０．５８９ボルトであった。
ションを行った結果の波形が、図４と図５に示されてい
る。そして、図４のシミュレーション波形は、上述した
実施形態のように、対向に配置された歪みゲージ同士を
直列接続してホイートストーンブリッジを構成した場合
のシミュレーション結果である。この場合の歪みゲージ
Ｒ１〜Ｒ４の時刻tiにおける抵抗は、 R1i=R+K・cos(Ωh・ti)、 R2i=R+K・cos(Ωh・ti+π)、 R3i=R+K・cos(Ωh・ti+π/2)、 R4i=R+K・cos(Ωh・ti+3・π/2)、 ただし、i=0〜Time/Δt、ti=Δt・i である。このシミュレーションにおける出力電圧Ａｉの
最大値は、０．５８９ボルトであった。
【００１８】一方、図５のシミュレーション波形は、上
述した実施形態とは異なり、対向に配置された歪みゲー
ジ同士を直列接続しないようにホイートストーンブリッ
ジを構成した場合のシミュレーション結果である。この
場合の歪みゲージＲ１〜Ｒ４の時刻tiにおける抵抗は、 R1i=R+K・cos(Ωh・ti)、 R2i=R+K・cos(Ωh・ti+π/2)、 R3i=R+K・cos(Ωh・ti+π)、 R4i=R+K・cos(Ωh・ti+3・π/2)、 ただし、i=0〜Time/Δt、ti=Δt・i である。これは、図１のホイートストーンブリッジ回路
を構成する歪みゲージＲ１とＲ３およびＲ２とＲ４が、
それぞれ対向してダイアフラム２１２に取り付けられた
場合に相当する。このシミュレーションにおける出力電
圧Ａｉの最大値は、０．０３５ボルトであった。
述した実施形態とは異なり、対向に配置された歪みゲー
ジ同士を直列接続しないようにホイートストーンブリッ
ジを構成した場合のシミュレーション結果である。この
場合の歪みゲージＲ１〜Ｒ４の時刻tiにおける抵抗は、 R1i=R+K・cos(Ωh・ti)、 R2i=R+K・cos(Ωh・ti+π/2)、 R3i=R+K・cos(Ωh・ti+π)、 R4i=R+K・cos(Ωh・ti+3・π/2)、 ただし、i=0〜Time/Δt、ti=Δt・i である。これは、図１のホイートストーンブリッジ回路
を構成する歪みゲージＲ１とＲ３およびＲ２とＲ４が、
それぞれ対向してダイアフラム２１２に取り付けられた
場合に相当する。このシミュレーションにおける出力電
圧Ａｉの最大値は、０．０３５ボルトであった。
【００１９】この結果より、図４のシミュレーションの
ように、対向に配置された歪みゲージ同士を直列接続し
てホイートストーンブリッジを構成すれば、ヘッドの回
転に同期して（この場合はヘッドの回転周期Ｔ＝６秒）
ホイートストーンブリッジ回路の出力電圧Ａｉを検波す
ることにより安定して研磨状態を検出することができ
る。さらに、ホイートストーンブリッジ回路の出力電圧
Ａｉも向上し感度良く研磨状態を検出することができ
る。したがって、上述した実施形態によって研磨状態を
検出すれば、高感度で研磨終点を検出可能である。さら
に、ヘッド毎に研磨状態が検出可能なので、マルチヘッ
ド型研磨装置における研磨終点の検出には特に有効であ
る。
ように、対向に配置された歪みゲージ同士を直列接続し
てホイートストーンブリッジを構成すれば、ヘッドの回
転に同期して（この場合はヘッドの回転周期Ｔ＝６秒）
ホイートストーンブリッジ回路の出力電圧Ａｉを検波す
ることにより安定して研磨状態を検出することができ
る。さらに、ホイートストーンブリッジ回路の出力電圧
Ａｉも向上し感度良く研磨状態を検出することができ
る。したがって、上述した実施形態によって研磨状態を
検出すれば、高感度で研磨終点を検出可能である。さら
に、ヘッド毎に研磨状態が検出可能なので、マルチヘッ
ド型研磨装置における研磨終点の検出には特に有効であ
る。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、フローティング型ヘッドを有するウェーハ研磨装置
において、ヘッドに固定されたダイアフラムの変位を検
出し、この検出された変位を、ヘッドの回転に同期して
検波し、研磨状態信号を形成して出力する。そして、こ
の研磨状態信号と研磨終点情報とを比較して研磨終点を
検出するようにしたので、精度良く研磨終点を検出可能
である。さらに、ヘッド毎に研磨状態が検出可能なの
で、マルチヘッド型研磨装置における研磨終点の検出に
は特に有効である。また、ダイアフラムの変位を検出す
る対向した歪みゲージを直列接続してホイートストーン
ブリッジを構成し、差動的に動作させたので、検出した
変位が増幅されて大きくなり、一層感度良く研磨状態を
検出することができる。さらに、検出したダイアフラム
の変位から、外乱ノイズを減衰する低域通過形フィルタ
または高域遮断形フィルタを設けたので、より高感度で
研磨状態を検出することができる。
ば、フローティング型ヘッドを有するウェーハ研磨装置
において、ヘッドに固定されたダイアフラムの変位を検
出し、この検出された変位を、ヘッドの回転に同期して
検波し、研磨状態信号を形成して出力する。そして、こ
の研磨状態信号と研磨終点情報とを比較して研磨終点を
検出するようにしたので、精度良く研磨終点を検出可能
である。さらに、ヘッド毎に研磨状態が検出可能なの
で、マルチヘッド型研磨装置における研磨終点の検出に
は特に有効である。また、ダイアフラムの変位を検出す
る対向した歪みゲージを直列接続してホイートストーン
ブリッジを構成し、差動的に動作させたので、検出した
変位が増幅されて大きくなり、一層感度良く研磨状態を
検出することができる。さらに、検出したダイアフラム
の変位から、外乱ノイズを減衰する低域通過形フィルタ
または高域遮断形フィルタを設けたので、より高感度で
研磨状態を検出することができる。
【図１】 この発明の一実施形態によるウェーハ研磨状
態検出装置の構成を示すブロック図である。
態検出装置の構成を示すブロック図である。
【図２】 同実施形態によるウェーハ研磨状態検出装置
を用いたウェーハ研磨システムの構成を示すブロック図
である。
を用いたウェーハ研磨システムの構成を示すブロック図
である。
【図３】 同実施形態によるヘッド２１１の構成を示す
断面図である。
断面図である。
【図４】 同実施形態によるウェーハ研磨状態検出方法
の動作を説明するシミュレーション波形図である。
の動作を説明するシミュレーション波形図である。
【図５】 同実施形態によるウェーハ研磨状態検出方法
の動作を説明するシミュレーション波形図である。
の動作を説明するシミュレーション波形図である。
【図６】 従来のウェーハ研磨装置におけるヘッド部の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
１０１ 終点検出信号処理装置 １０２ ヘッド回転検出部 １１１ 計算機 １１２ 演算器 １１３ データベース １２１ 研磨状態信号作成部 １２２ ヘッド回転検出器 １２３ 回転波形出力回路 １２４ 低域通過形フィルタ １２５ 同期検波回路 １３１ ダイアフラム変位電圧信号出力回路 １３２ 差動増幅回路 ２１２ ダイアフラム Ｒ１〜Ｒ４ 歪みゲージ
Claims (10)
- 【請求項１】 フローティング型ヘッドを有するウェー
ハ研磨装置において、 前記フローティング型ヘッドに固定されたダイアフラム
の変位を検出する変位検出手段と、 前記変位検出手段の出力を、前記フローティング型ヘッ
ドの回転に同期して検波し研磨状態を示す信号を形成す
る研磨状態信号作成手段と、 前記研磨状態信号作成手段の出力と予め内部に記憶され
ている研磨終点情報とを比較して研磨終点を検出する研
磨終点検出手段と、 を具備してなるウェーハ研磨状態検出装置。 - 【請求項２】 前記変位検出手段は、前記ダイアフラム
の固定端部の内側近傍に取り付けられた歪み検出器と、 前記歪み検出器の抵抗の変化を電圧の変化として出力す
る変位電圧信号出力回路と、 を具備することを特徴とする請求項１に記載のウェーハ
研磨状態検出装置。 - 【請求項３】 前記歪み検出器は、前記ダイアフラムの
中心に対して対称に取り付けられた２個の検出素子から
なることを特徴とする請求項２に記載のウェーハ研磨状
態検出装置。 - 【請求項４】 前記歪み検出器は、前記ダイアフラムの
中心に対して対称に取り付けられた２個の検出素子と、
前記２個の検出素子を結んだ線と直角な方向の対称位置
に取り付けられた２個の検出素子とからなることを特徴
とする請求項２に記載のウェーハ研磨状態検出装置。 - 【請求項５】 前記変位電圧信号出力回路は、前記ダイ
アフラムに取り付けられた２個の検出素子と２個の抵抗
素子とをブリッジ接続したホイートストーンブリッジ回
路であることを特徴とする請求項３に記載のウェーハ研
磨状態検出装置。 - 【請求項６】 前記変位電圧信号出力回路は、前記ダイ
アフラムに取り付けられた４個の検出素子をブリッジ接
続したホイートストーンブリッジ回路であることを特徴
とする請求項４に記載のウェーハ研磨状態検出装置。 - 【請求項７】 前記研磨状態信号作成手段は、前記変位
検出手段の出力から、外乱ノイズを減衰する低域通過形
フィルタを具備することを特徴とする請求項１乃至請求
項６のいずれかの項に記載のウェーハ研磨状態検出装
置。 - 【請求項８】 前記研磨状態信号作成手段は、前記変位
検出手段の出力から、外乱ノイズを減衰する高域遮断形
フィルタを具備することを特徴とする請求項１乃至請求
項６のいずれかの項に記載のウェーハ研磨状態検出装
置。 - 【請求項９】 前記研磨終点検出手段は、ウェーハの仕
様に応じた複数の研磨終点情報が記憶されているデータ
ベースを具備することを特徴とする請求項１乃至請求項
８のいずれかの項に記載のウェーハ研磨状態検出装置。 - 【請求項１０】 フローティング型ヘッドを有するウェ
ーハ研磨装置において、 前記フローティング型ヘッドに固定されたダイアフラム
の変位を検出し、 この検出された変位を前記フローティング型ヘッドの回
転に同期して検波することによって研磨状態を示す信号
を形成し、 この研磨状態を示す信号と予め記憶手段に記憶させた研
磨終点情報とを比較して研磨終点を検出することを特徴
とするウェーハ研磨状態検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32329799A JP2001138229A (ja) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | ウェーハ研磨状態検出装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32329799A JP2001138229A (ja) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | ウェーハ研磨状態検出装置および方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001138229A true JP2001138229A (ja) | 2001-05-22 |
Family
ID=18153220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32329799A Pending JP2001138229A (ja) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | ウェーハ研磨状態検出装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001138229A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005016595A1 (ja) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Nikon Corporation | 研磨装置、これを用いた半導体デバイス製造方法およびこの方法により製造される半導体デバイス |
| JP2012076157A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Ebara Corp | 研磨装置および方法 |
-
1999
- 1999-11-12 JP JP32329799A patent/JP2001138229A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005016595A1 (ja) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Nikon Corporation | 研磨装置、これを用いた半導体デバイス製造方法およびこの方法により製造される半導体デバイス |
| JP2012076157A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Ebara Corp | 研磨装置および方法 |
| JP2015051501A (ja) * | 2010-09-30 | 2015-03-19 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置および方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040326 |