JP2001135543A - Device for heat treatment - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁界中で熱処理を
行う熱処理装置に関し、特にMR膜、GMR膜などの磁
性体材料に対して強磁界内で熱処理を行う熱処装置に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat treatment apparatus for performing a heat treatment in a magnetic field, and more particularly to a heat treatment apparatus for performing a heat treatment on a magnetic material such as an MR film or a GMR film in a strong magnetic field.
【0002】[0002]
【従来の技術】磁性体膜、例えば、磁気ヘッドなどに用
いられる磁性体材料であるスパッタリング法などで基板
上に形成されたFe−Ni合金などの薄膜は、強磁界中
で熱処理を行うことでその磁気特性を発現することがで
きる。2. Description of the Related Art A magnetic film, for example, a thin film of a Fe--Ni alloy formed on a substrate by a sputtering method or the like, which is a magnetic material used for a magnetic head, is subjected to heat treatment in a strong magnetic field. The magnetic properties can be exhibited.
【0003】そこで、従来、電磁石で形成された磁界中
に電気炉、誘導加熱炉などを設置し、その中で熱処理を
行う熱処理装置が提案されている。従来の熱処理装置の
一例の概略構成を図7に示す。Therefore, conventionally, a heat treatment apparatus has been proposed in which an electric furnace, an induction heating furnace, or the like is installed in a magnetic field formed by an electromagnet and heat treatment is performed therein. FIG. 7 shows a schematic configuration of an example of a conventional heat treatment apparatus.
【0004】図7に示すように、熱処理装置1Aは、円
筒形状とされる真空容器2と、真空容器2の外側に配置
された磁界発生手段20とを有する。真空容器2は、そ
の上部にホルダー支持装置4が取りつけられており、磁
性体材料などの熱処理される対象物を保持したホルダー
3がこの支持装置4により内部へと装入、保持されてい
る。磁界発生手段20は、真空容器2の外側で対向配置
された一対の電磁石21を備え、電磁石21は磁心22
とコイル23とを有する。[0004] As shown in FIG. 7, the heat treatment apparatus 1 A has a vacuum vessel 2 having a cylindrical shape, and magnetic field generating means 20 disposed outside the vacuum vessel 2. The vacuum vessel 2 has a holder support device 4 attached to the upper portion thereof, and a holder 3 holding an object to be heat-treated such as a magnetic material is inserted into and held by the support device 4. The magnetic field generating means 20 includes a pair of electromagnets 21 facing each other outside the vacuum vessel 2.
And a coil 23.
【0005】真空容器2の外面と、電磁石21の磁心2
2の端面との間に、加熱手段100が設けられている。
通常、加熱手段100は、真空容器2の外面から所定の
距離離間して、且つ、真空容器2の外周面を囲包して電
気ヒータ101を配置することにより構成されている。
電気ヒータ101は、例えば、図7に示すように、真空
容器2を囲包して配置された煉瓦或はセラミック製とさ
れるヒータ支持体102の、真空容器外周面に対面した
内周面に、例えば螺旋状の溝103を設け、この溝10
3にニクロム線104などの発熱線を設置することによ
り構成されている。又、ヒータ支持体102の外周面に
は、アルミナフェルト、煉瓦などとされる断熱材105
が配置され、加熱手段100の温度が電磁石21へと伝
達しないようにされる。The outer surface of the vacuum vessel 2 and the magnetic core 2 of the electromagnet 21
The heating means 100 is provided between the heating means 100 and the second end face.
Normally, the heating means 100 is configured by disposing an electric heater 101 at a predetermined distance from the outer surface of the vacuum vessel 2 and surrounding the outer peripheral surface of the vacuum vessel 2.
For example, as shown in FIG. 7, the electric heater 101 is provided on the inner peripheral surface of the heater support body 102 made of brick or ceramic and disposed around the vacuum container 2 and facing the outer peripheral surface of the vacuum container. For example, a spiral groove 103 is provided, and this groove 10
3 is provided with a heating wire such as a nichrome wire 104. A heat insulating material 105 such as alumina felt or brick is provided on the outer peripheral surface of the heater support 102.
Is arranged so that the temperature of the heating means 100 is not transmitted to the electromagnet 21.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
熱処理装置では、真空容器2の外周面と各電磁石21の
磁心22との間に上記構成の加熱手段100が設置され
ているために、必然的に対をなす電磁石21の磁心2
2、22間の距離が大とならざるを得なかった。通常、
真空容器2の内面と磁心22との間の距離(L)は、1
35〜250mmとされ、真空容器2の外径(D1)
を、例えば240mmとした場合には、電磁石21の磁
心22、22間の距離(L0)は、520〜700mm
であった。However, in the conventional heat treatment apparatus, since the heating means 100 having the above-described structure is provided between the outer peripheral surface of the vacuum vessel 2 and the magnetic core 22 of each electromagnet 21, it is inevitable. Core 2 of electromagnet 21 forming a pair
The distance between 2 and 22 had to be large. Normal,
The distance (L) between the inner surface of the vacuum vessel 2 and the magnetic core 22 is 1
35 to 250 mm, the outer diameter of the vacuum vessel 2 (D1)
Is set to, for example, 240 mm, the distance (L0) between the magnetic cores 22 of the electromagnet 21 is 520 to 700 mm
Met.
【0007】従って、均一な磁場と、所定の磁界強度を
満足させるには、必然的に磁界発生手段20を構成する
電磁石自体が大型化すると共に、電磁石21に通電する
電流も増大せざるを得ない。このような電磁石の大型化
に伴う重量の増大と電流の増大により、設置スペースや
電力供給設備を増強する必要が生じてくる。Therefore, in order to satisfy a uniform magnetic field and a predetermined magnetic field strength, the size of the electromagnet itself constituting the magnetic field generating means 20 must be increased, and the current flowing through the electromagnet 21 must be increased. Absent. Due to the increase in weight and current accompanying the increase in size of such electromagnets, it becomes necessary to increase installation space and power supply facilities.
【0008】電磁石の大型化は、熱処理装置全体の構成
を大型化し、且つ、装置コスト及び装置運転コストを著
しく高いものとする。Increasing the size of the electromagnet increases the size of the entire heat treatment apparatus and significantly increases the cost of the apparatus and the cost of operating the apparatus.
【0009】更に、上述の加熱手段では、断熱材とし
て、煉瓦などを使用しているために、ゴミを発生し、ク
リーンルームでの使用に際しては問題があった。Further, in the above-mentioned heating means, since a brick or the like is used as a heat insulating material, dust is generated, and there is a problem when used in a clean room.
【0010】従って、本発明の目的は、比較的小型の磁
界発生手段にて、均一で且つ所望強度の磁界を発生する
ことができ、しかも急速昇温冷却も可能であり、磁性体
材料などの性能を十分に向上させることのできる熱処理
装置を提供することである。Therefore, an object of the present invention is to generate a uniform and desired strength magnetic field with a relatively small magnetic field generating means, and also to perform rapid temperature-rising cooling, and to reduce the temperature of magnetic material and the like. An object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus capable of sufficiently improving performance.
【0011】本発明の他の目的は、磁界発生手段が電気
炉の昇温により加熱されることもなく、従って、材料選
択が制限されることもなく、設計の自由度を向上させ、
且つ、装置全体の構成を小型化し、且つ、装置コストの
低減、及び電力消費を抑え、装置運転コストを大幅に減
少させることのできる熱処理装置を提供することであ
る。Another object of the present invention is to improve the degree of freedom of design without the magnetic field generating means being heated by the temperature rise of the electric furnace, so that the material selection is not restricted,
Further, it is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus capable of reducing the size of the entire apparatus, reducing the cost of the apparatus, suppressing power consumption, and greatly reducing the operation cost of the apparatus.
【0012】本発明の更に他の目的は、装置構成部品と
して、ゴミを発生する可能性のある部品を使用しておら
ず、クリーンルームでの使用を可能とした熱処理装置を
提供することである。Still another object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus which does not use a part which may generate dust as an apparatus constituent part and which can be used in a clean room.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記目的は本発明に係る
熱処理装置にて達成される。要約すれば、本発明は、真
空容器と、前記真空容器の外側に配置された磁界発生手
段と、前記真空容器と前記磁界発生手段との間に配置さ
れた加熱手段と、を有する熱処理装置において、前記加
熱手段は、前記真空容器の外周面を囲包して配置された
電気ヒータと、前記電気ヒータと前記磁界発生手段との
間に配置された流体冷却部と、を有することを特徴とす
る熱処理装置である。The above object is achieved by a heat treatment apparatus according to the present invention. In summary, the present invention relates to a heat treatment apparatus having a vacuum vessel, a magnetic field generating means disposed outside the vacuum vessel, and a heating means disposed between the vacuum vessel and the magnetic field generating means. Wherein the heating means has an electric heater arranged so as to surround the outer peripheral surface of the vacuum vessel, and a fluid cooling unit arranged between the electric heater and the magnetic field generating means. Heat treatment equipment.
【0014】本発明の一実施態様によると、前記加熱手
段は、前記真空容器と前記電気ヒータとの間に配置さ
れ、前記真空容器の外周面を囲包して配置された電気的
絶縁性の内筒管を含むものである。好ましくは、前記真
空容器及び前記内筒管は、光学的透明な材料で構成され
る。According to one embodiment of the present invention, the heating means is arranged between the vacuum vessel and the electric heater, and is provided with an electrically insulating material surrounding the outer peripheral surface of the vacuum vessel. It includes the inner tube. Preferably, the vacuum vessel and the inner tube are made of an optically transparent material.
【0015】本発明の他の実施態様によると、前記電気
ヒータは、抵抗加熱発熱線を電気絶縁チューブで被覆し
た形状とされる。好ましくは、前記抵抗加熱発熱線は、
ニクロム線、或は、貴非磁性金属発熱体であり、前記電
気絶縁チューブは、アルミナファイバーを編んだチュー
ブであるか、又は、石英或はアルミナ管状体を複数個つ
ないだものである。According to another embodiment of the present invention, the electric heater has a shape in which a resistance heating wire is covered with an electric insulating tube. Preferably, the resistance heating wire is
It is a nichrome wire or a noble non-magnetic metal heating element, and the electric insulating tube is a tube woven of alumina fiber or a plurality of quartz or alumina tubular bodies connected to each other.
【0016】本発明の他の実施態様によると、前記電気
ヒータは、隣合う抵抗加熱発熱線を流れる電流が互いに
逆方向とされ、印加電流による磁界発生を無誘導化して
いる。According to another embodiment of the present invention, in the electric heater, currents flowing in adjacent resistance heating lines are in opposite directions, and magnetic field generation due to an applied current is non-inductive.
【0017】本発明の他の実施態様によると、前記流体
冷却部は、流体が流れる水冷ジャケットとされる。According to another embodiment of the present invention, the fluid cooling unit is a water cooling jacket through which a fluid flows.
【0018】本発明の他の実施態様によると、前記水冷
ジャケットと前記電気ヒータとの間にシート状電気絶縁
材を配置することができる。好ましくは、前記水冷ジャ
ケットは金属製である。According to another embodiment of the present invention, a sheet-like electric insulating material can be arranged between the water cooling jacket and the electric heater. Preferably, the water cooling jacket is made of metal.
【0019】本発明の他の実施態様によると、前記磁界
発生手段は、前記真空容器の外側に対向配置された電磁
石にて構成され、前記電磁石の磁心の端面から前記真空
容器の内面までの距離(L)は、前記磁界発生手段の磁
心間距離(L0)の0.05倍以上、0.15倍以下で
あり、具体的には、15mm以上、45mm以下、好ま
しくは、15mm以上、30mm以下とされる。According to another embodiment of the present invention, the magnetic field generating means is constituted by an electromagnet arranged outside the vacuum vessel and opposed to the vacuum vessel, and a distance from an end face of a magnetic core of the electromagnet to an inner face of the vacuum vessel. (L) is 0.05 times or more and 0.15 times or less of the distance (L0) between the magnetic cores of the magnetic field generating means, specifically, 15 mm or more and 45 mm or less, preferably 15 mm or more and 30 mm or less. It is said.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る熱処理装置を
図面に則して更に詳しく説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a heat treatment apparatus according to the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
【0021】図1に本発明に係る熱処理装置1の一実施
例の概略全体構成を示す。本実施例の熱処理装置1は、
従来の熱処理装置1Aと同様に、真空容器2と、真空容
器2の外側に配置された磁界発生手段20とを有する。FIG. 1 shows a schematic overall configuration of an embodiment of a heat treatment apparatus 1 according to the present invention. The heat treatment apparatus 1 of the present embodiment
Like the conventional heat treatment apparatus 1A, the heat treatment apparatus includes a vacuum vessel 2 and a magnetic field generating means 20 arranged outside the vacuum vessel 2.
【0022】本実施例にて、真空容器2は、小径とされ
る容器本体部2Aと、容器本体部2Aの上部に一体に形
成された大径の容器取付け部2Bとを有する段付の円筒
状容器とされる。容器本体部2Aの下端部は閉鎖され、
容器取付け部2Bの上端部は開放されている。容器上端
部は、容器内に設置されたホルダー3を支持するための
ホルダー支持装置4が容器上端部に取付けられることに
より密封される。真空容器2の容器本体部2Aと容器取
付け部2Bとの間に形成される環状肩部2Cが基台5に
載置され、真空容器2はその場に保持される。In this embodiment, the vacuum container 2 is a stepped cylinder having a container main body 2A having a small diameter and a large-diameter container mounting portion 2B integrally formed on the upper part of the container main body 2A. Shaped container. The lower end of the container body 2A is closed,
The upper end of the container mounting portion 2B is open. The upper end of the container is sealed by attaching a holder support device 4 for supporting the holder 3 installed in the container to the upper end of the container. An annular shoulder 2C formed between the container body 2A of the vacuum container 2 and the container mounting portion 2B is placed on the base 5, and the vacuum container 2 is held in place.
【0023】真空容器2は、急冷却時において安定であ
ることから、石英ガラスなどのセラミックスにて作製す
るのが好ましい。又、本発明では、詳しくは後述する
が、加熱手段30による真空中の加熱が主として輻射熱
により行われるために、石英ガラスは、光学的に透明な
ものが良い。真空容器2の厚さは、2〜6mmとするこ
とができ、本実施例では、3mmである。The vacuum vessel 2 is preferably made of ceramics such as quartz glass because it is stable during rapid cooling. In the present invention, as will be described in detail later, since the heating in a vacuum by the heating means 30 is mainly performed by radiant heat, the quartz glass is preferably optically transparent. The thickness of the vacuum container 2 can be 2 to 6 mm, and is 3 mm in this embodiment.
【0024】ホルダー3は、例えばスパッタリングなど
で形成されたFe−Ni合金膜を有する直径100〜2
00mm程度の基板を載置するためのトレー6が30枚
程度、支持軸7にて保持されたものであり、その支持軸
7の上端がホルダー支持装置4に懸垂支持されている。The holder 3 has a diameter of 100 to 2 having an Fe—Ni alloy film formed by, for example, sputtering.
About 30 trays 6 for mounting substrates of about 00 mm are held by a support shaft 7, and the upper end of the support shaft 7 is suspended from a holder support device 4.
【0025】ホルダー支持装置4には、ホルダー6に保
持された熱処理対象物を磁場方向に対してその方向を変
えられるように、ホルダー3を回転自在に保持するのが
好ましい。従って、本実施例では、ホルダー支持装置4
に駆動モータ8を取付け、ホルダー3の回転支持軸7を
回転駆動可能に構成されている。It is preferable that the holder support device 4 rotatably holds the holder 3 so that the object to be heat-treated held by the holder 6 can be changed in the direction of the magnetic field. Therefore, in this embodiment, the holder support device 4
A drive motor 8 is mounted on the holder 3 so that the rotation support shaft 7 of the holder 3 can be driven to rotate.
【0026】真空容器2は、真空容器上端部にホルダー
支持装置4を取付けた後、真空容器上端部に設けられた
真空ポンプ(図示せず)により真空容器内を真空引きす
ることにより所定の真空状態に維持することができる。
例えば、熱処理対象物が磁性金属薄膜などとされる場合
には、金属薄膜の酸化を防ぐために、対象物は、真空
中、具体的には1Pa以下の真空状態において熱処理す
るのが好ましい。After the holder 4 is attached to the upper end of the vacuum vessel, the vacuum vessel 2 is evacuated by a vacuum pump (not shown) provided at the upper end of the vacuum vessel to thereby obtain a predetermined vacuum. State can be maintained.
For example, when the object to be heat-treated is a magnetic metal thin film or the like, it is preferable that the object be heat-treated in a vacuum, specifically, a vacuum state of 1 Pa or less to prevent oxidation of the metal thin film.
【0027】又、ホルダー支持装置4は、容器上端部に
着脱自在に取りつけられており、従って、ホルダー3
は、昇降機10により、ホルダー支持装置4と共に容器
2外へと上方に吊り上げることができ、この状態にて磁
性体材料などとされる熱処理される対象物をホルダー3
に装着したり、或はホルダー3から取り出すことができ
る。The holder supporting device 4 is detachably attached to the upper end of the container.
Can be lifted out of the container 2 together with the holder supporting device 4 by the elevator 10, and in this state, an object to be heat-treated such as a magnetic material is held by the holder 3.
Or can be taken out of the holder 3.
【0028】磁界発生手段20は、対向配置された一対
の電磁石21を備えており、各電磁石21は磁心22と
コイル23とを有する。本発明によると、詳しくは後述
するが、真空容器2と磁心22との間に配置される加熱
手段30の厚さを薄くすることができ、そのために、対
をなす電磁石21の磁心22、22間の距離を短くする
ことが可能となり、従って、電磁石21自体を小型化す
ることができる。又、本発明によれば、磁心22は加熱
されないので、耐熱性の低い材料も用いることができ
る。そのために、本実施例では、磁界発生手段20にて
発生する磁界密度は、500ガウス以上、特には、10
00ガウス〜20000ガウス程度とし得る。本実施例
での磁心22間の距離(L0)(図2参照)は、300
mmである。The magnetic field generating means 20 includes a pair of electromagnets 21 arranged facing each other. Each electromagnet 21 has a magnetic core 22 and a coil 23. According to the present invention, as will be described in detail later, the thickness of the heating means 30 disposed between the vacuum vessel 2 and the magnetic core 22 can be reduced, so that the magnetic cores 22 and 22 of the pair of electromagnets 21 can be reduced. The distance between them can be shortened, so that the electromagnet 21 itself can be downsized. Further, according to the present invention, since the magnetic core 22 is not heated, a material having low heat resistance can be used. For this reason, in the present embodiment, the magnetic field density generated by the magnetic field generating means 20 is 500 Gauss or more, particularly 10 gauss.
It can be about 00 Gauss to 20000 Gauss. The distance (L0) between the magnetic cores 22 in this embodiment (see FIG. 2) is 300
mm.
【0029】図2及び図3をも参照すると理解されるよ
うに、真空容器2の容器本体2Aの外面と、電磁石21
の磁心22の端面との間に、薄形の加熱手段30が設け
られる。本発明に従えば、加熱手段30としては、電気
抵抗加熱による電気ヒータ31を有する。このような加
熱手段30は、電源が高価とされる誘導加熱手段に比較
すると、コスト的にも低廉であり好ましい。2 and 3, the outer surface of the container body 2A of the vacuum container 2 and the electromagnet 21
Between the end face of the magnetic core 22 and a thin heating means 30. According to the present invention, the heating means 30 includes an electric heater 31 by electric resistance heating. Such a heating means 30 is preferably inexpensive in cost as compared with an induction heating means whose power supply is expensive.
【0030】更に説明すると、加熱手段30は、真空容
器本体2Aの外周面を囲包して配置された電気的に絶縁
性の内筒管32と、内筒管32とは所定の距離を置いて
配置された流体冷却部33を構成する水冷ジャケットと
を有する。内筒管32は、厚さ2〜6mmの石英ガラス
チューブにて作製することができる。内筒管32と真空
容器本体2Aの外周面との間には、2〜4mmの空隙
(G1)を設ける。本実施例では、真空容器本体2Aの
外径(D1)が240mmとされたので、内筒管32の
内径(D2)は245mmとした。又、内筒管32の軸
線方向長さ(L1)は450mmとした。More specifically, the heating means 30 comprises an electrically insulated inner tube 32 surrounding the outer peripheral surface of the vacuum vessel main body 2A, and a predetermined distance from the inner tube 32. And a water cooling jacket that constitutes a fluid cooling unit 33 that is disposed. The inner tube 32 can be made of a quartz glass tube having a thickness of 2 to 6 mm. A gap (G1) of 2 to 4 mm is provided between the inner tube 32 and the outer peripheral surface of the vacuum vessel body 2A. In the present embodiment, since the outer diameter (D1) of the vacuum vessel main body 2A is 240 mm, the inner diameter (D2) of the inner tube 32 is 245 mm. The axial length (L1) of the inner tube 32 was 450 mm.
【0031】水冷ジャケット33は、内壁34と外壁3
5とを備えた二重管構造の円筒体とされ、上端と下端と
は上壁36及び下壁37にてそれぞれ閉鎖されている。
本実施例では、図2に示すように、外壁35が下壁37
より軸線方向に長くされているが、下方の延長部には、
円環状の支持板38が一体に固定され、上記内筒管32
を支持している。水冷ジャケット33には、図示されて
はいないが、下方部に水供給口が形成され、上方部に水
排出口が形成されており、通常、水とされる冷却用流体
が流動される。冷却用流体Rは、循環させても良い。The water cooling jacket 33 includes an inner wall 34 and an outer wall 3.
5 and a cylindrical body having a double-pipe structure, the upper end and the lower end of which are closed by an upper wall 36 and a lower wall 37, respectively.
In this embodiment, as shown in FIG.
It is longer in the axial direction, but on the lower extension,
An annular support plate 38 is integrally fixed, and the inner cylindrical tube 32 is fixed.
I support. Although not shown, the water cooling jacket 33 has a water supply port formed at a lower portion and a water discharge port formed at an upper portion, and a cooling fluid, which is usually water, flows through the water cooling jacket 33. The cooling fluid R may be circulated.
【0032】尚、水冷ジャケット33は、図4に示すよ
うに、円周方向に連続した円筒形状とするのではなく、
軸線方向に沿って延在した切れ目39を有するように形
成することもできる。この場合には、この切れ目39を
利用して、水冷ジャケット33の内部に設置されるヒー
タ31の端子を取り出すことが可能となる。The water cooling jacket 33 is not formed in a cylindrical shape continuous in the circumferential direction as shown in FIG.
It can also be formed to have a cut 39 extending along the axial direction. In this case, the terminal of the heater 31 installed inside the water cooling jacket 33 can be taken out by using the cut 39.
【0033】水冷ジャケット33は、金属などの熱伝導
性の良い材料で作製され、本実施例では、内壁34、外
壁35、上壁36、下壁37などを厚さ3mmのステン
レススチール板にて作製した。内筒管32を囲包して配
置された水冷ジャケット33の内壁34の内面と、内筒
管32との間には、ヒータ31を配置するために8〜1
3mmの空隙(G2)を設ける。本実施例では、内筒管
32の外径(D3)が253mmとされたので、水冷ジ
ャケット33の内径(D4)は272mmとした。又、
水冷ジャケット33の内壁34の軸線方向長さは、加熱
手段30を完全に覆う大きさとした。The water cooling jacket 33 is made of a material having good heat conductivity such as metal. In this embodiment, the inner wall 34, the outer wall 35, the upper wall 36, the lower wall 37 and the like are formed of a stainless steel plate having a thickness of 3 mm. Produced. Between the inner surface of the inner wall 34 of the water-cooling jacket 33 that surrounds the inner tube 32 and the inner tube 32, 8 to 1 is provided for disposing the heater 31.
A gap (G2) of 3 mm is provided. In this embodiment, since the outer diameter (D3) of the inner tube 32 is 253 mm, the inner diameter (D4) of the water cooling jacket 33 is 272 mm. or,
The axial length of the inner wall 34 of the water cooling jacket 33 was set to a size that completely covers the heating means 30.
【0034】次に加熱手段30について更に説明する。
本発明によると、加熱手段30は、上述のように、電気
ヒータ31を有し、内筒管32の外周回りに螺旋状に巻
回して配置される。Next, the heating means 30 will be further described.
According to the present invention, as described above, the heating means 30 has the electric heater 31 and is wound around the outer circumference of the inner cylindrical tube 32 in a spiral manner.
【0035】本発明によれば、電気ヒータ31は、図5
に示すように、抵抗加熱発熱線31Aを電気絶縁チュー
ブ31Bで被覆した形状とされる。抵抗加熱発熱線31
Aは、ニクロム線、或は、白金などの貴金属非磁性金属
発熱体なども好適に使用し得る。電気絶縁チューブ31
Bは、繊維状とされるアルミナファイバーを編んだチュ
ーブとされるか、又は、石英或はアルミナなどで形成さ
れた管状体を複数個つないで用いることもできる。本実
施例では、抵抗加熱発熱線31Aは、直径2.0〜2.
6mmのニクロム線を、アルミナファイバーを編んだチ
ューブ31Bで被覆した、外径3.5mmのものを使用
した。According to the present invention, the electric heater 31 has the configuration shown in FIG.
As shown in FIG. 7, the resistance heating and heating wire 31A is covered with an electrically insulating tube 31B. Resistance heating heating wire 31
As A, a nichrome wire or a noble metal non-magnetic metal heating element such as platinum can be suitably used. Electrical insulation tube 31
B is a tube formed by knitting fibrous alumina fibers, or a plurality of tubular bodies formed of quartz or alumina. In this embodiment, the resistance heating / heating wire 31A has a diameter of 2.0 to 2.0 mm.
An outer diameter of 3.5 mm was used, in which a 6 mm nichrome wire was covered with a tube 31B knitted with alumina fiber.
【0036】抵抗加熱発熱線31Aは、上述のように磁
界発生手段20による磁界内に置かれるために、加熱の
ための電流による磁界との相互作用により、力を受ける
ことになり、抵抗線間が接触したりすることとなる。従
って、抵抗加熱発熱線31Aは、絶縁チューブ31Bで
電気的絶縁を取るのが好ましい。Since the resistance heating wire 31A is placed in the magnetic field by the magnetic field generating means 20 as described above, it receives a force due to the interaction with the magnetic field due to the current for heating, and Will come into contact with each other. Therefore, it is preferable that the resistance heating wire 31A be electrically insulated by the insulating tube 31B.
【0037】又、相互作用による力を少なくするため
に、抵抗加熱発熱線31Aの電流の流れる方向を、それ
により生じる磁界がキャンセルされるように配置する、
所謂、無誘導巻きとすることが好ましい。Further, in order to reduce the force due to the interaction, the direction in which the current flows through the resistance heating wire 31A is arranged so that the magnetic field generated thereby is canceled.
A so-called non-induction winding is preferable.
【0038】つまり、ヒータ31は、図6に示すよう
に、一端で接続された、即ち、U字状とされた二重線状
態で内筒管32に単層巻きにて巻き付けられる。従っ
て、軸線方向に隣接した上下の抵抗加熱発熱線31Aに
流れる電流の方向が逆方向とされ、それによって、抵抗
加熱発熱線31Aを流れることによって生じる磁場が互
いに打ち消しあってキャンセルされる。もし、単に1本
のヒータ31を巻き付けただけでは、上述のように、抵
抗加熱発熱線31Aに電流を流したとき、磁界発生手段
20からの磁界により、抵抗加熱発熱線31Aが力を受
け、ヒータ31が移動したり、振動したりする。That is, as shown in FIG. 6, the heater 31 is wound in a single-layer winding around the inner tube 32 in a double-wire state connected at one end, that is, in a U-shape. Therefore, the directions of the currents flowing in the upper and lower resistance heating lines 31A adjacent to each other in the axial direction are reversed, whereby the magnetic fields generated by flowing through the resistance heating lines 31A cancel each other out. If only one heater 31 is wound, as described above, when a current flows through the resistance heating / heating wire 31A, the resistance heating / heating wire 31A receives a force due to the magnetic field from the magnetic field generating means 20, The heater 31 moves or vibrates.
【0039】更に、加熱用電流は、このような力のキャ
ンセルを安定なものとできるので、直流電流とすること
が好ましい。又、加熱手段30には、通常、温度制御の
ための制御手段が設けられ、ヒータ31への通電を制御
する。Further, the heating current is preferably a direct current because such a cancellation of the force can be stabilized. The heating means 30 is usually provided with a control means for controlling the temperature, and controls the energization of the heater 31.
【0040】通常の熱処理の温度範囲は、150℃〜5
00℃程度であるが、磁性膜の構造の秩序化温度が高い
膜の熱処理を行う場合には、特に500℃〜800℃程
度とされる。又、冷却速度は、MR素子用磁性膜の熱処
理の場合には、冷却速度を50℃/分以上、特には、1
00℃/分〜200℃/分とされる。The temperature range for ordinary heat treatment is 150 ° C. to 5 ° C.
Although it is about 00 ° C., when a film having a high ordering temperature of the structure of the magnetic film is subjected to heat treatment, the temperature is particularly set to about 500 ° C. to 800 ° C. In the case of heat treatment of a magnetic film for an MR element, the cooling rate is 50 ° C./min or more,
It is set at 00 ° C / min to 200 ° C / min.
【0041】ヒータ31の回りに断熱材は設けないのが
好ましいが、水冷ジャケット33とヒータ31との間に
は、本実施例では、水冷ジャケット33をステンレスス
チールにて作製したために、シート状電気絶縁材として
のアルミナシート40を配置するのが良い。アルミナシ
ート40としては、厚さ1〜3mm程度のもので良い。
ヒータ31と水冷ジャケット33との間の電気絶縁材の
厚さは、4mm以下とすることが好ましい。内筒管2を
設けることなく、ヒータ31をアルミナシート40の内
周面に巻回して配置することもできる。It is preferable that no heat insulating material is provided around the heater 31. However, in this embodiment, since the water cooling jacket 33 is made of stainless steel, the sheet-like electric material is provided between the water cooling jacket 33 and the heater 31. It is preferable to arrange an alumina sheet 40 as an insulating material. The alumina sheet 40 may have a thickness of about 1 to 3 mm.
It is preferable that the thickness of the electric insulating material between the heater 31 and the water cooling jacket 33 be 4 mm or less. The heater 31 may be wound around the inner peripheral surface of the alumina sheet 40 without providing the inner tube 2.
【0042】上記実施例で理解されるように、本発明に
よれば、真空容器2の外面と磁心22との間の空隙(G
3)が27.5mmとされ、従来の図5に示す従来の装
置における40〜50mmに比較すると、大幅に短くす
ることができた。As understood from the above embodiment, according to the present invention, the gap (G) between the outer surface of the vacuum
3) is 27.5 mm, which is much shorter than that of the conventional device shown in FIG.
【0043】本発明者らの実験研究によると、水冷ジャ
ケット33に対面している磁界発生手段21の磁心22
の端面から、真空容器2の内面までの距離(L)は、磁
界発生手段21の磁心間距離(L0)の0.05倍以
上、0.15倍以下、具体的には、15mm以上、45
mm以下、特には、30mm以下とするのが好ましいこ
とが分かった。According to the experimental study of the present inventors, the magnetic core 22 of the magnetic field generating means 21 facing the water-cooling jacket 33.
Is from 0.05 to 0.15 times the distance (L0) between the magnetic cores of the magnetic field generating means 21, specifically from 15 mm to 45 mm.
It has been found that the thickness is preferably not more than 30 mm, particularly preferably not more than 30 mm.
【0044】上記熱処理装置は、更に、磁界発生手段の
ための電源、磁界の測定制御装置、真空容器を真空にす
るための真空ポンプ制御部、装置全体の作動シーケンス
を制御する機構などを備えているが、これら各要素は、
当業者には周知のものを使用し得るので、詳しい説明は
省略する。The heat treatment apparatus further includes a power supply for the magnetic field generating means, a magnetic field measurement control device, a vacuum pump control unit for evacuating the vacuum vessel, a mechanism for controlling the operation sequence of the entire device, and the like. Each of these elements,
Since a well-known one can be used, a detailed description thereof will be omitted.
【0045】[0045]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空容器と、真空容器の外側に配置された磁界発生手段
と、真空容器と磁界発生手段との間に配置された加熱手
段と、を有する熱処理装置において、加熱手段は、真空
容器の外周面を囲包して配置された電気ヒータと、前記
電気ヒータと前記磁界発生手段との間に配置された流体
冷却部と、を有する構成とされるので、 (1)比較的小型の磁界発生手段にて、均一で且つ所望
強度の磁界を発生することができ、しかも急速昇温冷却
も可能であり、磁性体材料などの性能を十分に向上させ
ることができる。 (2)磁界発生手段が電気炉の昇温により加熱されるこ
ともなく、従って、材料選択が制限されることもなく、
設計の自由度を向上させ、且つ、装置全体の構成を小型
化し、且つ、装置コストの低減、及び電力消費を抑え、
装置運転コストを大幅に減少させることができる。 (3)装置構成部品として、ゴミを発生する可能性のあ
る部品を使用しておらず、クリーンルームでの使用が可
能である。 といった効果を奏し得る。As described above, according to the present invention,
In a heat treatment apparatus having a vacuum vessel, a magnetic field generating means arranged outside the vacuum vessel, and a heating means arranged between the vacuum vessel and the magnetic field generating means, the heating means removes an outer peripheral surface of the vacuum vessel. Since it is configured to have the electric heater disposed so as to surround and the fluid cooling unit disposed between the electric heater and the magnetic field generating means, (1) a relatively small magnetic field generating means As a result, it is possible to generate a magnetic field having a uniform and desired strength, and it is also possible to rapidly raise and lower the temperature and sufficiently improve the performance of the magnetic material and the like. (2) The magnetic field generating means is not heated by increasing the temperature of the electric furnace, so that the material selection is not restricted,
Improving the degree of freedom of design, miniaturizing the configuration of the entire device, reducing the cost of the device, and suppressing the power consumption,
The equipment operation cost can be significantly reduced. (3) As a component of the device, a component that may generate dust is not used, and can be used in a clean room. Such an effect can be obtained.
【図1】本発明に係る熱処理装置の一実施例の概略構成
断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view of an embodiment of a heat treatment apparatus according to the present invention.
【図2】真空容器、加熱手段及び電磁石のは位置関係を
示す一部断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a positional relationship among a vacuum vessel, a heating unit, and an electromagnet.
【図3】加熱手段の一部拡大断面図である。FIG. 3 is a partially enlarged sectional view of a heating unit.
【図4】水冷ジャケットの一実施例の全体図を示す斜視
図である。FIG. 4 is a perspective view showing an overall view of one embodiment of a water cooling jacket.
【図5】電気ヒータの断面図である。FIG. 5 is a sectional view of an electric heater.
【図6】電気ヒータの設置方法を説明する斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view illustrating a method of installing an electric heater.
【図7】従来の熱処理装置の概略構成断面図である。FIG. 7 is a schematic configuration sectional view of a conventional heat treatment apparatus.
1 熱処理装置 2 真空容器 3 ホルダー 4 ホルダー支持装置 20 磁界発生手段 21 電磁石 22 磁心 23 コイル 30 加熱手段 31 電気ヒータ 32 内筒管 33 流体冷却部(水冷ジャケット) 40 絶縁シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heat treatment apparatus 2 Vacuum container 3 Holder 4 Holder support device 20 Magnetic field generating means 21 Electromagnet 22 Magnetic core 23 Coil 30 Heating means 31 Electric heater 32 Inner tube 33 Fluid cooling part (water cooling jacket) 40 Insulating sheet
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 広樹 神奈川県横浜市金沢区福浦2−7−33 株 式会社フューテックファーネス内 (72)発明者 三輪 一雄 神奈川県横浜市金沢区福浦2−7−33 株 式会社フューテックファーネス内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroki Kobayashi 2-7-33 Fukuura, Kanazawa-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture Inside Futec Furnace Co., Ltd. (72) Inventor Kazuo Miwa 2-7 Fukuura, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa −33 Inside Futec Furnace Co., Ltd.
Claims (11)
された磁界発生手段と、前記真空容器と前記磁界発生手
段との間に配置された加熱手段と、を有する熱処理装置
において、前記加熱手段は、 前記真空容器の外周面を囲包して配置された電気ヒータ
と、 前記電気ヒータと前記磁界発生手段との間に配置された
流体冷却部と、を有することを特徴とする熱処理装置。1. A heat treatment apparatus comprising: a vacuum vessel; magnetic field generating means disposed outside the vacuum vessel; and heating means disposed between the vacuum vessel and the magnetic field generating means. The heat treatment apparatus includes: an electric heater disposed to surround an outer peripheral surface of the vacuum vessel; and a fluid cooling unit disposed between the electric heater and the magnetic field generating unit. .
気ヒータとの間に配置され、前記真空容器の外周面を囲
包して配置された電気的絶縁性の内筒管を含むことを特
徴とする請求項1の熱処理装置。2. The method according to claim 1, wherein the heating means includes an electrically insulating inner tube disposed between the vacuum vessel and the electric heater and surrounding the outer peripheral surface of the vacuum vessel. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein:
気絶縁チューブで被覆した形状とされることを特徴とす
る請求項1又は2の熱処理装置。3. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the electric heater has a shape in which a resistance heating wire is covered with an electric insulating tube.
は、貴金属非磁性金属発熱体であり、前記電気絶縁チュ
ーブは、アルミナファイバーを編んだチューブである
か、又は、石英或はアルミナ管状体を複数個つないだも
のであることを特徴とする請求項3の熱処理装置。4. The resistance heating wire is a nichrome wire or a noble metal non-magnetic metal heating element, and the electrical insulation tube is a tube woven from alumina fiber, or a quartz or alumina tube. 4. The heat treatment apparatus according to claim 3, wherein a plurality of bodies are connected.
線を流れる電流が互いに逆方向とされることを特徴とす
る請求項3又は4の熱処理装置。5. The heat treatment apparatus according to claim 3, wherein the electric heaters have currents flowing in adjacent resistance heating lines opposite to each other.
ャケットとされることを特徴とする請求項1〜5のいず
れかの項に記載の熱処理装置。6. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the fluid cooling unit is a water cooling jacket through which a fluid flows.
の間にシート状電気絶縁材を配置することを特徴とする
請求項6の熱処理装置。7. The heat treatment apparatus according to claim 6, wherein a sheet-like electric insulating material is disposed between the water cooling jacket and the electric heater.
を特徴とする請求項6又は7の熱処理装置。8. The heat treatment apparatus according to claim 6, wherein the water cooling jacket is made of metal.
側に対向配置された電磁石にて構成され、前記電磁石の
磁心の端面から前記真空容器の内面までの距離(L)
は、前記磁界発生手段の磁心間距離(L0)の0.05
倍以上、0.15倍以下であることを特徴とする請求項
1〜8のいずれかの項に記載の熱処理装置。9. The magnetic field generating means is constituted by an electromagnet disposed opposite to the outside of the vacuum vessel, and a distance (L) from an end face of a magnetic core of the electromagnet to an inner face of the vacuum vessel.
Is 0.05 of the distance (L0) between the magnetic cores of the magnetic field generating means.
The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the heat treatment time is not less than twice and not more than 0.15 times.
容器の内面までの距離(L)は、15mm以上、45m
m以下とされることを特徴とする請求項1〜8のいずれ
かの項に記載の熱処理装置。10. A distance (L) from an end face of the magnetic field generating means to an inner face of the vacuum vessel is 15 mm or more and 45 m or more.
The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein m is not more than m.
容器の内面までの距離(L)は、15mm以上、30m
m以下とされることを特徴とする請求項1〜8のいずれ
かの項に記載の熱処理装置。11. A distance (L) from an end face of the magnetic field generating means to an inner face of the vacuum vessel is 15 mm or more and 30 m or more.
The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein m is not more than m.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004070747A1 (en) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Futek Furnace Inc. | Heat treatment system |
JP2009518617A (en) * | 2005-12-06 | 2009-05-07 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | Heat exchange system and method for magnetic annealing apparatus |
CN103888028A (en) * | 2014-03-21 | 2014-06-25 | 成都航天烽火精密机电有限公司 | Efficient heat difference power generation furnace |
JP2020519032A (en) * | 2017-05-08 | 2020-06-25 | 東京エレクトロン株式会社 | Vertical multi-batch magnetic annealing system for reduced footprint manufacturing environment |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60206123A (en) * | 1984-03-30 | 1985-10-17 | Anelva Corp | Vacuum heat-treatment device for soft magnetic thin film |
JPS62124223A (en) * | 1985-11-22 | 1987-06-05 | Hitachi Ltd | Revolution heat treating apparatus in magnetic field |
JPS6295731U (en) * | 1985-12-06 | 1987-06-18 | ||
JPH05248770A (en) * | 1992-03-05 | 1993-09-24 | F T L:Kk | Heating furnace |
JPH07225014A (en) * | 1994-02-14 | 1995-08-22 | Maejima Kogyosho:Kk | Incinerator with smoke incinerating heater |
JPH1181052A (en) * | 1997-08-28 | 1999-03-26 | Toho Rayon Co Ltd | Production of oxidized fiber and carbon fiber |
-
2000
- 2000-08-10 JP JP2000243360A patent/JP2001135543A/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60206123A (en) * | 1984-03-30 | 1985-10-17 | Anelva Corp | Vacuum heat-treatment device for soft magnetic thin film |
JPS62124223A (en) * | 1985-11-22 | 1987-06-05 | Hitachi Ltd | Revolution heat treating apparatus in magnetic field |
JPS6295731U (en) * | 1985-12-06 | 1987-06-18 | ||
JPH05248770A (en) * | 1992-03-05 | 1993-09-24 | F T L:Kk | Heating furnace |
JPH07225014A (en) * | 1994-02-14 | 1995-08-22 | Maejima Kogyosho:Kk | Incinerator with smoke incinerating heater |
JPH1181052A (en) * | 1997-08-28 | 1999-03-26 | Toho Rayon Co Ltd | Production of oxidized fiber and carbon fiber |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004070747A1 (en) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Futek Furnace Inc. | Heat treatment system |
US7179416B2 (en) | 2003-02-10 | 2007-02-20 | Futek Furnace Inc. | Heat treatment apparatus |
KR101092025B1 (en) * | 2003-02-10 | 2011-12-12 | 가부시키가이샤 휴텍쿠화네스 | Heat treatment system |
JP2009518617A (en) * | 2005-12-06 | 2009-05-07 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | Heat exchange system and method for magnetic annealing apparatus |
KR101328278B1 (en) * | 2005-12-06 | 2013-11-14 | 프랙스에어 테크놀로지, 인코포레이티드 | Magnetic annealing tool heat exchange system and processes |
CN103888028A (en) * | 2014-03-21 | 2014-06-25 | 成都航天烽火精密机电有限公司 | Efficient heat difference power generation furnace |
JP2020519032A (en) * | 2017-05-08 | 2020-06-25 | 東京エレクトロン株式会社 | Vertical multi-batch magnetic annealing system for reduced footprint manufacturing environment |
JP7112629B2 (en) | 2017-05-08 | 2022-08-04 | 東京エレクトロン株式会社 | Vertical Multi-Batch Magnetic Annealing System for Reduced Footprint Manufacturing Environments |
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