JP2001131756A - Method of electroless plating surface of porous body - Google Patents

Method of electroless plating surface of porous body

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JP2001131756A
JP2001131756A JP31109499A JP31109499A JP2001131756A JP 2001131756 A JP2001131756 A JP 2001131756A JP 31109499 A JP31109499 A JP 31109499A JP 31109499 A JP31109499 A JP 31109499A JP 2001131756 A JP2001131756 A JP 2001131756A
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Japan
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porous body
filler
plating
pores
electroless plating
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JP31109499A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsuguto Takeuchi
嗣人 竹内
Kazumasa Takatori
一雅 鷹取
Tsuneko Uoshima
凡子 魚島
Nobuo Kamiya
信雄 神谷
Toshio Kamitori
利男 神取
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Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
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Publication date
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  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Catalysts (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of electroless plating, which is capable of easily forming a plated film only on the surface of a porous body having many pores. SOLUTION: The surface of a porous body 1 having many pores 10 can be plated by this electroless plating method, which is comprised of the filling process of heating a filling material 2 to a temperature of not less than the melting point, then filling the molten filling material 2 into the fine pores 10 of the porous body 1 and solidifying the molten filling material, the treatment process for converting into a catalyst of subjecting the surface of the porous body 1 to sensitization treatment and activation treatment, the filling material removing process of removing the filling material 2 filled in the porous pores 10 and the plating process of dipping the porous body 1 into a plating bath and forming a plated film 4 on the surface of the porous body 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は,細孔を有する多孔体の表面のみ
に無電解メッキを行う方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for performing electroless plating only on the surface of a porous body having pores.

【0002】[0002]

【従来技術】細孔を多数有する多孔体において,その細
孔はそのままの状態に維持し,表面のみに金属被覆層を
形成したい場合がある。例えば,後述するハニカム構造
体の隔壁の表面のみに金属被覆層を形成し,これを電極
とすることにより,非常に優れたディーゼルエンジン用
のパティキュレートフィルタ(DPF)を構成すること
ができる。
2. Description of the Related Art In a porous body having a large number of pores, it is sometimes desired to maintain the pores as they are and form a metal coating layer only on the surface. For example, an extremely excellent particulate filter (DPF) for a diesel engine can be formed by forming a metal coating layer only on the surface of a partition wall of a honeycomb structure described later and using this as an electrode.

【0003】[0003]

【解決しようとする課題】ところで,絶縁体に金属被覆
層を形成する方法としては,無電解メッキ法が広く用い
られているが,多孔体の表面のみに無電解メッキを施す
ことに関しては,未だ十分な技術が確立しているとは言
えない。即ち,多孔体に対して通常の無電解メッキ法を
適用した場合には,多孔体の表面だけではなく,細孔の
内部にまでメッキが施されてしまう。そのため,絶縁性
の状態を維持した細孔の特性を利用することができな
い。
As a method of forming a metal coating layer on an insulator, electroless plating is widely used. However, electroless plating is only applied to the surface of a porous body. Not enough technology has been established. That is, when a normal electroless plating method is applied to a porous body, plating is performed not only on the surface of the porous body but also inside the pores. Therefore, it is not possible to utilize the characteristics of the pores maintaining the insulating state.

【0004】一方,特開平6−296876号公報にお
いては,多孔質ハニカム構造体の通孔壁面上に斑点状に
非導電性部分を形成したのち,電気メッキすることによ
り多孔質通孔壁面上に微細孔のある金属被覆層を有する
金属被覆ハニカム構造体を形成する方法が示されてい
る。しかしながら,この方法においては,ハニカム表面
の通孔のすべてを非導電性粒子により蓋をするのは困難
であり,通孔(細孔)内にまでメッキを施してしまう部
分があることは避けられない。
On the other hand, in JP-A-6-296876, a spot-shaped non-conductive portion is formed on the through hole wall surface of a porous honeycomb structure, and then electroplating is performed on the porous through hole wall surface. A method for forming a metal-coated honeycomb structure having a microporous metal coating layer is shown. However, in this method, it is difficult to cover all the through-holes on the honeycomb surface with non-conductive particles, and it is possible to avoid the presence of plating inside the through-holes (pores). Absent.

【0005】本発明は,かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので,細孔を多数有する多孔体の表面のみにメ
ッキ膜を容易に形成することができる無電解メッキ方法
を提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of such conventional problems, and an object of the present invention is to provide an electroless plating method capable of easily forming a plating film only on the surface of a porous body having a large number of pores. Things.

【0006】[0006]

【課題の解決手段】請求項1の発明は,多数の細孔を有
する多孔体の表面に無電解メッキを施す方法であって,
融点以上に加熱して液状化した充填剤を上記多孔体の上
記細孔内に充填する充填工程と,上記充填剤を凝固させ
た後,上記多孔体の表面に感応化処理及び活性化処理を
施す触媒化処理工程とを行い,次いで,上記細孔内に充
填していた上記充填剤を除去する充填剤除去工程を行っ
た後,上記多孔体をメッキ浴に浸漬してその表面にメッ
キ膜を形成するメッキ工程を行うことを特徴とする多孔
体表面への無電解メッキ方法にある。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a method for performing electroless plating on a surface of a porous body having a large number of pores,
A filling step of filling the pores of the porous body with the filler liquefied by heating to a temperature equal to or higher than the melting point, and a sensitizing treatment and an activating treatment on the surface of the porous body after the filler is solidified. Performing a catalyzing treatment step, and then performing a filler removing step of removing the filler filled in the pores, immersing the porous body in a plating bath, and plating the surface with a plating film. A method of electroless plating on the surface of a porous body, which comprises performing a plating step of forming

【0007】本発明において最も注目すべきことは,上
記充填工程を行った後上記触媒化処理工程を行い,次い
で,上記充填剤除去工程を行った後上記メッキ工程を行
うことである。
The most remarkable point in the present invention is that the above-mentioned filling step is performed, the above-mentioned catalyzing treatment step is performed, and then the above-mentioned filler removing step is performed, and then the above-mentioned plating step is performed.

【0008】上記充填工程においては,加熱することに
より液状化し,冷却することにより凝固する性質を有す
る充填剤を用いる。そして,充填剤を加熱して液状化し
た状態で,多孔体の細孔内に充填する。充填方法として
は,例えば充填剤を満たした浴槽に多孔体を浸漬するこ
とにより,充填剤を細孔内に浸入させる方法等がある。
In the filling step, a filler having a property of being liquefied by heating and solidified by cooling is used. Then, the filler is heated and liquefied to fill the pores of the porous body. As a filling method, for example, there is a method of immersing a porous body in a bath filled with the filler so that the filler enters the pores.

【0009】次に,上記細孔内に浸入させた充填剤を冷
却により凝固させた後,上記触媒化処理工程を行う。こ
の触媒化処理工程は,従来より知られている無電解メッ
キ方法における触媒化処理方法と同様に行う。具体的な
方法の一例を示すと,塩化スズ溶液に多孔体を浸漬し
て,その表面にSn2+を吸着させる感応化処理と,さら
に塩化パラジウム溶液に浸漬してPd(触媒微粒子)を
多孔体の表面に析出させる活性化処理とを行うことによ
り上記触媒化処理工程を行うことができる。
Next, after the filler penetrated into the pores is solidified by cooling, the above-mentioned catalyzing treatment step is performed. This catalyzing treatment step is performed in the same manner as the conventionally known catalyzing treatment method in the electroless plating method. As an example of a specific method, a porous body is immersed in a tin chloride solution and subjected to a sensitization treatment for adsorbing Sn 2+ on its surface, and further immersed in a palladium chloride solution to make Pd (catalyst fine particles) porous. The above-mentioned catalyzing step can be carried out by performing an activating treatment for precipitating on the surface of the body.

【0010】上記感応化処理と活性化処理とは,1工程
により行うこともできる。また,上記感応化処理と活性
化処理に用いる溶液としては,上記以外のものを用いる
こともでき,また,触媒微粒子としてもPd以外にも種
々の金属を用いることができる。なお,従来の無電解メ
ッキ方法において通常行われるアルカリ溶液を用いた脱
脂工程は,本発明では省くこともできる。この場合に
は,上記充填した充填剤が脱脂工程により除去されるお
それを無くすことができる。
The above-described sensitizing and activating processes can be performed in one step. As the solution used for the sensitizing treatment and the activating treatment, those other than those described above can be used, and various metals other than Pd can be used as the catalyst fine particles. In the present invention, the degreasing step using an alkaline solution, which is usually performed in the conventional electroless plating method, can be omitted. In this case, the possibility that the filled filler is removed by the degreasing step can be eliminated.

【0011】次に,多孔体の細孔内に充填していた上記
充填剤を除去する充填剤除去工程を行う。充填剤を除去
する方法としては,熱を加えることにより充填剤を液状
化して流し出す方法,あるいは,加熱して焼失させる方
法等を取ることができる。
Next, a filler removing step of removing the filler filling the pores of the porous body is performed. As a method of removing the filler, a method of liquefying the filler by applying heat and flowing it out, or a method of heating and burning out the filler can be employed.

【0012】次に,上記多孔体をメッキ浴に浸漬してそ
の表面にメッキ膜を形成するメッキ工程を行う。このメ
ッキ工程は,従来より知られる無電解メッキ方法におけ
る方法と同様である。例えばメッキ膜としてCu膜を形
成する場合には,硫酸銅を主体とするメッキ浴に上記多
孔体を浸漬することにより行う。
Next, a plating step of immersing the porous body in a plating bath to form a plating film on its surface is performed. This plating step is the same as the method in the conventionally known electroless plating method. For example, when a Cu film is formed as a plating film, the above-described porous body is immersed in a plating bath mainly composed of copper sulfate.

【0013】次に,本発明の作用効果につき説明する。
本発明においては,上記充填工程を行った後上記触媒化
処理工程を行う。これにより,無電解メッキを開始させ
るために必要な触媒微粒子(PdあるいはAu,Ag,
Pt等)を細孔内には浸入させず,多孔体の表面のみに
析出させることができる。それ故,その後のメッキ工程
においては,上記触媒微粒子が存在する多孔体の表面の
みにメッキ膜を形成することができる。
Next, the function and effect of the present invention will be described.
In the present invention, the catalyzing treatment step is performed after the filling step. Thereby, catalyst fine particles (Pd or Au, Ag,
Pt) can be deposited only on the surface of the porous body without penetrating into the pores. Therefore, in the subsequent plating step, a plating film can be formed only on the surface of the porous body where the catalyst fine particles exist.

【0014】このように,本発明においては,上記充填
工程及び充填剤除去工程を従来の無電解メッキ方法に追
加することによって,多孔体の表面のみに容易にメッキ
膜を形成することができる。
As described above, in the present invention, a plating film can be easily formed only on the surface of a porous body by adding the above-mentioned filling step and filler removing step to a conventional electroless plating method.

【0015】次に,請求項2の発明は,多数の細孔を有
する多孔体の表面に無電解メッキを施す方法であって,
融点以上に加熱して液状化した充填剤を上記多孔体の上
記細孔内に充填する充填工程と,上記充填剤を凝固させ
た後,上記多孔体の表面に感応化処理及び活性化処理を
施す触媒化処理工程とを行い,次いで,上記多孔体をメ
ッキ浴に浸漬してその表面にメッキ膜を形成するメッキ
工程を行った後,上記細孔内に充填していた上記充填剤
を除去する充填剤除去工程を行うことを特徴とする多孔
体表面への無電解メッキ方法にある。
Next, a second aspect of the present invention is a method for performing electroless plating on the surface of a porous body having a large number of pores,
A filling step of filling the pores of the porous body with the filler liquefied by heating to a temperature equal to or higher than the melting point, and a sensitizing treatment and an activating treatment on the surface of the porous body after the filler is solidified. Performing a catalyzing treatment step, and then performing a plating step of immersing the porous body in a plating bath to form a plating film on the surface thereof, and removing the filler filling the pores. A method of electroless plating on the surface of a porous body, characterized by performing a filler removing step.

【0016】本発明は,上記充填剤除去工程とメッキ工
程の順序を,請求項1の発明の場合と逆にしたものであ
る。この場合にも,上記と同様の作用効果を得ることが
できる。
According to the present invention, the order of the filler removing step and the plating step is reversed from that of the first aspect. In this case, the same operation and effect as described above can be obtained.

【0017】次に,請求項3の発明のように,上記充填
工程を行う前に,上記多孔体の表面に上記細孔内に浸入
しない粘度を有するマスキング材を塗布するマスク工程
を行い,次いで上記充填工程を行った後,上記マスキン
グ材を除去するマスク除去工程を行うことが好ましい。
Next, before performing the filling step, a masking step of applying a masking material having a viscosity that does not penetrate into the pores is performed on the surface of the porous body. After performing the filling step, it is preferable to perform a mask removing step of removing the masking material.

【0018】この場合には,上記多孔体の表面のみを上
記マスキング材により覆った状態で上記充填工程を実施
することができ,充填剤の多孔体表面への付着を確実に
防止することができる。それ故,その後のマスク除去工
程を行った後に触媒化処理工程において,多孔体表面へ
の触媒化粒子の析出を非常に均一に行うことができ,そ
の後のメッキ膜を均一かつ強固に形成することができ
る。
In this case, the filling step can be performed in a state where only the surface of the porous body is covered with the masking material, and the adhesion of the filler to the surface of the porous body can be reliably prevented. . Therefore, in the catalyzing treatment step after the subsequent mask removing step, the catalyzed particles can be very uniformly deposited on the porous material surface, and the subsequent plating film can be formed uniformly and firmly. Can be.

【0019】上記マスキング材としては,水溶性のタイ
プと有機溶媒に溶解するタイプの両方がある。水溶性タ
イプとしては,例えば,メチルセルロース系のバインダ
ー,でんぷん糊,アラビヤゴム糊などを用いることがで
きる。また,有機溶媒に溶解するタイプとしては,例え
ば,市販の合成ゴム系接着剤(クロロプレンゴム,スチ
レンブタジエンなどの合成ゴムを溶媒で希釈したも
の),セルロース系接着剤などを用いることができる。
As the above masking material, there are both a water-soluble type and a type soluble in an organic solvent. As the water-soluble type, for example, a methylcellulose-based binder, starch paste, arabic rubber paste, or the like can be used. Examples of the type that can be dissolved in an organic solvent include commercially available synthetic rubber-based adhesives (synthetic rubbers such as chloroprene rubber and styrene-butadiene diluted with a solvent) and cellulose-based adhesives.

【0020】また,請求項4の発明のように,上記充填
剤は,その融点が50〜300℃の範囲内にあることが
好ましい。融点が50℃未満の場合には,上記充填工程
の後の工程において充填剤が溶け出すおそれがあり,一
方,300℃を超える場合には,充填剤除去工程におけ
る充填剤の除去が困難となるという問題がある。
Further, it is preferable that the filler has a melting point in the range of 50 to 300 ° C. If the melting point is lower than 50 ° C., the filler may be melted in a step after the filling step. On the other hand, if it exceeds 300 ° C., it becomes difficult to remove the filler in the filler removing step. There is a problem.

【0021】また,メッキ工程前に充填剤除去工程を行
う場合(請求項1の発明)には,特に,充填剤の融点は
50〜100℃のものを用いることが最も好ましい。こ
の場合には,充填剤除去工程において,湯洗などによっ
て容易に充填剤の除去を行うことができる。
In the case where a filler removing step is performed before the plating step (the invention of claim 1), it is most preferable to use a filler having a melting point of 50 to 100 ° C. In this case, in the filler removing step, the filler can be easily removed by washing with hot water or the like.

【0022】また,メッキ工程の後に充填剤除去工程を
行う場合(請求項2の発明)には,充填剤の融点はメッ
キ工程の処理温度よりも高いことが好ましい。なぜな
ら,充填剤の融点がメッキ処理温度に比べて著しく低い
場合,ほとんどの充填剤が溶け出し,後述する充填剤表
面に付着していた触媒微粒子の拡散により壁内部へのメ
ッキ膜の形成が行われる可能性があるからである。一
方,メッキ工程の処理温度と充填剤の融点が近い場合に
は,表面付近の充填剤が溶け出し,溶け出した充填剤の
一部がメッキ形成を促進する場合がある。即ち,充填剤
表面に付着していた触媒微粒子がメッキ液中に流れ出
し,これが多孔体表面においてメッキ膜形成の核となる
場合がある。そのため,メッキ工程の処理温度と充填剤
の融点は近い方が好ましい。
In the case where the filler removing step is performed after the plating step (the invention of claim 2), it is preferable that the melting point of the filler is higher than the processing temperature in the plating step. This is because when the melting point of the filler is significantly lower than the plating temperature, most of the filler melts out, and a plating film is formed inside the wall due to diffusion of the catalyst fine particles adhering to the filler surface described later. It is possible that On the other hand, when the processing temperature in the plating step is close to the melting point of the filler, the filler near the surface may be melted, and a part of the melted filler may promote plating. That is, the catalyst fine particles adhering to the filler surface may flow out into the plating solution, and this may become a nucleus for forming a plating film on the porous body surface. Therefore, it is preferable that the processing temperature of the plating step and the melting point of the filler are close to each other.

【0023】また,上記マスク工程を行う場合には,上
記充填剤の融点を50〜100℃とすることが好まし
い。これは,上記と同様に,充填剤除去工程における作
業を容易に行うためである。ただし,マスク除去工程に
おいてマスキング材を加熱処理により除去する場合に
は,上記充填剤の融点はその処理温度以上とする必要が
ある。また,上記マスキング材を溶剤等により除去する
場合には,その溶剤に溶解しない充填剤を選択する必要
がある。
When the masking step is performed, the melting point of the filler is preferably set to 50 to 100 ° C. This is because the work in the filler removing step is easily performed as in the above. However, when the masking material is removed by heat treatment in the mask removal step, the melting point of the filler needs to be higher than the treatment temperature. When the masking material is removed by a solvent or the like, it is necessary to select a filler that does not dissolve in the solvent.

【0024】また,請求項5の発明のように,上記充填
剤はパラフィンであることが好ましい。この場合には,
上記充填工程,充填剤除去工程を容易に行うことができ
る。
Further, as in the invention of claim 5, the filler is preferably paraffin. In this case,
The above-described filling step and filler removing step can be easily performed.

【0025】また,請求項6の発明のように,上記充填
工程は,上記充填剤の融点より20℃以上高い温度に加
熱して液状化した上記充填剤の浴に上記多孔体を浸漬
し,次いで,これを上記充填剤の浴から引き上げて余分
に付着した充填剤を滴下させて除去することにより行う
ことが好ましい。充填剤の加熱温度がその融点+20℃
よりも低い場合には,上記充填剤の浴から多孔体を引き
上げて余分な充填剤を除去する際に,十分な流動性が得
られないおそれがある。そのため,多孔体の表面に余分
な充填剤が多量に残存し,その後の触媒化処理工程を正
常に行うことが困難となるという問題が生じる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the filling step, the porous body is immersed in a bath of the filler liquefied by heating to a temperature higher than the melting point of the filler by at least 20 ° C. Then, it is preferable to remove the filler from the bath of the filler, and drop and remove extra filler attached thereto. The heating temperature of the filler is its melting point + 20 ° C
If it is lower than the above range, sufficient fluidity may not be obtained when the porous body is pulled up from the above-mentioned filler bath to remove excess filler. Therefore, there is a problem that a large amount of excess filler remains on the surface of the porous body, making it difficult to perform the subsequent catalyzing treatment process normally.

【0026】また,請求項7の発明のように,上記多孔
体は,多数の細孔を有する隔壁をハニカム状に設けたハ
ニカム構造体とすることができる。この場合には,例え
ばディーゼルエンジンの優れたパティキュレートフィル
タを容易に構成することができる。
Further, as in the invention of claim 7, the porous body may be a honeycomb structure in which partition walls having a large number of pores are provided in a honeycomb shape. In this case, for example, an excellent particulate filter of a diesel engine can be easily configured.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】実施形態例 本発明の実施形態例にかかる多孔体表面への無電解メッ
キ方法につき,図1〜図4を用いて説明する。本例にお
いては,多孔体1として,コージェライト製のハニカム
構造体を用いた。そして,この多孔体に対して,本発明
に係る方法により無電解メッキを施した5つの実施例
(E1〜E5)と,2つの比較例(C1,C2)を行っ
た。そして,これらのメッキ付着率及び電気抵抗値を測
定することにより性能評価を行った。なお,後述する充
填剤としてのパラフィンには,融点約70℃のものを用
いた。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment A method for electroless plating a porous body surface according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the present example, a honeycomb structure made of cordierite was used as the porous body 1. Then, five examples (E1 to E5) in which the porous body was subjected to electroless plating by the method according to the present invention and two comparative examples (C1, C2) were performed. The performance was evaluated by measuring the plating adhesion rate and the electrical resistance value. Note that a paraffin as a filler described later used had a melting point of about 70 ° C.

【0028】(実施例E1)本実施例E1においては,
図1に示すごとく,充填工程(a)及び触媒化処理工程
(b)を行い,次いで,充填剤除去工程(c)を行った
後上記メッキ工程(d)を行う方法により無電解メッキ
を施した。このように充填剤除去工程をメッキ工程の前
に行う方法を,本例では,「前抜き法」という。
(Embodiment E1) In this embodiment E1,
As shown in FIG. 1, the filling step (a) and the catalyzing step (b) are performed, then the filler removing step (c) is performed, and then the electroless plating is performed by the plating step (d). did. Such a method of performing the filler removing step before the plating step is referred to as a “pre-cutting method” in this example.

【0029】実施例E1における工程を図1を用いてさ
らに具体的に説明する。まず,充填工程においては,充
填剤としてパラフィンを用い,これを90℃に加熱する
ことにより液状化した。そして,浴槽にパラフィンを入
れて設けたパラフィン浴に,上記ハニカム構造体よりな
る多孔体1を浸漬した。次いで,多孔体をパラフィン浴
から引き上げて余分に付着したパラフィンを滴下させて
除去した。これにより,図1(a)に示すごとく,多孔
体1の細孔10内にパラフィンよりなる充填剤2を充填
させた。
The steps in Example E1 will be described more specifically with reference to FIG. First, in the filling step, paraffin was used as a filler and liquefied by heating it to 90 ° C. Then, the porous body 1 made of the honeycomb structure was immersed in a paraffin bath provided with paraffin in a bathtub. Next, the porous body was taken out of the paraffin bath, and extra paraffin attached was dropped and removed. As a result, as shown in FIG. 1A, the pores 10 of the porous body 1 were filled with the filler 2 made of paraffin.

【0030】次に,触媒化処理工程においては,まず炭
酸ナトリウム,水酸化ナトリウムを主成分とする水溶液
を用いて室温でアルカリ脱脂工程を行った後,感応化処
理及び触媒化処理を施した。感応化処理は,塩化錫溶液
を含有するセンシタイザー(奥野製薬製)に多孔体1を
3分間浸漬することにより行った。また,触媒化処理
は,塩化パラジウムを含有するアクチベーター(奥野製
薬製)に多孔体1を1分間浸漬することにより行った。
そして,本例では再度この感応化処理と触媒化処理を行
った。これにより,図1(b)に示すごとく,多孔体1
の表面にPdよりなる触媒微粒子3を析出させた。
Next, in the catalyzing treatment step, first, an alkali degreasing step was performed at room temperature using an aqueous solution containing sodium carbonate and sodium hydroxide as main components, followed by a sensitizing treatment and a catalyzing treatment. The sensitization treatment was performed by immersing the porous body 1 in a sensitizer containing tin chloride solution (manufactured by Okuno Pharmaceutical) for 3 minutes. The catalyzing treatment was performed by immersing the porous body 1 in an activator (manufactured by Okuno Pharmaceutical) containing palladium chloride for 1 minute.
In this example, the sensitization process and the catalysis process were performed again. As a result, as shown in FIG.
The catalyst fine particles 3 made of Pd were deposited on the surface of.

【0031】次に,充填剤除去工程は,湯洗により行っ
た。即ち,上記多孔体1を沸騰水を入れた浴槽内に浸漬
し,充填剤2を溶け出させた。これにより図1(c)に
示すごとく,大部分の充填剤2は除去された。ただし,
同図に示すごとく,充填剤2は完全には除去されておら
ず,一部は細孔10内に残存した。
Next, the filler removal step was performed by hot water washing. That is, the porous body 1 was immersed in a bath containing boiling water to dissolve the filler 2. As a result, as shown in FIG. 1 (c), most of the filler 2 was removed. However,
As shown in the figure, the filler 2 was not completely removed, and a part remained in the pores 10.

【0032】次に,メッキ工程は,80℃に加熱した無
電解Ni−Pメッキ液(奥野製薬製)を満たしたメッキ
浴に,多孔体1を8分間浸漬することにより行った。こ
れにより,図1(d)に示すごとく,多孔体1の表面に
はNiメッキ膜4が形成された。
Next, the plating step was performed by immersing the porous body 1 in a plating bath filled with an electroless Ni-P plating solution (manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) heated to 80 ° C. for 8 minutes. As a result, a Ni plating film 4 was formed on the surface of the porous body 1 as shown in FIG.

【0033】次に,本例では,温度500℃に4時間保
持する熱処理工程を行った。これにより,図1(e)に
示すごとく,細孔10内にわずかに残存していた充填剤
2を焼失させることができた。そして,同図に示すごと
く,表面のみにメッキ膜4が形成された多孔体1が得ら
れた。
Next, in this example, a heat treatment step of maintaining the temperature at 500 ° C. for 4 hours was performed. Thus, as shown in FIG. 1E, the filler 2 slightly remaining in the pores 10 could be burned off. Then, as shown in the figure, a porous body 1 having the plating film 4 formed only on the surface was obtained.

【0034】(実施例E2)実施例E2においては,実
施例E1における充填工程において,充填剤2としての
パラフィンの加熱温度を110℃に変更した。その他は
実施例E1と同様にした。
Example E2 In Example E2, the heating temperature of paraffin as the filler 2 was changed to 110 ° C. in the filling step in Example E1. Others were the same as Example E1.

【0035】(実施例E3)実施例E3においては,実
施例E1における充填工程において,充填剤2としての
パラフィンの加熱温度を150℃に変更した。その他は
実施例E1と同様にした。
Example E3 In Example E3, the heating temperature of paraffin as the filler 2 was changed to 150 ° C. in the filling step of Example E1. Others were the same as Example E1.

【0036】(実施例E4)実施例E4においては,図
2に示すごとく,充填工程及び触媒化処理工程を行い,
次いで,上記メッキ工程を行った後,充填剤除去工程を
行う方法により無電解メッキを施した。このように充填
剤除去工程をメッキ工程の後に行う方法を,本例では
「後抜き法」という。
Example E4 In Example E4, as shown in FIG. 2, a filling step and a catalyzing step were performed.
Next, after performing the above-described plating step, electroless plating was performed by a method of performing a filler removing step. The method in which the filler removing step is performed after the plating step in this manner is referred to as a “post punching method” in this example.

【0037】実施例E4における工程を図2を用いてさ
らに具体的に説明する。まず,充填工程においては,基
本的に実施例E1と同様に行い,パラフィンの加熱温度
だけは実施例E2と同様に110℃とした。これによ
り,図2(a)に示すごとく,多孔体1の細孔10内に
パラフィンよりなる充填剤2を充填させた。
The steps in Example E4 will be described more specifically with reference to FIG. First, the filling step was performed basically in the same manner as in Example E1, and only the heating temperature of paraffin was 110 ° C. as in Example E2. As a result, as shown in FIG. 2A, the pores 10 of the porous body 1 were filled with the filler 2 made of paraffin.

【0038】次に,触媒化処理工程は,実施例E1と同
様に行った。これにより,これにより,図2(b)に示
すごとく,多孔体1の表面にPdよりなる触媒微粒子3
を析出させた。次に,充填剤除去工程を行う前に,メッ
キ工程を行った。メッキ工程の処理条件は実施例E1と
同様とした。これにより,これにより図2(c)に示す
ごとく,細孔10内の充填剤2はそのまま残存させたま
ま,多孔体1の表面にメッキ膜4が形成された。
Next, the catalyzing step was performed in the same manner as in Example E1. As a result, as shown in FIG. 2B, the fine catalyst particles 3 made of Pd are
Was precipitated. Next, a plating step was performed before the filler removing step. The processing conditions in the plating step were the same as in Example E1. As a result, as shown in FIG. 2C, the plating film 4 was formed on the surface of the porous body 1 while the filler 2 in the pores 10 was left as it was.

【0039】次に,温度500℃に4時間保持する熱処
理工程を行った。これが,本実施例では充填剤除去工程
となる。これにより,図2(d)に示すごとく,細孔1
0内に残存していた充填剤2を焼失させることができ
た。そして,同図に示すごとく,表面のみにメッキ膜4
が形成された多孔体1が得られた。
Next, a heat treatment step of maintaining the temperature at 500 ° C. for 4 hours was performed. This is the filler removal step in this embodiment. As a result, as shown in FIG.
Filler 2 remaining in 0 could be burned off. Then, as shown in FIG.
Was obtained.

【0040】(実施例E5)本実施例E5においては,
上記の前抜き法に加えて,マスク工程及びマスク除去工
程(マスク法)を行った。具体的には,図3(a)に示
すごとく,充填工程を行う前にマスク工程を行った。マ
スキング材5としては,水溶性のバインダーであるメチ
ルセルロースを用いた。即ち,このバインダーを水に溶
解したものを,ハニカムセル内および外壁に注入塗布
し,これにより,その表面をマスキング材5により覆っ
た。このとき,ハニカムの外周表面および端面はマスキ
ング材5により覆われないようにした。
(Embodiment E5) In this embodiment E5,
A masking step and a mask removing step (masking method) were performed in addition to the above pre-cutting method. Specifically, as shown in FIG. 3A, a mask step was performed before the filling step. As the masking material 5, methyl cellulose as a water-soluble binder was used. That is, a solution obtained by dissolving the binder in water was injected and applied to the inside and the outer wall of the honeycomb cell, whereby the surface was covered with the masking material 5. At this time, the outer peripheral surface and the end surface of the honeycomb were not covered with the masking material 5.

【0041】次に,実施例E1(E2)と同様に充填工
程を行った。なお,パラフィンの加熱温度は,実施例E
2と同様に110℃とした。これにより,図3(b)に
示すごとく,多孔体1の細孔10内にパラフィンよりな
る充填剤2を充填させた。なお,このときの充填剤2の
細孔10内への浸入は,外周表面および端面からの経路
を通って行われ,上記マスキング材5の存在にかかわら
ず,十分な充填が実施される。
Next, a filling step was performed in the same manner as in Example E1 (E2). The heating temperature of the paraffin was determined in Example E.
110 ° C. in the same manner as in Example 2. As a result, as shown in FIG. 3B, the pores 10 of the porous body 1 were filled with the filler 2 made of paraffin. In this case, the infiltration of the filler 2 into the pores 10 is performed through the path from the outer peripheral surface and the end face, and sufficient filling is performed regardless of the presence of the masking material 5.

【0042】次に,触媒化処理工程を行う前に,マスク
除去工程を行った。具体的には,マスキング材5が水溶
性であるので,水洗によりこれを除去した。これによ
り,図3(c)に示すごとく,多孔体1の表面を覆って
いたマスクキング材5がきれいに除去された。
Next, a mask removing step was performed before the catalyzing step was performed. Specifically, since the masking material 5 is water-soluble, it was removed by washing with water. Thus, as shown in FIG. 3C, the masking material 5 covering the surface of the porous body 1 was removed cleanly.

【0043】次に,実施例E1と同様に触媒化処理工程
を行った。条件は実施例E1と同様とした。これによ
り,図3(d)に示すごとく,多孔体1の表面にPdよ
りなる触媒微粒子3を析出させた。次に,充填剤除去工
程も実施例E1と同様に行った。これにより図3(e)
に示すごとく,大部分の充填剤2は除去された。
Next, a catalyzing treatment step was performed in the same manner as in Example E1. The conditions were the same as in Example E1. As a result, as shown in FIG. 3D, catalyst fine particles 3 made of Pd were deposited on the surface of the porous body 1. Next, a filler removing step was performed in the same manner as in Example E1. As a result, FIG.
Most of the filler 2 was removed as shown in FIG.

【0044】次に,メッキ工程も実施例E1と同様に行
った。これにより,図3(f)に示すごとく,多孔体1
の表面にはNiメッキ膜4が形成された。次に,実施例
E1と同様に,温度500℃に4時間保持する熱処理工
程を行った。これにより,図3(g)に示すごとく,細
孔10内にわずかに残存していた充填剤2を焼失させ
た。
Next, a plating step was performed in the same manner as in Example E1. As a result, as shown in FIG.
A Ni plating film 4 was formed on the surface of. Next, as in Example E1, a heat treatment step of maintaining the temperature at 500 ° C. for 4 hours was performed. As a result, as shown in FIG. 3 (g), the filler 2 slightly remaining in the pores 10 was burned off.

【0045】(比較例C1)本比較例C1は,無電解メ
ッキ方法の各工程そのものは本発明範囲内のものである
が,充填剤2が特にパラフィンである場合の加熱温度を
70℃まで低くした比較例である。その他は実施例E1
と同様にした。本比較例C1により得られたものは,多
孔体1の表面にもほとんどメッキ膜が形成されていない
ものであった(図示略)。
Comparative Example C1 In Comparative Example C1, the respective steps of the electroless plating method were within the scope of the present invention, but the heating temperature when the filler 2 was particularly paraffin was lowered to 70 ° C. This is a comparative example. Others are Example E1
Same as. The one obtained by the present comparative example C1 had almost no plating film formed on the surface of the porous body 1 (not shown).

【0046】(比較例C2)本比較例C2は,実施例E
1における,充填工程,充填剤除去工程を省略したもの
である。本比較例C2により得られたものは,多孔体の
表面だけでなく,細孔10の内面にもメッキ膜が形成さ
れたものであった。
(Comparative Example C2) This Comparative Example C2 is a comparative example of Example E.
1 omits a filling step and a filler removing step. In the one obtained in Comparative Example C2, the plating film was formed not only on the surface of the porous body but also on the inner surface of the pores 10.

【0047】(メッキ付着率の測定)次に,本例におい
ては,上記5つの実施例と2つの比較例により得られた
多孔体に対して,メッキ付着率の測定を行った。具体的
には,多孔体1に無電解メッキ処理を施す前後の重量差
をメッキ付着量とし,これを多孔体1の無電解メッキ処
理前の重量で割った値をメッキ付着率とした。
(Measurement of Plating Adhesion Rate) Next, in this example, the plating adhesion rate was measured for the porous bodies obtained by the above five examples and two comparative examples. Specifically, the difference between the weight before and after the electroless plating was applied to the porous body 1 was defined as the amount of plating, and the value obtained by dividing the weight by the weight of the porous body 1 before the electroless plating was defined as the plating adhesion rate.

【0048】測定結果を表1及び図4に示す。図4は,
実施例E1〜E3と比較例C1のみを示したものであ
り,横軸にパラフィンの温度(℃)を,縦軸にメッキ付
着率(wt%)と後述する電気抵抗値(Ω)をとったも
のである。
The measurement results are shown in Table 1 and FIG. FIG.
This shows only Examples E1 to E3 and Comparative Example C1, in which the horizontal axis represents the temperature of paraffin (° C.), and the vertical axis represents the plating adhesion rate (wt%) and the electric resistance value (Ω) described later. Things.

【0049】表1及び図4より知られるごとく,実施例
E1〜E3と比較例C1との比較から,充填剤2として
パラフィンを用いた場合には,この充填工程における加
熱温度の上昇と共にメッキ付着率が上昇することが分か
る。そして,パラフィンの融点より20℃以上高い90
℃以上の場合にはほぼ良好なメッキ付着率が得られるこ
とが分かった。また,実施例E2と実施例E4との比較
から,上記の前抜き法と後抜き法の違いによるメッキ付
着率への影響は小さいことがわかる。比較例C2は,細
孔10内においてもメッキ膜が形成されたことにより,
非常に高いメッキ付着率が示された。
As can be seen from Table 1 and FIG. 4, from the comparison between Examples E1 to E3 and Comparative Example C1, when paraffin was used as the filler 2, the plating temperature increased as the heating temperature increased in this filling step. It can be seen that the rate increases. And 90 ° C. higher than the melting point of paraffin.
It was found that when the temperature was higher than or equal to ° C., an almost satisfactory plating adhesion rate was obtained. Also, from the comparison between Example E2 and Example E4, it is understood that the difference between the above-described pre-punching method and the post-punching method has little effect on the plating adhesion rate. In Comparative Example C2, the plating film was formed even in the pores 10,
Very high plating adhesion was shown.

【0050】(電気抵抗値の測定)次に,本例において
は,上記5つの実施例と2つの比較例により得られた多
孔体に対して,電気抵抗値の測定を行った。具体的に
は,テスターを用い,二端子法により,同一セルの両端
部間の電気抵抗値を測定した。測定結果を表1及び図4
に示す。
(Measurement of Electric Resistance Value) Next, in the present example, the electric resistance value was measured for the porous bodies obtained in the above five examples and two comparative examples. Specifically, the electric resistance between both ends of the same cell was measured by a two-terminal method using a tester. Table 1 and FIG. 4 show the measurement results.
Shown in

【0051】表1及び図4より知られるごとく,実施例
E1〜E3と比較例C1との比較から,融点付近でパラ
フィンを充填した場合,パラフィンが表面をも覆ってし
まうため,メッキ付着率が著しく低くなることが分かっ
た。したがって,パラフィン充填は,融点より20℃以
上高い温度,この場合であると90℃以上の温度で行う
ことが好ましいことが分かった。
As can be seen from Table 1 and FIG. 4, a comparison between Examples E1 to E3 and Comparative Example C1 shows that when paraffin is filled near the melting point, the paraffin covers the surface as well, and the plating adhesion rate is low. It was found to be significantly lower. Therefore, it was found that the paraffin filling is preferably performed at a temperature higher than the melting point by 20 ° C. or more, in this case, at a temperature of 90 ° C. or more.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】[0053]

【発明の効果】上述のごとく,本発明によれば,細孔を
多数有する多孔体の表面のみにメッキ膜を容易に形成す
ることができる無電解メッキ方法を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide an electroless plating method capable of easily forming a plating film only on the surface of a porous body having many pores.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態例における,実施例E1の処理工程を
示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing the processing steps of Example E1 in the embodiment.

【図2】実施形態例における,実施例E4の処理工程を
示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory view showing a processing step of Example E4 in the embodiment.

【図3】実施形態例における,実施例E5の処理工程を
示す説明図。
FIG. 3 is an explanatory view showing a processing step of Example E5 in the embodiment.

【図4】実施形態例における,パラフィン温度とメッキ
付着率及び電気抵抗値との関係を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship between a paraffin temperature, a plating adhesion rate, and an electric resistance value in the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1...多孔体, 10...細孔, 2...充填剤, 3...触媒微粒子, 4...メッキ膜, 5...マスキング材, 1. . . 9. porous body, . . Pores, 2. . . Filler, 3. . . Catalyst fine particles, 4. . . 4. plating film; . . Masking material,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C04B 41/88 C04B 41/88 S C23C 18/20 C23C 18/20 Z (72)発明者 魚島 凡子 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 神谷 信雄 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 神取 利男 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 Fターム(参考) 4D058 JA32 JB06 JB28 SA08 4G069 AA08 BA13A BA13B BB02A BB02B BC22A BC22B BC32A BC33A BC72A BC72B BC75A CD10 EB19 FA03 FB14 FB17 FB19 FB20 4K022 AA04 AA37 BA14 BA16 BA35 CA05 CA06 CA07 CA08 CA18 CA20 CA21 DA01 EA01 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C04B 41/88 C04B 41/88 S C23C 18/20 C23C 18/20 Z (72) Inventor Noriko Uojima Aichi No. 41, Toyota Chuo Research Institute, Nagakute-machi, Aichi-gun, Toyoda Central Research Institute Co., Ltd. (72) Inventor Nobuo Kamiya 41, Toyota Chuo Research Institute, Inc. Inventor Toshio Jintori 41-cho, Chuchu-ji, Yokomichi, Nagakute-cho, Aichi-gun, Aichi Prefecture F-term in Toyota Central R & D Laboratories Co., Ltd. FA03 FB14 FB17 FB19 FB20 4K022 AA04 AA37 BA14 BA16 BA35 CA05 CA06 CA07 CA08 CA18 CA20 CA21 DA01 EA01

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数の細孔を有する多孔体の表面に無電
解メッキを施す方法であって,融点以上に加熱して液状
化した充填剤を上記多孔体の上記細孔内に充填する充填
工程と,上記充填剤を凝固させた後,上記多孔体の表面
に感応化処理及び活性化処理を施す触媒化処理工程とを
行い,次いで,上記細孔内に充填していた上記充填剤を
除去する充填剤除去工程を行った後,上記多孔体をメッ
キ浴に浸漬してその表面にメッキ膜を形成するメッキ工
程を行うことを特徴とする多孔体表面への無電解メッキ
方法。
1. A method for applying electroless plating to a surface of a porous body having a large number of pores, wherein a filler liquefied by heating to a temperature higher than the melting point is filled in the pores of the porous body. And a catalyzing step of subjecting the surface of the porous body to a sensitization treatment and an activation treatment after solidifying the filler, and then removing the filler filled in the pores. An electroless plating method for a surface of a porous body, which comprises a step of immersing the porous body in a plating bath and forming a plating film on the surface after performing a filler removing step of removing the filler.
【請求項2】 多数の細孔を有する多孔体の表面に無電
解メッキを施す方法であって,融点以上に加熱して液状
化した充填剤を上記多孔体の上記細孔内に充填する充填
工程と,上記充填剤を凝固させた後,上記多孔体の表面
に感応化処理及び活性化処理を施す触媒化処理工程とを
行い,次いで,上記多孔体をメッキ浴に浸漬してその表
面にメッキ膜を形成するメッキ工程を行った後,上記細
孔内に充填していた上記充填剤を除去する充填剤除去工
程を行うことを特徴とする多孔体表面への無電解メッキ
方法。
2. A method for performing electroless plating on a surface of a porous body having a large number of pores, wherein a filler liquefied by heating to a temperature higher than the melting point is filled in the pores of the porous body. And a catalyzing step of subjecting the surface of the porous body to a sensitizing treatment and an activating treatment after solidifying the filler, and then immersing the porous body in a plating bath so as to cover the surface of the porous body. An electroless plating method for a porous body surface, comprising: performing a plating step of forming a plating film; and then performing a filler removing step of removing the filler filling the pores.
【請求項3】 請求項1又は2において,上記充填工程
を行う前に,上記多孔体の表面に上記細孔内に浸入しな
い粘度を有するマスキング材を塗布するマスク工程を行
い,次いで上記充填工程を行った後,上記マスキング材
を除去するマスク除去工程を行うことを特徴とする多孔
体表面への無電解メッキ方法。
3. The masking step according to claim 1, wherein a masking step of applying a masking material having a viscosity that does not penetrate into the pores is performed on the surface of the porous body before performing the filling step. Performing a step of removing a mask for removing the masking material after the step (a).
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項において,
上記充填剤は,その融点が50〜300℃の範囲内にあ
ることを特徴とする多孔体表面への無電解メッキ方法。
4. The method according to claim 1, wherein:
A method for electroless plating a porous material surface, wherein the filler has a melting point in the range of 50 to 300 ° C.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項において,
上記充填剤はパラフィンであることを特徴とする多孔体
表面への無電解メッキ方法。
5. The method according to claim 1, wherein:
A method for electrolessly plating a porous body surface, wherein the filler is paraffin.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項において,
上記充填工程は,上記充填剤の融点より20℃以上高い
温度に加熱して液状化した上記充填剤の浴に上記多孔体
を浸漬し,次いで,これを上記充填剤の浴から引き上げ
て余分に付着した充填剤を滴下させて除去することによ
り行うことを特徴とする多孔体表面への無電解メッキ方
法。
6. The method according to claim 1, wherein:
In the filling step, the porous body is immersed in a bath of the filler liquefied by heating to a temperature higher than the melting point of the filler by 20 ° C. or more, and then the porous body is pulled out of the bath of the filler and extraly added. An electroless plating method on a surface of a porous body, which is performed by dropping and removing an attached filler.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項において,
上記多孔体は,多数の細孔を有する隔壁をハニカム状に
設けたハニカム構造体であることを特徴とする多孔体表
面への無電解メッキ方法。
7. The method according to claim 1, wherein:
An electroless plating method on a surface of a porous body, wherein the porous body is a honeycomb structure in which partition walls having a large number of pores are provided in a honeycomb shape.
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