JP2001125508A - Method of producing electro-optic device - Google Patents

Method of producing electro-optic device

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JP2001125508A
JP2001125508A JP30766899A JP30766899A JP2001125508A JP 2001125508 A JP2001125508 A JP 2001125508A JP 30766899 A JP30766899 A JP 30766899A JP 30766899 A JP30766899 A JP 30766899A JP 2001125508 A JP2001125508 A JP 2001125508A
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overhang
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of producing an electro-optical device by which electrolytic corrosion of wires on an extended part of a substrate can be completely prevented. SOLUTION: The electro-optic device 1 produced by this method is equipped with a pair of substrates 4a, 4b laminated by a sealing material 7, each substrate having an extended part 4c, 4d where wires 15a, 15b are formed, respectively. The method includes a process of sticking polarizing plates 6a, 6b to the surfaces of the substrates 4a, 4b, and a process of applying silicon molds 29a, 29b to cover the wires 15a, 15b on the surfaces of the extended parts 4c, 4d, respectively. The process of applying the silicon molds 29a, 29b is carried out prior to the sticking process of polarizing plates. Thereby, contaminant is prevented from remaining on the wires 15a, 15b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、互いに対向配置す
る一対の基板を備える電気光学装置を製造するための製
造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device having a pair of substrates arranged to face each other.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気光学装置と一例としての液晶装置
は、一般に、一対の基板間に液晶を封入した構造の液晶
パネルに、バックライト等といった照明装置や、液晶駆
動用IC等といった付帯機器を付設することによって形
成される。また、液晶パネルは、一般に、第1電極が形
成された第1基板と第2電極が形成された第2基板とを
シール材によって互いに貼り合わせ、それらの基板間に
形成される間隙、いわゆるセルギャップ内に液晶を封入
することによって形成される。
2. Description of the Related Art A liquid crystal device as an example of an electro-optical device generally includes a liquid crystal panel having a structure in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates, a lighting device such as a backlight, and ancillary equipment such as a liquid crystal driving IC. It is formed by attaching. In general, a liquid crystal panel is configured such that a first substrate on which a first electrode is formed and a second substrate on which a second electrode is formed are bonded to each other with a sealant, and a gap formed between the substrates, a so-called cell It is formed by enclosing liquid crystal in the gap.

【0003】液晶駆動用IC等を液晶パネルに付設する
ための方法としては、液晶パネルを構成する一対の基板
の一方又は双方に相手側基板の外側へ張り出す基板張出
し部を形成し、上記液晶パネル内部の第1電極及び第2
電極につながる配線をその基板張出し部の表面に形成
し、この配線に液晶駆動用ICを接続するのが一般的で
ある。
As a method for attaching a liquid crystal driving IC or the like to a liquid crystal panel, a substrate overhanging portion is formed on one or both of a pair of substrates constituting the liquid crystal panel so as to protrude outside a counterpart substrate. First and second electrodes inside the panel
Generally, a wiring connected to the electrode is formed on the surface of the overhang portion of the substrate, and a liquid crystal driving IC is connected to the wiring.

【0004】そして、そのような液晶駆動用ICの接続
方法として、従来、COG(Chip On Glass)方式、C
OB(Chip On Board)方式、COF(Chip On FPC(Fl
exible Printed Circuit))方式等といった各種の方式
が知られている。
As a method of connecting such a liquid crystal driving IC, a COG (Chip On Glass) method, a C
OB (Chip On Board) method, COF (Chip On FPC (Fl
Various methods such as an exible printed circuit)) method are known.

【0005】COG方式は、基板張出し部の表面に液晶
駆動用ICを直接に接続、すなわち実装する実装方式で
ある。また、COB方式は、液晶駆動用ICをガラスエ
ポキシ基板等といった非可撓性基板上に実装した上でそ
の非可撓性基板をヒートシール等といった外部基板によ
って基板張出し部に接続する実装方式である。
The COG method is a mounting method in which a liquid crystal driving IC is directly connected to, ie, mounted on, the surface of a substrate overhang. The COB method is a mounting method in which a liquid crystal driving IC is mounted on a non-flexible substrate such as a glass epoxy substrate, and the non-flexible substrate is connected to a substrate overhang portion by an external substrate such as a heat seal. is there.

【0006】COF方式は、FPC(Flexible Printed
Circuit)すなわち可撓性基板上に液晶駆動用ICを実
装した上で、そのFPCを基板張出し部に接続する実装
方式である。例えば、TAB(Tape Automated bondin
g:テープ自動化実装)の技術を用いてFPC上にIC
チップを実装することによって形成されるTCP(Tape
Carrier Package)等がCOF方式の一例として考えら
れる。
[0006] The COF method is an FPC (Flexible Printed).
Circuit), that is, a mounting method in which a liquid crystal driving IC is mounted on a flexible substrate, and the FPC is connected to a substrate overhang. For example, TAB (Tape Automated bondin
g: Automated tape mounting) technology on FPC using technology
TCP (Tape) formed by mounting a chip
Carrier Package) is considered as an example of the COF method.

【0007】上記のように基板張出し部を有する電気光
学装置に関しては、その基板張出し部の表面に形成され
た配線に電食、すなわちコロージョンが発生することを
防止する必要があり、そのため、従来から、シリコンモ
ールド等といった保護剤を基板張出し部の表面に付着、
例えば塗布して配線を被覆するという措置が採られてい
る。なお、電食とは、配線に異常な電流が流れることに
よってその配線が腐食して損耗することであり、例え
ば、配線に汚れが付着した状態で通電が行われたり、配
線が外気に触れている状態で通電が行われること等に起
因して発生する。
With respect to the electro-optical device having the substrate overhang as described above, it is necessary to prevent the occurrence of electrolytic corrosion, that is, corrosion, on the wiring formed on the surface of the substrate overhang. , A protective agent such as a silicone mold adheres to the surface of the substrate overhang,
For example, measures have been taken to coat the wiring by coating. In addition, the electrolytic corrosion means that the wiring is corroded and worn by an abnormal current flowing through the wiring.For example, the wiring is energized in a state where the wiring is dirty, or the wiring is exposed to the outside air. This occurs due to the fact that power is supplied while the power is on.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
上記のように基板張出し部上の配線を保護剤で覆った場
合でも、配線の電食を完全に防止することができなかっ
た。本発明者の実験によれば、次のことがそのことに関
する大きな原因であると考えられる。
However, conventionally,
Even when the wiring on the substrate overhang is covered with the protective agent as described above, the electrolytic corrosion of the wiring cannot be completely prevented. According to experiments performed by the inventor, the following is considered to be a major cause for this.

【0009】すなわち、一対の基板によって液晶を挟持
するパネル構造、すなわち液晶パネルには、偏光板、位
相差板、光拡散板等といった各種の光学部材が装着、例
えば貼着される。そしてその装着作業の際には基板張出
し部の表面に汚れが付着し易い。特に、光学部材を液晶
パネルに装着する際には、液晶パネルの表面を洗浄液に
よって拭き洗浄することが多いが、その洗浄作業時に基
板張出し部の表面に汚れが残ることがある。
That is, various optical members such as a polarizing plate, a retardation plate, and a light diffusing plate are attached to, for example, adhered to a panel structure in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, that is, a liquid crystal panel. Then, during the mounting operation, dirt easily adheres to the surface of the substrate overhang portion. In particular, when the optical member is mounted on the liquid crystal panel, the surface of the liquid crystal panel is often wiped and cleaned with a cleaning liquid. However, during the cleaning operation, dirt may remain on the surface of the substrate overhang.

【0010】また特に、図8に示すような構造、すなわ
ち、基板張出し部54cを有する基板54aの相手側の
基板54bがシール材57の外側へ張り出す延出部54
eを有する構造の液晶パネル50に関しては、液晶パネ
ル50の表面を洗浄液によって拭き洗浄するときに、洗
浄液の溶剤と共に汚れが基板張出し部54c、シール材
57及び延出部54eによって囲まれる凹部52に侵入
してそこに残留し易く、その状態で基板張出し部54c
の表面に保護剤が供給されると、上記凹部52に存在す
る電極55上に汚れが残ったままになり易い。
[0010] In particular, the structure shown in FIG. 8, that is, the extending portion 54 in which the substrate 54 b on the other side of the substrate 54 a having the substrate extending portion 54 c projects outside the sealing material 57.
e, when the surface of the liquid crystal panel 50 is cleaned by wiping with a cleaning liquid, dirt and solvent of the cleaning liquid are transferred to the concave portion 52 surrounded by the substrate overhang portion 54c, the sealing material 57, and the extension portion 54e. It easily penetrates and remains there, and in this state, the substrate overhang 54c
When the protective agent is supplied to the surface of the electrode 55, dirt tends to remain on the electrode 55 existing in the concave portion 52.

【0011】このように、従来の電気光学装置の製造方
法では、電食防止のために基板張出し部の表面に保護剤
を付着する処理は、電気光学装置のパネルに偏光板等と
いった光学部材を装着した後に行っていた。この場合、
電気光学装置のパネルに光学部材を装着するときには、
上記の通り基板張出し部の表面に汚れが付着し易く、そ
の後に保護剤を基板張出し部上に付着させると、汚れが
基板張出し部上に残ってしまい、このことが電食を発生
させることの大きな原因であると考えられる。
As described above, in the conventional method of manufacturing an electro-optical device, the process of attaching a protective agent to the surface of the substrate overhang to prevent electrolytic corrosion involves applying an optical member such as a polarizing plate to a panel of the electro-optical device. I went after wearing it. in this case,
When attaching an optical member to the panel of the electro-optical device,
As described above, dirt easily adheres to the surface of the substrate overhang, and if a protective agent is subsequently applied onto the substrate overhang, dirt remains on the substrate overhang, which may cause electrolytic corrosion. It is considered to be a major cause.

【0012】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、基板張出し部上の配線の電食をほぼ完全
に防止できる電気光学装置の製造方法を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a method of manufacturing an electro-optical device capable of almost completely preventing electrolytic corrosion of wiring on a substrate overhang. I do.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】(1) 上記の目的を達
成するため、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、
互いに貼り合わされた一対の基板を備え、少なくとも一
方の基板が相手側基板の外側へ張り出す基板張出し部を
有し、該基板張出し部の表面上には配線が形成される電
気光学装置を製造するための製造方法において、前記一
対の基板の少なくとも一方の表面上に光学部材を装着す
る光学部材装着工程と、前記基板張出し部の表面上に前
記配線を覆うように保護剤を設ける保護剤付着工程とを
有し、該保護剤付着工程は前記光学部材装着工程の前に
行うことを特徴とする。
(1) In order to achieve the above object, a method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention comprises:
Manufacturing an electro-optical device including a pair of substrates bonded to each other, at least one of the substrates having a substrate overhanging portion overhanging to the outside of a counterpart substrate, and wiring being formed on a surface of the substrate overhanging portion. An optical member mounting step of mounting an optical member on at least one surface of the pair of substrates, and a protective agent attaching step of providing a protective agent on the surface of the substrate overhang to cover the wiring. And the protective agent attaching step is performed before the optical member attaching step.

【0014】上記光学部材は、一対の基板によって液晶
を挟持するパネル構造に装着される各種の要素のことで
あり、例えば、偏光板、位相差板、光拡散板等が考えら
れる。これらの要素を基板の表面に装着させるときに
は、基板張出し部の表面に汚れが着き易いのであるが、
本発明では、この光学部材装着工程の際には既に保護剤
付着工程が実施されていて、基板張出し部上の配線は保
護剤によって覆われている。
The above-mentioned optical members are various elements mounted on a panel structure in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, and examples thereof include a polarizing plate, a retardation plate, and a light diffusion plate. When these elements are mounted on the surface of the substrate, the surface of the substrate overhang is likely to get dirty.
In the present invention, the protective agent attaching step has already been performed at the time of this optical member mounting step, and the wiring on the substrate overhang is covered with the protective agent.

【0015】従って、仮に偏光板等といった光学部材を
電気光学装置のパネルの基板に貼り付ける際に基板張出
し部上に汚れが付着したとしても、その汚れは保護剤の
存在によって配線には直接に触れることがなく、それ
故、配線に電食が発生することをほぼ完全に防止でき
る。
Therefore, even if an optical member such as a polarizing plate is attached to the substrate of the panel of the electro-optical device, even if dirt adheres to the overhang portion of the substrate, the dirt is directly applied to the wiring due to the presence of the protective agent. Therefore, the occurrence of electrolytic corrosion in the wiring can be almost completely prevented.

【0016】(2) 上記(1)項記載の電気光学装置
の製造方法において、前記光学部材装着工程は、前記光
学部材を装着する面を洗浄する洗浄処理を含む場合が考
えられる。このような洗浄処理は、例えば溶剤を含む洗
浄液を用いて該当表面を拭き洗浄することによって行わ
れる。
(2) In the method of manufacturing an electro-optical device according to the above (1), the optical member mounting step may include a cleaning process of cleaning a surface on which the optical member is mounted. Such a cleaning process is performed, for example, by wiping and cleaning the surface using a cleaning solution containing a solvent.

【0017】このような洗浄処理の際には、溶剤に含ま
れる汚れが基板張出し部の表面に残り易いのであるが、
このような洗浄処理を含む光学部材装着工程を本発明に
従って保護剤付着工程の後に行うようにすれば、その基
板張出し部上の配線に汚れが直接に触れることを確実に
防止できる。
In such a cleaning process, the dirt contained in the solvent tends to remain on the surface of the substrate overhang portion.
If the optical member mounting step including such a cleaning process is performed after the protective agent attaching step according to the present invention, it is possible to reliably prevent dirt from directly touching the wiring on the substrate overhang.

【0018】(3) 上記(1)項又は(2)項記載の
電気光学装置の製造方法において、前記基板張出し部の
表面を洗浄する洗浄工程を前記保護剤付着工程の前に設
けることが望ましい。こうすれば、保護剤を付着させる
前に基板張出し部の表面から汚れを除去できる。
(3) In the method of manufacturing an electro-optical device according to the above mode (1) or (2), it is preferable that a cleaning step of cleaning a surface of the substrate overhang is provided before the protective agent attaching step. . This makes it possible to remove dirt from the surface of the substrate overhang before attaching the protective agent.

【0019】(4) 上記(3)項記載の電気光学装置
の製造方法において、前記洗浄工程は洗浄液を貯留した
洗浄槽、望ましくは超音波洗浄槽に前記基板張出し部の
表面を浸漬することによって行われることが望ましい。
洗浄工程はこのような具体的な処理方法に限定されるわ
けではないが、上記のような浸漬方法を採用すれば、保
護剤を付着させる前に基板張出し部の表面から効率良く
汚れを除去できる。
(4) In the method of manufacturing an electro-optical device according to the above (3), the cleaning step is performed by immersing the surface of the substrate overhang portion in a cleaning tank storing a cleaning liquid, preferably an ultrasonic cleaning tank. It is desirable that this be done.
Although the cleaning step is not limited to such a specific processing method, if the immersion method as described above is adopted, dirt can be efficiently removed from the surface of the substrate overhang before the protective agent is applied. .

【0020】(5) 上記(4)項記載の電気光学装置
の製造方法において、前記洗浄液としては純水を用いる
ことができる。洗浄液としては、この他にも種々の性質
のもの、例えば、基板張出し部の表面に汚れを粘着させ
ている粘着物質を分解できる性質の溶剤を洗浄液として
用いることも可能である。しかしながら、洗浄液として
純水を用いる場合には、実用上十分な洗浄能力を確保し
た上で環境を汚染することなく作業を行うことができ
る。
(5) In the method of manufacturing an electro-optical device according to the above (4), pure water can be used as the cleaning liquid. As the cleaning liquid, it is also possible to use a solvent having various properties other than the above, for example, a solvent having a property capable of decomposing an adhesive substance that adheres dirt to the surface of the substrate overhang portion. However, when pure water is used as the cleaning liquid, the operation can be performed without polluting the environment while ensuring sufficient cleaning performance for practical use.

【0021】(6) 上記(1)項又は(2)項記載の
電気光学装置の製造方法、すなわち保護剤付着工程に先
立つ洗浄工程を構成要件としない電気光学装置の製造方
法に関しては、前記基板張出し部に外部基板を接続する
外部基板実装工程及び/又は前記基板張出し部にICチ
ップを実装するIC実装工程を前記保護剤付着工程の前
に実施することができる。
(6) The method for manufacturing an electro-optical device according to the above item (1) or (2), that is, a method for manufacturing an electro-optical device that does not require a cleaning step prior to a step of attaching a protective agent, is a substrate. An external substrate mounting step of connecting an external substrate to the overhang and / or an IC mounting step of mounting an IC chip on the substrate overhang can be performed before the protective agent attaching step.

【0022】ここで、外部基板とは、適宜パターンの配
線を形成した高分子フィルムの上に熱圧着用の樹脂を被
覆して形成され、電気的且つ機械的接続機能をもつ可撓
性配線基板であるヒートシールや、TABの技術を用い
てFPC(Flexible PrintedCircuit)上にICチップ
を実装して成るTCP等が考えられる。
Here, the external substrate is a flexible wiring substrate which is formed by coating a resin for thermocompression bonding on a polymer film on which a pattern wiring is appropriately formed, and has an electrical and mechanical connection function. And a TCP formed by mounting an IC chip on an FPC (Flexible Printed Circuit) using TAB technology.

【0023】上記構成のように、電気光学装置のパネル
の基板張出し部に電食防止用の保護剤を付着する前に、
その基板張出し部にTCP等といった外部基板を前もっ
て接続しておけば、その後に行われる保護剤の付着作業
において保護剤が外部基板を接続する領域に誤って付着
してしまう等といった心配がなくなるので、作業を簡単
に実行できる。
As described above, before the protective agent for preventing electrolytic corrosion is attached to the overhang portion of the substrate of the panel of the electro-optical device,
If an external substrate such as TCP is connected in advance to the substrate overhang portion, there is no fear that the protective agent will be erroneously attached to the region where the external substrate is connected in the subsequent attaching operation of the protective agent. , Work can be performed easily.

【0024】(7) 上記(3)項、(4)項又は
(5)項記載の電気光学装置の製造方法、すなわち保護
剤付着工程に先立って洗浄工程を行うことを構成要件と
する電気光学装置の製造方法に関しては、前記基板張出
し部に外部基板を接続する外部基板実装工程及び/又は
前記基板張出し部にICチップを実装するIC実装工程
をその洗浄工程の前に実施することができる。
(7) The method of manufacturing the electro-optical device according to the above item (3), (4) or (5), that is, the electro-optic device which comprises a cleaning step prior to the step of attaching the protective agent. Regarding the method of manufacturing the device, an external substrate mounting step of connecting an external substrate to the substrate overhang and / or an IC mounting step of mounting an IC chip on the substrate overhang can be performed before the cleaning step.

【0025】上記構成のように、洗浄工程を実施する
前、従って、電気光学装置のパネルの基板張出し部に電
食防止用の保護剤を付着する前に、その基板張出し部に
TCP等といった外部基板を前もって接続しておけば、
その後に行われる保護剤の付着作業において保護剤が外
部基板を接続する領域に誤って付着してしまう等といっ
た心配がなくなるので、作業を簡単に実行できる。そし
てさらに、外部基板を基板張出し部に接続した後に、さ
らに洗浄工程を実施してからその基板張出し部に保護剤
を付着するので、汚れの残留を確実に防止できる。
As described above, before the cleaning step is performed, that is, before the protective agent for preventing electrolytic corrosion is attached to the substrate overhang portion of the panel of the electro-optical device, the substrate overhang portion such as TCP is applied to the substrate overhang portion. If you connect the board in advance,
Since there is no need to worry that the protective agent is erroneously attached to the region where the external substrate is connected in the subsequent attaching operation of the protective agent, the operation can be easily performed. Further, after the external substrate is connected to the substrate overhanging portion, a cleaning step is further performed, and then the protective agent is attached to the substrate overhanging portion, so that the contamination can be reliably prevented from remaining.

【0026】(8) 電気光学装置の種類によっては、
図2(a)に示すように、基板張出し部4cを有する基
板4aに対向する相手側基板4bが互いの基板を貼り合
わせるシール材7の外側へ張り出す延出部4eを有する
ことがある。このような液晶装置に関しては、保護剤2
9aは、延出部4e、基板張出し部4c及びシール材7
によって囲まれる凹部32aにも充填することが望まし
い。
(8) Depending on the type of the electro-optical device,
As shown in FIG. 2 (a), the opposing substrate 4b facing the substrate 4a having the substrate overhang 4c may have an extension 4e extending outside the sealing material 7 for bonding the substrates together. For such a liquid crystal device, the protective agent 2
9a is an extension 4e, a substrate overhang 4c and a sealing material 7
It is desirable to fill also the recess 32a surrounded by.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る電気光学装
置の製造方法について、電気光学装置の一例である液晶
装置を用いて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention will be described using a liquid crystal device as an example of the electro-optical device.

【0028】まず、本発明に係る液晶装置の製造方法を
説明するのに先立って、その製造方法を用いて製造され
る液晶装置について説明する。
First, prior to describing a method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, a liquid crystal device manufactured using the method will be described.

【0029】図1はその液晶装置の一実施形態を示して
いる。ここに示す液晶装置1は、液晶パネル2に液晶駆
動用IC3a及び外部基板としてのTCP5を接続、す
なわち実装することによって形成される。また、液晶パ
ネル2の一方の面には、必要に応じて、バックライト等
といった照明装置や光反射板(いずれも、図示せず)等
が設けられる。
FIG. 1 shows an embodiment of the liquid crystal device. The liquid crystal device 1 shown here is formed by connecting, that is, mounting a liquid crystal driving IC 3a and a TCP 5 as an external substrate to a liquid crystal panel 2. In addition, on one surface of the liquid crystal panel 2, an illuminating device such as a backlight, a light reflecting plate (neither is shown), or the like is provided as necessary.

【0030】液晶パネル2は、互いに対向する一対の基
板4a及び4bを有し、これらの基板はシール材7によ
ってそれらの周囲が互いに接着される。これらの基板4
a及び4bは、例えばガラス等といった硬質な光透過性
材料や、プラスチック等といった可撓性を有する光透過
性材料等によって形成された基板素材に電極その他の必
要要素を形成することによって作製される。
The liquid crystal panel 2 has a pair of substrates 4a and 4b facing each other, and these substrates are adhered to each other by a sealing material 7. These substrates 4
a and 4b are manufactured by forming electrodes and other necessary elements on a substrate material formed of a hard light-transmitting material such as glass or a flexible light-transmitting material such as plastic. .

【0031】図2(a)において、第1基板4aの基板
素材8aの液晶側表面、すなわち第2基板4bに対向す
る面には、例えばコモン電極として作用する第1電極9
aが所定のパターンに形成され、その上にオーバーコー
ト層11aが形成され、さらにその上に配向膜12aが
形成される。また、基板素材8aの外側表面には光学部
材としての偏光板6aが貼着される。
In FIG. 2A, for example, a first electrode 9 acting as a common electrode is provided on the liquid crystal side surface of the substrate material 8a of the first substrate 4a, that is, the surface facing the second substrate 4b.
is formed in a predetermined pattern, an overcoat layer 11a is formed thereon, and an alignment film 12a is further formed thereon. Also, a polarizing plate 6a as an optical member is adhered to the outer surface of the substrate material 8a.

【0032】第1基板4aに対向する第2基板4bの基
板素材8bの液晶側表面、すなわち第1基板4aに対向
する面には、例えばセグメント電極として作用する第2
電極9bが所定のパターンに形成され、その上にオーバ
ーコート層11bが形成され、さらにその上に配向膜1
2bが形成される。また、基板素材8bの外側表面には
光学部材としての偏光板6bが貼着される。
On the liquid crystal side surface of the substrate material 8b of the second substrate 4b facing the first substrate 4a, that is, on the surface facing the first substrate 4a, for example, a second electrode acting as a segment electrode is provided.
An electrode 9b is formed in a predetermined pattern, an overcoat layer 11b is formed thereon, and an alignment film 1 is further formed thereon.
2b is formed. A polarizing plate 6b as an optical member is adhered to the outer surface of the substrate material 8b.

【0033】なお、第1基板4a及び第2基板4bの双
方又は一方に設けられる光学部材としては、偏光板6
a,6b以外に、位相差板、光拡散板等が考えられる。
また、基板素材8a,8bには、必要に応じて、その他
の光学要素、例えばカラーフィルタ等を設けることもで
きる。
The optical members provided on both or one of the first substrate 4a and the second substrate 4b include a polarizing plate 6
In addition to a and 6b, a retardation plate, a light diffusion plate and the like can be considered.
Further, the substrate materials 8a and 8b may be provided with other optical elements, for example, a color filter, if necessary.

【0034】第1電極9a及び第2電極9bは、例えば
ITO(Indium Tin Oxide)等といた透明電極によって
1000オングストローム程度の厚さに形成され、オー
バーコート層11a及び11bは、例えば酸化珪素、酸
化チタン又はそれらの混合物等によって800オングス
トローム程度の厚さに形成され、そして配向膜12a及
び12bは、例えばポリイミド系樹脂によって800オ
ングストローム程度の厚さに形成される。
The first electrode 9a and the second electrode 9b are formed to a thickness of about 1000 angstroms by a transparent electrode made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide), and the overcoat layers 11a and 11b are made of, for example, silicon oxide or oxide. The alignment films 12a and 12b are formed to a thickness of about 800 angstroms by, for example, a polyimide resin.

【0035】第1電極9aは、図1に示すように、複数
の直線パターンを互いに平行に配列することによって、
いわゆるストライプ状に形成される。一方、第2電極9
bは上記第1電極9aに交差するように複数の直線パタ
ーンを互いに平行に配列することによって、やはりスト
ライプ状に形成される。これらの電極9aと電極9bと
がドットマトリクス状に交差する複数の点が、像を表示
するための画素を形成する。そして、それら複数の画素
によって区画形成される領域が、画像や文字等といった
像を表示するための表示領域となる。
As shown in FIG. 1, the first electrode 9a is formed by arranging a plurality of linear patterns in parallel with each other.
It is formed in a so-called stripe shape. On the other hand, the second electrode 9
b is also formed in a stripe shape by arranging a plurality of linear patterns parallel to each other so as to intersect the first electrode 9a. A plurality of points where these electrodes 9a and 9b intersect in a dot matrix form pixels for displaying an image. The area defined by the plurality of pixels is a display area for displaying an image such as an image or a character.

【0036】以上のようにして形成された第1基板4a
及び第2基板4bのいずれか一方の液晶側表面には、図
2(a)に示すように、複数のスペーサ13が分散さ
れ、さらにいずれか一方の基板の液晶側表面にシール材
7が例えば印刷等によって図1に示すように枠状に設け
られる。このシール材7の一部には図1に示すように液
晶注入口7aが形成される。
The first substrate 4a formed as described above
As shown in FIG. 2A, a plurality of spacers 13 are dispersed on one of the liquid crystal side surfaces of the second substrate 4b and the sealing material 7 on the liquid crystal side surface of one of the substrates, for example. It is provided in a frame shape as shown in FIG. 1 by printing or the like. A liquid crystal injection port 7a is formed in a part of the sealing material 7 as shown in FIG.

【0037】両基板4a及び4bの間にはスペーサ13
によって保持される均一な寸法、例えば5μm程度の間
隙、いわゆるセルギャップが形成され、液晶注入口7a
を通してそのセルギャップ内に液晶14が注入され、そ
の注入の完了後、液晶注入口7aが樹脂等によって封止
される。
A spacer 13 is provided between the substrates 4a and 4b.
, A gap of about 5 μm, for example, a so-called cell gap is formed.
The liquid crystal 14 is injected into the cell gap through the through hole, and after the injection is completed, the liquid crystal injection port 7a is sealed with a resin or the like.

【0038】図1において、第1基板4aは第2基板4
bの外側へ張り出す基板張出し部4cを有し、第1基板
4a上の第1電極9aはその基板張出し部4cへ直接に
延び出て配線15aとなっている。符号20は、図示し
ない外部回路との間で電気的な接続をとるための外部接
続端子を示している。また、第2基板4bは第1基板4
aの外側へ張り出す基板張出し部4dを有し、第2基板
4b上の第2電極9bはその基板張出し部4dへ直接に
延び出て配線15bとなっている。
In FIG. 1, the first substrate 4a is the second substrate 4
The first electrode 9a on the first substrate 4a extends directly to the substrate overhang 4c to form a wiring 15a. Reference numeral 20 denotes an external connection terminal for making an electrical connection with an external circuit (not shown). Further, the second substrate 4b is the first substrate 4
The second electrode 9b on the second substrate 4b extends directly to the substrate overhang 4d to form a wiring 15b.

【0039】各電極9a及び9b、それらから延びる各
配線15a及び15b並びに外部接続端子20は、実際
には極めて狭い間隔で多数本がそれぞれの基板4a及び
4bの表面全域に形成されるが、図1及びこれから説明
する各図では構造を分かり易く示すために実際の間隔よ
りも広い間隔でそれらの電極等を模式的に図示し、さら
に一部の電極の図示は省略してある。また、液晶が封入
される領域内に形成される電極9a及び9bは、直線状
に形成されることに限られず、適宜の文字、図形等とい
ったパターンとして形成されることもある。
A large number of the electrodes 9a and 9b, the wirings 15a and 15b extending therefrom, and the external connection terminals 20 are actually formed at very narrow intervals over the entire surface of each of the substrates 4a and 4b. In FIGS. 1 and each of the drawings to be described below, the electrodes and the like are schematically illustrated at intervals wider than the actual intervals in order to clearly show the structure, and some of the electrodes are not illustrated. Further, the electrodes 9a and 9b formed in the region where the liquid crystal is sealed are not limited to being formed in a linear shape, but may be formed as a pattern such as an appropriate character or graphic.

【0040】液晶駆動用IC3aは、図2(a)に示す
ように、その能動面(図2(a)の下面)に複数の端
子、すなわちバンプ21を有する。この液晶駆動用IC
3aは、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方
性導電膜)17によって基板張出し部4c上に実装され
る。
As shown in FIG. 2A, the liquid crystal driving IC 3a has a plurality of terminals, that is, bumps 21, on its active surface (the lower surface of FIG. 2A). This liquid crystal drive IC
3a is mounted on the substrate overhang 4c by an ACF (Anisotropic Conductive Film) 17.

【0041】ACF17は、周知の通り、一対の端子間
を異方性を持たせて電気的に一括接続するために用いら
れる導電性のある高分子フィルムであって、例えば図2
(a)に示すように、熱可塑性又は熱硬化性の樹脂フィ
ルム22の中に多数の導電粒子19を分散させることに
よって形成される。
As is well known, the ACF 17 is a conductive polymer film used to electrically connect the pair of terminals together with anisotropy, for example, as shown in FIG.
As shown in (a), it is formed by dispersing a large number of conductive particles 19 in a thermoplastic or thermosetting resin film 22.

【0042】このACF17を挟んで基板張出し部4c
と液晶駆動用IC3aとを熱圧着、すなわち加熱下で加
圧することにより、液晶駆動用IC3aを基板張出し部
4cに接着すると共に、液晶駆動用IC3aのバンプ2
1と基板張出し部4c上の配線15aとの間及び液晶駆
動用IC3aのバンプ21と基板張出し部4c上の外部
接続端子20との間において単一方向の導電性を持つ接
続を実現する。
The substrate overhang 4c with the ACF 17 interposed therebetween
The liquid crystal driving IC 3a is bonded to the substrate overhang portion 4c by thermocompression bonding, that is, pressurizing under heating, and the liquid crystal driving IC 3a is pressed.
A connection having a unidirectional conductivity is realized between the substrate 1 and the wiring 15a on the substrate overhang 4c and between the bump 21 of the liquid crystal driving IC 3a and the external connection terminal 20 on the substrate overhang 4c.

【0043】図1において、TCP5はTAB技術を用
いて構成されたIC構造体であって、例えば、配線30
が形成されたFPC(Flexible Printed Circuit)31
に液晶駆動用IC3bをボンディング、例えばギャング
ボンディングして形成される。図3は図1の液晶装置1
を裏側から見た状態を示している。この図3から分かる
ように、TCP5は、配線30が第2基板4bの配線1
5bにつながるようにその第2基板4bに接続、すなわ
ち実装される。この実装も、図2(b)に示すように、
ACF17を用いて行うことができる。
In FIG. 1, TCP 5 is an IC structure formed by using TAB technology.
(Flexible Printed Circuit) 31 on which is formed
The liquid crystal driving IC 3b is formed by bonding, for example, gang bonding. FIG. 3 shows the liquid crystal device 1 of FIG.
Is seen from the back side. As can be seen from FIG. 3, the TCP 5 is a wire 30
5b, that is, connected to the second substrate 4b, that is, mounted. This implementation, as shown in FIG.
This can be performed using the ACF 17.

【0044】図1において、第1基板4aの基板張出し
部4cの表面には保護剤としてのシリコンモールド29
aが付着、例えば塗布される。このシリコンモールド2
9aは基板張出し部4c上の配線15aが外気に触れる
ことによって電食を発生することを防止するために、そ
れらの配線15aの全てを覆うように設けられるもので
ある。
In FIG. 1, a silicon mold 29 as a protective agent is provided on the surface of the substrate overhang 4c of the first substrate 4a.
a is attached, for example, is applied. This silicon mold 2
Numeral 9a is provided so as to cover all of the wirings 15a on the substrate overhanging portion 4c in order to prevent the wirings 15a from being exposed to the outside air and thereby generating electrolytic corrosion.

【0045】図2(a)に示すように、第2基板4bは
シール材7の外側へ張り出す延出部4eを有し、そのた
め、第1基板4aと第2基板4bとの間には、延出部4
e、基板張出し部4c及びシール材7によって囲まれる
凹部32aが形成される。シリコンモールド29aはこ
の凹部32aの中にも充填されて配線15aを被覆す
る。
As shown in FIG. 2 (a), the second substrate 4b has an extension 4e projecting outside the sealing material 7, so that there is a gap between the first substrate 4a and the second substrate 4b. , Extension 4
e, a recess 32a surrounded by the substrate overhang 4c and the sealing material 7 is formed. The silicon mold 29a also fills the recess 32a to cover the wiring 15a.

【0046】図3において、第2基板4bの基板張出し
部4dの表面には保護剤としてのシリコンモールド29
bが付着、例えば塗布される。このシリコンモールド2
9bは基板張出し部4d上の配線15bが外気に触れる
ことによって電食を発生することを防止するために、そ
れらの配線15bの全てを覆うように設けられるもので
ある。
In FIG. 3, a silicon mold 29 as a protective agent is provided on the surface of the substrate overhang 4d of the second substrate 4b.
b is attached, for example, applied. This silicon mold 2
Numeral 9b is provided so as to cover all of the wirings 15b on the substrate overhanging portion 4d in order to prevent the wirings 15b from being exposed to the outside air and thereby generating electrolytic corrosion.

【0047】図2(b)に示すように、第1基板4aは
シール材7の外側へ張り出す延出部4fを有し、そのた
め、第1基板4aと第2基板4bとの間には、延出部4
f、基板張出し部4d及びシール材7とによって囲まれ
る凹部32bが形成される。シリコンモールド29bは
この凹部32bの中にも充填されて配線15bを被覆す
る。
As shown in FIG. 2 (b), the first substrate 4a has an extension 4f projecting outside the sealing material 7, so that there is a gap between the first substrate 4a and the second substrate 4b. , Extension 4
f, a recess 32b surrounded by the substrate overhang 4d and the sealing material 7 is formed. The silicon mold 29b also fills the recess 32b to cover the wiring 15b.

【0048】以上のように構成された液晶装置1に関し
て、液晶駆動用IC3a及び3bによって第1電極9a
又は第2電極9bのいずれか一方に対して行ごとに走査
電圧を印加し、さらにそれらの電極の他方に対して表示
画像に基づいたデータ電圧を画素ごとに印加することに
より、両電圧の印加によって選択された各画素部分を通
過する光を変調し、もって、基板4a又は4bの外側に
文字、数字等といった像を表示する。
In the liquid crystal device 1 configured as described above, the first electrodes 9a are provided by the liquid crystal driving ICs 3a and 3b.
Alternatively, a scanning voltage is applied to one of the second electrodes 9b for each row, and a data voltage based on a display image is applied to the other of the electrodes for each pixel. Modulates the light passing through each of the selected pixel portions, thereby displaying an image such as a character or a number on the outside of the substrate 4a or 4b.

【0049】以下、上記構成から成る液晶装置1を製造
するための製造方法について、図4に示す工程図を参照
にして説明する。
Hereinafter, a manufacturing method for manufacturing the liquid crystal device 1 having the above configuration will be described with reference to the process chart shown in FIG.

【0050】まず、図5に示すように、液晶パネル2を
構成する第1基板4aの複数個分の大きさを有する大判
第1基板4a’の個々の第1基板4a部分に、第1電極
9a、配線15a及び外部接続端子20をITOを材料
として周知のパターン形成法、例えばフォトリソグラフ
ィー法によって形成する(図4の工程P1)。
First, as shown in FIG. 5, a first electrode is provided on each individual first substrate 4a of a large-sized first substrate 4a 'having a size corresponding to a plurality of first substrates 4a constituting the liquid crystal panel 2. 9a, the wiring 15a and the external connection terminal 20 are formed using ITO as a material by a known pattern formation method, for example, a photolithography method (step P1 in FIG. 4).

【0051】次に、オーバーコート層11a(図2
(a)参照)を図5の大判第1基板4a’の表面に、例
えば酸化珪素、酸化チタンを材料としてオフセット印刷
によって形成する(図4の工程P2)。そしてその上
に、例えばポリイミド系樹脂を材料としてオフセット印
刷によって配向膜12a(図2(a)参照)を形成し
(図4の工程P3)、その配向膜に配向性を持たせるた
めにラビング処理を行う(図4の工程P4)。
Next, the overcoat layer 11a (FIG. 2)
(See FIG. 4A) is formed on the surface of the large-sized first substrate 4a ′ in FIG. 5 by offset printing using, for example, silicon oxide or titanium oxide as a material (step P2 in FIG. 4). Then, an alignment film 12a (see FIG. 2A) is formed thereon by offset printing using, for example, a polyimide resin (step P3 in FIG. 4), and a rubbing process is performed to give the alignment film an orientation. (Step P4 in FIG. 4).

【0052】さらにその上に、例えばエポキシ系樹脂を
材料として例えばスクリーン印刷によってシール材7を
枠形状に形成し(図4の工程P5)、さらにスペーサ1
3(図2(a)参照)を分散する(図4の工程P6)。
これにより、図5に示すような大判の第1基板4a’が
形成される。なお、図5では、便宜上、オーバーコート
層及び配向膜の図示を省略してある。
Further, a sealing material 7 is formed in a frame shape by screen printing using, for example, an epoxy resin as a material (step P5 in FIG. 4).
3 (see FIG. 2A) is dispersed (step P6 in FIG. 4).
Thus, a large-sized first substrate 4a 'as shown in FIG. 5 is formed. In FIG. 5, illustration of the overcoat layer and the alignment film is omitted for convenience.

【0053】他方、図6に示すように、液晶パネル2を
構成する第2基板4bの複数個分の大きさを有する大判
第2基板4b’の個々の第2基板4b部分に、第2電極
9b及び配線15bをITOを材料として周知のパター
ン形成法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成
する(図4の工程P11)。
On the other hand, as shown in FIG. 6, a second electrode is provided on each second substrate 4b of a large-sized second substrate 4b 'having a size corresponding to a plurality of second substrates 4b constituting the liquid crystal panel 2. The 9b and the wiring 15b are formed using ITO as a material by a well-known pattern forming method, for example, a photolithography method (step P11 in FIG. 4).

【0054】次に、オーバーコート層11b(図2
(a)参照)を図6の大判第2基板4b’の表面に、例
えば酸化珪素、酸化チタンを材料として例えばオフセッ
ト印刷によって形成する(図4の工程P12)。そして
その上に、例えばポリイミド系樹脂を材料として例えば
オフセット印刷によって配向膜12b(図2(a)参
照)を形成し(図4の工程P13)、その配向膜に配向
性を持たせるためにラビング処理を行う(図4の工程P
14)。これにより、図6に示すような、大判の第2基
板4b’が形成される。なお、図6では、便宜上、オー
バーコート層及び配向膜の図示を省略してある。
Next, the overcoat layer 11b (FIG. 2)
(A) is formed on the surface of the large-sized second substrate 4b 'in FIG. 6 by, for example, offset printing using, for example, silicon oxide or titanium oxide as a material (step P12 in FIG. 4). Then, an alignment film 12b (see FIG. 2A) is formed thereon by, for example, offset printing using, for example, a polyimide resin (Step P13 in FIG. 4), and rubbing is performed so that the alignment film has alignment. Perform processing (Step P in FIG. 4)
14). Thus, a large-sized second substrate 4b 'as shown in FIG. 6 is formed. In FIG. 6, illustration of the overcoat layer and the alignment film is omitted for convenience.

【0055】以上により、大判第1基板4a’(図5)
及び大判第2基板4b’(図6)が作製された後、図4
の工程P21において、大判第1基板4a’と大判第2
基板4b’とをシール材7を間に挟んで重ね合わせ、さ
らに圧着すること、すなわち加熱下で加圧することによ
り、両基板を互いに貼り合わせる。この貼り合わせによ
り、液晶パネル2を複数個含む大きさの大判パネル構造
が形成される。なお、この貼り合わせに際しては、図5
の大判第1基板4a’又は図6の大判第2基板4b’の
いずれか一方を図示の状態から裏返した状態で相手側の
大判基板と貼り合わせる。
As described above, the large-format first substrate 4a '(FIG. 5)
After the large-size second substrate 4b '(FIG. 6) is manufactured, FIG.
In the process P21, the large first substrate 4a 'and the large second
The two substrates are bonded to each other by laminating the substrate 4b 'with the sealing material 7 interposed therebetween, and by further pressing, that is, pressing under heating. By this bonding, a large-sized panel structure including a plurality of liquid crystal panels 2 is formed. In addition, at the time of this bonding, FIG.
One of the large-sized first substrate 4a 'and the large-sized second substrate 4b' of FIG. 6 is attached to a mating large-sized substrate in a state where it is turned over from the state shown in FIG.

【0056】以上のようにして大判のパネル構造が作製
された後、このパネル構造に対して第1ブレイク工程を
実施する(図4の工程P22)。具体的には、パネル構
造を構成する大判第1基板4a’に関して図5に示す第
1切断線L1aに沿って該大判基板を切断し、一方、大
判第2基板4b’に関して図6に示す第1切断線L1b
に沿って該大判基板を切断する。
After the large panel structure is manufactured as described above, a first break step is performed on the panel structure (step P22 in FIG. 4). Specifically, the large-sized first substrate 4a 'constituting the panel structure is cut along the first cutting line L1a shown in FIG. 5, while the large-sized second substrate 4b' shown in FIG. 1 cutting line L1b
The large-sized substrate is cut along.

【0057】これにより、図7に示すように、短冊状の
第1基板4a’’と短冊状の第2基板4b’’とが互い
に貼り合わされた状態の中判パネル構造2’が複数個作
製される。これらの中判パネル構造2’に関しては、そ
れらに含まれる各液晶パネル部分の液晶注入口7aが外
部へ露出する構造となっている。その後、各液晶注入口
7aを通して各液晶パネル部分の内部に液晶14を注入
し、さらにその注入の完了後にその液晶注入口7aを樹
脂によって封止する(図4の工程P23)。
As a result, as shown in FIG. 7, a plurality of medium-sized panel structures 2 'in which the first strip-shaped substrate 4a "and the second strip-shaped substrate 4b" are bonded to each other are manufactured. Is done. The medium format panel structures 2 'have a structure in which a liquid crystal injection port 7a of each liquid crystal panel portion included therein is exposed to the outside. Thereafter, the liquid crystal 14 is injected into each liquid crystal panel through each liquid crystal injection port 7a, and after the injection is completed, the liquid crystal injection port 7a is sealed with a resin (step P23 in FIG. 4).

【0058】その後、工程P24において中判パネル構
造2’に対して第2ブレイクを実施する。具体的には、
図7において、第2切断線L2に沿って短冊状第1基板
4a’’及び短冊状第2基板4b’’の両方を切断し、
これにより、図1に示す液晶パネル2であって偏光板6
a,6b、液晶駆動用IC3a及びTCP5が装着され
ていないものが1個ずつ分断される。
After that, in the process P24, a second break is performed on the medium-sized panel structure 2 '. In particular,
In FIG. 7, both the strip-shaped first substrate 4a ″ and the strip-shaped second substrate 4b ″ are cut along the second cutting line L2,
Thus, the liquid crystal panel 2 shown in FIG.
a, 6b, the liquid crystal driving IC 3a, and the one on which the TCP 5 is not mounted are cut one by one.

【0059】その後、図1において、第1基板4aの基
板張出し部4cの表面に液晶駆動用IC3aを直接に実
装し(図4の工程P25)、さらに第2基板4bの基板
張出し部4dの表面にTCP5を導電接続する(図4の
工程P26)。その後、液晶パネル2の表面全域又は少
なくとも基板張出し部4c及び基板張出し部4dの表面
を洗浄する(図4の工程P27)。
Thereafter, in FIG. 1, the liquid crystal driving IC 3a is directly mounted on the surface of the substrate overhang 4c of the first substrate 4a (Step P25 in FIG. 4), and further, the surface of the substrate overhang 4d of the second substrate 4b is exposed. Is electrically conductively connected to (step P26 in FIG. 4). Thereafter, the entire surface of the liquid crystal panel 2 or at least the surfaces of the substrate overhanging portions 4c and 4d are cleaned (step P27 in FIG. 4).

【0060】この洗浄は、例えば、純水、溶剤等といっ
た洗浄液を貯留した洗浄槽、望ましくは超音波洗浄槽に
少なくとも基板張出し部4c及び4dの表面を浸漬する
ことによって行うことができる。この洗浄により、基板
張出し部4c及び4dの表面から汚れが一掃される。
This cleaning can be performed, for example, by immersing at least the surfaces of the substrate overhangs 4c and 4d in a cleaning tank storing a cleaning liquid such as pure water or a solvent, preferably an ultrasonic cleaning tank. This cleaning removes dirt from the surfaces of the substrate overhangs 4c and 4d.

【0061】その後、工程P28において保護剤付着工
程を実施する。具体的には、図1において、第1基板4
aの基板張出し部4cの表面に保護剤、例えばシリコン
モールド29aを塗布によって付着することにより、シ
リコンモールド29aによって配線15aを被覆してこ
れを外気から遮蔽する。このとき、外部接続端子20が
ある領域はシリコンモールド29aによって遮蔽しな
い。また、このとき、図2(a)の凹部32a内にもシ
リコンモールド29aを充填する。
Thereafter, in step P28, a protective agent attaching step is performed. Specifically, in FIG.
By applying a protective agent, for example, a silicon mold 29a to the surface of the substrate overhang portion 4c by coating, the wiring 15a is covered with the silicon mold 29a and shielded from the outside air. At this time, the region where the external connection terminals 20 are located is not shielded by the silicon mold 29a. At this time, the silicon mold 29a is also filled in the recess 32a of FIG.

【0062】さらに、図3において、第2基板4bの基
板張出し部4dの表面に保護剤としてのシリコンモール
ド29bを塗布によって付着することにより、シリコン
モールド29bによって配線15bを被覆してこれを外
気から遮蔽する。このとき、図2(b)の凹部32b内
にもシリコンモールド29bを充填する。
Further, in FIG. 3, by applying a silicon mold 29b as a protective agent to the surface of the substrate overhang 4d of the second substrate 4b by coating, the wiring 15b is covered with the silicon mold 29b, and this is exposed from the outside air. Shield. At this time, the silicon mold 29b is also filled in the recess 32b of FIG.

【0063】以上のように、第1基板4aの基板張出し
部4cの表面にシリコンモールド29aを付着し、さら
に第2基板4bの基板張出し部4dの表面にシリコンモ
ールド29bを付着することにより、各基板張出し部上
の配線15a及び15bが外気に触れることを防止で
き、これにより、各配線15a及び15bに電食が発生
することを防止できる。
As described above, the silicon mold 29a is attached to the surface of the substrate overhang 4c of the first substrate 4a, and the silicon mold 29b is attached to the surface of the substrate overhang 4d of the second substrate 4b. The wirings 15a and 15b on the substrate overhanging portion can be prevented from contacting the outside air, thereby preventing the wirings 15a and 15b from being electrolytically eroded.

【0064】本実施形態では、シリコンモールド29a
及びシリコンモールド29bを基板へ塗布するのに先立
って、工程P27において該当領域を洗浄するようにし
たので、該当領域に存在する配線15a,15bの上か
ら汚れを除去でき、よって、電食の発生をより一層確実
に防止できる。
In this embodiment, the silicon mold 29a
Before applying the silicon mold 29b to the substrate, the corresponding area is cleaned in the step P27, so that dirt can be removed from the wirings 15a and 15b existing in the corresponding area, and thus, the occurrence of electrolytic corrosion Can be more reliably prevented.

【0065】シリコンモールドを使った保護剤付着工程
の後、工程P29において、図1の液晶パネル2(但
し、未だ偏光板6a及び6bは装着されていない)の第
1基板4a及び第2基板4bの外側表面を溶剤を含む洗
浄液によって拭き洗浄し、その後、それらの基板の外側
表面に光学部材としての偏光板6a及び6bを、例えば
貼着によって装着する。これにより、図1に示す液晶装
置1が完成する。
After the step of attaching the protective agent using the silicon mold, in step P29, the first substrate 4a and the second substrate 4b of the liquid crystal panel 2 of FIG. 1 (however, the polarizing plates 6a and 6b are not yet mounted). The outer surfaces of the substrates are wiped and cleaned with a cleaning solution containing a solvent, and thereafter, polarizing plates 6a and 6b as optical members are mounted on the outer surfaces of the substrates by, for example, sticking. Thus, the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 is completed.

【0066】一般に、基板4a及び4bの表面を溶剤を
含む洗浄液によって拭き洗浄する際には、溶剤によって
汚れが基板張出し部4c及び4dへ運ばれて該部に残留
することがある。特に、図2(a)の凹部32a及び図
2(b)の凹部32bには溶剤と共に汚れが巻き込まれ
易い。従って、従来のように、溶剤を用いた拭き洗浄を
伴った偏光板6a及び6bの第1基板4a及び第2基板
4bへの装着の後に、基板張出し部4c及び4dの表面
にシリコンモールドを付着させると、配線15a及び1
5bの上に汚れが付着したままでそれらの配線がシリコ
ンモールドで被覆されることになり、それ故、シリコン
モールドによって電食の発生を防止するという作用を十
分に発揮できなくなることが考えられる。
Generally, when the surfaces of the substrates 4a and 4b are wiped and cleaned with a cleaning solution containing a solvent, dirt may be carried to the substrate overhangs 4c and 4d by the solvent and remain there. In particular, dirt is easily entrained together with the solvent in the concave portion 32a of FIG. 2A and the concave portion 32b of FIG. 2B. Therefore, after attaching the polarizing plates 6a and 6b to the first substrate 4a and the second substrate 4b with wiping and washing using a solvent as in the related art, a silicon mold is attached to the surfaces of the substrate overhangs 4c and 4d. Then, the wirings 15a and 1
It is conceivable that these wirings are covered with the silicon mold while the dirt remains on 5b, so that the effect of preventing the occurrence of electrolytic corrosion by the silicon mold cannot be sufficiently exerted.

【0067】これに対し、本実施形態のように、溶剤を
用いた拭き洗浄を伴う偏光板6a及び6bの第1基板4
a及び第2基板4bへの装着(工程P29及び工程P3
0)を行う前に、シリコンモールドによる保護層を基板
張出し部4c及び4d上に形成すれば、配線15a及び
15bの上に汚れが残ることを確実に防止でき、よっ
て、配線15a及び15bに電食が発生することを確実
に防止できる。
On the other hand, as in the present embodiment, the first substrate 4 of the polarizing plates 6a and 6b involves wiping and cleaning using a solvent.
a and mounting on the second substrate 4b (Steps P29 and P3
If a protective layer made of silicon mold is formed on the substrate overhangs 4c and 4d before performing step (0), it is possible to reliably prevent dirt from remaining on the wirings 15a and 15b. The occurrence of food can be reliably prevented.

【0068】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
(Other Embodiments) The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications may be made within the scope of the invention described in the claims. Can be modified.

【0069】例えば、図1の実施形態では、2方向に基
板張出し部4c及び4dを備えた液晶装置1に関して、
一方の基板張出し部4cにCOG方式でICチップを実
装し、もう一方の基板張出し部4dにCOF方式でIC
チップを実装する構造を例示した。しかしながら、この
実装構造に替えて、両方の基板張出し部にCOG方式の
実装構造を適用する場合や、両方の基板張出し部にCO
F方式の実装構造を適用する場合も本発明に含まれるも
のである。また、一対の基板の一方の基板4aのみに基
板張出し部を設け、他方の基板4bの電極をシール材又
はその近辺に配置された上下導通材を介して一方の基板
4aに導通させ、基板4aの基板張出部4cのみにCO
G方式或いはCOF方式でICチップを実装する実装構
造を適用する場合も本発明に含まれるものである。
For example, in the embodiment of FIG. 1, with respect to the liquid crystal device 1 having the substrate overhangs 4c and 4d in two directions,
An IC chip is mounted on one substrate overhang 4c by the COG method, and an IC chip is mounted on the other substrate overhang 4d by the COF method.
The structure for mounting the chip has been exemplified. However, in place of this mounting structure, a COG type mounting structure is applied to both board overhangs, or a CO
The present invention also includes a case where an F-type mounting structure is applied. Further, a substrate overhang portion is provided only on one substrate 4a of the pair of substrates, and an electrode of the other substrate 4b is electrically connected to one substrate 4a via a sealing material or a vertical conductive material disposed near the sealing material. CO only on the substrate overhang 4c
The present invention includes a case where a mounting structure for mounting an IC chip by the G method or the COF method is applied.

【0070】また、以上の実施形態においては、対向す
る一対の基板4a,4bに形成した電極を互いに交差さ
せ、一方の電極を走査電極、他方の電極を信号電極とし
た液晶装置を説明したが、本発明はこれに限られるもの
ではなく、いずれか一方の基板4aに、画素毎に薄膜ダ
イオード等のスイッチング素子と画素電極を形成し、併
せて形成される信号電極又は走査電極の一方と画素電極
の間にスイッチング素子を接続すると共に、他方の基板
4bに画素電極と交差するように信号電極又は走査電極
の他方を形成するようなアクティブマトリクス型液晶装
置としてもよい。さらには、一方の基板4aに、互いに
交差する走査線及び信号線を形成し、併せて画素毎に薄
膜トランジスタのようなスイッチング素子と画素電極を
形成してしまい、基板4aに基板張出し部を有するよう
なアクティブマトリクス型液晶装置としてもよい。
In the above embodiment, the liquid crystal device in which the electrodes formed on the pair of substrates 4a and 4b facing each other cross each other, one electrode is a scanning electrode, and the other electrode is a signal electrode has been described. However, the present invention is not limited to this. A switching element such as a thin film diode and a pixel electrode are formed for each pixel on one of the substrates 4a, and one of a signal electrode or a scanning electrode formed together and the pixel is formed. An active matrix type liquid crystal device may be used in which a switching element is connected between the electrodes and the other of the signal electrode and the scanning electrode is formed on the other substrate 4b so as to intersect with the pixel electrode. Further, a scanning line and a signal line crossing each other are formed on one substrate 4a, and a switching element such as a thin film transistor and a pixel electrode are formed for each pixel, and the substrate 4a has a substrate overhang. An active matrix type liquid crystal device may be used.

【0071】また、基板張出し部上の配線を被覆するた
めの保護剤はシリコンモールドに限られず、絶縁性を有
し、基板張出し部へ付着させるときには粘性を有し、そ
して付着させた後には自然に又は適宜の硬化処理によっ
て固まる性質を有する任意の材料を使用できる。このよ
うな材料としては、シリコンモールド以外に、例えば紫
外線硬化型樹脂等が考えられる。
The protective agent for covering the wiring on the substrate overhang is not limited to the silicon mold, but has an insulating property, has a viscosity when applied to the substrate overhang, and has a natural property after being attached. Or any material having the property of hardening by an appropriate curing treatment. As such a material, for example, an ultraviolet curable resin or the like can be considered other than the silicon mold.

【0072】また、シリコンモールド等といった保護剤
によって基板張出し部上に保護層を形成した後に液晶パ
ネルに装着すべき光学部材としては、上記実施形態の場
合のような偏光板だけに限られず、位相差板、光拡散板
等もそのような光学部材と考えることができる。
Further, the optical member to be mounted on the liquid crystal panel after forming the protective layer on the substrate overhanging portion with a protective agent such as a silicon mold or the like is not limited to the polarizing plate as in the above embodiment, but may be any other type. A retardation plate, a light diffusion plate and the like can also be considered as such optical members.

【0073】さらに、本発明に係る電気光学装置として
は、液晶装置の他にも、プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル(PDP)、フィールド・エミッション・ディスプレ
イ(FED)などの一対の基板を対向配置して構成され
て光学部材を基板に装着する構成の自発光型表示装置に
ついても、以上に説明した液晶装置の場合と同様に適用
することができる。
Further, as the electro-optical device according to the present invention, in addition to the liquid crystal device, a pair of substrates such as a plasma display panel (PDP) and a field emission display (FED) are arranged to face each other. A self-luminous display device having a configuration in which an optical member is mounted on a substrate can be applied in the same manner as in the case of the liquid crystal device described above.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明に係る電気光学装置の製造方法に
よれば、偏光板等といった光学部材をパネルの基板の表
面に付着させる際には、既に基板張出し部の表面にはシ
リコンモールド等といった保護剤によって保護層が形成
されて、基板張出し部上の配線はその保護剤によって覆
われている。従って、仮に光学部材を基板に貼り付ける
際に基板張出し部上に汚れが付着したとしても、その汚
れは保護剤の存在によって配線には直接に触れることが
なく、それ故、配線に電食が発生することをほぼ完全に
防止できる。
According to the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, when an optical member such as a polarizing plate is adhered to the surface of a panel substrate, a silicon mold or the like is already formed on the surface of the substrate overhang. A protective layer is formed by the protective agent, and the wiring on the substrate overhang is covered by the protective agent. Therefore, even if dirt adheres to the substrate overhang when attaching the optical member to the substrate, the dirt does not directly touch the wiring due to the presence of the protective agent. This can be almost completely prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製造
される液晶装置の一例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a liquid crystal device manufactured by a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図2】図1に示す液晶装置の断面構造を示す断面図で
あって、(a)は図1のA−A線に従った断面構造を示
し、(b)は図1のB−B線に従った断面構造を示して
いる。
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating a cross-sectional structure of the liquid crystal device illustrated in FIG. 1; FIG. 2A is a cross-sectional structure taken along line AA in FIG. 1; The cross-sectional structure according to the line is shown.

【図3】図1に示す液晶装置を裏側から見た状態を示す
斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a state where the liquid crystal device shown in FIG. 1 is viewed from the back side.

【図4】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態
を示す工程図である。
FIG. 4 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図5】図4に示す製造方法で用いられる部品である大
判の第1基板を示す平面図である。
5 is a plan view showing a large-sized first substrate which is a component used in the manufacturing method shown in FIG. 4;

【図6】図4に示す製造方法で用いられる部品である大
判の第2基板を示す平面図である。
6 is a plan view showing a large-sized second substrate which is a component used in the manufacturing method shown in FIG. 4;

【図7】図4に示す製造方法の途中で形成される中判の
パネル構造を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a medium-sized panel structure formed during the manufacturing method shown in FIG. 4;

【図8】一般的な液晶パネルの構造の主要部を示す断面
図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a main part of a structure of a general liquid crystal panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶装置 2 液晶パネル 3a,3b 液晶駆動用IC 4a,4b 基板 4c,4d 基板張出し部 4e,4f 延出部 5 TCP(外部基板) 6a,6b 偏光板(光学部材) 7 シール材 7a 液晶注入口 8a,8b 基板素材 9a,9b 電極 14 液晶 15a,15b 配線 29a,29b シリコンモールド(保護剤) 32a,32b 凹部 Reference Signs List 1 liquid crystal device 2 liquid crystal panel 3a, 3b liquid crystal driving IC 4a, 4b substrate 4c, 4d substrate overhang portion 4e, 4f extension portion 5 TCP (external substrate) 6a, 6b polarizing plate (optical member) 7 sealing material 7a liquid crystal injection Entrance 8a, 8b Substrate material 9a, 9b Electrode 14 Liquid crystal 15a, 15b Wiring 29a, 29b Silicon mold (protective agent) 32a, 32b Recess

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 343 G09F 9/00 343D 346 346G Fターム(参考) 2H092 GA05 GA49 GA50 GA51 GA55 GA60 HA25 HA28 MA32 MA35 NA17 NA25 NA28 PA06 3B201 AA02 BB02 BB83 BB93 5C094 AA32 AA42 AA43 BA43 CA19 DA09 DB01 EA10 FB01 GB01 5G435 AA14 AA17 BB12 CC09 EE37 FF00 HH14 KK05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/00 343 G09F 9/00 343D 346 346G F-term (Reference) 2H092 GA05 GA49 GA50 GA51 GA55 GA60 HA25 HA28 MA32 MA35 NA17 NA25 NA28 PA06 3B201 AA02 BB02 BB83 BB93 5C094 AA32 AA42 AA43 BA43 CA19 DA09 DB01 EA10 FB01 GB01 5G435 AA14 AA17 BB12 CC09 EE37 FF00 HH14 KK05

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに貼り合わされた一対の基板を備
え、少なくとも一方の基板が相手側基板の外側へ張り出
す基板張出し部を有し、該基板張出し部の表面上には配
線が形成される電気光学装置を製造するための製造方法
において、 前記一対の基板の少なくとも一方の表面上に光学部材を
装着する光学部材装着工程と、 前記基板張出し部の表面上に前記配線を覆うように保護
剤を設ける保護剤付着工程とを有し、 該保護剤付着工程は前記光学部材装着工程の前に行うこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。
1. An electric device comprising: a pair of substrates bonded to each other, at least one of the substrates having a substrate overhanging portion extending out of a counterpart substrate, and wiring formed on a surface of the substrate overhanging portion. In a manufacturing method for manufacturing an optical device, an optical member mounting step of mounting an optical member on at least one surface of the pair of substrates, and a protective agent covering the wiring on a surface of the substrate overhang portion. Providing a protective agent attaching step, wherein the protective agent attaching step is performed before the optical member attaching step.
【請求項2】 請求項1において、前記光学部材装着工
程は、前記光学部材を装着する面を洗浄する洗浄処理を
含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the optical member mounting step includes a cleaning process of cleaning a surface on which the optical member is mounted.
【請求項3】 請求項1又は請求項2において、前記基
板張出し部の表面を洗浄する洗浄工程を前記保護剤付着
工程の前に設けたことを特徴とする電気光学装置の製造
方法。
3. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein a cleaning step of cleaning a surface of the substrate overhang is provided before the protective agent attaching step.
【請求項4】 請求項3において、前記洗浄工程は洗浄
液を貯留した洗浄槽に前記基板張出し部の表面を浸漬す
ることによって行われることを特徴とする電気光学装置
の製造方法。
4. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 3, wherein the cleaning step is performed by immersing a surface of the substrate overhang portion in a cleaning tank storing a cleaning liquid.
【請求項5】 請求項4において、前記洗浄液は純水で
あることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the cleaning liquid is pure water.
【請求項6】 請求項1又は請求項2において、前記基
板張出し部に外部基板を接続する外部基板実装工程及び
/又は前記基板張出し部にICチップを実装するIC実
装工程を前記保護剤付着工程の前に設けたことを特徴と
する電気光学装置の製造方法。
6. The protective agent attaching step according to claim 1, wherein an external substrate mounting step of connecting an external substrate to the substrate overhanging part and / or an IC mounting step of mounting an IC chip on the substrate overhanging part are performed. A method for manufacturing an electro-optical device provided before the step (c).
【請求項7】 請求項3、請求項4又は請求項5におい
て、前記基板張出し部に外部基板を接続する外部基板実
装工程及び/又は前記基板張出し部にICチップを実装
するIC実装工程を前記洗浄工程の前に設けたことを特
徴とする電気光学装置の製造方法。
7. The external board mounting step of connecting an external board to the substrate overhanging part and / or the IC mounting step of mounting an IC chip to the substrate overhanging part according to claim 3, 4, or 5. A method for manufacturing an electro-optical device provided before a cleaning step.
【請求項8】 請求項1から請求項7の少なくともいず
れか1つにおいて、前記基板張出し部を有する基板に対
向する相手側基板は、互いの基板を貼り合わせるシール
材の外側へ張り出す延出部を有し、前記保護剤は、前記
延出部、前記基板張出し部及び前記シール材によって囲
まれる凹部に充填されることを特徴とする電気光学装置
の製造方法。
8. The at least one of claims 1 to 7, wherein a mating substrate facing the substrate having the substrate extending portion extends outward from a sealing material for bonding the substrates together. A protective agent, wherein the protective agent is filled in a recess surrounded by the extension, the substrate overhang, and the sealant.
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