JP2001124520A - Structural element provided with marker optically recognizable - Google Patents

Structural element provided with marker optically recognizable

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JP2001124520A
JP2001124520A JP2000250234A JP2000250234A JP2001124520A JP 2001124520 A JP2001124520 A JP 2001124520A JP 2000250234 A JP2000250234 A JP 2000250234A JP 2000250234 A JP2000250234 A JP 2000250234A JP 2001124520 A JP2001124520 A JP 2001124520A
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marker
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processing system
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Hans Hecht
ヘヒト ハンス
Gerhard Hueftle
ヒュフトレ ゲルハルト
Schalt Rainer
シャルト ライナー
Uwe Dr Konzelmann
コンツェルマン ウーヴェ
Stark Andreas
シュタルク アンドレアス
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Robert Bosch GmbH
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Robert Bosch GmbH
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make a marker not to have anything to do with production technique, illumination technique and material quality. SOLUTION: A structural element 2 comprises at least one marker 1, which an optical image processing system is capable of recognizing. At least one marker 1 has at least one edge 3, and the edge is either inclined 8, bent 13 or flattened.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、請求項1若しくは
10若しくは11の上位概念に記載した光学的に認識可
能なマーカを備えた構造エレメント及びマーカを認識す
る方法若しくはマーカによって素子の取り付け位置を決
定する方法に関する。
The present invention relates to a structural element provided with an optically recognizable marker and a method for recognizing a marker or a mounting position of an element by the marker. How to decide.

【0002】[0002]

【従来の技術】構造エレメントに電子的なチップ又は素
子を極めて正確に取り付ける必要がある場合には、像処
理システムが使用され、この像処理システムは光学的な
照明技術、観察カメラ及び評価計算機によって取り付け
位置を調べ、これにより位置決めシステムが取り付ける
べき素子を制御することができる。取り付け位置の認識
は、電子的なチップの取り付け位置の範囲の、製作によ
って生じる、大部分は好ましくないエッジの丸みによっ
て行われる。これらの丸みのある範囲は、照明源の同軸
光内での明フィールド照明によって、観察カメラ内で暗
く現れ、明るく現れる平らな範囲に対して評価可能なコ
ントラストをなす。
BACKGROUND OF THE INVENTION When it is necessary to mount electronic chips or elements on structural elements very precisely, an image processing system is used, which is controlled by optical illumination techniques, observation cameras and evaluation calculators. The mounting position can be examined and the positioning system can control the elements to be mounted. Recognition of the mounting position is effected, in large part, by the production-induced, unfavorable rounding of the edge of the electronic chip mounting position. These rounded areas appear darker in the viewing camera due to the bright field illumination in the coaxial light of the illumination source and provide an appreciable contrast to the brighter appearing flat areas.

【0003】これらの丸みが極めて弱く形成されてい
て、丸みと、丸みを取り囲む範囲との間に充分なコント
ラストが生じない場合には、欠点が生じる。これによっ
てエッジの位置が正確に認識されないか、あるいは全く
認識されないことがあり、あるいは丸みが製作によって
変化して、コントラストが変化し、素子が種々の位置に
載置される。例えば打ち抜き引き込みによって生ずる丸
みは製作工具の切れ味によって左右され、時間が経過す
るにつれて変化する。像処理システムを丸みの連続的な
変化に適合させることは可能である。しかし、複数の製
作システムを使用する場合には、同じ時間に異なった製
作システムで製作される構造エレメントの丸みが種々異
なっていることによって、問題が生ずる。したがって像
処理システムを相応して適合させることも困難である。
A disadvantage arises when these roundings are formed very weakly and there is not enough contrast between the roundness and the area surrounding the roundness. This may result in incorrect or no recognition of the position of the edge, or the roundness may change due to fabrication, changing the contrast and placing the element at various locations. For example, the roundness caused by punching-in depends on the sharpness of the production tool and changes over time. It is possible to adapt the image processing system to continuous changes in roundness. However, a problem arises when using multiple production systems due to the different roundness of the structural elements produced by different production systems at the same time. It is therefore also difficult to adapt the image processing system accordingly.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、マー
カが製作技術、照明技術及び材料の品質に無関係である
ようにし、像処理システムを条件の変化に合わせて適合
させる必要がないようにすることである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to make the marker independent of fabrication technology, illumination technology and material quality, so that the image processing system does not need to be adapted to changing conditions. It is to be.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この課題は本発明によれ
ば請求項1若しくは10若しくは11に記載した構成要
件によって解決される。
According to the invention, this object is achieved by the features according to claim 1 or 10 or 11.

【0006】[0006]

【発明の効果】本発明によれば、マーカとその周囲との
コントラストは極めて良好であり、これにより構造エレ
メントにおけるエッジひいては素子の取り付け位置をよ
り正確に決定可能であり、再現可能である。像処理シス
テムの時間のかかる適合が不要になって、製作時間が短
縮される。正確な位置決めは電子的なチップの機能、例
えば空気質量測定装置のセンサ支持体のセンサチップの
流着特性を改善する。制作費は品質が改善されることに
よって、安価になる。
According to the invention, the contrast between the marker and its surroundings is very good, whereby the edges of the structural element and thus the mounting position of the element can be determined more accurately and can be reproduced. The time-consuming adaptation of the image processing system is eliminated and the production time is reduced. Accurate positioning improves the function of the electronic chip, for example the deposition characteristics of the sensor chip on the sensor support of the air mass measuring device. Production costs are reduced due to improved quality.

【0007】特別な利点は、構造エレメントの簡単な幾
何学的な変化が、構造エレメントの機能に不都合な影響
を及ぼすことなしに達成されることである。
A particular advantage is that simple geometrical changes of the structural element are achieved without adversely affecting the function of the structural element.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の有利な実施の形態は従属
請求項に記載したとおりである。
Advantageous embodiments of the invention are described in the dependent claims.

【0009】構造エレメントの製作プロセス中にマーカ
を取り付け、切り欠き又は隆起部の輪郭を完全に把握す
ることは特に有利である。
[0009] It is particularly advantageous to attach the markers during the fabrication process of the structural element so that the contours of the cutouts or ridges are completely understood.

【0010】更に、マーカを取り付け位置の範囲に設け
ると有利である。
[0010] Furthermore, it is advantageous to provide the marker in the range of the mounting position.

【0011】[0011]

【実施例】以下においては図面に示した実施例により本
発明の構成を具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The construction of the present invention will be specifically described below with reference to the embodiments shown in the drawings.

【0012】図1のa〜gには種々のマーカを備えた構
造エレメント2が平面図及び断面図で示されている。
1a to 1g show a plan view and a sectional view of a structural element 2 with various markers.

【0013】図1のaは、少なくとも1つのエッジ3を
有するマーカ1を備えた構造エレメント2の平面図を示
す。マーカ1は例えば正方形の横断面を構造エレメント
2の表面12の高さのところに有している。表面12の
高さのところの横断面は三角形、長方形あるいは多角形
であることもできる。
FIG. 1 a shows a plan view of a structural element 2 with a marker 1 having at least one edge 3. The marker 1 has, for example, a square cross section at the level of the surface 12 of the structural element 2. The cross section at the height of the surface 12 can also be triangular, rectangular or polygonal.

【0014】図1のb及びcには図1のaのA−A線に
沿った断面でマーカ1の2つの異なった実施例が示され
ている。マーカ1は例えば構造エレメント2上の三角形
の隆起部6であるか(図1のb)、あるいは構造エレメ
ント2内の三角形の凹所7である(図1のc)。隆起部
6あるいは凹所7は少なくとも1つの斜面8を有してい
る。斜面8がどちらの側に向かって構成されているか
は、重要なことではない。斜面8の異なった整向は図1
のb及びcにも示されている。エッジ3は図1のb及び
cにおいては例えば表面12に対して垂直に延びてい
る。隆起部6は例えば円すい形に形成しておくこともで
きる。構造エレメント2のマーカ1の形状の別の例は図
1のdに示されている。
FIGS. 1b and 1c show two different embodiments of the marker 1 in a section along the line AA in FIG. 1a. The marker 1 is, for example, a triangular ridge 6 on the structural element 2 (FIG. 1b) or a triangular recess 7 in the structural element 2 (c in FIG. 1). The ridge 6 or the recess 7 has at least one slope 8. It does not matter on which side the slope 8 is configured. The different orientations of the slope 8 are shown in FIG.
B and c. The edge 3 extends, for example, perpendicular to the surface 12 in FIGS. The raised portion 6 may be formed in a conical shape, for example. Another example of the shape of the marker 1 of the structural element 2 is shown in FIG.

【0015】図1のdは、少なくとも1つのエッジ3を
有しているマーカ1を備えた構造エレメント2の平面図
を示す。マーカ1は構造エレメント2の表面12の高さ
のところに例えば半円形の横断面を有している。表面1
2の高さのところの横断面は例えば半だ円形であること
もできる。マーカ1は、図1のeにおいて図1のdのB
−B線に沿った断面で示されているように、隆起部6と
して構成しておくことができる。しかしマーカは例えば
凹所7として構成しておくこともできる。マーカ1はこ
こでは曲面13によって形成される。曲面13の湾曲は
凸面であっても、凹面であってもよい。図1のeにおい
てエッジ3は例えば表面12に対して垂直に延びてい
る。
FIG. 1 d shows a plan view of a structural element 2 with a marker 1 having at least one edge 3. The marker 1 has, for example, a semicircular cross section at the level of the surface 12 of the structural element 2. Surface 1
The cross section at the height of 2 can be, for example, semi-elliptical. The marker 1 is shown in FIG.
It can be configured as a ridge 6, as shown in cross section along line -B. However, the markers can also be configured as recesses 7, for example. The marker 1 is here formed by a curved surface 13. The curvature of the curved surface 13 may be convex or concave. In FIG. 1 e, the edge 3 extends, for example, perpendicular to the surface 12.

【0016】構造エレメント2のマーカ1の形状の別の
例は図1のfに示されている。
Another example of the shape of the marker 1 of the structural element 2 is shown in FIG.

【0017】図1のfは、マーカ1を備えた構造エレメ
ント2の平面図を示す。マーカ1は表面12の高さのと
ころに例えば円形の横断面を有している。表面12の高
さのところの横断面は例えばだ円形に構成することもで
きる。マーカ1は、図1のgにおいて図1のfのC−C
線に沿った断面で示されているように、例えば円形の横
断面を有する凹所7として構成されている。この凹所7
は半円形又は半だ円形の横断面を有することもできる。
FIG. 1 f shows a plan view of the structural element 2 with the marker 1. The marker 1 has, for example, a circular cross section at the level of the surface 12. The cross section at the height of the surface 12 can also be configured, for example, as an ellipse. The marker 1 is shown in FIG.
It is configured as a recess 7 having, for example, a circular cross section, as shown in cross section along the line. This recess 7
Can also have a semi-circular or semi-elliptical cross-section.

【0018】図2においては、例えば長方形の切り欠き
15にどのようにしてマーカ1を設けるかが示されてい
る。図2のaは、表面12の高さのところに例えば長方
形の形状を有している切り欠き15を備えた構造エレメ
ント2の平面図を示す。この切り欠きは、エッジ3によ
って仕切られた例えば長方形の底面16を有している。
切り欠き15及び底面16は例えば別の、角のある及び
又は円形の幾何形状を有することもできる。
FIG. 2 shows how the marker 1 is provided in, for example, a rectangular cutout 15. FIG. 2a shows a plan view of the structural element 2 with a cutout 15 at the level of the surface 12 having, for example, a rectangular shape. The notch has, for example, a rectangular bottom surface 16 separated by the edge 3.
The notch 15 and the bottom surface 16 can have, for example, another, angular and / or circular geometry.

【0019】図2のbはまだマーカ1が直接に形成され
ていない状態の、図2のaのa−a線に沿った断面を示
す。エッジ3は例えば表面12及び又は底面16に対し
て垂直に延びている。ところで図2のcにおいては、構
造エレメント2は次のように構成されている。すなわ
ち、マーカ1が存在しており、このマーカは、図2のa
に示した構造エレメント2の切り欠きのエッジ3を後加
工することによって形成されているか、あるいは直接に
形成されている。
FIG. 2b shows a cross section along the line aa in FIG. 2a with the marker 1 not yet formed directly. The edge 3 extends, for example, perpendicular to the surface 12 and / or the bottom surface 16. Incidentally, in FIG. 2C, the structural element 2 is configured as follows. That is, marker 1 exists, and this marker is
Are formed by post-machining the notched edge 3 of the structural element 2 shown in FIG.

【0020】このマーカ1の可能な形状は、図2のcの
a−a線に沿った断面図である図2のd及びeに示され
ている。
The possible shapes of the marker 1 are shown in FIGS. 2d and e, which are cross-sectional views along the line aa in FIG. 2c.

【0021】図2のdにおいては、図2のbに示したエ
ッジ3が表面12の高さのところで斜面12によって切
り欠き15に向かって斜めに切り取られており、したが
って切り欠き15の表面12における横断面は底面16
におけるよりも大きくされている。斜面8の代わりに、
例えば任意に湾曲せしめられた曲面13を設けておくこ
ともできる。斜面8又は曲面13は表面12の高さから
底面16の高さにまで延びていることもできるが、この
ことは図2のdに示すように必要ではない。
In FIG. 2d, the edge 3 shown in FIG. 2b is cut obliquely at the height of the surface 12 by the slope 12 towards the notch 15, so that the surface 12 of the notch 15 The cross section at
Is larger than in. Instead of slope 8,
For example, a curved surface 13 that is arbitrarily curved may be provided. The slope 8 or the curved surface 13 can extend from the height of the surface 12 to the height of the bottom surface 16, but this is not necessary as shown in FIG. 2d.

【0022】しかしマーカ1は、図2のeに示すよう
に、例えば切り欠き15の底面16に凹所7を形成する
ことによって、設けることもできる。この場合底面16
は図1のc又はgの表面12に相当している。凹所7の
代わりに例えば隆起部6をエッジ3(図2のb)の範囲
に構成しておくこともできる。凹所7又は隆起部6は図
1において既に説明したように構成しておくことができ
る。特に凹所7の斜面8の整向は重要なことではない。
However, the marker 1 can also be provided, for example, by forming a recess 7 in the bottom 16 of the notch 15, as shown in FIG. In this case, the bottom 16
Corresponds to the surface 12 of c or g in FIG. Instead of the recess 7, for example, the ridge 6 may be configured in the range of the edge 3 (FIG. 2 b). The recess 7 or the ridge 6 can be configured as already described in FIG. In particular, the alignment of the slope 8 of the recess 7 is not important.

【0023】図2のdにおける長方形の切り欠き15の
斜めに切り取られたエッジ3の斜面8は切り欠きの位置
及び大きさを決定し、これによって電子的なチップ又は
素子のための取り付け位置を決定することができる。し
かしながら取り付け位置の決定のためには、切り欠き1
5の底面16の全輪郭あるいは切り欠き15の表面12
の高さにおける横断面を把握する必要はない。例えば互
いに向き合っていない2つのマーカの位置を決定するだ
けでも充分である。これは例えば図2のfのマーカ1
7,18である。これらのマーカ17,18は図2のd
又はeのマーカ1の一部分を形成しているに過ぎない。
図2のcのマーカ1は図2のfでは破線で示されてい
る。マーカ17,18の構成は図1及び図2のd,eで
説明したとおりである。
The slope 8 of the obliquely cut edge 3 of the rectangular cutout 15 in FIG. 2d determines the position and size of the cutout, and thereby the mounting position for an electronic chip or element. Can be determined. However, notch 1
5 the entire contour of the bottom surface 16 or the surface 12 of the notch 15
It is not necessary to know the cross-section at the height of the plane. For example, it is sufficient to determine the positions of two markers that are not facing each other. This is, for example, marker 1 of f in FIG.
7, 18. These markers 17 and 18 are shown in FIG.
Or, it only forms a part of the marker 1 of e.
The marker 1 in FIG. 2C is indicated by a broken line in FIG. 2F. The configuration of the markers 17 and 18 is as described in FIGS.

【0024】マーカ17,18は互いに接触している必
要はない。それは、切り欠き15の形状(例えば長方
形)が知られていれば、これら2つのエッジの交点を計
算することができるからである。切り欠きの大きさは知
られているので、切り欠き15のほかの角頂点も計算す
ることができ、したがって素子は正確に切り欠き15内
に挿入される。
The markers 17, 18 need not be in contact with each other. This is because if the shape (for example, a rectangle) of the notch 15 is known, the intersection of these two edges can be calculated. Since the size of the notch is known, the other corner vertices of the notch 15 can also be calculated, so that the element is inserted exactly into the notch 15.

【0025】像処理システムに知られている別の幾何形
状及び大きさのそれぞれに対して、及び電子的なチップ
又は素子の切り欠き15内の取り付け位置のそれぞれに
対して、切り欠き15の位置及び大きさを決定するため
に、どのような及びどれほどのマーカ1が必要であるか
をあらかじめ決定することができる。
The position of the notch 15 for each of the other geometries and sizes known to the image processing system, and for each of the mounting locations within the notch 15 of the electronic chip or element. And how much marker 1 is needed to determine the size and size.

【0026】少なくとも1つのマーカ1は、付加的な凹
所7又は隆起部6によって、あるいは構造エレメント2
の少なくとも1つの存在しているエッジ3の面取り部と
して、構造エレメント2の制作中にあるいは付加的な工
程で、製作することができる。
The at least one marker 1 can be provided by an additional recess 7 or ridge 6 or by a structural element 2
Can be produced during the production of the structural element 2 or in an additional step as a chamfer of the at least one existing edge 3.

【0027】図3は、構造エレメント2の例として流動
媒体の質量、特に内燃機関の吸い込み空気質量、を測定
する装置の一部であるセンサ支持体20を示す。センサ
支持体20及び空気質量測定装置の構造は DE 44 26 10
2 C2 若しくは US-P 5,693,879 に記載されており、こ
こでこれらの文献を援用しておく。
FIG. 3 shows, as an example of the structural element 2, a sensor support 20 which is part of a device for measuring the mass of a flowing medium, in particular the mass of the intake air of an internal combustion engine. The structure of the sensor support 20 and the air mass measuring device is DE 44 26 10
2 C2 or US-P 5,693,879, which are hereby incorporated by reference.

【0028】センサ支持体20は基本支持体21と結合
されプラスチック被覆23を備えている薄板エレメント
22を有している。センサ支持体20は流着エッジ24
を有している。センサ支持体20内にはセンサ空洞底面
28を備えたセンサ空洞27が形成されている。センサ
空洞底面28は通路35によって支え面36とセンサ基
面38とに分割されている。支え面36は4つのエッジ
42a〜42dを有しており、その1つのエッジ42d
は通路35へのエッジを形成している。同様にセンサ基
面38は4つのエッジ43a〜43dを有しており、そ
の1つのエッジ43bは通路35へのエッジを形成して
いる。センサ空洞27内にはチップとして例えば破線で
示した測定エレメント46が取り付けられ、それに沿っ
て媒体が流れる。取り付けのやり方についてはなお後で
説明する。センサ空洞27は2つの切り欠き47,4
7′を有しており、これらの切り欠きは、流着エッジ2
4に対して平行な、センサ空洞27のエッジにある。切
り欠き47,47′は斜面8を有していて、この斜面は
既に存在しており、構成の際にマーカ1として考えられ
ていなかったものである。
The sensor support 20 has a sheet metal element 22 with a plastic coating 23 which is connected to a basic support 21. The sensor support 20 has a landing edge 24
have. A sensor cavity 27 having a sensor cavity bottom surface 28 is formed in the sensor support 20. The sensor cavity bottom surface 28 is divided by a passage 35 into a support surface 36 and a sensor base surface 38. The support surface 36 has four edges 42a to 42d, and one edge 42d
Forms an edge to the passage 35. Similarly, sensor base surface 38 has four edges 43a-43d, one edge 43b of which forms an edge to passage 35. A measuring element 46, for example, shown as a dashed chip, is mounted in the sensor cavity 27 along which the medium flows. The manner of attachment will be described later. The sensor cavity 27 has two notches 47, 4
7 ', these cutouts
At the edge of the sensor cavity 27 parallel to 4. The notches 47, 47 'have a bevel 8 which already exists and was not considered as a marker 1 in the construction.

【0029】支え面36のエッジ42a〜42c及びセ
ンサ基面38のエッジ43a,43c,43dには、支
え面及びセンサ基面から始まる例えば図2のeに示され
ているような斜面8が形成されており、これらの斜面8
はマーカ1を形成している。
The edges 42a to 42c of the support surface 36 and the edges 43a, 43c, 43d of the sensor base surface 38 are formed with a slope 8 as shown in FIG. These slopes 8
Form a marker 1.

【0030】マーカ1は、通路35の、センサ空洞底面
28の高さあるいは通路35の底面の高さにおいてエッ
ジ42d,43bを斜面にすることによって形成するこ
ともできる。また例えば切り欠き47,47′の存在し
ている斜面8をマーカ1として利用することもできる。
The marker 1 can also be formed by making the edges 42d and 43b inclined at the height of the sensor cavity bottom surface 28 of the passage 35 or the height of the bottom surface of the passage 35. Further, for example, the slope 8 on which the notches 47 and 47 'exist can be used as the marker 1.

【0031】図4は図3のIV−IV線に沿った断面図
である。この図4にはプラスチック被覆23で鋳くるま
れた薄板エレメント22が示されている。マーカ1は例
えばセンサ基面38の斜面8の形の凹所7である。この
マーカ1は図2のeにおいて説明したように構成するこ
とができる。マーカ1は例えば相応する成形工具によっ
てセンサ支持体のプラスチック被覆23の成形中に直接
に形成される。これによってセンサ空洞内への測定エレ
メント46の取り付けはより正確に行われる。
FIG. 4 is a sectional view taken along the line IV-IV of FIG. FIG. 4 shows a sheet metal element 22 which is cast with a plastic coating 23. The marker 1 is, for example, a recess 7 in the form of a slope 8 of the sensor base 38. This marker 1 can be configured as described in FIG. The marker 1 is formed directly during the molding of the plastic coating 23 of the sensor support, for example by means of a corresponding molding tool. This makes the mounting of the measuring element 46 in the sensor cavity more accurate.

【0032】図5は、例えば長方形の切り欠き15を備
えた構造エレメント2を示す。切り欠き15内には、電
子的なチップ又は素子、例えばここで破線で示されてい
る測定エレメント46を極めて正確に中央に挿入しなけ
ればならない。測定エレメント46の取り付け位置及び
切り欠き15の外方で、構造エレメント2に、図1のa
〜gに示したような例えば2つのマーカ1,1′が設け
られている。マーカ1及び1′の相互間隔は必ずしも切
り欠き15のエッジ51の長さあるいはエッジ51と向
き合っているエッジの長さと等しい必要はない。マーカ
1及び1′を直接に結ぶと仮想線52が形成される。こ
の仮想線52は切り欠き15のエッジ51あるいはエッ
ジ51と向き合っているエッジに対して所定の間隔56
を有している。エッジ51あるいはそれに向き合ってい
るエッジと仮想線52とは互いに平行に延びている。し
かし、エッジ51あるいはそれに向き合っているエッジ
と仮想線52とが互いに平行に延びていることは、必ず
しも必要ではない。仮想線52とエッジ51又はそれに
向き合っているエッジとの相互の位置が知られているだ
けでよい。例えば座標システム57があり、これは構造
エレメント2に関して規定された原点を有している。例
えば、マーカ1と1′との相互間隔、座標システム57
におけるマーカ1,1′の座標、仮想線52とエッジ5
1又はそれと向き合うエッジとの相互間隔56並びに切
り欠き15の幾何形状及び大きさが知られていると、測
定エレメント46のための取り付け位置を正確に決定し
て、その取り付けを行うことができる。
FIG. 5 shows a structural element 2 with a rectangular cutout 15, for example. In the cutout 15, an electronic chip or element, for example a measuring element 46, here shown in broken lines, must be inserted very precisely in the center. At the mounting position of the measuring element 46 and outside the notch 15, the structural element 2
For example, two markers 1, 1 'as shown in FIGS. The distance between the markers 1 and 1 ′ does not necessarily have to be equal to the length of the edge 51 of the notch 15 or the length of the edge facing the edge 51. When the markers 1 and 1 'are directly connected, a virtual line 52 is formed. This imaginary line 52 has a predetermined distance 56 from the edge 51 of the notch 15 or the edge facing the edge 51.
have. The edge 51 or an edge facing the edge 51 and the virtual line 52 extend in parallel with each other. However, it is not always necessary that the edge 51 or the edge facing it and the virtual line 52 extend in parallel with each other. It is only necessary to know the mutual positions of the virtual line 52 and the edge 51 or the edge facing it. For example, there is a coordinate system 57, which has an origin defined for the structural element 2. For example, the distance between the markers 1 and 1 ', the coordinate system 57
, The coordinates of the markers 1 and 1 ′, the virtual line 52 and the edge 5
Knowing the mutual spacing 56 between one or the opposing edges and the geometry and size of the cutout 15 allows the exact location of the mounting for the measuring element 46 to be performed.

【0033】これによりマーカ1,1′を取り付け位置
の外方で構造エレメント2上に取り付けることも可能で
ある。例えば切り欠きの、形状(例えば長方形)及び寸
法のような特定の情報が知られているので、構造エレメ
ント2上における少なくとも1つのマーカ1を適当に選
択し、切り欠き15に対するマーカ1の相対位置を適当
に選択することによって、取り付け位置を決定すること
ができる。取り付けるべき素子を切り欠き15内にある
いは隆起部上に置くことは必ずしも必要でない。取り付
け位置は構造エレメント2の平らな面の一部分であるこ
ともできる。
This makes it possible to mount the markers 1, 1 'on the structural element 2 outside the mounting position. Since certain information is known, for example the shape (eg rectangle) and dimensions of the notch, at least one marker 1 on the structural element 2 is appropriately selected and the position of the marker 1 relative to the notch 15 The mounting position can be determined by appropriately selecting. It is not necessary to place the element to be mounted in the cutout 15 or on the ridge. The mounting position can also be part of the flat surface of the structural element 2.

【0034】図6は像処理システムのカメラ像を示す。
このカメラ像は評価計算機81(図7)によって特定の
アルゴリズムにしたがって寸法像に処理される。丸みを
付けられたエッジは像把握において最適の移行部を形成
し、したがって理想的なコントラストが生じる。例えば
曲げ部63及びエッジ64は正確に規定することができ
る。曲げ部63及びエッジ64は破線で示されている。
構造エレメント2の滑らかな光沢のある面は、寸法像内
に何らの障害も生じないようにする。
FIG. 6 shows a camera image of the image processing system.
This camera image is processed into a dimensional image by the evaluation computer 81 (FIG. 7) according to a specific algorithm. The rounded edges form an optimal transition in image capture, and thus produce ideal contrast. For example, the bent portion 63 and the edge 64 can be accurately defined. The bent portion 63 and the edge 64 are indicated by broken lines.
The smooth glossy surface of the structural element 2 ensures that no obstructions occur in the dimensional image.

【0035】図7は明フィールド照明の測定装置を概略
的に示す。構造エレメント2は照明源70によって同軸
光71で照明される。カメラ72は構造エレメント2か
らの反射光75を撮影する。カメラ72及び照明源70
は相互に角度αをおいて配置されている。構造エレメン
ト2からの散乱光76はカメラによって把握されない。
反射面は明るく見える。それは反射面はカメラ72によ
って把握されるからである。散乱面は暗く見える。それ
は散乱面はカメラ72によって把握されないからであ
る。
FIG. 7 schematically shows an apparatus for measuring bright field illumination. The structural element 2 is illuminated by an illumination source 70 with coaxial light 71. The camera 72 captures the reflected light 75 from the structural element 2. Camera 72 and illumination source 70
Are arranged at an angle α to each other. The scattered light 76 from the structural element 2 is not captured by the camera.
The reflective surface looks bright. This is because the reflection surface is grasped by the camera 72. The scattering surface appears dark. This is because the scattering surface is not grasped by the camera 72.

【0036】暗フィールド照明の原理はこれと類似して
いる。照明源70は同軸光で構造エレメント2を照明す
る。しかしながらこの場合破線で示されているカメラ7
2は構造エレメント2に対する位置が異なっているため
に、散乱光76を撮影し、したがって散乱面は明るく見
え、反射面は暗く見える。カメラ72は評価計算機と接
続されており、評価計算機はカメラ72のデータを評価
し、取り付け位置を決定するために必要なパラメータを
位置決めシステム82に送る。
The principle of dark field illumination is similar. The illumination source 70 illuminates the structural element 2 with coaxial light. However, in this case the camera 7 shown in broken lines
2 captures the scattered light 76 because of its different position with respect to the structural element 2, so the scattering surface looks bright and the reflecting surface looks dark. The camera 72 is connected to an evaluation computer, and the evaluation computer evaluates the data of the camera 72 and sends parameters necessary for determining the mounting position to the positioning system 82.

【0037】図8は理想的に垂直に成形されたエッジ3
(図8のa)及び傾斜せしめられたエッジ3における明
フィールド照明の作用形式を概略的に示す。照明源70
とカメラ72との間の角度αは同じであるか、あるいは
ほとんどゼロである。
FIG. 8 shows an ideal vertically shaped edge 3
FIG. 8a schematically shows the mode of operation of bright field illumination at (a) of FIG. Illumination source 70
The angle α between the camera and the camera 72 is the same or almost zero.

【0038】図8のaにおいて、理想的に垂直に形成さ
れたエッジ3において、概略的に示した4つの光線87
のそれぞれが反射せしめられ、したがって図8のaの平
面図である図8のbのカメラ像は白い面を示す。
In FIG. 8a, at the ideally formed edge 3 four light rays 87 schematically shown
Are reflected, so the camera image of FIG. 8b, which is a plan view of FIG. 8a, shows a white surface.

【0039】図8のcにおいてはエッジ3は例えば斜面
にされており、したがって2番目の光線87はカメラ7
2内に反射せしめられない。このことは、マーカ1とし
て役立つ斜面8の範囲に入射するすべての光線について
当てはまる。カメラ像(図8のd)内では幅88を有す
る条片部が生じ、この幅は図8のcのマーカ1の垂直投
影幅と等しい。
In FIG. 8c, the edge 3 is, for example, beveled, so that the second ray 87
It cannot be reflected inside 2. This is true for all rays incident on the area of the slope 8 which serves as the marker 1. In the camera image (FIG. 8d), there is a strip having a width 88, which is equal to the vertical projection width of the marker 1 in FIG. 8c.

【0040】電子的なチップ又は素子の構造エレメント
2内への取り付けは次のように行われる。
The mounting of the electronic chip or element into the structural element 2 takes place as follows.

【0041】評価計算機81によって電子的なチップ又
は素子の取り付け位置が光学的に把握されて決定された
後に、この情報が位置決めシステム82に送られ、この
位置決めシステムが位置決めのために素子例えば測定エ
レメント46をグリッパシステム84によってつかみ、
これにより素子は取り付け位置に対して平行な平面内で
運動せしめられ、次いでこの平面に対して垂直に所定の
取り付け位置内に動かされる。照明源及びカメラの配置
によって、グリッパシステムが該平面内で動いた後に、
取り付け位置を改めて決定し、場合により存在するグリ
ッパシステムの誤差・公差を位置決めシステム82によ
って修正運動により補償するようにすると、より正確な
取り付けが可能である。次いで取り付け位置に対して垂
直な運動によって、素子が取り付け位置に正確にもたら
される。
After the mounting position of the electronic chip or element is optically determined and determined by the evaluation computer 81, this information is sent to a positioning system 82, which uses the positioning system 82 for positioning, for example, an element such as a measuring element. 46 is gripped by gripper system 84,
This causes the element to be moved in a plane parallel to the mounting position and then moved perpendicular to this plane into a predetermined mounting position. Depending on the arrangement of the illumination source and the camera, after the gripper system has moved in the plane,
A more accurate mounting is possible if the mounting position is determined anew and the possibly existing errors and tolerances of the gripper system are compensated for by the correction movement by the positioning system 82. The movement perpendicular to the mounting position then brings the element exactly to the mounting position.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】a〜gは構造エレメントのマーカの種々の実施
例の平面図及び横断面図である。
1a-g are plan and cross-sectional views of various embodiments of a marker of a structural element.

【図2】a〜fはマーカのない凹所及び構造エレメント
のマーカを製作する2つの可能性を示した図である。
FIGS. 2a to 2f show two possibilities for producing a marker-free recess and a marker of a structural element. FIGS.

【図3】空気質量測定装置のセンサ支持体の1例を示し
た図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a sensor support of the air mass measurement device.

【図4】図3のIV−IV線に沿った断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3;

【図5】構造エレメント上の、切り欠きの外方の2つの
マーカを示した図である。
FIG. 5 shows two markers on the structural element outside the notch.

【図6】観察カメラのオリジナル像を示した図である。FIG. 6 is a diagram showing an original image of an observation camera.

【図7】明フィールド照明若しくは暗フィールド照明を
概略的に示した図である。
FIG. 7 is a diagram schematically illustrating bright field illumination or dark field illumination.

【図8】a〜dは1つのマーカにおける明フィールド照
明の作用形式を示した図である。
FIGS. 8A to 8D are diagrams showing operation modes of bright field illumination in one marker.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マーカ、 1′ マーカ、 2 構造エレメント、
3 エッジ、 6隆起部、 7 凹所、 8 斜面、
12 表面、 13 曲面、 15 切り欠き、 1
6 底面、 17 マーカ、 18 マーカ、 20
センサ支持体、 21 基本支持体、 22 薄板エレ
メント、 23 プラスチック被覆、24 流着エッ
ジ、 27 センサ空洞、 28 センサ空洞底面、
35通路、 36 支え面、 38 センサ基面、 4
2a エッジ、 42b エッジ、 42c エッジ、
42d エッジ、 43a エッジ、 43b エッ
ジ、 43c エッジ、 43d エッジ、 46 測
定エレメント、 47切り欠き、 47′ 切り欠き、
51 エッジ、 52 仮想線、 56間隔、 57
座標システム、 63 曲げ部、 64 エッジ、
70 照明源、 71 同軸光、 72 カメラ、 7
5 反射光、 76 散乱光、 81 評価計算機、
82 位置決めシステム、 84 グリッパシステム、
87 光線、 88 幅、 α 角度
1 marker, 1 'marker, 2 structural element,
3 edges, 6 ridges, 7 recesses, 8 slopes,
12 surface, 13 curved surface, 15 notch, 1
6 bottom, 17 marker, 18 marker, 20
Sensor support, 21 basic support, 22 sheet element, 23 plastic coating, 24 sinking edge, 27 sensor cavity, 28 sensor cavity bottom,
35 passage, 36 support surface, 38 sensor base surface, 4
2a edge, 42b edge, 42c edge,
42d edge, 43a edge, 43b edge, 43c edge, 43d edge, 46 measuring elements, 47 notch, 47 'notch,
51 edge, 52 virtual line, 56 interval, 57
Coordinate system, 63 bends, 64 edges,
70 illumination source, 71 coaxial light, 72 camera, 7
5 reflected light, 76 scattered light, 81 evaluation calculator,
82 positioning system, 84 gripper system,
87 rays, 88 width, α angle

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲルハルト ヒュフトレ ドイツ連邦共和国 アスパッハ ヴァイア ーシュトラーセ 29 (72)発明者 ライナー シャルト ドイツ連邦共和国 エスリンゲン イム ガウゲンマイアー 10 (72)発明者 ウーヴェ コンツェルマン ドイツ連邦共和国 アスペルク シュヴァ ルベンヴェーク 14 (72)発明者 アンドレアス シュタルク ドイツ連邦共和国 ラウシャ アホルンシ ュトラーセ 16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Gerhard Huftle Germany Aspach Weierstraße 29 (72) Inventor Rainer Schart Germany Esslingen im Gaugenmeier 10 (72) Inventor Uwe Konzermann Asperk Schwa, Germany Rubenweg 14 (72) Inventor Andreas Stark Germany Lauscha Ahornsturth 16

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光学的な像処理システムが認識すること
ができる少なくとも1つのマーカを備えた構造エレメン
トにおいて、少なくとも1つのマーカが少なくとも1つ
のエッジ(3)を有しており、このエッジは傾斜せしめ
られているか(8)、湾曲せしめられているか(1
3)、あるいは平らにされていることを特徴とする、光
学的に認識可能なマーカを備えた構造エレメント。
1. A structural element comprising at least one marker recognizable by an optical image processing system, wherein at least one marker has at least one edge (3), said edge being inclined. (8) or curved (1
3) or structural elements with optically recognizable markers, characterized in that they are flattened.
【請求項2】 少なくとも1つのマーカの斜面(8)、
曲面(13)あるいは平らな面が、像処理システム内で
良好なコントラストが生じるように、形成されているこ
とを特徴とする、請求項1記載の構造エレメント。
2. The slope (8) of at least one marker,
2. The structural element according to claim 1, wherein the curved surface or the flat surface is formed in such a way that a good contrast occurs in the image processing system.
【請求項3】 少なくとも1つのマーカ(1)が、構造
エレメント(2)に取る付けるべき少なくとも1つの素
子の取り付け位置の外方に、あるいはこの取り付け位置
の範囲内に、存在していることを特徴とする、請求項2
記載の構造エレメント。
3. The presence of at least one marker (1) outside or within the mounting position of the at least one element to be mounted on the structural element (2). Claim 2
The described structural element.
【請求項4】 構造エレメント(2)における少なくと
も1つのエッジ(3)の相対位置が像処理システムによ
って把握され、この少なくとも1つの存在しているエッ
ジ(3)の位置から、取り付けるべき少なくとも1つの
素子の取り付け位置を決定することができることを特徴
とする、請求項3記載の構造エレメント。
4. The relative position of the at least one edge (3) in the structural element (2) is determined by the image processing system and, from the position of the at least one existing edge (3), at least one edge to be attached 4. The structural element according to claim 3, wherein the mounting position of the element can be determined.
【請求項5】 少なくとも1つのマーカ(1)が構造エ
レメント(2)の、エッジ(3)を備えた凹所(7)あ
るいは隆起部(6)によって生ぜしめられることを特徴
とする、請求項4記載の構造エレメント。
5. The method according to claim 1, wherein the at least one marker is produced by a recess provided with an edge of the structural element or a ridge. 4. Structural element according to 4.
【請求項6】 少なくとも1つのマーカ(1)が、構造
エレメント(2)の表面(12)の高さのところで円形
のかつ又は角のある横断面を有していることを特徴とす
る、請求項5記載の構造エレメント。
6. The at least one marker (1) has a circular and / or angular cross section at the level of the surface (12) of the structural element (2). Item 6. The structural element according to Item 5.
【請求項7】 構造エレメント(2)が、空気質量測定
装置、特に内燃機関の吸い込み空気質量の測定装置、の
測定エレメント(46)を収容する切り欠き(15)と
してのセンサ空洞(27)を備えたセンサ支持体(2
0)であることを特徴とする、請求項1から6までのい
ずれか1項記載の構造エレメント。
7. The structural element (2) has a sensor cavity (27) as a notch (15) for receiving a measuring element (46) of an air mass measuring device, in particular a measuring device of the intake air mass of an internal combustion engine. Equipped sensor support (2
The structural element according to claim 1, wherein the structural element is 0).
【請求項8】 少なくとも1つのマーカ(1)が、セン
サ空洞(27)の面取りされたエッジあるいはエッジ
(42,43)に沿った凹所(7)によって形成される
ことを特徴とする、請求項7記載の構造エレメント。
8. The sensor according to claim 1, wherein the at least one marker is formed by a chamfered edge of the sensor cavity or a recess along the edge. Item 7. The structural element according to Item 7.
【請求項9】 構造エレメント(2)が金属、半導体材
料、セラミックあるいはプラスチックから形成されてい
ることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1
項記載の構造エレメント。
9. The method according to claim 1, wherein the structural element is made of metal, semiconductor material, ceramic or plastic.
Structural element described in section.
【請求項10】 光学的な像処理システムが認識するこ
とのできる少なくとも1つのマーカを備えた、特に請求
項1記載の構造エレメントの少なくとも1つのマーカを
認識する方法において、像処理システムがなかんずく、
光学的な照明源(70)と、観察カメラ(72)と、評
価計算機(81)とを有しており、その際少なくとも1
つのマーカを認識するために、同軸光(71)内での明
フィールド照明又は暗フィールド照明を使用することを
特徴とする、構造エレメントの少なくとも1つのマーカ
を認識する方法。
10. The method for recognizing at least one marker of a structural element according to claim 1, comprising an at least one marker recognizable by an optical image processing system, wherein the image processing system has at least one marker.
It has an optical illumination source (70), an observation camera (72) and an evaluation calculator (81), wherein at least one
A method for recognizing at least one marker of a structural element, characterized by using bright or dark field illumination in coaxial light (71) to recognize one marker.
【請求項11】 光学的な像処理システムが認識するこ
とのできる少なくとも1つのマーカを備えた、特に請求
項1記載の構造エレメントにおける少なくとも1つの素
子の取り付け位置を決定する方法において、まず、構造
エレメント(2)における少なくとも1つのマーカ
(1)の相対位置を像処理システムにより決定すること
によって、少なくとも1つ素子(46)の取り付け位置
を決定し、次いでこの取り付け位置を位置決めシステム
(82)に供給し、最後にこの少なくとも1つの素子
(46)を位置決めシステム(82)によって構造エレ
メント(2)における決定された取り付け位置に載置す
ることを特徴とする、構造エレメントにおける少なくと
も1つの素子の取り付け位置を決定する方法。
11. The method for determining the mounting position of at least one element on a structural element according to claim 1, comprising at least one marker recognizable by an optical image processing system. By determining the relative position of the at least one marker (1) on the element (2) by the image processing system, the mounting position of the at least one element (46) is determined, and this mounting position is then transmitted to the positioning system (82). Supplying, and finally placing said at least one element (46) in a determined mounting position on the structural element (2) by means of a positioning system (82). How to determine the location.
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