JP2001121279A - 形状検査機能付きレーザ加工装置 - Google Patents

形状検査機能付きレーザ加工装置

Info

Publication number
JP2001121279A
JP2001121279A JP30371999A JP30371999A JP2001121279A JP 2001121279 A JP2001121279 A JP 2001121279A JP 30371999 A JP30371999 A JP 30371999A JP 30371999 A JP30371999 A JP 30371999A JP 2001121279 A JP2001121279 A JP 2001121279A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser processing
processing
substrate
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30371999A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Watanabe
裕之 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP30371999A priority Critical patent/JP2001121279A/ja
Publication of JP2001121279A publication Critical patent/JP2001121279A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加工跡の形状をインラインでモニタして加工
条件に反映させることができる形状検査機能付きレーザ
加工装置を提供すること。 【解決手段】 レーザ加工装置1は、加工対象である基
板5を載置するとともに水平面内で移動可能な加工テー
ブル2と、レーザ加工ヘッド3と、レーザ加工ヘッド3
に固定されレーザ加工ヘッド3とともに上下方向に移動
可能な計測部4とを備える。そして、計測部4において
基板5上に形成された穴の位置および断面形状等を検知
することができる。このため、レーザ加工ヘッド3によ
る穴加工が終了したときに、基板5を加工テーブル2か
ら取り外すことなく、基板5上に形成された穴の断面形
状を確認することができる。すなわち、加工された穴の
深さをインラインで確認することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平板状の対象物に
レーザ光の照射により穿孔等の加工を行うレーザ加工装
置に関する。さらに詳細には、対象物を加工する位置は
もちろんのこと、加工の強さの程度をも更正することが
できる形状検査機能付きレーザ加工装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来から、プリント配線板など平板状の
ものに対する穿孔等の加工が、レーザ光の照射によりな
されている。このためのレーザ加工装置は一般的に、対
象物の載置テーブルとレーザ加工ヘッドとを、水平面内
で相対的に移動できるように構成されている。これによ
り、対象物上の所望の位置にレーザ光を照射して加工で
きるようにされている。また、この種のレーザ加工装置
には、対象物の表面を観察するための画像処理装置が備
えられているのが普通である。加工跡を観察して所望通
りの位置に加工できたか否かを確認するとともに、その
結果を次回の対象物の位置合わせに反映させるためであ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来のレーザ加工装置には、次のような問題点があっ
た。すなわち、レーザ加工においては加工位置のみなら
ず加工の程度(掘った深さ)も問題となる。ところが従
来のレーザ加工装置ではこれに関する考慮がされていな
かったのである。このため、掘った穴の深さをインライ
ンで確認することができなかった。したがって、内層に
停止パターンのない箇所に、狙い通りの深さの穴を正確
に形成することが困難であった。
【0004】本発明は、前記した従来のレーザ加工装置
が有する問題点を解決するためになされたものである。
すなわちその課題とするところは、加工跡の形状をイン
ラインでモニタして加工条件に反映させることができる
形状検査機能付きレーザ加工装置を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】この課題の解決を目的と
してなされた本発明の形状検査機能付きレーザ加工装置
は、平板状の対象物にレーザ光を照射して加工を行うレ
ーザ加工装置であって、対象物を載置する載置テーブル
と、載置テーブル上の対象物にレーザ加工を施すレーザ
加工ヘッドと、載置テーブル上の対象物の表面の凹凸を
モニタする凹凸モニタ手段とを有し、凹凸モニタ手段の
モニタ結果をレーザ加工ヘッドの加工条件に反映させる
ものである。
【0006】この形状検査機能付きレーザ加工装置で
は、対象物を載置テーブルに載置し、その対象物にレー
ザ加工ヘッドで加工を施す。すると、その加工跡の表面
の凹凸を凹凸モニタ手段でモニタすることができる。こ
れにより、当該加工跡の深さをインラインで知ることが
できる。これがわかると、次回のレーザ加工の加工条件
にその結果を反映させることができる。すなわち、加工
跡が狙いよりも深かった場合には、次回からは加工条件
を弱めればよい。逆に、加工跡が狙いよりも浅かった場
合には、次回からは加工条件を強めればよい。具体的に
は、同一の仕様の一群の対象物の加工をする前とか、レ
ーザ加工装置を起動させて最初に加工をする前などに、
ダミー品を用いて条件出しを行うとよい。
【0007】本発明の形状検査機能付きレーザ加工装置
においてはさらに、凹凸モニタ手段と載置テーブルとの
間で相対的に高さの変化および水平面内位置の変化が可
能であり、凹凸モニタ手段が、載置テーブル上の対象物
の一箇所に光を投射する光源を備え、光源からの光が対
象物の表面上に焦点を結ぶか否かにより当該一箇所の相
対的な高さをモニタするものであることが望ましい。こ
のようにした場合には、凹凸モニタ手段と載置テーブル
との相対的な高さを少しずつ変化させながら、光源から
の光が対象物の表面上に焦点を結ぶ高さを探し出すこと
により、当該一箇所の相対的な高さを知ることができ
る。
【0008】さらに本発明の形状検査機能付きレーザ加
工装置においては、凹凸モニタ手段が、対象物上のレー
ザ加工ヘッドによる加工跡を横切るスキャン操作によ
り、当該加工跡の断面形状をモニタするものであること
が望ましい。このようにした場合には、モニタの結果得
られた断面形状から、加工跡の内外での高さの差、すな
わち加工跡の深さを知ることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した実施の
形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。本実
施の形態では、形状検査機能付きレーザ加工装置を使用
して、プリント配線板においてビアホールやスルーホー
ル等を形成するための穴加工を施す場合について説明す
る。
【0010】まず、レーザ加工装置1の概略構成につい
て図1を用いて説明する。レーザ加工装置1は、図1に
示すように、加工対象となる基板5を載置する加工テー
ブル2と、基板5に穴加工を施すレーザ加工ヘッド3
と、レーザ加工ヘッド3により加工された穴の位置およ
び断面形状等を計測する計測部4とを備えている。加工
テーブル2は、X−Y軸方向(図1中では左右−前後方
向)、つまり水平面内で移動させることができるように
なっている。レーザ加工ヘッド3は、公知のレーザ加工
機であり、YAGレーザや炭酸ガスレーザ等の高出力の
レーザ光をレンズ等により集光して基板5に当て、局所
的に急速に加熱し基板5に対して加工を施すものであ
る。
【0011】計測部4は、図2に示すように、基板を撮
像するCCDカメラ10と、CCDカメラ10で基板5
を撮像する際に基板5を明るく照らすCCDカメラ用光
源11と、加工跡の形状検査を行うためのレーザ光を基
板5に照射するレーザ光源12と、基板5により反射さ
れたレーザ光の光量を検知する受光素子13と、レーザ
光源12から照射されたレーザ光およびその反射光の進
行方向を変えるミラー20,21とを備えている。レー
ザ光源12から照射されたレーザ光は、ミラー20によ
り進行方向を変えられ基板5上に照射されるようになっ
ている。レーザ光源12から照射されるレーザ光は、レ
ーザ加工ヘッド3から照射されるレーザ光とは異なるも
のであり、例えばHe−Neレーザ等である。また、基
板5により反射されたレーザ光は、ミラー20および2
1により進行方向を変えられ受光素子13で受光される
ようになっている。
【0012】この計測部4は、レーザ加工ヘッド3の側
方(図1中左方)に取り付けられている。計測部4はレ
ーザ加工ヘッド3とともに、Z軸方向つまり上下方向に
移動させることができるようになっている。このため、
計測部4と基板5との間隔(計測部4と基板5との相対
的な高さ)を少しずつ変化させることができる。これに
より、レーザ光源12からレーザ光を照射した状態で、
計測部4を上方向あるいは下方向のいずれかに少しずつ
移動させて、レーザ光が基板5の表面上で焦点を結ぶ位
置を受光素子13で得られるデータに基づき検知できる
ようになっている。
【0013】つまり、レーザ光源12から照射されたレ
ーザ光が基板5の表面で焦点を結んだとき、基板5によ
り反射され受光素子13で検知されるレーザ光の受光量
が最も大きくなる。このため、受光素子13により検知
される受光量が最大となる位置を探し出すことにより、
基板5の表面位置(表面形状)を検出することができ
る。従って、基板5上に形成された穴をレーザ光源12
から照射されたレーザ光が横切るように加工テーブル2
を少しずつ移動させ、各地点で計測部4を上下方向に移
動させて受光素子13で検知される受光量が最大となる
位置を探していくことにより、加工された穴の断面形状
を把握することができるのである。
【0014】図1に戻って、レーザ加工装置1に接続さ
れる周辺機器について説明する。レーザ加工装置1に
は、2次元画像処理装置14およびZ軸方向形状認識装
置15が接続されている。2次元画像処理装置14は、
CCDカメラ10に接続されており、CCDカメラ10
が取り込んだ画像データについて各種の演算処理を行う
ものである。Z軸方向形状認識装置15は、受光素子1
3に接続されており、受光素子13での検出データを処
理することにより、加工された穴の断面形状を求めるも
のである。そして、これら2次元画像処理装置14およ
びZ軸方向形状認識装置15は、ディスプレイ16に接
続され、それぞれの装置内での処理結果等をディスプレ
イ16上に図形等によって表示できるようになってい
る。これにより、基板5上に形成された穴の位置や断面
形状を、ディスプレイ16上で観察できる。このため、
穴が所望の位置に、設計通りの寸法(直径や深さ等)に
加工されたか否かを確認することができるようになって
いる。
【0015】続いて、レーザ加工装置1の動作について
説明する。まず、基板5が加工テーブル2上の規定位置
に載置され、その位置に吸引される等によって固定され
る。次に、予め記憶された穴開け加工を施す箇所に関す
る位置(座標)データに基づき加工テーブル2が移動さ
せられる。これで、基板5の穴開け加工を施す箇所がレ
ーザ加工ヘッド3の直下に位置する。そして、レーザ加
工ヘッド3からレーザ光が照射され、基板5に対して穴
開け加工が施される。レーザ加工ヘッド3による穴開け
加工は、予め決められた条件(レーザの出力や照射時間
等)に従い行われる。これにより、所望の位置に所望の
深さの穴が形成される。
【0016】ここで、従来では基板5上に形成された穴
の深さが設計通りの深さになっているか否かを調べるに
は、加工テーブル2から基板5を取り外して別の機器に
より検査しなければならなかった。ところが、本発明に
係るレーザ加工装置1では、レーザ加工ヘッド3による
穴加工が終了すると、基板5上に形成された穴の断面形
状が検出される。具体的には、レーザ加工ヘッド3によ
る加工が終了すると、レーザ光源12から照射されるレ
ーザ光が加工された穴を横切るように加工テーブル2が
移動させられる。つまり、基板5上に加工された穴がレ
ーザ光源12から照射されるレーザ光によってスキャン
されるのである。このスキャン操作と同時にZ軸方向形
状認識装置15によって基板5の表面位置が検出され
る。これらにより、計測部4において基板5上に加工さ
れた穴の断面形状が検出されるのである。そして、その
検出結果がディスプレイ16上に線画25により表示さ
れる。これにより、基板5に形成された穴の断面形状
(深さ)を確認することができる。
【0017】従って、レーザ加工ヘッド3による加工が
終了した後に、基板5を加工テーブル2に載置したまま
の状態で加工された穴の深さが設計通りの深さとなって
いるか否かを確認することができる。すなわち、加工さ
れた穴の深さをインラインで確認することができる。
【0018】なお、レーザ加工装置1においては、所望
の位置に穴が加工されているか否かの確認も行うことが
できる。つまり、加工終了後に穴開け加工が施されるべ
き位置がCCDカメラ10により撮像され、CCDカメ
ラ10で得られたデータが2次元画像処理装置14で処
理される。そして、その処理結果つまり加工穴の画像が
ディスプレイ16上に表示される。この加工穴の画像の
表示位置を確認することにより、所望の位置に穴が加工
されているか否かを確認することができるのである。
【0019】このため、レーザ加工装置1では、穴の深
さや加工位置についての確認結果を次回の加工条件や位
置合わせに反映させることができる。このように確認結
果を次回の加工条件や位置合わせに反映すれば、所望の
位置に精度良く設計通りの形状の穴を加工することがで
きる。従って、内層に停止パターンが設けられていなく
ても、設計通りの深さの穴を加工することができる。な
お、同一仕様の基板の加工をする前とか、レーザ加工装
置1を起動させて最初に加工をする前などに、ダミー品
を用いて条件出しを行うことが望ましい。これにより、
より精度良く設計通りの形状に加工することができるか
らである。
【0020】以上、詳細に説明したように本実施の形態
に係るレーザ加工装置1によれば、基板5上に形成され
た穴の断面形状をも検出できる計測部4を設けているの
で、レーザ加工ヘッド3による穴加工が終了すると、基
板5を加工テーブル2から取り外すことなく、基板5上
に形成された穴の断面形状をも確認することができる。
すなわち、加工された穴の深さをインラインで確認する
ことができる。従って、確認結果を次回の加工条件に反
映させることが可能となり、確認結果を次回の加工条件
に反映すれば、精度良く設計通りに穴加工をすることが
できる。
【0021】なお、本実施の形態は単なる例示にすぎ
ず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本
発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改
良、変形が可能である。上記実施の形態では穴加工を施
す場合を例示したが、穴加工に限らず任意の形状の加工
を施す場合でも、本発明に係るレーザ加工装置1を使用
することができる。この場合においても、加工対象物に
設計通りの形状を精度良く加工することができる。
【0022】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、加工跡の形状をインラインでモニタして加工条
件に反映させることができる形状検査機能付きレーザ加
工装置が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザ加工装置の概略構成を示す図である。
【図2】計測部の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
1 レーザ加工装置 2 加工テーブル 3 レーザ加工ヘッド 4 計測部 10 CCDカメラ 11 CCDカメラ用光源 12 レーザ光源 13 受光素子 14 2次元画像処理装置 15 Z軸方向形状認識装置 16 ディスプレイ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA02 AA03 AA24 AA25 AA27 AA51 AA52 BB01 CC01 DD06 FF01 FF04 FF10 FF44 GG05 JJ01 JJ03 JJ05 JJ26 MM03 NN20 PP02 PP12 QQ29 QQ31 RR06 SS01 SS02 SS13 4E068 AF00 CA08 CA17 CB09 CC02

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平板状の対象物にレーザ光を照射して加
    工を行うレーザ加工装置において、 対象物を載置する載置テーブルと、 前記載置テーブル上の対象物にレーザ加工を施すレーザ
    加工ヘッドと、 前記載置テーブル上の対象物の表面の凹凸をモニタする
    凹凸モニタ手段とを有し、 前記凹凸モニタ手段のモニタ結果を前記レーザ加工ヘッ
    ドの加工条件に反映させることを特徴とする形状検査機
    能付きレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載する形状検査機能付きレ
    ーザ加工装置において、 前記凹凸モニタ手段と前記載置テーブルとの間で相対的
    に高さの変化および水平面内位置の変化が可能であり、 前記凹凸モニタ手段は、 前記載置テーブル上の対象物の一箇所に光を投射する光
    源を備え、 前記光源からの光が対象物の表面上に焦点を結ぶか否か
    により前記一箇所の相対的な高さをモニタするものであ
    ることを特徴とする形状検査機能付きレーザ加工装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載する形状検査機能付きレ
    ーザ加工装置において、 前記凹凸モニタ手段は、対象物上の前記レーザ加工ヘッ
    ドによる加工跡を横切るスキャン操作により、当該加工
    跡の断面形状をモニタするものであることを特徴とする
    形状検査機能付きレーザ加工装置。
JP30371999A 1999-10-26 1999-10-26 形状検査機能付きレーザ加工装置 Pending JP2001121279A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30371999A JP2001121279A (ja) 1999-10-26 1999-10-26 形状検査機能付きレーザ加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30371999A JP2001121279A (ja) 1999-10-26 1999-10-26 形状検査機能付きレーザ加工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001121279A true JP2001121279A (ja) 2001-05-08

Family

ID=17924448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30371999A Pending JP2001121279A (ja) 1999-10-26 1999-10-26 形状検査機能付きレーザ加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001121279A (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7245412B2 (en) 2001-02-16 2007-07-17 Electro Scientific Industries, Inc. On-the-fly laser beam path error correction for specimen target location processing
US7425471B2 (en) 2004-06-18 2008-09-16 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots spaced on-axis with cross-axis offset
US7435927B2 (en) 2004-06-18 2008-10-14 Electron Scientific Industries, Inc. Semiconductor link processing using multiple laterally spaced laser beam spots with on-axis offset
US7629234B2 (en) 2004-06-18 2009-12-08 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots with joint velocity profiling
US7633034B2 (en) 2004-06-18 2009-12-15 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots overlapping lengthwise on a structure
US7687740B2 (en) 2004-06-18 2010-03-30 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots delivering multiple blows
US7935941B2 (en) 2004-06-18 2011-05-03 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots spaced on-axis on non-adjacent structures
WO2011096562A1 (ja) * 2010-02-08 2011-08-11 三菱電機株式会社 制御装置およびレーザ加工機
US8383982B2 (en) 2004-06-18 2013-02-26 Electro Scientific Industries, Inc. Methods and systems for semiconductor structure processing using multiple laser beam spots
US8497450B2 (en) 2001-02-16 2013-07-30 Electro Scientific Industries, Inc. On-the fly laser beam path dithering for enhancing throughput
CN104634274A (zh) * 2015-01-20 2015-05-20 北方工业大学 一种金属材料激光打孔形状的表征方法
JP2015105931A (ja) * 2013-12-03 2015-06-08 新東エスプレシジョン株式会社 測定機
JP2016196018A (ja) * 2015-04-03 2016-11-24 株式会社ディスコ レーザー加工装置
CN109483059A (zh) * 2017-09-11 2019-03-19 汉民科技股份有限公司 激光加工方法
CN109791042A (zh) * 2017-08-01 2019-05-21 普雷茨特两合公司 用于光学测量焊接深度的方法
JP7224703B1 (ja) 2022-08-29 2023-02-20 蜂谷工業株式会社 削孔管理システム、削孔管理プログラム、及び測定機

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7245412B2 (en) 2001-02-16 2007-07-17 Electro Scientific Industries, Inc. On-the-fly laser beam path error correction for specimen target location processing
US8497450B2 (en) 2001-02-16 2013-07-30 Electro Scientific Industries, Inc. On-the fly laser beam path dithering for enhancing throughput
US8238007B2 (en) 2001-02-16 2012-08-07 Electro Scientific Industries, Inc. On-the-fly laser beam path error correction for specimen target location processing
US7687740B2 (en) 2004-06-18 2010-03-30 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots delivering multiple blows
US8383982B2 (en) 2004-06-18 2013-02-26 Electro Scientific Industries, Inc. Methods and systems for semiconductor structure processing using multiple laser beam spots
US7629234B2 (en) 2004-06-18 2009-12-08 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots with joint velocity profiling
US7923306B2 (en) 2004-06-18 2011-04-12 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots
US7935941B2 (en) 2004-06-18 2011-05-03 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots spaced on-axis on non-adjacent structures
US7633034B2 (en) 2004-06-18 2009-12-15 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots overlapping lengthwise on a structure
US7425471B2 (en) 2004-06-18 2008-09-16 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots spaced on-axis with cross-axis offset
US7435927B2 (en) 2004-06-18 2008-10-14 Electron Scientific Industries, Inc. Semiconductor link processing using multiple laterally spaced laser beam spots with on-axis offset
WO2011096562A1 (ja) * 2010-02-08 2011-08-11 三菱電機株式会社 制御装置およびレーザ加工機
CN102712060A (zh) * 2010-02-08 2012-10-03 三菱电机株式会社 控制装置及激光加工机
JP4827998B2 (ja) * 2010-02-08 2011-11-30 三菱電機株式会社 制御装置およびレーザ加工機
JP2015105931A (ja) * 2013-12-03 2015-06-08 新東エスプレシジョン株式会社 測定機
CN104634274A (zh) * 2015-01-20 2015-05-20 北方工业大学 一种金属材料激光打孔形状的表征方法
JP2016196018A (ja) * 2015-04-03 2016-11-24 株式会社ディスコ レーザー加工装置
CN109791042A (zh) * 2017-08-01 2019-05-21 普雷茨特两合公司 用于光学测量焊接深度的方法
CN109791042B (zh) * 2017-08-01 2022-05-27 普雷茨特两合公司 用于光学测量焊接深度的方法
CN109483059A (zh) * 2017-09-11 2019-03-19 汉民科技股份有限公司 激光加工方法
JP7224703B1 (ja) 2022-08-29 2023-02-20 蜂谷工業株式会社 削孔管理システム、削孔管理プログラム、及び測定機
JP2024032366A (ja) * 2022-08-29 2024-03-12 蜂谷工業株式会社 削孔管理システム、削孔管理プログラム、及び測定機

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001121279A (ja) 形状検査機能付きレーザ加工装置
JP2005526386A5 (ja)
JP5298792B2 (ja) アライメントマークの検出方法
JP2006136923A (ja) レーザ加工機及びレーザ加工方法
KR20050024275A (ko) 반도체 와이퍼와 같은 공작물을 마킹하는 방법 및시스템과 이에 이용하는 레이저마커
JP2009139297A (ja) タイヤ形状検査方法とその装置
JP5484787B2 (ja) 断面形状検出方法、加工装置および断面形状検出用プログラム
JP5438475B2 (ja) 隙間段差計測装置、隙間段差計測方法、及びそのプログラム
TW591689B (en) Semiconductor device identification apparatus
JP2007326196A (ja) 工作具検査装置
KR102557190B1 (ko) 설계를 사용한 사전 층 결함 사이트 검토
US6384911B1 (en) Apparatus and method for detecting accuracy of drill holes on a printed circuit board
CN110010446B (zh) 加工方法
JP2004283998A (ja) 加工位置補正方法
US7952050B2 (en) Drilling method and laser machining apparatus
US11978645B2 (en) Laser processing apparatus
TW202107954A (zh) 印刷電路板之孔位資訊的檢測方法及設備
JP2013140082A (ja) 高さ測定装置及び高さ測定方法
JP2002137074A (ja) レーザ加工方法およびレーザ加工機
JP2003156311A (ja) アライメントマークの検出、登録方法及び装置
JPS62166914A (ja) 多層印刷配線板の基準孔穿孔装置
JP3643104B2 (ja) レーザ加工装置における加工位置ずれ補正方法
JP2766759B2 (ja) 繊維紡糸用口金の穿孔加工装置
JP3005515B2 (ja) 穿孔機の芯出し方法
JP4757595B2 (ja) 実装部品の検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060913

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081106

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081111

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090324

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090422

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090818