JP2001111182A - Wiring board - Google Patents

Wiring board

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JP2001111182A
JP2001111182A JP28681599A JP28681599A JP2001111182A JP 2001111182 A JP2001111182 A JP 2001111182A JP 28681599 A JP28681599 A JP 28681599A JP 28681599 A JP28681599 A JP 28681599A JP 2001111182 A JP2001111182 A JP 2001111182A
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JP
Japan
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wiring board
width
gap
conductor
insulating substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP28681599A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhisa Shiraishi
克久 白石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc filed Critical Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority to JP28681599A priority Critical patent/JP2001111182A/en
Publication of JP2001111182A publication Critical patent/JP2001111182A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent degradation in the electrical properties and reliability which are caused by locally narrowed wiring patterns, facilitate the arrangement design of the wiring patterns, reduce the consumption of etchant, reduce a time required for the disposal of effluents, and reduce the manufacturing cost. SOLUTION: The widths of conductor patterns 12a, 12b,... are partially widened so as to have the widths S of spacings 17 which separate the conductor patterns 12a, 12b,... from each other uniform.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は配線基板に関し、よ
り詳細には単体またはこれを複数個積層した多層配線基
板として、あるいはこれらを含んで構成されたPGA(P
in Grid Array)、BGA(Ball Grid Array) パッケージ
として通信機器等に組み込まれて使用される配線基板に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board, and more particularly, to a PGA (PGA) formed as a single wiring board or a multilayer wiring board obtained by laminating a plurality of such wiring boards.
The present invention relates to a wiring board which is incorporated in a communication device or the like as a BGA (Ball Grid Array) package.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は従来のこの種配線基板の主要部を
概略的に示した平面図であり、図6(e)は図5におけ
るA−A線断面図を示している。絶縁基板41はプラス
チック材料等を用いて略薄板形状に形成されており、絶
縁基板41における一主面41aの所定箇所には、幅が
Wの略折線形状をした導線部43が複数本形成されてい
る。各導線部43の所定箇所には直径がD1 の略円板形
状をしたランド44が形成され、ランド44の略中央部
からは絶縁基板41を貫通する略円筒形状をしたスルー
ホール45が延設されている。これら導線部43、ラン
ド44を含んで導体パターン42が構成されている。導
体パターン42の一端部はパッド46にそれぞれ接続さ
れる一方、導体パターン42の他端部側はメッキ用引出
線として絶縁板41の外側に導かれている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a plan view schematically showing a main part of a conventional wiring board of this type, and FIG. 6E is a sectional view taken along line AA in FIG. The insulating substrate 41 is formed in a substantially thin plate shape using a plastic material or the like, and a plurality of substantially bent conductor portions 43 having a width W are formed at predetermined positions on one main surface 41 a of the insulating substrate 41. ing. Land 44 to a predetermined location where the diameter has a substantially disk shape of D 1 of the respective wire portion 43 is formed, the through hole 45 is extended from a substantially central portion having a substantially cylindrical shape passing through the insulating substrate 41 of the land 44 Has been established. The conductor pattern 42 includes the conductor 43 and the land 44. One end of the conductor pattern 42 is connected to the pad 46, respectively, while the other end of the conductor pattern 42 is led out of the insulating plate 41 as a lead for plating.

【0003】導体パターン42どうしは空隙部47を介
して隔てられており、空隙部47の幅S(対向する一方
の導体パターン42の側端部と、他方の導体パターン4
2の側端部との間の最短距離)は導体パターン42の配
置具合により異なり、S1 、S2 、S3 、・・・(S1
<S2 <S3 <・・・)に設定されている。またスルー
ホール45下部における絶縁基板41の他主面41b側
には、直径がD2 の略円板形状をしたランド48(図6
(e))が形成されており、このランド48はスルーホ
ール45下部に接続されている。これら絶縁基板41、
導体パターン42、スルーホール45、空隙部47、ラ
ンド48等を含んで配線基板40が構成されている。こ
のように構成された配線基板40では、ランド48に入
力された信号がスルーホール45、導体パターン42を
介してパッド46側に出力される一方、パッド46に入
力された信号が導体パターン42、スルーホール45を
介してランド48側に出力されるようになっている。
The conductor patterns 42 are separated from each other by a gap 47, and the width S of the gap 47 (the side end of one of the opposed conductor patterns 42 and the other conductor pattern 4)
Depends shortest distance) is disposed condition of the conductor pattern 42 between the second side edge, S 1, S 2, S 3, ··· (S 1
<It is set to S 2 <S 3 <···) . The lands 48 to the other main surface 41b side of the insulating substrate 41 in the through hole 45 bottom, the diameter was substantially disk shape of D 2 (FIG. 6
(E)) is formed, and the land 48 is connected to a lower portion of the through hole 45. These insulating substrates 41,
The wiring board 40 includes the conductor pattern 42, the through hole 45, the gap 47, the land 48, and the like. In the wiring board 40 thus configured, a signal input to the land 48 is output to the pad 46 via the through hole 45 and the conductor pattern 42, while a signal input to the pad 46 is output to the conductor pattern 42, The signal is output to the land 48 via the through hole 45.

【0004】図6は従来の配線基板の製造方法の一例
(サブトラクティブ・プロセス)を工程順に示した模式
的断面図であり、(a)は孔明け工程、(b)(c)は
メッキ及びエッチングレジスト形成工程、(d)はエッ
チング工程を示し、また(e)はエッチングレジスト除
去工程後の完成状態を示している。まず、プラスチック
製の絶縁基板41の両主面41a、41bに銅箔51が
積層された両面銅張積層板50を用い、この所定箇所に
NC多軸ボール盤等を用いて所定形状の孔部52を形成
する(a)。この基板に無電解銅メッキ処理を施し、銅
箔51の表面と孔部52内の表面とにそれぞれ無電解銅
メッキ層53a、53bを同時に形成する。次に電解銅
メッキ処理を施し、無電解銅メッキ層53a、53bの
表面にそれぞれ電解銅メッキ層54a、54bを同時に
形成する。この後、孔部52の開口部を塞ぐ態様で電解
銅メッキ層54aの表面に感光性ドライフィルム55、
56を貼りつける(b)。次に2種類(表裏用)のマス
ク(図示せず)を介し、光を感光性ドライフィルム5
5、56にそれぞれ照射した後、現像・リンス処理を施
し、所定形状のエッチングレジスト膜55a、55b、
56aを形成する(c)。次いでこれにウエットエッチ
ング処理を施し、エッチングレジスト膜55a、55
b、56aで覆われていない銅メッキ層54a、53a
及び銅箔51の部分を溶解除去し、空隙部47を形成す
る。するとエッチングレジスト膜55aと絶縁基板41
との間に銅メッキ層部54c、53c、銅箔部51aを
含んで構成された導線部43が形成される。またエッチ
ングレジスト膜55bと絶縁基板41との間に銅メッキ
層部54d、53d、銅箔部51bを含んで構成された
ランド44が形成されると共に、エッチングレジスト膜
56aと絶縁基板41との間に銅メッキ層部54e、5
3e、銅箔部51cを含んで構成されたランド48が形
成される。また孔部52内には、メッキ層53b、54
b等を含んで構成されたスルーホール45が形成される
(d)。この後、エッチングレジスト膜55a、55
b、56aを剥離すると、絶縁基板41に所定形状の導
線部43、ランド44、48、スルーホール45、空隙
部47を備えた配線基板が形成される(e)。
FIGS. 6A and 6B are schematic sectional views showing an example of a conventional method of manufacturing a wiring board (subtractive process) in the order of steps, wherein FIG. 6A shows a punching step, and FIGS. An etching resist forming step, (d) shows an etching step, and (e) shows a completed state after the etching resist removing step. First, a double-sided copper-clad laminate 50 in which a copper foil 51 is laminated on both main surfaces 41a and 41b of a plastic insulating substrate 41 is used. Is formed (a). This substrate is subjected to an electroless copper plating process, and electroless copper plating layers 53a and 53b are simultaneously formed on the surface of the copper foil 51 and the surface of the hole 52, respectively. Next, electrolytic copper plating is performed, and electrolytic copper plating layers 54a and 54b are simultaneously formed on the surfaces of the electroless copper plating layers 53a and 53b, respectively. Thereafter, a photosensitive dry film 55 is formed on the surface of the electrolytic copper plating layer 54a so as to cover the opening of the hole 52.
56 is attached (b). Next, light is applied to the photosensitive dry film 5 via two types (front and back) of masks (not shown).
After irradiating 5 and 56, respectively, a developing and rinsing process is performed to form etching resist films 55a, 55b,
56a is formed (c). Next, this is subjected to a wet etching process, so that the etching resist films 55a and 55
b, copper plating layers 54a, 53a not covered with 56a
Then, a portion of the copper foil 51 is dissolved and removed to form a void 47. Then, the etching resist film 55a and the insulating substrate 41
The conductive wire portion 43 including the copper plating portions 54c and 53c and the copper foil portion 51a is formed between them. A land 44 including the copper plating layer portions 54d and 53d and the copper foil portion 51b is formed between the etching resist film 55b and the insulating substrate 41, and between the etching resist film 56a and the insulating substrate 41. The copper plating layer portions 54e, 5
3e, a land 48 including the copper foil portion 51c is formed. In the hole 52, plating layers 53b, 54
A through-hole 45 including b and the like is formed (d). Thereafter, the etching resist films 55a, 55
When b and 56a are peeled off, a wiring board having a conductive wire portion 43, lands 44 and 48, through holes 45, and void portions 47 having a predetermined shape is formed on the insulating substrate 41 (e).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図7は図5におけるB
領域を拡大して示した模式的拡大図であり、一点鎖線は
エッチングレジスト膜の設定位置、実線はエッチング処
理後における導体を示している。また図中41は絶縁基
板、42は導体パターン、43は導線部、44はラン
ド、45はスルーホール、47は空隙部、Sは空隙部4
7の幅をそれぞれ示している。上記した配線基板40に
おいては、図7に示したように、空隙部47の幅がS
1 、S2 、S3 、・・・と広くなるにつれ、この近傍の
導体パターン42が目標とするエッチングレジスト膜5
5a、55b(図6)の形状よりもオーバーエッチング
され、その幅が狭くなり易い。その結果、配線基板40
の電気特性や信頼性に問題が出てくるおそれがあるとい
う課題があった。また比較的広い幅S4 〜S7 の空隙部
47があるため、エッチング処理工程の際、エッチング
レジスト膜55a、55bで覆われていない銅メッキ層
54a、53a、銅箔51(図6(c))部分の溶解除
去量が多い。この結果、配線基板40当たりのエッチン
グ液量が増大すると共に、使用済みエッチング液中の不
純物除去に時間がかかり、廃液処理コストが高くつき易
いという課題があった。また導体パターン42が規則的
に配置されており、この配置を崩す場合には設計が面倒
となるおそれがあるという課題があった。
FIG. 7 is a block diagram of FIG.
FIG. 2 is a schematic enlarged view showing a region in an enlarged manner, wherein a dashed line indicates a set position of the etching resist film, and a solid line indicates a conductor after the etching process. In the figure, 41 is an insulating substrate, 42 is a conductor pattern, 43 is a conductor, 44 is a land, 45 is a through hole, 47 is a gap, S is a gap 4
7 are respectively shown. In the above-described wiring board 40, as shown in FIG.
.. , S 2 , S 3 ,...
It is over-etched compared to the shapes of 5a and 55b (FIG. 6), and the width thereof is likely to be reduced. As a result, the wiring board 40
There is a problem that a problem may arise in the electrical characteristics and reliability of the device. In addition, since there is a gap 47 having a relatively wide width S 4 to S 7 , during the etching process, the copper plating layers 54 a, 53 a and the copper foil 51 not covered with the etching resist films 55 a, 55 b (FIG. 6C )) The amount of dissolution and removal of the part is large. As a result, there is a problem that the amount of the etching solution per the wiring substrate 40 is increased, and it takes time to remove impurities in the used etching solution, so that the waste liquid processing cost is easily increased. In addition, the conductor patterns 42 are regularly arranged, and if this arrangement is broken, there is a problem that the design may be troublesome.

【0006】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、導体パターンの配置設計を困難にすることなく、導
体パターンのオーバーエッチングを阻止して電気特性や
信頼性を向上させることができると共に、エッチング液
の使用量の減少や廃液処理の迅速化を図り、エッチング
処理コストや廃液処理コストを削減することができる配
線基板を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and can prevent overetching of a conductor pattern and improve electrical characteristics and reliability without making the layout design of the conductor pattern difficult. It is an object of the present invention to provide a wiring substrate capable of reducing the amount of etching solution used and speeding up waste liquid treatment, and reducing the etching treatment cost and waste liquid treatment cost.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段及びその効果】ところで、
エッチングレジスト膜55a、55bで覆われていない
銅メッキ層54a、53a、銅箔51(図6(c))部
分のエッチング速度は、空隙部47の幅Sが狭い場合、
主としてエッチング液中へのメッキ成分の溶解拡散速度
により規制されるため、比較的遅い。一方、空隙部47
の幅Sが広い場合、エッチング液の循環状態が良好とな
り、エッチング速度が速くなり、エッチングレジスト膜
55a、55bで覆われている部分の側壁部をこえてオ
ーバーエッチングされ易い。本発明者は上記知見に基づ
き、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems and Their Effects
The etching rate of the copper plating layers 54a, 53a and the copper foil 51 (FIG. 6C) that are not covered with the etching resist films 55a, 55b is such that the width S of the gap 47 is small.
It is relatively slow because it is mainly controlled by the dissolution and diffusion rate of the plating component in the etching solution. On the other hand, the void 47
Is wide, the circulation state of the etching solution is good, the etching rate is high, and the etching is liable to be over-etched beyond the side walls of the portions covered with the etching resist films 55a and 55b. The present inventors have completed the present invention based on the above findings.

【0008】上記目的を達成するために本発明に係る配
線基板(1)は、絶縁基板の主面に形成された複数本の
導体パターンと、これら導体パターンどうしを隔てる空
隙部とを備えた配線基板において、前記空隙部幅が均一
化されるように前記導体パターン幅が部分的に広く設定
されていることを特徴としている。上記した配線基板
(1)によれば、前記空隙部幅が均一化されるように前
記導体パターン幅が部分的に広く設定されているので、
前記導体パターンが均一にエッチングされ易く、オーバ
ーエッチングにより前記導体パターンの幅が局部的に細
くなるのを阻止することができ、電気特性や信頼性を向
上させることができる。またエッチング除去量を減少さ
せ得るため、エッチング液の使用量を少なくすることが
できると共に廃液処理を容易にすることができ、この結
果、製造コストを削減することができる。
In order to achieve the above object, a wiring board (1) according to the present invention provides a wiring board having a plurality of conductor patterns formed on a main surface of an insulating substrate and a gap separating these conductor patterns. The substrate is characterized in that the width of the conductor pattern is set to be partially wide so that the width of the gap is made uniform. According to the above-mentioned wiring board (1), the width of the conductor pattern is set to be partially wide so that the width of the gap is made uniform.
The conductor pattern can be easily etched uniformly, and the width of the conductor pattern can be prevented from being locally reduced by over-etching, so that electrical characteristics and reliability can be improved. Further, since the etching removal amount can be reduced, the amount of the etching solution used can be reduced, and the waste liquid treatment can be facilitated. As a result, the manufacturing cost can be reduced.

【0009】また本発明に係る配線基板(2)は、絶縁
基板の主面に形成された複数本の導体パターンと、これ
ら導体パターンどうしを隔てる空隙部とを備えた配線基
板において、前記空隙部幅の均一化を図るためのダミー
パターンが前記導体パターン間に形成されていることを
特徴としている。上記した配線基板(2)によれば、前
記空隙部幅の均一化を図るためのダミーパターンが前記
導体パターン間に形成されているので、前記導体パター
ンの幅を所定値に維持したままで前記空隙部幅の均一化
を図ることができると共に、前記ダミーパターンをグラ
ンドとしても利用することができ、電気特性や信頼性を
一層向上させることができる。また前記導体パターンの
配置設計を容易にすることができ、かつエッチング液の
使用量を少なくすると共に廃液処理を容易にすることが
でき、これらの結果、製造コストを一層削減することが
できる。
A wiring board (2) according to the present invention is a wiring board comprising: a plurality of conductor patterns formed on a main surface of an insulating substrate; and a gap separating the conductor patterns. A feature is that a dummy pattern for uniforming the width is formed between the conductor patterns. According to the above-described wiring board (2), since the dummy pattern for uniforming the gap width is formed between the conductor patterns, the width of the conductor pattern is maintained at a predetermined value. The gap width can be made uniform, and the dummy pattern can be used as a ground, so that electrical characteristics and reliability can be further improved. In addition, the layout design of the conductor pattern can be facilitated, the amount of use of the etchant can be reduced, and the waste liquid treatment can be facilitated. As a result, the manufacturing cost can be further reduced.

【0010】また本発明に係る配線基板(3)は、絶縁
基板の主面に形成された複数本の導体パターンと、これ
ら導体パターンどうしを隔てる空隙部とを備えた配線基
板において、前記空隙部幅が均一化されるように前記導
体パターン幅が部分的に広く設定されると共に、前記導
体パターン間にダミーパターンが形成されていることを
特徴としている。上記した配線基板(3)によれば、前
記空隙部幅が均一化されるように前記導体パターン幅が
部分的に広く設定されると共に、前記導体パターン間に
ダミーパターンが形成されているので、配線基板(2)
と略同様の効果を得ることができると共に、前記ダミー
パターンを連続的に設定することにより、電気特性をよ
り一層高めることができる。
The wiring board (3) according to the present invention is a wiring board comprising: a plurality of conductor patterns formed on a main surface of an insulating substrate; and a gap separating the conductor patterns. The width of the conductor pattern is set to be partially large so that the width is uniform, and a dummy pattern is formed between the conductor patterns. According to the above-described wiring board (3), the width of the conductor pattern is set to be partially large so that the width of the gap is uniform, and the dummy pattern is formed between the conductor patterns. Wiring board (2)
The same effect as described above can be obtained, and the electrical characteristics can be further improved by continuously setting the dummy patterns.

【0011】また本発明に係る配線基板(4)は、上記
配線基板(1)〜(3)のいずれかにおいて、前記空隙
部の広い箇所と狭い箇所との幅寸法割合が2以下に設定
されていることを特徴としている。上記した配線基板
(4)によれば、前記空隙部の広い箇所と狭い箇所との
幅寸法割合が2以下に設定されているので、前記導体パ
ターンが局部的にオーバーエッチングされて細くなるの
を確実に阻止することができる。
Further, in the wiring board (4) according to the present invention, in any of the wiring boards (1) to (3), the width ratio between the wide portion and the narrow portion of the void is set to 2 or less. It is characterized by having. According to the above-described wiring board (4), since the width dimension ratio between the wide portion and the narrow portion of the gap is set to 2 or less, it is possible to prevent the conductor pattern from being locally over-etched and thinned. It can be reliably prevented.

【0012】また本発明に係る配線基板(5)は、上記
配線基板(1)〜(3)のいずれかにおいて、前記空隙
部幅が0.05〜0.10mmの範囲内に設定されてい
ることを特徴としている。上記した配線基板(5)によ
れば、前記空隙部幅が0.05〜0.10mmの範囲内
に設定されているので、前記導体パターンが局部的にオ
ーバーエッチングされて細くなるのを確実に阻止すると
共に、エッチング除去量を確実に減少させることができ
る。
Further, in the wiring board (5) according to the present invention, in any of the wiring boards (1) to (3), the gap width is set in a range of 0.05 to 0.10 mm. It is characterized by: According to the above-mentioned wiring board (5), since the gap width is set in the range of 0.05 to 0.10 mm, it is ensured that the conductor pattern is locally overetched and thinned. In addition to this, it is possible to surely reduce the etching removal amount.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る配線基板の実
施の形態を図面に基づいて説明する。なお、従来例と同
一機能を有する構成部品には同一の符号を付すこととす
る。図1は実施の形態(1)に係る配線基板の主要部を
概略的に示した平面図であり、図2(e)は図1におけ
るA−A線断面図を示している。図5〜図6に示したも
のと同様に絶縁基板41はプラスチック材料を用いて略
薄板形状に形成されており、絶縁基板41における一主
面41aの所定箇所には、所定の幅Wないしはこれより
も広い幅の略帯形状をした導線部13a、13b、・・
・が複数本形成されている。一点鎖線で示すように、各
導線部13a、13b、・・・内の所定箇所には直径が
1 の略円板形状をしたランド14が形成されており、
ランド14の略中央部からは絶縁基板41を貫通する略
円筒形状をしたスルーホール15が延設されている。こ
れら導線部13a、13b、・・・、ランド14を含ん
で導体パターン12a、12b、・・・が構成されてい
る。図5に示したものと同様、導体パターン12a、1
2b、・・・の一端部はパッド46にそれぞれ接続され
る一方、導体パターン12a、12b、・・・の他端部
側はメッキ用引き出し線として絶縁板41の外側に導か
れている。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a wiring board according to the present invention. Note that components having the same functions as those of the conventional example are denoted by the same reference numerals. FIG. 1 is a plan view schematically showing a main part of a wiring board according to the embodiment (1), and FIG. 2E is a sectional view taken along line AA in FIG. As shown in FIGS. 5 and 6, the insulating substrate 41 is formed in a substantially thin plate shape using a plastic material, and a predetermined width W or a predetermined width W is formed at a predetermined position on one main surface 41a of the insulating substrate 41. Conducting wire portions 13a, 13b having a substantially wider band width than
・ A plurality of are formed. As shown by a chain line, the conductor portion 13a, 13b, at a predetermined location within ... it is formed lands 14 which diameter has a substantially disk shape of D 1,
A substantially cylindrical through hole 15 penetrating the insulating substrate 41 extends from a substantially central portion of the land 14. The conductor patterns 12a, 12b,... Include these conductor portions 13a, 13b,. Similar to the one shown in FIG.
Are connected to the pads 46, respectively, while the other ends of the conductor patterns 12a, 12b,... Are led out of the insulating plate 41 as lead wires for plating.

【0014】導体パターン12a、12b、・・・どう
しは空隙部17を介して隔てられており、空隙部17の
幅Sは0.05〜0.10mmの範囲内に設定されると
共に、幅Sの広い箇所と狭い箇所との寸法割合は2以下
に設定されている。またスルーホール15下部における
絶縁基板41の他主面41b側には、直径がD2 の略円
板形状をしたランド18(図2(e))が形成されてお
り、このランド18はスルーホール15下部に接続され
ている。これら絶縁基板41、導体パターン12a、1
2b、・・・、スルーホール15、空隙部17、ランド
18等を含んで配線基板10が構成されている。このよ
うに構成された配線基板10では、ランド18に入力さ
れた信号がスルーホール15、導体パターン12a、1
2b、・・・・を介してパッド46側に出力される一
方、パッド46に入力された信号が導体パターン12
a、12b、・・・、スルーホール15を介してランド
18側に出力されるようになっている。
The conductor patterns 12a, 12b,... Are separated from each other via a gap 17, and the width S of the gap 17 is set within a range of 0.05 to 0.10 mm. The dimensional ratio between the wide part and the narrow part is set to 2 or less. The other principal surface 41b side of the insulating substrate 41 in the through hole 15 bottom is formed with a land 18 having a diameter and a generally circular disk shape D 2 (FIG. 2 (e)), the land 18 is a through hole 15 is connected to the lower part. These insulating substrate 41, conductor patterns 12a, 1
2b,..., The through-hole 15, the gap 17, the land 18, and the like constitute the wiring board 10. In the wiring board 10 configured as described above, the signal input to the land 18 is transmitted to the through hole 15, the conductor pattern 12 a,
2b,... Are output to the pad 46 side, while the signal input to the pad 46 is
, 12b,..., are output to the lands 18 via the through holes 15.

【0015】図2は実施の形態(1)に係る配線基板の
製造方法の一例(サブトラクティブ・プロセス)を工程
順に示した模式的断面図であり、(a)は孔明け工程、
(b)(c)はメッキ及びエッチングレジスト形成工
程、(d)はエッチング工程を示し、また(e)はエッ
チングレジスト除去工程後の完成状態を示している。ま
ず図6に示した場合と略同様、プラスチック製の絶縁基
板41の両主面41a、41bに銅箔21が積層された
両面銅張積層板20を用い、この所定箇所にNC多軸ボ
ール盤等を用いて所定形状の孔部52を形成する
(a)。図6に示した場合と略同様、この基板に無電解
銅メッキ処理を施し、銅箔21の表面と孔部52内の表
面とにそれぞれ無電解銅メッキ層23a、23bを同時
に形成する。次いで電解銅メッキ処理を施し、無電解銅
メッキ層23a、23bの表面にそれぞれ電解銅メッキ
層24a、24bを同時に形成する。この後、孔部52
の開口部を塞ぐ態様で電解銅メッキ層24aの表面に感
光性ドライフィルム25、26を貼りつける(b)。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example (subtractive process) of a method of manufacturing a wiring board according to the embodiment (1) in the order of steps.
(B) and (c) show a plating and etching resist forming step, (d) shows an etching step, and (e) shows a completed state after the etching resist removing step. First, a double-sided copper-clad laminate 20 in which a copper foil 21 is laminated on both main surfaces 41a and 41b of an insulating substrate 41 made of plastic is used in substantially the same manner as shown in FIG. A hole 52 having a predetermined shape is formed by using (a). Similar to the case shown in FIG. 6, the substrate is subjected to an electroless copper plating process, and the electroless copper plating layers 23a and 23b are simultaneously formed on the surface of the copper foil 21 and the surface in the hole 52, respectively. Next, electrolytic copper plating is performed to form electrolytic copper plating layers 24a and 24b on the surfaces of the electroless copper plating layers 23a and 23b, respectively. After this, the hole 52
The photosensitive dry films 25 and 26 are attached to the surface of the electrolytic copper plating layer 24a so as to cover the openings (b) (b).

【0016】次に新たに設計製作した2種類(表裏用)
のマスク(図示せず)を介し、光を感光性ドライフィル
ム25、26にそれぞれ照射した後、現像・リンス処理
を施し、所定形状のエッチングレジスト膜25a〜25
c、26aを形成する。すると、エッチングレジスト膜
25a〜25cどうしの間隙がSに設定される(c)。
次いでこれにウエットエッチング処理を施し、エッチン
グレジスト膜25a〜25c、26aで覆われていない
銅メッキ層24a、23a及び銅箔21の部分を溶解除
去し、空隙部17を形成する。このとき、エッチング装
置としては浸漬式、スプレー式、または噴流式のいずれ
かのものを使用する。するとエッチングレジスト膜25
aと絶縁基板41との間に銅メッキ層部24c、23
c、銅箔部21aを含んで構成された導線部13aが形
成されると共に、エッチングレジスト膜25bと絶縁基
板41との間に銅メッキ層部24d、23d、銅箔部2
1bを含んで構成された導線部13bが形成される。ま
たエッチングレジスト膜25cと絶縁基板41との間に
銅メッキ層部24e、23e、銅箔部21cを含んで構
成されたランド14が形成されると共に、エッチングレ
ジスト膜26aと絶縁基板41との間に銅メッキ層部2
4f、23f、銅箔部21dを含んで構成されたランド
18が形成される。また孔部52内には、メッキ層23
b、24b等を含んで構成されたスルーホール15が形
成される(d)。この後、エッチングレジスト膜25a
〜25c、26aを剥離すると、絶縁基板41に所定形
状の導線部13a、13b、・・・、ランド14、1
8、スルーホール15、空隙部17を備えた配線基板が
形成される(e)。
Next, two types newly designed and manufactured (for front and back)
After irradiating the photosensitive dry films 25 and 26 with light through masks (not shown), the photosensitive dry films 25 and 26 are subjected to development and rinsing treatments, so that etching resist films 25a to 25
c, 26a are formed. Then, the gap between the etching resist films 25a to 25c is set to S (c).
Next, this is subjected to a wet etching process, and portions of the copper plating layers 24a, 23a and the copper foil 21 which are not covered with the etching resist films 25a to 25c, 26a are dissolved and removed to form the voids 17. At this time, any of an immersion type, a spray type, and a jet type is used as the etching device. Then, the etching resist film 25 is formed.
a between the copper plating layer portions 24 c and 23
c, the conductive wire portion 13a including the copper foil portion 21a is formed, and the copper plating layer portions 24d and 23d, the copper foil portion 2 are provided between the etching resist film 25b and the insulating substrate 41.
The conductor portion 13b including 1b is formed. Further, a land 14 including the copper plating layers 24e and 23e and the copper foil 21c is formed between the etching resist film 25c and the insulating substrate 41, and between the etching resist film 26a and the insulating substrate 41. Copper plating layer 2
A land 18 including 4f, 23f and the copper foil portion 21d is formed. In the hole 52, the plating layer 23 is formed.
Through holes 15 including b, 24b and the like are formed (d). After this, the etching resist film 25a
, 25a and 26a are peeled off, and the conductors 13a, 13b,...
8, a wiring board having through holes 15 and voids 17 is formed (e).

【0017】上記説明から明らかなように、実施の形態
(1)に係る配線基板10では、空隙部の幅Sが均一化
されるように導体パターン12a、12b、・・・の幅
が部分的に広く設定されているので、導体パターン12
a、12b、・・・が均一にエッチングされ易く、オー
バーエッチングにより導体パターン12a、12b、・
・・の幅が局部的に細くなるのを阻止することができ、
電気特性や信頼性を向上させることができる。またエッ
チング除去量を減少させ得るため、エッチング液の使用
量を少なくすることができると共に廃液処理を容易にす
ることができ、この結果、製造コストを削減することが
できる。
As apparent from the above description, in the wiring board 10 according to the embodiment (1), the widths of the conductor patterns 12a, 12b,. The conductor pattern 12
are easy to be uniformly etched, and the conductor patterns 12a, 12b,.
..The width of the area can be prevented from becoming thin locally,
Electrical characteristics and reliability can be improved. Further, since the etching removal amount can be reduced, the amount of the etching solution used can be reduced, and the waste liquid treatment can be facilitated. As a result, the manufacturing cost can be reduced.

【0018】また、空隙部17の幅Sの広い箇所と狭い
箇所との寸法割合が2以下に設定されているので、導体
パターン12a、12b、・・・が局部的にオーバーエ
ッチングされて細くなるのを確実に阻止することができ
る。
Since the dimensional ratio between the wide portion and the narrow portion of the gap 17 is set to 2 or less, the conductor patterns 12a, 12b,... Can be reliably prevented.

【0019】また、空隙部17の幅が0.05〜0.1
0mmの範囲内に設定されているので、導体パターン1
2a、12b、・・・が局部的にオーバーエッチングさ
れて細くなるのを確実に阻止すると共に、エッチング除
去量を確実に減少させることができる。
The width of the gap 17 is 0.05 to 0.1.
0 mm, the conductor pattern 1
.. Can be reliably prevented from being locally over-etched and thinned, and the etching removal amount can be surely reduced.

【0020】図3は実施の形態(2)に係る配線基板の
主要部を概略的に示した平面図であり、図5に示したも
のと略同様、図中41は絶縁基板、42は導体パター
ン、43は導線部、44はランド、45はスルーホー
ル、46はパッドを示している。図5に示した空隙部4
7内にはダミーパターン39がそれぞれ形成されてお
り、所定のダミーパターン39は接地されるようになっ
ている。またダミーパターン39、導体パターン42ど
うしは空隙部37を介して隔てられており、この空隙部
37の幅Sは0.05〜0.10mmの範囲内に設定さ
れると共に、幅Sの広い箇所と狭い箇所との寸法割合は
2以下に設定されている。その他の構成及び製造方法は
図5、図6に示したものと略同様であるので、ここでは
その構成及び製造方法の詳細な説明は省略することとす
る。これら空隙部37、ダミーパターン39、絶縁基板
41、導体パターン42、スルーホール45、空隙部4
7等を含んで配線基板30が構成されている。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a main part of a wiring board according to the embodiment (2). In the same manner as shown in FIG. 5, reference numeral 41 denotes an insulating substrate, and reference numeral 42 denotes a conductor. Reference numeral 43 denotes a conductor, 44 denotes a land, 45 denotes a through hole, and 46 denotes a pad. Void 4 shown in FIG.
A dummy pattern 39 is formed in each of the elements 7, and a predetermined dummy pattern 39 is grounded. The dummy pattern 39 and the conductor pattern 42 are separated from each other via a gap 37, and the width S of the gap 37 is set in a range of 0.05 to 0.10 mm, and a portion having a large width S is set. The dimensional ratio between the and the narrow portion is set to 2 or less. Other structures and manufacturing methods are substantially the same as those shown in FIGS. 5 and 6, and therefore, detailed description of the structures and manufacturing methods is omitted here. These voids 37, dummy patterns 39, insulating substrate 41, conductor patterns 42, through holes 45, voids 4
The wiring board 30 is configured to include 7 and the like.

【0021】上記説明から明らかなように、実施の形態
(2)に係る配線基板30では、空隙部47の幅Sの均
一化を図るためのダミーパターン39が導体パターン4
2間に形成されているので、導体パターン42の幅を所
定値Wに維持したままで空隙部47の幅Sの均一化を図
ることができると共に、ダミーパターン39をグランド
としても利用することができ、電気特性や信頼性を一層
向上させることができる。また導体パターン42の配置
設計を容易にすることができ、かつエッチング液の使用
量を少なくすると共に廃液処理を容易にすることがで
き、これらの結果、製造コストを一層削減することがで
きる。
As is clear from the above description, in the wiring board 30 according to the embodiment (2), the dummy pattern 39 for making the width S of the gap 47 uniform is formed by the conductor pattern 4.
Since it is formed between the two, the width S of the void portion 47 can be made uniform while the width of the conductor pattern 42 is maintained at the predetermined value W, and the dummy pattern 39 can also be used as a ground. Thus, electrical characteristics and reliability can be further improved. Further, the layout design of the conductor pattern 42 can be facilitated, the amount of use of the etchant can be reduced, and the waste liquid treatment can be facilitated. As a result, the manufacturing cost can be further reduced.

【0022】また、空隙部37の幅Sの広い箇所と狭い
箇所との寸法割合が2以下に設定されているので、導体
パターン42が局部的にオーバーエッチングされて細く
なるのを確実に阻止することができる。
Further, since the dimensional ratio between the wide portion and the narrow portion of the gap 37 is set to 2 or less, the conductor pattern 42 is reliably prevented from being locally over-etched and thinned. be able to.

【0023】また、空隙部37の幅が0.05〜0.1
0mmの範囲内に設定されているので、導体パターン4
2が局部的にオーバーエッチングされて細くなるのを確
実に阻止すると共に、エッチング除去量を確実に減少さ
せることができる。
The width of the gap 37 is 0.05 to 0.1.
0 mm, the conductor pattern 4
2 can be reliably prevented from being locally over-etched and thinned, and the etching removal amount can be reliably reduced.

【0024】図4は実施の形態(3)に係る配線基板の
主要部を概略的に示した平面図であり、図中41は図1
に示したものと略同様の絶縁基板を示している。絶縁基
板41における一主面41aの所定箇所には、所定の幅
Wないしはこれよりも広い幅の略流線形状をした導線部
63が複数個形成されている。一点鎖線で示すように、
導線部63内の所定箇所には直径がD1 の略円板形状を
したランド64が形成されており、ランド64の略中央
部からは絶縁基板41を貫通する略円筒形状をしたスル
ーホール65が延設されている。これら導線部63、ラ
ンド64を含んで導体パターン62が構成されている。
一方、導体パターン62間にはダミーパターン69がそ
れぞれ略細長い半島形状に連続的に形成され、ダミーパ
ターン69端部は絶縁基板41の外側に導かれており、
全てのダミーパターン69は接地されるようになってい
る。導体パターン62どうしや、導体パターン62とダ
ミーパターン69とは空隙部67を介してそれぞれ隔て
られており、この空隙部67の幅Sは0.05〜0.1
0mmの範囲内に設定されると共に、幅Sの広い箇所と
狭い箇所との寸法割合は2以下に設定されている。その
他の構成及び製造方法は図1〜図3に示したものと略同
様であるので、ここではその構成及び製造方法の詳細な
説明は省略することとする。これら絶縁基板41、ダミ
ーパターン69、導体パターン62、スルーホール6
5、空隙部67等を含んで配線基板60が構成されてい
る。
FIG. 4 is a plan view schematically showing a main part of the wiring board according to the embodiment (3). In FIG.
Shows an insulating substrate substantially similar to that shown in FIG. At a predetermined location on one main surface 41a of the insulating substrate 41, a plurality of substantially streamline-shaped conductor portions 63 having a predetermined width W or a width wider than this are formed. As shown by the dashed line,
The predetermined portion of the conductor portion 63 is formed with a land 64 having a diameter and a generally circular disk shape D 1, the through hole 65 from a substantially central portion having a substantially cylindrical shape passing through the insulating substrate 41 of the land 64 Is extended. The conductor pattern 62 includes the conductor portion 63 and the land 64.
On the other hand, the dummy patterns 69 are continuously formed in a substantially elongated peninsula shape between the conductor patterns 62, and the ends of the dummy patterns 69 are guided to the outside of the insulating substrate 41,
All the dummy patterns 69 are grounded. The conductor patterns 62 are separated from each other, and the conductor pattern 62 and the dummy pattern 69 are separated from each other via a gap 67. The width S of the gap 67 is 0.05 to 0.1.
It is set within the range of 0 mm, and the dimensional ratio between the wide portion and the narrow portion of the width S is set to 2 or less. Other configurations and manufacturing methods are substantially the same as those shown in FIGS. 1 to 3, and thus detailed description of the configurations and manufacturing methods will be omitted. These insulating substrate 41, dummy pattern 69, conductor pattern 62, through hole 6
5, the wiring board 60 includes the void 67 and the like.

【0025】上記説明から明らかなように、実施の形態
(3)に係る配線基板60では、空隙部67の幅Sが均
一化されるように導体パターン62の幅が部分的に広く
設定されると共に、導体パターン62間にダミーパター
ン69が形成されているので、配線基板(2)と略同様
の効果を得ることができると共に、ダミーパターン69
を連続的に設定することにより、電気特性をより一層高
めることができる。
As is clear from the above description, in the wiring board 60 according to the embodiment (3), the width of the conductor pattern 62 is set to be partially wide so that the width S of the gap 67 is made uniform. In addition, since the dummy pattern 69 is formed between the conductor patterns 62, substantially the same effect as that of the wiring board (2) can be obtained, and the dummy pattern 69 can be obtained.
, The electrical characteristics can be further improved.

【0026】また、空隙部67の幅Sの広い箇所と狭い
箇所との寸法割合が2以下に設定されているので、導体
パターン62が局部的にオーバーエッチングされて細く
なるのを確実に阻止することができる。
Further, since the dimensional ratio between the wide portion and the narrow portion of the gap 67 is set to 2 or less, the conductor pattern 62 is reliably prevented from being locally over-etched and thinned. be able to.

【0027】また、空隙部67の幅が0.05〜0.1
0mmの範囲内に設定されているので、導体パターン6
2が局部的にオーバーエッチングされて細くなるのを確
実に阻止すると共に、エッチング除去量を確実に減少さ
せることができる。
The width of the gap 67 is 0.05 to 0.1.
0 mm, the conductor pattern 6
2 can be reliably prevented from being locally over-etched and thinned, and the etching removal amount can be reliably reduced.

【0028】なお、実施の形態(1)〜(3)に係る配
線基板10、30、60では、絶縁基板41がプラスチ
ック製の場合について説明したが、絶縁基板41は何ら
プラスチックに限定されるものではなく、別の実施の形
態のものではセラミック等であってもよい。
In the wiring boards 10, 30, and 60 according to the embodiments (1) to (3), the case where the insulating substrate 41 is made of plastic has been described, but the insulating substrate 41 is not limited to plastic. Instead, ceramics or the like may be used in another embodiment.

【0029】また、実施の形態(1)〜(3)に係る配
線基板10、30、60では、サブトラクティブ・プロ
セスにより製造する場合について説明したが、何らサブ
トラクティブ・プロセスに限定されるものではなく、別
の実施の形態のものでは例えばセミアディティブ・プロ
セス等により製造してもよい。
Further, in the wiring boards 10, 30, and 60 according to the embodiments (1) to (3), the case of manufacturing by the subtractive process has been described. However, the wiring board is not limited to the subtractive process. Instead, in another embodiment, it may be manufactured by, for example, a semi-additive process.

【0030】また、実施の形態(1)〜(3)に係る配
線基板10、30、60では、エッチングレジスト膜2
5a〜25cを形成する際、感光性ドライフィルム2
5、26を用いた場合について説明したが、別の実施の
形態のものでは、レジスト用ペーストをパターン印刷し
てもよい。
In the wiring substrates 10, 30, and 60 according to the embodiments (1) to (3), the etching resist film 2
When forming 5a to 25c, the photosensitive dry film 2
Although the case of using Nos. 5 and 26 has been described, in another embodiment, a resist paste may be pattern-printed.

【0031】また、実施の形態(1)〜(3)に係る配
線基板10、30、60では、ランド14、44、64
にスルーホール15、45、65が形成されている場合
について説明したが、スルーホール15、45、65は
形成されていなくともよい。
In the wiring boards 10, 30, and 60 according to the embodiments (1) to (3), the lands 14, 44, and 64 are provided.
Although the case where the through holes 15, 45, 65 are formed has been described, the through holes 15, 45, 65 need not be formed.

【0032】また、実施の形態(1)〜(3)に係る配
線基板10、30、60では、導体パターン12a、1
2b、・・・、42、62が絶縁基板41の一主面41
aに形成されている場合について説明したが、別の実施
の形態のものでは、絶縁基板41の他主面41b側にも
形成されてもよい。
In the wiring boards 10, 30, and 60 according to the embodiments (1) to (3), the conductor patterns 12a, 1
, 42, 62 are one main surface 41 of the insulating substrate 41
Although a case where the insulating substrate 41 is formed is described above, in another embodiment, the insulating substrate 41 may be formed also on the other main surface 41b side.

【0033】また、配線基板10、30、60は単体と
して用いるだけではなく、複数個積層して多層配線基板
として用いてもよく、また単体または多層配線基板のラ
ンド48にピンまたはハンダボールが接続されたPGA
パッケージまたはBGAパッケージとして用いてもよ
い。
The wiring boards 10, 30, and 60 may be used not only as a single body but also as a multilayer wiring board by laminating a plurality of them. A pin or a solder ball is connected to a land 48 of the single or multilayer wiring board. PGA
It may be used as a package or a BGA package.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る配線基板の実施の形態(1)を概
略的に示した平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing an embodiment (1) of a wiring board according to the present invention.

【図2】実施の形態(1)に係る配線基板の製造方法の
一例(サブトラクティブ・プロセス)を工程順に示した
模式的断面図であり、(a)は孔明け工程、(b)はメ
ッキ及びエッチングレジスト形成工程、(c)はエッチ
ング工程を示し、また(d)はエッチングレジスト除去
工程後の完成状態(図1におけるA−A線断面図)を示
している。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example (subtractive process) of a method of manufacturing a wiring board according to Embodiment (1) in the order of steps, wherein (a) is a punching step, and (b) is plating. (C) shows an etching step, and (d) shows a completed state after the etching resist removing step (a cross-sectional view along line AA in FIG. 1).

【図3】実施の形態(2)に係る配線基板の主要部を概
略的に示した平面図である。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a main part of a wiring board according to a second embodiment.

【図4】実施の形態(3)に係る配線基板の主要部を概
略的に示した平面図である。
FIG. 4 is a plan view schematically showing a main part of a wiring board according to a third embodiment.

【図5】従来の配線基板の主要部を概略的に示した平面
図である。
FIG. 5 is a plan view schematically showing a main part of a conventional wiring board.

【図6】従来の配線基板の製造方法の一例(サブトラク
ティブ・プロセス)を工程順に示した模式的断面図であ
り、(a)は孔明け工程、(b)はメッキ及びエッチン
グレジスト形成工程、(c)はエッチング工程を示し、
また(d)はエッチングレジスト除去工程後の完成状態
(図5におけるA−A線断面図)を示している。
6A and 6B are schematic cross-sectional views showing an example (subtractive process) of a conventional method of manufacturing a wiring board in the order of steps, wherein FIG. 6A is a punching step, FIG. 6B is a plating and etching resist forming step, (C) shows an etching step,
(D) shows a completed state (cross-sectional view taken along line AA in FIG. 5) after the etching resist removing step.

【図7】図5におけるB領域を拡大して示した模式的拡
大図であり、一点鎖線はエッチングレジスト膜の設定位
置、実線はエッチング処理後における導体を示してい
る。
7 is a schematic enlarged view showing a region B in FIG. 5 in an enlarged manner, wherein a dashed line indicates a set position of the etching resist film, and a solid line indicates a conductor after the etching process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 配線基板 12a、12b、・・・ 導体パターン 17 空隙部 S 空隙部の幅 41 絶縁基板 41a 一主面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Wiring board 12a, 12b, ... Conductor pattern 17 Void S S Void width 41 Insulating substrate 41a One principal surface

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板の主面に形成された複数本の導
体パターンと、これら導体パターンどうしを隔てる空隙
部とを備えた配線基板において、前記空隙部幅が均一化
されるように前記導体パターン幅が部分的に広く設定さ
れていることを特徴とする配線基板。
1. In a wiring board having a plurality of conductor patterns formed on a main surface of an insulating substrate and a gap separating the conductor patterns, the conductor is formed such that the width of the gap is made uniform. A wiring board, wherein a pattern width is set to be partially wide.
【請求項2】 絶縁基板の主面に形成された複数本の導
体パターンと、これら導体パターンどうしを隔てる空隙
部とを備えた配線基板において、前記空隙部幅の均一化
を図るためのダミーパターンが前記導体パターン間に形
成されていることを特徴とする配線基板。
2. In a wiring board having a plurality of conductor patterns formed on a main surface of an insulating substrate and a gap separating the conductor patterns, a dummy pattern for equalizing the width of the gap is provided. Is formed between the conductor patterns.
【請求項3】 絶縁基板の主面に形成された複数本の導
体パターンと、これら導体パターンどうしを隔てる空隙
部とを備えた配線基板において、前記空隙部幅が均一化
されるように前記導体パターン幅が部分的に広く設定さ
れると共に、前記導体パターン間にダミーパターンが形
成されていることを特徴とする配線基板。
3. In a wiring board comprising a plurality of conductor patterns formed on a main surface of an insulating substrate and a gap separating the conductor patterns, the conductors are formed such that the width of the gap is made uniform. A wiring board, wherein a pattern width is partially widened and a dummy pattern is formed between the conductor patterns.
【請求項4】 前記空隙部の広い箇所と狭い箇所との幅
寸法割合が2以下に設定されていることを特徴とする請
求項1〜3のいずれかの項に記載の配線基板。
4. The wiring board according to claim 1, wherein a width dimension ratio between a wide portion and a narrow portion of the gap is set to 2 or less.
【請求項5】 前記空隙部幅が0.05〜0.10mm
の範囲内に設定されていることを特徴とする請求項1〜
4のいずれかの項に記載の配線基板。
5. The gap width is 0.05 to 0.10 mm.
It is set in the range of, The claim 1 characterized by the above-mentioned.
5. The wiring board according to any one of the above items 4.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002368354A (en) * 2001-06-05 2002-12-20 Ibiden Co Ltd Printed wiring board
JP2002368353A (en) * 2001-06-04 2002-12-20 Ibiden Co Ltd Printed wiring board
JP2010010376A (en) * 2008-06-26 2010-01-14 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Cof substrate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002368353A (en) * 2001-06-04 2002-12-20 Ibiden Co Ltd Printed wiring board
JP2002368354A (en) * 2001-06-05 2002-12-20 Ibiden Co Ltd Printed wiring board
JP2010010376A (en) * 2008-06-26 2010-01-14 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Cof substrate
JP4760866B2 (en) * 2008-06-26 2011-08-31 住友金属鉱山株式会社 COF substrate

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