JP2001110722A - 露光装置及びこれを用いた露光方法 - Google Patents

露光装置及びこれを用いた露光方法

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JP2001110722A JP2000270073A JP2000270073A JP2001110722A JP 2001110722 A JP2001110722 A JP 2001110722A JP 2000270073 A JP2000270073 A JP 2000270073A JP 2000270073 A JP2000270073 A JP 2000270073A JP 2001110722 A JP2001110722 A JP 2001110722A
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cooling
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gas injection
exposure method
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Sang-Kap Kim
商甲 金
Yo-Han An
ヨハン 安
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハ冷却手段を具備する露光装置及びこ
れを用いた露光方法を提供する。 【解決手段】 ウェーハトランスファシステム４２、P-
チャック周りにマークセンサー及びエッジセンサーを具
備するウェーハプレアライメントシステム４４、ウェー
ハステージ４６及びD-チャック４８を具備する露光装置
４０において、ウェーハプレアライメントシステム４４
にウェーハを予備整列しながら冷却させうるウェーハ冷
却手段４４ａが備わっている。これにより、ウェーハス
テージ４６前段階でウェーハをウェーハステージ４６と
同じ温度まで冷却させることによって、ウェーハステー
ジ４６でウェーハの過度な熱膨張を防止でき、ウェーハ
整列過程で過度な整列誤差が発生することを防止できて
正確なウェーハ整列をなすことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置及びこれを
用いた露光方法に係り、より詳細にはウェーハ冷却手段
を具備する露光装置及びこれを用いた露光方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程でウェーハはいろ
いろな段階の工程を経ながら常温から数百度以上の温度
変化を経る。これにより、ウェーハは各工程を経ながら
熱膨張と収縮を経る。
【０００３】ウェーハの物理的特性は工程に関係なく一
定の状態を維持することが理想的であるが、前記のよう
にウェーハはいろいろな工程を経ながら温度変化による
熱膨張と収縮でその物理的状態が変わるため、これはウ
ェーハを整列する過程でウェーハの整列誤差を決まった
範囲以上に増やす結果を招く。半導体装置の製造工程
で、写真工程はウェーハ上にフォトレジストを塗布する
工程から前記ウェーハを整列し露光して現像する工程を
全て含む。図１は、従来の技術による整列露光装置の構
成及びウェーハ移送経路を示すことであって便宜上現像
工程は省略されている。
【０００４】図１を参照すれば、参照番号１０は、ウェ
ーハ上にフォトレジスト膜を塗布する装備のスピンナ１
０を示す。前記スピンナ１０でフォトレジスト膜が塗布
されたウェーハは露光設備１２に移送される。前記露光
設備１２はウェーハトランスファシステム１４、ウェー
ハプレアライメントシステム１６、ウェーハステージ１
８及びＤ−チャック２０より構成されている。前記スピ
ンナ１０でフォトレジスト膜が塗布されたウェーハは、
前記ウェーハトランスファシステム１４を経て前記ウェ
ーハプレアライメントシステム１６へ移送される。前記
ウェーハは、前記ウェーハステージ１８へ移送される前
に前記ウェーハプレアライメントシステム１６で予備整
列される。即ち、ウェーハのフラットゾーンが決まった
方向に整列される。予備整列されたウェーハは前記ウェ
ーハステージ１８へ移送されて正確に整列される。次い
で、露光工程が進行される。前記露光工程で前記ウェー
ハ上に塗布されたフォトレジスト膜にレチクルに彫られ
たパターンと同じパターンが転写される。以後、前記ウ
ェーハは前記Ｄ−チャック２０及びウェーハトランスフ
ァシステム１４を経て前記スピンナ１０に移送される。
【０００５】図２は、図１に示した従来の技術に係るウ
ェーハ整列露光装置１２の一構成要素のウェーハプレア
ライメントシステム１６の部分断面図である。これを参
照すれば、従来の技術に係る整列露光装置のウェーハプ
レアライメントシステム１６にウェーハがローディング
されるＰ−チャック２２が備わっていて、前記Ｐ−チャ
ック２２の周りにマークセンサー２３及びエッジセンサ
ー２４が備わっている。前記エッジセンサー２４は、前
記Ｐ−チャック２２上にローディングされるウェーハＷ
のフラットゾーンを感知し、前記マークセンサー２３は
感知されたフラットゾーンを決まった方向に整列させ
る。この過程で、前記エッジセンサー２４は前記ウェー
ハＷのフラットゾーンを感知する過程で発熱し、その結
果前記ウェーハＷのエッジセンサー２４に露出される部
分の温度は高くなる。
【０００６】このように従来の技術に係る整列露光装置
を構成する要素はウェーハの温度を高める発熱要素を具
備しているが、前記ウェーハ整列露光装置１２を構成す
る前記ウェーハトランスファシステム１４や前記ウェー
ハプレアライメントシステム１６、前記ウェーハステー
ジ１８の温度環境は相異なる。例えば、前記ウェーハス
テージ１８は、別の温度制御装置を使用して温度を一定
に維持する。反面、前記ウェーハトランスファシステム
１４と前記ウェーハプレアライメントシステム１６は、
温度調節にクリーンルームから供給される空気を用いて
いる。ところが、クリーンルーム内部にある各種発熱源
により前記各システムにヒーティングされた空気が流入
されるだけでなく前記ウェーハプレアライメントシステ
ム１６に備わったエッジセンサー２４のように、ウェー
ハ整列露光装置１２を構成する各要素自体にも発熱要素
が備わっていて前記各構成要素内部はヒーティングされ
る。また、半導体装置の製造工程別に用いられる整列露
光装置が異なってそれに属するウェーハトランスファシ
ステムやウェーハフリーアラインシステムも相異なる。
【０００７】このような理由で、前記露光設備１２のウ
ェーハトランスファシステム１４や前記ウェーハプレア
ライメントシステム１６を通過するウェーハはヒーティ
ングされて、前記ウェーハステージ１８に到達する時点
で前記ウェーハ温度は前記ウェーハステージ１８で維持
される温度より高い状態になる。これは、ウェーハが前
記ウェーハステージ１８で熱膨張されうることよりさら
に熱膨脹されていることを意味する。従って、前記ウェ
ーハステージ１８に到達したウェーハを整列する過程で
ウェーハの整列誤差が増えてウェーハに正確にパターン
を転写できなくなる。これを防止するために、前記ウェ
ーハステージ１８でウェーハを長時間待機させて前記ウ
ェーハと前記ウェーハステージ１８を熱的平衡状態にし
た後に整列及び露光工程を進行できるが、ウェーハの待
機時間が延びて生産性が急に低下する問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決
しようとする技術的課題は、従来の技術が有するこのよ
うな問題点を解消することであって、ウェーハステージ
でウェーハの待機時間を延ばさずにウェーハステージと
ウェーハとの温度差によるウェーハの過度な熱膨張を防
止して、ウェーハの整列誤差を縮められるウェーハ冷却
手段を具備する露光装置を提供することにある。本発明
が解決しようとする他の技術的課題は、このような露光
装置を用いた露光方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成するため
に、本発明はウェーハトランスファシステム、Ｐ−チャ
ック周りにマークセンサー及びエッジセンサーを具備す
るウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステー
ジ及びＤ−チャックを具備する露光装置において、前記
ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予備整
列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わってい
る露光装置を提供する。
【００１０】ここで前記ウェーハ冷却手段は、前記ウェ
ーハプレアライメントシステムの前記マークセンサー及
びエッジセンサーとの間の前記Ｐ−チャック上部に設け
られている。前記ウェーハ冷却手段は、前記Ｐ−チャッ
ク上にローディングされたウェーハ全面に冷却ガスを噴
射するエアシャワーである。
【００１１】前記エアシャワーは、冷却ガス流入管と、
前記冷却ガス流入管から流入された冷却ガスを前記ウェ
ーハ全面に噴射するガス噴射部と、前記冷却ガス流入管
と前記ガス噴射部との間に断面積が前記ガス噴射部より
狭いボトルネック部とを具備する。前記ガス噴射部の前
記ウェーハと対向する底面に複数個のホールが形成され
ている。この時、前記底面の全領域にわたって均一に形
成されている。また前記複数個のホールは直径が全て同
じである。
【００１２】前記他の課題を達成するために、本発明は
ウェーハ上に感光膜を塗布してべークした後、前記ウェ
ーハを整列装置に移送して整列し露光する露光方法にお
いて、前記ウェーハを前記整列装置に移送する前に冷却
させることを特徴とする露光方法を提供する。この時ウ
ェーハ冷却は、前記ウェーハの温度が前記ウェーハ整列
装置内の設定された温度と同一になるまで実施すること
が望ましい。
【００１３】また前記ウェーハ冷却は、前記ウェーハ整
列前に実施する予備整列と共に実施することが望まし
い。前記ウェーハ冷却は、前記ウェーハ予備整列を実施
する装置に備わったウェーハ冷却手段を使用して実施す
る。前記ウェーハ冷却手段は前記本発明が提供したもの
と同じものを使う。
【００１４】また前記他の技術的課題を達成するため
に、本発明は(ａ) ウェーハをスピンナからウェーハト
ランスファシステムへ移送する段階と、(ｂ) 前記ウェ
ーハを前記ウェーハトランスファシステムからウェーハ
プレアライメントシステムへ移送する段階と、(ｃ) 前
記ウェーハプレアライメントシステムで前記ウェーハを
予備整列し冷却させる段階と、(ｄ) 前記予備整列され
冷却されたウェーハをウェーハステージへ移送して整列
する段階と、(ｅ) 前記整列されたウェーハを露光する
段階とを含むことを特徴とする露光方法を提供する。
【００１５】このように、本発明はウェーハプレアライ
メントシステムにウェーハ冷却手段としてエアシャワー
を具備し、これを使用することによってウェーハステー
ジへ移送されるウェーハの温度を前記ウェーハステージ
の温度と同一に維持できる。これにより、前記ウェーハ
ステージでウェーハ熱膨脹は常に同一になって熱膨脹に
よるウェーハ整列エラーを防止できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係るウェ
ーハプレアライメントシステムにウェーハ冷却手段を具
備する露光装置及びこれを用いた露光方法を添付した図
面を参照して詳細に説明する。
【００１７】しかし本発明の実施例は色々な他の形態に
変形することができ、本発明の範囲が後述する実施例に
限られることと解釈されてはいけない。本発明の実施例
は当業界で平均的な知識を有する者に本発明をより完全
に説明するために提供されるものである。図面で層とか
領域の厚さは明細書の明確性のために誇張されたことで
ある。図面上で同じ符号で示される要素は同じ要素を示
す。今から説明しようとする本発明の実施例に係る露光
装置及びこれを用いた露光方法は、半導体装置の製造工
程に適用される全ての写真工程に適用できるが、説明の
便宜と明確性のために本発明の実施例に係る露光装置は
ステッパ型露光装置であるとみなす。
【００１８】先ず、本発明の実施例に係る露光装置に関
して詳細に説明する。図３を参照すれば、本発明の露光
装置４０はウェーハトランスファシステム４２、ウェー
ハプレアライメントシステム４４、ウェーハステージ４
６及びＤ−チャック４８よりなっている。前記ウェーハ
プレアライメントシステム４４にウェーハ冷却手段４４
ａがさらに備わっている。
【００１９】スピンナ１０から前記ウェーハトランスフ
ァシステム４２及び前記ウェーハプレアライメントシス
テム４４を経て前記ウェーハステージ４６にくる間、ウ
ェーハは前記ウェーハプレアライメントシステム４４に
備わったウェーハ予備整列のためのエッジセンサーによ
り部分的に加熱された状態になるが、前記ウェーハ冷却
手段４４ａは、前記ウェーハステージ４６にウェーハを
移送する前にウェーハの温度を冷却させる役割をする。
即ち、前記ウェーハプレアライメントシステム４４にく
る間にヒーティングされた前記ウェーハを決まった温度
まで、望ましくは前記ウェーハステージ４６の温度まで
冷却させる役割をする。このような役割をする前記ウェ
ーハ冷却手段４４ａはエアシャワーである。
【００２０】図４を参照すれば、本発明の実施例に係る
露光装置の一構成要素のウェーハプレアライメントシス
テム５０の下部にウェーハ５４がローディングされるＰ
−チャック５２が備わっている。そして前記Ｐ−チャッ
ク５２の周りにマークセンサー５５が備わっていて、前
記マークセンサー５５の向かい側にエッジセンサー５６
が備わっている。ウェーハが前記Ｐ−チャック５２上に
ローディングされれば、まず、前記エッジセンサー５６
によりウェーハ５４の特定部位、即ちフラットゾーンが
感知される。そして前記マークセンサー５５により、前
記ウェーハ５４のフラットゾーンが決まった方向に整列
される。
【００２１】図示したように、前記Ｐ−チャック５２上
にウェーハ５４がローディングされる時、前記ウェーハ
５４はその縁部が前記マークセンサー５５及びエッジセ
ンサー５６に取り囲まれるようにローディングされる。
即ち、前記マークセンサー５５及びエッジセンサー５６
は二つともローディングされたウェーハ５４の縁部の上
下面全部と対向できる面を有している。前記ウェーハ５
４を介在して前記Ｐ−チャック５２上に前記ウェーハ５
４を冷却させるためのウェーハ冷却手段５８が備わって
いる。前記のように、前記ウェーハ冷却手段５８はエア
シャワーである。前記ウェーハ冷却手段５８の前記ウェ
ーハ５４または前記Ｐ−チャック５２と対向する面を通
じて前記ウェーハ５４上に冷却ガス、例えば空気が噴射
される。
【００２２】図５を参照すれば、参照番号５８は本発明
の露光装置のウェーハプレアライメントシステムに備わ
ったウェーハ冷却手段であって、図４に示す前記ウェー
ハ冷却手段５８をより詳細に示したものである。前記ウ
ェーハ冷却手段５８は冷却ガスが流入されるエアダクト
７２、即ち冷却ガス流入管と前記エアダクト７２を通じ
て流入された冷却ガスを下に置かれたウェーハ５４全面
に噴射するガス噴射部７６、及び前記エアダクト７２と
前記ガス噴射部７６との間に備わったボトルネック部７
４より構成されるエアシャワーである。前記ボトルネッ
ク部７４によって、前記エアダクト７２に流入された冷
却ガスはさらに速くウェーハ５４全面にフローされう
る。前記ガス噴射部７６の前記ウェーハ５４と対向する
面に複数個のホール７８が形成されている。前記ホール
７８の直径は全て同一である。しかし、必要に応じて前
記ホール７８の直径は部分的に違う可能性がある。
【００２３】図６を参照すれば、ウェーハ冷却手段５８
を上から見た形態は円形である。その周りに第１及び第
２溝Ｈ１、Ｈ２が形成されている。前記第１及び第２溝
Ｈ１、Ｈ２に各々第１及び第２センサー８４、８６が設
けられている。前記第１センサー８４は既に説明したマ
ークセンサーで、前記第２センサー８６はエッジセンサ
ーである。結局、前記ウェーハ冷却手段５８は前記第１
及び２センサー８４、８６に覆われた領域を除外したウ
ェーハの全領域と対向する。図面で参照番号８０、８１
及び８２は各々ガス噴射部、エアダクト及びボトルネッ
ク部である。
【００２４】図７を参照すれば、ウェーハ冷却手段５８
のウェーハと対向するガス噴射部８０に複数個のホール
８８が全面にわたって均一に形成されている。また、前
記複数個のホール８８の直径は全て同一である。しか
し、前記複数個のホール８８の直径は既に言及したよう
に部分的に違う可能性がある。
【００２５】次に、前述したような構成要素及び特徴を
有する露光装置を用いた露光方法を詳細に説明する。図
８を参照すれば、第１段階１００は感光膜塗布及びべー
ク段階である。この段階では、図３に示したように、ス
ピンナ１０でウェーハ上に感光膜、例えばフォトレジス
ト膜を塗布した後、適正温度で前記塗布された感光膜を
露光に適した状態になるまでべークする。
【００２６】第２段階１０２はウェーハ整列及び冷却段
階である。この段階では、前記スピンナ１０で感光膜塗
布及びべーク工程が完了すれば、ウェーハをウェーハト
ランスファシステム４２へ移送する。前記ウェーハトラ
ンスファシステム４２へ移送されたウェーハはロボット
によりウェーハプレアライメントシステム４４へ移送さ
れる。
【００２７】図４を参照すれば、まず、エッジセンサー
５６によりウェーハ５４のフラットゾーンが感知され
る。次いで、前記エッジセンサー５６により感知された
前記ウェーハ５４のフラットゾーンはマークセンサー５
５により決まった方向に整列されることによって、前記
ウェーハプレアライメントシステム４４におけるウェー
ハ予備整列が完了する。
【００２８】一方、図面に具体的に示されなかったが、
前記エッジセンサー５６のウェーハ５４の下面と対向す
る部分に前記ウェーハ５４のフラットゾーンを感知する
部分がある。この部分で前記ウェーハ５４のフラットゾ
ーンは光学的方法で感知される。この過程で、前記ウェ
ーハ５４の前記エッジセンサー５６の光が通過する部分
は光に露出されるので、ウェーハの他の部分に比べて温
度が上がる。
【００２９】従って、前記ウェーハ５４をこの状態で次
の設備のウェーハステージへ移送して整列及び露光を実
施する場合、待機時間が長くなったり整列誤差が増える
問題が発生するので、これを解消するために、前記ウェ
ーハプレアライメントシステム５０の前記Ｐ−チャック
５２上に備わったウェーハ冷却手段５８、即ちエアシャ
ワーを使用して前記ウェーハ５４を冷却させる。この
時、前記ウェーハは前記ウェーハステージの温度まで冷
却させることが望ましい。
【００３０】第３段階１０４はウェーハ整列及び露光段
階である。この段階では、図３を参照すれば、前記ウェ
ーハプレアライメントシステム４４で前記ウェーハ予備
整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェ
ーハステージ４６へ移送してウェーハ整列を実施した
後、露光を実施する。この時、前記ウェーハステージ４
６の前段階、即ち前記ウェーハプレアライメントシステ
ム４４で前記ウェーハは前記ウェーハステージ４６の温
度まで冷却された状態であるので、前記ウェーハ５４と
前記ウェーハステージ４６との間に熱平衡が迅速になさ
れる。従って、ウェーハ整列過程で前記ウェーハと前記
ウェーハステージ４６との温度差による過度な整列誤差
が現れることが防止される。
【００３１】第４段階１０６は整列及び露光が完了した
ウェーハをスピンナへ移送する段階である。この段階で
は、図３を参照すれば、前記露光されたウェーハをＤ−
チャック４８へ移送する。次いで、前記Ｄ−チャック４
８から前記ウェーハトランスファシステム４２を経て前
記スピンナ１０に前記ウェーハを移送する。
【００３２】前記の説明で多くの事項が具体的に記載さ
れているが、これらは発明の範囲を限定することという
より、望ましい実施例の例示として解釈されるべきであ
る。例えば本発明が属する技術分野で通常の知識を有す
る者であれば、前記ウェーハ冷却手段として開示された
前記エアシャワーの形態を前記実施例に開示されたもの
から変形して本発明を実施できることが明らかである。
例えば、図５に示したウェーハ冷却手段５８でガス噴射
部７６に形成された複数個のホール７８は、完全にオー
プンされた状態ではない必要なガスだけを選択的に通過
させうる機能を有する透気性膜に取り替えられる場合も
ある。そのため、本発明の範囲は説明された実施例によ
って決まることではなく特許請求範囲に記載された技術
的思想により決まるべきである。
【００３３】
【発明の効果】前述したように、本発明による露光装置
は、構成要素中の一つのウェーハプレアライメントシス
テムへ移送されるウェーハの温度調節のための別のウェ
ーハ冷却手段、即ちエアシャワーを備える。ウェーハト
ランスファシステムを経てスピンナから移送されてくる
間ヒーティングされたウェーハを前記ウェーハプレアラ
イメントシステムで、次に移送するウェーハステージの
温度と同じ温度になるまで冷却させる。こうすることに
よって、ウェーハがウェーハステージへ移送された時、
ウェーハとウェーハステージとの間に熱平衡が迅速にな
される。従って、ウェーハとウェーハステージとの温度
差から発生するウェーハの過度な熱膨張を防止でき、そ
の結果ウェーハ整列過程で過度な整列誤差が発生するこ
とを防止できるので正確なウェーハ整列をなすことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の技術に係るウェーハ整列露光装置の構成
及びウェーハ移送経路を示すブロック図である。
【図２】従来の技術に係るウェーハ整列露光装置の一構
成要素のウェーハプレアライメントシステムの部分断面
図である。
【図３】本発明の実施例に係るウェーハ整列露光装置の
構成及びウェーハ移送経路を示すブロック図である。
【図４】本発明の実施例に係るウェーハ整列露光装置の
一構成要素のウェーハプレアライメントシステムの部分
断面図である。
【図５】本発明の実施例に係るウェーハ整列露光装置の
ウェーハプレアライメントシステムに備わったウェーハ
冷却手段の断面図である。
【図６】本発明の実施例に係るウェーハ整列露光装置の
ウェーハプレアライメントシステムに備わったウェーハ
冷却手段の平面図である。
【図７】本発明の実施例に係るウェーハ整列露光装置の
ウェーハプレアライメントシステムに備わったウェーハ
冷却手段の底面図である。
【図８】図３の露光装置を用いる本発明の実施例に係る
露光方法を段階別に示すブロック図である。
【符号の説明】
４０ 露光装置 ４２ ウェーハトランスファシステム ４４ ウェーハプレアライメントシステム ４４ａ ウェーハ冷却手段 ４６ ウェーハステージ ４８ Ｄ−チャック

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウェーハトランスファシステム、Ｐ−チ
    ャック周りにマークセンサー及びエッジセンサーを具備
    するウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステ
    ージ並びにＤ−チャックを具備する露光装置において、 前記ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予
    備整列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わっ
    ていることを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項２】 前記ウェーハ冷却手段は、前記ウェーハ
    プレアライメントシステムの前記マークセンサーと前記
    エッジセンサーとの間の前記Ｐ−チャック上部に設けら
    れていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
  3. 【請求項３】 前記ウェーハ冷却手段は、前記Ｐ−チャ
    ック上にローディングされたウェーハ全面に冷却ガスを
    噴射するエアシャワーであることを特徴とする請求項１
    に記載の露光装置。
  4. 【請求項４】 前記エアシャワーは、 冷却ガス流入管と、 前記冷却ガス流入管から流入された冷却ガスを前記ウェ
    ーハ全面に噴射するガス噴射部と、 前記冷却ガス流入管と前記ガス噴射部との間に断面積が
    前記ガス噴射部より狭いボトルネック部とを具備するこ
    とを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
  5. 【請求項５】 前記ガス噴射部の前記ウェーハと対向す
    る底面に複数個のホールが形成されていることを特徴と
    する請求項４に記載の露光装置。
  6. 【請求項６】 前記複数個のホールは、前記ウェーハと
    対向する底面の全領域にわたって均一に形成されている
    ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
  7. 【請求項７】 前記底面の全領域にわたって均一に形成
    された前記複数個のホールは直径が全て互いに等しいこ
    とを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
  8. 【請求項８】 ウェーハ上に感光膜を塗布してべークし
    た後、前記ウェーハを整列装置に移送して整列し露光す
    る露光方法において、 前記ウェーハを前記整列装置に移送する前に冷却させる
    ことを特徴とする露光方法。
  9. 【請求項９】 前記ウェーハ冷却は、前記ウェーハの温
    度が前記ウェーハ整列装置内の設定された温度と同一に
    なるまで実施することを特徴とする請求項８に記載の露
    光方法。
  10. 【請求項１０】 前記ウェーハ冷却は、前記ウェーハ整
    列前に実施する予備整列と共に実施することを特徴とす
    る請求項８に記載の露光方法。
  11. 【請求項１１】 前記ウェーハ冷却において、前記ウェ
    ーハ予備整列を実施する装置に備わったウェーハ冷却手
    段を使用することを特徴とする請求項１０に記載の露光
    方法。
  12. 【請求項１２】 前記ウェーハ冷却手段として、 冷却ガス流入管と、 前記冷却ガス流入管から流入された冷却ガスを前記ウェ
    ーハ全面に噴射するガス噴射部と、 前記冷却ガス流入管と前記ガス噴射部との間に断面積が
    前記ガス噴射部より狭いボトルネック部とを具備するエ
    アシャワーを使用することを特徴とする請求項１１に記
    載の露光方法。
  13. 【請求項１３】 前記ガス噴射部の前記ウェーハに対向
    する底面に複数個のホールが全領域にわたって均一に形
    成されているエアシャワーを使用することを特徴とする
    請求項１２に記載の露光方法。
  14. 【請求項１４】 (ａ) ウェーハをスピンナからウェー
    ハトランスファシステムへ移送する段階と、 (ｂ) 前記ウェーハを前記ウェーハトランスファシステ
    ムからウェーハプレアライメントシステムへ移送する段
    階と、 (ｃ) 前記ウェーハプレアライメントシステムで前記ウ
    ェーハを予備整列させ冷却する段階と、 (ｄ) 前記予備整列され冷却されたウェーハをウェーハ
    ステージへ移送して整列させる段階と、 (ｅ) 前記整列させたウェーハを露光する段階とを含む
    ことを特徴とする露光方法。
  15. 【請求項１５】 前記ウェーハ冷却は、前記ウェーハの
    温度が前記ウェーハステージの温度と同一になるまで実
    施することを特徴とする請求項１４に記載の露光方法。
  16. 【請求項１６】 前記ウェーハ冷却において、前記ウェ
    ーハプレアライメントシステムに備わったウェーハ冷却
    手段を使用することを特徴とする請求項１４に記載の露
    光方法。
  17. 【請求項１７】 前記ウェーハ冷却手段として、 冷却ガス流入管と、 前記冷却ガス流入管から流入された冷却ガスを前記ウェ
    ーハ全面に噴射するガス噴射部と、 前記冷却ガス流入管と前記ガス噴射部との間に断面積が
    前記ガス噴射部より狭いボトルネック部とを具備するエ
    アシャワーを使用することを特徴とする請求項１６に記
    載の露光方法。
  18. 【請求項１８】 前記ウェーハ冷却において、前記ガス
    噴射部の前記ウェーハに対向する底面に複数個のホール
    が全領域にわたって均一に形成されているエアシャワー
    を使用することを特徴とする請求項１７に記載の露光方
    法。
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