JP2001110665A - Dielectric component and ceramic capacitor using the same - Google Patents

Dielectric component and ceramic capacitor using the same

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JP2001110665A
JP2001110665A JP2000083308A JP2000083308A JP2001110665A JP 2001110665 A JP2001110665 A JP 2001110665A JP 2000083308 A JP2000083308 A JP 2000083308A JP 2000083308 A JP2000083308 A JP 2000083308A JP 2001110665 A JP2001110665 A JP 2001110665A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dielectric component excellent in anti-reducing characteristic on baking with comparatively high permittivity after baking, and excellent in capacitive temperature characteristic. SOLUTION: The dielectric component at least contains barium titanate and calcium titanate. The molar ratio of these two materials is 0.5>X>0.3 with respect to the barium titanate X, and Y=1-X as the calcium titanate Y.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、誘電体組成物およ
びこれを用いたセラミックコンデンサに関し、さらに詳
しくは、焼成時の耐還元性に優れ、焼成後には比較的高
い比誘電率(例えば500以上)を示すとともに、容量
温度特性に優れ(例えばJIS規格のSL特性を満
足)、低温焼結可能な誘電体組成物、並びに高絶縁抵抗
および比較的高い容量(例えば比誘電率が500以上)
を示すとともに、容量温度特性が平坦(例えばJIS規
格のSL特性を満足)であり、しかも内部電極にニッケ
ルやニッケル合金などの卑金属を用いることができるセ
ラミックコンデンサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dielectric composition and a ceramic capacitor using the same, and more particularly to a dielectric composition which has excellent resistance to reduction during firing and a relatively high dielectric constant (for example, 500 or more) after firing. ) And has excellent capacitance-temperature characteristics (for example, satisfies JIS standard SL characteristics), low-temperature sinterable dielectric composition, and high insulation resistance and relatively high capacitance (for example, a dielectric constant of 500 or more).
The present invention also relates to a ceramic capacitor having a flat capacitance-temperature characteristic (for example, satisfying the SL characteristic of JIS standard) and capable of using a base metal such as nickel or a nickel alloy for an internal electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】セラミックコンデンサなどに用いられる
誘電体組成物としては、チタン酸バリウム(BaTiO
)などの高誘電率系が知られている。この種の組成
物では、比誘電率εrを高くできるが、容量温度変化率
が大きい。
2. Description of the Related Art As a dielectric composition used for a ceramic capacitor or the like, barium titanate (BaTiO) is used.
High dielectric constant systems such as 3 ) are known. In this type of composition, the relative dielectric constant εr can be increased, but the capacitance temperature change rate is large.

【0003】また、誘電体組成物としては、ジルコン酸
カルシウム(CaZrO)、ジルコン酸ストロンチ
ウム(SrZrO)、チタン酸カルシウム(CaT
iO )、チタン酸ストロンチウム(SrTi
)、ジルコン酸ストロンチウムカルシウム(Ca
SrZrO)などの温度補償用も知られている。こ
の主の組成物は、容量温度変化率が非常に小さく、カッ
プリング回路、音響回路または画像処理回路などに用い
ることができる。
[0003] Zirconic acid is used as a dielectric composition.
Calcium (CaZrO)3), Stront zirconate
Um (SrZrO3), Calcium titanate (CaT
iO 3), Strontium titanate (SrTi
O3), Strontium calcium zirconate (Ca
SrZrO3) Are also known. This
The main composition has a very small capacity temperature change rate,
Used for pulling circuits, audio circuits, image processing circuits, etc.
Can be

【0004】しかしながら、常誘電体であるが故に、比
誘電率εrが30〜200と低く、高容量のコンデンサ
を得ることが困難である。
However, since it is a paraelectric substance, the relative dielectric constant εr is as low as 30 to 200, and it is difficult to obtain a high-capacity capacitor.

【0005】そこで、誘電率が300以上で容量温度係
数が小さい温度補償用磁器誘電体組成物として、チタン
酸カルシウム(CaTiO)−チタン酸バリウム
(BaTiO)−チタン酸ストロンチウム(SrT
iO)系の組成物が提案されている(たとえば、特
開昭54−96800号公報参照)。
Therefore, as a ceramic dielectric composition for temperature compensation having a dielectric constant of 300 or more and a small capacity temperature coefficient, calcium titanate (CaTiO 3 ) -barium titanate (BaTiO 3 ) -strontium titanate (SrT)
An iO 3 ) -based composition has been proposed (for example, see JP-A-54-96800).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、セラミック
コンデンサの内部電極には、従来から、白金(Pt)、
金(Au)または銀(Ag)などの貴金属が用いられて
いるが、コストの点からはニッケル(Ni)などの卑金
属を用いることが望ましい。
By the way, conventionally, platinum (Pt),
Although a noble metal such as gold (Au) or silver (Ag) is used, it is preferable to use a base metal such as nickel (Ni) from the viewpoint of cost.

【0007】特開昭54−96800号公報記載の誘電
体組成物は、耐還元性に劣るため、その焼成を酸化雰囲
気で行う必要が生じる。
The dielectric composition described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-96800 is inferior in reduction resistance, so that it is necessary to fire it in an oxidizing atmosphere.

【0008】しかしながら、酸化雰囲気で焼成すると、
内部電極にNiなどの低コストの卑金属を用いた場合
に、Niが酸化されてしまい、結局は、内部電極にP
t、AuまたはAgなどの貴金属を用いざるを得なかっ
た。
However, when firing in an oxidizing atmosphere,
When a low-cost base metal such as Ni is used for the internal electrode, Ni is oxidized, and eventually the P
Noble metals such as t, Au or Ag had to be used.

【0009】これに対して、耐還元性を有し、内部電極
として卑金属を使用可能な誘電体組成物として、チタン
酸カルシウム(CaTiO)−ジルコン酸ストロン
チウム(SrZrO)−酸化珪素(SiO)−
酸化マンガン(MnO)系の組成物(たとえば、特
開昭62−180905号公報参照)や、(SrCa)
TiO系の組成物(たとえば、特開平8−2955
60号公報参照)が提案されている。
On the other hand, as a dielectric composition having reduction resistance and capable of using a base metal as an internal electrode, calcium titanate (CaTiO 3 ) -strontium zirconate (SrZrO 3 ) -silicon oxide (SiO 2) )-
A manganese oxide (MnO 2 ) -based composition (see, for example, JP-A-62-180905) or (SrCa)
TiO 3 -based compositions (for example, see JP-A-8-2955)
No. 60 gazette) has been proposed.

【0010】しかしながら、これらの公報記載の組成物
では、何れも比誘電率εrが130〜230程度と低
く、十分な容量(電気特性)を確保することが困難であ
った。
However, all of the compositions described in these publications have a low relative dielectric constant εr of about 130 to 230, making it difficult to secure sufficient capacity (electrical characteristics).

【0011】本発明の第1の目的は、こうした従来技術
の問題点を解決し、焼成時の耐還元性に優れ、焼成後に
は比較的高い誘電率を示すとともに、容量温度特性に優
れた誘電体組成物を提供することにある。
A first object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and to provide a dielectric material having excellent resistance to reduction during firing, a relatively high dielectric constant after firing, and excellent capacitance temperature characteristics. It is to provide a body composition.

【0012】本発明の第2の目的は、高絶縁抵抗および
比較的高い誘電率を示すとともに、容量温度特性が平坦
であり、しかも内部電極に卑金属を用いることができる
セラミックコンデンサを提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a ceramic capacitor which has a high insulation resistance and a relatively high dielectric constant, has a flat capacitance-temperature characteristic, and can use a base metal for an internal electrode. is there.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】1.上記目的を達成する
ために、第1の観点の本発明に係る誘電体組成物は、少
なくともチタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムを
含有する誘電体組成物であって、これら2つの組成モル
比について、チタン酸バリウムの組成モル比(X)が
0.3<X<0.5であり、チタン酸カルシウムの組成
モル比(Y)が1−Xであることを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, a dielectric composition according to the first aspect of the present invention is a dielectric composition containing at least barium titanate and calcium titanate. The composition molar ratio (X) of barium titanate is 0.3 <X <0.5, and the composition molar ratio (Y) of calcium titanate is 1-X.

【0014】焼成の前後においては、チタン酸バリウム
とチタン酸カルシウムとの組成モル比は変化しないと考
えられるので、本明細書における誘電体組成物なる用語
は、焼成前後の両方を含む意味である。
Since it is considered that the composition molar ratio of barium titanate and calcium titanate does not change before and after firing, the term dielectric composition in the present specification includes both before and after firing. .

【0015】本発明によれば、常誘電体であるチタン酸
カルシウムに、強誘電体であるチタン酸バリウムを特定
の割合で添加することで、常誘電相および強誘電相のバ
ランスを図り、焼成時には耐還元性に優れ、焼成後には
比較的高い誘電率(たとえば、比誘電率εrが、好まし
くは500以上)を示すとともに、容量温度特性にも優
れた(たとえば、好ましくはJIS規格のSL特性を満
足する)誘電体組成物を提供することができる。なお、
本発明において、JIS規格のSL特性を満たすとは、
温度に対する静電容量変化率(△C)が、少なくとも2
0〜85℃の温度範囲内において、−1000〜350
ppm/℃(ただし、静電容量Cの基準温度は20℃)
である場合である。
According to the present invention, a ferroelectric barium titanate is added to a paraelectric calcium titanate at a specific ratio, so that the paraelectric phase and the ferroelectric phase are balanced, and firing is performed. Sometimes it has excellent reduction resistance, shows a relatively high dielectric constant (for example, a relative dielectric constant εr is preferably 500 or more) after firing, and also has excellent capacity temperature characteristics (for example, preferably SL characteristics according to JIS standards). Is satisfied) can be provided. In addition,
In the present invention, satisfying the SL characteristic of the JIS standard means that
The rate of change of capacitance with respect to temperature (ΔC) is at least 2
Within a temperature range of 0 to 85 ° C, -1000 to 350
ppm / ° C (however, the reference temperature of the capacitance C is 20 ° C)
Is the case.

【0016】2.第1の観点の本発明に係る誘電体組成
物には、添加物を含んでいてもよい。
2. The dielectric composition according to the first aspect of the present invention may contain an additive.

【0017】焼結助剤 この種の添加物としては、たとえば、SiO、Al
の他、(Ba,Ca)SiO2+x
、LiO、NaO、K O、Ba
O、CaO、SrOなどの焼結助剤を挙げることができ
る。中でも、以下に示す何れかの組み合わせを採用する
ことが好ましい。
[0017]Sintering aid Such additives include, for example, SiO 22, Al
2O3And (Ba, Ca)xSiO2 + x,
B2O3, Li2O, Na2O, K2 O, Ba
Sintering aids such as O, CaO and SrO can be mentioned.
You. Among them, adopt any of the following combinations
Is preferred.

【0018】第1に、SiO、Alおよ
び(Ba,Ca)SiO2+x からなる群から選ば
れる少なくとも1種であることが好ましい。複合酸化物
である(Ba,Ca)SiO2+x は融点が低い
ため、少なくともチタン酸バリウムおよびチタン酸カル
シウムを含有する基本成分に対して反応性が良好なの
で、本発明ではBaOおよび/またはCaOを上記複合
酸化物としても添加することがより好ましい。
First, SiO2, Al2O3And
And (Ba, Ca)xSiO2 + x Selected from the group consisting of
Preferably, at least one of them is used. Composite oxide
(Ba, Ca)xSiO2 + xHas a low melting point
Therefore, at least barium titanate and calcium titanate
Good reactivity with basic components containing
In the present invention, BaO and / or CaO are combined with the above composite.
More preferably, it is added as an oxide.

【0019】(Ba,Ca)SiO2+x におけ
るxは、好ましくは0.8〜1.2であり、より好まし
くは0.9〜1.1である。xが小さすぎると、すなわ
ちSiOが多すぎると、チタン酸バリウムと反応し
て誘電体特性を悪化させてしまう。一方、xが大きすぎ
ると、融点が高くなって焼結性を悪化させるため、好ま
しくない。なお、BaとCaとの比率は任意であり、一
方だけを含有するものであってもよい。
X in (Ba, Ca) x SiO 2 + x is preferably 0.8 to 1.2, and more preferably 0.9 to 1.1. If x is too small, that is, if there is too much SiO 2, it reacts with barium titanate to deteriorate the dielectric properties. On the other hand, if x is too large, the melting point becomes high and the sinterability deteriorates, which is not preferable. The ratio between Ba and Ca is arbitrary, and may contain only one of them.

【0020】第2に、M1(ただし、M1は、SiO
およびAlの少なくとも1種)、M2
(ただし、M2は、BaO、CaOおよびSrOから選
ばれる少なくとも1種)およびM3(ただし、M3は、
LiO、NaO、KOおよびB
ら選ばれる何れか1種)を少なくとも含むことが好まし
い。
Second, M1 (where M1 is SiO
2 and at least one of Al 2 O 3 ), M2
(Where M2 is at least one selected from BaO, CaO and SrO) and M3 (where M3 is
Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, and B 2 O 3 ).

【0021】焼結温度を高くすれば、緻密な焼結体が得
られるが、内部電極の異常焼結による電極の途切れや、
内部電極材質の拡散により容量温度特性が悪化する傾向
がある。一方、焼結温度を低くすれば、こうした不都合
は生じないが、緻密な焼結体を得ることができなくな
る。そこで、内部電極の途切れや容量温度特性の悪化を
防ぎながら、緻密な焼結体を得ることが望まれる。上述
した第1〜2の焼結助剤を添加することで、内部電極の
途切れや容量温度特性の悪化を防止しつつ、緻密な焼結
体を好適に得ることができる。
When the sintering temperature is increased, a dense sintered body can be obtained.
The capacity-temperature characteristics tend to deteriorate due to the diffusion of the internal electrode material. On the other hand, if the sintering temperature is lowered, such a disadvantage does not occur, but a dense sintered body cannot be obtained. Therefore, it is desired to obtain a dense sintered body while preventing interruption of the internal electrode and deterioration of the capacitance temperature characteristic. By adding the first and second sintering aids described above, it is possible to suitably obtain a dense sintered body while preventing interruption of the internal electrode and deterioration of the capacitance temperature characteristics.

【0022】この種の焼結助剤は、焼結温度を低下させ
る作用を有する。また、容量温度特性にはあまり影響を
与えない。ただし、添加量が余りに多すぎると、焼結性
が悪くなり、絶縁抵抗(IR)が低下する傾向があり、
添加量が余りに少なすぎると、焼結性がさらに低下し、
絶縁抵抗(IR)が悪化する傾向にある。したがって、
これら焼結助剤の添加量は、少なくともチタン酸バリウ
ムおよびチタン酸カルシウムを含有する基本成分100
モル%に対して、0.2〜6モル%の範囲が好ましい。
This type of sintering aid has the function of lowering the sintering temperature. Also, the capacitance-temperature characteristics are not significantly affected. However, if the addition amount is too large, the sinterability tends to deteriorate, and the insulation resistance (IR) tends to decrease,
If the addition amount is too small, the sinterability is further reduced,
Insulation resistance (IR) tends to deteriorate. Therefore,
The amount of these sintering aids added is at least 100% of the basic component containing barium titanate and calcium titanate.
The range of 0.2 to 6 mol% is preferable to the mol%.

【0023】第1の焼結助剤を用いた場合には、120
0℃という低温でも焼結可能であり、第2の焼結助剤を
用いた場合には、1200℃よりも低温で焼結が可能で
ある。添加量が余りに多すぎても少なすぎても、110
0℃程度の低温での焼結性が悪く、緻密な焼結体が得ら
れない傾向がある。
When the first sintering aid is used, 120
Sintering can be performed at a low temperature of 0 ° C., and when the second sintering aid is used, sintering can be performed at a temperature lower than 1200 ° C. If the amount added is too large or too small,
The sinterability at a low temperature of about 0 ° C. is poor, and a dense sintered body tends not to be obtained.

【0024】3.上記目的を達成するために、特に好ま
しい態様は、以下の第2〜3の観点に係る誘電体組成物
である。
3. In order to achieve the above object, a particularly preferred embodiment is a dielectric composition according to the following second to third aspects.

【0025】第2の観点の本発明に係る誘電体組成物
は、チタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムを少な
くとも含む基本成分と、SiO、Al
よび(Ba,Ca)SiO2+x (ただし、x=
0.8〜1.2)から選ばれる少なくとも1種の添加成
分とを有する誘電体組成物であって、前記基本成分の組
成モル比について、チタン酸バリウムの組成モル比
(X)が、0.3<X<0.5、チタン酸カルシウムの
組成モル比(Y)が、1−Xであり、かつ、前記基本成
分100モル%に対する前記添加成分の添加量が、0.
2〜6モル%であることを特徴とする。
The dielectric composition according to the second aspect of the present invention comprises a basic component containing at least barium titanate and calcium titanate, SiO 2 , Al 2 O 3 and (Ba, Ca) x SiO 2 + x (where , X =
0.8 to 1.2), wherein the composition molar ratio (X) of barium titanate is 0 with respect to the composition molar ratio of the basic components. 0.3 <X <0.5, the composition molar ratio (Y) of calcium titanate is 1-X, and the amount of the additional component to be added is 0.1 to 100 mol% of the basic component.
2 to 6 mol%.

【0026】第3の観点の本発明に係る誘電体組成物
は、チタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムを少な
くとも含む基本成分と、M1(ただし、M1は、SiO
およびAlの少なくとも1種)、M2
(ただし、M2は、BaO、CaOおよびSrOから選
ばれる少なくとも1種)およびM3(ただし、M3は、
LiO、NaO、KOおよびB
から選ばれる何れか1種)からなる添加成分とを有する
誘電体組成物であって、前記基本成分の組成モル比につ
いて、チタン酸バリウムの組成モル比(X)が、0.3
<X<0.5、チタン酸カルシウムの組成モル比(Y)
が、1−Xであり、前記添加成分の組成モル比を三角図
(M1,M2,M3)で表したとき、前記添加成分の組
成モル比が下記点a〜fで囲まれた領域内であり(図6
の外側斜線部分。ただし、境界線上は含まない)、か
つ、前記基本成分100モル%に対する前記添加成分の
添加量が、0.2〜6モル%であることを特徴とする。 a:(0.1,0 ,0.9) b:(0.5,0 ,0.5) c:(0.7,0.2,0.1) d:(0.2,0.7,0.1) e:(0 ,0.5,0.5) f:(0 ,0.1,0.9)
According to a third aspect of the present invention, there is provided a dielectric composition comprising a basic component containing at least barium titanate and calcium titanate, and M1 (where M1 is SiO 2).
2 and at least one of Al 2 O 3 ), M2
(Where M2 is at least one selected from BaO, CaO and SrO) and M3 (where M3 is
Li 2 O, Na 2 O, K 2 O and B 2 O 3
Wherein the compositional molar ratio (X) of barium titanate is 0.3 to 0.3.
<X <0.5, composition molar ratio of calcium titanate (Y)
Is 1-X, and when the composition molar ratio of the additive component is represented by a triangular diagram (M1, M2, M3), the composition molar ratio of the additive component is within a region surrounded by the following points a to f. Yes (Fig. 6
Outside shaded area. However, it is not included on the boundary line), and the addition amount of the additional component is 0.2 to 6 mol% with respect to 100 mol% of the basic component. a: (0.1, 0, 0.9) b: (0.5, 0, 0.5) c: (0.7, 0.2, 0.1) d: (0.2, 0. 7, 0.1) e: (0, 0.5, 0.5) f: (0, 0.1, 0.9)

【0027】好ましくは、第3の観点の誘電体組成物に
おける前記添加成分の組成モル比は、三角図(M1,M
2,M3)で表したとき、前記添加成分の組成モル比が
下記点k,b,c,lおよびmで囲まれた領域内である
(図6の内側斜線部分である。ただし、境界線上は含ま
ない)。 k:(0.2 ,0 ,0.8) b:(0.5 ,0 ,0.5) c:(0.7 ,0.2 ,0.1) l:(0.35,0.55,0.1) m:(0 ,0.2 ,0.8)
Preferably, the composition molar ratio of the additional component in the dielectric composition according to the third aspect is a triangular diagram (M1, M
When expressed by (2, M3), the composition molar ratio of the additive component is within a region surrounded by the following points k, b, c, l, and m (the inside hatched portion in FIG. 6; Is not included). k: (0.2, 0, 0.8) b: (0.5, 0, 0.5) c: (0.7, 0.2, 0.1) l: (0.35, 0. 55, 0.1) m: (0, 0.2, 0.8)

【0028】焼結温度を高くすれば、緻密な焼結体が得
られるが、内部電極の異常焼結による電極の途切れや、
内部電極材質の拡散により容量温度特性が悪化する傾向
がある。一方、焼結温度を低くすれば、こうした不都合
は生じないが、緻密な焼結体を得ることができなくな
る。そこで、内部電極の途切れや容量温度特性の悪化を
防ぎながら、緻密な焼結体を得ることが望まれる。上述
した観点に係る誘電体組成物では、特定組成のガラス成
分を添加することで、1200℃程度の低温で焼成した
場合でも、緻密な焼結体を好適に得ることができる。
If the sintering temperature is increased, a dense sintered body can be obtained.
The capacity-temperature characteristics tend to deteriorate due to the diffusion of the internal electrode material. On the other hand, if the sintering temperature is lowered, such a disadvantage does not occur, but a dense sintered body cannot be obtained. Therefore, it is desired to obtain a dense sintered body while preventing interruption of the internal electrode and deterioration of the capacitance temperature characteristic. In the dielectric composition according to the above-described viewpoint, by adding a glass component having a specific composition, a dense sintered body can be suitably obtained even when firing at a low temperature of about 1200 ° C.

【0029】特に、第3の観点の誘電体組成物における
添加成分は、焼結温度をさらに低下させる作用を有す
る。ガラス成分の添加量は、前記チタン酸バリウムおよ
びチタン酸カルシウムを含有する基本成分100モル%
に対して、0.2〜6モル%の範囲が好ましい。添加量
が余りに多すぎても少なすぎても、1100℃程度の低
温での焼結性が悪く、緻密な焼結体が得られない傾向が
ある。
In particular, the additive component in the dielectric composition according to the third aspect has an effect of further lowering the sintering temperature. The amount of the glass component added is 100 mol% of the basic component containing the barium titanate and calcium titanate.
Is preferably in the range of 0.2 to 6 mol%. If the amount is too large or too small, the sinterability at a low temperature of about 1100 ° C. is poor, and a dense sintered body tends not to be obtained.

【0030】以上のような第3の観点に係る誘電体組成
物によれば、1100℃程度の低温で焼成できるため、
焼結時の粒成長を抑制でき、素地の膨れなどの異常膨張
を効果的に防ぐことができる。
According to the above-described dielectric composition according to the third aspect, since it can be fired at a low temperature of about 1100 ° C.,
Grain growth during sintering can be suppressed, and abnormal expansion such as expansion of the substrate can be effectively prevented.

【0031】4.上述したように、第1〜3の観点の誘
電体組成物では、チタン酸バリウムとチタン酸カルシウ
ムとの組成モル比は、チタン酸バリウムの組成モル比
(X)が0.3<X<0.5であり、チタン酸カルシウ
ムの組成モル比(Y)が1−Xであることを特徴とする
ものである。しかしながら、チタン酸バリウムの組成モ
ル比(X)が増加すると、誘電率は増加するものの、容
量温度特性がSL特性を満足しなくなる傾向がある。
4. As described above, in the dielectric compositions of the first to third aspects, the composition molar ratio of barium titanate and calcium titanate is such that the composition molar ratio (X) of barium titanate is 0.3 <X <0. And the composition molar ratio (Y) of calcium titanate is 1-X. However, when the composition molar ratio (X) of barium titanate increases, the dielectric constant increases, but the capacitance-temperature characteristics tend to not satisfy the SL characteristics.

【0032】これに対し、チタン酸カルシウムの組成モ
ル比(Y)が増加すると、容量温度特性を満足しなくな
り、誘電率が減少する傾向がある。
On the other hand, when the composition molar ratio (Y) of calcium titanate increases, the capacity-temperature characteristics are not satisfied, and the dielectric constant tends to decrease.

【0033】したがって、誘電率および容量温度特性の
バランスをよりとるためには、チタン酸バリウムの組成
モル比(X)が0.35以上0.48以下であり、チタ
ン酸カルシウムの組成モル比(Y)が1−Xであること
が好ましく、特に好ましくは、Xが0.35以上0.4
以下であり、Yが1−Xである。
Therefore, in order to better balance the dielectric constant and the capacitance-temperature characteristic, the composition molar ratio (X) of barium titanate is 0.35 or more and 0.48 or less, and the composition molar ratio of calcium titanate (X) is Y) is preferably 1-X, particularly preferably X is 0.35 or more and 0.4 or more.
Where Y is 1-X.

【0034】5.第1〜3の観点の本発明に係る誘電体
組成物は、少なくとも2種の結晶構造を有し、この結晶
構造の少なくとも一種が、チタン酸バリウムを含む正方
晶(tetragonal)であり、他の一種が、チタン酸カルシ
ウムを含む立方晶(cubic )、斜方晶(orthorhombic)
または正方晶(tetragonal)であることが好ましい。焼
成後の組成物において、少なくとも2種の結晶構造を有
するのが好ましいのは、チタン酸バリウムとチタン酸カ
ルシウムとの固溶が進行して一つの結晶構造のみを持つ
ようになると、比誘電率(εr)が低下し、高温での誘
電損失(tanδ)が悪化する傾向があるからである。
5. The dielectric composition according to the present invention according to the first to third aspects has at least two kinds of crystal structures, and at least one of the crystal structures is a tetragonal containing barium titanate. Cubic, orthorhombic containing calcium titanate
Alternatively, it is preferably a tetragonal crystal. It is preferable that the composition after firing has at least two types of crystal structures because, when the solid solution of barium titanate and calcium titanate progresses to have only one crystal structure, the relative dielectric constant This is because (εr) tends to decrease and the dielectric loss (tan δ) at high temperatures tends to deteriorate.

【0035】6.第1〜3の観点の本発明に係る誘電体
組成物は、X線回折解析(CuのKα線)において、ブ
ラッグ角(θ)の2倍値(2θ)が44〜46deg.
の範囲内に、チタン酸バリウムを主成分とする(00
2)結晶面のピークと(200)結晶面のピークとを含
む擬立方晶ピークを有することが好ましい。ここでいう
擬立方晶ピークとは、チタン酸バリウムを主成分とする
(002)結晶面のピークと、(200)結晶面のピー
クとの格子定数の差がなくなり、X線回折解析では分離
困難になったピークを意味する。この擬立方晶ピークを
有する構造とすることにより、容量温度特性を改善でき
ることが見出された。
6. The dielectric composition according to the first to third aspects of the present invention has a double value (2θ) of the Bragg angle (θ) of 44 to 46 deg. In X-ray diffraction analysis (Kα ray of Cu).
Within the range, barium titanate as a main component (00
2) It preferably has a pseudo cubic peak including a crystal plane peak and a (200) crystal plane peak. The pseudo cubic peak referred to here has no difference in lattice constant between the peak of the (002) crystal plane containing barium titanate as a main component and the peak of the (200) crystal plane, and is difficult to separate by X-ray diffraction analysis. Means the peak which became. It has been found that by adopting a structure having this pseudo cubic peak, the capacity-temperature characteristics can be improved.

【0036】7.第1〜3の観点の本発明に係る誘電体
組成物は、X線回折解析(CuのKα線)において、ブ
ラッグ角(θ)の2倍値(2θ)が44〜48deg.
の範囲内に、チタン酸カルシウムを主成分とする(04
0)結晶面の斜方晶ピークを有することが好ましい。
7. The dielectric composition according to the first to third aspects of the present invention has a double value (2θ) of the Bragg angle (θ) of 44 to 48 deg. In X-ray diffraction analysis (Kα ray of Cu).
Within the range of (4), calcium titanate as a main component (04
0) It preferably has an orthorhombic peak in the crystal plane.

【0037】8.第1〜3の観点の本発明に係る誘電体
組成物において、前記チタン酸バリウムが、実質的にチ
タン酸バリウムからなるコア部の周囲に、カルシウム、
マグネシウム、アルミニウム、バナジウム、モリブデ
ン、タングステン、コバルト、ケイ素、バリウムおよび
チタン酸カルシウムからなる群から選ばれる少なくとも
一種がチタン酸バリウムに固溶された層、または実質的
にチタン酸カルシウム、からなるシェル部で囲まれた、
コア−シェル構造を有することが好ましい。
8. In the dielectric composition according to the present invention according to the first to third aspects, the barium titanate includes calcium, around a core portion substantially made of barium titanate.
A shell portion made of a layer in which at least one selected from the group consisting of magnesium, aluminum, vanadium, molybdenum, tungsten, cobalt, silicon, barium and calcium titanate is dissolved in barium titanate, or substantially calcium titanate. Surrounded by
It preferably has a core-shell structure.

【0038】本発明でいう「実質的にチタン酸バリウム
からなる」とは、完全にチタン酸バリウムから構成され
ているものの他、本発明の作用効果を奏することができ
る程度にまで不純物を含有しているものをも含む趣旨で
あり、「実質的にチタン酸カルシウムからなる」とは、
完全にチタン酸カルシウムから構成されているものの
他、本発明の作用効果を奏することができる程度にまで
不純物を含有しているものをも含む趣旨である。以下、
同様である。こうした構造のチタン酸バリウムを有する
ことで、誘電体組成物の容量温度特性をより平坦にする
ことができる。
The term "substantially composed of barium titanate" as used in the present invention means that the substance is composed entirely of barium titanate and contains impurities to such an extent that the effects of the present invention can be obtained. It is intended to include those that include, and "consist substantially of calcium titanate"
This is intended to include, in addition to those composed entirely of calcium titanate, those containing impurities to such an extent that the effects of the present invention can be exerted. Less than,
The same is true. By having barium titanate having such a structure, the capacitance-temperature characteristics of the dielectric composition can be made flatter.

【0039】9.第1〜3の観点の本発明に係る誘電体
組成物において、前記チタン酸カルシウムが、実質的に
チタン酸カルシウムからなるコア部の周囲に、カルシウ
ム、マグネシウム、アルミニウム、バナジウム、モリブ
デン、タングステン、コバルト、ケイ素、バリウムおよ
びチタン酸バリウムからなる群から選ばれる少なくとも
一種がチタン酸カルシウムに固溶された層、または実質
的にチタン酸バリウム、からなるシェル部で囲まれた、
コア−シェル構造を有することが好ましい。
9. In the dielectric composition according to the first to third aspects of the present invention, the calcium titanate is formed around calcium, magnesium, aluminum, vanadium, molybdenum, tungsten, and cobalt around a core portion substantially composed of calcium titanate. A layer in which at least one selected from the group consisting of silicon, barium and barium titanate is solid-dissolved in calcium titanate, or substantially barium titanate,
It preferably has a core-shell structure.

【0040】こうした構造のチタン酸カルシウムを有す
ることで、誘電体組成物の容量温度特性をより平坦にす
ることができる。
With the calcium titanate having such a structure, the capacitance-temperature characteristics of the dielectric composition can be made flatter.

【0041】中でも、上述した本発明の誘電体組成物に
おいて、前記チタン酸バリウムが、前記コア−シェル構
造を有し、かつ、前記チタン酸カルシウムも前記コア−
シェル構造を有することが特に好ましい。こうした構造
のチタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムを有する
ことで、誘電体組成物の容量温度特性をより一層平坦に
することができる。
Particularly, in the above-described dielectric composition of the present invention, the barium titanate has the core-shell structure, and the calcium titanate also has the core-shell structure.
It is particularly preferred to have a shell structure. By having barium titanate and calcium titanate having such a structure, the capacitance-temperature characteristics of the dielectric composition can be further flattened.

【0042】10.上述した第1〜3の観点に係る誘電
体組成物には、焼結助剤以外(第1の観点の組成物に限
る)にも種々の添加物を含んでいてもよい。
10. The dielectric composition according to the first to third aspects described above may contain various additives other than the sintering aid (limited to the composition according to the first aspect).

【0043】耐還元性助剤 この種の添加物としては、たとえば、Mg、Mn、C
r、Co、ZnおよびAlからなる群から選ばれる少な
くとも一種の酸化物(たとえばMgOやMnO)、なら
びに/または、焼成によりMgおよび/もしくはMnの
酸化物になる化合物(たとえばMnCOやMgCO
)、炭酸塩などの耐還元性助剤を挙げることができ
る。
Reduction-Resistant Aids Such additives include, for example, Mg, Mn, C
at least one oxide (eg, MgO or MnO) selected from the group consisting of r, Co, Zn, and Al, and / or a compound (eg, MnCO 3 or MgCO 3 ) that becomes an oxide of Mg and / or Mn when fired
3 ) reduction aids such as carbonates.

【0044】中でも、以下に示す(1)および(2)の
何れかを採用することが好ましく、(1)および(2)
を併用することがより好ましい。
Among them, it is preferable to employ one of the following (1) and (2), and (1) and (2)
Is more preferably used in combination.

【0045】(1)Mnの酸化物および/または焼成に
よりMnの酸化物になる化合物が好ましく、MnOがよ
り好ましい。この種の耐還元性助剤は、主として、焼結
を促進する効果と絶縁抵抗(IR)を改善する効果を有
するが、添加量が余りに多すぎると、絶縁抵抗(IR)
が低下し、誘電損失(tanδ)が増大する傾向にある
ので、その添加量は、少なくともチタン酸バリウムおよ
びチタン酸カルシウムを含有する基本成分100モル%
に対して、0.1〜1モル%の範囲であることが好まし
い。
(1) An oxide of Mn and / or a compound which becomes an oxide of Mn by firing is preferable, and MnO is more preferable. This kind of reduction resistance auxiliary mainly has an effect of accelerating sintering and an effect of improving insulation resistance (IR). However, if the addition amount is too large, the insulation resistance (IR) is reduced.
, And the dielectric loss (tan δ) tends to increase. Therefore, the amount of addition should be at least 100 mol% of the basic component containing at least barium titanate and calcium titanate.
Is preferably in the range of 0.1 to 1 mol%.

【0046】(2)Mgの酸化物および/または焼成に
よりMgの酸化物になる化合物も好ましく、MgOがよ
り好ましい。この種の耐還元性助剤は、主として容量温
度特性を平坦化させる効果を有するが、添加量が余りに
多すぎると、焼結性が悪くなり、比誘電率(εr)が低
下する傾向にあるので、その添加量は、少なくともチタ
ン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムを含有する基本
成分100モル%に対して、4モル%以下が好ましい。
(2) An oxide of Mg and / or a compound which becomes an oxide of Mg by firing is also preferable, and MgO is more preferable. This kind of reduction resistance aid has an effect of mainly flattening the capacity-temperature characteristic, but if the addition amount is too large, the sinterability deteriorates and the relative permittivity (εr) tends to decrease. Therefore, the addition amount is preferably 4 mol% or less based on 100 mol% of the basic component containing at least barium titanate and calcium titanate.

【0047】他の添加物 さらに、他の添加物としては、V、MoO
、WOおよびCoからなる群から選
ばれる少なくとも1種の酸化物を挙げることができる。
中でも、Vが好ましい。この種の酸化物は、
焼結温度を低下させる効果を有するが、添加量が余りに
多すぎると、絶縁抵抗(IR)および誘電損失(tan
δ)が著しく悪化する傾向があるので、その添加量は、
少なくともチタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウム
を含有する基本成分100モル%に対して、0.01〜
0.5モル%の範囲であることが好ましい。
Other Additives Other additives include V 2 O 5 , MoO
3 , at least one oxide selected from the group consisting of WO 3 and Co 3 O 4 .
Among them, V 2 O 5 is preferable. This type of oxide is
It has the effect of lowering the sintering temperature, but if the amount is too large, the insulation resistance (IR) and dielectric loss (tan)
δ) tends to be significantly deteriorated,
0.01 to 100 mol% of the basic component containing at least barium titanate and calcium titanate
It is preferably in the range of 0.5 mol%.

【0048】11.上述した第1〜3の観点の本発明に
係る誘電体組成物は、内部電極と誘電体層とを有するセ
ラミックコンデンサの前記誘電体層の材料として好まし
く用いることができる。
11. The dielectric composition according to the first to third aspects of the present invention can be preferably used as a material for the dielectric layer of a ceramic capacitor having an internal electrode and a dielectric layer.

【0049】この場合、前記内部電極が、ニッケル(N
i)またはNi合金で構成されていることがより好まし
い。本発明に係る誘電体組成物は、焼成時の耐還元性に
優れているので、還元雰囲気中での焼結が可能となり、
内部電極としてNiまたはNi合金を用いることがで
き、コストダウンを図ることができる。
In this case, the internal electrode is made of nickel (N
More preferably, it is composed of i) or a Ni alloy. Since the dielectric composition according to the present invention is excellent in reduction resistance during firing, sintering in a reducing atmosphere becomes possible,
Ni or a Ni alloy can be used as the internal electrode, and the cost can be reduced.

【0050】なお、このセラミックコンデンサの構造な
どは特に限定されず、積層型コンデンサの他、単板型コ
ンデンサも含む趣旨である。
The structure of the ceramic capacitor is not particularly limited, and includes a single-plate capacitor in addition to a multilayer capacitor.

【0051】こうしたコンデンサは、上述した本発明の
誘電体組成物と、卑金属(例えば、Cu、Cu合金、N
i又はNi合金等)で構成される内部電極材料とを積層
して、同時焼成することにより製造することができる。
Such a capacitor comprises the above-described dielectric composition of the present invention and a base metal (eg, Cu, Cu alloy, N
i or a Ni alloy) and by firing them simultaneously.

【0052】積層方法は、特に限定されず、印刷法又は
シート法が挙げられる。注入法によっても製造すること
ができる。
The lamination method is not particularly limited, and includes a printing method and a sheet method. It can also be manufactured by the injection method.

【0053】[0053]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0054】図1は本発明の積層型セラミックコンデン
サの実施形態を示す一部破断斜視図、図2は本発明の実
施例(試料3)における誘電体組成物の微細構造をSE
Mにより観察した写真、図3は図2の写真を模式的に表
した図、図4は本発明の実施例(試料3)および比較例
(試料8,試料0)の容量温度特性(SL特性)を示す
グラフ、図5は本発明の実施例(試料3)および比較例
(試料0)における誘電体組成物のX線回折の測定結果
を示すグラフ(ただし、横軸はブラッグ角θの2倍値
(2θ、単位はdeg.)、縦軸は強度(I、単位はc
ps)を表す)、図6は第3の観点の本発明に係る誘電
体組成物におけるガラス成分の三元組成図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of the multilayer ceramic capacitor of the present invention, and FIG. 2 shows the fine structure of the dielectric composition in Example (Sample 3) of the present invention.
M, FIG. 3 schematically shows the photograph of FIG. 2, and FIG. 4 shows capacitance-temperature characteristics (SL characteristics) of Examples (Sample 3) and Comparative Examples (Sample 8, Sample 0) of the present invention. FIG. 5 is a graph showing the measurement results of X-ray diffraction of the dielectric compositions in Example (Sample 3) and Comparative Example (Sample 0) of the present invention (where the horizontal axis represents the Bragg angle θ of 2). Double value (2θ, unit is deg.), Vertical axis is intensity (I, unit is c)
ps)), and FIG. 6 is a ternary composition diagram of a glass component in the dielectric composition according to the third aspect of the present invention.

【0055】本実施形態では、まず、積層型セラミック
コンデンサの構成を説明した後に、この積層型セラミッ
クコンデンサの製造方法を説明する。
In this embodiment, first, the structure of the multilayer ceramic capacitor will be described, and then a method of manufacturing the multilayer ceramic capacitor will be described.

【0056】セラミックコンデンサ 図1に示されるように、本実施形態の積層型セラミック
コンデンサ1は、内部電極11と誘電体層12とが交互
に積層され、各内部電極に接続している一対の外部電極
13を有する。
[0056] As shown in ceramic capacitors Figure 1, the multilayer ceramic capacitor 1 of the present embodiment, the internal electrode 11 and the dielectric layer 12 are laminated alternately, a pair of connecting to the internal electrodes outside It has an electrode 13.

【0057】本実施形態では、内部電極11は、Niま
たはNi合金から形成され、特に限定はされないが、N
i合金としては、95重量%以上のNiと、マンガン
(Mn)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、アルミ
ニウム(Al)等の一種以上の合金であることが好まし
い。また、NiまたはNi合金中には微量成分として
0.1重量%以下のリン(P)等が含有されていても良
い。
In the present embodiment, the internal electrode 11 is formed of Ni or a Ni alloy, and is not particularly limited.
The i-alloy is preferably 95% by weight or more of Ni and one or more alloys such as manganese (Mn), chromium (Cr), cobalt (Co), and aluminum (Al). Also, Ni or Ni alloy may contain 0.1% by weight or less of phosphorus (P) or the like as a trace component.

【0058】内部電極11の厚み等の諸条件は、目的や
用途に応じて適宜決定すればよいが、通常、厚みは1〜
5μm、好ましくは2〜3μmである。
Various conditions such as the thickness of the internal electrode 11 may be appropriately determined according to the purpose and application.
It is 5 μm, preferably 2-3 μm.

【0059】誘電体層12の材質は、少なくともチタン
酸バリウムおよびチタン酸カルシウムを含有する誘電体
組成物から構成される。これら2つの組成モル比につい
ては、前述のとおりである。前記誘電体組成物には、耐
還元性助剤および焼結助剤が添加されていることが好ま
しい。
The material of the dielectric layer 12 is composed of a dielectric composition containing at least barium titanate and calcium titanate. The molar ratio of these two components is as described above. It is preferable that a reduction resistance assistant and a sintering assistant are added to the dielectric composition.

【0060】なお、外部電極13には、通常、銅(C
u)やCu合金、NiやNi合金等が用いられるが、金
(Au)や銀(Ag)とパラジウム(Pd)の合金等も
使用することができる。外部電極13の厚みは任意であ
り、目的や用途に応じて適宜決定すればよいが、通常1
0〜50μmである。
The external electrode 13 is usually made of copper (C
u), a Cu alloy, Ni or a Ni alloy, or the like, but gold (Au), an alloy of silver (Ag) and palladium (Pd), or the like can also be used. The thickness of the external electrode 13 is arbitrary, and may be appropriately determined according to the purpose and application.
0 to 50 μm.

【0061】また、このような積層型セラミックコンデ
ンサ1の形状やサイズは目的や用途に応じて適宜決定す
ればよい。たとえば、直方体状の場合は、通常1〜1.
6mm×0.5〜0.8mm×0.3〜0.6mm程度
である。
The shape and size of such a multilayer ceramic capacitor 1 may be appropriately determined according to the purpose and application. For example, in the case of a rectangular parallelepiped, usually 1 to 1.
It is about 6 mm × 0.5 to 0.8 mm × 0.3 to 0.6 mm.

【0062】セラミックコンデンサの製造方法 次に、上記積層型セラミックコンデンサ1の製造方法に
ついて説明する。まず、誘電体層用ペースト、内部電極
用ペースト、外部電極用ペーストをそれぞれ製造する。
Next, a method of manufacturing the above-mentioned multilayer ceramic capacitor 1 will be described. First, a paste for a dielectric layer, a paste for an internal electrode, and a paste for an external electrode are manufactured.

【0063】誘電体層用ペーストは、上述した誘電体組
成物の組成に応じた誘電体原料と有機ビヒクルとを混練
するか、または水溶系塗料として製造される。誘電体原
料には、上述した複合酸化物や酸化物となる各種化合
物、たとえば、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化
合物等から適宜選択し、混合して用いることができる。
誘電体原料中の各化合物の含有量は、焼成後に上述した
誘電体層の組成となるように決定すればよい。誘電体原
料は、通常、平均粒子径0.1〜3.0μm程度の粉末
として用いられる。
The dielectric layer paste is produced by kneading a dielectric material and an organic vehicle according to the composition of the above-described dielectric composition, or as a water-based paint. As the dielectric material, any of the above-described composite oxides and various compounds that become oxides, for example, carbonates, nitrates, hydroxides, organometallic compounds, and the like can be appropriately selected and used.
The content of each compound in the dielectric material may be determined so as to have the above-described composition of the dielectric layer after firing. The dielectric material is usually used as a powder having an average particle diameter of about 0.1 to 3.0 μm.

【0064】有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中
に溶解したものであり、有機ビヒクルに用いられるバイ
ンダは、特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニ
ルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すれ
ばよい。また、このとき用いられる有機溶剤も特に限定
されず、印刷法やシート法等利用する方法に応じてテル
ピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン
等の有機溶剤から適宜選択すればよい。
The organic vehicle is obtained by dissolving a binder in an organic solvent, and the binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from ordinary various binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. In addition, the organic solvent used at this time is not particularly limited, and may be appropriately selected from organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, and toluene depending on a method such as a printing method or a sheet method.

【0065】また、水溶系塗料とは、水に水溶性バイン
ダ、分散剤等を溶解させたものであり、水溶系バインダ
は、特に限定されず、ポリビニルアルコール、セルロー
ス、水溶性アクリル樹脂、エマルジョン等から適宜選択
すればよい。
The water-based paint is obtained by dissolving a water-soluble binder, a dispersant, and the like in water. The water-soluble binder is not particularly limited, and may be polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin, emulsion, or the like. May be selected as appropriate.

【0066】内部電極用ペーストは、上述した各種導電
性金属や合金からなる導電材料あるいは焼成後に上述し
た導電材料となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネ
ート等と、上述した有機ビヒクルとを混練して調製され
る。また、外部電極用ペーストも、この内部電極用ペー
ストと同様にして調製される。
The paste for an internal electrode is obtained by kneading the above-mentioned organic vehicle with the above-mentioned conductive material comprising various conductive metals or alloys or various oxides, organometallic compounds, resinates, etc. which become the above-mentioned conductive materials after firing. It is prepared by The external electrode paste is also prepared in the same manner as the internal electrode paste.

【0067】上述した各ペーストの有機ビヒクルの含有
量は、特に限定されず、通常の含有量、たとえば、バイ
ンダは1〜5重量%程度、溶剤は10〜50重量%程度
とすればよい。また、各ペースト中には必要に応じて各
種分散剤、可塑剤、誘電体、絶縁体等から選択される添
加物が含有されても良い。
The content of the organic vehicle in each of the above-mentioned pastes is not particularly limited, and may be a usual content, for example, about 1 to 5% by weight of a binder and about 10 to 50% by weight of a solvent. Each paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, insulators, and the like, as necessary.

【0068】印刷法を用いる場合は、誘電体ペーストお
よび内部電極用ペーストをポリエチレンテレフタレート
等の基板上に積層印刷し、所定形状に切断したのち基板
から剥離することでグリーンチップとする。これに対し
て、シート法を用いる場合は、誘電体ペーストを用いて
グリーンシートを形成し、この上に内部電極ペーストを
印刷したのちこれらを積層してグリーンチップとする。
When a printing method is used, a dielectric chip and an internal electrode paste are laminated and printed on a substrate such as polyethylene terephthalate, cut into a predetermined shape, and then peeled off from the substrate to form a green chip. On the other hand, when the sheet method is used, a green sheet is formed using a dielectric paste, an internal electrode paste is printed thereon, and these are laminated to form a green chip.

【0069】次に、このグリーンチップを脱バインダ処
理および焼成する。脱バインダ処理は焼成前に行われ、
通常の条件で行えばよいが、特に内部電極層の導電材と
してNiやNi合金等の卑金属を用いる場合には、空気
雰囲気において、昇温速度を5〜300℃/時間、より
好ましくは10〜100℃/時間、保持温度を180〜
400℃、より好ましくは200〜300℃、温度保持
時間を0.5〜24時間、より好ましくは5〜20時間
とする。
Next, the green chip is subjected to binder removal processing and firing. The binder removal process is performed before firing,
It may be performed under normal conditions, but particularly when a base metal such as Ni or a Ni alloy is used as the conductive material of the internal electrode layer, the temperature is increased at a rate of 5 to 300 ° C./hour, more preferably 10 to 300 ° C./hour in an air atmosphere. 100 ° C / hour, holding temperature 180 ~
400 ° C., more preferably 200 to 300 ° C., and the temperature holding time is 0.5 to 24 hours, more preferably 5 to 20 hours.

【0070】グリーンチップの焼成雰囲気は、内部電極
層用ペースト中の導電材の種類に応じて適宜決定すれば
よいが、導電材としてNiやNi合金等の卑金属を用い
る場合には、焼成雰囲気の酸素分圧を好ましくは10
−10 〜10−3Paとする。酸素分圧が低すぎると
内部電極の導電材が異常焼結を起こして途切れてしま
い、酸素分圧が高すぎると内部電極が酸化されてしまう
からである。また、焼成の保持温度は、好ましくは11
00〜1400℃、より好ましくは1200〜1380
℃である。保持温度が低すぎると緻密化が不充分とな
り、保持温度が高すぎると内部電極の異常焼結による電
極の途切れまたは内部電極材質の拡散により容量温度特
性が悪化するからである。ただし、上述した第2〜3の
観点に係る誘電体組成物を用いれば、1100℃程度の
低温でも、内部電極の途切れや容量温度特性の悪化を防
止しつつも緻密な焼結体が得られる。
The firing atmosphere of the green chip may be appropriately determined according to the type of the conductive material in the internal electrode layer paste. However, when a base metal such as Ni or a Ni alloy is used as the conductive material, the firing atmosphere may be different. Oxygen partial pressure is preferably 10
-10 to 10 -3 Pa. If the oxygen partial pressure is too low, the conductive material of the internal electrode will be abnormally sintered and be interrupted, and if the oxygen partial pressure is too high, the internal electrode will be oxidized. The holding temperature for firing is preferably 11
00 to 1400 ° C, more preferably 1200 to 1380
° C. If the holding temperature is too low, the densification becomes insufficient, and if the holding temperature is too high, the capacitance-temperature characteristics deteriorate due to the interruption of the electrodes due to abnormal sintering of the internal electrodes or the diffusion of the internal electrode material. However, if the dielectric composition according to the above-described second to third aspects is used, even at a low temperature of about 1100 ° C., a dense sintered body can be obtained while preventing interruption of the internal electrodes and deterioration of the capacitance temperature characteristic. .

【0071】これ以外の焼成条件としては、昇温速度を
50〜500℃/時間、より好ましくは200〜300
℃/時間、温度保持時間を0.5〜8時間、より好まし
くは1〜3時間、冷却速度を50〜500℃/時間、よ
り好ましくは200〜300℃/時間とし、焼成雰囲気
は還元性雰囲気とすることが望ましく、雰囲気ガスとし
てはたとえば、窒素ガスと水素ガスとの混合ガスを加湿
して用いることが望ましい。
Other firing conditions include a heating rate of 50 to 500 ° C./hour, more preferably 200 to 300 ° C.
° C / hour, the temperature holding time is 0.5-8 hours, more preferably 1-3 hours, the cooling rate is 50-500 ° C / hour, more preferably 200-300 ° C / hour, and the firing atmosphere is a reducing atmosphere. It is desirable to use, for example, a wet mixed gas of nitrogen gas and hydrogen gas as the atmosphere gas.

【0072】還元性雰囲気で焼成した場合は、コンデン
サチップの焼結体にアニールを施すことが望ましい。ア
ニールは誘電体層を再酸化するための処理であり、これ
により絶縁抵抗を増加させることができる。アニール雰
囲気の酸素分圧は、好ましくは10−4Pa以上、より
好ましくは10−4〜10Paである。酸素分圧が低す
ぎると誘電体層の再酸化が困難となり、酸素分圧が高す
ぎると内部電極が酸化されるおそれがある。アニールの
際の保持温度は、1100℃以下、より好ましくは50
0〜1100℃である。保持温度が低すぎると誘電体層
の再酸化が不充分となって絶縁抵抗が悪化し、その加速
寿命も短くなる。また、保持温度が高すぎると内部電極
が酸化されて容量が低下するだけでなく、誘電体素地と
反応してしまい、容量温度特性、絶縁抵抗およびその加
速寿命が悪化する。なお、アニールは昇温行程および降
温行程のみから構成することもできる。この場合には、
温度保持時間はゼロであり、保持温度は最高温度と同義
である。
When firing in a reducing atmosphere, it is desirable to anneal the sintered body of the capacitor chip. Annealing is a process for reoxidizing the dielectric layer, which can increase the insulation resistance. The oxygen partial pressure of the annealing atmosphere is preferably 10 −4 Pa or more, more preferably 10 −4 to 10 Pa. If the oxygen partial pressure is too low, reoxidation of the dielectric layer becomes difficult, and if the oxygen partial pressure is too high, the internal electrodes may be oxidized. The holding temperature at the time of annealing is 1100 ° C. or less, more preferably 50 ° C.
0 to 1100 ° C. If the holding temperature is too low, the reoxidation of the dielectric layer becomes insufficient, the insulation resistance is deteriorated, and the accelerated life is shortened. On the other hand, if the holding temperature is too high, not only is the internal electrode oxidized to lower the capacity, but also reacts with the dielectric substrate, which deteriorates the capacity temperature characteristic, insulation resistance and accelerated life thereof. Note that the annealing may be constituted by only the temperature raising step and the temperature lowering step. In this case,
The temperature holding time is zero, and the holding temperature is synonymous with the maximum temperature.

【0073】これ以外のアニール条件としては、温度保
持時間を0〜20時間、より好ましくは6〜10時間、
冷却速度を50〜500℃/時間、より好ましくは10
0〜300℃/時間とし、アニールの雰囲気ガスとして
は、たとえば、窒素ガスを加湿して用いることが望まし
い。
Other annealing conditions include a temperature holding time of 0 to 20 hours, more preferably 6 to 10 hours,
The cooling rate is 50 to 500 ° C./hour, more preferably 10 to 500 ° C./hour.
The temperature is set to 0 to 300 ° C./hour, and as an atmosphere gas for annealing, for example, it is desirable to use a wetted nitrogen gas.

【0074】ちなみに、上述した脱バインダ処理、焼成
およびアニール工程において、窒素ガスや混合ガスを加
湿するためには、たとえば、ウェッター等を用いること
ができる。この場合の水温は5〜75℃とすることが望
ましい。
Incidentally, in the above-described binder removal treatment, firing and annealing steps, for example, a wetter or the like can be used to humidify the nitrogen gas or the mixed gas. The water temperature in this case is desirably 5 to 75 ° C.

【0075】また、これら脱バインダ処理、焼成および
アニールは連続して行っても互いに独立して行っても良
い。これらを連続して行う場合には、脱バインダ処理の
のち冷却することなく雰囲気を変更し、続いて焼成の際
の保持温度まで昇温して焼成を行い、続いて冷却してア
ニールの保持温度に達したら雰囲気を変更してアニール
処理を行うことがより好ましい。
The binder removal, firing and annealing may be performed continuously or independently of each other. In the case where these steps are continuously performed, the atmosphere is changed without cooling after the binder removal processing, the temperature is raised to the holding temperature at the time of firing, and firing is performed. When the temperature reaches the above, it is more preferable to change the atmosphere and perform the annealing treatment.

【0076】これに対して、これらを独立して行う場合
には、焼成に関しては脱バインダ処理時の保持温度まで
窒素ガスあるいは加湿した窒素ガス雰囲気下で昇温した
のち、雰囲気を変更してさらに昇温を続けることが好ま
しく、アニールの保持温度まで冷却したのちは、再び窒
素ガスまたは加湿した窒素ガス雰囲気に変更して冷却を
続けることが好ましい。また、アニールに関しては窒素
ガス雰囲気下で保持温度まで昇温したのち雰囲気を変更
しても良く、アニールの全工程を加湿した窒素ガス雰囲
気としても良い。
On the other hand, when these steps are performed independently, the firing is performed by raising the temperature in a nitrogen gas or humidified nitrogen gas atmosphere to the holding temperature during the binder removal treatment, and then changing the atmosphere. It is preferable to continue the temperature increase, and after cooling to the annealing holding temperature, it is preferable to change the atmosphere to a nitrogen gas or a humidified nitrogen gas atmosphere again and continue the cooling. Further, regarding the annealing, the atmosphere may be changed after the temperature is raised to the holding temperature in the nitrogen gas atmosphere, or the entire annealing process may be performed in a humidified nitrogen gas atmosphere.

【0077】以上のようにして得られたコンデンサ焼成
体に、たとえば、バレル研磨やサンドブラストにより端
面研磨を施し、外部電極用ペーストを印刷または転写し
て焼成し、外部電極を形成する。外部電極用ペーストの
焼成条件は、たとえば、加湿した窒素ガスと水素ガスと
の混合ガス中で600〜800℃にて10分〜1時間程
度とすることが好ましい。そして、必要に応じて外部電
極の表面にメッキ等により被覆層を形成する。
The end surface of the fired capacitor body obtained as described above is subjected to, for example, barrel polishing or sand blasting, and the external electrode paste is printed or transferred and fired to form an external electrode. The firing conditions for the external electrode paste are preferably, for example, about 10 minutes to 1 hour at 600 to 800 ° C. in a humidified mixed gas of nitrogen gas and hydrogen gas. Then, if necessary, a coating layer is formed on the surface of the external electrode by plating or the like.

【0078】このようにして製造された本実施形態のセ
ラミックコンデンサ1は、はんだ付け等によってプリン
ト基板上に実装され、各種電子機器に用いられる。
The ceramic capacitor 1 of the present embodiment manufactured as described above is mounted on a printed circuit board by soldering or the like, and is used for various electronic devices.

【0079】[0079]

【実施例】次に、本発明の実施の形態をより具体化した
実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明する。但し、
本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではな
い。
Next, the present invention will be described in more detail by way of examples which embody the embodiments of the present invention. However,
The present invention is not limited to only these examples.

【0080】以下では、本発明に係る誘電体組成物その
ものの特性と、これを誘電体層とする積層型セラミック
コンデンサの特性とを評価した。
Hereinafter, the characteristics of the dielectric composition according to the present invention itself and the characteristics of the multilayer ceramic capacitor using the dielectric composition as a dielectric layer were evaluated.

【0081】誘電体組成物の作製 平均粒径0.1〜1μmのBaTiO(以下、BT
ともいう)、CaTiO(以下、CTともいう)、
MnCO、MgCO、(BaCa)Si
、SiO、(Si,Ti)O、B
、BaO、CaO、SrO、Al、Li
OおよびV(いずれも工業用原料粉末)
を、表1〜5の試料0〜49の欄に示す配合比になるよ
うに秤量した後、これらをそれぞれボールミルにより、
約16時間、湿式混合し、これを乾燥することによって
誘電体組成物を得た。
Preparation of Dielectric Composition BaTiO 3 (hereinafter referred to as BT) having an average particle size of 0.1 to 1 μm
), CaTiO 3 (hereinafter, also referred to as CT),
MnCO 3 , MgCO 3 , (BaCa) Si
O 3 , SiO 2 , (Si, Ti) O 2 , B 2 O
3 , BaO, CaO, SrO, Al 2 O 3 , Li
2 O and V 2 O 5 (both industrial powders)
Were weighed so as to have the compounding ratios shown in the columns of Samples 0 to 49 in Tables 1 to 5, and these were respectively weighed by a ball mill.
The mixture was wet-mixed for about 16 hours and dried to obtain a dielectric composition.

【0082】ちなみに、母材となるBTおよびCTは、
BaCO、CaCOおよびTiOをそれぞ
れ秤量し、ボールミルを用いて約16時間湿式混合し、
これを乾燥したのち、約1150℃の温度で空気中にて
焼成したものをボールミルにより約50時間湿式粉砕し
て作製したものを用いても同様の特性が得られた。ま
た、母材となるBTおよびCTは、水熱合成粉、蓚酸塩
法などによって作製されたものを用いても同様の特性が
得られた。
By the way, the base materials BT and CT are:
BaCO 3 , CaCO 3 and TiO 2 were each weighed and wet mixed using a ball mill for about 16 hours,
The same characteristics were obtained by using a material which was dried and then fired at a temperature of about 1150 ° C. in the air and wet-pulverized with a ball mill for about 50 hours. Similar characteristics were obtained even when BT and CT as base materials were prepared by using hydrothermal synthetic powder, oxalate method or the like.

【0083】次いで、得られた誘電体組成物に対して、
バインダとしてのポリビニルアルコールを0.05重量
%となるように添加して、顆粒状になるようにバインダ
と誘電体組成物とを混合した。そして、この顆粒状の誘
電体組成物を0.3g秤量して、1.3トン/cm
の圧力で加圧して、直径12mm、厚さ0.7mmの円
盤状成形体を得た。
Next, with respect to the obtained dielectric composition,
Polyvinyl alcohol as a binder was added so as to be 0.05% by weight, and the binder and the dielectric composition were mixed so as to be granulated. Then, 0.3 g of this granular dielectric composition was weighed, and 1.3 ton / cm 2
To obtain a disc-shaped molded body having a diameter of 12 mm and a thickness of 0.7 mm.

【0084】次いで、この円盤状成形体を、脱バインダ
処理、焼成およびアニールを行って、直径約10mm、
厚さ約0.5mmの円盤状焼成体を得た。
Next, the disc-shaped molded body was subjected to binder removal processing, firing and annealing to obtain a disk having a diameter of about 10 mm.
A disc-shaped fired body having a thickness of about 0.5 mm was obtained.

【0085】この脱バインダ処理は、昇温速度300℃
/時間、保持温度800℃、保持時間2時間、空気およ
び加湿した窒素ガス雰囲気(1Pa)の条件で行った。
また、焼成は、昇温速度200℃/時間、保持温度12
00〜1300℃(ただし、試料13〜17は1200
℃、試料22〜49は1100℃)、保持時間2時間、
冷却速度300℃/時間、加湿した窒素ガスと水素ガス
との混合ガス雰囲気(10−4Pa)の条件で行った。
アニールは、保持温度900℃、保持時間9時間、冷却
速度300℃/時間、加湿した窒素ガス雰囲気(1P
a)の条件で行った。なお、それぞれの雰囲気ガスの加
湿には、ウェッターを用い、水温は35℃とした。
This binder removal treatment is carried out at a heating rate of 300 ° C.
/ Hour, holding temperature 800 ° C., holding time 2 hours, air and humidified nitrogen gas atmosphere (1 Pa).
The firing was performed at a heating rate of 200 ° C./hour and a holding temperature of 12 ° C.
00 to 1300 ° C. (However, samples 13 to 17 are 1200
° C, samples 22 to 49 are 1100 ° C), retention time 2 hours,
The cooling was performed at a cooling rate of 300 ° C./hour in a mixed gas atmosphere (10 −4 Pa) of humidified nitrogen gas and hydrogen gas.
The annealing is performed at a holding temperature of 900 ° C., a holding time of 9 hours, a cooling rate of 300 ° C./hour, a humidified nitrogen gas atmosphere (1 P
Performed under the condition of a). Note that a wetter was used for humidification of each atmosphere gas, and the water temperature was 35 ° C.

【0086】こうして得られた円盤状焼成体の両面に、
In−Ga合金を塗布することで、φ6mmの電極を形
成し、試料(以下、円盤状試料ともいう)を作製した。
On both sides of the disc-shaped fired body thus obtained,
An electrode having a diameter of 6 mm was formed by applying an In-Ga alloy, and a sample (hereinafter, also referred to as a disk-shaped sample) was manufactured.

【0087】この円盤状試料を用いて、磁器特性、比誘
電率(εr)、誘電損失(tanδ)、絶縁抵抗(I
R)、容量温度特性を測定した。磁器特性の評価を除い
た結果を表1〜5に示す。
Using this disc-shaped sample, the porcelain characteristics, relative permittivity (εr), dielectric loss (tan δ), insulation resistance (I
R), and the capacity-temperature characteristics were measured. Tables 1 to 5 show the results excluding the evaluation of the porcelain characteristics.

【0088】誘電体組成物の構造など 試料3(実施例)における誘電体組成物の微細構造をS
EM(Scanning Electron Microscope)により観察した
写真を図2に、これを模式的に表したものを図3に示
す。
The fine structure of the dielectric composition in Sample 3 (Example) such as the structure of the dielectric composition
FIG. 2 shows a photograph observed by an EM (Scanning Electron Microscope), and FIG. 3 schematically shows the photograph.

【0089】これを見ると、本実施例における誘電体組
成物において、強誘電体であるBTは、実質的にチタン
酸バリウムからなるコア部2の周囲に、カルシウムおよ
びマグネシウムがチタン酸バリウムに固溶された層から
なるシェル部22で囲まれたコア−シェル構造を有して
いることが確認された。また、常誘電体であるCTは、
実質的にチタン酸カルシウムからなるコア部3の周囲
に、マグネシウムおよびバリウムがチタン酸カルシウム
に固溶された層からなるシェル部32で囲まれたコア−
シェル構造を有していることが確認された。すなわち、
強誘電体であるBTおよび常誘電体であるCTともに、
コア−シェル構造を有していることが確認された。輝度
が組成によって異なるため、BTを主成分とする粒子は
白く、CTを主成分とする粒子は黒く観察される。
According to this, in the dielectric composition of this example, BT, which is a ferroelectric substance, has calcium and magnesium solidified around barium titanate around core portion 2 substantially made of barium titanate. It was confirmed that it had a core-shell structure surrounded by a shell portion 22 composed of a melted layer. Also, CT, which is a paraelectric,
A core surrounded by a shell portion 32 made of a layer in which magnesium and barium are dissolved in calcium titanate, around a core portion 3 substantially made of calcium titanate.
It was confirmed that it had a shell structure. That is,
Both BT, a ferroelectric, and CT, a paraelectric,
It was confirmed that it had a core-shell structure. Since the luminance differs depending on the composition, the particles mainly containing BT are observed as white, and the particles mainly containing CT are observed as black.

【0090】また、試料3(実施例)と、試料0(比較
例)における誘電体組成物の結晶構造を、マックサイエ
ンス社製の製品番号MXP3を用いてX線回折を測定し
た。照射源には40kVおよび40mAで操作される高
強度CuターゲットX線管を用いた。その結果を図5に
示す。なお、図5中、縦軸は強度のスケールを表してい
る。
The crystal structures of the dielectric compositions of Sample 3 (Example) and Sample 0 (Comparative Example) were measured by X-ray diffraction using a product number MXP3 manufactured by Mac Science. A high intensity Cu target X-ray tube operated at 40 kV and 40 mA was used as an irradiation source. The result is shown in FIG. In FIG. 5, the vertical axis indicates the scale of the intensity.

【0091】これを見ると、試料3(実施例)における
誘電体組成物の場合、BTについては、(002)結晶
面のブラッグ角(θBT)の2倍値(2θBT)が4
5.2deg.のときに、最大強度IBTが617cp
sを示し、(200)結晶面のブラッグ角(θBT)の
2倍値(2θBT)が45.38deg.のときに、最
大強度IBTが708cpsを示した。また、CTにつ
いては、(040)結晶面のブラッグ角(θCT)の2
倍値(2θCT)が47.52deg.のときに、最大
強度ICTが720cpsを示した。すなわち、2種類
の結晶構造を有することが分かる。
Looking at this, in the case of the dielectric composition in Sample 3 (Example), the BT has a double value (2θ BT ) of the Bragg angle (θ BT ) of the (002) crystal plane of 4
5.2 deg. At the time of, the maximum intensity I BT is 617cp
s, and the double value (2θ BT ) of the Bragg angle (θ BT ) of the (200) crystal plane is 45.38 deg. When the maximum intensity I BT showed 708Cps. For CT, the Bragg angle of the (040) crystal plane (θ CT ) is 2
Double value (2θ CT ) is 47.52 deg. When the maximum intensity I CT showed 720 cps. That is, it can be seen that it has two types of crystal structures.

【0092】これに対し、試料0(比較例)では、BT
およびCTの固溶体のブラッグ角(θBTCT)2倍値
(2θBTCT)が47.4deg.のときに、最大強
度I BTCTが1716cpsを示した。すなわち、一
つの結晶構造しか有していないことが分かる。
On the other hand, in sample 0 (comparative example), BT
Angle of solid solution of CT and CT (θBTCT) Double value
(2θBTCT) Is 47.4 deg. When the strongest
Degree I BTCTShowed 1716 cps. That is, one
It can be seen that it has only one crystal structure.

【0093】積層型セラミックコンデンサの作製 表1〜5の試料0〜49について、積層型セラミックコ
ンデンサも作製した。
Production of Multilayer Ceramic Capacitors For samples 0 to 49 in Tables 1 to 5, multilayer ceramic capacitors were also produced.

【0094】まず、誘電体層用ペーストについては、各
誘電体組成物100重量%と、アクリル樹脂4.8重量
%、塩化メチレン40重量%、酢酸エチル20重量%、
ミネラルスピリット6重量%およびアセトン4重量%と
をボールミルにて混合し、ペースト化した。
First, with respect to the dielectric layer paste, 100% by weight of each dielectric composition, 4.8% by weight of acrylic resin, 40% by weight of methylene chloride, 20% by weight of ethyl acetate,
6% by weight of mineral spirit and 4% by weight of acetone were mixed in a ball mill to form a paste.

【0095】内部電極用ペーストについては、平均粒径
0.2〜0.8μmのNi粒子100重量%と、有機ビ
ヒクル(エチルセルロース樹脂8重量%をブチルカルビ
トール92重量%に溶解したもの)40重量%と、ブチ
ルカルビトール10重量%とを3本ロールにより混練し
ペースト化した。
For the internal electrode paste, 100% by weight of Ni particles having an average particle diameter of 0.2 to 0.8 μm and 40% by weight of an organic vehicle (8% by weight of ethyl cellulose resin dissolved in 92% by weight of butyl carbitol) % And 10% by weight of butyl carbitol were kneaded with a three-roll mill to form a paste.

【0096】外部電極用ペーストについては、平均粒径
0.5μmのCu粒子100重量%と、有機ビヒクル
(エチルセルロース樹脂8重量%をブチルカルビトール
92重量%に溶解したもの)35重量%と、ブチルカル
ビトール7重量%とを混練しペースト化した。
For the external electrode paste, 100% by weight of Cu particles having an average particle diameter of 0.5 μm, 35% by weight of an organic vehicle (8% by weight of ethyl cellulose resin dissolved in 92% by weight of butyl carbitol), 7% by weight of carbitol was kneaded to form a paste.

【0097】次に、上述した誘電体層用ペーストを用い
てPETフィルム上に厚さ4.5μmおよび15μmの
グリーンシートを形成し、この上に内部電極用ペースト
を印刷したのち、PETフィルムからグリーンシートを
剥離した。次いで、こうして得られた複数枚のグリーン
シートを積層し、加圧圧着することでグリーンチップを
作製した。内部電極を有するグリーンシートの積層数は
4層とした。
Next, green sheets having a thickness of 4.5 μm and 15 μm were formed on the PET film using the above-mentioned paste for the dielectric layer, and the paste for the internal electrodes was printed thereon. The sheet was peeled off. Next, a plurality of the green sheets thus obtained were laminated and pressed and pressed to produce a green chip. The number of stacked green sheets having internal electrodes was four.

【0098】次いで、グリーンチップを所定サイズに切
断し、脱バインダ処理、焼成およびアニールを行って、
積層セラミック焼成体を得た。
Next, the green chip is cut into a predetermined size, subjected to binder removal processing, firing and annealing,
A laminated ceramic fired body was obtained.

【0099】この脱バインダ処理は、昇温時間15℃/
時間、保持温度280℃、保持時間8時間、空気雰囲気
の条件で行った。また、焼成は、昇温速度200℃/時
間、保持温度1200〜1380℃(ただし、試料13
〜17は1200℃、試料22〜49は1100℃)、
保持時間2時間、冷却速度300℃/時間、加湿した窒
素ガスと水素ガスとの混合ガス雰囲気(10−6Pa)
の条件で行った。アニールは、保持温度900℃、保持
時間9時間、冷却速度300℃/時間、加湿した窒素ガ
ス雰囲気(10−1Pa)の条件で行った。なお、それ
ぞれの雰囲気ガスの加湿にはウェッターを用い、水温は
35℃とした。
The binder removal treatment is performed at a heating time of 15 ° C. /
The test was performed under the conditions of a time, a holding temperature of 280 ° C., a holding time of 8 hours, and an air atmosphere. The firing was performed at a heating rate of 200 ° C./hour and a holding temperature of 1200 to 1380 ° C. (however, sample 13
17 to 1200 ° C, Samples 22 to 49 to 1100 ° C),
Holding time 2 hours, cooling rate 300 ° C./hour, mixed gas atmosphere of humidified nitrogen gas and hydrogen gas (10 −6 Pa)
Was performed under the following conditions. Annealing was performed under the conditions of a holding temperature of 900 ° C., a holding time of 9 hours, a cooling rate of 300 ° C./hour, and a humidified nitrogen gas atmosphere (10 −1 Pa). Note that a wetter was used for humidifying the respective atmosphere gases, and the water temperature was 35 ° C.

【0100】次いで、この積層セラミック焼成体の端面
をサンドブラストにて研磨したのち、外部電極用ペース
トを端面に転写し、加湿した窒素ガスおよび水素ガス雰
囲気中において、800℃にて10分間焼成して外部電
極を形成し、積層セラミックコンデンサの試料を得た
(以下、「コンデンサ試料」ともいう)。各試料のサイ
ズは、3.2mm×1.6mm×0.6mmであり、誘
電体層の厚みは10μmおよび3μm、内部電極の厚み
は2μmであった。
Next, after polishing the end face of the laminated ceramic fired body by sandblasting, the paste for external electrodes was transferred to the end face, and fired at 800 ° C. for 10 minutes in a humidified nitrogen gas and hydrogen gas atmosphere. External electrodes were formed to obtain a sample of the multilayer ceramic capacitor (hereinafter, also referred to as “capacitor sample”). The size of each sample was 3.2 mm × 1.6 mm × 0.6 mm, the thickness of the dielectric layer was 10 μm and 3 μm, and the thickness of the internal electrode was 2 μm.

【0101】こうして得られたコンデンサ試料につい
て、容量温度特性を測定した。結果を表1〜5に示す。
The capacitance-temperature characteristics of the capacitor samples thus obtained were measured. The results are shown in Tables 1 to 5.

【0102】評価項目および評価方法 磁器特性は、円盤状試料の寸法と質量とから、焼成時の
縮率および磁器密度を算出し、この結果から焼結性の評
価を行ったが、何れの試料についても何ら問題はなかっ
た。
Evaluation items and evaluation method As for the porcelain characteristics, the shrinkage ratio during firing and the porcelain density were calculated from the dimensions and mass of the disc-shaped sample, and the sinterability was evaluated from the results. There was no problem about.

【0103】円盤状試料について、25℃において、L
CRメータにより1kHz、1Vrmsの条件下におけ
る静電容量、誘電損失(tanδ)を測定した。得られ
た静電容量と、電極寸法および試料の厚みから比誘電率
(εr)を算出した。
For a disc-shaped sample, at 25 ° C., L
The capacitance and the dielectric loss (tan δ) under the conditions of 1 kHz and 1 Vrms were measured by a CR meter. The relative dielectric constant (εr) was calculated from the obtained capacitance, the electrode dimensions and the thickness of the sample.

【0104】絶縁抵抗(IR)は、25℃においてDC
50Vを、円盤状試料に60秒間印加した後の比抵抗ρ
を測定し、この測定値と、試料の電極面積および厚みか
ら計算で求めた(単位は「Ωcm」)。
The insulation resistance (IR) is DC at 25 ° C.
Specific resistance ρ after applying 50 V to the disc-shaped sample for 60 seconds
Was measured and calculated from the measured value and the electrode area and thickness of the sample (unit: “Ωcm”).

【0105】容量温度特性については、円盤状試料およ
びコンデンサ試料をLCRメータを用いて、1Vの電圧
での静電容量を測定し、JIS規格のSL特性(基準温
度を20℃としたとき、20〜85℃の温度範囲内で容
量変化率が−1000〜350ppm/℃)を満足する
かどうかを調べた。満足する場合を「○」、満足しない
場合を「×」として表1〜5に示すとともに、SL特性
につき、+85℃における容量変化率(△C85)の値
(単位は%)も併記した。また、SL特性を満足した試
料3、これを満足しない試料8,試料0につき、−50
〜+150℃の容量変化率ΔC/Cを、図4にグラフ化
した。同図には、20℃における容量を基準とした変化
率を表している。同図からも明らかなように、試料3の
みが良好な温度特性を示すことが理解できる。
Regarding the capacitance-temperature characteristics, the capacitance of a disc-shaped sample and a capacitor sample at a voltage of 1 V was measured using an LCR meter, and the SL characteristics according to JIS standard (when the reference temperature was 20 ° C., 20 It was examined whether or not the capacity change rate satisfies -1000 to 350 ppm / ° C within a temperature range of ~ 85 ° C. Tables 1 to 5 show the case where the condition is satisfied and "X" when the condition is not satisfied. In addition, the value (unit:%) of the rate of change in capacity (ΔC85) at + 85 ° C. is also shown for the SL characteristics. Further, for Sample 3, which satisfied the SL characteristics, Sample 8, which did not satisfy the SL characteristics, and Sample 0, -50
The capacity change rate ΔC / C from −150 ° C. is graphed in FIG. The figure shows the rate of change based on the capacity at 20 ° C. As can be seen from the figure, it can be understood that only the sample 3 shows good temperature characteristics.

【0106】以上の結果を表1〜5に示す。なお、表1
〜5中、絶縁抵抗(IR)の数値において、「mE+
n」は「m×10+n」を意味する。
Tables 1 to 5 show the above results. Table 1
In the numerical values of the insulation resistance (IR), “mE +
“n” means “m × 10 + n ”.

【0107】[0107]

【表1】 [Table 1]

【0108】表1の結果から、BTおよびCTの組成モ
ル比につき、以下のことが理解される。試料3〜5の何
れも、比誘電率および容量温度特性(SL特性)のバラ
ンスがよい。中でも、試料3〜4のバランスが特によ
い。これに対して、試料0は、比誘電率が低い傾向にあ
り、しかも容量温度特性(SL特性)が悪化している。
試料1〜2は、容量温度特性(SL特性)については良
好であるが、比誘電率が低い傾向にある。試料6〜7−
1は、比誘電率については良好であるが、容量温度特性
(SL特性)が悪化している。ちなみに、試料3〜5
は、本発明の実施例を示しており、試料0〜2,6〜7
−10は、本発明の比較例を示している。
From the results in Table 1, the following is understood with respect to the composition molar ratio of BT and CT. All of Samples 3 to 5 have a good balance between the relative dielectric constant and the capacitance-temperature characteristic (SL characteristic). Above all, the balance of Samples 3 and 4 is particularly good. On the other hand, in Sample 0, the relative permittivity tends to be low, and the capacitance-temperature characteristic (SL characteristic) is deteriorated.
Samples 1 and 2 have good capacitance-temperature characteristics (SL characteristics) but tend to have low relative dielectric constants. Sample 6-7
No. 1 has a good relative dielectric constant, but has a deteriorated capacitance-temperature characteristic (SL characteristic). By the way, samples 3-5
Shows an example of the present invention, and samples 0 to 2, 6 to 7
-10 indicates a comparative example of the present invention.

【0109】[0109]

【表2】 [Table 2]

【0110】表2の結果から、耐還元性助剤の添加量に
つき、以下のことが理解される。試料8,9の対比か
ら、MnCOをまったく添加しないと、容量温度特
性が悪化する傾向にある。試料11,12の対比から、
MnCOの添加量が1モル%を超えると、容量温度
特性(SL特性)が悪化する傾向にある。ちなみに、M
nCOに代えてMnOを添加し、上記と同様の条件
でそれぞれ評価したが、何れも同じ結果が得られた。ち
なみに、試料9〜11は、本発明の実施例を示してお
り、試料8,12は、本発明の参考例を示している。
From the results shown in Table 2, it is understood that the addition amount of the reduction resistance auxiliary is as follows. From the comparison between Samples 8 and 9, when MnCO 3 is not added at all, the capacity-temperature characteristics tend to deteriorate. From the comparison of samples 11 and 12,
If the amount of MnCO 3 exceeds 1 mol%, the capacity-temperature characteristics (SL characteristics) tend to deteriorate. By the way, M
MnO was added in place of nCO 3 and evaluated under the same conditions as above, but the same result was obtained in each case. Incidentally, samples 9 to 11 show examples of the present invention, and samples 8 and 12 show reference examples of the present invention.

【0111】[0111]

【表3】 [Table 3]

【0112】表3の結果から、焼結助剤の添加量につ
き、以下のことが理解される。試料13,14の対比か
ら、(BaCa)SiOをまったく添加しないと、
焼成温度を高くしないと、緻密化しにくくなる傾向にあ
る。試料16,17の対比から、(BaCa)SiO
の添加量が6モル%を超えると、誘電率が低下する
傾向にある。ちなみに、試料14〜16は、本発明の実
施例を示しており、試料13,17は、本発明の参考例
を示している。
From the results shown in Table 3, it is understood that the followings are added with respect to the amount of the sintering aid added. From the comparison between Samples 13 and 14, if (BaCa) SiO 3 is not added at all,
Unless the firing temperature is increased, the densification tends to be difficult. From the comparison of Samples 16 and 17, (BaCa) SiO
If the addition amount of 3 exceeds 6 mol%, the dielectric constant tends to decrease. Incidentally, samples 14 to 16 show examples of the present invention, and samples 13 and 17 show reference examples of the present invention.

【0113】[0113]

【表4】 [Table 4]

【0114】表4の結果から、耐還元性助剤の添加量に
つき、以下のことが理解される。試料20,21の対比
から、MgCOの添加量が4モル%を超えると、焼
成温度を高くしないと、緻密化しにくくなる傾向にあ
る。MgCOに代えてMgOを添加し、上記と同様
の条件でそれぞれ評価したが、何れも同じ結果が得られ
た。 ちなみに、試料18〜20は、本発明の実施例を
示しており、試料21は、本発明の参考例を示してい
る。
From the results shown in Table 4, it is understood that the addition amount of the reduction resistance auxiliary is as follows. From the comparison between Samples 20 and 21, when the amount of MgCO 3 added exceeds 4 mol%, densification tends to be difficult unless the firing temperature is increased. MgO was added in place of MgCO 3 and evaluated under the same conditions as above, but the same result was obtained in each case. Incidentally, samples 18 to 20 show examples of the present invention, and sample 21 shows a reference example of the present invention.

【0115】[0115]

【表5】 [Table 5]

【0116】表5の結果から、ガラス成分の組成につ
き、以下のことが理解される。
From the results in Table 5, the following is understood regarding the composition of the glass component.

【0117】試料28,43の対比から、M1成分が
0.8モルであると、比誘電率が低下し、tanδが増
加し、IRが悪化する傾向がある。試料42のようにガ
ラス成分の添加量が多くても、M1成分が0.05モル
であったり、M2成分が0モルである場合、試料45の
ようにM2成分が0.8モルである場合、試料44のよ
うにM3成分が0.05モルである場合も同様である。
ちなみに、試料22〜41,47,48は、本発明の実
施例を示しており、試料42〜46,49は、本発明の
参考例を示している。
From the comparison between Samples 28 and 43, when the M1 component is 0.8 mol, the relative dielectric constant tends to decrease, tan δ increases, and IR tends to deteriorate. Even if the amount of the glass component is large as in sample 42, the M1 component is 0.05 mol, the M2 component is 0 mol, and the M2 component is 0.8 mol as in sample 45. The same applies to the case where the M3 component is 0.05 mol like the sample 44.
Incidentally, samples 22 to 41, 47 and 48 show examples of the present invention, and samples 42 to 46 and 49 show reference examples of the present invention.

【0118】なお、上述した表5の結果から、ガラス成
分の添加量につき、以下のことも理解できる。試料4
6,47の対比から、ガラス成分をまったく添加しない
と、焼成温度1100℃では緻密な焼結体が得られない
傾向にある。試料48,49の対比から、ガラス成分の
添加量が7モル%だと、誘電率が低下する傾向にある。
From the results shown in Table 5 above, the following can be understood with respect to the added amount of the glass component. Sample 4
From the comparison of 6,47, if no glass component is added, a dense sintered body tends not to be obtained at a firing temperature of 1100 ° C. From the comparison of Samples 48 and 49, when the added amount of the glass component is 7 mol%, the dielectric constant tends to decrease.

【0119】以上、本発明の実施形態および実施例につ
いて説明してきたが、本発明はこうした実施形態および
実施例に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を
逸脱しない範囲内において種々なる態様で実施し得るこ
とは勿論である。
Although the embodiments and examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments and examples in any way, and various modes are provided without departing from the gist of the present invention. Of course, it can be carried out.

【0120】[0120]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、焼成時の耐還元性に優れ、焼成後には比較的高い誘
電率を示すとともに、容量温度特性に優れた誘電体組成
物を提供することができる。
As described above, according to the present invention, a dielectric composition having excellent resistance to reduction during firing, a relatively high dielectric constant after firing, and excellent capacity temperature characteristics is provided. Can be provided.

【0121】また、本発明によれば、高絶縁抵抗および
比較的高い誘電率を示すとともに、容量温度特性が平坦
であり、しかも内部電極に卑金属を用いることができる
セラミックコンデンサを提供することができる。
Further, according to the present invention, it is possible to provide a ceramic capacitor which exhibits a high insulation resistance and a relatively high dielectric constant, has a flat capacitance-temperature characteristic, and can use a base metal for an internal electrode. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本発明の積層型コンデンサの実施形態
を示す一部破断斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of a multilayer capacitor of the present invention.

【図2】 図2は本発明の実施例(試料3)における誘
電体組成物の微細構造をSEMにより観察した写真であ
る。
FIG. 2 is a photograph obtained by observing a microstructure of a dielectric composition in an example (sample 3) of the present invention by SEM.

【図3】 図3は図2の写真を模式的に表した図であ
る。
FIG. 3 is a diagram schematically showing the photograph of FIG. 2;

【図4】 図4は本発明の実施例(試料3)および比較
例(試料8,試料0)の容量温度特性(SL特性)を示
すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing capacitance-temperature characteristics (SL characteristics) of an example (Sample 3) and a comparative example (Sample 8, Sample 0) of the present invention.

【図5】 図5は本発明の実施例(試料3)および比較
例(試料0)における誘電体組成物のX線回折の測定結
果を示すグラフ(ただし、横軸はブラッグ角θの2倍値
(2θ、単位はdeg.)、縦軸は強度(I、単位はc
ps)を表す)である。
FIG. 5 is a graph showing the measurement results of X-ray diffraction of a dielectric composition in Examples (Sample 3) and Comparative Examples (Sample 0) of the present invention (where the horizontal axis is twice the Bragg angle θ). Value (2θ, unit is deg.), Vertical axis is intensity (I, unit is c)
ps).

【図6】 図6は第3の観点の本発明に係る誘電体組成
物におけるガラス成分の三元組成図である。
FIG. 6 is a ternary composition diagram of a glass component in a dielectric composition according to a third aspect of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1… 積層型セラミックコンデンサ 11… 内部電極 12… 誘電体層 13… 外部電極 2… 実質的にチタン酸バリウムからなるコア部 22… 固溶層からなるシェル部 3… 実質的にチタン酸カルシウムからなるコア部 32… 固溶層からなるシェル部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer ceramic capacitor 11 ... Internal electrode 12 ... Dielectric layer 13 ... External electrode 2 ... Core part which consists essentially of barium titanate 22 ... Shell part which consists of a solid solution layer 3 ... It consists essentially of calcium titanate Core part 32: Shell part composed of solid solution layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 茂樹 東京都中央区日本橋1丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 5E001 AB01 AB03 AC09 AE00 AE02 AE03 AE04  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shigeki Sato 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation F-term (reference) 5E001 AB01 AB03 AC09 AE00 AE02 AE03 AE04

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともチタン酸バリウムおよびチタ
ン酸カルシウムを含有する誘電体組成物であって、 これら2つの組成モル比について、 チタン酸バリウムの組成モル比(X)が、0.3<X<
0.5であり、 チタン酸カルシウムの組成モル比(Y)が、1−Xであ
る誘電体組成物。
1. A dielectric composition containing at least barium titanate and calcium titanate, wherein the composition molar ratio (X) of barium titanate is 0.3 <X <
A dielectric composition wherein the composition molar ratio (Y) of calcium titanate is 1-X.
【請求項2】 焼結助剤を、さらに含有する請求項1記
載の誘電体組成物。
2. The dielectric composition according to claim 1, further comprising a sintering aid.
【請求項3】 チタン酸バリウムおよびチタン酸カルシ
ウムを少なくとも含む基本成分と、 SiO、Alおよび(Ba,Ca)
SiO2+x (ただし、x=0.8〜1.2)から選
ばれる少なくとも1種の添加成分とを有する誘電体組成
物であって、 前記基本成分の組成モル比について、 チタン酸バリウムの組成モル比(X)が、0.3<X<
0.5、 チタン酸カルシウムの組成モル比(Y)が、1−Xであ
り、かつ、 前記基本成分100モル%に対する前記添加成分の添加
量が、0.2〜6モル%である誘電体組成物。
3. A basic component containing at least barium titanate and calcium titanate, SiO 2 , Al 2 O 3 and (Ba, Ca) x.
A dielectric composition comprising at least one additive component selected from SiO 2 + x (where x = 0.8 to 1.2), wherein the composition molar ratio of the basic component is the composition mol of barium titanate When the ratio (X) is 0.3 <X <
0.5. A dielectric material in which the composition molar ratio (Y) of calcium titanate is 1-X, and the amount of the additional component is 0.2 to 6 mol% with respect to 100 mol% of the basic component. Composition.
【請求項4】 チタン酸バリウムおよびチタン酸カルシ
ウムを少なくとも含む基本成分と、 M1(ただし、M1は、SiOおよびAl
の少なくとも1種)、M2(ただし、M2は、Ba
O、CaOおよびSrOから選ばれる少なくとも1種)
およびM3(ただし、M3は、LiO、Na
O、KOおよびBから選ばれる何れ
か1種)からなる添加成分とを有する誘電体組成物であ
って、 前記基本成分の組成モル比について、 チタン酸バリウムの組成モル比(X)が、0.3<X<
0.5、 チタン酸カルシウムの組成モル比(Y)が、1−Xであ
り、 前記添加成分の組成モル比を三角図(M1,M2,M
3)で表したとき、前記添加成分の組成モル比が下記点
a〜fで囲まれた領域内(ただし、境界線上は含まな
い)であり、かつ、 前記基本成分100モル%に対する前記添加成分の添加
量が、0.2〜6モル%である誘電体組成物。 a:(0.1,0 ,0.9) b:(0.5,0 ,0.5) c:(0.7,0.2,0.1) d:(0.2,0.7,0.1) e:(0 ,0.5,0.5) f:(0 ,0.1,0.9)
4. A basic component containing at least barium titanate and calcium titanate, and M1 (where M1 is SiO 2 and Al 2 O)
3 ), M2 (where M2 is Ba
O, CaO and at least one selected from SrO)
And M3 (where M3 is Li 2 O, Na
2 O, K 2 O, and B 2 O 3 ), wherein the composition molar ratio of the basic component is barium titanate. (X) is 0.3 <X <
0.5, the composition molar ratio (Y) of calcium titanate is 1-X, and the composition molar ratio of the additive component is represented by a triangular diagram (M1, M2, M
When represented by 3), the compositional molar ratio of the additive component is within a region surrounded by the following points a to f (but not on the boundary line), and the additive component with respect to 100 mol% of the basic component. The dielectric composition wherein the amount of addition is 0.2 to 6 mol%. a: (0.1, 0, 0.9) b: (0.5, 0, 0.5) c: (0.7, 0.2, 0.1) d: (0.2, 0. 7, 0.1) e: (0, 0.5, 0.5) f: (0, 0.1, 0.9)
【請求項5】 少なくとも2種の結晶構造を有し、 この結晶構造の少なくとも一種が、チタン酸バリウムを
含む正方晶であり、 他の一種が、チタン酸カルシウムを含む立方晶、斜方晶
または正方晶である請求項1〜4の何れかに記載の誘電
体組成物。
5. It has at least two crystal structures, at least one of which is a tetragonal crystal containing barium titanate, and the other is a cubic crystal, orthorhombic crystal containing calcium titanate or 5. The dielectric composition according to claim 1, which is tetragonal.
【請求項6】 X線回折解析(CuのKα線)におい
て、ブラッグ角(θ)の2倍値(2θ)が44〜46d
eg.の範囲内に、チタン酸バリウムを主成分とする
(002)結晶面のピークと(200)結晶面のピーク
とを含む擬立方晶ピークを有する請求項1〜5の何れか
に記載の誘電体組成物。
6. In X-ray diffraction analysis (Kα ray of Cu), a double value (2θ) of Bragg angle (θ) is 44 to 46d.
eg. The dielectric according to any one of claims 1 to 5, having a pseudo cubic peak including a peak of a (002) crystal plane and a peak of a (200) crystal plane mainly composed of barium titanate within the range. Composition.
【請求項7】 X線回折解析(CuのKα線)におい
て、ブラッグ角(θ)の2倍値(2θ)が44〜48d
eg.の範囲内に、チタン酸カルシウムを主成分とする
(040)結晶面の斜方晶ピークを有する請求項1〜6
の何れかに記載の誘電体組成物。
7. In X-ray diffraction analysis (Kα ray of Cu), the double value (2θ) of the Bragg angle (θ) is 44 to 48 d.
eg. And having an orthorhombic peak of a (040) crystal plane containing calcium titanate as a main component in the range of 1 to 6.
The dielectric composition according to any one of the above.
【請求項8】 前記チタン酸バリウムが、 実質的にチタン酸バリウムからなるコア部の周囲に、 カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、バナジウ
ム、モリブデン、タングステン、コバルト、ケイ素、バ
リウムおよびチタン酸カルシウムからなる群から選ばれ
る少なくとも一種がチタン酸バリウムに固溶された層、
または実質的にチタン酸カルシウム、からなるシェル部
で囲まれた、 コア−シェル構造を有する請求項1〜7の何れかに記載
の誘電体組成物。
8. The barium titanate is formed from a group consisting of calcium, magnesium, aluminum, vanadium, molybdenum, tungsten, cobalt, silicon, barium and calcium titanate around a core substantially consisting of barium titanate. A layer in which at least one selected is dissolved in barium titanate,
The dielectric composition according to any one of claims 1 to 7, having a core-shell structure surrounded by a shell portion substantially composed of calcium titanate.
【請求項9】 前記チタン酸カルシウムが、 実質的にチタン酸カルシウムからなるコア部の周囲に、 カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、バナジウ
ム、モリブデン、タングステン、コバルト、ケイ素、バ
リウムおよびチタン酸バリウムからなる群から選ばれる
少なくとも一種がチタン酸カルシウムに固溶された層、
または実質的にチタン酸バリウム、からなるシェル部で
囲まれた、 コア−シェル構造を有する請求項1〜8の何れかに記載
の誘電体組成物。
9. The method according to claim 9, wherein the calcium titanate is formed around a core substantially consisting of calcium titanate, from a group consisting of calcium, magnesium, aluminum, vanadium, molybdenum, tungsten, cobalt, silicon, barium and barium titanate. A layer in which at least one selected is dissolved in calcium titanate,
The dielectric composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the dielectric composition has a core-shell structure surrounded by a shell portion substantially made of barium titanate.
【請求項10】 耐還元性助剤を、さらに含有する請求
項1〜9の何れかに記載の誘電体組成物。
10. The dielectric composition according to claim 1, further comprising a reduction resistance auxiliary.
【請求項11】 前記耐還元性助剤が、Mnの酸化物お
よび/または焼成によりMnの酸化物になる化合物であ
り、 前記少なくともチタン酸バリウムおよびチタン酸カルシ
ウムを含有する基本成分100モル%に対して、0.1
〜1モル%の範囲で添加されている請求項10記載の誘
電体組成物。
11. The reduction-resistant auxiliary agent is an oxide of Mn and / or a compound that becomes an oxide of Mn by firing, and the amount of the basic component containing at least barium titanate and calcium titanate is 100 mol%. On the other hand, 0.1
The dielectric composition according to claim 10, which is added in an amount of 1 mol% to 1 mol%.
【請求項12】 前記耐還元性助剤が、Mgの酸化物お
よび/または焼成によりMgの酸化物になる化合物であ
り、 前記チタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムを含有
する基本成分100モル%に対して、4モル%以下の範
囲で添加されている請求項10または11記載の誘電体
組成物。
12. The reduction-resistant auxiliary agent is a compound that becomes an oxide of Mg and / or an oxide of Mg by firing, based on 100 mol% of the basic component containing barium titanate and calcium titanate. 12. The dielectric composition according to claim 10, which is added in an amount of 4 mol% or less.
【請求項13】 V、MoO、WO
およびCo からなる群から選ばれる少なくとも
1種の酸化物を、前記チタン酸バリウムおよびチタン酸
カルシウムを含有する基本成分100モル%に対して、
0.01〜0.5モル%の範囲で、さらに含有する請求
項1〜12の何れかに記載の誘電体組成物。
13. V2O5, MoO3, WO3
And Co3O4 At least selected from the group consisting of
One kind of oxide is prepared by using the barium titanate and the titanate described above.
For 100 mol% of the basic component containing calcium,
Claims to further contain in the range of 0.01 to 0.5 mol%
Item 13. The dielectric composition according to any one of Items 1 to 12.
【請求項14】 温度に対する静電容量変化率(△C)
が、少なくとも20〜85℃の温度範囲内において、−
1000〜350ppm/℃(ただし、静電容量Cの基
準温度は20℃)であることを特徴とする請求項1〜1
3の何れかに記載の誘電体組成物。
14. A capacitance change rate with respect to temperature (ΔC)
Is at least within the temperature range of 20 to 85 ° C.,
The temperature is 1000 to 350 ppm / ° C. (the reference temperature of the capacitance C is 20 ° C.).
3. The dielectric composition according to any one of 3.
【請求項15】 内部電極と、請求項1〜14の何れか
に記載の誘電体組成物からなる誘電体層とを有するセラ
ミックコンデンサ。
15. A ceramic capacitor having an internal electrode and a dielectric layer comprising the dielectric composition according to claim 1.
【請求項16】 前記内部電極が、ニッケルまたはニッ
ケル合金で構成されている請求項15記載のセラミック
コンデンサ。
16. The ceramic capacitor according to claim 15, wherein said internal electrode is made of nickel or a nickel alloy.
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