JP2001108853A - Optical wiring layer, opto-electric wiring board, and packaging substrate - Google Patents

Optical wiring layer, opto-electric wiring board, and packaging substrate

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JP2001108853A
JP2001108853A JP28959799A JP28959799A JP2001108853A JP 2001108853 A JP2001108853 A JP 2001108853A JP 28959799 A JP28959799 A JP 28959799A JP 28959799 A JP28959799 A JP 28959799A JP 2001108853 A JP2001108853 A JP 2001108853A
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Japan
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optical
mirror
core
wiring board
light
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Japanese (ja)
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Mamoru Ishizaki
守 石崎
Taketo Tsukamoto
健人 塚本
Kenta Yotsui
健太 四井
Koji Ichikawa
浩二 市川
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an opto-electric wiring board which makes a higher-density packaging and downsizing possible and in which the packaging of optical parts can be executed by the same method as for packaging of electric parts. SOLUTION: The laminar optical wiring layer having a core 1 for propagating light and a clad 2, a mirror 3 which has an inclination to the core and reflects light and a light incident and exit part for incidence and emission of the light is larger in the maximum width of the effective region of the mirror by >=2 times the thickness of the core. Further, the core has a tapered shape of the sectional area increasing near the mirror and the mirror is a concave surface mirror.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光配線層、光配線
と電気配線とが混在する光・電気配線基板及び光・電気
配線基板に光部品と電気部品とを実装した実装基板に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical / electrical wiring board, an optical / electrical wiring board in which optical wiring and electric wiring are mixed, and a mounting substrate in which optical and electric components are mounted on the optical / electrical wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】より速く演算処理が行えるコンピュータ
を作るために、CPUのクロック周波数は益々増大する
傾向にあり、現在では1GHzオーダーのものが出現す
るに至っている。この結果、コンピュータの中のプリン
ト基板上の銅による電気配線には高周波電流が流れる部
分が存在することになるので、ノイズの発生により誤動
作が生じたり、また電磁波が発生して周囲に悪影響を与
えることにもなる。
2. Description of the Related Art In order to make a computer capable of performing arithmetic processing faster, the clock frequency of a CPU tends to increase more and more, and a clock frequency of the order of 1 GHz has come to the present. As a result, there is a portion where a high-frequency current flows in the electric wiring made of copper on the printed circuit board in the computer, so that malfunction occurs due to generation of noise, and electromagnetic waves are generated, which adversely affects the surroundings. It will also be.

【0003】このような問題を解決するために、プリン
ト基板上の銅による電気配線の一部を光ファイバー又は
光導波路に置き換え、電気信号の代わりに光信号を利用
することが行われている。なぜなら、光信号の場合は、
ノイズ及び電磁波の発生を抑えられるからである。
[0003] In order to solve such a problem, a part of electric wiring made of copper on a printed circuit board is replaced with an optical fiber or an optical waveguide, and an optical signal is used instead of an electric signal. Because, for optical signals,
This is because generation of noise and electromagnetic waves can be suppressed.

【0004】高密度実装又は小型化の観点からは、電気
配線と光配線とが同一の基板上で積層されている光・電
気配線基板を作製することが望ましいが、従来の光・電
気配線基板は、レーザ発光素子や受光素子などの光部品
を実装するとき、光部品の光軸と光配線の光軸とを光学
的に一致させることが難しく、一般に熟練労働者に頼ら
なければ一致させられなかった。従って、リフロー炉な
どで自動的にハンダ付けできる電気部品と比較して、光
部品を光・電気配線基板に実装することは、非常に高価
なものになるという欠点があった。
From the viewpoint of high-density mounting or miniaturization, it is desirable to manufacture an optical / electrical wiring board in which electric wiring and optical wiring are laminated on the same substrate. When mounting optical components such as laser light-emitting elements and light-receiving elements, it is difficult to optically match the optical axis of the optical component with the optical axis of the optical wiring. Did not. Therefore, there is a disadvantage that mounting an optical component on an optical / electrical wiring board is extremely expensive compared to an electrical component that can be automatically soldered in a reflow furnace or the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、係る従来技
術の状況に鑑みてなされたもので、高密度実装又は小型
化が可能で、しかも光部品の実装が電気部品の実装と同
じ方法で行える光・電気配線基板を提供することを課題
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the state of the prior art, and enables high-density mounting or miniaturization, and the mounting of optical components in the same manner as the mounting of electrical components. An object of the present invention is to provide an optical / electrical wiring board that can be used.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに、まず請求項1の発明は、光を伝搬させるコア及び
クラッドと、コアに対して傾きを有し、光を反射させる
ミラーと、光を入出射させる光入出射部を有する層状の
光配線層において、該ミラーの有効領域の最大幅が、該
コアの厚さよりも2倍以上大きいことを特徴とする光配
線層である。請求項2に記載の発明は、請求項1記載の
発明を前提とし、上記コアが、ミラー近傍で断面積が大
きくなるテーパ形状を有することを特徴とする光配線層
である。請求項3に記載の発明は、請求項1〜2記載の
発明を前提とし、上記ミラーが、凹面鏡であることを特
徴とする光配線層である。請求項4に記載の発明は、請
求項1〜3記載の発明を前提とし、上記光入出射部が、
入出射光に対して垂直面となっていないことを特徴とす
る光配線層である。請求項5に記載の発明は、請求項1
〜4の何れか1項記載の光配線層の少なくとも光入出射
部の反対側に、電気配線を有する基板を積層させた光・
電気配線基板であって、光入出射部の周囲に、光部品を
ハンダ付けするためのパッドと、パッドと基板の電気配
線とを電気接続するビアホールと、を具備することを特
徴とする光・電気配線基板である。請求項6に記載の発
明は、請求項1〜4の何れか1項記載の光配線層の少な
くとも光入出射部側に、電気配線を有する基板を積層さ
せた光・電気配線基板であって、光部品からのあるいは
光部品への光を透過させるための穴と、を具備すること
を特徴とする光・電気配線基板である。請求項7に記載
の発明は、請求項6に記載の発明を前提とし、更に、光
部品を設置するための穴と、を具備することを特徴とす
る光・電気配線基板である。請求項8に記載の発明は、
請求項5〜7の何れか1項記載の光・電気配線基板に光
部品又は/及び電気部品を実装したことを特徴とする実
装基板である。
In order to achieve the above object, first, the present invention provides a core and a clad for transmitting light, and a mirror having a tilt with respect to the core and reflecting light. An optical wiring layer having a light input / output portion for inputting / outputting light, wherein the maximum width of the effective area of the mirror is at least twice as large as the thickness of the core. The invention according to claim 2 is based on the premise of the invention according to claim 1, wherein the core has a tapered shape whose cross-sectional area increases near the mirror. According to a third aspect of the present invention, based on the first and second aspects, the mirror is a concave mirror. The invention according to claim 4 is based on the inventions according to claims 1 to 3, wherein the light input / output unit is
An optical wiring layer characterized in that the optical wiring layer is not perpendicular to the incoming / outgoing light. The invention according to claim 5 is the invention according to claim 1.
5. A light beam obtained by laminating a substrate having an electric wiring on at least the side opposite to the light input / output portion of the optical wiring layer according to any one of the above-mentioned items.
An optical wiring board, comprising: a pad for soldering an optical component, and a via hole for electrically connecting the pad and an electric wiring of the substrate, around the light input / output section. It is an electric wiring board. According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an optical / electrical wiring board in which a substrate having an electric wiring is laminated on at least the light incident / exit portion side of the optical wiring layer according to any one of the first to fourth aspects. And a hole for transmitting light from the optical component or to the optical component. According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an optical / electrical wiring board based on the premise of the sixth aspect, further including a hole for installing an optical component. The invention according to claim 8 is
An optical / electrical wiring board according to any one of claims 5 to 7, wherein an optical component and / or an electrical component is mounted on the optical / electrical wiring board.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
に基づいて以下詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0008】1.光配線層 本発明の光配線層において、光配線に光を入射する部分
の上面図及び縦断面図を図1〜4に示す。
[0008] 1. Optical Wiring Layer In the optical wiring layer of the present invention, a top view and a vertical cross-sectional view of a portion where light enters the optical wiring are shown in FIGS.

【0009】本発明の光配線層4は、光を伝搬させる光
配線層であって、層状のクラッド2の中に埋め込まれた
線状のコア1と、コア1に対して傾いたミラー3を有す
る。コア1はクラッド2よりも高い屈折率を有してお
り、光は主にコア1の部分を伝搬する。なお、ミラー3
の有効領域とは、ミラー3がコア1と接している部分の
大きさである。
The optical wiring layer 4 of the present invention is an optical wiring layer for transmitting light, and includes a linear core 1 embedded in a layered cladding 2 and a mirror 3 tilted with respect to the core 1. Have. The core 1 has a higher refractive index than the cladding 2, and light mainly propagates through the core 1. Mirror 3
Is the size of the portion where the mirror 3 is in contact with the core 1.

【0010】本発明のミラー3は、コア1の通常部分の
幅よりも大きいことを特徴とする。具体的には、ミラー
3の有効領域の最大幅が、コア1の通常部分の厚さより
も2倍以上大きい。ミラー3が2倍以上大きいことによ
り、入射可能部が大きくなり、光部品の位置合わせが容
易になる。ここで最大幅とは、ミラー3の有効領域内の
2点間距離の最大値であり、図1のようにミラー3が四
角形の場合には対角線となる。また、ミラー3は金属を
用いたものに限定するものではないが、金属を用いると
反射率と機械的強度を保つことができて好ましい。な
お、ミラー3の大きさは、位置合わせの点に鑑みれば、
大きいほど好ましいが、ノイズの発生の点に鑑みれば、
20倍以下とすることが好ましい。
The mirror 3 of the present invention is characterized in that the width of the mirror 3 is larger than the width of the normal portion of the core 1. Specifically, the maximum width of the effective area of the mirror 3 is at least twice as large as the thickness of the normal portion of the core 1. When the mirror 3 is twice or more larger, the incident portion becomes larger, and the alignment of the optical component becomes easier. Here, the maximum width is the maximum value of the distance between two points in the effective area of the mirror 3, and becomes a diagonal line when the mirror 3 is rectangular as shown in FIG. Further, the mirror 3 is not limited to a mirror using a metal, but it is preferable to use a metal since the reflectance and the mechanical strength can be maintained. Note that the size of the mirror 3 is
Larger is better, but in view of noise generation,
It is preferred to be 20 times or less.

【0011】小さなコア1と大きなミラー3の接続部で
は、コア1の径がミラー3の近傍で大きくなるようなテ
ーパ形状を有する。これにより、光がスムーズにコア1
内に入っていく。
The connecting portion between the small core 1 and the large mirror 3 has a tapered shape such that the diameter of the core 1 increases near the mirror 3. As a result, light can be smoothly transmitted to the core 1
Go inside.

【0012】図1の例では、コア1の方向とミラー3の
法線のなす角が45度よりも大きいことによって、コア
に平行な方向のミラーサイズを大きくし、また、コアの
幅をテーパ形状にすることによって、コアに垂直な方向
のミラーサイズを大きくしている。
In the example shown in FIG. 1, since the angle between the direction of the core 1 and the normal line of the mirror 3 is larger than 45 degrees, the mirror size in the direction parallel to the core is increased, and the width of the core is tapered. By making the shape, the mirror size in the direction perpendicular to the core is increased.

【0013】図2の例では、コア1の方向とミラー3の
法線のなす角はおよそ45度であるが、コア1の幅と厚
さの両方をテーパ形状にすることによって、ミラーサイ
ズを大きくしている。
In the example shown in FIG. 2, the angle between the direction of the core 1 and the normal line of the mirror 3 is approximately 45 degrees. However, by making both the width and thickness of the core 1 tapered, the mirror size can be reduced. I'm making it big.

【0014】図3の例では、ミラー3がコア1の幅に垂
直な方向に関しての凹面鏡であり、光が収束されてコア
1への進入確率を高めている。
In the example shown in FIG. 3, the mirror 3 is a concave mirror in the direction perpendicular to the width of the core 1, and the light is converged to increase the probability of entering the core 1.

【0015】図4の例では、ミラー3がコア1の幅方向
および幅に垂直な方向の両方に関しての凹面鏡であり、
さらに光が収束されてコア1への進入確率を高めてい
る。
In the example of FIG. 4, the mirror 3 is a concave mirror in both the width direction and the direction perpendicular to the width of the core 1,
Further, the light is converged to increase the probability of entering the core 1.

【0016】また、図2〜4の例では、光入射部が入射
光に対して垂直面(光配線層に平行な面)ではない。こ
れにより、反射光が発光素子に戻って動作を不安定にす
る現象を回避できる。
In the examples of FIGS. 2 to 4, the light incident portion is not a plane perpendicular to the incident light (a plane parallel to the optical wiring layer). Thereby, the phenomenon that the reflected light returns to the light emitting element and makes the operation unstable can be avoided.

【0017】なお、光配線層上のすべての光入出射部が
本発明の構造であることに限定するものではない。必要
に応じて他の構造と併用することが望ましく、例えば光
入射部には本発明の構造を使用し、光出射部には従来の
構造(図15参照)を用いることができる。
It is to be noted that all the light input / output portions on the optical wiring layer are not limited to the structures of the present invention. It is desirable to use the structure of the present invention in combination with another structure as necessary. For example, the structure of the present invention can be used for the light incident portion, and the conventional structure (see FIG. 15) can be used for the light emitting portion.

【0018】2.光配線層の製造 本発明の光配線層の製造には、コア1の幅方向のみをテ
ーパ形状にする第1の実施形態と、コア1の幅と厚さの
両方をテーパ形状にする第2の実施形態とがある。
2. Manufacturing of Optical Wiring Layer In manufacturing the optical wiring layer of the present invention, a first embodiment in which only the width direction of the core 1 is tapered and a second embodiment in which both the width and the thickness of the core 1 are tapered. Of the embodiment.

【0019】<光配線層の製造の第1の実施形態>ま
ず、第1の実施形態を、図5の(a)〜(f)の流れに
従って説明する。
<First Embodiment of Manufacturing Optical Wiring Layer> First, a first embodiment will be described with reference to the flow charts of FIGS.

【0020】図5の(a)のように、支持体5上に、剥
離層6を形成する。
As shown in FIG. 5A, a release layer 6 is formed on a support 5.

【0021】図5の(b)のように、剥離膜6上に、コ
ア1とクラッド2からなる光配線層を形成する。この
際、フォトリソグラフィ技術やドライエッチング技術が
好適に用いられる。ミラー3近傍のコア1の幅は、テー
パ状に広げておく。
As shown in FIG. 5B, an optical wiring layer including a core 1 and a clad 2 is formed on the release film 6. At this time, a photolithography technique or a dry etching technique is preferably used. The width of the core 1 near the mirror 3 is tapered.

【0022】図5の(c)のように、ダイシングソーに
て、ミラー3となる部分を形成する。その際、ミラー3
となる部分の法線がコア1の方向となす角が45度より
も大きくなるような刃を使用する。
As shown in FIG. 5C, a mirror 3 is formed by a dicing saw. At that time, mirror 3
A blade is used such that the angle formed by the normal line of the portion and the direction of the core 1 is larger than 45 degrees.

【0023】図5の(d)のように、ミラー3となる部
分にアルミニウムなどの金属膜3Aを形成する。その
際、フォトリソグラフィ技術またはマスク蒸着技術が好
適に用いられる。
As shown in FIG. 5D, a metal film 3A made of aluminum or the like is formed on a portion to be the mirror 3. At that time, a photolithography technique or a mask deposition technique is suitably used.

【0024】図5の(e)のように、保護層2Aを形成
する。保護層2Aは、クラッド2と同一の材質でもよい
が、異なる材質でもよい。
As shown in FIG. 5E, a protective layer 2A is formed. The protective layer 2A may be made of the same material as the clad 2, or may be made of a different material.

【0025】剥離層6から剥がすことによって、図5の
(f)のような光配線層4を得る。この際、剥離液に漬
ける、または熱処理を行う等の方法が好適である。
By peeling from the release layer 6, the optical wiring layer 4 as shown in FIG. At this time, a method of dipping in a stripping solution or performing heat treatment is suitable.

【0026】なお、本実施の形態のコアの厚さは、10
μmであり、ミラーの有効領域の最大幅は30μmであ
った。
The thickness of the core of this embodiment is 10
μm, and the maximum width of the effective area of the mirror was 30 μm.

【0027】<光配線層の製造の第2の実施形態>第2
の実施形態を、図6の(a)〜(h)の流れに従って説
明する。
<Second Embodiment of Manufacturing Optical Wiring Layer> Second Embodiment
Will be described in accordance with the flow of FIGS. 6 (a) to 6 (h).

【0028】図6の(a)のように、支持体5上に、剥
離層6を形成する。
As shown in FIG. 6A, a release layer 6 is formed on a support 5.

【0029】図6の(b)のように、剥離膜6上に、ク
ラッド2を形成する。
As shown in FIG. 6B, the clad 2 is formed on the release film 6.

【0030】図6の(c)のように、ダイシングソーに
て、コア1の厚さ方向のテーパ形状となる部分とミラー
3となる部分を形成する。その際、ミラー3となる部分
の刃の断面が直線であれば平面鏡が形成され、曲線であ
ればコア1の幅に垂直な方向に関しての凹面鏡が形成さ
れる。
As shown in FIG. 6C, a portion that becomes a tapered shape in the thickness direction of the core 1 and a portion that becomes the mirror 3 are formed by a dicing saw. At this time, if the section of the blade serving as the mirror 3 has a straight section, a plane mirror is formed, and if the section is curved, a concave mirror is formed in a direction perpendicular to the width of the core 1.

【0031】さらに図6の(d)のように、ダイヤモン
ドドリルにて、ミラー3となる部分を追加工すれば、コ
ア1の幅方向および幅に垂直な方向に関しての凹面鏡が
形成される。
Further, as shown in FIG. 6D, if a portion to be the mirror 3 is additionally processed by a diamond drill, a concave mirror in the width direction of the core 1 and the direction perpendicular to the width is formed.

【0032】図6の(e)のように、ミラー3となる部
分にアルミニウムなどの金属膜3Aを形成する。その
際、フォトリソグラフィ技術またはマスク蒸着技術が好
適に用いられる。
As shown in FIG. 6E, a metal film 3A made of aluminum or the like is formed on a portion to be the mirror 3. At that time, a photolithography technique or a mask deposition technique is suitably used.

【0033】図6の(f)のように、コア1を形成す
る。この際、フォトリソグラフィ技術やドライエッチン
グ技術が好適に用いられる。ミラー3近傍のコア1の幅
は、テーパ状に広げておく。
The core 1 is formed as shown in FIG. At this time, a photolithography technique or a dry etching technique is preferably used. The width of the core 1 near the mirror 3 is tapered.

【0034】図6の(g)のように、クラッド2を形成
する。
As shown in FIG. 6G, the clad 2 is formed.

【0035】剥離層6から剥がすことによって、図6の
(h)のような光配線層4を得る。この際、剥離液に漬
ける、または熱処理を行う等の方法が好適である。
By peeling off from the peeling layer 6, the optical wiring layer 4 as shown in FIG. At this time, a method of dipping in a stripping solution or performing heat treatment is suitable.

【0036】なお、本実施の形態のコアの厚さは、50
μmであり、ミラーの有効領域の最大幅は100μmで
あった。
The thickness of the core of this embodiment is 50
μm, and the maximum width of the effective area of the mirror was 100 μm.

【0037】3.光・電気配線基板 本発明の光配線層には、少なくとも光入出射部の反対側
に電気配線基板を接着させる第1の実施形態と、少なく
とも光入出射部側に電気配線基板を接着させる第2の実
施形態とがある。
3. Optical / Electrical Wiring Board The optical wiring layer of the present invention has a first embodiment in which an electrical wiring board is bonded to at least the opposite side of the light input / output section, and a second embodiment in which the electrical wiring board is bonded to at least the light input / output section. There are two embodiments.

【0038】<光・電気配線基板の第1の実施形態>光
配線層4の少なくとも光入出射部の反対側に、吸収層7
を介して、電気配線基板10を接着させる(図7参
照)。更にビアホール11又は12によって電気配線1
3又は14と電気接続しているパッド15及び16を設
けたものである。ここで、パッド15及び16は、光部
品をハンダ付けするためのものである。ビアホール11
及び12には、光配線層と電気配線基板との位置ずれを
防止する効果もある。
<First Embodiment of Optical / Electrical Wiring Substrate> An absorbing layer 7 is provided at least on the opposite side of the optical input / output portion of the optical wiring layer 4.
The electric wiring board 10 is adhered through the substrate (see FIG. 7). Further, the electric wiring 1 is formed by the via holes 11 or 12.
Pads 15 and 16 electrically connected to 3 or 14 are provided. Here, the pads 15 and 16 are for soldering an optical component. Beer hole 11
And 12 also have the effect of preventing displacement between the optical wiring layer and the electric wiring board.

【0039】電気配線基板10は、単層の絶縁基板で
も、電気配線と絶縁層が交互に積層された多層配線板で
もよい。また、構成材料として、ガラス布に樹脂を含浸
させた絶縁基板でも、ポリイミドフィルムでもセラミッ
ク基板でもよい。
The electric wiring substrate 10 may be a single-layer insulating substrate or a multilayer wiring board in which electric wiring and insulating layers are alternately laminated. Further, as a constituent material, an insulating substrate in which a glass cloth is impregnated with a resin, a polyimide film, or a ceramic substrate may be used.

【0040】図8は、パッド15及び16の上に、半導
体レーザなどのレーザ発光素子20のリードを、ハンダ
付けしたときの断面図である。レーザ発光素子20のレ
ーザ発光面21から放出されたレーザ光22は、ミラー
3で反射された後、コア1を伝搬する。
FIG. 8 is a sectional view when the leads of the laser light emitting element 20 such as a semiconductor laser are soldered on the pads 15 and 16. The laser light 22 emitted from the laser light emitting surface 21 of the laser light emitting element 20 propagates through the core 1 after being reflected by the mirror 3.

【0041】図7の吸収層7は、電気配線13及び14
がなす凹凸を吸収することによって、コア1の光信号伝
搬損失を低減するためのものである。吸収層7には、塑
性又は弾性若しくはそれら両方を有する物質を用いる。
塑性を有する物質を用いた吸収層のことを平滑層と呼
び、弾性を有する物質を用いた吸収層のことをクッショ
ン層と呼ぶ。最も好ましいのは、塑性及び弾性を有する
接着剤を用い、光配線層に基板10を接着したときにで
きる接着層が、吸収層を兼ねる場合である。
The absorption layer 7 shown in FIG.
This is for reducing the optical signal propagation loss of the core 1 by absorbing the unevenness formed by the core 1. The absorbing layer 7 is made of a material having plasticity, elasticity, or both.
An absorption layer using a plastic substance is called a smooth layer, and an absorption layer using an elastic substance is called a cushion layer. The most preferable case is that an adhesive layer formed when the substrate 10 is bonded to the optical wiring layer using an adhesive having plasticity and elasticity also serves as an absorption layer.

【0042】光・電気配線基板の光配線層の上に、電気
部品をハンダ付けするためのパッドを設けても良いし、
また電気配線を設けても良い。電気部品用のパッドは、
光部品用のパッドと同様にして、ビアホールによって基
板の上の配線と電気接続しても良い。
A pad for soldering an electric component may be provided on the optical wiring layer of the optical / electrical wiring board,
Further, electric wiring may be provided. Pads for electrical components
Similarly to the pad for the optical component, the via hole may be used to electrically connect to the wiring on the substrate.

【0043】光配線層の上に電気配線層を設けた場合、
パッドが、光配線層上の電気配線とだけ接続して、基板
上の電気配線とは接続していないことがあっても良い。
この場合、もちろん、パッドと電気配線基板上の電気配
線とを接続するためのビアホールは存在しない。
When an electric wiring layer is provided on the optical wiring layer,
The pad may be connected only to the electric wiring on the optical wiring layer and not connected to the electric wiring on the substrate.
In this case, of course, there is no via hole for connecting the pad and the electric wiring on the electric wiring board.

【0044】電気配線基板30は、単層の絶縁基板で
も、電気配線と絶縁層が交互に積層された多層配線板で
もよい。また、構成材料として、ガラス布に樹脂を含浸
させた絶縁基板でも、ポリイミドフィルムでもセラミッ
ク基板でもよい。
The electric wiring substrate 30 may be a single-layer insulating substrate or a multilayer wiring board in which electric wiring and insulating layers are alternately laminated. Further, as a constituent material, an insulating substrate in which a glass cloth is impregnated with a resin, a polyimide film, or a ceramic substrate may be used.

【0045】<光・電気配線基板の第2の実施形態>光
配線層4の少なくとも光入出射部側に、吸収層7を介し
て、電気配線基板30を接着させる。電気配線基板30
は、光部品からのあるいは光部品への光を透過させるた
めの穴31を有する(図9参照)。または電気配線基板
30は、光部品を設置するための穴32を有する(図1
1参照)。
<Second Embodiment of Optical / Electrical Wiring Board> The electrical wiring board 30 is adhered via the absorption layer 7 to at least the light incident / exit portion side of the optical wiring layer 4. Electric wiring board 30
Has a hole 31 for transmitting light from or to the optical component (see FIG. 9). Alternatively, the electric wiring board 30 has a hole 32 for installing an optical component (FIG. 1).
1).

【0046】図10は、電気配線基板上のパッド33及
び34の上に、半導体レーザなどのレーザ発光素子40
のリードを、ハンダ付けしたときの断面図である。レー
ザ発光素子40のレーザ発光面41から放出されたレー
ザ光42は、穴31を透過し、ミラー3で反射された
後、コア1を伝搬する。
FIG. 10 shows a laser light emitting device 40 such as a semiconductor laser on pads 33 and 34 on an electric wiring board.
FIG. 4 is a cross-sectional view when the lead is soldered. The laser light 42 emitted from the laser light emitting surface 41 of the laser light emitting element 40 passes through the hole 31, is reflected by the mirror 3, and propagates through the core 1.

【0047】図12は、電気配線基板上のパッド33及
び34の上に、半導体レーザなどのレーザ発光素子40
のリードを、ハンダ付けしたときの断面図である。レー
ザ発光素子は、設置穴32内部に収められる。レーザ発
光素子40のレーザ発光面41から放出されたレーザ光
42は、ミラー3で反射された後、コア1を伝搬する。
FIG. 12 shows a laser light emitting device 40 such as a semiconductor laser on pads 33 and 34 on an electric wiring board.
FIG. 4 is a cross-sectional view when the lead is soldered. The laser light emitting element is housed inside the installation hole 32. The laser light 42 emitted from the laser light emitting surface 41 of the laser light emitting element 40 propagates through the core 1 after being reflected by the mirror 3.

【0048】図9、11の吸収層7は、電気配線(図示
せず)がなす凹凸を吸収することによって、コア1の光
信号伝搬損失を低減するためのものである。吸収層7に
は、塑性又は弾性若しくはそれら両方を有する物質を用
いる。塑性を有する物質を用いた吸収層のことを平滑層
と呼び、弾性を有する物質を用いた吸収層のことをクッ
ション層と呼ぶ。最も好ましいのは、塑性及び弾性を有
する接着剤を用い、光配線層に基板30を接着したとき
にできる接着層が、吸収層を兼ねる場合である。
The absorbing layer 7 shown in FIGS. 9 and 11 is for reducing the optical signal propagation loss of the core 1 by absorbing irregularities formed by electric wiring (not shown). The absorbing layer 7 is made of a material having plasticity, elasticity, or both. An absorption layer using a plastic substance is called a smooth layer, and an absorption layer using an elastic substance is called a cushion layer. Most preferably, an adhesive layer formed when the substrate 30 is adhered to the optical wiring layer using an adhesive having plasticity and elasticity also serves as an absorption layer.

【0049】光・電気配線基板の光配線層の上に、電気
部品をハンダ付けするためのパッドを設けても良いし、
また電気配線を設けても良い。電気部品用のパッドは、
ビアホールによって基板の上の配線と電気接続しても良
い。
A pad for soldering an electric component may be provided on the optical wiring layer of the optical / electrical wiring board.
Further, electric wiring may be provided. Pads for electrical components
The via hole may be electrically connected to the wiring on the substrate.

【0050】光配線層の上に電気配線層を設けた場合、
パッドが、光配線層上の電気配線とだけ接続して、基板
上の電気配線とは接続していないことがあっても良い。
この場合、もちろん、パッドと電気配線基板上の電気配
線とを接続するためのビアホールは存在しない。
When an electric wiring layer is provided on the optical wiring layer,
The pad may be connected only to the electric wiring on the optical wiring layer and not connected to the electric wiring on the substrate.
In this case, of course, there is no via hole for connecting the pad and the electric wiring on the electric wiring board.

【0051】4.光・電気配線基板の製造方法 本発明の光・電気配線基板の製造方法を、ビアホールに
よって基板上の電気配線と電気接続するパッドに焦点を
当てて、図13または14の(a)〜(f)の流れに従
って説明する。
4. Method of Manufacturing Optical / Electrical Wiring Board The method of manufacturing an optical / electrical wiring board of the present invention focuses on pads that are electrically connected to electrical wiring on the substrate by via holes, and FIG. ) Will be described.

【0052】図13または14の(a)のように、光配
線層4の光入出射部の反対側(図13参照)あるいは光
入出射部側(図14参照)に、吸収層7を介して、基板
50を接着させる。吸収層7を基板50の上に作ってか
ら接着させるか、或いは吸収層7を光配線4の上に作っ
た後に基板50を接着させる。上述したように、吸収層
7は、平滑層であっても良いし、クッション層であって
も良いし、両方の性質を兼ね備えたものでも良いが、好
ましくは両方の性質を兼ね備えた接着剤による接着が良
い。
As shown in FIG. 13 or 14 (a), the absorption layer 7 is interposed on the optical wiring layer 4 on the side opposite to the light input / output section (see FIG. 13) or on the light input / output section side (see FIG. 14). Then, the substrate 50 is bonded. The absorption layer 7 is formed on the substrate 50 and then bonded, or the absorption layer 7 is formed on the optical wiring 4 and then the substrate 50 is bonded. As described above, the absorbing layer 7 may be a smooth layer, may be a cushion layer, or may have both properties, but is preferably made of an adhesive having both properties. Good adhesion.

【0053】図13または14の(b)のように、ビア
ホールを形成するための孔51を、レーザによって開け
る。次に、図示はしていないが、孔51の表面及び基板
50とは反対側にある光配線層4の表面に、スパッタリ
ングによってクロムの薄膜を形成し、その後クロムの薄
膜の上に同じくスパッタリングによって銅の薄膜を形成
する。
As shown in FIG. 13 or FIG. 14B, a hole 51 for forming a via hole is opened by a laser. Next, although not shown, a chromium thin film is formed on the surface of the hole 51 and the surface of the optical wiring layer 4 on the side opposite to the substrate 50 by sputtering. A copper thin film is formed.

【0054】図13または14の(c)のように、光配
線層4の表面に、レジスト52を塗布する。
As shown in FIG. 13 or 14 (c), a resist 52 is applied to the surface of the optical wiring layer 4.

【0055】フォトマスクを介してレジスト52を露光
し、その後現像して、図13または14の(d)のよう
に、パッド、電気配線などを作る予定の部分のみ、レジ
スト52を除去する。
The resist 52 is exposed through a photomask and then developed to remove the resist 52 only at the portions where pads, electrical wiring, etc. are to be formed, as shown in FIG.

【0056】さらに、孔51および光配線層4の表面に
形成した銅の薄膜を電極として、銅を電気メッキして、
図13または14の(e)のように、電気部品用のパッ
ド53、電気配線54、ビアホール55及び光部品用の
パッド56を作る。
Further, copper is electroplated using the copper thin film formed on the hole 51 and the surface of the optical wiring layer 4 as an electrode.
As shown in FIG. 13 or 14 (e), a pad 53 for an electric component, an electric wiring 54, a via hole 55, and a pad 56 for an optical component are formed.

【0057】レジスト52を除去する。その後、光配線
層4の表面に形成したクロム及び銅の薄膜をソフトエッ
チングで除去して、図13または14の(f)に示すよ
うな光・電気配線基板を得る。
The resist 52 is removed. Thereafter, the thin film of chromium and copper formed on the surface of the optical wiring layer 4 is removed by soft etching to obtain an optical / electrical wiring board as shown in FIG.

【0058】5.実装基板の製造方法 このようにして得られた光・電気配線基板に光部品であ
る発光素子及び受光素子を厳密な位置合わせを行わずに
搭載し、実装基板を製造した。しかしながら、実装基板
は十分満足の行く特性を示していた。
5. Manufacturing Method of Mounting Board A light emitting element and a light receiving element, which are optical components, were mounted on the optical / electrical wiring board thus obtained without performing strict alignment, and a mounting board was manufactured. However, the mounting substrate showed sufficiently satisfactory characteristics.

【0059】6.比較例 前記光配線層の製造の第1の実施形態と同様な方法によ
り、従来構造(図15参照)を形成した。すなわち、コ
アの厚さを、10μm、ミラーの有効領域の最大幅を1
7μmとした。そして、光・電気配線基板を製造した。
6. Comparative Example A conventional structure (see FIG. 15) was formed by the same method as that of the first embodiment of manufacturing the optical wiring layer. That is, the thickness of the core is 10 μm, and the maximum width of the effective area of the mirror is 1
7 μm. Then, an optical / electrical wiring board was manufactured.

【0060】このようにして得られた光・電気配線基板
に厳密な位置合わせを行わず、受光素子、発光素子を搭
載した実装基板を製造し、その特性を調べたところ、満
足の行くものではなかった。
A strict positioning was not performed on the optical / electrical wiring board thus obtained, and a mounting board on which a light receiving element and a light emitting element were mounted was manufactured and its characteristics were examined. Did not.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上の説明から理解できるように、本発
明には、以下の効果がある。第1に、光配線層に対して
入射させるミラーを大きくしたので、発光素子の設置位
置の余裕が大きくなり、光配線との厳密な位置合わせが
不要になるという効果がある。従って、部品の実装が容
易になる。
As can be understood from the above description, the present invention has the following effects. First, since the size of the mirror to be incident on the optical wiring layer is increased, the margin of the installation position of the light emitting element is increased, and there is an effect that strict alignment with the optical wiring becomes unnecessary. Therefore, mounting of components becomes easy.

【0062】第2に、ミラー付近のコアをテーパ形状に
したので、光の損失を小さく抑えられる。
Second, since the core in the vicinity of the mirror is tapered, light loss can be suppressed to a small value.

【0063】第3に、ミラーを凹面鏡にしたので、光の
損失をもっと小さく抑えられる。
Third, since the mirror is a concave mirror, light loss can be further reduced.

【0064】第4に、光入出射部を水平面でなくしたの
で、反射光が発光素子に戻って動作を不安定にする現象
を回避できる。
Fourth, since the light input / output portion is not a horizontal surface, it is possible to avoid a phenomenon that reflected light returns to the light emitting element and makes the operation unstable.

【0065】第5に、光・電気配線基板は、電気配線を
有する基板の上に光配線層を設けるので、高密度実装又
は小型化が可能であるという効果がある。
Fifth, since the optical / electrical wiring board is provided with the optical wiring layer on the substrate having the electric wiring, there is an effect that high-density mounting or miniaturization is possible.

【0066】第6に、光・電気配線基板は、光配線を用
いることによってノイズや電磁波の発生が抑えられると
いう効果がある。
Sixth, the optical / electrical wiring board has the effect of suppressing the generation of noise and electromagnetic waves by using optical wiring.

【0067】[0067]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光配線層の一例を示す上面図と縦断面
図。
FIG. 1 is a top view and a longitudinal sectional view showing an example of an optical wiring layer of the present invention.

【図2】本発明の光配線層の他の例を示す上面図と縦断
面図。
FIG. 2 is a top view and a longitudinal sectional view showing another example of the optical wiring layer of the present invention.

【図3】本発明の光配線層の他の例を示す上面図と縦断
面図。
FIG. 3 is a top view and a longitudinal sectional view showing another example of the optical wiring layer of the present invention.

【図4】本発明の光配線層の他の例を示す上面図と縦断
面図。
FIG. 4 is a top view and a longitudinal sectional view showing another example of the optical wiring layer of the present invention.

【図5】本発明の光配線層の製造方法の一例の説明図。FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a method for manufacturing an optical wiring layer according to the present invention.

【図6】本発明の光配線層の製造方法の他の例の説明
図。
FIG. 6 is an explanatory view of another example of the method for manufacturing an optical wiring layer of the present invention.

【図7】本発明の光・電気配線基板の一例を示す断面
図。
FIG. 7 is a sectional view showing an example of the optical / electrical wiring board of the present invention.

【図8】本発明の光・電気配線基板にレーザ発光素子を
実装した場合のレーザ光の伝搬の説明図。
FIG. 8 is an explanatory diagram of laser light propagation when a laser light emitting element is mounted on the optical / electrical wiring board of the present invention.

【図9】本発明の光・電気配線基板の他の例を示す断面
図。
FIG. 9 is a sectional view showing another example of the optical / electrical wiring board of the present invention.

【図10】本発明の光・電気配線基板にレーザ発光素子
を実装した場合のレーザ光の伝搬の説明図。
FIG. 10 is an explanatory diagram of laser light propagation when a laser light emitting element is mounted on the optical / electrical wiring board of the present invention.

【図11】本発明の光・電気配線基板の他の例を示す断
面図。
FIG. 11 is a sectional view showing another example of the optical / electrical wiring board of the present invention.

【図12】本発明の光・電気配線基板にレーザ発光素子
を実装した場合のレーザ光の伝搬の説明図。
FIG. 12 is an explanatory diagram of propagation of laser light when a laser light emitting element is mounted on the optical / electrical wiring board of the present invention.

【図13】本発明の光・電気配線基板の製造方法の一例
の説明図。
FIG. 13 is a diagram illustrating an example of the method for manufacturing an optical / electrical wiring board according to the present invention.

【図14】本発明の光・電気配線基板の製造方法の他の
例の説明図。
FIG. 14 is an explanatory view of another example of the method for manufacturing an optical / electrical wiring board according to the present invention.

【図15】従来の光配線層を示す上面図と縦断面図。FIG. 15 is a top view and a longitudinal sectional view showing a conventional optical wiring layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 … コア 2 … クラッド 2A… 保護層 3 … ミラー 3A… 金属膜 4 … 光配線層 5 … 支持体 6 … 剥離膜 7 … 吸収層 10… 電気配線基板 11… ビアホール 12… ビアホール 13… 電気配線 14… 電気配線 15… パッド 16… パッド 20… レーザ発光素子 21… 発光面 22… レーザ光 30… 電気配線基板 31… 光透過穴 32… 部品設置穴 33… パッド 34… パッド 40… レーザ発光素子 41… 発光面 42… レーザ光 50… 電気配線基板 51… 孔 52… レジスト 53… パッド 54… 電気配線 55… ビアホール 56… パッド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Core 2 ... Cladding 2A ... Protective layer 3 ... Mirror 3A ... Metal film 4 ... Optical wiring layer 5 ... Support 6 ... Release film 7 ... Absorption layer 10 ... Electric wiring board 11 ... Via hole 12 ... Via hole 13 ... Electric wiring 14 ... Electrical wiring 15 ... Pad 16 ... Pad 20 ... Laser light emitting element 21 ... Light emitting surface 22 ... Laser light 30 ... Electrical wiring board 31 ... Light transmitting hole 32 ... Parts installation hole 33 ... Pad 34 ... Pad 40 ... Laser light emitting element 41 ... Light-emitting surface 42 Laser light 50 Electric wiring board 51 Hole 52 Resist 53 Pad 54 Electric wiring 55 Via hole 56 Pad

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市川 浩二 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 Fターム(参考) 2H047 KA04 KA13 KA15 LA09 MA07 PA21 PA24 RA00 TA00 TA05 TA35 TA43 5E338 AA00 BB75 CC01 CC10 CD33 EE22 EE32  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Koji Ichikawa, Inventor F-term (reference), 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo 2H047 KA04 KA13 KA15 LA09 MA07 PA21 PA24 RA00 TA00 TA05 TA35 TA43 5E338 AA00 BB75 CC01 CC10 CD33 EE22 EE32

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光を伝搬させるコア及びクラッドと、コア
に対して傾きを有し、光を反射させるミラーと、光を入
出射させる光入出射部を有する層状の光配線層におい
て、 該ミラーの有効領域の最大幅が、該コアの厚さよりも2
倍以上大きいことを特徴とする光配線層。
1. A layered optical wiring layer having a core and a clad for transmitting light, a mirror having an inclination with respect to the core and reflecting light, and a light input / output unit for inputting / outputting light. The maximum width of the effective area of the core is larger than the thickness of the core by 2
An optical wiring layer characterized by being at least twice as large.
【請求項2】上記コアが、ミラー近傍で断面積が大きく
なるテーパ形状を有することを特徴とする請求項1記載
の光配線層。
2. The optical wiring layer according to claim 1, wherein the core has a tapered shape whose cross-sectional area increases near the mirror.
【請求項3】上記ミラーが、凹面鏡であることを特徴と
する請求項1〜2記載の光配線層。
3. The optical wiring layer according to claim 1, wherein said mirror is a concave mirror.
【請求項4】上記光入出射部が、入出射光に対して垂直
面となっていないことを特徴とする請求項1〜3記載の
光配線層。
4. The optical wiring layer according to claim 1, wherein said light incident / exit portion is not perpendicular to the incident / exit light.
【請求項5】請求項1〜4の何れか1項記載の光配線層
の少なくとも光入出射部の反対側に、電気配線を有する
基板を積層させた光・電気配線基板であって、 光入出射部の周囲に、光部品をハンダ付けするためのパ
ッドと、パッドと基板の電気配線とを電気接続するビア
ホールと、 を具備することを特徴とする光・電気配線基板。
5. An optical / electrical wiring board in which a substrate having an electric wiring is laminated at least on the opposite side of the light input / output section of the optical wiring layer according to claim 1. An optical / electrical wiring board, comprising: a pad for soldering an optical component; and a via hole for electrically connecting the pad and an electric wiring of the board, around an input / output section.
【請求項6】請求項1〜4の何れか1項記載の光配線層
の少なくとも光入出射部側に、電気配線を有する基板を
積層させた光・電気配線基板であって、 光部品からのあるいは光部品への光を透過させるための
穴と、 を具備することを特徴とする光・電気配線基板。
6. An optical / electrical wiring board comprising a substrate having electric wiring laminated on at least the light incident / exit portion side of the optical wiring layer according to claim 1. An optical / electrical wiring board comprising: a hole for transmitting light to an optical component or an optical component.
【請求項7】更に、光部品を設置するための穴と、 を具備することを特徴とする請求項6に記載の光・電気
配線基板。
7. The optical / electrical wiring board according to claim 6, further comprising: a hole for installing an optical component.
【請求項8】請求項5〜7の何れか1項記載の光・電気
配線基板に光部品又は/及び電気部品を実装したことを
特徴とする実装基板。
8. A mounting board, wherein an optical component and / or an electrical component is mounted on the optical / electrical wiring board according to claim 5.
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