JP2001102272A - Tantalum solid electrolytic capacitor and manufacturing method therefor - Google Patents

Tantalum solid electrolytic capacitor and manufacturing method therefor

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JP2001102272A
JP2001102272A JP27741999A JP27741999A JP2001102272A JP 2001102272 A JP2001102272 A JP 2001102272A JP 27741999 A JP27741999 A JP 27741999A JP 27741999 A JP27741999 A JP 27741999A JP 2001102272 A JP2001102272 A JP 2001102272A
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tantalum
tantalum element
conductive polymer
polymer compound
monomer
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Japanese (ja)
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Yutaka Yokoyama
豊 横山
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Nippon Chemi Con Corp
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve adhesion of a solid eiectrolytic layer composed of conductive high-molecular compound to a tantalum element surface. SOLUTION: A tantalum element formed at 40 V is dipped in manganese carbonate 0.01% aqueous solution at 25 deg.C for 10 minutes. After dipping, the tantalum element is heated to 400 deg.C for 30 minutes, and manganese oxide is deposited on the tantalum element. After the tantalum element is dipped in pyrrole 0.2 M/acetonitrile solution at 10 deg.C for 5 minutes, the element is dipped in paratoluene sulfonic acid 0.04 M/acetonitrile solution at 0 deg.C for 60 minutes, and polypyrrole is formed. After this operation is repeated ten times, carbon paste, silver paste and silver adhesive agent are spread on the surface, electrodes are removed, and resin mold is performed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、タンタル固体電解
コンデンサ及びその製造方法に係り、特に、導電性高分
子化合物からなる固体電解質層のタンタル表面への付着
性を向上させるべく改良を施したタンタル固体電解コン
デンサ及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a tantalum solid electrolytic capacitor and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a tantalum solid electrolyte layer made of a conductive polymer compound, which has been improved to improve the adhesion to the tantalum surface. The present invention relates to a solid electrolytic capacitor and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、タンタル固体電解コンデンサ
は、タンタル粉末を焼結して得た焼結体と、この焼結体
表面に形成されたタンタルの酸化皮膜と、この酸化皮膜
上の固体電解質と、更に固体電解質上に形成されたグラ
ファイト層及び銀層などの導電体層とからなっている。
このコンデンサは有極性であって、通常、金属タンタル
が陽極側電極となり、固体電解質上の導電体層が陰極側
電極となる。
2. Description of the Related Art Generally, a tantalum solid electrolytic capacitor comprises a sintered body obtained by sintering tantalum powder, a tantalum oxide film formed on the surface of the sintered body, and a solid electrolyte on the oxide film. And a conductor layer such as a graphite layer and a silver layer formed on the solid electrolyte.
This capacitor has polarity, and usually, metal tantalum serves as an anode electrode, and a conductor layer on a solid electrolyte serves as a cathode electrode.

【0003】この固体電解質としては、従来、二酸化マ
ンガンが多用されていたが、近年、コンデンサ特性及び
信頼性の改良を図るべく、例えば、特公平4−5644
5号公報などに開示されているような、導電性を付与し
たポリピロールなどの導電性高分子化合物を用いたもの
が提案されている。
Conventionally, manganese dioxide has been widely used as this solid electrolyte. In recent years, in order to improve the characteristics and reliability of capacitors, for example, Japanese Patent Publication No. 4-5644.
Japanese Patent Laid-Open Publication No. 5 (1999) -2005 discloses a device using a conductive polymer compound such as polypyrrole having conductivity.

【0004】このような導電性高分子化合物を固体電解
質として用いた固体電解コンデンサは、上記公報にも記
載されているように、二酸化マンガンを用いたものに比
べて次のような優れた特性を持っている。 (1)導電性高分子化合物の導電率が二酸化マンガンの
導電率に比べて数十倍大きいので、高周波特性に優れ、
近年の電子機器の動作周波数の高周波化に対応すること
ができる。
As described in the above-mentioned publication, a solid electrolytic capacitor using such a conductive polymer compound as a solid electrolyte has the following excellent characteristics as compared with those using manganese dioxide. have. (1) Since the conductivity of the conductive polymer compound is several tens times larger than the conductivity of manganese dioxide, it has excellent high-frequency characteristics,
It is possible to cope with a recent increase in operating frequency of electronic equipment.

【0005】(2)二酸化マンガンを用いたコンデンサ
では、硝酸マンガンを熱分解して二酸化マンガンを形成
するので、製造工程中で200〜300℃の熱ストレス
が、酸化皮膜を形成した焼結体に加えられるため、酸化
皮膜に欠陥が生じ漏れ電流が増大することがある。これ
に対して、導電性高分子化合物を固体電解質として用い
たコンデンサでは、製造工程中でこのような高温で熱処
理をする必要がないので、酸化皮膜の劣化がなく、長期
間使用したときの特性変化及び故障発生が少なく、信頼
性に優れている。 (3)酸化皮膜に欠陥が生じた場合に、これを修復す
る、いわゆるセルフヒーリングの温度が二酸化マンガン
に比べて低いため、微少漏れ電流領域で酸化皮膜欠陥の
修復が行われるので、この点でも信頼性が高い。
(2) In a capacitor using manganese dioxide, manganese nitrate is thermally decomposed to form manganese dioxide. Therefore, a thermal stress of 200 to 300 ° C. during the manufacturing process causes a sintered body having an oxide film formed thereon. As a result, defects may occur in the oxide film and the leakage current may increase. In contrast, capacitors using conductive polymer compounds as solid electrolytes do not require heat treatment at such high temperatures during the manufacturing process, so there is no deterioration of the oxide film, and the characteristics after long-term use. Low change and failure occurrence, and excellent reliability. (3) When the oxide film has a defect, the defect is repaired. Since the so-called self-healing temperature is lower than that of manganese dioxide, the oxide film defect is repaired in a small leakage current region. High reliability.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この種の固体電解コン
デンサにおいて、固体電解質としての導電性高分子化合
物の形成方法には、大別して電解酸化重合による方法と
化学酸化重合による方法との二つがある。
In this type of solid electrolytic capacitor, there are roughly two methods of forming a conductive polymer compound as a solid electrolyte, a method by electrolytic oxidation polymerization and a method by chemical oxidation polymerization. .

【0007】この電解酸化重合による方法は、モノマー
に電荷を印加することによって、高分子化しながら、誘
電体酸化皮膜の表面に導電性高分子化合物を形成するも
のであり、重合反応を進行させるために電気化学的なエ
ネルギーを用いている。しかし、この電解酸化重合によ
る場合、誘電体としての酸化皮膜が電気的絶縁体である
ので、この酸化皮膜上に直接導電性高分子化合物を形成
することは困難である。このため、酸化皮膜上に、例え
ば二酸化マンガン或いは化学酸化重合法による導電性高
分子化合物層のような、導電性を備えた何らかのプリコ
ート層を形成し、これを導電体としてこれに外部から電
極を接触させて導電性高分子化合物を形成しなければな
らないので、製造工程が複雑である。
The method using electrolytic oxidation polymerization forms a conductive polymer compound on the surface of a dielectric oxide film while applying a charge to a monomer to polymerize the monomer. Uses electrochemical energy. However, in the case of this electrolytic oxidation polymerization, since an oxide film as a dielectric is an electrical insulator, it is difficult to form a conductive polymer compound directly on the oxide film. For this reason, on the oxide film, for example, a precoat layer having any conductivity such as a manganese dioxide or a conductive polymer compound layer formed by a chemical oxidation polymerization method is formed, and this is used as a conductor to form an external electrode. Since the conductive polymer compound must be formed by contact, the manufacturing process is complicated.

【0008】一方、導電性高分子化合物を形成するもう
一つの方法である化学酸化重合法には、(a)酸化皮膜
形成済みの焼結体を、酸化剤溶液とモノマー溶液に交互
に浸漬して導電性高分子化合物を形成する方法と、
(b)酸化剤とモノマーとを混合した溶液を重合反応が
進行する温度より低い温度に保っておき、酸化皮膜形成
済みの焼結体をこの低温混合溶液に浸漬した後、これを
引き上げて重合開始温度以上の温度に上げて重合反応を
進行させる方法がある。
On the other hand, in the chemical oxidation polymerization method, which is another method for forming a conductive polymer compound, (a) a sintered body having an oxide film formed thereon is alternately immersed in an oxidizing agent solution and a monomer solution. Forming a conductive polymer compound by
(B) A solution obtained by mixing the oxidizing agent and the monomer is kept at a temperature lower than the temperature at which the polymerization reaction proceeds, and the sintered body having an oxide film formed thereon is immersed in the low-temperature mixed solution, and then pulled up to perform polymerization. There is a method in which the polymerization reaction is advanced by raising the temperature to a temperature not lower than the starting temperature.

【0009】しかしながら、これらの化学酸化重合法に
おいては、反応物の酸化反応によって導電性高分子化合
物を形成するが、この酸化反応の化学的エネルギーは、
上記電解酸化重合法における電気化学的なエネルギー
や、硝酸マンガンを熱分解して二酸化マンガンを形成す
る場合の熱エネルギーに比べて小さいため、導電性高分
子化合物のタンタル素子への付着・形成量が乏しく、ま
た、重合物は2〜3分子程度で分子間の結合も弱く、所
望の電気的特性を得ることが困難であった。
[0009] However, in these chemical oxidative polymerization methods, a conductive polymer compound is formed by an oxidation reaction of a reactant, and the chemical energy of the oxidation reaction is as follows.
Because the electrochemical energy in the electrolytic oxidation polymerization method and the thermal energy when manganese nitrate is thermally decomposed to form manganese dioxide are small, the amount of the conductive polymer compound attached to the tantalum element is reduced. In addition, the polymer was only about 2 to 3 molecules, and the intermolecular bond was weak, and it was difficult to obtain desired electric characteristics.

【0010】すなわち、タンタル固体電解コンデンサに
おいては、タンタル素子の外表面に導電性高分子化合物
が形成された後、カーボンペースト等で陰極引き出し手
段を形成するが、導電性高分子化合物の厚みが小さい
と、カーボンペーストと酸化皮膜が接触してショートし
たり、漏れ電流が大きくなるという問題が生じていた。
特に、モノマー又はモノマー溶液に浸漬させた後、酸化
剤の中で重合させる場合には、タンタル素子をモノマー
又はモノマー溶液に浸漬して引き上げた後、モノマー又
はモノマー溶液の表面張力が働いて、タンタル素子の角
部の厚みが小さくなるため、この部分に形成される導電
性高分子化合物の厚みが小さくなり、この部分での漏れ
電流の増大、ショートの発生が問題となっていた。
That is, in the tantalum solid electrolytic capacitor, after the conductive polymer compound is formed on the outer surface of the tantalum element, the cathode extracting means is formed with carbon paste or the like, but the thickness of the conductive polymer compound is small. In such a case, the carbon paste and the oxide film come into contact with each other, resulting in a short circuit or an increase in leakage current.
In particular, when polymerizing in an oxidizing agent after being immersed in a monomer or a monomer solution, the tantalum element is immersed in the monomer or the monomer solution and pulled up. Since the thickness of the corner portion of the element is reduced, the thickness of the conductive polymer compound formed in this portion is reduced, and there has been a problem that the leakage current increases and a short circuit occurs in this portion.

【0011】本発明は、上述したような従来技術の問題
点を解決するために提案されたものであり、その目的
は、化学酸化重合法によっても、導電性高分子化合物か
らなる固体電解質層のタンタル表面への付着性を向上さ
せることができ、優れた電気的特性を得ることができる
タンタル固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供す
ることにある。
The present invention has been proposed in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a solid electrolyte layer made of a conductive polymer compound even by a chemical oxidation polymerization method. An object of the present invention is to provide a tantalum solid electrolytic capacitor capable of improving adhesion to a tantalum surface and obtaining excellent electrical characteristics, and a method of manufacturing the same.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく、導電性高分子化合物からなる固体電解質層
のタンタル表面への付着性を向上させることができる製
造方法について鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成す
るに至ったものである。すなわち、タンタル素子の表面
に、金属酸化物からなる針状もしくは板状の突起物を形
成させ、この突起物によって導電性高分子化合物からな
る固体電解質層を保持させることにより、良好な結果が
得られることが判明したものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied a manufacturing method capable of improving the adhesion of a solid electrolyte layer made of a conductive polymer compound to the tantalum surface. As a result of the superposition, the present invention has been completed. That is, good results can be obtained by forming needle-like or plate-like protrusions made of a metal oxide on the surface of the tantalum element and holding the solid electrolyte layer made of a conductive polymer compound by the protrusions. It has been found to be possible.

【0013】(針状もしくは板状の突起物)タンタル素
子の表面に形成する突起物としては、二酸化マンガン、
二酸化珪素、酸化タンタル、酸化ニオブ等の金属酸化物
が望ましい。また、この突起物の大きさ(高さ)は、数
μm〜数十μmであることが望ましい。タンタル素子の
表面に、針状もしくは板状の突起物が数μm〜数十μm
の範囲で形成されていれば、この突起物やこれらの間隙
に導電性高分子化合物が付着・形成された場合に、良好
な電気的特性が得られることが判明した。なお、これら
の突起物が網目状につながっている場合でも、同様の効
果が得られた。
(Needle-shaped or plate-shaped projections) As projections formed on the surface of the tantalum element, manganese dioxide,
Metal oxides such as silicon dioxide, tantalum oxide and niobium oxide are desirable. It is desirable that the size (height) of the projection is several μm to several tens μm. Needle-like or plate-like protrusions on the surface of the tantalum element are several μm to several tens μm
It has been found that, when the conductive polymer compound is adhered to and formed on the projections and the gaps between them, good electrical characteristics can be obtained. The same effect was obtained even when these projections were connected in a network.

【0014】(タンタル素子上への針状もしくは板状の
突起物の形成方法)本発明者は、タンタル素子上への針
状もしくは板状の突起物の形成方法について種々検討し
た結果、以下の(1)〜(4)の方法を適用することが
できることが判明した。
(Method of Forming Needle-shaped or Plate-shaped Protrusions on Tantalum Element) The present inventor conducted various studies on a method of forming needle-shaped or plate-shaped protrusions on the tantalum element, and as a result, the following was obtained. It has been found that the methods (1) to (4) can be applied.

【0015】(1)炭酸マンガンのような金属炭酸塩の
溶液にタンタル素子を浸漬し、その後、このタンタル素
子を加熱して炭酸マンガンを熱分解させ、酸化マンガン
としながら、タンタル素子の外表面にこの酸化マンガン
を突起状に付着形成させる。より具体的には、炭酸マン
ガン0.005%(適用可能な範囲は、0.001%〜
0.007%)水溶液に、40Vで化成したタンタル素
子を25℃、10分間浸漬する。浸漬後、このタンタル
素子を400℃で30分間加熱して炭酸マンガンを熱分
解させ、タンタル素子上に酸化マンガンを析出させる。
その結果、図1に示したように、タンタル素子の外表面
に、酸化マンガンからなる針状もしくは板状の突起物が
形成されることが判明した。
(1) A tantalum element is immersed in a solution of a metal carbonate such as manganese carbonate, and then the tantalum element is heated to thermally decompose the manganese carbonate to form manganese oxide on the outer surface of the tantalum element. This manganese oxide is deposited and formed in a projection shape. More specifically, manganese carbonate 0.005% (the applicable range is 0.001% to
(0.007%) A tantalum element formed at 40 V is immersed in an aqueous solution at 25 ° C. for 10 minutes. After the immersion, the tantalum element is heated at 400 ° C. for 30 minutes to thermally decompose manganese carbonate, thereby depositing manganese oxide on the tantalum element.
As a result, as shown in FIG. 1, it was found that needle-like or plate-like projections made of manganese oxide were formed on the outer surface of the tantalum element.

【0016】(2)タンタル素子を金属酸化物の溶液に
浸漬して、乾燥し、この金属酸化物をタンタル素子の外
表面に付着させる。その後、モノマーと酸化剤の重合反
応によって、タンタル素子の内部と外表面に導電性高分
子化合物を形成するという工程を数回繰り返す。
(2) The tantalum element is immersed in a solution of a metal oxide and dried, and this metal oxide is attached to the outer surface of the tantalum element. Thereafter, a process of forming a conductive polymer compound on the inside and the outside surface of the tantalum element by a polymerization reaction of the monomer and the oxidizing agent is repeated several times.

【0017】(3)金属酸化物にモノマーを混合し、こ
の溶液にタンタル素子を浸漬して乾燥し、この金属酸化
物とモノマーの混合物をタンタル素子の外表面に付着さ
せる。そして、酸化剤を、この工程の前にタンタル素子
に付着させておくか、この工程の後に付着させて、その
後に重合させる。その後、モノマーと酸化剤の重合反応
によって、タンタル素子の内部と外表面に導電性高分子
化合物を形成するという工程を数回繰り返す。なお、金
属酸化物をモノマーに含有させる場合の金属酸化物の含
有量は、モノマー量に対して1.0〜0.01%が好ま
しく、より好ましくは0.5〜0.05%である。
(3) A monomer is mixed with the metal oxide, the tantalum element is immersed in the solution and dried, and the mixture of the metal oxide and the monomer is adhered to the outer surface of the tantalum element. Then, an oxidizing agent is attached to the tantalum element before this step, or is attached after this step, and then polymerized. Thereafter, a process of forming a conductive polymer compound on the inside and the outside surface of the tantalum element by a polymerization reaction of the monomer and the oxidizing agent is repeated several times. When the metal oxide is contained in the monomer, the content of the metal oxide is preferably from 1.0 to 0.01%, more preferably from 0.5 to 0.05%, based on the amount of the monomer.

【0018】(4)金属酸化物にモノマーと酸化剤を混
合し、この溶液にタンタル素子を浸漬して乾燥し、この
金属酸化物とモノマーと酸化剤の混合物をタンタル素子
の外表面に付着させ、その後に重合させる。その後、モ
ノマーと酸化剤の重合反応によって、タンタル素子の内
部と外表面に導電性高分子化合物を形成するという工程
を数回繰り返す。なお、金属酸化物をモノマー及び酸化
剤に含有させる場合の金属酸化物の含有量は、モノマー
及び酸化剤量に対して1.0〜0.01%が好ましく、
より好ましくは0.5〜0.05%である。
(4) A monomer and an oxidizing agent are mixed with the metal oxide, the tantalum element is immersed in the solution and dried, and the mixture of the metal oxide, the monomer and the oxidizing agent is adhered to the outer surface of the tantalum element. And then polymerized. Thereafter, a process of forming a conductive polymer compound on the inside and the outside surface of the tantalum element by a polymerization reaction of the monomer and the oxidizing agent is repeated several times. When the metal oxide is contained in the monomer and the oxidizing agent, the content of the metal oxide is preferably 1.0 to 0.01% based on the amount of the monomer and the oxidizing agent.
More preferably, it is 0.5 to 0.05%.

【0019】このように、導電性高分子化合物の重合反
応の前にタンタル素子上に予め針状もしくは板状の突起
物を形成しなくても、モノマー、又はモノマーと酸化剤
の混合液に金属酸化物を混合し、この混合溶液を用いて
重合反応を進行させても良いことが分かった。なお、タ
ンタル素子の外表面への突起物の形成は、数回繰り返す
導電性高分子化合物の形成工程の途中であっても良く、
この場合でも本発明の効果が得られることが分かった。
また、上記金属酸化物の溶液は、粘度が高い方が望まし
い。その理由は、金属酸化物の溶液の粘度が高いと、金
属酸化物の溶液がタンタル素子内へ侵入せず、突起物は
タンタル素子の外表面にのみ形成されるからである。
As described above, even if needle-like or plate-like projections are not formed on the tantalum element before the polymerization reaction of the conductive polymer compound, the metal or the mixture of the monomer and the oxidizing agent can be added to the metal. It was found that the oxides may be mixed, and the polymerization reaction may be advanced using this mixed solution. Note that the formation of the protrusions on the outer surface of the tantalum element may be in the middle of the conductive polymer compound forming step repeated several times,
It has been found that the effect of the present invention can be obtained even in this case.
It is desirable that the metal oxide solution has a high viscosity. The reason is that if the viscosity of the metal oxide solution is high, the metal oxide solution does not penetrate into the tantalum element, and the protrusion is formed only on the outer surface of the tantalum element.

【0020】(タンタル固体電解コンデンサの製造方
法)続いて、本発明に係るタンタル固体電解コンデンサ
の製造方法の一例について説明する。すなわち、導電性
高分子化合物としてポリピロールを用いる場合には、上
記のようにして表面に針状もしくは板状の突起物を形成
したタンタル素子を、ピロール0.2M/アセトニトリ
ル溶液に、10℃、5分間浸漬後、パラトルエンスルホ
ン酸0.04M/アセトニトリル溶液に0℃、60分浸
漬して、ポリピロールを形成させる。この操作を10回
繰り返した後、ポリピロール層の表面に、カーボンペー
スト、銀ペースト及び銀接着剤を順次塗布し、電極を取
り出して樹脂モールドして、電解コンデンサを作製す
る。
(Method of Manufacturing Tantalum Solid Electrolytic Capacitor) Next, an example of a method of manufacturing a tantalum solid electrolytic capacitor according to the present invention will be described. That is, when polypyrrole is used as the conductive polymer compound, a tantalum element having needle-like or plate-like projections formed on the surface as described above is placed in a 0.2 M pyrrole / acetonitrile solution at 10 ° C. for 5 hours. After immersion for 5 minutes, it is immersed in a 0.04 M paratoluenesulfonic acid / acetonitrile solution at 0 ° C. for 60 minutes to form polypyrrole. After repeating this operation 10 times, a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive are sequentially applied to the surface of the polypyrrole layer, and the electrodes are taken out and resin-molded to produce an electrolytic capacitor.

【0021】ここで、パラトルエンスルホン酸溶液に浸
漬する温度を“0℃”としたのは、以下の理由によるも
のである。すなわち、ピロールモノマーと酸化剤との反
応はかなり速いので、低温状態としておかなければ、酸
化剤がタンタル焼結体の内部へ浸透していく途中で、焼
結体の空孔部の入口付近でポリピロールを形成してしま
い、このポリピロールが障害となって、酸化剤がタンタ
ル焼結体の内部へ浸透していくことができなくなり、タ
ンタル焼結体の内部でのポリピロールの形成量が減少し
てしまうからである。
Here, the reason why the temperature for immersion in the paratoluenesulfonic acid solution is set to “0 ° C.” is as follows. In other words, since the reaction between the pyrrole monomer and the oxidizing agent is very fast, if the oxidizing agent is not penetrated into the inside of the tantalum sintered body, the oxidizing agent must be near the entrance of the pore portion of the sintered body unless the temperature is kept low. Polypyrrole is formed, this polypyrrole becomes an obstacle, the oxidizing agent cannot penetrate into the tantalum sintered body, the amount of polypyrrole formed inside the tantalum sintered body decreases, It is because.

【0022】また、導電性高分子化合物としてポリチオ
フェンを用いる場合には、上記のようにして表面に針状
もしくは板状の突起物を形成したタンタル素子を、3,
4−エチレンジオキシチオフェンモノマーとパラトルエ
ンスルホン酸鉄塩の40%ブタノール溶液を体積比で
1:9に混合した溶液に、20℃、10分間浸漬する。
その後、40℃で2時間空気中で重合させる。この操作
を7回繰り返した後、ポリチオフェン層の表面に、カー
ボンペースト、銀ペースト及び銀接着剤を順次塗布し、
電極を取り出して樹脂モールドして、電解コンデンサを
作製する。
When polythiophene is used as the conductive polymer compound, a tantalum element having needle-like or plate-like projections formed on the surface as described above is
It is immersed in a solution obtained by mixing a 4-ethylenedioxythiophene monomer and a 40% butanol solution of iron paratoluenesulfonate at a volume ratio of 1: 9 at 20 ° C. for 10 minutes.
Thereafter, polymerization is carried out in air at 40 ° C. for 2 hours. After repeating this operation seven times, a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive are sequentially applied to the surface of the polythiophene layer,
The electrodes are taken out and molded with a resin to produce an electrolytic capacitor.

【0023】(作用・効果)上記のようにしてタンタル
素子上に金属酸化物からなる突起物が形成されると、こ
の突起物によって導電性高分子化合物からなる固体電解
質層が保持されるので、タンタル素子への付着性が向上
する。また、金属酸化物はタンタル素子の表面に均等に
形成されるので、タンタル素子の角部やエッジ部におい
ても導電性高分子化合物が生成され、その結果、モール
ド時のストレスにも耐えることができるため、ショート
の発生を防止し、漏れ電流を大幅に低減することができ
ると考えられる。
(Operation / Effect) When the projection made of the metal oxide is formed on the tantalum element as described above, the solid electrolyte layer made of the conductive polymer compound is held by the projection. The adhesion to the tantalum element is improved. In addition, since the metal oxide is uniformly formed on the surface of the tantalum element, a conductive polymer compound is generated also at the corners and edges of the tantalum element, and as a result, it can withstand the stress during molding. Therefore, it is considered that the occurrence of a short circuit can be prevented, and the leakage current can be significantly reduced.

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに詳細
に説明する。なお、本発明に係る固体電解コンデンサ
は、以下の実施例1〜4のように作成した。また、比較
例として、タンタル素子上に針状もしくは板状の突起物
が形成されていない固体電解コンデンサを用いた。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, the solid electrolytic capacitor according to the present invention was prepared as in Examples 1 to 4 below. Further, as a comparative example, a solid electrolytic capacitor having no needle-like or plate-like protrusions formed on a tantalum element was used.

【0025】(実施例1)炭酸マンガン0.01%水溶
液に、40Vで化成したタンタル素子を25℃、10分
間浸漬する。浸漬後、このタンタル素子を400℃で3
0分間加熱して、タンタル素子上に酸化マンガンを析出
させる。このタンタル素子を、ピロール0.2M/アセ
トニトリル溶液に10℃、5分間浸漬後、パラトルエン
スルホン酸0.04M/アセトニトリル溶液に0℃、6
0分浸漬して、ポリピロールを形成させる。この操作を
10回繰り返した後、表面にカーボンペースト、銀ペー
スト及び銀接着剤を塗布し、電極を取り出して樹脂モー
ルドし、評価用コンデンサとした。
(Example 1) A tantalum element formed at 40 V is immersed in a 0.01% aqueous solution of manganese carbonate at 25 ° C for 10 minutes. After the immersion, the tantalum element was
Heat for 0 minutes to precipitate manganese oxide on the tantalum element. This tantalum element was immersed in a pyrrole 0.2 M / acetonitrile solution at 10 ° C. for 5 minutes, and then immersed in a 0.04 M paratoluenesulfonic acid / acetonitrile solution at 0 ° C. for 6 minutes.
Soak for 0 minutes to form polypyrrole. After repeating this operation 10 times, a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive were applied to the surface, the electrodes were taken out and resin-molded to obtain a capacitor for evaluation.

【0026】(実施例2)炭酸マンガン0.01%水溶
液に、40Vで化成したタンタル素子を25℃、10分
間浸漬し、その後60℃で30分、温風乾燥させた。こ
のタンタル素子を、3,4−エチレンジオキシチオフェ
ンモノマーとパラトルエンスルホン酸鉄塩の40%ブタ
ノール溶液を体積比で1:9に混合した溶液に、20
℃、10分間浸漬する。その後、40℃で2時間空気中
で重合させる。この操作を7回繰り返した後、表面にカ
ーボンペースト、銀ペースト及び銀接着剤を塗布し、電
極を取り出して樹脂モールドし、評価用コンデンサとし
た。
(Example 2) A tantalum element formed at 40 V was immersed in a 0.01% aqueous solution of manganese carbonate at 25 ° C for 10 minutes, and then dried with hot air at 60 ° C for 30 minutes. This tantalum element was mixed with a solution prepared by mixing a 3,4-ethylenedioxythiophene monomer and a 40% butanol solution of iron paratoluenesulfonate at a volume ratio of 1: 9,
Soak at 10 ° C for 10 minutes. Thereafter, polymerization is carried out in air at 40 ° C. for 2 hours. After repeating this operation seven times, a carbon paste, a silver paste, and a silver adhesive were applied to the surface, the electrodes were taken out and resin-molded to obtain a capacitor for evaluation.

【0027】(比較例1)40Vで化成したタンタル素
子に、上記実施例1と同様の方法でポリピロールを形成
させ、表面にカーボンペースト、銀ペースト及び銀接着
剤を塗布し、電極を取り出して樹脂モールドし、評価用
コンデンサとした。
Comparative Example 1 A polypyrrole was formed on a tantalum element formed at 40 V in the same manner as in Example 1 above, a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive were applied on the surface, and the electrodes were taken out and a resin was formed. It was molded and used as a capacitor for evaluation.

【0028】(比較例2)40Vで化成したタンタル素
子に、上記実施例2と同様の方法でポリエチレンジオキ
シチオフェンを形成させ、表面にカーボンペースト、銀
ペースト及び銀接着剤を塗布し、電極を取り出して樹脂
モールドし、評価用コンデンサとした。
(Comparative Example 2) Polyethylenedioxythiophene was formed on a tantalum element formed at 40 V in the same manner as in Example 2 above, and a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive were applied on the surface, and the electrode was formed. It was taken out and resin-molded to obtain a capacitor for evaluation.

【0029】(実施例3)40Vで化成したタンタル素
子を、パラトルエンスルホン酸40%アセトニトリル溶
液に20℃、10分間浸漬し、60℃で30分間、温風
乾燥させた。その後、このタンタル素子を、二酸化珪素
0.01%を含有したピロール0.2M/アセトニトリ
ル溶液に0℃、60分間浸漬し、化学重合させる。この
操作を3回繰り返した後、表面にカーボンペースト、銀
ペースト及び銀接着剤を塗布し、電極を取り出して樹脂
モールドし、評価用コンデンサとした。
Example 3 A tantalum element formed at 40 V was immersed in a 40% solution of p-toluenesulfonic acid in acetonitrile at 20 ° C. for 10 minutes, and dried with hot air at 60 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the tantalum element is immersed in a 0.2 M pyrrole / acetonitrile solution containing 0.01% of silicon dioxide at 0 ° C. for 60 minutes to be chemically polymerized. After repeating this operation three times, a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive were applied to the surface, and the electrodes were taken out and resin-molded to obtain a capacitor for evaluation.

【0030】(実施例4)40Vで化成したタンタル素
子を、パラトルエンスルホン酸鉄塩の40%ブタノール
溶液に20℃、10分間浸漬し、60℃で30分間、温
風乾燥させた。その後、このタンタル素子を、二酸化珪
素0.01%を含有した100%3,4−エチレンジオ
キシチオフェン液に20℃、10分間浸漬し、化学重合
させる。この操作を3回繰り返した後、表面にカーボン
ペースト、銀ペースト及び銀接着剤を塗布し、電極を取
り出して樹脂モールドし、評価用コンデンサとした。
Example 4 A tantalum device formed at 40 V was immersed in a 40% butanol solution of iron p-toluenesulfonate at 20 ° C. for 10 minutes, and dried with hot air at 60 ° C. for 30 minutes. Thereafter, this tantalum element is immersed in a 100% 3,4-ethylenedioxythiophene solution containing 0.01% of silicon dioxide at 20 ° C. for 10 minutes to be chemically polymerized. After repeating this operation three times, a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive were applied to the surface, and the electrodes were taken out and resin-molded to obtain a capacitor for evaluation.

【0031】(比較例3)40Vで化成したタンタル素
子を、パラトルエンスルホン酸40%アセトニトリル溶
液に20℃、10分間浸漬し、60℃で30分間、温風
乾燥させた。その後、このタンタル素子を、ピロール
0.2M/アセトニトリル溶液に0℃、60分間浸漬
し、化学重合させる。この操作を3回繰り返した後、表
面にカーボンペースト、銀ペースト及び銀接着剤を塗布
し、電極を取り出して樹脂モールドし、評価用コンデン
サとした。
Comparative Example 3 A tantalum device formed at 40 V was immersed in a 40% solution of p-toluenesulfonic acid in acetonitrile at 20 ° C. for 10 minutes, and dried with hot air at 60 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the tantalum element is immersed in a 0.2 M pyrrole / acetonitrile solution at 0 ° C. for 60 minutes to be chemically polymerized. After repeating this operation three times, a carbon paste, a silver paste and a silver adhesive were applied to the surface, and the electrodes were taken out and resin-molded to obtain a capacitor for evaluation.

【0032】(比較例4)40Vで化成したタンタル素
子を、パラトルエンスルホン酸鉄塩の40%ブタノール
溶液に20℃、10分間浸漬し、60℃で30分間、温
風乾燥させた。その後、このタンタル素子を、100%
3,4−エチレンジオキシチオフェン液に20℃、10
分間浸漬し、化学重合させる。さらにこの操作を3回繰
り返す。その後、表面にカーボンペースト、銀ペースト
及び銀接着剤を塗布し、電極を取り出して樹脂モールド
し、評価用コンデンサとした。
Comparative Example 4 A tantalum device formed at 40 V was immersed in a 40% butanol solution of iron p-toluenesulfonate at 20 ° C. for 10 minutes, and dried with hot air at 60 ° C. for 30 minutes. After that, this tantalum element is
3,4-ethylenedioxythiophene solution at 20 ° C, 10
Soak for a minute and allow for chemical polymerization. This operation is further repeated three times. Thereafter, a carbon paste, a silver paste, and a silver adhesive were applied to the surface, and the electrodes were taken out and resin-molded to obtain a capacitor for evaluation.

【0033】[比較結果]上記の方法により得られた実
施例1乃至実施例4と、比較例1乃至比較例4の固体電
解コンデンサの電気的特性を表1に示す。
[Comparative Results] Table 1 shows the electrical characteristics of the solid electrolytic capacitors of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 obtained by the above method.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】まず、タンタル素子の表面に酸化マンガン
を析出させた実施例1及び実施例2について考察する。
表1から明らかなように、比較例1においては100例
中2例にショートが発生し、比較例2においては100
例中1例にショートが発生したのに対し、実施例1及び
実施例2においてはショートはまったく発生しなかっ
た。
First, Examples 1 and 2 in which manganese oxide is deposited on the surface of a tantalum element will be considered.
As is clear from Table 1, in Comparative Example 1, short-circuit occurred in 2 out of 100 cases, and in Comparative Example 2, 100 short-circuits occurred.
While short-circuit occurred in one of the examples, short-circuit did not occur at all in Examples 1 and 2.

【0036】また、ショート品を除く漏れ電流の最大値
を調べたところ、導電性高分子化合物としてポリピロー
ルを用いた比較例1では“158μA”であったのに対
し、同様に導電性高分子化合物としてポリピロールを用
いた実施例1では“0.3μA”であり、実施例1にお
ける漏れ電流の最大値は、比較例1の約0.19%に低
減した。
Further, when the maximum value of the leakage current excluding the short-circuited product was examined, it was found to be “158 μA” in Comparative Example 1 using polypyrrole as the conductive polymer compound. In Example 1 using polypyrrole, the maximum value was 0.3 μA, and the maximum value of the leakage current in Example 1 was reduced to about 0.19% of Comparative Example 1.

【0037】一方、導電性高分子化合物としてポリチオ
フェンを用いた比較例2の漏れ電流の最大値は“560
μA”であったのに対し、同様に導電性高分子化合物と
してポリチオフェンを用いた実施例2では“0.5μ
A”であり、実施例2における漏れ電流の最大値は、比
較例2の約0.09%に低減した。
On the other hand, in Comparative Example 2 using polythiophene as the conductive polymer compound, the maximum value of the leakage current was “560”.
μA ”, whereas in Example 2 using polythiophene as the conductive polymer similarly,“ 0.5 μA ”was used.
A ″, and the maximum value of the leakage current in Example 2 was reduced to about 0.09% of Comparative Example 2.

【0038】このように、タンタル素子上にマンガン酸
化物を析出させたものは、エレメントの角部やエッジ部
にも導電性高分子化合物が生成されていることが観察さ
れた。一方、比較例では、タンタル素子の角部やエッジ
部への導電性高分子化合物の付着量が少なかったり、付
着できていない状況が観察された。その結果、比較例に
おいてはモールド時のストレスの影響を受け、結果的に
ショートの発生並びに漏れ電流が大きくなったと推定さ
れる。
As described above, in the case where manganese oxide was deposited on the tantalum element, it was observed that a conductive polymer compound was also generated at the corners and edges of the element. On the other hand, in the comparative example, a situation was observed in which the amount of the conductive polymer compound attached to the corners and edges of the tantalum element was small or could not be attached. As a result, it is presumed that the comparative example was affected by the stress at the time of molding, and as a result, the occurrence of a short circuit and the leakage current increased.

【0039】続いて、モノマー溶液に二酸化珪素を含有
した実施例3及び実施例4について考察する。表1から
明らかなように、比較例3及び比較例4共、100例中
3例にショートが発生したのに対し、実施例3及び実施
例4においてはショートはまったく発生しなかった。
Next, Examples 3 and 4 in which silicon dioxide was contained in the monomer solution will be considered. As is clear from Table 1, short-circuits occurred in three out of 100 cases in both Comparative Examples 3 and 4, whereas no short-circuit occurred in Examples 3 and 4.

【0040】また、ショート品を除く漏れ電流の最大値
を調べたところ、導電性高分子化合物としてポリピロー
ルを用いた比較例3では“430μA”であったのに対
し、同様に導電性高分子化合物としてポリピロールを用
いた実施例3では“1.2μA”であり、実施例3にお
ける漏れ電流の最大値は、比較例3の約0.28%に低
減した。
Further, when the maximum value of the leakage current excluding short-circuited products was examined, it was found to be “430 μA” in Comparative Example 3 using polypyrrole as the conductive polymer compound. In Example 3 using polypyrrole, the maximum value was “1.2 μA”, and the maximum value of the leakage current in Example 3 was reduced to about 0.28% of Comparative Example 3.

【0041】一方、導電性高分子化合物としてポリチオ
フェンを用いた比較例4の漏れ電流の最大値は“780
μA”であったのに対し、同様に導電性高分子化合物と
してポリチオフェンを用いた実施例4では“2.5μ
A”であり、実施例4における漏れ電流の最大値は、比
較例4の約0.32%に低減した。
On the other hand, the maximum value of the leakage current of Comparative Example 4 using polythiophene as the conductive polymer compound was “780”.
μA ”, whereas in Example 4 using polythiophene as the conductive polymer compound,“ 2.5 μA ”was used.
A ″, and the maximum value of the leakage current in Example 4 was reduced to about 0.32% of Comparative Example 4.

【0042】このことから、金属酸化物をモノマーに混
ぜた場合も、導電性高分子化合物のタンタル素子への付
着力が増し、モールド時のストレスの影響を回避できた
と考えられる。
From this, it is considered that even when the metal oxide was mixed with the monomer, the adhesion of the conductive polymer compound to the tantalum element was increased, and the influence of the stress at the time of molding could be avoided.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、化
学酸化重合法によっても、導電性高分子化合物からなる
固体電解質層のタンタル表面への付着性を向上させるこ
とができ、優れた電気的特性を得ることができるタンタ
ル固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供すること
ができる。
As described above, according to the present invention, the adhesion of the solid electrolyte layer made of a conductive polymer compound to the tantalum surface can be improved by the chemical oxidation polymerization method. A tantalum solid electrolytic capacitor capable of obtaining electrical characteristics and a method for manufacturing the same can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】表面に金属酸化物を析出させたタンタル素子を
示す図
FIG. 1 is a diagram showing a tantalum element having a metal oxide deposited on its surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…タンタル素子 2…針状もしくは板状の突起物 1: Tantalum element 2: Needle-like or plate-like projection

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 タンタル粉末を焼結してなるタンタル素
子の表面に酸化皮膜が形成され、この酸化皮膜上に導電
性高分子化合物からなる固体電解質層を形成してなるタ
ンタル固体電解コンデンサにおいて、 前記酸化皮膜が形成されたタンタル素子の外表面に、針
状又は板状の突起物が形成され、この突起物によって前
記導電性高分子化合物が保持されていることを特徴とす
るタンタル固体電解コンデンサ。
1. A tantalum solid electrolytic capacitor in which an oxide film is formed on the surface of a tantalum element obtained by sintering tantalum powder, and a solid electrolyte layer made of a conductive polymer compound is formed on the oxide film. Needle-like or plate-like projections are formed on the outer surface of the tantalum element on which the oxide film is formed, and the conductive polymer compound is held by the projections. .
【請求項2】 前記突起物が金属酸化物よりなることを
特徴とする請求項1に記載のタンタル固体電解コンデン
サ。
2. The tantalum solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the protrusion is made of a metal oxide.
【請求項3】 前記金属酸化物が、二酸化マンガン、二
酸化珪素、酸化タンタルあるいは酸化ニオブのいずれか
であることを特徴とする請求項2に記載のタンタル固体
電解コンデンサ。
3. The tantalum solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein the metal oxide is one of manganese dioxide, silicon dioxide, tantalum oxide and niobium oxide.
【請求項4】 タンタル粉末を焼結してなるタンタル素
子の表面に酸化皮膜を形成し、このタンタル素子を金属
炭酸塩の溶液に浸漬した後、加熱して、タンタル素子の
外表面に金属酸化物からなる針状又は板状の突起物を形
成し、その後、モノマーと酸化剤の重合反応によって、
タンタル素子の外表面に導電性高分子化合物を形成する
ことを特徴とするタンタル固体電解コンデンサの製造方
法。
4. An oxide film is formed on the surface of a tantalum element obtained by sintering a tantalum powder, and the tantalum element is immersed in a solution of a metal carbonate and heated to form a metal oxide on the outer surface of the tantalum element. To form needle-like or plate-like projections made of the product, and then, by a polymerization reaction of the monomer and the oxidant,
A method for manufacturing a tantalum solid electrolytic capacitor, comprising forming a conductive polymer compound on an outer surface of a tantalum element.
【請求項5】 タンタル粉末を焼結してなるタンタル素
子の表面に酸化皮膜を形成し、このタンタル素子を金属
酸化物の溶液に浸漬した後、乾燥して、タンタル素子の
外表面に金属酸化物からなる針状又は板状の突起物を形
成し、その後、モノマーと酸化剤の重合反応によって、
タンタル素子の外表面に導電性高分子化合物を形成する
ことを特徴とするタンタル固体電解コンデンサの製造方
法。
5. An oxide film is formed on a surface of a tantalum element obtained by sintering a tantalum powder, and the tantalum element is immersed in a solution of a metal oxide, dried, and then oxidized on the outer surface of the tantalum element. To form needle-like or plate-like projections made of the product, and then, by a polymerization reaction of the monomer and the oxidant,
A method for manufacturing a tantalum solid electrolytic capacitor, comprising forming a conductive polymer compound on an outer surface of a tantalum element.
【請求項6】 タンタル粉末を焼結してなるタンタル素
子の表面に酸化皮膜を形成し、このタンタル素子を金属
酸化物とモノマーの混合溶液に浸漬した後、乾燥して、
タンタル素子の外表面に金属酸化物からなる針状又は板
状の突起物を形成し、その後、モノマーと酸化剤の重合
反応によって、タンタル素子の外表面に導電性高分子化
合物を形成することを特徴とするタンタル固体電解コン
デンサの製造方法。
6. An oxide film is formed on the surface of a tantalum element obtained by sintering tantalum powder, and the tantalum element is immersed in a mixed solution of a metal oxide and a monomer, and then dried.
A needle-like or plate-like projection made of metal oxide is formed on the outer surface of the tantalum element, and then a conductive polymer compound is formed on the outer surface of the tantalum element by a polymerization reaction of a monomer and an oxidizing agent. A method for manufacturing a tantalum solid electrolytic capacitor characterized by the following.
【請求項7】 タンタル粉末を焼結してなるタンタル素
子の表面に酸化皮膜を形成し、このタンタル素子を金属
酸化物とモノマーと酸化剤の混合溶液に浸漬した後、乾
燥して、タンタル素子の外表面に金属酸化物からなる針
状又は板状の突起物を形成し、その後、モノマーと酸化
剤の重合反応によって、タンタル素子の外表面に導電性
高分子化合物を形成することを特徴とするタンタル固体
電解コンデンサの製造方法。
7. An oxide film is formed on a surface of a tantalum element obtained by sintering a tantalum powder, and the tantalum element is immersed in a mixed solution of a metal oxide, a monomer and an oxidizing agent, and then dried to obtain a tantalum element. Forming a needle-like or plate-like projection made of metal oxide on the outer surface of the tantalum element, and then forming a conductive polymer compound on the outer surface of the tantalum element by a polymerization reaction of a monomer and an oxidizing agent. Of manufacturing tantalum solid electrolytic capacitors.
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