JP2001101883A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2001101883A
JP2001101883A JP27308599A JP27308599A JP2001101883A JP 2001101883 A JP2001101883 A JP 2001101883A JP 27308599 A JP27308599 A JP 27308599A JP 27308599 A JP27308599 A JP 27308599A JP 2001101883 A JP2001101883 A JP 2001101883A
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JP
Japan
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voltage
transistor
test
test pad
booster circuit
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JP27308599A
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English (en)
Inventor
Akira Iwata
田 彰 岩
Junichiro Noda
田 潤一郎 野
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 昇圧回路の供給能力の低下を招くことなく、
テスト時における正確な評価を可能にする半導体装置を
提供する。 【解決手段】 昇圧回路BCの出力端子とテスト用パッ
ドVPとの間にエンハンスメント型トランジスタTrを
接続し、そのゲートにテスト用パッドVPに入力された
プログラム電圧Vppより閾値電圧Vth分高い電圧をチャ
ージポンプ回路CPを用いて入力する。これにより、テ
スト時において電圧降下を招くことなくプログラム電圧
Vppをメモリセルに供給することができる。テスト終了
後はテスト用パッドVPと昇圧回路BCとの間を切断
し、切断箇所2においてリーク経路が生じる。しかし、
トランジスタTrはゲート電圧がグランドレベルである
ためオフしており、昇圧回路BCとリーク経路とは接続
されない。よって、昇圧回路BCの供給能力の低下が防
止される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に係わり
に、特に昇圧回路を備える半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】E2PROM等の不揮発性メモリでは、
データの書き込み及び消去を行う際に、例えば20
(V)という高いプログラム電圧Vppを必要とする。そ
こで、このようなプログラム電圧Vppを昇圧回路により
発生し、メモリセルに供給している。
【0003】ところで、昇圧回路にはテスト用に入出力
パッドが接続されている。図2に従来の半導体装置にお
ける昇圧回路BCと、この昇圧回路BCの出力端子に接
続されたテスト用パッドVPとを示す。
【0004】このテスト用パッドVPは、昇圧回路BC
が出力した昇圧電圧を取り出して評価するため、また昇
圧回路BCの出力電圧の替わりに外部からプログラム電
圧Vppを供給し、メモリセルに与えて書き込み及び消去
動作をテストするために用いられる。
【0005】ところが、半導体装置が製品として出荷さ
れた以降は、ユーザにおいてこのテスト用パッドVPが
用いられることはない。また、半導体装置をICカード
として提供しているような場合は、セキュリティの観点
からユーザが本来使用しないパッドは内部回路と接続さ
れているべきでないという要請もある。
【0006】そこで、テスト用パッドVPと昇圧回路B
Cとを接続する配線ND11を、切断箇所3において切
断していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、配線ND11
を切断すると、切断箇所3においてグランドに抵抗LR
を介して接続された状態となり、昇圧回路BCの出力電
圧がリークすることとなっていた。このため、昇圧回路
BCのプログラム電圧供給能力が低下し、メモリセルの
書き込み及び消去特性を悪化させていた。
【0008】また、従来の半導体装置には図3に示され
たような構成を備えるものもあった。昇圧回路BCの出
力端子とテスト用パッドVPとの間に、エンハンスメン
ト型トランジスタTr1のソースと、ドレイン及びゲー
トが接続されている。
【0009】この装置では、出荷前において、トランジ
スタTr1のゲート及びドレインとテスト用パッドVP
との配線D21を切断箇所3において切断する。この場
合には、トランジスタTr1のゲート電圧がグランドレ
ベルとなってオフする。よって、昇圧回路BCとリーク
経路との間の電気的な接続が絶たれて、昇圧回路BCの
出力電圧が低下することが防止される。
【0010】しかし、テスト時においてテスト用パッド
VPからプログラム電圧Vppを入力した場合、エンハン
スメント型トランジスタTr1の閾値電圧Vth分だけ電
圧が降下する。よって、メモリセルに供給するプログラ
ム電圧がVpp−Vthとなり、メモリセルの書き込み及び
消去特性を正確に評価することができなかった。よっ
て、この構成ではテスト時に正確な評価ができないとい
う問題があった。、また、従来の装置には図4に示され
る構成を備えたものもあった。この構成では、図3に示
された構成におけるエンハンスメント型トランジスタT
r1の替わりにデプレッション型トランジスタTr2を
用いている。
【0011】この構成によれば、テスト時においてテス
ト用パッドVPからプログラム電圧Vppを入力した場
合、閾値電圧Vth分電圧降下が生じることがなく、正確
な評価が可能である。しかし、昇圧回路BCとテスト用
パッドVPとを接続する配線ND31を切断箇所3にお
いて切断した場合、トランジスタRr2はゲートにグラ
ンドレベルが与えられてもオン状態を維持する。よっ
て、昇圧回路BCの出力端子とリーク経路とは接続され
ることとなり、図2に示された回路と同様に昇圧回路B
Cの供給能力の低下を招いていた。
【0012】本発明は上記事情に鑑み、昇圧回路の供給
能力の低下を招くことなくテスト時に正確な評価が可能
である半導体装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
外部から第1の所定電圧を入力されるテスト用パッド
と、与えられた電圧を昇圧して出力端子から出力する昇
圧回路と、前記昇圧回路の前記出力端子と前記テスト用
パッドとの間にソース、ドレインが接続されたエンハン
スメント型トランジスタと、前記テスト用パッドに入力
端子が接続され、前記エンハンスメント型トランジスタ
のゲートに出力端子が接続されており、前記テスト用パ
ッドから入力された前記第1の所定電圧を第2の所定電
圧まで昇圧して前記エンハンスメント型トランジスタの
ゲートに与えるチャージポンプ回路と、前記チャージポ
ンプ回路の入力端子と出力端子との間に接続されたリミ
ッタとを備え、前記リミッタは、前記第1の所定電圧に
前記エンハンスメント型トランジスタの閾値電圧を加算
した値と略同一電圧に前記第2の所定電圧を制限するこ
とを特徴としている。
【0014】ここで、前記リミッタは、前記エンハンス
メント型トランジスタと略同一の閾値電圧を有するトラ
ンジスタを含むことが望ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
【0016】本実施の形態による半導体装置は、図1に
示された構成を備えている。
【0017】昇圧回路BCの出力端子とテスト用パッド
VPとの間に、エンハンスメント型トランジスタTrの
ソース、ドレインが接続されている。チャージポンプ回
路CPの入力端子がテスト用パッドVPに接続され、出
力端子がトランジスタTrのゲートに接続されている。
チャージポンプ回路CPの入力端子ND1と出力端子N
D2との間に、エンハンスメント型トランジスタLTr
のソース、ゲート及びドレインが、リミッタとして接続
されている。チャージポンプ回路CPの制御端子には抵
抗R1を介して制御パッドCPが接続されており、また
チャージポンプ回路CPの制御端子とグランド端子との
間には抵抗R2が接続されて、プルダウン抵抗を構成し
ている。ここで、トランジスタTrとリミッタトランジ
スタLTrとは、略同一の閾値電圧Vthを有するものと
する。
【0018】このように、本実施の形態では、昇圧回路
BCの出力端子とテスト用パッドVPとの間をエンハン
スメント型トランジスタTrのソース、ドレインを介し
て接続し、さらにそのゲートに、テスト用パッドVPか
らの入力電圧Vppより閾値電圧Vth分だけ高い電圧を印
加するチャージポンプ回路CPを備えている点に特徴が
ある。上記構成を備えた本実施の形態は、以下のように
動作する。
【0019】テスト時において、制御端子CPに制御電
圧が供給され、チャージポンプ回路CPの制御端子に入
力されて動作状態になる。外部からテスト用パッドVP
にプログラム電圧Vppが印加され、チャージポンプ回路
CPに入力される。チャージポンプ回路CPはプログラ
ム電圧Vppを昇圧した電圧を出力するが、リミッタトラ
ンジスタLTrによりトランジスタTrの閾値電圧Vth
分だけ高い電圧Vpp+Vthに制限される。
【0020】この電圧Vpp+Vthは、トランジスタTr
がプログラム電圧Vppを入力されて、電圧降下すること
なくこの電圧Vppを出力するために必要なゲート電圧に
相当する。よって、外部から入力されたプログラム電圧
Vppと同一の電圧がトランジスタTrから出力され、メ
モリセルに供給されることになる。これにより、メモリ
セルの書き込み及び消去特性を本来のプログラム電圧V
ppを与えて正確に評価することができる。
【0021】テスト終了後は、トランジスタTrの一方
の端子とテスト用パッドVPとを接続する信号線ND1
を切断箇所2において切断する。また、制御パッドCP
と抵抗R1とを接続する信号線も切断箇所1において切
断する。これにより、チャージポンプ回路CPは非動作
状態におかれる。
【0022】信号線ND1には、抵抗LRを介してグラ
ンド端子に接続されるリーク経路が生じる。しかし、信
号線ND1と昇圧回路BCの出力端子との間にはエンハ
ンスメント型トランジスタTrが接続されており、しか
もそのゲート電圧はグランドレベルにある。よって、ト
ランジスタTrは完全にオフ状態にあり、昇圧回路BC
の出力端子とリーク経路との接続が絶たれる。よって、
昇圧回路BCは供給能力を低下することなく本来のプロ
グラム電圧Vppをメモリセルに供給し、正常に動作する
ことができる。
【0023】上述した実施の形態は本発明を限定するも
のではない。例えば、上記実施の形態では不揮発性メモ
リを例にとり説明したが、昇圧回路及びこの昇圧回路に
接続されたテスト用パッドを含む装置であれば他の装置
にも本発明を適用することができる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように本発明の半導体装置
は、昇圧回路の出力端子とテスト用パッドとの間にエン
ハンスメント型トランジスタを接続し、そのゲートにテ
スト用パッドに入力されたプログラム電圧より閾値電圧
分だけ高い電圧をチャージポンプ回路を用いて入力する
ことにより、テスト時において電圧降下を招くことなく
プログラム電圧をメモリセルに供給することが可能であ
る。また、テスト終了後においてテスト用パッドと昇圧
回路との接続を切断した場合、切断箇所においてリーク
経路が生じてもオフ状態にあるエンハンスメント型トラ
ンジスタの存在により昇圧回路BCは供給能力を低下す
ることなくプログラム電圧をメモリセルに供給すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による半導体装置の構成
を示した回路図。
【図2】従来の半導体装置の構成を示した回路図。
【図3】従来の他の半導体装置の構成を示した回路図。
【図4】従来のさらに他の半導体装置の構成を示した回
路図。
【符号の説明】
BC 昇圧回路 CP 制御電圧パッド VP テスト用パッド R1、R2 抵抗 CP チャージポンプ回路 1、2 切断箇所 LR 抵抗 ND1、ND2 ノード Tr エンハンスメント型トランジスタ LTr リミッタ用トランジスタ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】外部から第1の所定電圧を入力されるテス
    ト用パッドと、 与えられた電圧を昇圧して出力端子から出力する昇圧回
    路と、 前記昇圧回路の前記出力端子と前記テスト用パッドとの
    間にソース、ドレインが接続されたエンハンスメント型
    トランジスタと、 前記テスト用パッドに入力端子が接続され、前記エンハ
    ンスメント型トランジスタのゲートに出力端子が接続さ
    れており、前記テスト用パッドから入力された前記第1
    の所定電圧を第2の所定電圧まで昇圧して前記エンハン
    スメント型トランジスタのゲートに与えるチャージポン
    プ回路と、 前記チャージポンプ回路の入力端子と出力端子との間に
    接続されたリミッタとて備え、 前記リミッタは、前記第1の所定電圧に前記エンハンス
    メント型トランジスタの閾値電圧を加算した値と略同一
    電圧に前記第2の所定電圧を制限することを特徴とする
    半導体装置。
  2. 【請求項2】前記リミッタは、前記エンハンスメント型
    トランジスタと略同一の閾値電圧を有するトランジスタ
    を含むことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
JP27308599A 1999-09-27 1999-09-27 半導体装置 Pending JP2001101883A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7098681B2 (en) 2003-07-24 2006-08-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device, method for testing the same and IC card

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7098681B2 (en) 2003-07-24 2006-08-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device, method for testing the same and IC card
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