JP2001101627A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

薄膜磁気ヘッド

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JP2001101627A
JP2001101627A JP27762099A JP27762099A JP2001101627A JP 2001101627 A JP2001101627 A JP 2001101627A JP 27762099 A JP27762099 A JP 27762099A JP 27762099 A JP27762099 A JP 27762099A JP 2001101627 A JP2001101627 A JP 2001101627A
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JP
Japan
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layer
magnetic head
shield layer
film magnetic
thin
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JP27762099A
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English (en)
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Katsuya Kikuiri
勝也 菊入
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、薄膜磁気ヘッド周囲のアース配線
部分の引き回しを少なくしてノイズを拾い難い構造とす
るとともに、帯電状態になり難い薄膜磁気ヘッドの提供
を目的とする。 【解決手段】 本発明は、磁気記録媒体に対して相対的
に摺動することにより情報を読み出すための磁気抵抗効
果素子を有する薄膜磁気ヘッドであって、基体2と、基
体上に形成された下部シールド層12と、下部絶縁層1
3と、磁気抵抗効果素子14と、該磁気抵抗効果素子に
接続された電極層と、前記磁気抵抗効果素子上に形成さ
れた上部絶縁層15と、上部シールド層16とを具備し
てなり前記下部絶縁層13と上部絶縁層15を貫通して
下部シールド層12と上部シールド層16を電気的に接
続する接続部22を前記磁気抵抗効果素子と前記電極層
に非接触状態で形成してなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はテープメディアに相
対摺動しながら磁気情報を読み出す磁気抵抗効果素子を
内蔵した薄膜磁気ヘッドに関し、特に薄膜磁気ヘッドと
テープメディアとの相対摺動によって生じるおそれの高
い帯電状態あるいは静電気に対応した特別なアース構造
を有する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気抵抗効果素子を備えた薄膜磁気ヘッ
ドは従来のバルク型の磁気ヘッドに対して更に一層の狭
トラック化に対応することが可能なことから、記録密度
の高いテープメディアに対して相対摺動する構造の薄膜
磁気ヘッドに種々の形状でもって応用がなされている。
ここでテープメディアに対して相対摺動するタイプの薄
膜磁気ヘッドにおいて問題となるのは、テープメディア
と薄膜磁気ヘッドとが繰り返し相対摺動する際に発生す
る静電気、それに伴う帯電状態、そして放電に伴う電磁
ノイズの発生などである。テープメディアは樹脂製であ
り、帯電し易い上に、環境的に低温で乾燥状態の季節に
あっては特に帯電のおそれが高いものである。
【0003】そこで本発明者は、薄膜磁気ヘッドにおい
て、これらの電磁ノイズの発生や帯電による磁気抵抗効
果素子の破壊のおそれを無くする目的で磁気抵抗効果素
子にアース構造を組み込んだ構造について検討した。図
9と図10はこの種の薄膜磁気ヘッドにアース電極を組
み込んだ構造の一例を示すもので、基体100上に形成
された下部シールド層101上に下部ギャップ層10
4、MR(磁気抵抗効果)素子105、上部ギャップ層
106、上部シールド層107が順次積層されてMR
(磁気抵抗効果)ヘッドH1が形成され、このMRヘッ
ドH1の下部シールド層101の左右両側に対して第1
アース電極109が形成されている。
【0004】また、図9と図10に示す構造において上
部シールド層107はその上に形成されるインダクティ
ブヘッドH2の下部コア層と兼用にされ、この兼用とさ
れた下部コア層(上部シールド層)107上に書込ギャ
ップ層110が形成され、その上に平面的に螺旋状とな
るようにパターン化されたコイル層111が形成され、
コイル層111は絶縁層112によって囲まれ、絶縁層
112上に形成された上部コア層113はその先端部1
13aを媒体摺動面115にて下部コア層107に書込
ギャップ層110を介し微小間隙をあけて対向して書込
み用の磁気ギャップGが形成され、上部コア層113の
基端部側113bは下部コア層107と磁気的に接続さ
れている。更に前記上部コア層113にはアース電極1
20が接続され、これらを覆って保護層116が形成さ
れている。なお、図10に符号108で示すものは、M
R素子105に接続された検出用の電極であり、この電
極108はMR素子105の両側に各々配線されてい
る。
【0005】前記構造の薄膜磁気ヘッドにおいて、アー
ス構造を採用するためには、MR素子105を上下から
挟んでいる金属層である下部シールド層101と上部シ
ールド層107の両方からアースをとる必要があるの
で、下部シールド層101の形成後にCuなどの金属配
線を行って下部シールド層101の左右両側に第1アー
ス電極109を形成するとともに、後工程において、上
部コア層113を形成後に上部コア層113の上に第2
のアース電極120を形成し、上部コア層113と上部
シールド層107とが基端部113bで接続している点
を利用してアース回路を構成することができる。また、
このような回路構成とするのは、上部シールド層107
の上にはコイル層111が存在しているので、アース配
線を形成することが困難な理由によっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで図9と図10
に示す薄膜磁気ヘッドにおいて、下部シールド層101
に第1のアース電極109を接続して設け、上部コア層
113に第2のアース電極120を接続して設ける構成
では、別々の層に配線を設ける必要があり、しかも配線
箇所が離れているので、これらの配線を薄膜磁気ヘッド
の周囲において接続するために長い距離引き回す必要が
あるので、アース配線自体がノイズを拾い易くなってし
まうという問題を有していた。また、第1のアース電極
109と第2のアース電極120を上下のシールド構造
として別々に設けた構成であると、両電極間に異なる電
位が負荷された場合、両電極間に挟まれて設けられたM
R素子105とによってコンデンサを構成してしまうお
それがあるので好ましくない状況と思われる。
【0007】本発明は前記の事情に鑑みてなされたもの
で、薄膜磁気ヘッド周囲のアース配線部分の引き回しを
少なくしてノイズを拾い難い構造とするとともに、帯電
状態になり難い薄膜磁気ヘッドの提供を目的とする。ま
た、本発明は、アース配線構造を簡略化して複雑な積層
構造となり易い薄膜磁気ヘッドにおいても簡単にアース
配線を施すことができ、更に上述のごとくノイズを拾い
難い構造とした薄膜磁気ヘッドの提供を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明は、磁気記録媒体に対して相対的に摺動するこ
とにより情報を読み出すための磁気抵抗効果素子を有す
る薄膜磁気ヘッドであって、基体と、基体上に形成され
た下部シールド層と、下部絶縁層と、磁気抵抗効果素子
と、該磁気抵抗効果素子に接続された電極層と、前記磁
気抵抗効果素子上に形成された上部絶縁層と、上部シー
ルド層とを具備してなり、前記下部絶縁層と上部絶縁層
を貫通して下部シールド層と上部シールド層を電気的に
接続する接続部を前記磁気抵抗効果素子と前記電極層に
非接触状態で形成したことを特徴とする。下部絶縁層と
上部絶縁層を貫通して下部シールド層と上部シールド層
を電気的に接続する接続部を形成したので、配線の引き
回しを行うことなく、下部シールド層と上部シールド層
とのアースをとることができる。また、接続部は磁気抵
抗効果素子と前記電極層に非接触状態で形成したので、
これらを短絡することもない。
【0009】本発明は、磁気記録媒体に対して相対的に
摺動することにより情報を読み出すための磁気抵抗効果
素子を有する薄膜磁気ヘッドであって、基体と、基体上
に形成された下部シールド層と、下部絶縁層と、磁気抵
抗効果素子と、該磁気抵抗効果素子に接続された電極層
と、前記磁気抵抗効果素子上に形成された上部絶縁層
と、上部シールド層とを具備してなり、前記下部絶縁層
と上部絶縁層を貫通して下部シールド層と上部シールド
層を接続する導通孔を前記磁気抵抗効果素子と前記電極
層に非接触状態で形成し、前記導通孔に前記上部シール
ド層から延出形成させて下部シールド層に接続する導通
部を形成したことを特徴とする。下部絶縁層と上部絶縁
層を貫通して下部シールド層と上部シールド層を電気的
に接続する上部シールド層の導通部を形成したので、配
線の引き回しを行うことなく、下部シールド層と上部シ
ールド層とのアースをとることができる。また、導通部
は磁気抵抗効果素子と前記電極層に非接触状態で形成し
たので、これらを短絡することもない。
【0010】本発明において、前記上部シールド層上に
コイル部と上部コア層を具備する書込ヘッドが形成され
てなり、前記接続部あるいは導通部が前記コイル部を回
避する位置に形成されてなることを特徴とする構成でも
良い。本発明において、前記電極層と前記磁気抵抗効果
素子とを除く部分において前記下部絶縁層と上部絶縁層
とが直接積層され、この直接積層された領域に前記下部
絶縁層と上部絶縁層とを貫通する接続部または導通部が
形成されたことを特徴とする。前記いずれかの構成にお
いて接続部はCu等の非磁性の導電材料からなることが
好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】「第1実施形態」以下に本発明の
第1実施形態について図面を参照して説明するが、本発
明は以下の実施形態に限定されるものではない。図1は
本発明に係る第1実施形態の薄膜磁気ヘッドBを磁気記
録装置の台板1に取り付けた状態を示す。本実施形態の
薄膜磁気ヘッドBは、ブロック状のコア半体(基体)
2、3をそれらの側端面どうしをコア内蔵層5を介して
接着一体化して全体としてブロック状に形成され、接合
したコア半体2、3の側面の1つを台板1の上面に接着
し、コア半体2、3の一側を台板1の端部から若干外側
に突出させて台板1に固定されている。これらのコア半
体2、3はCaTiO3、Al23+TiCなどの耐摩
耗性に優れたセラミック材料あるいはフェライトなどか
らなる。台板1の外側に突出された薄膜磁気ヘッドBの
一面は凸曲面状に加工されていて、磁気テープ等の磁気
記録媒体(磁気メディア)に対する媒体摺動面6とされ
ている。
【0012】次に、媒体摺動面6の中央部に設けられて
いるコア内蔵層5には書込ヘッド(インダクティブヘッ
ド)10と読出ヘッド(MRヘッド:磁気抵抗効果ヘッ
ド)11が内蔵され、それらは本実施形態では図2〜図
4に示す構造とされている。図2〜図4に詳細に示すよ
うにMRヘッド11は、コア半体(基体)2の側面上に
形成されたパーマロイ(FeNi)、センダスト(Fe
-Al-Si合金)等の磁性合金からなる下部シールド層
12上に、アルミナ(Al23)などの非磁性材料によ
り形成された下部ギャップ層(下部絶縁層)13が設け
られ、このギャップ層13上において媒体摺動面側の部
分に磁気抵抗効果素子14が積層されている。更にその
上には、上部ギャップ層(上部ギャップ層)15、上部
シールド層16が形成されており、この上部シールド層
16は、その上に設けられる書込コア部10の下部コア
層と兼用にされている。
【0013】書込コア部10は、上部シールド層と兼用
にされた下部コア層16の上に、ギャップ層17が形成
され、その上に平面的に環状かつ螺旋状となるようにパ
ターン化された薄膜のコイル部18が形成され、薄膜コ
イル部18は絶縁層19にその一部を囲まれている。絶
縁層19の上に形成された上部コア層からなるヨーク部
20は、その磁極先端部20aを媒体摺動面6に出して
その部分において上部シールド層と兼用にされた下部コ
ア層16との間に微小間隙をあけて対向され、ヨーク部
20の基端部20bが下部コア層と兼用にされた上部シ
ールド層16と磁気的に接続させて設けられ、媒体摺動
面6側にヨーク部20の磁極先端部20aを位置させ、
この磁極先端部20aと媒体摺動面6側の上部シールド
層16の先端部との間に書き込み用の磁気ギャップWG
が形成されている。また、上部コア層20の上にはアル
ミナなどからなる保護層8が設けられ、この保護層8を
介してコア半体3が接続されて薄膜磁気ヘッドBが構成
されている。
【0014】前記磁気抵抗効果素子14は、非磁性膜を
強磁性膜と磁気抵抗効果膜とで挟んだ構造のMR素子あ
るいはスピンバルブ型の巨大磁気抵抗効果多層膜素子な
どからなる構造とされ、図4に示すように磁気抵抗効果
素子14を平面視した場合にその左右両側に電極層2
1、21が接続され、電極層21、21に接続された端
子電極21Aから検出電流を流した状態の磁気抵抗効果
素子に磁気テープからの漏れ磁場が作用すると抵抗変化
を生じるものである。
【0015】一方、ヨーク部20の基端部20bに対応
する位置の下部ギャップ層13と上部ギャップ層15に
はこれらを貫通する接続孔(コンタクトホール)22A
が形成されているとともに、この接続孔22Aを埋める
ようにCu、Cr、Taなどの導電材料からなる接続部
22が下部シールド層12と上部シールド層16とに電
気的に接続するように設けられている。なお、接続部2
2はCuやTaなどの非磁性の導電材料からなることが
好ましい。
【0016】この接続部22を形成するには、下部ギャ
ップ層13と上部ギャップ層15にフォトリソ工程によ
り接続孔を加工し、導電材料膜を被覆することで得るこ
とができる。例えば、下部ギャップ層13と上部ギャッ
プ層15を積層形成後、上部ギャップ層15上にレジス
トを被覆し、レジストを露光、現像して接続孔22Aを
形成する部分の上にレジストの透孔を形成し、この透孔
を介してイオンミリングにより下部ギャップ層13と上
部ギャップ層15を貫通して下部シールド層12に達す
る接続孔22を形成し、その後にレジストを剥離してか
らCu、Cr等の導電材料の膜をスパッタ法等の成膜法
で形成して接続部22を形成することができる。また、
イオンミリング後にレジストを残留させておいて導電材
料膜を形成し、その後にレジストを剥離する方法を採用
しても良い。
【0017】また、磁気抵抗効果素子14を図4に示す
ように平面視した場合に一方の電極層21の側方側であ
って、下部シールド層12上に、下部シールド層12に
接続された導電材料製のアース電極23が形成され、こ
のアース電極23が薄膜磁気ヘッドBを取り付ける装置
のアース回路に接続されてアースされている。なお、図
4において左右の電極層21、21の間には薄膜コイル
部18の内側端に接続された電極端子25と薄膜コイル
部18の外側端に接続された電極端子26とが形成され
ている。
【0018】前述の構成のMRヘッド11においては、
媒体対向面6に対して磁気テープを相対摺動させること
で磁気テープからの漏れ磁界の有無により磁気抵抗効果
膜の電気抵抗が変化するので、この抵抗変化を電極端子
25、26で読み取ることで磁気テープの磁気記録内容
を読み取ることができる。
【0019】前記書込ヘッド10では、薄膜コイル部1
8に記録電流が与えられ、薄膜コイル部18からヨーク
部20に起磁力が与えられる。そして、磁気ギャップW
Gの部分での下部コア層と兼用された上部シールド層1
6とヨーク部20の磁極先端部20aからの漏れ磁界に
より磁気テープに磁気信号を記録することができる。
【0020】また、前述の構成の薄膜磁気ヘッドBにあ
っては、下部シールド層12と上部シールド層16とが
接続部22を介して電気的に接続され、下部シールド層
12がアース電極23でアースされているので、媒体摺
動面6に対して磁気テープが相対摺動することで帯電し
ようとしても下部シールド層12と上部シールド層16
の両方を同一アースとしているので、帯電する可能性は
低くなり、帯電に伴って磁気抵抗効果素子14に静電破
壊を生じるおそれはなく、帯電による電荷発生に伴う電
磁ノイズを発生しないようにすることができる。更に接
続部22をCuのような非磁性材料から構成することで
下部シールド層12と上部シールド層16との磁気的な
接合を行わせる事なく共通アース構造とすることができ
る。更に、下部シールド層12と上部シールド層16と
を同一アースとしているので同電位とすることができ、
磁気抵抗効果素子14の周囲を同電位とすることがで
き、磁気抵抗効果素子14を介し異なる電位差を生じて
コンデンサを構成してしまうことがない。また、本第1
実施形態においては、図9に示す構造の如く複数のアー
ス配線を薄膜コイル部18の周囲であって磁気抵抗効果
素子14の周囲に長く引き回す必要は無くなるので、ア
ース配線の引き回し量が少なくなり、薄膜磁気ヘッドB
が環境電磁ノイズ等を拾うおそれを少なくすることがで
きる。
【0021】図5は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第2
実施形態を示すもので、この第2実施形態の薄膜磁気ヘ
ッドCは、先の第1実施形態の薄膜磁気ヘッドBの一部
構成を変更したものであるので、同一の部分の構成は同
一の符号を付してそれらの部分の説明を省略する。本第
2実施形態の薄膜磁気ヘッドCは、下部ギャップ層13
と上部ギャップ層15に形成された接続孔22Aの内部
に特に導電材料を設けることなしに、上部シールド層1
6の延出部16Aを設けた構造である。上部シールド層
16も導電材料からなるので、この延出部16Aにより
下部シールド層12と上部シールド層16とを電気的に
接続することができる。この第2実施形態の薄膜磁気ヘ
ッドCにあっても先の第1実施形態の薄膜磁気ヘッドB
と同等の効果を得ることができる。
【0022】図6は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの接続
孔22Aの形成位置の例を記載したもので、接続孔22
Aの形成位置は、コイル部20に接触しないように、か
つ、電極層21に接触しないように下部シールド層12
と上部シールド層16との間に設ければ良いので、図6
に示すように、ヨーク部20の基端部20bの更に後方
部分に対応する位置に接続孔22Bを形成してこの部分
に接続部30を形成しても良い。更に、上部シールド層
16のコーナ部分側であって、コイル部20の両側位置
に接続孔22D、22Eを形成してそれらの部分に接続
部31あるいは接続部32を形成しても良い。また、こ
れらの接続部22、31、32の形成位置はコイル部1
8に接触しないように、かつ、電極層21に接触しない
ような、任意の位置で良いので、1つあるいは必要個数
設けても良い。
【0023】図7は本発明の第3実施形態を示すもの
で、この第3実施形態の薄膜磁気ヘッドDは、図1〜図
4に示す構造から書込ヘッド10を略した構造であり、
読出ヘッド11のみを有した読み取り専用の薄膜磁気ヘ
ッドとしたものである。図8は読み取り専用の薄膜磁気
ヘッドとした場合の各接続孔の形成位置を示したもので
ある。これら接続孔22D、22Eの形成位置は先の図
6に示す場合と同様である。
【0024】これらの図7と図8に示す構造の薄膜磁気
ヘッドC、Dにあっても先の実施形態の場合とアース効
果については同等の効果を得ることができる。なお、以
上説明した構造においては下部シールド層12にアース
電極23を接続させて設けたが、アース電極23を上部
シールド層16に接続させて設けても良いのは勿論であ
る。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、下
部絶縁層と上部絶縁層を貫通して下部シールド層と上部
シールド層を電気的に接続する接続部、あるいは上部シ
ールド層の導通部を形成したので、磁気抵抗効果素子の
回りに長い配線の引き回しを行うことなく、下部シール
ド層と上部シールド層とのアースをとることができる。
従ってテープメディアに対して繰り返し摺動させて使用
し、磁気信号の読出を行った場合、あるいは乾燥した季
節等に使用した場合に、帯電や静電気の影響を受けるこ
とがない。また、接続部は磁気抵抗効果素子と前記電極
層に非接触状態で形成したので、これらを短絡すること
もない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第1実
施形態を台板に取り付けた状態を示す斜視図。
【図2】 図2は図1に示す薄膜磁気ヘッドに内蔵され
た磁気コア部分を媒体摺動面側から見た正面略図であ
る。
【図3】 図3は図1に示す薄膜磁気ヘッドの要部を断
面図。
【図4】 図4は図1に示す薄膜磁気ヘッドのコイル部
と下部シールド層と上部シールド層の平面配置関係を示
す図である。
【図5】 図5は磁気抵抗効果素子膜の第2実施形態を
示す断面図。
【図6】 図6は磁気抵抗効果素子膜のコイル部と下部
シールド層と上部シールド層と接続部の配置関係を示す
図である。
【図7】 図7は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第3実
施形態のコイル部と下部シールド層と上部シールド層の
配置関係を示す平面図である。
【図8】 図8は磁気抵抗効果素子膜のコイル部と下部
シールド層と上部シールド層と接続部の配置関係を示す
図である。
【図9】 図9はシールド部を備えた薄膜磁気ヘッドの
要部断面図。
【図10】 図10は同薄膜磁気ヘッドの要部拡大図で
ある。
【符号の説明】
B、C、D…薄膜磁気ヘッド、WG・・・磁気ギャップ、
2、3…コア半体(基体)、6・・・媒体摺動面、10…
書込ヘッド、11・・・読出ヘッド、12・・・下部シールド
層、13…下部絶縁層(下部ギャップ層)、14・・・磁
気抵抗効果素子(MR素子)、15…上部絶縁層(上部
ギャップ層)、16・・・上部シールド層、16A…導通
部、18・・・薄膜のコイル部、20b・・・基端部、22…
接続部。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁気記録媒体に対して相対的に摺動する
    ことにより情報を読み出すための磁気抵抗効果素子を有
    する薄膜磁気ヘッドであって、 基体と、基体上に形成された下部シールド層と、下部絶
    縁層と、磁気抵抗効果素子と、該磁気抵抗効果素子に接
    続された電極層と、前記磁気抵抗効果素子上に形成され
    た上部絶縁層と、上部シールド層とを具備してなり、 前記下部絶縁層と上部絶縁層の少なくとも一方を貫通し
    て下部シールド層と上部シールド層を電気的に接続する
    接続部を前記磁気抵抗効果素子と前記電極層に非接触状
    態で形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 磁気記録媒体に対して相対的に摺動する
    ことにより情報を読み出すための磁気抵抗効果素子を有
    する薄膜磁気ヘッドであって、 基体と、基体上に形成された下部シールド層と、下部絶
    縁層と、磁気抵抗効果素子と、該磁気抵抗効果素子に接
    続された電極層と、前記磁気抵抗効果素子上に形成され
    た上部絶縁層と、上部シールド層とを具備してなり、 前記下部絶縁層と上部絶縁層を貫通して下部シールド層
    と上部シールド層を接続する導通孔を前記磁気抵抗効果
    素子と前記電極層に非接触状態で形成し、前記導通孔に
    前記上部シールド層から延出形成させて下部シールド層
    に接続する導通部を形成したことを特徴とする薄膜磁気
    ヘッド。
  3. 【請求項3】 前記上部シールド層上にコイル層と上部
    コア層を具備する書込ヘッドが形成されてなり、前記接
    続部あるいは導通部がコイル部を回避する位置に形成さ
    れてなることを特徴とする請求項1または2記載の薄膜
    磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】 前記電極層と前記磁気抵抗効果素子とを
    除く部分において前記下部絶縁層と上部絶縁層とが直接
    積層され、この直接積層された領域に前記下部絶縁層と
    上部絶縁層とを貫通する接続部または導通部が形成され
    たことを特徴とする請求項1〜3の少なくとも1つに記
    載の薄膜磁気ヘッド。
  5. 【請求項5】 前記接続部がCu等の非磁性の導電材料
    からなることを特徴とする請求項1、3または4に記載
    の薄膜磁気ヘッド。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2003057572A1 (fr) * 2001-12-28 2003-07-17 Mitsubishi Materials Corporation Bouteille et dispositif de fabrication de vis
CN100575196B9 (zh) * 2001-12-28 2017-09-12 环宇制罐株式会社 瓶罐体以及瓶

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