JP2001100646A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2001100646A
JP2001100646A JP27485599A JP27485599A JP2001100646A JP 2001100646 A JP2001100646 A JP 2001100646A JP 27485599 A JP27485599 A JP 27485599A JP 27485599 A JP27485599 A JP 27485599A JP 2001100646 A JP2001100646 A JP 2001100646A
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layer
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liquid crystal
cathode
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Tomoyuki Shirasaki
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Casio Computer Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device driven by a field sequential system. SOLUTION: An organic EL element is used as a back light 100 of the liquid crystal display device of the field sequential system. The back light 100 is formed by dispersedly arranging organic EL regions 109r, 109g and 109b which respectively emit light to red(R), green(G) and blue(B) in a stripe form. The back light 100 is so formed that the respective organic EL regions 109r, 109g and 109b may be independently driven by each of the respective light emission colors. As a result, the back light which is capable of switching the light emission colors of R, G and B at a high speed and is adequate for the field sequential system is obtained. The reduction in the thickness of the liquid crystal display device of the field sequential system and the electric power consumption are made possible by using such back light.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL素子をバ
ックライトに用いたフィールドシーケンシャル方式で駆
動する液晶表示装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal display device driven by a field sequential system using an organic EL element as a backlight.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、フィールドシーケンシャル方式を
用いた液晶表示装置が注目されている。液晶表示装置に
よるフルカラー表示の方式には、空間混合方式と時間差
混合方式があり、後者はフィールドシーケンシャル方式
と呼ばれている。
2. Description of the Related Art In recent years, a liquid crystal display device using a field sequential system has attracted attention. A full-color display system using a liquid crystal display device includes a spatial mixing system and a time difference mixing system, and the latter is called a field sequential system.

【0003】空間混合方式は赤(R)、緑(G)、青
(B)の波長領域の光を重ねる加法混色を基本原理と
し、LCDにおいて、R・G・Bにそれぞれ光る画素を
近接して配置するとともに、各画素の輝度を変えること
により、これらの色を任意に混色して、任意の色光を得
るものである。また、空間混合方式によるLCDにおい
ては、一般的にカラーフィルターが用いられている。
[0003] The spatial mixing method is based on an additive color mixture in which light in the red (R), green (G), and blue (B) wavelength regions is superimposed. These colors are arbitrarily mixed by changing the brightness of each pixel and obtaining the desired color light. In addition, a color filter is generally used in the LCD of the spatial mixing method.

【0004】対して、フィールドシーケンシャル方式と
は、「時分割」による混色を利用したカラー表示方式で
ある。すなわち、二色以上の光を継続的に切り替えて発
光させ、かつ、その切り替えの速さを人間の目の時間的
分解能を越えた速さとした場合に、人間が上述の二色以
上の色を混色して認識することを応用した方式である。
On the other hand, the field sequential system is a color display system utilizing color mixture by "time division". That is, when the light of two or more colors is continuously switched to emit light, and the switching speed is set to a speed exceeding the temporal resolution of the human eye, the human can change the two or more colors described above. This is a method that applies recognition by mixing colors.

【0005】フィールドシーケンシャル方式のフルカラ
ーLCDにおいては、動画表示における各フィールド毎
に、それぞれ、バックライトをR・G・Bの三つの発光
色のうちの一つの発光色で発光可能とするとともに、各
フィールドごとに継続的にR・G・Bの発光色を切り替
えて(時分割して)発光させ、その切り替えの速さを充
分に速くすることにより任意の色光を得るようになって
いる。すなわち、フィールドシーケンシャル方式のフル
カラーLCDにおいては、例えば、カラーの各フィール
ドを、それぞれ、あらかじめ、Rのフィールドと、Gの
フィールドと、Bのフィールドとに分光した状態に分
け、一つのカラーのフィールドを表示する際に、上述の
RGBの各フィールドを順番に時間差を付けてLCDに
表示するとともに、Rのフィールドを表示する際には、
バックライトの発光を赤(R)とし、Bのフィールドを
表示する際には、バックライトの発光を青(B)とし、
Gのフィールドを表示する際には、バックライトの発光
を緑(G)としている。そして、上記LCDにおいて
は、上述のように時分割された三色のフィールドからな
るカラーの各フィールドを、三つの発光色を切り替えな
がら連続して表示することにより、カラーの動画を表示
できるようにしている。
In the field sequential type full-color LCD, the backlight can emit light of one of the three emission colors of R, G, and B for each field in displaying a moving image. R, G, and B emission colors are continuously switched for each field to emit light (in a time-division manner), and the switching speed is made sufficiently fast to obtain any color light. That is, in a full color LCD of the field sequential system, for example, each color field is divided into an R field, a G field, and a B field in advance, and one color field is divided. When displaying, the above-described RGB fields are displayed on the LCD with a time difference in order, and when displaying the R field,
The backlight emission is set to red (R), and when displaying the B field, the backlight emission is set to blue (B).
When displaying the G field, the light emission of the backlight is set to green (G). In the LCD, a color moving image can be displayed by continuously displaying each color field composed of the three color fields time-divided as described above while switching the three emission colors. ing.

【0006】また、フィールドシーケンシャル方式以外
のフルカラーLCDにおいては、一般的にカラーフィル
タが用いられる。しかし、カラーフィルターを導入する
と、バックライトからの光がカラーフィルターで大幅に
吸収されてしまう。カラーフィルターを要しないフィー
ルドシーケンシャル方式では、カラーフィルターに吸収
される分の光の損失にかける電力消費を抑えることがで
き、従来のLCDと比較して低消費電力化が可能であ
る。さらに、カラーフィルターは、カラー液晶表示パネ
ルの部材費の中でも高価であり、カラーフィルタを無く
すことで大幅なコストダウンが図れる。
In a full-color LCD other than the field sequential system, a color filter is generally used. However, when a color filter is introduced, light from the backlight is largely absorbed by the color filter. In the field sequential method that does not require a color filter, power consumption for loss of light absorbed by the color filter can be suppressed, and power consumption can be reduced as compared with a conventional LCD. Further, the color filter is expensive among the member costs of the color liquid crystal display panel, and the cost can be greatly reduced by eliminating the color filter.

【0007】なお、フィールドシーケンシャル方式で
は、各フィールドを、各々R・G・Bに充分に速く切り
替えて発光させる必要があるために、LCDを構成する
バックライトと液晶表示パネルともに、従来のLCDの
ものと比較して、高速応答可能である必要がある。すな
わち、色の切り替えによる画像のちらつき(フリッカ)
が生じないようにするためには、フィールドを約1/6
0秒以下で切り替える必要があると言われている。従っ
て、1フィールドあたり1色の表示を行うのに、約1/
180秒以下、すなわち6ミリ秒以下で切り替える必要
がある。さらに、このフィールド内で、画像の書き込み
と液晶の応答、バックライトの点灯を行う必要があり、
液晶表示パネルには、さらに高速に駆動することが要求
される。従って、液晶表示パネルとしては、高速応答可
能な点から、強誘電液晶や反強誘電液晶が有利であると
言われている。ネマチック液晶の中では、TN液晶に対
して10倍の応答速度を持つOCB液晶も提案されてい
る。以上のように、液晶表示パネルにおいては、高速応
答可能な液晶表示パネルの開発が進められている。
In the field sequential system, it is necessary to switch each field between R, G, and B sufficiently quickly to emit light. Therefore, both the backlight and the liquid crystal display panel constituting the LCD are of the conventional LCD. It is necessary to be able to respond at high speed as compared with the ones. That is, the image flickers due to color switching (flicker)
In order to prevent the occurrence of
It is said that it is necessary to switch within 0 seconds. Therefore, to display one color per field, about 1 /
It is necessary to switch in 180 seconds or less, that is, in 6 ms or less. Furthermore, in this field, it is necessary to write the image, respond to the liquid crystal, and turn on the backlight.
The liquid crystal display panel is required to be driven at a higher speed. Therefore, it is said that a ferroelectric liquid crystal or an anti-ferroelectric liquid crystal is advantageous as a liquid crystal display panel in that a high-speed response is possible. Among nematic liquid crystals, an OCB liquid crystal having a response speed 10 times that of a TN liquid crystal has been proposed. As described above, with respect to the liquid crystal display panel, development of a liquid crystal display panel capable of high-speed response has been advanced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、フィールド
シーケンシャル方式のバックライトについては、従来の
バックライトに使用されている冷陰極管やLEDを用い
ることが考えられる。冷陰極管については、従来、ちら
つきのない白色光を得るために、残光時間の長いものが
要求されていたが、フィールドシーケンシャル方式に十
分に対応可能な高速駆動のためにはむしろ、残光時間が
短いものが要求されるという課題がある。また、LED
については、近年では、青色発光LEDが量産されてお
り、RGB3色のバックライトが製造可能であると考え
られているが、フィールドシーケンシャル用のバックラ
イトとしては、未だ実用化には至っていない。
By the way, for the backlight of the field sequential system, it is conceivable to use a cold cathode tube or an LED used in a conventional backlight. In the past, cold cathode tubes were required to have a long afterglow time in order to obtain flicker-free white light. There is a problem that short time is required. In addition, LED
In recent years, blue light-emitting LEDs have been mass-produced in recent years, and it is considered that a backlight of three colors of RGB can be manufactured.

【0009】一方、LCDの主な用途の一つとしては、
携帯可能な小型軽量の電子機器のディスプレイとして用
いられることが上げられる。この場合に、電子機器の小
型化を図るためのバックライトの薄型化と、携帯時に電
池駆動された場合の駆動時間の長期化を図るためのバッ
クライトの消費電力の低減とが望まれることになる。
On the other hand, one of the main uses of LCD is as follows.
It is used as a display of a portable small and lightweight electronic device. In this case, it is desired to reduce the thickness of the backlight in order to reduce the size of the electronic device and to reduce the power consumption of the backlight in order to extend the driving time when the battery is driven in a portable mode. Become.

【0010】従って、フィールドシーケンシャル方式の
LCDに用いられるバックライトとしては、フィールド
シーケンシャル方式に十分に対応可能な高速応答性と、
薄くできる構造と、低い消費電力で駆動可能なこととが
要求されるが、これらの条件を満たすバックライトを備
えたフィールドシーケンシャル方式の液晶表示装置は未
だ得られていない。
Therefore, a backlight used for a field sequential type LCD has a high-speed response which can sufficiently cope with the field sequential type, and
Although a structure that can be made thin and that can be driven with low power consumption are required, a field-sequential liquid crystal display device having a backlight satisfying these conditions has not yet been obtained.

【0011】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、バックライトとして、RGBの各色の発光を高速
で切り替えることが可能で、かつ、薄く、消費電力が小
さい有機EL素子を用いたフィールドシーケンシャル方
式の液晶表示装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has been made in view of a field using an organic EL element which can switch light emission of each color of RGB at a high speed, is thin, and has low power consumption as a backlight. It is an object to provide a sequential liquid crystal display device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
液晶表示装置は、フィールドシーケンシャル方式で駆動
される液晶表示パネルと、該液晶表示パネルの背面側に
設けられたバックライトとを備えた液晶表示装置であっ
て、上記バックライトにおいては、異なる色に発光する
二種以上の有機EL領域が、各種類毎に分散するように
透明基板上に配置され、かつ、順次異なる色に発光可能
となっていることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a liquid crystal display panel driven by a field sequential system; and a backlight provided on the back side of the liquid crystal display panel. In the above-mentioned backlight, two or more kinds of organic EL regions emitting light of different colors are arranged on a transparent substrate so as to be dispersed for each type, and sequentially emit light of different colors. The feature is that it is possible.

【0013】上記構成によれば、上記液晶表示パネルの
背面部に設けられた上記バックライトにおいて、異なる
色に発光する二種以上の有機EL領域を、発光色の異な
る有機EL領域が互いに分散して配置され(例えば、交
互に配置され)、かつ、発光色の異なる有機EL領域が
互いに独立してオンオフ可能となっていれば、異なる発
光色のほぼ面状の発光を切り替えて表示することができ
る。
According to the above configuration, in the backlight provided on the back surface of the liquid crystal display panel, two or more types of organic EL regions emitting different colors are separated from each other by organic EL regions emitting different colors. If the organic EL regions having different emission colors can be turned on and off independently of each other, the display can be switched between substantially planar emission of different emission colors. it can.

【0014】例えば、単独でR・G・Bに各々発光する
有機EL領域を設け、有機EL領域を発光させるために
電流を供給するための電極を、最低限R・G・Bごとに
分けて電力を供給できるような構成とするなどして、一
色ずつ個別に発光できるようにすれば、バックライトに
おいて、R・G・Bの三つの発光色を切り替えて、一様
な面状発光を行なうことができる。
For example, an organic EL region for emitting light is provided independently for each of R, G, and B, and electrodes for supplying a current for causing the organic EL region to emit light are divided at least for each of R, G, and B. If light emission can be performed individually for each color by, for example, providing a configuration capable of supplying electric power, uniform planar light emission is performed by switching the three emission colors of R, G, and B in the backlight. be able to.

【0015】ここで、有機EL素子は、その静電容量が
極めて小さく、高速でスイッチングすることが可能であ
る。従って、高速にRGBの各色の発光を切り替えるこ
とができるので、残光性を有する蛍光材を用いていた蛍
光管に比較して、フィールドシーケンシャル方式で駆動
される液晶表示装置に最適な極めて薄いバックライトと
して機能する。
Here, the organic EL element has an extremely small capacitance and can be switched at high speed. Therefore, the light emission of each color of RGB can be switched at a high speed, and compared with a fluorescent tube using a fluorescent material having an afterglow property, an extremely thin backlight suitable for a liquid crystal display device driven by a field sequential method. Functions as a light.

【0016】さらに、上記バックライトからの発光が、
フィールドシーケンシャル方式で駆動される液晶表示パ
ネルに導かれることにより、本発明のフルカラー液晶表
示装置が機能する。またここで、液晶表示パネルとして
は、周知の高速応答可能な液晶表示パネルを用いること
が好ましい。例えば、強誘電液晶や反強誘電液晶により
構成されるものなどを用いても良い。
Further, the light emission from the backlight is
When guided to the liquid crystal display panel driven by the field sequential method, the full color liquid crystal display device of the present invention functions. Here, it is preferable to use a well-known liquid crystal display panel capable of high-speed response as the liquid crystal display panel. For example, a liquid crystal formed of a ferroelectric liquid crystal or an anti-ferroelectric liquid crystal may be used.

【0017】本発明の請求項2記載の液晶表示装置は、
請求項1記載の液晶表示装置において、上記バックライ
トの上記有機EL領域はストライプ状に形成され、上記
有機EL領域が、有機EL層と該有機EL層を挟み込む
ように配置されたアノードとカソードとを備え、上記透
明基板上の各有機EL領域の上記有機EL層同士の間
に、各有機EL層を分離する隔壁部がストライプ状の上
記有機EL領域に沿って形成され、これら隔壁部同士の
間に有機EL層の材料が注入されることにより、ストラ
イプ状に有機EL層が形成されていることを特徴とす
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising:
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the organic EL region of the backlight is formed in a stripe shape, and the organic EL region includes an organic EL layer and an anode and a cathode arranged so as to sandwich the organic EL layer. And a partition portion for separating each organic EL layer is formed along the stripe-shaped organic EL region between the organic EL layers in each organic EL region on the transparent substrate. The organic EL layer is formed in a stripe shape by injecting a material for the organic EL layer therebetween.

【0018】上記構成によれば、ストライプ状に配置し
ているので、各有機EL領域は、ほぼ線状(帯状)とな
る。そして、各有機EL領域が発光した場合に、各有機
EL領域がほぼ線状光源となり、各有機EL領域から離
れるに従って光が帯状に広がり、近傍にストライプ状に
配置された他の有機EL領域から広がる発光と重なるこ
とになる。また上記透明基板上の各有機EL領域の上記
有機EL層同士の間に各有機EL層を分離する隔壁部
が、ストライプ状の上記有機EL領域に沿って形成され
ているので、有機EL層、アノード及びカソードの形成
時に、上記隔壁部を利用することができる。例えば、隔
壁部同士の間に有機EL層の液状の材料を注入するよう
にすれば、容易にストライプ状の発光層を形成すること
ができる。また、隔壁部を形成した後に、隔壁部より薄
いカソードを、隔壁部が形成された透明基板上に面状に
形成した場合に、隔壁部の厚みによる段差で、カソード
が隔壁部で断線した状態となり、カソードを面状に形成
するものとしても、カソードを各有機EL領域毎に独立
した電極とすることができる。ところで上記の通り、フ
ィールドシーケンシャル方式で駆動される液晶表示装置
のバックライトとして用いるためには、例えば、RGB
のそれぞれの色に順次切り替えて発光可能とする必要が
ある。そのためには、各発光色の有機EL領域毎に独立
して電圧を印加できる構成とする必要があるが、各有機
EL領域をストライプ状に配置することにより、他の構
成(各有機EL領域をモザイク状に配置したり、各有機
EL領域を小さな面状として細かく分散して配置した場
合など)に比較して、RGB各色の有機EL領域毎に電
力を供給するための引き出し線等を最小限にして極めて
簡単に、RGB各色の有機EL領域毎に独立して電圧を
印加できる構成とすることができる。また同時に、各有
機EL領域をストライプ状に配置することにより、その
製造についても他の方法と比較して容易に行うことがで
きる。
According to the above configuration, since the organic EL regions are arranged in a stripe shape, each organic EL region has a substantially linear shape (band shape). When each of the organic EL regions emits light, each of the organic EL regions becomes a substantially linear light source, and the light spreads in a band shape as the distance from each of the organic EL regions increases. It will overlap with the spreading light emission. In addition, since the partition part separating each organic EL layer between the organic EL layers in each organic EL region on the transparent substrate is formed along the stripe-shaped organic EL region, the organic EL layer, When forming the anode and the cathode, the above-mentioned partition can be used. For example, if a liquid material of the organic EL layer is injected between the partition portions, a stripe-shaped light emitting layer can be easily formed. Further, when the cathode thinner than the partition is formed in a planar shape on the transparent substrate on which the partition is formed after the partition is formed, the cathode is disconnected at the partition due to a step due to the thickness of the partition. Thus, even if the cathode is formed in a planar shape, the cathode can be an independent electrode for each organic EL region. As described above, for use as a backlight of a liquid crystal display device driven by a field sequential method, for example, RGB
It is necessary to sequentially switch to the respective colors to enable light emission. For this purpose, it is necessary to adopt a configuration in which a voltage can be applied independently for each organic EL region of each emission color. However, by arranging each organic EL region in a stripe shape, another configuration (each organic EL region is (For example, when the organic EL regions are arranged in a mosaic shape or each organic EL region is finely dispersed as a small planar shape), the number of lead lines for supplying power to each organic EL region for each of the RGB colors is minimized. In this way, it is possible to very simply apply a voltage independently to each of the organic EL regions of each of the RGB colors. At the same time, by arranging the organic EL regions in a stripe shape, the production can be performed more easily than in other methods.

【0019】そして、有機EL層やカソードは、隔壁部
のパターン形成の精度に基づいてパターニングされた状
態となり、ストライプ状に形成された有機EL領域同士
の間隔(ピッチ)を狭くすることが可能となる。そし
て、ストライプ状の光源から面状の発光を得る際に、視
認距離に対して十分にストライプ状の光源同士の距離が
近い必要がある。言い換えれば、液晶表示パネルとスト
ライプ状の光源との間に配置される透明基板を薄くする
には、ストライプ状の光源同士の距離が十分に近い必要
がある。従って、バックライトを薄くするためには、ス
トライプ状に形成された有機EL領域同士のピッチを狭
くする必要があり、逆に言えば、ストライプ状に形成さ
れた有機EL領域同士のピッチを狭くすることにより、
さらにバックライトを薄くすることが可能となる。
Then, the organic EL layer and the cathode are in a state of being patterned based on the precision of the pattern formation of the partition walls, and the interval (pitch) between the stripe-shaped organic EL regions can be reduced. Become. When obtaining planar light emission from a striped light source, the distance between the striped light sources needs to be sufficiently short with respect to the viewing distance. In other words, in order to make the transparent substrate disposed between the liquid crystal display panel and the striped light source thinner, the distance between the striped light sources needs to be sufficiently short. Therefore, in order to make the backlight thinner, it is necessary to reduce the pitch between the organic EL regions formed in a stripe shape. Conversely, the pitch between the organic EL regions formed in a stripe shape is reduced. By
Further, the backlight can be made thinner.

【0020】なお、隔壁部は、例えば、周知の感光樹脂
からなるものであり、フォトリソグラフィによりパター
ン形成可能なものであることが好ましい。また、隔壁部
は、絶縁性であることが好ましい。また、隔壁部の厚さ
は、上述のように隔壁部同士の間に有機EL層の液状の
材料を注入したり、カソードを断線させたりする上にお
いて、5μm以上あることが好ましい。また、隔壁部
は、基本的にストライプ状の有機EL領域同士の間に、
ストライプ状の有機EL領域に沿って、それぞれ形成さ
れるので、隔壁部も基本的にストライプ状に形成される
ことになる。
The partition is made of, for example, a known photosensitive resin, and is preferably one that can be patterned by photolithography. Further, it is preferable that the partition portion is insulative. The thickness of the partition is preferably 5 μm or more in order to inject the liquid material of the organic EL layer between the partition and to disconnect the cathode as described above. Further, the partition wall portion is basically formed between the stripe-shaped organic EL regions.
Since the partition walls are formed along the stripe-shaped organic EL regions, the partition walls are also basically formed in a stripe shape.

【0021】また、隔壁部によって、各有機EL領域を
確実に分離する上では、隔壁部が有機EL領域の周囲を
囲むように形成されることが好ましく、例えば、面状の
隔壁部内に、各有機EL領域となる開口部がストライプ
状に形成されていることが好ましい。なお、このように
面状の隔壁部内にストライプ状の開口部が形成される構
成とした場合も、有機EL領域に対応する部分だけをみ
れば、隔壁部はストライプ状となり、各有機EL領域同
士の間に、それぞれ、有機EL領域に沿って形成された
状態になる。また、隔壁部は、場合によっては、面状の
隔壁部内にストライプ状に多数の開口部を形成した状態
ではなく、各開口部の一端が解放された状態、すなわ
ち、櫛歯状の状態としても良い。なお、各発光色の有機
EL層をストライプ状に配置するに際しては、液晶表示
装置の液晶表示パネルには、バックライトからの一様な
RGBの光が導かれることが好ましいために、各RGB
に発光する有機EL領域毎で、一種類毎の有機EL領域
の分布がほぼ同じ状態となっていることが好ましい。す
なわち、同じ種類の有機EL層は、ほぼ一定の間隔で配
置されていることが好ましく、各種類の有機EL層を一
つずつ含む一組の有機EL層が多数組ストライプ状に配
置されていることが好ましい。また、より一様なRGB
の発光を得るためには、同じ色に発光する各ストライプ
(同じ色に発光する各有機EL領域)間の距離が、視認
する距離(バックライトとして使用する場合に、照らす
液晶表示パネルまでの距離)に対して充分に狭いことが
望ましい。また、各有機EL領域は、基本的にアノード
とカソードと有機EL層とを含むものであるが、上記有
機EL領域となる部分が各々線状に発光するようになっ
ていれば、アノード、カソード、有機EL層の全てがス
トライプ状になっている必要はなく、アノード、カソー
ドの少なくともいずれか一つが面状に形成されるととも
に、複数の有機EL領域に跨って形成されていても良
い。
In order to surely separate each organic EL region by the partition, it is preferable that the partition is formed so as to surround the periphery of the organic EL region. It is preferable that the openings serving as the organic EL regions are formed in a stripe shape. In addition, in the case where the stripe-shaped opening is formed in the planar partition as described above, if only the portion corresponding to the organic EL region is viewed, the partition is stripe-shaped, and the organic EL regions are connected to each other. During this time, the state is formed along the organic EL region. Further, in some cases, the partition portion is not in a state in which a large number of openings are formed in a stripe shape in a planar partition portion, but in a state in which one end of each opening is opened, that is, in a comb-like state. good. When the organic EL layers of each emission color are arranged in a stripe, it is preferable that uniform RGB light from a backlight is guided to the liquid crystal display panel of the liquid crystal display device.
It is preferable that the distribution of each type of organic EL region is substantially the same in each organic EL region that emits light in the same manner. That is, it is preferable that the same type of organic EL layers are arranged at substantially constant intervals, and a large number of sets of organic EL layers each including one of each type of organic EL layer are arranged in a stripe shape. Is preferred. Also, more uniform RGB
In order to obtain light emission of the same color, the distance between the stripes emitting light of the same color (each organic EL region emitting light of the same color) is the distance to be viewed (the distance to the liquid crystal display panel illuminated when used as a backlight). It is desirable that the width is sufficiently narrow with respect to ()). Each organic EL region basically includes an anode, a cathode, and an organic EL layer. However, if each of the organic EL regions emits light linearly, the anode, the cathode, and the organic EL layer may be used. It is not necessary that all of the EL layers have a stripe shape, and at least one of the anode and the cathode may be formed in a planar shape and may be formed over a plurality of organic EL regions.

【0022】本発明の請求項3記載の液晶表示装置は、
請求項1または2記載の液晶表示装置において、上記ガ
ラス基板上に、上記アノードが透明な共通電極として各
有機EL領域に渡って面状に形成され、上記アノード上
に、ストライプ状の上記有機EL層が形成されるととも
に、有機EL層同士の間に、上記アノードより低抵抗な
低抵抗配線が形成され、かつ、該低抵抗配線上に、該低
抵抗配線を覆うとともに、各有機EL層同士を分離する
隔壁部が形成され、上記有機EL層上に、上記カソード
が各有機EL領域毎もしくは同じ種類の有機EL領域毎
に独立した電極として形成されていることを特徴とす
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising:
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the anode is formed on the glass substrate as a transparent common electrode in a planar shape over each organic EL region, and the stripe-shaped organic EL is formed on the anode. A layer is formed, a low-resistance wiring having a lower resistance than the anode is formed between the organic EL layers, and the low-resistance wiring is covered on the low-resistance wiring. And a cathode portion is formed on the organic EL layer as an independent electrode for each organic EL region or for each organic EL region of the same type.

【0023】上記構成によれば、有機EL層同士の間
に、上記アノードより低抵抗な低抵抗配線が形成されて
いるため、アノード電極全体としてシート抵抗が下が
り、均一な輝度の面状発光を得ることができる。また、
有機EL層がストライプ状に配置されていることによ
り、有機EL層同士の間に間隙があり、この発光領域以
外である間隙に低抵抗配線が形成されているため、有機
EL層の発光波長領域に対し不透明であっても高輝度で
発光することができる。なお、透明電極ではなく、低抵
抗配線が電源に接続され、低抵抗配線から透明電極に電
流が流れるようになっていることが好ましい。また、ガ
ラス基板上にITOにより配線を形成するよりも、IT
Oより抵抗値が低い低抵抗配線で上記配線を行うことに
より、消費電力の低減を図ることができる。
According to the above configuration, since a low-resistance wiring having a lower resistance than the anode is formed between the organic EL layers, the sheet resistance of the entire anode electrode is reduced, and planar light emission with uniform luminance is achieved. Obtainable. Also,
Since the organic EL layers are arranged in a stripe pattern, there is a gap between the organic EL layers, and a low-resistance wiring is formed in a gap other than the light emitting region. Can emit light with high luminance even if it is opaque. In addition, it is preferable that a low-resistance wiring is connected to a power supply instead of the transparent electrode, and a current flows from the low-resistance wiring to the transparent electrode. Also, rather than forming wiring on a glass substrate by ITO,
By performing the wiring with a low-resistance wiring having a resistance value lower than that of O, power consumption can be reduced.

【0024】また、本発明では、上記ガラス基板上に、
上記アノードが透明な共通電極として各有機EL領域に
渡って面状に形成され、上記アノード上の有機EL層同
士の間に、上記アノードより低抵抗な低抵抗配線が形成
されている。このため、低抵抗配線と上記アノードとが
確実に短絡した状態となる。また、上記アノード上の有
機EL層同士の間に、上記アノードより低抵抗な低抵抗
配線が形成されており、低抵抗配線と有機EL層とが互
いに離間して形成されているため、有機EL層へのキャ
リアの注入は上記アノードから行われる。このため、発
光する領域は上記アノードと重なる領域になり、低抵抗
配線が不透明であっても、低抵抗配線が有機EL層の光
の放射を妨げることなく、低抵抗配線によりバックライ
トの輝度が低下するのを防止することができる。
Further, according to the present invention, on the glass substrate,
The anode is formed as a transparent common electrode in a plane shape over each organic EL region, and a low-resistance wiring having a lower resistance than the anode is formed between the organic EL layers on the anode. Therefore, the low-resistance wiring and the anode are reliably short-circuited. Further, a low-resistance wiring having a lower resistance than the anode is formed between the organic EL layers on the anode, and the low-resistance wiring and the organic EL layer are formed apart from each other. Injection of carriers into the layer takes place from the anode. For this reason, the light emitting region overlaps with the anode, and even if the low resistance wiring is opaque, the low resistance wiring does not hinder the emission of light from the organic EL layer, and the luminance of the backlight is reduced by the low resistance wiring. It can be prevented from lowering.

【0025】すなわち、アノードとして一般的に用いら
れるITOは、電極としては高い抵抗を有し、例えば、
電源の接続部分から長い距離に渡って形成されている
と、ITOの抵抗により電源の接続部分から離れるに従
って有機EL層に流される電流が低下し、これにより輝
度も低下することになるが、上述のように低抵抗配線を
用いることで、このような事態を防止することができ
る。また、上記アノード上に低抵抗配線と有機EL層と
が互いに離間して形成され、かつ、低抵抗配線が各有機
EL層に沿って形成される場合には、低抵抗配線は、少
なくとも各有機EL層同士の間にそれぞれ形成されるこ
とになる。また、有機EL層が上記アノード全体を覆っ
た状態になっている場合には、低抵抗配線を形成する場
所がなくなってしまうので、上記アノードが有機EL層
の周囲にはみ出した状態に形成されている必要があり、
上記アノードが各有機EL層に渡って面状に形成され
て、各有機EL層で共通な共通電極となっていることが
好ましい。
That is, ITO generally used as an anode has a high resistance as an electrode.
If the organic EL layer is formed over a long distance from the power supply connection portion, the current flowing through the organic EL layer decreases as the distance from the power supply connection portion increases due to the resistance of the ITO, and the luminance also decreases. Such a situation can be prevented by using a low-resistance wiring as described above. In the case where the low-resistance wiring and the organic EL layer are formed apart from each other on the anode, and the low-resistance wiring is formed along each organic EL layer, the low-resistance wiring is formed of at least each organic EL layer. They are formed between the EL layers. Further, when the organic EL layer covers the entire anode, there is no place for forming the low-resistance wiring, so that the anode is formed so as to protrude around the organic EL layer. Must be
It is preferable that the anode is formed in a planar shape over each organic EL layer and serves as a common electrode common to each organic EL layer.

【0026】請求項4の液晶表示装置は、請求項1記載
の液晶表示装置において、上記有機EL領域が、有機E
L層と該有機EL層に電流を流すための第1電極及び第
2電極とを備え、上記有機EL層は、その電荷輸送領域
の一部が、透明基板上に設けられた上記第1電極に重な
って形成されるとともに、電荷輸送領域の他部が上記第
1電極と重ならないように形成されていることを特徴と
する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the liquid crystal display device according to the first aspect, the organic EL region is an organic EL device.
An L layer, and a first electrode and a second electrode for allowing a current to flow through the organic EL layer, wherein the organic EL layer has a charge transport region that is partially provided on a transparent substrate. And the other part of the charge transport region is formed so as not to overlap with the first electrode.

【0027】上記構成によれば、電荷輸送領域の他部を
介し発光された光は第1電極を介することなく出射する
ことができるので、光の吸収損失が少ないため低い消費
電力で高輝度に発光することができる。すなわち、基本
的に有機EL層は、アノード(例えば、第一電極)とカ
ソード(例えば、第二電極)とに挟まれた状態で電圧を
印加されて電流を流されることになり、二つの電極に挟
まれた状態の有機EL層から光を取出すには、例えば、
アノードを透明電極とする必要がある。しかし、透明電
極も光をある程度吸収するので、上記第一電極を例えば
透明電極とした場合には、電荷輸送領域の他部を介し発
光された光は第1電極を介することなく出射することが
できるので輝度の向上を図ることができる。また、この
場合に第一電極が透明電極でなくとも、有機EL層の光
を上記電荷輸送領域の他部から出射することが可能とな
り、透明電極を使用せずに発光を行なうことが可能とな
る。そして、例えば、アノード(ここでは第一電極)が
ストライプ状の上記有機EL層に電荷を印加できるよう
に、ストライプ状の各有機EL層のそれぞれの一部(例
えば、側縁部)に重なって形成されるとともに、上記ア
ノードが各有機EL層のそれぞれの上記一部を除く部分
(長さ方向に沿った中心部)に重ならないように形成さ
れるものとすれば、背面電極との関係において、有機E
L層のアノードと背面電極との間の電流の通り道となる
部分で、アノードと重なっていない部分からは、アノー
ドを通過せずに光が透明基板に入射されることになる。
従って、第一電極を不透明なものとしても、有機EL層
の発光を外部に取り出すことができる。そして、第一電
極を不透明なものとすれば、第一電極として使用可能な
導電材の選択肢が広がり、例えば、金属(合金を含む)
を使用することができる。そして、第一電極として金属
やその他のITOより抵抗率が低い導電材を使用すれ
ば、ITOを使用した場合に比較して、第一電極全体と
してシート抵抗が下げやすくなり均一な輝度の面発光を
得ることができる。
According to the above configuration, light emitted through the other part of the charge transport region can be emitted without passing through the first electrode. Therefore, light absorption loss is small, so that high power consumption and low luminance can be achieved. Can emit light. In other words, basically, the organic EL layer is applied with a voltage in a state sandwiched between an anode (for example, a first electrode) and a cathode (for example, a second electrode) to allow a current to flow. To extract light from the organic EL layer sandwiched between
The anode must be a transparent electrode. However, since the transparent electrode also absorbs light to some extent, when the first electrode is, for example, a transparent electrode, light emitted through the other part of the charge transport region can be emitted without passing through the first electrode. Therefore, the luminance can be improved. Further, in this case, even if the first electrode is not a transparent electrode, light of the organic EL layer can be emitted from the other part of the charge transport region, and light can be emitted without using the transparent electrode. Become. Then, for example, the anode (here, the first electrode) overlaps a part (for example, a side edge) of each of the stripe-shaped organic EL layers so that electric charge can be applied to the stripe-shaped organic EL layer. In addition, if the anode is formed so as not to overlap with the portion (the center along the length direction) of each organic EL layer except for the above-mentioned part, the anode is formed in relation to the back electrode. , Organic E
Light is incident on the transparent substrate without passing through the anode from a portion where the current flows between the anode and the back electrode of the L layer and does not overlap with the anode.
Therefore, even if the first electrode is opaque, light emitted from the organic EL layer can be extracted to the outside. If the first electrode is made opaque, the choice of the conductive material that can be used as the first electrode is expanded, for example, metal (including alloy)
Can be used. When a metal or other conductive material having a lower resistivity than ITO is used as the first electrode, the sheet resistance of the entire first electrode is easily reduced as compared with the case where ITO is used, and the surface light emission with uniform brightness is achieved. Can be obtained.

【0028】また、第一電極としてITOではなく、金
属もしくはITOより低抵抗で柔軟性を有するものを用
いるものとすれば、第一電極がフィルム基板の変形に対
応できるものとなる。例えば、第一電極として金属を用
いれば、ITOのように脆弱ではなく、ある程度の柔軟
性等を有するので、透明フィルム基板との相性に優れて
おり、透明フィルム基板の可撓性、柔軟性といった特性
を生かした製造方法や使用方法を容易に適用することが
できる。本発明では、上記第一電極が不透明で低抵抗な
導電部材からなっているために、ITOの抵抗の高さ、
脆性等に基づく問題を解消することができる。そして、
第一電極を脆弱なITOから金属等の導電材に変更する
ことにより、歩留まりの向上を図ることができる。
If the first electrode is made of metal or a material having lower resistance and flexibility than ITO, instead of ITO, the first electrode can respond to deformation of the film substrate. For example, if a metal is used as the first electrode, it is not brittle like ITO, but has a certain degree of flexibility and the like, so that it has excellent compatibility with the transparent film substrate, and the flexibility and flexibility of the transparent film substrate. A manufacturing method and a use method that make use of characteristics can be easily applied. In the present invention, since the first electrode is made of an opaque and low-resistance conductive member, the resistance of ITO is high,
Problems due to brittleness and the like can be solved. And
The yield can be improved by changing the first electrode from a brittle ITO to a conductive material such as a metal.

【0029】また、第1電極としてITOではなく、金
属もしくはITOより低抵抗で柔軟性を有するものを用
いるものとすれば、第1電極がフィルム基板の変形に対
応できるものとなる。例えば、第1電極として金属を用
いれば、ITOのように脆弱ではなく、ある程度の柔軟
性等を有するので、透明フィルム基板との相性に優れて
おり、透明フィルム基板の可撓性、柔軟性といった特性
を生かした製造方法や使用方法を容易に適用することが
できる。そして、第1電極を脆弱なITOから金属等の
導電材に変更することにより、耐久性の向上を図ること
ができる。また、上記構成では、第1電極を金属等の不
透明な導電材とした場合に、有機EL層と第1電極とが
重なった部分においては、光が透過せず、有機EL層と
第1電極とが重なっていない部分においては、有機EL
層の電荷輸送層のシート抵抗が高ければ必ずしもその部
分全体に電流が流れるとは限らない。しかし、有機EL
層が有機EL層から露出する部分においては、ITOの
ように比較的光透過率が悪い部材を通ることなく、光を
放射することができる。これらのことから、第1電極の
形状は、できるだけ発光に寄与する第2電極と平面的に
重ならない状態で、有機EL層のほぼ全体に電流が流れ
る状態とすることが好ましい。
Further, if a metal or a material having lower resistance and flexibility than ITO is used instead of ITO as the first electrode, the first electrode can cope with deformation of the film substrate. For example, if a metal is used as the first electrode, it is not brittle like ITO but has a certain degree of flexibility and the like. A manufacturing method and a use method that make use of characteristics can be easily applied. By changing the first electrode from a brittle ITO to a conductive material such as a metal, the durability can be improved. Further, in the above configuration, when the first electrode is made of an opaque conductive material such as a metal, light does not pass through the portion where the organic EL layer and the first electrode overlap, and the organic EL layer and the first electrode do not pass through. In the part where does not overlap, the organic EL
If the sheet resistance of the charge transport layer of the layer is high, current does not always flow through the entire portion. However, organic EL
In a portion where the layer is exposed from the organic EL layer, light can be emitted without passing through a member having relatively low light transmittance such as ITO. From these facts, it is preferable that the shape of the first electrode is such that current flows through almost the entire organic EL layer in a state where it does not overlap with the second electrode contributing to light emission as much as possible.

【0030】そして、本発明においては、各有機EL層
が線状に近い帯状にすることができるので、例えば、第
1電極が有機EL層の長さ方向に沿った側縁部に重なっ
て、有機EL層の一端部から他端部に渡って形成されて
いれば、有機EL層と第1電極とが重なる面積を最小限
のものとして、有機EL層のほぼ全体に電流を流すこと
ができる。従って、このようにすれば、従来のように光
透過率が高くないITOからなる第1電極を透過させた
場合よりも、輝度の向上を図ることが可能である。な
お、第1電極は、有機EL層全体になるべく均等に電流
が流れるようにする上では、有機EL層の左右の両側縁
部と重なるように形成されていることが好ましい。ま
た、第1電極を共通電極とする場合には、櫛歯状やスト
ライプ状の開口部を有する形状とすることが好ましく、
このような構成とすれば、容易に有機EL層の側縁部に
だけ第1電極が重なった状態とすることができる。
In the present invention, since each of the organic EL layers can be formed in a band shape close to a linear shape, for example, the first electrode overlaps with the side edge along the length direction of the organic EL layer, If it is formed from one end to the other end of the organic EL layer, the area where the organic EL layer and the first electrode overlap can be minimized, and a current can flow through almost the entire organic EL layer. . Therefore, in this way, it is possible to improve the brightness as compared with the case where the first electrode made of ITO having a low light transmittance is transmitted as in the related art. The first electrode is preferably formed so as to overlap the left and right side edges of the organic EL layer in order to make the current flow as uniformly as possible throughout the organic EL layer. When the first electrode is a common electrode, it is preferable that the first electrode have a comb-like or stripe-like opening.
With such a configuration, the first electrode can be easily overlapped only on the side edge of the organic EL layer.

【0031】また、第1電極と有機EL層とが重なった
部分の形状は、上述のように有機EL層の側縁部に第1
電極を重ねるものとすれば、一本もしくは二本の線状
(細い帯状)とすることができる。しかし、第1電極と
有機EL層とが重なった部分の形状は、必ずしも上述の
ものに限定されるものではなく、例えば、有機EL層の
周囲全体に第1電極が重なるようにして額縁状とした
り、有機EL層の一方の側縁部から他方の側縁部に渡る
多数のほぼ線状の第1電極を配置して縞状としたり、上
述の線状と縞状とを合わせて梯子状や櫛歯状としたりし
てもよい、また、第1電極と有機EL層とが重なる部分
が必ずしも連続していなくとも良い。また、さらに細く
第1電極を形成できるものならば、帯状の有機EL層内
に、該有機EL層に沿って線状に第1電極を配置しても
良いし、網目状に配置しても良い。
The shape of the portion where the first electrode and the organic EL layer overlap each other is such that the first electrode overlaps the side edge of the organic EL layer as described above.
If the electrodes are overlapped, one or two lines (thin strips) can be formed. However, the shape of the portion where the first electrode and the organic EL layer overlap is not necessarily limited to the above-described one. For example, the shape of the frame is such that the first electrode overlaps the entire periphery of the organic EL layer. Or a plurality of substantially linear first electrodes extending from one side edge to the other side edge of the organic EL layer are arranged to form a stripe, or the above-mentioned line and stripe are combined to form a ladder. Alternatively, the portion where the first electrode and the organic EL layer overlap may not necessarily be continuous. Further, as long as the first electrode can be formed thinner, the first electrode may be linearly arranged along the organic EL layer in the strip-shaped organic EL layer, or may be arranged in a mesh shape. good.

【0032】また、有機EL層の少なくとも1つの電荷
輸送層は、シート抵抗が10Ω/□以下であることが好
ましく、電荷輸送層が面内で電荷を輸送できる程度にシ
ート抵抗が低いので、有機EL層を介し第1及び第2電
極を平面的に完全に重ねなくても有機EL層は、広い面
積で発光することができる。また、背面のリフレクタと
して作用する部分の表面もしくは透明基板の表面に、光
を拡散させる拡散面が形成されていても良く、このよう
にすれば、有機EL層の発光をより多く透明基板の正面
から出射させることができる。
It is preferable that at least one charge transport layer of the organic EL layer has a sheet resistance of 10 Ω / □ or less, and the sheet resistance is low enough for the charge transport layer to transport charges in a plane. The organic EL layer can emit light in a wide area without completely overlapping the first and second electrodes in a plane via the EL layer. Further, a diffusion surface for diffusing light may be formed on the surface of the portion acting as a reflector on the back surface or on the surface of the transparent substrate. In this case, the organic EL layer emits more light than the transparent substrate. From the surface.

【0033】また、第1電極は、その抵抗率が2×10
-4Ωcm以下であることが好ましい。このように抵抗率
の低い材料を適用することで第1電極を薄く成膜しても
第1電極のシート抵抗を低くすることができるので、ス
ループットを向上することができる。同様に第1電極を
幅狭にしてもシート抵抗を低くすることができることか
らファインピッチで発光することができるので、上述の
ようにバックライトの薄型化を図ることができる。
The first electrode has a resistivity of 2 × 10
It is preferably -4 Ωcm or less. By using a material having a low resistivity as described above, the sheet resistance of the first electrode can be reduced even when the first electrode is formed to be thin, so that the throughput can be improved. Similarly, since the sheet resistance can be reduced even when the width of the first electrode is reduced, light can be emitted at a fine pitch, so that the backlight can be made thinner as described above.

【0034】本発明の請求項5記載の有機EL装置は、
請求項1記載の液晶表示装置において、上記有機EL領
域が、透明基板上に形成され、内部に流れる電流に応じ
て発光する光が上記透明基板側に出射する有機EL層
と、上記有機EL層上に形成されたアノードと、上記有
機EL層上に上記アノードと離間して形成されたカソー
ドと、を備えることを特徴とする。
An organic EL device according to a fifth aspect of the present invention comprises:
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the organic EL region is formed on a transparent substrate, and light emitted in response to a current flowing therein is emitted to the transparent substrate side; An anode formed on the organic EL layer; and a cathode formed on the organic EL layer so as to be separated from the anode.

【0035】上記構成によれば、有機EL層から発した
光はアノードを介することなく出射することができるの
で、光の損失が少ないため低い消費電力で高輝度に発光
することができる。なお、ここでは、有機EL層を上下
から挟むようにアノードとカソードが配置されるのでは
なく、透明基板上に形成された有機EL層の透明基板と
反対側の面にアノードとカソードとが配置されており、
有機EL層においては、アノードからカソードに有機E
L層の面方向に沿って電流が流れることになる。
According to the above configuration, the light emitted from the organic EL layer can be emitted without passing through the anode, so that the light can be emitted with high power and low power consumption because of little loss of light. Here, the anode and the cathode are not arranged so as to sandwich the organic EL layer from above and below, but the anode and the cathode are arranged on the surface of the organic EL layer formed on the transparent substrate opposite to the transparent substrate. Has been
In the organic EL layer, the organic E
A current flows along the plane direction of the L layer.

【0036】なお、有機EL層は、少なくとも正孔輸送
層と電子輸送層とを備えるものであり、アノードは正孔
輸送層に接して設けられ、カソードは電子輸送層に接し
て設けられ、正孔輸送層から電子輸送層側に向けて正孔
が移動し、電子輸送層側から正孔輸送層側に向けて電子
が移動する必要がある。従って、有機EL層の片面側に
アノードとカソードとを設ける場合には、有機EL層の
片面のアノードが設けられる部分に正孔輸送層が露出
し、カソードが設けられる部分に電子輸送層が露出した
状態となっている必要がある。そして、正孔輸送層と電
子輸送層とは、接しているか、発光層を介して配置され
ている必要がある。
The organic EL layer includes at least a hole transport layer and an electron transport layer. The anode is provided in contact with the hole transport layer, and the cathode is provided in contact with the electron transport layer. It is necessary that holes move from the hole transport layer toward the electron transport layer, and that electrons move from the electron transport layer toward the hole transport layer. Therefore, when the anode and the cathode are provided on one side of the organic EL layer, the hole transport layer is exposed at the portion where the anode is provided on one side of the organic EL layer, and the electron transport layer is exposed at the portion where the cathode is provided. It must be in a state where it has been done. Then, the hole transport layer and the electron transport layer need to be in contact with each other or to be arranged via the light emitting layer.

【0037】例えば、幅の広い正孔輸送層もしくは電子
輸送層上に幅の狭い電子輸送層もしくは正孔輸送層を設
けること、すなわち、幅の広い電荷輸送層の上に幅の狭
い電荷輸送層を設けることにより、有機EL層の片面側
に幅の広い電荷輸送層のうちの幅の狭い電荷輸送層に重
ならない部分が露出することで、有機EL層の片面側に
電子輸送層と正孔輸送層とが両方とも露出した状態とす
ることができる。
For example, providing a narrow electron transport layer or a hole transport layer on a wide hole transport layer or an electron transport layer, that is, a narrow charge transport layer on a wide charge transport layer Is provided, a portion of the wide charge transport layer that does not overlap with the narrow charge transport layer is exposed on one side of the organic EL layer, so that the electron transport layer and the holes are formed on one side of the organic EL layer. Both the transport layer and the transport layer can be exposed.

【0038】また、このような構成とした場合には、上
述の幅の広い電荷輸送層においては、幅の狭い電荷輸送
層と重ならない部分に例えば第一電極が形成され、幅の
狭い電荷輸送層上にたとえば第二電極が設けられること
になり、幅の広い電荷輸送層においては、第一電極と重
なる部分と幅の狭い電荷輸送層と重なる部分との間で面
方向に電流が流れることになる。従って、幅の広い電荷
輸送層、すなわち、有機EL層に含まれる複数の有機電
荷輸送層の少なくとも一つの電荷輸送層においては、シ
ート抵抗が低いことが好ましく、例えば、シート抵抗が
108Ω/□以下であることが好ましい。また、アノー
ドとカソードとは、製造工程を簡略化する上で、同一の
材料からなることが好ましい。また、この際に、アノー
ドとカソードとは、背面電極として光の反射率が高いも
のであることが好ましい。
In such a configuration, for example, the first electrode is formed in a portion of the above-described wide charge transport layer that does not overlap with the narrow charge transport layer, and the narrow charge transport layer is formed. For example, a second electrode is provided on the layer, and in a wide charge transport layer, a current flows in a plane direction between a portion overlapping the first electrode and a portion overlapping the narrow charge transport layer. become. Therefore, in a wide charge transport layer, that is, at least one of the plurality of organic charge transport layers included in the organic EL layer, the sheet resistance is preferably low, for example, the sheet resistance is 10 8 Ω /. □ It is preferably not more than. The anode and the cathode are preferably made of the same material in order to simplify the manufacturing process. At this time, it is preferable that the anode and the cathode have a high light reflectance as a back electrode.

【0039】請求項6記載の有機EL装置は、請求項1
記載の液晶表示装置において、上記有機EL領域が、透
明基板上に形成されたアノードと、上記アノード上に形
成され、面方向への電荷輸送自在で、かつ、有機EL層
の一部である第1電荷輸送層と、上記第1電荷輸送層に
形成されるとともに有機EL層の一部である第2電荷輸
送層と、平面的に上記アノードと重ならないように上記
第2電荷輸送層上に形成されたカソードと、を備えるこ
とを特徴とする。
The organic EL device according to the sixth aspect is the first aspect of the invention.
In the liquid crystal display device described above, the organic EL region is formed on an anode formed on a transparent substrate, and the organic EL region is formed on the anode, is capable of transporting charges in a plane direction, and is part of an organic EL layer. (1) a charge transport layer, a second charge transport layer formed on the first charge transport layer and being a part of the organic EL layer, and on the second charge transport layer so as not to overlap the anode in a plane. And a formed cathode.

【0040】上記有機EL装置は、第1電荷輸送層面方
向への電荷輸送が自在なのでアノードとカソードとを平
面的に重ねなくても第2電荷輸送層全体に電荷を輸送す
ることができるため、広範囲に発光することができる。
すなわち、請求項5記載の構成では、アノードとカソー
ドを有機EL層の片面側に設けるものとしたが、この構
成において、有機EL層の透明基板の反対側に設けられ
ていたアノードを透明基板側の面に設けるものとして
も、請求項5記載の構成とほぼ同様の効果が得られる。
The above-mentioned organic EL device is capable of transporting charge to the entire second charge transport layer without having to overlap the anode and the cathode in a plane because the charge transport in the direction of the first charge transport layer is free. Light can be emitted in a wide range.
That is, in the configuration according to claim 5, the anode and the cathode are provided on one side of the organic EL layer. In this configuration, the anode provided on the opposite side of the organic EL layer from the transparent substrate is connected to the transparent substrate side. The same effect as that of the structure described in claim 5 can be obtained even if it is provided on the surface.

【0041】すなわち、第1電荷輸送層において面方向
に電流が流れる構成とする場合に、アノードが有機EL
層のどちらの側面に形成されていても良い。また、アノ
ードは、有機EL層の発光が射出される透明基板側に設
けられることになる。しかし、上記構成においては、例
えば、第一電荷輸送層の幅が第二電荷輸送層の幅より広
くされ、第二電荷輸送層上にカソードが形成され、第一
電荷輸送層のカソードと上下に重ならない位置、すなわ
ち、第一電荷輸送層のカソードが形成された第二電荷輸
送層と上下にほぼ重ならない位置にアノードが形成され
ることなる。そして、有機EL層の発光する部分は、基
本的に、正孔輸送層と電子輸送層と(第一電荷輸送層と
第二電荷輸送層と)が上下に重なって配置される部分で
ある。そして、この部分と上下にほぼ重ならないように
アノードが配置されるので、アノードが有機EL層の透
明基板側にあっても、請求項1〜4の構成と同様にアノ
ードの影響をあまり受けずに有機EL層の透明基板側か
ら光を出射することができる。従って、アノードは、上
述の各請求項の構成の場合と同様に透明電極である必要
はなく、低抵抗の金属電極等を用いることができる。な
お、第一電荷輸送層は、請求項5記載の構成の場合と同
様にシート抵抗が低いことが好ましい。
That is, when the first charge transport layer has a structure in which a current flows in the plane direction, the anode is an organic EL.
It may be formed on either side of the layer. Further, the anode is provided on the transparent substrate side of the organic EL layer from which light is emitted. However, in the above configuration, for example, the width of the first charge transport layer is wider than the width of the second charge transport layer, a cathode is formed on the second charge transport layer, The anode is formed at a position that does not overlap, that is, a position that does not substantially vertically overlap the second charge transport layer on which the cathode of the first charge transport layer is formed. The light emitting portion of the organic EL layer is basically a portion where the hole transport layer, the electron transport layer, and the (first charge transport layer and the second charge transport layer) are vertically arranged. Further, since the anode is arranged so as not to substantially overlap with this portion, even if the anode is on the transparent substrate side of the organic EL layer, the anode is not much affected by the anode in the same manner as in the first to fourth aspects. Then, light can be emitted from the transparent substrate side of the organic EL layer. Therefore, the anode does not need to be a transparent electrode as in the case of the above-mentioned respective claims, and a low-resistance metal electrode or the like can be used. It is preferable that the sheet resistance of the first charge transporting layer is low as in the case of the fifth aspect.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態の第
一例の液晶表示装置(LCDと略す場合がある)を図面
を参照して説明する。図1は、液晶表示パネルとバック
ライトとからなるLCDの要部の断面を示すものであ
る。図1に示すように、第一例のLCDは、バックライ
ト100及び液晶表示パネル200より構成される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a liquid crystal display device (sometimes abbreviated as LCD) according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a cross section of a main part of an LCD comprising a liquid crystal display panel and a backlight. As shown in FIG. 1, the LCD of the first example includes a backlight 100 and a liquid crystal display panel 200.

【0043】上記、液晶表示パネル200は、周知のT
FT方式により高速駆動されるフィールドシーケンシャ
ル方式用の液晶表示パネルである。該液晶表示パネルに
おいては、偏光板201を外面側に備えた二枚の透明基
板202、202(例えば、ガラス基板もしくは透明フ
ィルム基板)の間に液晶層206が挟まれている。下側
の透明基板202上には、画素電極204及び、薄膜ト
ランジスタ(TFT)203が形成されている。これは
TFT方式における周知の構成と同様であり、透明基板
202上には、マトリクス状にデータ線210及び走査
線が配置されており、データ線210と走査線の交点
に、TFT203及び画素電極204が配置されてい
る。これらの上方に、配向膜205が形成されており、
その上方は高速応答可能な液晶材料よりなる液晶層20
6が封入されている。液晶層206は、上下の配向膜2
05間に封入されている。また、液晶層206内には、
スペーサ208が配置されており、端部にはシール20
9が形成されている。スペーサ208、シール209、
配向膜205により、液晶層206を封入する空間が構
成されている。そして、この液晶表示パネル200に
は、カラーフィルターが設けられていない構成とされて
いる。
The liquid crystal display panel 200 is a well-known T
This is a liquid crystal display panel for a field sequential system driven at high speed by the FT system. In the liquid crystal display panel, a liquid crystal layer 206 is sandwiched between two transparent substrates 202 and 202 (for example, a glass substrate or a transparent film substrate) each having a polarizing plate 201 on an outer surface side. On the lower transparent substrate 202, a pixel electrode 204 and a thin film transistor (TFT) 203 are formed. This is the same as the well-known configuration in the TFT system. Data lines 210 and scanning lines are arranged in a matrix on a transparent substrate 202, and a TFT 203 and a pixel electrode 204 are arranged at the intersection of the data lines 210 and the scanning lines. Is arranged. Above these, an alignment film 205 is formed,
Above it is a liquid crystal layer 20 made of a liquid crystal material capable of high-speed response.
6 is enclosed. The liquid crystal layer 206 includes the upper and lower alignment films 2.
It is enclosed between 05. In the liquid crystal layer 206,
A spacer 208 is disposed, and a seal 20 is provided at an end.
9 are formed. Spacer 208, seal 209,
A space for enclosing the liquid crystal layer 206 is formed by the alignment film 205. The liquid crystal display panel 200 has no color filter.

【0044】そして、上記液晶表示パネル200におい
ては、フィールドシーケンシャル方式によりフルカラー
の画像を表示するので、高速応答可能なものが要求され
るが、この例においては、周知の強誘電性液晶や反強誘
電液晶を用いた高速応答可能な液晶表示パネル200を
用いるものとする。また、OCB液晶を用いるものとし
ても良い。
In the liquid crystal display panel 200, a full-color image is displayed by a field sequential method, and therefore, a liquid crystal display panel capable of high-speed response is required. In this example, a well-known ferroelectric liquid crystal or anti-ferroelectric liquid crystal is used. It is assumed that a liquid crystal display panel 200 capable of high-speed response using a dielectric liquid crystal is used. Further, an OCB liquid crystal may be used.

【0045】次に、図1、図2及び図3を参照して、本
発明の実施の形態の第一例のLCDのバックライト10
0の構成を説明する。なお、図2においては、有機EL
層(103r、103g、103b)、導電性ペースト
を硬化した導電層110、110r、110g、110
bを、例えば、斜め格子状の図柄として透けた状態に図
示し、カソード104を透けた状態に図示し、図3にお
いては、有機EL層(103r、103g、103
b)、隔壁レジスト108を、例えば、斜め格子状や横
格子状の図柄として透けた状態に図示するとともに、カ
ソード104及び導電性層110、110r、110
g、110bの図示を省略している。そして、図2及び
図3は、同じ第一例のバックライト100を図示したも
のである。
Next, referring to FIG. 1, FIG. 2 and FIG. 3, a backlight 10 of an LCD according to a first embodiment of the present invention
0 will be described. In FIG. 2, the organic EL
Layers (103r, 103g, 103b) and conductive layers 110, 110r, 110g, 110 obtained by curing the conductive paste.
b is shown, for example, in a transparent state as an oblique lattice pattern, and is shown in a transparent state through the cathode 104. In FIG. 3, the organic EL layers (103r, 103g, 103) are shown.
b), the partition resist 108 is shown in a transparent state as, for example, an oblique lattice pattern or a horizontal lattice pattern, and the cathode 104 and the conductive layers 110, 110r, 110
g and 110b are omitted. 2 and 3 illustrate the same first example backlight 100. FIG.

【0046】図1、図2及び図3に示すように、第一例
のLCDのバックライト100は、透明基板101(例
えば、ガラス基板もしくは透明フィルム基板)上に、ス
トライプ状(帯状で互いにほぼ平行)にITO(透明電
極)からなるアノード102及びアノード102と電気
的に離間してかつアノード102と同じ材料でなるカソ
ード端子111が形成され、透明基板101上及びアノ
ード102上に、アノード102の中央が開口されてい
る開口部108aを備えた絶縁材料からなる隔壁レジス
ト108が形成されている。このアノード102に沿っ
た開口部108aにより露出されたアノード102上に
ストライプ状の有機EL層(103r、103g、10
3b)が形成され、それらの上に、隔壁レジスト108
上、並びに周縁の透明基板101上に渡って、周知の低
仕事関数の材料からなる背面電極であるカソード104
が、それぞれの段差に応じて堆積されている。そして、
一つのアノード102と該アノード102に重なる一つ
の有機EL層(103r、103g、103b)と、カ
ソード104のうちの一つの上記有機EL層(103
r、103g、103b)と重なる部分とから一つの有
機EL素子として機能する一つの有機EL領域(109
r、109g、109b)が形成されている。これによ
り、図2に示されるバックライト100には、ストライ
プ状に有機EL領域(109r、109g、109b)
が形成されている。なお、図2及び図3は、第一例のバ
ックライト100の概略を図示したものであり、実際に
は、発光色がそれぞれ赤、緑、青にされた三本の有機E
L領域(109r、109g、109b)が互いに平行
に帯状に形成されるとともに、これら三本を一組とする
有機EL領域(109r、109g、109b)が互い
に平行に多数配置されている。
As shown in FIGS. 1, 2 and 3, the backlight 100 of the LCD of the first example is formed on a transparent substrate 101 (for example, a glass substrate or a transparent film substrate) in a stripe shape (strip shape). An anode 102 made of ITO (transparent electrode) and a cathode terminal 111 electrically separated from the anode 102 and made of the same material as the anode 102 are formed on the transparent substrate 101 and the anode 102. A partition resist 108 made of an insulating material and having an opening 108a whose center is opened is formed. Striped organic EL layers (103r, 103g, 103g) are formed on the anode 102 exposed through the opening 108a along the anode 102.
3b) are formed, and a barrier resist 108 is formed thereon.
A cathode 104 serving as a back electrode made of a material having a well-known low work function is provided on the upper and peripheral transparent substrates 101.
Are deposited according to each step. And
One anode 102, one organic EL layer (103r, 103g, 103b) overlapping the anode 102, and one of the organic EL layers (103
r, 103g, 103b) to form one organic EL region (109
r, 109g, 109b) are formed. As a result, the backlight 100 shown in FIG. 2 has stripe-like organic EL regions (109r, 109g, 109b).
Are formed. FIGS. 2 and 3 schematically show the backlight 100 of the first example. Actually, three organic Es whose emission colors are red, green, and blue, respectively, are shown.
L regions (109r, 109g, 109b) are formed in a belt shape in parallel with each other, and a large number of organic EL regions (109r, 109g, 109b) each of which is a set of these three are arranged in parallel with each other.

【0047】各アノード102は、各発光色の有機EL
領域(109r、109g、109b)毎に長さが異な
るようにされており、各アノード102のカソード端子
111側の他方の端部はその位置が揃えられ、一方の端
部は各発光色毎に異なる位置とされ(同じ発光色のもの
は揃えられ)ている。例えば、発光色が赤の有機EL領
域109rのアノード102は、一方の端部が短く、発
光色が青の有機EL領域109bのアノード102は、
一方の端部が長く、発光色が緑の有機EL領域109g
のアノード102は、上述の二つのアノード102の間
の長さとされている。すなわち、発光色毎にアノード1
02の一方の端部の位置が変えられるとともに、同じ発
光色のアノード102の一方の端子の位置は、アノード
102の長さ方向にほぼ直交する直線上にほぼ配置され
るようになっている。そして、全てのアノード102の
側方の透明基板101上には、有機EL領域(109
r、109g、109b)の発光色の種類の数(ここで
は3つ)に対応する数のアノード端子102r、102
g、102bがITOから形成されている。
Each anode 102 is an organic EL of each emission color.
The length is different for each region (109r, 109g, 109b), the other end of each anode 102 on the cathode terminal 111 side is aligned, and one end is provided for each emission color. They are located at different positions (those having the same emission color are aligned). For example, the anode 102 of the organic EL region 109r emitting red light has one short end, and the anode 102 of the organic EL region 109b emitting blue light has
Organic EL region 109g with one end long and emitting green light
The anode 102 has a length between the two anodes 102 described above. That is, the anode 1 for each emission color
The position of one end of the anode 102 is changed, and the position of one terminal of the anode 102 of the same emission color is arranged substantially on a straight line substantially orthogonal to the length direction of the anode 102. Then, on the transparent substrate 101 on the side of all the anodes 102, the organic EL regions (109
r, 109g, and 109b) of the anode terminals 102r and 102 corresponding to the number of light emission color types (here, three).
g, 102b are formed from ITO.

【0048】上記アノード端子102r、102g、1
02bは、アノード102及びカソード端子111を形
成する際に同時に形成されるとともに、その位置が、各
発光色毎のアノード102の一方の端部の位置に対応し
ており、同じ発光色に対応するアノード端子102r、
102g、102bと、アノード102の一方の端部が
アノード102の長さ方向にほぼ直交する線上に並んだ
状態となっている。また、隔壁レジスト108には、後
述するように、上記各アノード102の一方の端部に対
応する位置に、該端部が露出するように開口部112a
が形成されている。
The anode terminals 102r, 102g, 1
02b is formed simultaneously when the anode 102 and the cathode terminal 111 are formed, and the position thereof corresponds to the position of one end of the anode 102 for each emission color, and corresponds to the same emission color. Anode terminal 102r,
102g, 102b and one end of the anode 102 are arranged on a line substantially orthogonal to the length direction of the anode 102. As will be described later, the partition wall resist 108 has openings 112 a at positions corresponding to one end of each of the anodes 102 so that the ends are exposed.
Are formed.

【0049】そして、図2に示すように、各導電性層1
10r、110g、110bが同じ発光色に対応するア
ノード端子102r、102g、102bと接続される
とともに、開口部112aを介して同じ発光色に対応す
るアノード102の一方の端部に接続されるようになっ
ている。すなわち、発光色が赤となる有機EL領域10
9rの全てのアノード102と、発光色が赤用のアノー
ド端子102rとが導電性層110rにより短絡させら
れ、発光色が緑となる有機EL領域109gの全てのア
ノード102と、発光色が緑用のアノード端子102g
とが導電性層110gにより短絡させられ、発光色が青
となる有機EL領域109bの全てのアノード102
と、発光色が青用のアノード端子102bとが導電性層
110bにより短絡させられている。また、各導電性層
110r、110g、110bは、互いに接触しないよ
うにほぼ平行に配置されている。従って、各アノード端
子102r、102g、102b毎に、駆動制御するこ
とができるので、RGB各発光色の有機EL領域(10
9r、109g、109b)毎にオンオフしたり、また
各発光色の有機EL領域(109r、109g、109
b)毎に輝度を変えることが可能となっている。
Then, as shown in FIG. 2, each conductive layer 1
10r, 110g, and 110b are connected to the anode terminals 102r, 102g, and 102b corresponding to the same luminescent color, and connected to one end of the anode 102 corresponding to the same luminescent color through the opening 112a. Has become. That is, the organic EL region 10 in which the emission color is red
All the anodes 102r of 9r and the anode terminal 102r for emission color of red are short-circuited by the conductive layer 110r, and all the anodes 102 of the organic EL region 109g in which emission color is green, and the emission color of green. Anode terminal 102g
Are short-circuited by the conductive layer 110g, and all the anodes 102 in the organic EL region 109b emitting blue light are emitted.
And the anode terminal 102b for emitting blue light are short-circuited by the conductive layer 110b. The conductive layers 110r, 110g, 110b are arranged substantially in parallel so as not to contact each other. Therefore, since the drive control can be performed for each of the anode terminals 102r, 102g, and 102b, the organic EL regions (10
9r, 109g, and 109b), and the organic EL regions (109r, 109g, and 109r) of each emission color.
The brightness can be changed for each b).

【0050】そして、上記隔壁レジスト108は、ここ
では、ITOからなるアノード102及びカソード端子
111が形成された透明基板101上に形成されるもの
であり、全ての有機EL層(103r、103g、10
3b)が配置される部分より広い範囲に渡って形成され
ている。そして、隔壁レジスト108には、各有機EL
層(103r、103g、103b)が形成される部分
に開口部108aが複数、ストライプ状に形成されると
ともに、各アノード102の一方の端部に対応する位置
に開口部112aが形成されている。また、隔壁レジス
ト108は、例えば、周知の感光性樹脂からなり、フォ
トリソグラフィーによりパターニングされたものであ
る。そして、図1に示す隔壁レジスト108は、その厚
みL1が例えば、0.015mm(好ましくは、0.0
05mm以上)とされている。
The partition resist 108 is formed on the transparent substrate 101 on which the anode 102 and the cathode terminal 111 made of ITO are formed, and all the organic EL layers (103r, 103g,
3b) is formed over a wider range than the portion where 3b) is arranged. Each of the organic ELs is provided on the partition resist 108.
A plurality of openings 108a are formed in stripes at portions where the layers (103r, 103g, 103b) are formed, and openings 112a are formed at positions corresponding to one end of each anode 102. The partition resist 108 is made of, for example, a known photosensitive resin, and is patterned by photolithography. The partition resist 108 shown in FIG. 1 has a thickness L1 of, for example, 0.015 mm (preferably 0.05 mm).
05 mm or more).

【0051】また、上記カソード104は、隔壁レジス
ト108とその開口部108a内に形成された各有機E
L層(103r、103g、103b)上に面状に形成
されるているが、各有機EL層(103r、103g、
103b)の厚さとカソード104の厚さとの和はいず
れも隔壁レジスト108の厚さより薄いため、上記隔壁
レジスト108の開口部108aの段差により、各開口
部108a毎に分離されて互いに絶縁された状態となっ
ている。しかし、第一例では、アノード102を各有機
EL領域109毎の独立電極とし、カソード104を各
有機EL領域109の全部に渡る共通電極としているの
で、隔壁レジスト108の開口部108aの段差より厚
い導電性層110により各開口部108a内のカソード
104が互いに接続されて、実質的に同電位になってい
る。そして、透明基板101上の有機EL層(103
r、103g、103b)の他方の端部側で、かつ、該
有機EL層(103r、103g、103b)及びアノ
ード102から離間した位置にカソード端子111が形
成され、上記導電性層110と接続されている。カソー
ド端子111は外部回路と接続され、所定の電圧が供給
されている。なお、導電性層110は、周知の銀等の導
電性ペーストをコーティングして形成されたものであ
る。
The cathode 104 is formed of a partition resist 108 and each organic E formed in the opening 108a.
Each of the organic EL layers (103r, 103g, 103g, 103r, 103g, 103b) is formed in a planar shape on the L layer (103r, 103g, 103b).
Since the sum of the thickness 103b) and the thickness of the cathode 104 is smaller than the thickness of the partition resist 108, the openings 108a of the partition resist 108 are separated from each other by the steps 108a and are insulated from each other. It has become. However, in the first example, since the anode 102 is an independent electrode for each organic EL region 109 and the cathode 104 is a common electrode over the entire organic EL region 109, the anode 102 is thicker than the step of the opening 108a of the partition resist 108. The cathodes 104 in the respective openings 108a are connected to each other by the conductive layer 110, and have substantially the same potential. Then, the organic EL layer (103) on the transparent substrate 101
r, 103g, 103b) and a cathode terminal 111 formed at a position separated from the organic EL layers (103r, 103g, 103b) and the anode 102 and connected to the conductive layer 110. ing. The cathode terminal 111 is connected to an external circuit, and is supplied with a predetermined voltage. The conductive layer 110 is formed by coating a known conductive paste such as silver.

【0052】また、第一例においては、有機EL層(1
03r、103g、103b)の導電性層110と重な
る他方の端部の下にアノード102が形成されていない
状態となっている。これは、導電性層110をコーティ
ングする際に、その圧力により、有機EL層(103
r、103g、103b)を挟んで対向配置されるアノ
ード102とカソード104とが短絡する可能性が僅か
でもあるのを考慮したものであり、歩留まりの向上を図
るために、導電性層110が形成される部分に、アノー
ド102を設けないものとしたものである。
In the first example, the organic EL layer (1
The anode 102 is not formed under the other end overlapping the conductive layer 110 of the layers 03r, 103g, and 103b). This is because when the conductive layer 110 is coated, the pressure of the organic EL layer (103
r, 103g, and 103b) in consideration of the possibility that the anode 102 and the cathode 104, which are disposed to face each other with the interposition therebetween, are short-circuited, and the conductive layer 110 is formed in order to improve the yield. The anode 102 is not provided in the portion to be formed.

【0053】また、第一例のLCDのバックライト10
0においては、有機EL層(103r、103g、10
3b)を形成するに当たって、蒸着によりパターニング
した状態で有機EL層(103r、103g、103
b)を形成するのではなく、湿式塗布により有機EL層
(103r、103g、103b)を形成するものとし
ている。そして、有機EL層(103r、103g、1
03b)中の発光層に使用される発光材料としては、低
分子系と高分子系とがあり、湿式塗布により有機EL層
(103r、103g、103b)を形成する上では、
例えば、発光層の材料として高分子系材料が用いられる
ことになる。
The backlight 10 of the LCD of the first example is
0, the organic EL layers (103r, 103g,
In forming 3b), the organic EL layers (103r, 103g, 103
Instead of forming b), the organic EL layers (103r, 103g, 103b) are formed by wet coating. Then, the organic EL layers (103r, 103g, 1
Light-emitting materials used for the light-emitting layer in 03b) include a low-molecular material and a high-molecular material. In forming the organic EL layers (103r, 103g, and 103b) by wet coating,
For example, a polymer material is used as the material of the light emitting layer.

【0054】また、第一例において、有機EL層(10
3r、103g、103b)は、高分子導電物からなる
正孔輸送層と、電子輸送層とを有するものとなってい
る。電圧の印加に応じ正孔を輸送する正孔輸送領域であ
る正孔輸送層は、いずれも、例えば、poly(3,4)etylene
dioxythiophene(以下、PEDT)及びpolystyrenesul
phonate(以下、PSS)からなる。また、電子輸送層
は、再結合に伴い発光する領域であり、発光色に応じて
置換基が異なるpolyfluoreneまたはpolyfluoreneの誘導
体を有する。
In the first example, the organic EL layer (10
3r, 103g, and 103b) have a hole transport layer made of a polymer conductive material and an electron transport layer. The hole transport layer, which is a hole transport region that transports holes according to the application of a voltage, is, for example, poly (3,4) etylene
dioxythiophene (hereinafter, PEDT) and polystyrenesul
It consists of phonate (PSS). The electron transporting layer is a region that emits light upon recombination and has polyfluorene or a derivative of polyfluorene having different substituents depending on the emission color.

【0055】また、上述の液晶材料以外に、例えば、上
記高分子系材料としては、ポリビニルカルバゾール、ポ
リパラフェニレン、ポリアリーレンビニレン、ポリチオ
フェン、ポリフルオレン、ポリシラン、ポリアセチレ
ン、ポリアニリン、ポリピリジン、ポリピリジンビニレ
ン、ポリピロールなどが挙げられる。また、高分子材料
としては、上記高分子材料(ポリマー)を形成している
モノマーまたはオリゴマーの重合体や共重合体、或いは
モノマーまたはオリゴマーの誘導物の重合体及び共重合
体と、オキサゾール(オキサンジアゾール、トリアゾー
ル、ジアゾール)又はトリフェニルアミン骨格を有する
モノマーを重合した重合体及び共重合体を挙げることが
できる。また、これらポリマーのモノマーとしては、
熱、圧、UV、電子線などを与える事で上述の化合物を
形成し得るモノマー及びプレカーサポリマーを含むもの
である。また、これらモノマー間を結合する非共役系ユ
ニットを導入しても構わない。
In addition to the liquid crystal materials described above, for example, the above-mentioned polymer materials include polyvinyl carbazole, polyparaphenylene, polyarylene vinylene, polythiophene, polyfluorene, polysilane, polyacetylene, polyaniline, polypyridine, polypyridine vinylene, And polypyrrole. Examples of the polymer material include polymers and copolymers of monomers or oligomers forming the above-mentioned polymer materials (polymers), polymers and copolymers of derivatives of monomers or oligomers, and oxazole (ox Examples thereof include polymers and copolymers obtained by polymerizing a monomer having a triphenylamine skeleton (sanddiazole, triazole, diazole). In addition, as monomers of these polymers,
It includes a monomer and a precursor polymer which can form the above-mentioned compound by giving heat, pressure, UV, electron beam and the like. Further, a non-conjugated unit that bonds between these monomers may be introduced.

【0056】高分子材料の具体的な商品としては、ポリ
ビニルカルバゾール:東京化成、ポリトデシルチオフェ
ン:Rieke社、ポリエチレンジオキシチオフェン、PS
S(ポリスチレンスルフォン酸)分散体変性物 cpp1
05:長瀬産業、ポリ9,9−ジアルキルフルオレン、
ポリ(チエニレン−9,9−ジアルキルフルオレン)、
ポリ(2,5−ジアルキルパラフェニレン−チエニレ
ン)、(ジアルキル:R=C1〜C20):DOWケミカル
社、PPV;ポリパラフェニレンビニレン、MEH−P
PV;ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチル−ヘキ
シロキシ)−パラフェニレンビニレン)、MMP−PP
V;ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチル−ペンチ
ロキシ)−パラフェニレンビニレン)、PDMPV ポ
リ(2,5−ジメチル−パラフェニレンビニレン)、P
TV;ポリ(2,5−チエニレンビニレン)、PDMO
PV;ポリ(2,5−ジメトキシパラフェニレンビニレ
ン)、CN−PPV;ポリ(1,4−パラフェニレンシ
アノビニレン):CDT社などが挙げられる。
Specific products of polymer materials include polyvinyl carbazole: Tokyo Kasei, polytodecylthiophene: Rieke, polyethylene dioxythiophene, PS
Modified S (polystyrene sulfonic acid) dispersion cpp1
05: Nagase Sangyo, poly 9,9-dialkylfluorene,
Poly (thienylene-9,9-dialkylfluorene),
Poly (2,5-dialkylparaphenylene-thienylene), (dialkyl: R = C1 to C20): DOW Chemical Co., PPV; polyparaphenylenevinylene, MEH-P
PV; poly (2-methoxy-5- (2′-ethyl-hexyloxy) -paraphenylene vinylene), MMP-PP
V; poly (2-methoxy-5- (2′-ethyl-pentyloxy) -paraphenylenevinylene), PDMPV poly (2,5-dimethyl-paraphenylenevinylene), P
TV; poly (2,5-thienylenevinylene), PDMO
PV; poly (2,5-dimethoxyparaphenylenevinylene), CN-PPV; poly (1,4-paraphenylenecyanovinylene): CDT, and the like.

【0057】また、湿式塗布可能な発光層の材料は、高
分子系材料に限られるものではなく、低分子材料をポリ
マー分散して用いるものとしても良い。また、低分子材
料の性質によっては、低分子材料を溶媒に溶かした状態
で湿式塗布して使用するものとしても良い。そして、低
分子材料をポリマー分散する際のポリマーとしては、周
知の汎用ポリマーを含む各種ポリマーを状況に応じて使
用することができる。そして、低分子の発光材料(発光
物質またはドーパント)としては、アントラセン、ナフ
タレン、フェナントレン、ピレン、テトラセン、コロネ
ン、クリセン、フルオレセイン、ペリレン、フタロペリ
レン、ナフタロペリレン、ペリノン、フタロペリノン、
ナフタロペリノン、ジフェニルブタジエン、テトラフェ
ニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、アルダ
ジン、ビスベンゾキゾリン、ビススチリル、ピラジン、
オキシン、アミノキノリン、イミン、ジフェニルエチレ
ン、ビニルアントラセン、ジアミノカルバゾール、ピラ
ン、チオピラン、ポリメチン、メロシアニン、イミダゾ
ールキレート化オキシノイド化合物等、4−ジシアノメ
チレン−4H−ピラン及び4−ジシアノメチレン−4H
−チオピラン、ジケトン、クロリン系化合物やこれらの
誘導体が挙げられる。
The material of the light-emitting layer that can be wet-coated is not limited to a polymer material, but may be a material in which a low molecular material is dispersed in a polymer. Further, depending on the properties of the low molecular weight material, the low molecular weight material may be used by being wet-coated while dissolved in a solvent. Various polymers including known general-purpose polymers can be used as the polymer for dispersing the low-molecular material according to the situation. As low-molecular light-emitting materials (light-emitting substances or dopants), anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, tetracene, coronene, chrysene, fluorescein, perylene, phthaloperylene, naphthaloperylene, perinone, phthaloperinone,
Naphthaloperinone, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, coumarin, oxadiazole, aldazine, bisbenzoxioline, bisstyryl, pyrazine,
Oxine, aminoquinoline, imine, diphenylethylene, vinylanthracene, diaminocarbazole, pyran, thiopyran, polymethine, merocyanine, imidazole chelated oxinoid compounds, 4-dicyanomethylene-4H-pyran and 4-dicyanomethylene-4H
-Thiopyran, diketone, chlorin compounds and derivatives thereof.

【0058】そして、低分子の発光材料となる具体的商
品としては、Alq3、キナクリドン:同仁化学研究
所、Almq3(Alキノリノール錯体の誘導体):ケ
ミプロ化成クマリン6、DCM:アクロス社、ルモゲン
F:山本通商などが挙げられる。なお、発光材料は、上
述のものに限定されるものではなく、塗布により有機E
L層(103r、103g、103b)を形成すること
が可能な材料ならば良い。
Specific products that can be used as low molecular light emitting materials include Alq3, quinacridone: Dojindo Laboratories, Almq3 (derivative of Al quinolinol complex): Chemipro Kasei Coumarin 6, DCM: ACROS, Lumogen F: Yamamoto Commerce and the like. Note that the light emitting material is not limited to the above, and the organic E
Any material can be used as long as it can form the L layer (103r, 103g, 103b).

【0059】そして、有機EL層(103r、103
g、103b)の形成においては、透明基板101上に
上述のように開口部108aを有する隔壁レジスト10
8を形成することにより、上記開口部108aの部分が
透明基板101上面(実際にはアノード102上面)を
底部とする溝状となる。この部分に、例えば、汎用の高
精度ディスペンサにより液状の有機EL層(103r、
103g、103b)の材料を注入するようになってい
る。すなわち、ディスペンサのニードル(針)の先端を
各開口部108aの位置に配置して開口部108a内に
液状の材料を注入する。注入時の有機EL層(103
r、103g、103b)の材料の状態は、それ自体が
溶融していても、溶剤に溶解した状態でも、溶媒内で均
一に分散された状態であってもよい。そして、このとき
に既に重合されていても、重合が開始されていても、重
合がまだ開始されていない状態でもよい。注入された有
機EL層(103r、103g、103b)の材料は、
後に硬化して有機EL層(103r、103g、103
b)となるが、その際にその厚さが硬化前に比べ薄くな
る傾向がある。隔壁レジスト108は、十分に有機EL
層(103r、103g、103b)が発光できる程度
の厚さになるように開口部108a内に液状の有機EL
層(103r、103g、103b)の材料が注入され
ても開口部108aの上からこぼれない程度の厚さに設
定して成膜されている。また、各有機EL層(103
r、103g、103b)が複数の電荷輸送層で構成さ
れている場合、例えば、全開口部108aに最初に正孔
輸送層となる同じポリマー系材料を注入する。ディスペ
ンサのニードルから注入されたポリマー系材料は、毛細
管現象により隔壁レジスト108の開口部108aに沿
って進み均一な厚さに堆積される。通常インクジェット
法で有機EL材料を吐出してマトリクス状に複数の発光
画素を形成した場合、有機EL材料がそれほど拡がらな
いため、有機ELの発光最小ピッチは、吐出した有機E
L材料の量が小さいほど短くなり、最小吐出量が多いと
発光最小ピッチが長くなり、高精細なピッチの発光領域
が形成できないが、このように、ニードルから注入され
るポリマー系材料を開口部108aに囲まれた細長いス
リット内に吐出すると、開口部108aに沿って延びる
ので吐出量に対し最小発光ピッチをより短くし、均一な
厚さにできるとともに、そのピッチを容易に一定にする
ことができる。次いで、正孔輸送層が硬化した後に、同
様に赤に発光する有機EL層103rが形成される開口
部108aと、緑に発光する有機EL層103gが形成
される開口部108aと、青に発光する有機EL層10
3bが形成される開口部108aとに、それぞれ、発光
色に対応する異なる発光層のポリマー系材料(湿式塗布
可能ならば低分子材料でも可)を注入し、各開口部10
8a内にそれぞれ均一な厚さに堆積される。そして、再
び、発光層が硬化した後に、全開口部108aに電子輸
送層となるポリマー系材料を注入して硬化させ、有機E
L層(103r、103g、103b)を形成するよう
になっている。なお、有機EL層(103r、103
g、103b)が二層からなる場合には、例えば、正孔
輸送層を形成した後に、発光層を形成せずに、発光色毎
に異なる電子輸送層を形成する。
Then, the organic EL layers (103r, 103r)
g, 103b), the partition resist 10 having the opening 108a on the transparent substrate 101 as described above.
By forming 8, the opening 108 a becomes a groove having the bottom of the upper surface of the transparent substrate 101 (actually, the upper surface of the anode 102). For example, a liquid organic EL layer (103r, 103r,
103g, 103b). That is, the tip of the needle (needle) of the dispenser is arranged at the position of each opening 108a, and a liquid material is injected into the opening 108a. Organic EL layer (103
The state of the material (r, 103g, 103b) may be a state in which the material itself is melted, a state in which the material is dissolved in a solvent, or a state in which the material is uniformly dispersed in the solvent. At this time, polymerization may have already been started, polymerization may have started, or polymerization may not have started yet. The material of the injected organic EL layer (103r, 103g, 103b)
After curing, the organic EL layer (103r, 103g, 103
b), but the thickness tends to be thinner than before curing. Partition resist 108 is sufficiently organic EL
A liquid organic EL is formed in the opening 108a so that the layers (103r, 103g, 103b) can emit light.
The layer (103r, 103g, 103b) is formed to have a thickness that does not spill over the opening 108a even when the material of the layer (103r, 103g, 103b) is injected. In addition, each organic EL layer (103
In the case where r, 103g, and 103b) are composed of a plurality of charge transport layers, for example, the same polymer-based material as the hole transport layer is first injected into all the openings 108a. The polymer material injected from the needle of the dispenser advances along the opening 108a of the partition resist 108 by a capillary phenomenon and is deposited to a uniform thickness. When a plurality of light-emitting pixels are formed in a matrix by discharging an organic EL material by an ordinary inkjet method, the organic EL material does not spread so much.
When the amount of the L material is small, the length becomes shorter, and when the minimum discharge amount is large, the light emission minimum pitch becomes longer, and a light emission region with a high-definition pitch cannot be formed. When the ink is discharged into the elongated slit surrounded by the opening 108a, it extends along the opening 108a, so that the minimum emission pitch can be made shorter and uniform in thickness with respect to the discharge amount, and the pitch can be easily made constant. it can. Next, after the hole transport layer is cured, similarly, an opening 108a in which the organic EL layer 103r that emits red light is formed, an opening 108a in which the organic EL layer 103g that emits green light is formed, and a blue light is emitted. Organic EL layer 10
Each of the openings 108a, in which the light-emitting layer 3b is formed, is injected with a polymer material of a different light-emitting layer corresponding to the emission color (or a low-molecular material if wet coating is possible).
8a are deposited to a uniform thickness. Then, after the light emitting layer is cured again, a polymer material to be an electron transporting layer is injected into all the openings 108a and cured, and the organic E layer is cured.
L layers (103r, 103g, 103b) are formed. The organic EL layers (103r, 103
When g and 103b) are composed of two layers, for example, after forming a hole transport layer, an electron transport layer different for each emission color is formed without forming a light emitting layer.

【0060】上述のようにすることで、蒸着や、印刷方
式等を用いてストライプ状の有機EL層(103r、1
03g、103b)をパターニング形成した場合に比較
して、より細かいパターニングが可能となり(隔壁レジ
スト108のフォトリソグラフィーにおけるパターニン
グの精度に基づく)、各帯状の有機EL層(103r、
103g、103b)同士の間隔(ピッチ)を短いもの
とすることができる。なお、有機EL層(103r、1
03g、103b)のピッチを短いものとすることによ
り、視認距離が近くとも、例えば、赤の各有機EL領域
109rのみを発光させた場合、赤に発光する各有機E
L領域109rからの光が一様に重なり合い、一様な赤
の面状発光が得られる。従って、バックライト100の
厚みを極めて薄いものとすることが可能となる。なお、
隔壁レジスト108の各開口部108a毎にディスペン
サーにより有機EL層(103r、103g、103
b)の材料を注入する際には、ディスペンサによる最小
吐出精度が数μlのオーダーとなり、十分に汎用の高精
度ディスペンサーによる塗布量制御が可能である。
As described above, the stripe-shaped organic EL layer (103r, 103r,
03g, 103b) can be more finely patterned (based on the accuracy of patterning in the photolithography of the partition resist 108) than in the case of patterning and forming each band-shaped organic EL layer (103r, 103b).
103g, 103b) can be made shorter (pitch). The organic EL layer (103r, 1
03g, 103b), a short pitch allows each organic E region that emits red light to emit only when, for example, only each organic EL region 109r of red emits light, even if the viewing distance is short.
Light from the L region 109r uniformly overlaps, and uniform red planar light emission is obtained. Therefore, the thickness of the backlight 100 can be made extremely thin. In addition,
The organic EL layer (103r, 103g, 103
When the material of b) is injected, the minimum discharge accuracy by the dispenser is on the order of several μl, and the application amount can be sufficiently controlled by a general-purpose high-precision dispenser.

【0061】また、上述のように隔壁レジスト108を
使用するものとした場合に、隔壁レジスト108上に蓋
となる板体を例えば取り付けた状態もしくは押し付けた
状態とするとともに、該板体等に注入口及び排出口を形
成してもよい。そして、隔壁レジスト108の開口部1
08aが透明基板101と板体とにより上下の開口を閉
塞された状態となることにより、開口部108aを管の
内部状とし、注入口から開口部108aに有機EL層
(103r、103g、103b)の材料を注入するも
のとしても良い。このようにすれば、毛細管現象により
容易に開口部108a内に有機EL層(103r、10
3g、103b)の材料を注入することができる。
In the case where the partition resist 108 is used as described above, a plate serving as a lid is placed on the partition resist 108, for example, in a state of being attached or pressed, and is also applied to the plate or the like. An inlet and an outlet may be formed. Then, the opening 1 of the partition resist 108 is formed.
08a is a state in which the upper and lower openings are closed by the transparent substrate 101 and the plate body, so that the opening 108a is formed in the inside of the tube, and the organic EL layers (103r, 103g, 103b) are formed from the injection port to the opening 108a. May be injected. By doing so, the organic EL layers (103r, 10r,
3g, 103b).

【0062】そして、図1に示されるバックライト10
0の製造方法は、上述のように、透明基板101上にI
TOによりアノード102及びカソード端子111をフ
ォトリソグラフィーにより短いピッチでパターン形成
し、次いで、隔壁レジスト108を形成後、透明基板1
01上に有機EL層(103r、103g、103b)
を隔壁レジスト108の開口部108a内に形成し、次
いで、カソード104を例えば、蒸着成膜するものであ
る。そして、隔壁レジスト108の、開口部108a
に、有機EL層(103r、103g、103b)の材
料を毛管注入する(開口部108aは、溝状であるが、
溝を形成する左右の壁の間には、毛細管現象が作用す
る)。また、有機EL層(103r、103g、103
b)の注入に際しては、その層別に行なう。例えば、正
孔輸送層、発光層、電子輸送層の順で、材料の注入、乾
燥(硬化)を繰り返し行なう。また、隔壁レジスト10
8を設けた場合には、後述するようにカソード104が
開口部108a毎に独立した(絶縁された)状態となる
ので、導電性層110により各開口部108a内のカソ
ード104同士とカソード端子111とをそれぞれ短絡
する。また、上述の有機EL層(103r、103g、
103b)の形成方法は、後述する第二例以下の液晶表
示装置におけるバックライトにも適用することができ
る。
Then, the backlight 10 shown in FIG.
0, as described above, the I
After patterning the anode 102 and the cathode terminal 111 at a short pitch by photolithography using TO, and then forming a partition resist 108, the transparent substrate 1
01 on the organic EL layer (103r, 103g, 103b)
Is formed in the opening 108a of the partition resist 108, and then the cathode 104 is formed, for example, by vapor deposition. Then, the opening 108a of the partition resist 108 is formed.
Then, the material of the organic EL layer (103r, 103g, 103b) is capillary-injected (the opening 108a has a groove shape,
Capillary action acts between the left and right walls forming the groove). Further, the organic EL layers (103r, 103g, 103
The implantation of b) is performed for each layer. For example, material injection and drying (curing) are repeatedly performed in the order of the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer. Also, the barrier rib resist 10
8, the cathode 104 is in an independent (insulated) state for each of the openings 108a as described later. And are respectively short-circuited. In addition, the above-mentioned organic EL layer (103r, 103g,
The formation method of 103b) can also be applied to a backlight in a liquid crystal display device of a second example or lower described below.

【0063】第一例のLCDにおいては、そのバックラ
イト100によれば、有機EL素子により、低消費電力
で高い輝度を実現することができる。また、RGBに発
光する各有機EL領域(109r、109g、109
b)(有機EL層(103r、103g、103b))
をストライプ状に形成しているので、各有機EL領域
(109r、109g、109b)をモザイク状に配置
したり、各領域を分散して配置した場合に比較して、各
領域を同じ発光色毎に独立して駆動する構成としても、
容易かつ安価に製造することができる。そして、バック
ライト100は、透明基板101や封止部分等を除く素
子本体の部分が極めて薄く、元々薄型化が可能なもので
あるとともに、上述のように隔壁レジスト108を用い
て有機EL層(103r、103g、103b)を形成
するものとして、ストライプ状に配置された有機EL領
域(109r、109g、109b)のピッチを狭くす
れば、透明基板101を薄くしても均一なR・G・Bの
面状発光を得られるので、バックライト100をさらに
薄くすることができる。また、バックライト100は、
基本的に発光体の電気容量が極めて小さく、高速にスイ
ッチングする事が可能なので(例えば、有機EL素子は
100nsec以下の高速応答が可能なので)、高速に
発光色を変更する必要があるフィールドシーケンシャル
方式で駆動する液晶表示装置のバックライトとして好適
に用いることができる。
In the LCD of the first example, according to the backlight 100, high luminance can be realized with low power consumption by the organic EL element. In addition, each of the organic EL regions (109r, 109g,
b) (Organic EL layer (103r, 103g, 103b))
Are formed in a stripe shape, so that each of the organic EL regions (109r, 109g, 109b) is arranged in a mosaic shape, or each region is provided with the same emission color as compared to a case where each region is dispersed. Independently driven
It can be manufactured easily and inexpensively. The backlight 100 has an extremely thin portion of the element body except for the transparent substrate 101, the sealing portion, and the like, and can be originally thinned. In addition, as described above, the organic EL layer ( 103r, 103g, and 103b), if the pitch of the organic EL regions (109r, 109g, and 109b) arranged in stripes is narrowed, uniform R, G, and B even if the transparent substrate 101 is thinned. The backlight 100 can be made thinner because the surface light emission of the above can be obtained. Also, the backlight 100
Basically, since the electric capacity of the luminous body is extremely small and high-speed switching is possible (for example, since the organic EL element can respond at a high speed of 100 nsec or less), it is necessary to change the luminescent color at high speed. , And can be suitably used as a backlight of a liquid crystal display device driven by.

【0064】すなわち、第一例のフィールドシーケンシ
ャル方式のLCDにおいては、そのバックライトがRG
Bの発光色を高速に切り替えることができる。従って、
液晶表示パネル200としてどんなに高速駆動が可能な
ものを用いても、バックライトが十分に液晶表示パネル
200に追随して発光色を高速に切り替えることができ
る。また、バックライトが、低消費電力でかつ極めて薄
くすることが可能なので、フィールドシーケンシャル方
式のLCDを小型軽量でかつ電池による長時間駆動が可
能なものとすることができる。
That is, in the field sequential type LCD of the first example, the backlight is RG.
The emission color of B can be switched at high speed. Therefore,
No matter how fast the liquid crystal display panel 200 can be driven, the backlight can sufficiently follow the liquid crystal display panel 200 to switch the emission color at high speed. In addition, since the backlight can be extremely thin with low power consumption, the field-sequential LCD can be reduced in size and weight and can be driven for a long time by a battery.

【0065】また、上述のように各有機EL領域(10
9r、109g、109b)(有機EL層(103r、
103g、103b))がストライプ状とされているの
で、アノード102やカソード104をストライプ状に
形成することで、有機EL領域(109r、109g、
109b)をモザイク状に配置した場合や、有機EL領
域(109r、109g、109b)を細かく分散して
配置した場合に比較して、容易にアノード102やカソ
ード104を有機EL領域(109r、109g、10
9b)毎に独立したものとすることができる。
As described above, each organic EL region (10
9r, 109g, 109b) (organic EL layer (103r,
103g, 103b)) are in the form of stripes. Therefore, by forming the anode 102 and the cathode 104 in the form of stripes, the organic EL regions (109r, 109g,
109b) are arranged in a mosaic form, and the anodes 102 and the cathodes 104 are easily arranged in the organic EL regions (109r, 109g, 109r) as compared with the case where the organic EL regions (109r, 109g, 109b) are finely dispersed. 10
9b) can be independent.

【0066】また、ガラス基板上で同じ発光色の有機E
L領域(109r、109g、109b)のアノード1
02が互いに接続されるとともに、同じ発光色用のアノ
ード端子102r、102g、102bに接続されるこ
とになるので、透明基板101の外側で、各発光色毎に
アノード端子102r、102g、102bを接続する
配線を必要とせず、バックライト100の構成を簡略化
できる。
In addition, organic E of the same luminescent color is formed on a glass substrate.
Anode 1 of L region (109r, 109g, 109b)
02 are connected to each other and connected to the anode terminals 102r, 102g, 102b for the same emission color. Therefore, the configuration of the backlight 100 can be simplified without the need for wiring.

【0067】なお、第一例においては、各発光色の有機
EL領域(109r、109g、109b)(有機EL
層(103r、103g、103b))の幅をほぼ同じ
ものとして、RGB各発光色の有機EL領域(109
r、109g、109b)の面積をほぼ同じものとした
が、RGB各発光色の有機EL領域(109r、109
g、109b)は、使用される発光材料により、同じ電
力で駆動されてもその輝度が異なるので、各有機EL領
域(109r、109g、109b)の発光材料に基づ
く、R・G・B各々の輝度に対応して、各有機EL領域
(109r、109g、109b)毎に幅を変えてその
面積を異なるものとしても良い。
In the first example, the organic EL regions (109r, 109g, 109b) of each emission color (organic EL
The widths of the layers (103r, 103g, 103b) are almost the same, and the organic EL regions (109
r, 109g, and 109b) are almost the same, but the organic EL regions (109r, 109g,
g, 109b) have different luminances even when driven by the same power depending on the light emitting material used. Depending on the luminance, the width may be changed for each organic EL region (109r, 109g, 109b) and the area may be different.

【0068】また、隔壁レジスト108の形状につい
て、第一例においては、開口部108aもストライプ状
に形成されているが、該開口部108aには、それぞ
れ、液晶材料を注入する部分に拡幅部を形成しても良
い。ここで該拡幅部とは、開口部108aの他の箇所に
比較して横方向の幅を広くされた部分である。上記拡幅
部を形成した場合には、ディスペンサーにより有機EL
層(103r、103g、103b)の材料を注入する
際に、ディスペンサーのニードルを配置する位置とする
ことができる。そして、上記拡幅部を設けることによ
り、ディスペンサーのニードル先端の位置精度を補償す
ることが可能となる。すなわち、隔壁レジスト108の
開口部108aの上記ニードル先端を配置する位置の幅
が広くなっていることにより、ニードル先端をより容易
かつ確実に開口部108aに合わせることができる。
As for the shape of the partition wall resist 108, in the first example, the openings 108a are also formed in a stripe shape, but each of the openings 108a has a widened portion at a portion where a liquid crystal material is injected. It may be formed. Here, the widened portion is a portion whose width in the horizontal direction is wider than other portions of the opening 108a. When the widened portion is formed, the organic EL is dispensed with a dispenser.
When injecting the material of the layers (103r, 103g, 103b), the position of the needle of the dispenser can be set. By providing the widened portion, it is possible to compensate for the positional accuracy of the needle tip of the dispenser. That is, since the width of the position of the opening 108a of the partition wall resist 108 where the needle tip is disposed is widened, the needle tip can be more easily and reliably aligned with the opening 108a.

【0069】また、開口部108aのニードルが配置さ
れる位置の幅を広くすることで、ニードルからの材料吐
出時に材料が開口部108aの外にこぼれるのを防止す
ることができる。従って、開口部108aに上記拡幅部
を設けた場合には、拡幅部を設けない場合と同様の作用
効果を奏することができるとともに、バックライト10
0の製造において歩留まりの向上を図ることができる。
Further, by increasing the width of the position of the opening 108a where the needle is disposed, it is possible to prevent the material from spilling out of the opening 108a when discharging the material from the needle. Therefore, when the widened portion is provided in the opening 108a, the same operation and effect as when the widened portion is not provided can be obtained, and the backlight 10
0 can improve the yield.

【0070】また、上記例のバックライト100の透明
基板101の表面に拡散板を配置しても良い。拡散板
は、基本的に透明で、かつ、表面に細かい多数の凹凸を
有する周知のものである。また、拡散板は、例えば、断
面三角形状の山と谷とが多数連続して配置され、多数の
プリズムが形成された状態となっている。そして、この
ような拡散板においては、様々な角度で透過する光を屈
折させて、前方に向かう光の成分を増加させることが知
られている。そして、例えば、透明基板101の表面に
拡散板を貼り付けるとともに、拡散板と透明基板101
との間に周知の光学オイルが充填された状態となるよう
にしても良い。なお、光学オイルの屈折率は、透明基板
101とほぼ等しいか、透明基板101より大きいこと
が好ましい。
Further, a diffusion plate may be arranged on the surface of the transparent substrate 101 of the backlight 100 of the above example. The diffusion plate is a well-known diffusion plate which is basically transparent and has many fine irregularities on its surface. Further, the diffusion plate has a state in which, for example, a large number of peaks and valleys having a triangular cross section are continuously arranged, and a large number of prisms are formed. It is known that such a diffuser refracts light transmitted at various angles to increase the forward light component. Then, for example, a diffusion plate is attached to the surface of the transparent substrate 101, and the diffusion plate and the transparent substrate 101
In this case, a known optical oil may be filled. The refractive index of the optical oil is preferably substantially equal to or larger than that of the transparent substrate 101.

【0071】透明基板101の表面に拡散板を配置する
とともに、透明基板101と拡散板との間に光学オイル
を充填した場合には、バックライト100からより多く
の光を取り出すことが可能となる。
When a diffusion plate is arranged on the surface of the transparent substrate 101 and optical oil is filled between the transparent substrate 101 and the diffusion plate, more light can be extracted from the backlight 100. .

【0072】なお、透明基板101の表面に拡散板を貼
り付けるとともに、拡散板と透明基板101との間に光
学オイルを充填するものとする他に、例えば、透明基板
101の表面を加工して透明基板101の表面自体を拡
散面としても良い。また、透明基板101側に拡散面を
設けるものとするほかに、例えば、リフレクタとして作
用する背面電極の表面を拡散面としても良い。この場合
にも、バックライト100からの光の取り出し効率を向
上することができる。
In addition to attaching a diffusion plate to the surface of the transparent substrate 101 and filling optical oil between the diffusion plate and the transparent substrate 101, for example, the surface of the transparent substrate 101 is processed. The surface itself of the transparent substrate 101 may be a diffusion surface. In addition to the provision of the diffusion surface on the transparent substrate 101 side, for example, the surface of the back electrode acting as a reflector may be used as the diffusion surface. Also in this case, the light extraction efficiency from the backlight 100 can be improved.

【0073】次に、図4及び図5を参照して、本発明の
実施の形態の第二例の液晶表示装置を説明する。なお、
第二例の液晶表示装置は、第一例のバックライト100
の一部の構成を変更したものであり、液晶表示パネル2
00については、第一例と同様のものを用いているため
説明を省略し、ここではバックライト100Aの説明を
行う。また、第一例のバックライト100と同様の構成
要素には、同一の符号を付してその説明を省略する。ま
た、図4においては有機EL層(103r、103g、
103b)、導電性層110r、110g、110b
を、例えば、斜め格子状の図柄として透けた状態に図示
し、またカソード104を透けた状態にし、図5におい
ては有機EL層(103r、103g、103b)、隔
壁レジスト114を、例えば、斜め格子状や横格子状の
図柄として透けた状態に図示するとともに、カソード1
04及び導電性層110r、110g、110bの図示
を省略している。そして、図4及び図5は、同じバック
ライト100Aを図示したものである。
Next, a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In addition,
The liquid crystal display device of the second example includes the backlight 100 of the first example.
Of the liquid crystal display panel 2
Regarding 00, the same components as those in the first example are used, so that the description thereof will be omitted, and the backlight 100A will be described here. The same components as those of the backlight 100 of the first example are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. In FIG. 4, the organic EL layers (103r, 103g,
103b), conductive layers 110r, 110g, 110b
Is shown in a transparent state, for example, as an oblique lattice pattern, and the cathode 104 is made transparent, and in FIG. And a horizontal lattice pattern in a transparent state.
04 and the conductive layers 110r, 110g, 110b are omitted. 4 and 5 illustrate the same backlight 100A.

【0074】図4及び図5に示される第二例のバックラ
イト100Aは、第一例と同様に、透明基板101上
に、アノード113、カソード端子111、隔壁レジス
ト114、有機EL層(103r、103g、103
b)、カソード104が形成されることにより、ストラ
イプ状に複数の有機EL領域(109r、109g、1
09b)が形成されたものである。そして、図4及び図
5は、第二例のバックライトの概略を図示したものであ
り、実際には、発光色がそれぞれ赤、緑、青にされた三
本の有機EL領域(109r、109g、109b)が
互いに平行に帯状に形成されるとともに、図2に示され
る第一例のバックライト100と同様に、これら三本を
一組とする有機EL領域(109r、109g、109
b)が互いに平行に多数配置されている。
The backlight 100A of the second example shown in FIGS. 4 and 5 has an anode 113, a cathode terminal 111, a partition resist 114, an organic EL layer (103r, 103g, 103
b) By forming the cathode 104, a plurality of organic EL regions (109r, 109g,
09b) is formed. 4 and 5 schematically show the backlight of the second example. Actually, three organic EL regions (109r, 109g) whose emission colors are red, green, and blue, respectively. , 109b) are formed in a strip shape in parallel with each other, and similarly to the backlight 100 of the first example shown in FIG. 2, the organic EL regions (109r, 109g, 109
b) are arranged in parallel with each other.

【0075】そして、第一例と、第二例とで異なる点
は、第一例のバックライト100においては、各有機E
L領域(109r、109g、109b)のカソード1
04を一つにまとめて共通電極とし、かつ、アノード1
02を各発光色の有機EL領域(109r、109g、
109b)毎にまとめて、各発光色の有機EL領域毎に
駆動できるようにしていたのに対して、第二例の有機E
L領域においては、アノード113を一つにまとめて共
通電極とし、かつ、カソード104を各発光色の有機E
L領域(109r、109g、109b)毎にまとめ
て、各発光色の有機EL領域毎に駆動できるようにして
いることである。
The difference between the first example and the second example is that in the backlight 100 of the first example, each organic E
Cathode 1 in L region (109r, 109g, 109b)
04 together as a common electrode and the anode 1
02 is the organic EL region of each emission color (109r, 109g,
109b), the organic EL region of each of the emission colors can be driven.
In the L region, the anodes 113 are combined into a common electrode, and the cathode 104 is used as the organic E-light of each emission color.
That is, driving can be performed for each of the organic EL regions of each emission color collectively for each of the L regions (109r, 109g, 109b).

【0076】そして、第二例のバックライトは、上記透
明基板101と、該透明基板101上にアノード113
(アノード端子113aを含む)、カソード配線115
r、115g、115b及びカソード端子116r、1
16g、116bがそれぞれITOから形成されてい
る。アノード113は、第一例のように各有機EL領域
(109r、109g、109b)毎に形成されるので
はなく、一つのアノード113で全ての有機EL領域
(109r、109g、109b)に対応するように広
い面状に形成されて、そのまま共通電極となっている。
また、カソード配線115r、115g、115bは、
アノード113上にストライプ状に形成される各有機E
L層(103r、103g、103b)毎に一つずつ形
成されるようになっている。そして、各カソード配線1
15r、115g、115bは、アノード113から離
れた位置において、対応する各有機EL層(103r、
103g、103b)と一列になるようにそれぞれ配置
されている。
The backlight of the second example comprises the transparent substrate 101 and an anode 113 on the transparent substrate 101.
(Including anode terminal 113a), cathode wiring 115
r, 115g, 115b and cathode terminals 116r, 1
16g and 116b are each formed from ITO. The anode 113 is not formed for each organic EL region (109r, 109g, 109b) as in the first example, but one anode 113 corresponds to all organic EL regions (109r, 109g, 109b). Thus, it is formed in a wide planar shape and serves as a common electrode as it is.
Also, the cathode wirings 115r, 115g, 115b are:
Each organic E formed in a stripe shape on the anode 113
One is formed for each L layer (103r, 103g, 103b). Then, each cathode wiring 1
15r, 115g, and 115b are located at positions away from the anode 113, and correspond to the respective organic EL layers (103r,
103g, 103b).

【0077】また、各カソード配線115r、115
g、115bは、そのアノード113側(有機EL層
(103r、103g、103b)側)の端部の位置
が、それぞれ、ストライプ状の有機EL層(103r、
103g、103b)とほぼ直交する方向に沿った一直
線上にほぼ配置されるように揃えられ、他方の端部の位
置が、各色の有機EL層(103r、103g、103
b)に対応するカソード毎に変えられて異なるものとさ
れている。また、同じ色の有機EL層(103r、10
3g、103b)に対応するカソード配線115r、1
15g、115b同士は、一方の端部の位置がストライ
プ状の有機EL層(103r、103g、103b)と
ほぼ直交する方向に沿った一直線上にほぼ配置されるよ
うに揃えられている。
The cathode wirings 115r, 115r
g and 115b are such that the positions of the ends on the anode 113 side (organic EL layer (103r, 103g, 103b) side) are striped organic EL layers (103r and 103r, respectively).
103g, 103b) so as to be substantially aligned on a straight line along a direction substantially orthogonal to the organic EL layers (103r, 103g, 103) of the respective colors.
It is different for each cathode corresponding to b). The same color organic EL layer (103r, 10r
3g, 103b).
15g and 115b are aligned so that the position of one end is substantially arranged on a straight line along a direction substantially orthogonal to the stripe-shaped organic EL layers (103r, 103g, 103b).

【0078】各カソード端子116r、116g、11
6bは、透明基板101上のカソード配線115r、1
15g、115bの側方に形成されるとともに、各発光
色に対応するカソード端子116r、116g、116
bと各発光色の有機EL領域(109r、109g、1
09b)に対応するカソード配線115r、115g、
115bの一方の端部とがそれぞれ一列に並んだ状態に
配置されている。すなわち、カソード端子116r、1
16g、116bには、それぞれ赤、緑、青の各発光色
に対応するものが一つずつあり、赤用のカソード端子1
16rと全ての赤用のカソード配線115rの一方の端
部とが一列に並んで配置され、緑用のカソード端子11
6gと全ての緑用のカソード配線115gの一方の端部
とが一列に並んで配置され、青用のカソード端子116
bと全ての青用のカソード配線115bの一方の端部と
が一列に並んで配置されている。
Each of the cathode terminals 116r, 116g, 11
6b denotes cathode wirings 115r and 1 on the transparent substrate 101.
The cathode terminals 116r, 116g, and 116g are formed on the sides of 15g and 115b and correspond to the respective emission colors.
b and the organic EL region of each emission color (109r, 109g, 1
09b), cathode wirings 115r, 115g,
One end of 115b is arranged in a line. That is, the cathode terminals 116r, 1
16g and 116b respectively have red, green, and blue emission colors, respectively.
16r and one end of all the cathode wires 115r for red are arranged in a line, and the cathode terminal 11 for green is arranged.
6 g and one end of all the green cathode wires 115 g are arranged in a line, and the blue cathode terminal 116
b and one end of all the blue cathode wires 115b are arranged in a line.

【0079】また、透明基板101上のアノード113
とカソード配線115r、115g、115bとの間に
は、これらを区切るように、発光材料用の塗れ制御層1
17が形成されている。該塗れ制御層117は、第一例
のように隔壁レジスト114の開口部114aに有機E
L層(103r、103g、103b)の液状の材料を
注入した際に、塗れ制御層117上に液状の材料が塗れ
ないようにするものであり、一種の撥水材として機能す
るものである。
The anode 113 on the transparent substrate 101
And the cathode wirings 115r, 115g, and 115b are separated from each other so as to separate them from each other.
17 are formed. The wetness control layer 117 has an organic E layer formed in the opening 114a of the partition resist 114 as in the first example.
When the liquid material of the L layer (103r, 103g, 103b) is injected, the liquid material is prevented from being coated on the wet control layer 117, and functions as a kind of water repellent material.

【0080】そして、塗れ制御層117の材料は、基本
的に表面エネルギーを低くする物質から構成される。そ
して、表面エネルギーを低くする物質としては、例え
ば、長鎖アルキル基、フッ素基、珪素基を有する物質を
挙げることができる。具体的に塗れ制御層117の材料
としては、テトラフルオロエチレンと少なくとも一種の
コモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得ら
れる共重合体と、共重合主鎖に環状構造物を有する含フ
ッ素共重合体と、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
テトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチ
レン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフ
ルオロエチレンと、ジクロロジフルオロエチレンとの共
重合体と、アクリロニトリル、ステアリン酸ビニル、ス
テアリルビニルエーテル、(メタ)アクリル酸ステアリ
ル、その他フッ素原子が含まれるコモノマーと、これら
と共重合可能なコモノマー、例えば(メタ)アクリル
酸、(メタ)アクリル酸エステルや、ビニル基を有する
化合物として、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルとを共重合させて得られる共重合体とが挙げられる。
また、塗れ制御層117の材料となる具体的な商品とし
ては、フッ素系として、フルオネートK−703:大日
本インキ化学工業、フロリナート:住友スリーエム、サ
イトップCTX−105A:旭硝子、フロロバリアー:
泰成商会、テフロンAF:デュポン社、PTFEグリー
ス:ニチアス、などが挙げられる。また、シリコーン樹
脂(SH200:東レシリコーンなど)を汎用ポリマー
(アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂)などに
ブレンドして塗布しても良い。また、塗れ制御層117
の材料としては、上述のものに限定されるものではな
く、有機EL層(103r、103g、103b)の液
状の材料をはじいて塗布できないようにできるものなら
ば良い。
The material of the wet control layer 117 is basically composed of a substance that lowers the surface energy. Examples of the substance that lowers the surface energy include a substance having a long-chain alkyl group, a fluorine group, and a silicon group. Specifically, the material of the wettability control layer 117 includes a copolymer obtained by copolymerizing a monomer mixture containing tetrafluoroethylene and at least one comonomer, and a fluorine-containing copolymer having a cyclic structure in the copolymer main chain. Polymer, polyethylene, polypropylene, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene, a copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, and acrylonitrile, vinyl stearate, stearyl vinyl ether, ( (Meth) Stearyl acrylate, other comonomers containing a fluorine atom, and comonomers copolymerizable therewith, such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylate, and a compound having a vinyl group, for example, vinyl acetate, Professional By copolymerizing Onsan vinyl include a copolymer obtained by.
In addition, specific products that can be used as the material of the wetness control layer 117 include, as fluorine, fluorate K-703: Dainippon Ink and Chemicals, Fluorinert: Sumitomo 3M, Cytop CTX-105A: Asahi Glass, Fluorobarrier:
Taisei Corporation, Teflon AF: Dupont, PTFE grease: Nichias, and the like. Alternatively, a silicone resin (SH200: Toray Silicone or the like) may be blended with a general-purpose polymer (acrylic resin, epoxy resin, urethane resin) or the like and applied. Also, the wettability control layer 117
The material is not limited to the above, and any material may be used as long as the material of the organic EL layer (103r, 103g, 103b) can be prevented from being applied by repelling.

【0081】そして、アノード113、カソード配線1
15r、115g、115b、カソード端子116r、
116g、116b、塗れ制御層117が形成された透
明基板101上に、隔壁レジスト114が形成される。
隔壁レジスト114は、第一例の隔壁レジスト108と
同様に開口部114aと、開口部118aとが形成され
ている。そして、各開口部114aは、一つのアノード
113上から各カソード配線115r、115g、11
5bの他方の端部に渡って形成されている。すなわち、
開口部114aとカソード配線115r、115g、1
15bとが一対一で対応し、各開口部114aの一方の
端部とカソード配線115r、115g、115bの他
方の端部とが重なった状態とされ、各開口部114aか
らは共通電極とされたアノード113と一つのカソード
配線115r、115g、115bの他方の端部とが露
出するようになっている。
Then, the anode 113 and the cathode wiring 1
15r, 115g, 115b, cathode terminal 116r,
A partition resist 114 is formed on the transparent substrate 101 on which 116 g and 116 b and the wetness control layer 117 are formed.
The partition resist 114 has an opening 114a and an opening 118a similarly to the partition resist 108 of the first example. Each of the openings 114 a is formed from one of the anodes 113 to a corresponding one of the cathode wires 115 r, 115 g, 11
5b is formed over the other end. That is,
The opening 114a and the cathode wires 115r, 115g, 1
15b correspond one-to-one, and one end of each opening 114a overlaps the other end of the cathode wiring 115r, 115g, 115b, and a common electrode is formed from each opening 114a. The anode 113 and the other end of one of the cathode wires 115r, 115g, and 115b are exposed.

【0082】また、開口部114aのアノード113が
露出する部分と、カソード配線115r、115g、1
15bの端部が露出する部分との間に、上記塗れ制御層
117が露出するようになっている。そして、上記有機
EL層(103r、103g、103b)は、各開口部
114aに上述の発光材料を注入することにより形成さ
れるが、この際に、液状の発光材料は、開口部114a
のアノード113が露出する部分に注入される。そし
て、開口部114aに注入された発光材料は、開口部1
14a内を開口部114aに沿って流れて開口部114
a内に充填される際に、塗れ制御層117ではじかれる
ことにより、塗れ制御層117を越えてカソード配線1
15r、115g、115bの他方の端部が露出する部
分に流れこまないようにされている。
The portion of the opening 114a where the anode 113 is exposed is connected to the cathode wirings 115r, 115g,
The wet control layer 117 is exposed between the portion where the end portion of 15b is exposed. Then, the organic EL layers (103r, 103g, 103b) are formed by injecting the above-described luminescent material into each opening 114a.
Is injected into a portion where the anode 113 is exposed. Then, the luminescent material injected into the opening 114a is
14a flows along the opening 114a to form the opening 114
a, when the cathode wiring 1 is repelled by the wettability control layer 117, the cathode wiring 1
15r, 115g, and 115b are prevented from flowing into portions where the other ends are exposed.

【0083】従って、有機EL層(103r、103
g、103b)は、隔壁レジスト114の開口部114
aのアノード113が露出する他方の端部から塗れ制御
層117の手前側までの間に形成され、開口部114a
から露出するカソード配線115r、115g、115
bの他方の端部上には形成されないようになっている。
一方、隔壁レジスト114の開口部118aは、第一例
の場合のアノード102の一方の端部に変えて各カソー
ド配線115r、115g、115bの一方の端部が露
出するようになっている。そして、各カソード配線11
5r、115g、115bの一方の端部の配置位置に対
応して開口部118aの位置が決められている。
Accordingly, the organic EL layers (103r, 103
g, 103b) are openings 114 of the partition resist 114
a is formed between the other end where the anode 113 is exposed and the front side of the wet control layer 117, and the opening 114a
Wirings 115r, 115g, 115 exposed from
b is not formed on the other end.
On the other hand, the opening 118a of the partition resist 114 is configured such that one end of each of the cathode wirings 115r, 115g, and 115b is exposed instead of one end of the anode 102 in the first example. Then, each cathode wiring 11
The position of the opening 118a is determined according to the position of one end of each of 5r, 115g, and 115b.

【0084】上記カソード104は、隔壁レジスト11
4の外周より内側に隔壁レジスト114の開口部114
aの大部分を覆うように形成されている(なお、塗れ制
御層117より隔壁レジスト114の開口部118aが
形成されている側には、カソード104を形成しないよ
うになっている)。そして、各開口部114a内のカソ
ード104の厚さと有機EL層(103r、103g、
103b)の厚さとの和は、隔壁レジスト114の厚さ
より薄いため、上述のように隔壁レジスト114の各開
口部114aの部分とそれ以外の隔壁の部分との段差に
より、開口部114aで各開口部114a内のカソード
104は電気的に断線した状態に形成され、各開口部1
14a内のカソード104は、他のカソード104の部
分と短絡しておらず、各開口部114a部分毎に独立し
た電極となっている。そして、各開口部114a内にお
いては、アノード113が露出する部分で、アノード1
13とカソード104とが間に有機EL層(103r、
103g、103b)を介在させた状態で対向させら
れ、カソード配線115r、115g、115bの他方
の端部が露出する部分で、カソード配線115r、11
5g、115bとカソード104が直接接触して短絡し
た状態となっている。従って、各開口部114a毎、す
なわち、各有機EL領域(109r、109g、109
b)毎に独立したカソード104が、それぞれ別のカソ
ード配線115r、115g、115bに接続されてい
る。
The cathode 104 is made of the partition resist 11
4, the opening 114 of the partition resist 114
(The cathode 104 is not formed on the side of the partition resist 114 where the opening 118a is formed from the wet control layer 117). Then, the thickness of the cathode 104 in each opening 114a and the organic EL layer (103r, 103g,
103b) is smaller than the thickness of the barrier rib resist 114, and therefore, as described above, due to the step between each opening 114a of the barrier rib resist 114 and the other barrier rib portion, each opening 114a is formed at the opening 114a. The cathode 104 in the portion 114a is formed in an electrically disconnected state, and each opening 1
The cathode 104 in 14a is not short-circuited with the other cathode 104, and is an independent electrode for each opening 114a. In each opening 114a, the anode 1 is exposed at a portion where the anode 113 is exposed.
13 and the cathode 104 between the organic EL layer (103r,
103g, 103b) are opposed to each other with the cathode wirings 115r, 115g, and 115b exposed at the other ends of the cathode wirings 115r, 115g, and 115b.
5g, 115b and the cathode 104 are in direct contact and short-circuited. Therefore, for each opening 114a, that is, for each organic EL region (109r, 109g, 109g)
b) Independent cathodes 104 are connected to different cathode wirings 115r, 115g, and 115b, respectively.

【0085】そして、同じ発光色の有機EL領域(10
9r、109g、109b)に対応するカソード配線1
15r、115g、115bが露出した複数の開口部1
18a上から、カソード端子116r、116g、11
6b上にわたって、隔壁レジスト114より厚い帯状の
導電性層110r、110g、110bがそれぞれ連続
して形成されるようになっている。ここで、導電性層1
10r、110g、110bは、隔壁レジスト114よ
り厚く形成されているので、導電性層110rが、発光
色が赤の有機EL領域109rに接続される全てのカソ
ード配線115rと開口部118aで接続されるととも
にカソード端子116rに接続され、導電性層110g
が、発光色が緑の有機EL領域109gに接続される全
てのカソード配線115gと開口部118aで接続され
るとともにカソード端子116gに接続され、導電性層
110bが、発光色が青の有機EL領域109bに接続
される全てのカソード配線115bと開口部118aで
接続されるとともにカソード端子116bに接続されて
いる。
Then, the organic EL regions (10
Cathode wiring 1 corresponding to 9r, 109g, 109b)
A plurality of openings 1 where 15r, 115g, and 115b are exposed
18a, the cathode terminals 116r, 116g, 11
The strip-shaped conductive layers 110r, 110g, and 110b, which are thicker than the partition resist 114, are respectively formed continuously on the upper portions 6b. Here, the conductive layer 1
Since 10r, 110g, and 110b are formed thicker than the partition wall resist 114, the conductive layer 110r is connected to all the cathode wirings 115r connected to the organic EL region 109r that emits red light through the opening 118a. And the conductive layer 110g
Is connected to all cathode wirings 115g connected to the organic EL region 109g emitting green light through the opening 118a and to the cathode terminal 116g, and the conductive layer 110b is connected to the organic EL region emitting blue light. All the cathode wirings 115b connected to 109b are connected to the opening 118a and connected to the cathode terminal 116b.

【0086】従って、各有機EL層(103r、103
g、103b)は、共通電極とされたアノード113
と、隔壁レジスト114の開口部114aの部分の段差
により各有機EL領域(109r、109g、109
b)毎に独立した電極とされたカソード104とに挟ま
れた状態とされているので、各有機EL領域(109
r、109g、109b)は、個別に駆動されるように
なっている。また、独立したカソード104は、開口部
114aの一方の端部内において、各有機EL領域(1
09r、109g、109b)毎に設けられたカソード
配線115r、115g、115bに短絡させられてい
る。
Therefore, each organic EL layer (103r, 103r)
g, 103b) is an anode 113 serving as a common electrode.
And the organic EL regions (109r, 109g, 109g) due to the step at the opening 114a of the partition resist 114.
b), each organic EL region (109) is sandwiched between the cathode 104 which is an independent electrode.
r, 109g, and 109b) are individually driven. Further, the independent cathode 104 is provided in each of the organic EL regions (1) within one end of the opening 114a.
09r, 109g, and 109b) are short-circuited to the cathode wires 115r, 115g, and 115b provided for each of them.

【0087】一方、開口部114a内には、ぬれ制御層
117上にも連続して形成されるのでカソード104が
一体に導通した状態で形成されており、有機EL層(1
03r、103g、103b)を挟んでアノード113
と対向したカソード104と、カソード配線115r、
115g、115bとが導通した状態となっている。す
なわち、開口部114a内のカソード104とカソード
配線115r、115g、115bとを導電性ペースト
層を用いずに導通することができる。
On the other hand, in the opening 114a, the cathode 104 is also formed continuously on the wetting control layer 117, so that the cathode 104 is formed in an electrically conductive state.
03r, 103g, 103b)
And a cathode wiring 115r,
115g and 115b are in a conductive state. That is, the cathode 104 in the opening 114a and the cathode wirings 115r, 115g, and 115b can be electrically connected without using a conductive paste layer.

【0088】そして、各カソード配線115r、115
g、115bは、隔壁レジスト114の開口部118a
において、同じ発光色の有機EL領域(109r、10
9g、109b)に導電性層110r、110g、11
0bにより短絡させられるとともに、各発光色毎に一つ
ずつ形成されたカソード端子116r、116g、11
6bに、それぞれ、発光色に対応する導電性層110
r、110g、110bが一対一で短絡させられた状態
となっている。従って、各カソード端子116r、11
6g、116b毎に駆動電圧(電流)を変えることによ
り、R・G・B各発光色の有機EL領域(109r、1
09g、109b)をオンオフすることで、順次R・G
・Bの面状発光を得ることが可能となっている。
Then, each of the cathode wires 115r, 115
g and 115b are openings 118a of the partition resist 114.
In the organic EL regions (109r, 10r,
9g, 109b) and conductive layers 110r, 110g, 11
0b, and the cathode terminals 116r, 116g, 11 formed one by one for each emission color.
6b, the conductive layers 110 corresponding to the emission colors, respectively.
r, 110g, and 110b are short-circuited one-to-one. Therefore, each cathode terminal 116r, 11
By changing the drive voltage (current) for each of 6g and 116b, the organic EL regions (109r,
09g, 109b) is turned on and off in order to sequentially
-It is possible to obtain B planar light emission.

【0089】以上のような構成の第二例のバックライト
100Aによれば、第一例の場合と同様の作用効果を得
られる。また、カソード104は、特に各有機EL領域
(109r、109g、109b)毎に独立して形成さ
れるように微細にパターニングしなくとも、開口部11
4aを有する隔壁レジスト114により、各有機EL領
域(109r、109g、109b)に独立した形状と
することができるので、カソード104を極めて容易に
各有機EL領域(109r、109g、109b)に独
立した形状とすることができる。また、アノード113
も共通電極とされることで微細なパターニングを必要と
しない。従って、透明基板上への電極の形成を容易なも
のとすることができる。また、隔壁レジスト114の開
口部114a内に表面エネルギーの低い塗れ制御層11
7を設けることにより、有機EL領域(109r、10
9g、109b)内のカソード104を容易に外部と接
続することができる。なお、第二例においても、開口部
114aに拡幅部を形成するものとしても良い。また、
透明基板101上に、各発光色毎のカソード端子116
r、116g、116bを設けずに、各有機EL領域
(109r、109g、109b)毎に、カソード端子
を設けるものとしても良い。また、第二例において、上
記塗れ制御層117を設ける代わりに、隔壁レジスト1
08の開口部108aの塗れ制御層117が配置される
部分にボトルネック状に開口部108aの幅を狭くした
挟幅部を設けるものとしても良い。このようにすれば、
開口部108a内のアノード113が露出する部分に有
機EL層(103r、103g、103b)の材料を注
入した際に、ボトルネックとなる挟幅部から先に材料が
流入しづらい状態となり、上記塗れ制御層117を設け
なくとも、塗れ制御層117を設けたのと同様の作用効
果を得ることができる。
According to the backlight 100A of the second example having the above configuration, the same operation and effect as those of the first example can be obtained. In addition, the cathode 104 does not need to be finely patterned so as to be formed independently for each organic EL region (109r, 109g, 109b).
Since the partition resist 114 having the resist 4a can be formed into a shape independent of each organic EL region (109r, 109g, 109b), the cathode 104 can be very easily formed independent of each organic EL region (109r, 109g, 109b). It can be shaped. Also, the anode 113
Also, fine patterning is not required because the common electrode is used. Therefore, it is possible to easily form the electrodes on the transparent substrate. In addition, the coating control layer 11 having a low surface energy is formed in the opening 114a of the partition resist 114.
7, the organic EL region (109r, 10r
The cathode 104 in 9g, 109b) can be easily connected to the outside. In the second example, a widened portion may be formed in the opening 114a. Also,
A cathode terminal 116 for each emission color is provided on the transparent substrate 101.
A cathode terminal may be provided for each organic EL region (109r, 109g, 109b) without providing r, 116g, and 116b. Further, in the second example, instead of providing the wet control layer 117, the partition resist 1 was used.
The opening portion 108a may be provided with a narrow portion in which the width of the opening portion 108a is narrowed in a bottle neck shape at the portion where the wet control layer 117 is disposed. If you do this,
When the material of the organic EL layer (103r, 103g, 103b) is injected into the portion of the opening 108a where the anode 113 is exposed, it becomes difficult for the material to flow in from the narrow width portion that becomes the bottleneck, and Even if the control layer 117 is not provided, the same operation and effect as provided by the wet control layer 117 can be obtained.

【0090】次に、図6及び図7を参照して、本発明の
実施の形態の第三例の液晶表示装置を説明する。なお、
第三例の液晶表示装置は、第二例の液晶表示装置と同様
に、第一例のバックライト100の一部の構成を変更し
たものであり、液晶表示パネルについては、第一例と同
様のものを用いているため説明を省略し、ここではバッ
クライト100Bの説明のみ行う。また、第二例のバッ
クライト100Aと同様の構成要素には、同一の符号を
付してその説明を省略する。また、図6においては有機
EL層(103r、103g、103b)、導電性層1
10r、110g、110bを、例えば、斜め格子状の
図柄として透けた状態に図示し、カソード104を透け
た状態にし、図7においては有機EL層(103r、1
03g、103b)、隔壁レジスト120を、例えば、
斜め格子状や横格子状の図柄として透けた状態に図示す
るとともに、カソード104及び導電性層110r、1
10g、110bの図示を省略している。そして、図6
及び図7は、同じバックライト100Bを図示したもの
である。
Next, a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In addition,
The liquid crystal display device of the third example is a modification of the liquid crystal display device of the second example, in which a part of the configuration of the backlight 100 of the first example is changed, and the liquid crystal display panel is the same as that of the first example. The description is omitted here, and only the description of the backlight 100B will be given here. Also, the same components as those of the backlight 100A of the second example are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In FIG. 6, the organic EL layers (103r, 103g, 103b), the conductive layer 1
For example, 10r, 110g, and 110b are shown in a transparent state as an oblique lattice pattern, and the cathode 104 is made transparent, and in FIG. 7, the organic EL layers (103r,
03g, 103b), the partition resist 120 is, for example,
The cathode 104 and the conductive layers 110r and 1r are shown in a transparent state as an oblique or horizontal lattice pattern.
Illustration of 10g and 110b is omitted. And FIG.
7A and 7B illustrate the same backlight 100B.

【0091】図6及び図7に示される第三例のバックラ
イト100Bは、第一例と同様に、透明基板101上
に、アノード113、カソード端子122r、122
g、122b、カソード配線121r、121g、12
1b、隔壁レジスト120、有機EL層(103r、1
03g、103b)、カソード104、塗れ制御層11
7、及び後述する低抵抗配線119が形成されることに
より、ストライプ状に複数の有機EL領域(109r、
109g、109b)が形成されたものである。また、
第二例の液晶表示装置と同様に、透明基板101上に
は、塗れ制御層117が形成されている。そして、図6
及び図7は、第三例のバックライト100Bの概略を図
示したものであり、実際には、発光色がそれぞれ赤、
緑、青にされた三本の有機EL領域(109r、109
g、109b)が互いに平行に帯状に形成されるととも
に、図2に示される第一例のバックライト100と同様
に、これら三本を一組とする有機EL領域(109r、
109g、109b)が互いに平行に多数配置されてい
る。
The backlight 100B of the third example shown in FIGS. 6 and 7 has an anode 113 and cathode terminals 122r, 122r on a transparent substrate 101, as in the first example.
g, 122b, cathode wirings 121r, 121g, 12
1b, partition resist 120, organic EL layer (103r, 1
03g, 103b), cathode 104, wet control layer 11
7 and a low-resistance wiring 119 described later are formed, so that a plurality of organic EL regions (109r, 109r,
109g and 109b) are formed. Also,
As in the liquid crystal display device of the second example, a wet control layer 117 is formed on the transparent substrate 101. And FIG.
7A and 7B schematically show the backlight 100B of the third example, and in fact, the emission colors are red and red, respectively.
Three organic EL regions made green and blue (109r, 109
g, 109b) are formed in a band shape in parallel with each other, and similarly to the backlight 100 of the first example shown in FIG.
109g and 109b) are arranged in parallel with each other.

【0092】また、第三例のLCDのバックライト10
0Bは、第二例のLCDのバックライト100Aと同様
に、アノード113側を一つにまとめて共通電極とし、
かつ、カソード104を各発光色の有機EL領域(10
9r、109g、109b)毎にまとめて、各発光色の
有機EL領域毎に駆動できるようにしている。カソード
側の配線のとりまとめは、基本的には第二例のものと同
様であり、配線の具体的な説明は省略するが、カソード
配線121r、121g、121b及びカソード端子1
22r、122g、122bに使用する材料が第二例と
異なっている(後述する)。第三例と第二例の異なると
ころは、第一に、アノード113側からの電力の供給に
関して低抵抗配線119が設けられている点であり、第
二に、第二例の液晶表示装置においては、カソード配線
121r、121g、121b及びカソード端子122
r、122g、122bは、ITOから形成されていた
のに対して、第三例の液晶表示装置においては、後述す
る低抵抗な導電材からなる金属膜により形成されている
点である。
The backlight 10 of the LCD of the third example is
0B, like the backlight 100A of the LCD of the second example, collects the anode 113 side into one and forms a common electrode,
Further, the cathode 104 is connected to the organic EL region (10
9r, 109g, and 109b) so that they can be driven for each organic EL region of each emission color. The arrangement of the wirings on the cathode side is basically the same as that of the second example, and a detailed description of the wirings is omitted, but the cathode wirings 121r, 121g, 121b and the cathode terminal 1
Materials used for 22r, 122g, and 122b are different from those of the second example (described later). The difference between the third example and the second example is that, first, a low-resistance wiring 119 is provided with respect to the supply of power from the anode 113 side. Second, in the liquid crystal display device of the second example, Are the cathode wires 121r, 121g, 121b and the cathode terminal 122
r, 122g, and 122b are formed of a metal film made of a low-resistance conductive material, which will be described later, in the liquid crystal display device of the third example, in contrast to those formed of ITO.

【0093】図6、図7に示すように、第三例のバック
ライトは、透明基板101上に、四角面状にITO(透
明電極)からなるアノード113が形成されている。な
お、アノード113は、図6、7において、後述する低
抵抗配線119と接続されており、低抵抗配線119と
重なる部分と、低抵抗配線119と重ならずに後述する
有機EL層(103r、103g、103b)が上に堆
積される部分と、からなる。また、アノード113は、
後述する有機EL層(103r、103g、103b)
が配置される部分全体を含む範囲で形成される。
As shown in FIGS. 6 and 7, in the backlight of the third example, an anode 113 made of ITO (transparent electrode) is formed on a transparent substrate 101 in a square shape. 6 and 7, the anode 113 is connected to a low-resistance wiring 119 described below, and a portion overlapping the low-resistance wiring 119 and an organic EL layer (103r, 103r, 103g and 103b) are deposited thereon. The anode 113 is
Organic EL layers (103r, 103g, 103b) described later
Is formed in a range including the entire portion where the is disposed.

【0094】そして、アノード113が形成された透明
基板101上には、図6に示すように、低抵抗配線11
9と、各有機EL領域(109r、109g、109
b)毎のカソード104部分を各発光色の有機EL領域
(109r、109g、109b)毎に外部に接続させ
るための三つのカソード端子122r、122g、12
2bと、各有機EL領域(109r、109g、109
b)毎のカソード104部分にそれぞれ接続され、導電
性層110r、110g、110bにより、各発光色の
有機EL領域(109r、109g、109b)毎にま
とめられてカソード端子122r、122g、122b
に接続されるカソード配線121r、121g、121
bとが形成されている。低抵抗配線119、カソード端
子122r、122g、122b、カソード配線121
r、121g、121bは、例えば、アルミニウム、ネ
オジムまたはクロム等の金属単体或いはこれらのうち少
なくとも1つを含む合金からなる低抵抗な導電材からな
る金属膜を一括してパターニングすることにより得られ
ている。
Then, on the transparent substrate 101 on which the anode 113 is formed, as shown in FIG.
9 and each organic EL region (109r, 109g,
b) Three cathode terminals 122r, 122g, and 12 for connecting the cathode 104 portion to the outside for each organic EL region (109r, 109g, 109b) of each emission color.
2b and each organic EL region (109r, 109g,
b) The cathode terminals 122r, 122g, and 122b are connected to the respective cathode 104 portions and are grouped by the conductive layers 110r, 110g, and 110b for each organic EL region (109r, 109g, and 109b) of each emission color.
Cathode lines 121r, 121g, 121 connected to
b are formed. Low resistance wiring 119, cathode terminals 122r, 122g, 122b, cathode wiring 121
r, 121g, and 121b are obtained by, for example, patterning a metal film made of a low-resistance conductive material made of a single metal such as aluminum, neodymium, or chromium, or an alloy containing at least one of them, at a time. I have.

【0095】上記低抵抗配線119は、アノード113
を外部に接続するアノード端子119aと、アノード1
13上に該アノード113と直接重なって短絡した状態
に形成された複数の低抵抗配線部119bとからなるも
のである。そして、低抵抗配線部119bは、アノード
113上において、有機EL層(103r、103g、
103b)と互いにほぼ排他的に形成されており、有機
EL層(103r、103g、103b)がストライプ
状に形成されていることから、ストライプ状の有機EL
層(103r、103g、103b)の間にストライプ
状に低抵抗配線部119bが形成されている。また、低
抵抗配線部119bは、アノード端子119a側(カソ
ード配線121r、121g、121bの反対側)でス
トライプ状の部分が一体にまとめられた状態となってお
り、実際には、櫛歯状に形成され、各櫛歯間に、有機E
L層(103r、103g、103b)が形成されるよ
うになっている。
The low resistance wiring 119 is connected to the anode 113
An anode terminal 119a for connecting the external
13 and a plurality of low-resistance wiring portions 119b formed directly on the anode 113 and short-circuited. Then, the low-resistance wiring portion 119b is provided on the anode 113 with the organic EL layer (103r, 103g,
103b) and the organic EL layers (103r, 103g, 103b) are formed in a stripe shape.
A low-resistance wiring portion 119b is formed in a stripe shape between the layers (103r, 103g, 103b). Further, the low-resistance wiring portion 119b is in a state in which stripe-shaped portions are integrally formed on the anode terminal 119a side (the side opposite to the cathode wirings 121r, 121g, and 121b). Formed and organic E
L layers (103r, 103g, 103b) are formed.

【0096】なお、低抵抗配線部119bと有機EL層
(103r、103g、103b)との境界部分におい
ては、低抵抗配線部119bがカソード104と接続し
てなければ、低抵抗配線部119bと有機EL層(10
3r、103g、103b)との間に間隙があるものと
しても良いし、低抵抗配線部119bと有機EL層(1
03r、103g、103b)とが接触しているものと
しても良いし、低抵抗配線部119bと有機EL層(1
03r、103g、103b)とが僅かに重なっている
ものとしても良い。そして、アノード端子119aと低
抵抗配線部119bとは、低抵抗配線119として一体
に導通した状態で形成されている。
At the boundary between the low-resistance wiring section 119b and the organic EL layer (103r, 103g, 103b), if the low-resistance wiring section 119b is not connected to the cathode 104, the low-resistance wiring section 119b and the organic EL layer are not connected. EL layer (10
3r, 103g, and 103b), and a low-resistance wiring portion 119b and an organic EL layer (1
03r, 103g, and 103b) may be in contact with each other, or the low-resistance wiring portion 119b and the organic EL layer (1
03r, 103g, and 103b) may slightly overlap each other. The anode terminal 119a and the low-resistance wiring portion 119b are formed as a low-resistance wiring 119 in a state where they are electrically connected to each other.

【0097】上記低抵抗配線119、カソード端子12
2r、122g、122b及びカソード配線121r、
121g、121bは、同じ材料からなり、同一工程で
一緒に形成されることになる。なお、低抵抗配線11
9、カソード端子122r、122g、122b及びカ
ソード配線121r、121g、121bは、例えば、
金属を蒸着により成膜することで形成されるが、その他
の方法で形成されるものとしても良く、ITOより低抵
抗で、かつ厚さ方向に酸化されにくい導電材料から形成
されていれば良い。
The low-resistance wiring 119 and the cathode terminal 12
2r, 122g, 122b and cathode wiring 121r,
121g and 121b are made of the same material and are formed together in the same process. Note that the low resistance wiring 11
9, the cathode terminals 122r, 122g, 122b and the cathode wires 121r, 121g, 121b are, for example,
Although it is formed by depositing a metal by vapor deposition, it may be formed by other methods as long as it is formed of a conductive material having a lower resistance than ITO and less susceptible to oxidation in the thickness direction.

【0098】また、上記透明基板101上には、塗れ制
御層117が形成されている。上記塗れ制御層117
は、カソード配線121r、121g、121bと、ア
ノード113並びにアノード113上の低抵抗配線11
9との間に露出する透明基板101上に帯状に形成され
て、カソード配線121r、121g、121bと、ア
ノード113並びに低抵抗配線119とを区切るように
なっている。なお、塗れ制御層117は、後述するよう
に上述の配置位置において、隔壁レジスト120の開口
部120aから露出する部分だけ形成されていれば良
く、必ずしも連続する帯状に形成されていなくとも良
い。
On the transparent substrate 101, a wet control layer 117 is formed. Above wetness control layer 117
Are the cathode wires 121r, 121g, and 121b, the anode 113, and the low-resistance wire 11 on the anode 113.
9 and is formed in a strip shape on the transparent substrate 101 exposed between the anode 9 and the cathode wirings 121r, 121g and 121b, the anode 113 and the low resistance wiring 119. As described later, the wetness control layer 117 may be formed only at a portion exposed from the opening 120a of the partition wall resist 120 at the above-described arrangement position, and need not necessarily be formed in a continuous band shape.

【0099】そして、上述のように、アノード113、
低抵抗配線119、カソード端子122r、122g、
122b、カソード配線121r、121g、121b
及び塗れ制御層117が形成された透明基板101上
に、隔壁レジスト120が形成される。隔壁レジスト1
20は、例えば、感光性樹脂からなるものであり、フォ
トリソグラフィーによりパターン形成されるものである
が、絶縁性で、かつ、後述する以上の厚みを有するもの
ならば良い。
Then, as described above, the anode 113,
Low resistance wiring 119, cathode terminals 122r, 122g,
122b, cathode wirings 121r, 121g, 121b
A partition resist 120 is formed on the transparent substrate 101 on which the wet control layer 117 is formed. Partition resist 1
Numeral 20 is made of, for example, a photosensitive resin and is formed by patterning by photolithography.

【0100】そして、隔壁レジスト120は、上述のア
ノード113、低抵抗配線119のうちの低抵抗配線部
119b、カソード配線121r、121g、121b
の全てを覆うように面状に形成されている。なお、低抵
抗配線119のうちのアノード端子119a及びカソー
ド端子122r、122g、122bは、隔壁レジスト
120から露出している。また、隔壁レジスト120に
は、第二例と同様に、開口部120aが形成されている
のと同時に、各カソード配線121r、121g、12
1bの他方の端部の位置に、開口部123aが形成され
ている。
The partition resist 120 is formed by the above-described anode 113, the low-resistance wiring portion 119b of the low-resistance wiring 119, and the cathode wirings 121r, 121g, and 121b.
Are formed so as to cover all of them. The anode terminal 119a and the cathode terminals 122r, 122g, 122b of the low-resistance wiring 119 are exposed from the partition wall resist 120. Similarly to the second example, in the partition wall resist 120, the openings 120a are formed, and at the same time, the cathode wirings 121r, 121g,
An opening 123a is formed at the other end of 1b.

【0101】そして、図6、図7に示されるバックライ
トの製造方法は、透明基板101上にITOからなるア
ノード113を形成し、次いで、例えば、蒸着等により
金属膜からなる低抵抗配線119、カソード端子122
r、122g、122b及びカソード配線121r、1
21g、121bをパターン形成する。また、透明基板
101上に塗れ制御層117を形成する。次に、アノー
ド113が露出するような開口部120a及びカソード
端子122r、122g、122bに接続するためにカ
ソード配線121r、121g、121bの一方の端部
が露出されるような開口部123aを有する隔壁レジス
ト120をフォトリソグラフィーによりパターン形成す
る。次いで、隔壁レジスト120の開口部120aに、
有機EL層(103r、103g、103b)のうち、
正孔輸送層(赤に発光する領域)、正孔輸送層(緑に発
光する領域)、正孔輸送層(青に発光する領域)となる
材料を注入して固化後、それらの上にそれぞれ電子輸送
層(赤に発光する領域)、電子輸送層(緑に発光する領
域)、電子輸送層(青に発光する領域)を注入し同様に
固化させて有機EL層(103r、103g、103
b)を形成する。次いで、カソード104を例えば、蒸
着成膜する。なお、第三例においては、隔壁レジスト1
20が、アノード113及び低抵抗配線部119bとカ
ソード104との間の有機EL層(103r、103
g、103b)が介在していない部分において、アノー
ド113及び低抵抗配線部119bとカソード104と
の間を絶縁する膜として機能している。
In the method of manufacturing the backlight shown in FIGS. 6 and 7, the anode 113 made of ITO is formed on the transparent substrate 101, and then the low-resistance wiring 119 made of a metal film is formed by, for example, evaporation. Cathode terminal 122
r, 122g, 122b and cathode wirings 121r,
21g and 121b are patterned. Further, a wet control layer 117 is formed on the transparent substrate 101. Next, a partition having an opening 120a for exposing the anode 113 and an opening 123a for exposing one end of the cathode wirings 121r, 121g, 121b for connection to the cathode terminals 122r, 122g, 122b. The resist 120 is patterned by photolithography. Next, in the opening 120a of the partition resist 120,
Of the organic EL layers (103r, 103g, 103b)
The material for the hole transport layer (region emitting red light), hole transport layer (region emitting green light), and hole transport layer (region emitting blue light) are injected and solidified. An electron transport layer (a region that emits red light), an electron transport layer (a region that emits green light), and an electron transport layer (a region that emits blue light) are injected and solidified similarly to form an organic EL layer (103r, 103g, 103).
b) is formed. Next, the cathode 104 is formed, for example, by vapor deposition. In the third example, the partition resist 1 was used.
20 is an organic EL layer (103r, 103r) between the anode 113 and the low resistance wiring portion 119b and the cathode 104;
g, 103b) functions as a film that insulates between the cathode 113 and the anode 113 and the low-resistance wiring portion 119b in a portion where no cathode is provided.

【0102】以上のような構成の第三例のバックライト
によれば、第一例と第二例の場合と同様の作用効果を得
られると同時に、アノード113側に低抵抗配線119
が形成されていることにより、以下の作用効果を得るこ
とができる。すなわち、アノード113として光透過率
が高く、かつ、抵抗値が高いITOを用いているので、
発光面を広いものとした場合に、電源との接続部からの
距離が長くなるほど高い抵抗値を示すので、電源との接
続部から近い部分と、遠い部分とでは、有機EL層を流
れる電流量が異なり、場所によって輝度のばらつきがで
る可能性がある。しかし、各有機EL層(103r、1
03g、103b)に沿って配置されるとともに、ほと
んどの部分でアノード113と短絡する低抵抗配線部1
19bを設け、該低抵抗配線部119bに外部の電源と
接続されるアノード端子119aを接続しているので、
発光面内の各有機EL層(103r、103g、103
b)の各位置においては、その位置の近傍のアノード1
13部分まで低抵抗配線119側を流れた電流がアノー
ド113を介して有機EL層(103r、103g、1
03b)に流れることになり、発光面の位置によって、
有機EL層(103r、103g、103b)に流れる
電流が大きく異なることがなく、発光面の各位置におけ
る輝度を均質化することができる。従って、バックライ
トの発光面の各位置における輝度をより均質化できると
ともに、バックライトの発光面を大型化しても、発光面
内で輝度にばらつきが生じるのを防止することができ
る。なお、この第三例においては、第二例の場合と同様
に、各有機EL領域(109r、109g、109b)
の発光材料に基づく輝度に対応して、各有機EL領域
(109r、109g、109b)毎に幅を変えてその
面積を異なるものとしても良い。また、隔壁レジスト1
20の開口部120aには、第二例の場合と同様に、該
開口部の幅を狭くした狭幅部を形成しても良い。また、
上記多層配線を構成するカソード端子122r、122
g、122b及びカソード配線121r、121g、1
21bは、低抵抗配線119を形成する際と同時に形成
することができる。
According to the backlight of the third example having the above configuration, the same operation and effect as those of the first and second examples can be obtained, and at the same time, the low resistance wiring 119 is provided on the anode 113 side.
Are formed, the following effects can be obtained. That is, since ITO having a high light transmittance and a high resistance value is used as the anode 113,
When the light emitting surface is wide, the longer the distance from the connection to the power source, the higher the resistance value. Therefore, the amount of current flowing through the organic EL layer between the portion near and far from the connection to the power source And the luminance may vary depending on the location. However, each organic EL layer (103r, 1
03g, 103b) and a low-resistance wiring portion 1 that is short-circuited with the anode 113 in most portions.
19b, and an anode terminal 119a connected to an external power supply is connected to the low resistance wiring portion 119b.
Each organic EL layer (103r, 103g, 103
b) In each position, the anode 1 near the position
The current flowing to the low resistance wiring 119 side up to the thirteenth portion is applied to the organic EL layers (103r, 103g,
03b), and depending on the position of the light emitting surface,
The current flowing through the organic EL layers (103r, 103g, 103b) does not greatly differ, and the luminance at each position on the light emitting surface can be homogenized. Therefore, the luminance at each position of the light emitting surface of the backlight can be made more uniform, and even if the light emitting surface of the backlight is enlarged, it is possible to prevent the luminance from being varied in the light emitting surface. In the third example, as in the case of the second example, each of the organic EL regions (109r, 109g, 109b)
According to the luminance based on the light emitting material, the width may be changed for each organic EL region (109r, 109g, 109b) so that the area thereof is different. In addition, partition resist 1
As in the case of the second example, a narrow portion in which the width of the opening is reduced may be formed in the 20 opening 120a. Also,
Cathode terminals 122r, 122 constituting the multilayer wiring
g, 122b and cathode wirings 121r, 121g, 1
21b can be formed simultaneously with the formation of the low-resistance wiring 119.

【0103】次に、図8、図9及び図10を参照して、
本発明の実施の形態の第四例の液晶表示装置を説明す
る。なお、第四例の液晶表示装置は、第二例の液晶表示
装置と同様に、第一例のバックライト100の一部の構
成を変更したものであり、液晶表示パネルについては、
第一例と同様のものを用いているため説明を省略し、こ
こではバックライト100Cの説明のみ行う。また、第
二例または第三例のバックライト100A、100Bと
同様の構成要素には、同一の符号を付してその説明を省
略する。また、図8においては有機EL層(103r、
103g、103b)、導電性層110r、110g、
110bを、例えば、斜め格子状の図柄として透けた状
態に図示し、カソード104を透けた状態に図示し、図
9においては有機EL層(103r、103g、103
b)、隔壁レジスト125を、例えば、斜め格子状や横
格子状の図柄として透けた状態に図示するとともに、カ
ソード104及び導電性層110r、110g、110
bの図示を省略している。そして、図8、図9及び図1
0は、同じ第四例のバックライト100Cを図示したも
のである。
Next, referring to FIGS. 8, 9 and 10,
A liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention will be described. Incidentally, the liquid crystal display device of the fourth example is a modification of the configuration of a part of the backlight 100 of the first example, similarly to the liquid crystal display device of the second example.
Since the same components as those in the first example are used, the description will be omitted, and only the description of the backlight 100C will be given here. Further, the same components as those of the backlights 100A and 100B of the second or third example are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In FIG. 8, the organic EL layer (103r,
103g, 103b), conductive layers 110r, 110g,
110b is shown in a transparent state, for example, as an oblique lattice pattern, and is shown in a transparent state through the cathode 104. In FIG. 9, the organic EL layers (103r, 103g, 103) are shown.
b), the partition resist 125 is shown as a pattern in a diagonal lattice or horizontal lattice, for example, and the cathode 104 and the conductive layers 110r, 110g, 110
Illustration of b is omitted. 8 and 9 and FIG.
Reference numeral 0 indicates the same backlight 100C of the fourth example.

【0104】図8、図9及び図10に示される第四例の
バックライト100Cは、第一例と同様に、透明基板1
01上に、アノード124、カソード端子129r、1
29g、129b、カソード配線128r、128g、
128b、隔壁レジスト125、有機EL層(103
r、103g、103b)、カソード104、塗れ制御
層117が形成されることにより、ストライプ上に複数
の有機EL領域(109r、109g、109b)が形
成されたものである。そして、図8及び図9は、第四例
のバックライト100Cの概略を図示したものであり、
実際には、発光色がそれぞれ赤、緑、青にされた三本の
有機EL領域(109r、109g、109b)が互い
に平行に帯状に形成されるとともに、図2に示される第
一例のバックライト100と同様に、これら三本を一組
とする有機EL領域(109r、109g、109b)
が互いに平行に多数配置されている。
The backlight 100C of the fourth example shown in FIGS. 8, 9 and 10 has a transparent substrate 1 like the first example.
01, an anode 124, a cathode terminal 129r,
29g, 129b, cathode wires 128r, 128g,
128b, partition resist 125, organic EL layer (103
r, 103g, 103b), the cathode 104, and the wetness control layer 117, whereby a plurality of organic EL regions (109r, 109g, 109b) are formed on the stripe. 8 and 9 schematically show a fourth example of a backlight 100C.
Actually, three organic EL regions (109r, 109g, 109b) whose emission colors are respectively red, green, and blue are formed in a belt shape in parallel with each other, and the back of the first example shown in FIG. As in the case of the light 100, the organic EL regions (109r, 109g, and 109b) in which these three are set as one set
Are arranged in parallel with each other.

【0105】また、第四例の液晶表示装置は、第三例の
液晶表示装置と同様に、後述する低抵抗な導電材からな
る金属膜により形成されるカソード104を、各発光色
の有機EL領域(109r、109g、109b)毎に
まとめて、各発光色の有機EL領域毎に駆動できるよう
にしている。カソード側の構成は、第三例のものと同様
であり説明は省略する。なお、上記のカソードに用いる
低抵抗な導電材からなる金属膜は、第三例の低抵抗配線
において使用したものである。そして、第四例と第三例
の異なるところは、第三例では、有機EL層(103
r、103g、103b)に接続されているアノード側
の電極としてITOを用い、有機EL層(103r、1
03g、103b)全体に均一に電力を供給するため
に、補助的に低抵抗配線119(低抵抗な導電材からな
る金属膜)を用いていたのに対して、第四例では、アノ
ード側の電極は、上記低抵抗な導電材からなる金属膜の
みから形成している点である。また、有機EL層(10
3r、103g、103b)は、図10に示すように、
有機EL層103rは高分子導電物からなる正孔輸送層
103rhと電子輸送層103reとからなり、有機E
L層103gは高分子導電物からなる正孔輸送層103
ghと電子輸送層103geとからなり、有機EL層1
03bは高分子導電物からなる正孔輸送層103bhと
電子輸送層8beとからなる。電圧の印加に応じ正孔を
輸送する正孔輸送領域である正孔輸送層103rh、1
03gh、103bhはいずれも、上述のPEDT及び
PSSからなり、シート抵抗が108Ω/□以下、望ま
しくは107Ω/□以下であり正孔注入領域を兼ねてい
る。電子輸送層103re、103ge、103be
は、再結合に伴い発光する領域であり、発光色に応じて
置換基が異なるpolyfluoreneまたはpolyfluoreneの誘導
体を有する。なお、液晶材料として第一例と同様に他の
材料を用いるものとしても良い。
Further, in the liquid crystal display device of the fourth example, similarly to the liquid crystal display device of the third example, a cathode 104 formed of a metal film made of a low-resistance conductive material, which will be described later, is used for the organic EL of each emission color. The driving is performed for each of the organic EL regions of each emission color by collecting the regions (109r, 109g, 109b). The configuration on the cathode side is the same as that of the third example, and the description is omitted. The metal film made of a low-resistance conductive material used for the cathode is used in the low-resistance wiring of the third example. The difference between the fourth example and the third example is that in the third example, the organic EL layer (103
r, 103g, and 103b) using ITO as an anode electrode connected to the organic EL layer (103r, 103g, 103b).
03g, 103b) In order to uniformly supply power to the entirety, the low-resistance wiring 119 (metal film made of a low-resistance conductive material) was used as an auxiliary. The electrode is formed only from the metal film made of the low-resistance conductive material. The organic EL layer (10
3r, 103g, 103b), as shown in FIG.
The organic EL layer 103r includes a hole transport layer 103rh made of a polymer conductive material and an electron transport layer 103re.
The L layer 103g is a hole transport layer 103 made of a polymer conductive material.
gh and the electron transport layer 103ge, and the organic EL layer 1
03b is composed of a hole transport layer 103bh made of a polymer conductive material and an electron transport layer 8be. The hole transport layer 103rh, which is a hole transport region that transports holes in response to the application of a voltage.
Each of 03gh and 103bh is made of the above-mentioned PEDT and PSS, has a sheet resistance of 10 8 Ω / □ or less, preferably 10 7 Ω / □ or less, and also serves as a hole injection region. Electron transport layers 103re, 103ge, 103be
Is a region that emits light upon recombination, and has polyfluorene or a derivative of polyfluorene having different substituents depending on the emission color. Note that another material may be used as the liquid crystal material as in the first example.

【0106】図8、図9及び図10に示すように、第四
例のバックライト100Cは、透明基板101(例え
ば、ガラス基板もしくは透明フィルム基板)上に、金属
膜等の低抵抗な導電材からなるアノード124と、各有
機EL領域(109r、109g、109b)毎のカソ
ード104部分を各発光色の有機EL領域(109r、
109g、109b)毎に外部に接続させるための三つ
のカソード端子129r、129g、129bと、各有
機EL領域(109r、109g、109b)毎のカソ
ード104部分にそれぞれ接続され、後述する導電性層
110r、110g、110bにより、各発光色の有機
EL領域(109r、109g、109b)毎にまとめ
られてカソード端子129r、129g、129bに接
続されるカソード配線128r、128g、128bと
が形成されている。
As shown in FIGS. 8, 9 and 10, the backlight 100C of the fourth example is such that a low-resistance conductive material such as a metal film is formed on a transparent substrate 101 (for example, a glass substrate or a transparent film substrate). , And the cathode 104 for each organic EL region (109r, 109g, 109b) are connected to the organic EL region (109r,
109g, 109b), three cathode terminals 129r, 129g, 129b for connection to the outside, and a cathode 104 for each organic EL region (109r, 109g, 109b). , 110g, and 110b form cathode wirings 128r, 128g, and 128b that are collectively arranged for the respective organic EL regions (109r, 109g, and 109b) of the respective emission colors and that are connected to the cathode terminals 129r, 129g, and 129b.

【0107】上記アノード124は、アノード端子12
4aと、この一例において同じ金属膜から一体に形成さ
れた櫛歯状の正孔注入配線部124bとを有する。ま
た、カソード端子129r、129g、129b及びカ
ソード配線128r、128g、128bも、アノード
124と同じ金属膜から形成されている。そして、アノ
ード124、カソード端子129r、129g、129
b及びカソード配線128r、128g、128bは、
上記金属膜を一括してパターニングすることにより得ら
れている。
The anode 124 is connected to the anode terminal 12
4a, and a comb-shaped hole injection wiring portion 124b integrally formed from the same metal film in this example. Further, the cathode terminals 129r, 129g, 129b and the cathode wires 128r, 128g, 128b are also formed of the same metal film as the anode 124. Then, the anode 124, the cathode terminals 129r, 129g, 129
b and the cathode wires 128r, 128g, 128b
It is obtained by patterning the above metal film all together.

【0108】そして、アノード124の正孔注入配線部
124bは、有機EL層(103r、103g、103
b)と互いにほぼ排他的に形成されており、有機EL層
(103r、103g、103b)がストライプ状に形
成されていることから、ストライプ状の有機EL層(1
03r、103g、103b)の間にストライプ状に形
成されている。また、アノード124は、アノード端子
124a側(カソード配線128r、128g、128
bの反対側)でストライプ状の部分が一体にまとめられ
た状態となっている。
The hole injection wiring portion 124b of the anode 124 is formed by the organic EL layers (103r, 103g, 103g).
b) and almost exclusively, and since the organic EL layers (103r, 103g, 103b) are formed in stripes, the organic EL layers (1
03r, 103g, 103b). The anode 124 is connected to the anode terminal 124a side (cathode wires 128r, 128g, 128g).
(opposite side b), the stripe-shaped portions are integrated.

【0109】そして、アノード124と有機EL層(1
03r、103g、103b)との境界部分において
は、アノード124と有機EL層(103r、103
g、103b)とが僅かに重なっている。すなわち、ス
トライプ状、すなわち、線状に近い帯状の各有機EL層
(103r、103g、103b)の左右の有機EL層
(103r、103g、103b)の長さ方向に沿った
側縁部が、正孔注入配線部124bと重なった状態とな
っている。そして、有機EL層(103r、103g、
103b)の左右両側縁部を除く中央部分は、アノード
124と重ならずに透明基板101上に直接形成された
状態となっている。
Then, the anode 124 and the organic EL layer (1
03r, 103g, and 103b), the anode 124 and the organic EL layer (103r, 103b)
g, 103b) slightly overlap with each other. That is, the side edges along the length direction of the left and right organic EL layers (103r, 103g, 103b) of the striped, that is, the strip-like organic EL layers (103r, 103g, 103b) close to the linear shape are positive. It is in a state of overlapping with the hole injection wiring part 124b. Then, the organic EL layers (103r, 103g,
The central portion of 103b) excluding the left and right side edges is directly formed on the transparent substrate 101 without overlapping with the anode 124.

【0110】上記アノード124、カソード端子129
r、129g、129b及びカソード配線128r、1
28g、128bは、上述のように同じ材料から形成さ
れ、これらは、一つの金属膜をパターン形成することに
より、ほぼ同時に形成されているので、アノード12
4、アノード端子124a、カソード端子129r、1
29g、129b及びカソード配線128r、128
g、128bは、同一工程で一緒に形成されることにな
る。なお、アノード124、カソード端子129r、1
29g、129b及びカソード配線128r、128
g、128bは、例えば、金属を蒸着により成膜するこ
とで形成されるが、その他の方法で形成されるものとし
ても良い。
The above-mentioned anode 124 and cathode terminal 129
r, 129g, 129b and cathode wiring 128r,
28g and 128b are formed from the same material as described above, and are formed almost simultaneously by patterning one metal film.
4, anode terminal 124a, cathode terminal 129r, 1
29g, 129b and cathode wires 128r, 128
g, 128b will be formed together in the same process. In addition, the anode 124, the cathode terminal 129r,
29g, 129b and cathode wires 128r, 128
g and 128b are formed, for example, by depositing a metal by vapor deposition, but may be formed by another method.

【0111】そして、隔壁レジスト125は、上述のア
ノード124及びカソード配線128r、128g、1
28bを覆うように面状に形成されている。なお、アノ
ード端子124a及びカソード端子129r、129
g、129bは、隔壁レジスト125に覆われないよう
になっている(一部が外部と接続するために露出してい
る必要がある)。隔壁レジスト125は、その厚みL1
が例えば、0.015mm(好ましくは、0.005m
m以上)とされ、各有機EL層(103r、103g、
103b)のピッチL2が0.1mm程度とされ、各有
機EL層(103r、103g、103b)の幅L3が
0.06mm程度とされ、有機EL層(103r、10
3g、103b)同士の間隔L4(隔壁レジストの隔壁
の幅)が0.04mm程度とされる。また、隔壁レジス
ト125の開口部125a…のピッチも0.1mm程度
であり、アノード124のピッチも0.1mm程度と設
定されている。
The partition resist 125 is formed by the above-described anode 124 and cathode wirings 128r, 128g, and 1g.
It is formed in a planar shape so as to cover 28b. The anode terminal 124a and the cathode terminals 129r, 129r
g and 129b are not covered with the partition resist 125 (a part of them is required to be exposed in order to connect to the outside). The partition resist 125 has a thickness L1.
Is, for example, 0.015 mm (preferably 0.005 m
m or more), and each organic EL layer (103r, 103g,
The pitch L2 of the organic EL layers (103r, 103g, 103b) is about 0.06 mm, and the pitch L2 of the organic EL layers (103r, 103g, 103b) is about 0.06 mm.
3g, 103b) (the width of the partition wall of the partition wall resist) is about 0.04 mm. The pitch of the openings 125a of the partition resist 125 is also about 0.1 mm, and the pitch of the anodes 124 is also set at about 0.1 mm.

【0112】上記正孔注入配線部124bは、正孔輸送
層のシート抵抗が108Ω/□以下と低く、かつ正孔輸
送性に優れているため、開口部125aに埋設された電
子輸送層に電子を注入するカソード104と、正孔輸送
層を介して完全に重なるような構成でなくてもよい。す
なわち正孔注入配線部124bは、正孔輸送層と部分的
に接続されていれば発光面に対し重ならなくていいた
め、有機EL層(103r、103g、103b)から
発せられた光は、その多くが正孔注入配線部124bを
介することなく直接透明基板101に出射することがで
きるため、従来のようにアノード電極での光吸収による
光の減衰を抑制することができるとともに、アノード1
24に適用される上記金属膜が、有機EL層(103
r、103g、103b)から発せられた光に対して高
い透過率を示す必要もない。また正孔輸送層の低シート
抵抗性は、それ自体アノード電極として機能することを
意味しており、アノード124に適用される上記金属膜
が正孔注入性の観点から仕事関数が高くなければならな
いといった問題も解消するため、上記金属膜は、材料の
抵抗率が2.0×10-4Ωcm以下でシート抵抗が10
Ω/□以下であればよく、金属膜の材料の選択性にも優
れている。アノード124に適用される金属膜として
は、例えば、アルミニウム、チタン、タングステン、ネ
オジムまたはクロム等の金属単体或いはこれらのうちの
少なくとも1つを含む合金やITOのような透明金属か
らなるものが用いられる。ただしITOは、抵抗率が
1.6×10-4Ωcm程度と比較的高いため、シート抵
抗を低くするためには、厚く成膜しなければならず、ス
ループットが低くなる。また、有機EL素子を広い面状
発光体を形成しようとすると、透明電極であるITOの
面積が増えると、ITOの電源との接続部分と、該接続
部分と最も離れた部分との距離が大きくなり、これらの
部分では、有機EL層に流れる電流量に差が生じる。従
って、有機EL素子からなる面状発光体をあまり大きな
ものとすると、面状発光体の位置によって輝度に明らか
な差が生じる可能性があった。さらに、透明基板として
は、可撓性、柔軟性を有する透明フィルム基板が用いら
れる場合があり、このような透明フィルム基板に有機E
L素子を形成するものとすれば、その可撓性、柔軟性に
基づいて、有機EL素子の応用範囲を広げることができ
る可能性がある。しかし、ITOは、脆性が高く、透明
フィルム基板を鋭い角度で曲げたり、何度も曲げたりす
ると、ITOが破損する可能性があり、透明基板を透明
フィルム基板としても、その特性を十分に生かすことが
できなかった。また、製造時においては、柔らかい透明
フィルム基板上に、硬くて脆弱なITOを形成するのが
難しく、歩留まりの低下を招く恐れがある。また、バッ
クライトの製造時に表面にITOが形成された透明フィ
ルム基板をロール状に丸めたりした場合にも、歩留まり
の低下を招く恐れがある。
Since the hole injecting wiring portion 124b has a low sheet resistance of 10 8 Ω / □ or less and excellent hole transporting property, the hole transporting layer portion 124b has an electron transporting layer embedded in the opening 125a. It is not necessary that the cathode 104 is configured to completely overlap with the cathode 104 for injecting electrons through the hole transport layer. That is, since the hole injection wiring portion 124b does not overlap with the light emitting surface as long as it is partially connected to the hole transport layer, light emitted from the organic EL layers (103r, 103g, 103b) Most of the light can be directly emitted to the transparent substrate 101 without passing through the hole injection wiring portion 124b, so that the attenuation of light due to light absorption at the anode electrode can be suppressed as in the related art, and the anode 1
24 is an organic EL layer (103).
r, 103g, and 103b) do not need to have a high transmittance for light emitted from them. Further, the low sheet resistance of the hole transport layer means that the hole transport layer itself functions as an anode electrode, and the metal film applied to the anode 124 must have a high work function from the viewpoint of hole injection properties. In order to solve such a problem, the metal film has a material resistivity of 2.0 × 10 −4 Ωcm or less and a sheet resistance of 10 × 10 −4 Ωcm or less.
Ω / □ or less is sufficient, and the selectivity of the material of the metal film is excellent. As the metal film applied to the anode 124, for example, a metal simple substance such as aluminum, titanium, tungsten, neodymium, or chromium, or an alloy containing at least one of these, or a transparent metal such as ITO is used. . However, since ITO has a relatively high resistivity of about 1.6 × 10 −4 Ωcm, it is necessary to form a thick film in order to lower the sheet resistance, and the throughput is reduced. Further, when an attempt is made to form a wide planar light-emitting element for the organic EL element, when the area of ITO, which is a transparent electrode, increases, the distance between the connection portion of the ITO to the power source and the portion farthest from the connection portion increases. In these portions, a difference occurs in the amount of current flowing through the organic EL layer. Therefore, if the planar light-emitting body made of the organic EL element is made too large, there is a possibility that a clear difference in luminance occurs depending on the position of the planar light-emitting body. Further, a transparent film substrate having flexibility and flexibility may be used as the transparent substrate.
If an L element is formed, there is a possibility that the application range of the organic EL element can be expanded based on its flexibility and flexibility. However, ITO is highly brittle, and if the transparent film substrate is bent at a sharp angle or bent many times, the ITO may be damaged, and even if the transparent substrate is used as a transparent film substrate, its characteristics can be fully utilized. I couldn't do that. Further, at the time of manufacturing, it is difficult to form hard and brittle ITO on a soft transparent film substrate, and there is a possibility that the yield may be reduced. Further, when a transparent film substrate having ITO formed on its surface is rolled into a roll at the time of manufacturing a backlight, the yield may be reduced.

【0113】このため、アノード124に適用される金
属膜は、むしろ1.0×10-5Ωcm以下の金属単体ま
たは合金がより望ましく、延性、展性に優れていればさ
らに望ましい。そして、光の利用効率の観点から有機E
L層(103r、103g、103b)から発せられた
光に対し反射率の高いものの方が望ましい。このような
構造のバックライトでは、幅L3が0.06mm程度と
短く、正孔注入領域である正孔輸送層のシート抵抗が1
8Ω/□以下なので、正孔注入配線部124bと部分
的に重なっているだけでも、正孔を正孔輸送層のほぼ全
面から電子輸送層に輸送することができるため、有機E
L層(103r、103g、103b)のほぼ全面で発
光することができる。したがって、正孔注入配線部12
4bは、電圧の印加に応じ電荷を輸送する電荷輸送領域
である正孔輸送層全面に接触しなくても十分発光するの
で、従来のようなアノードによる光の吸収損失を抑える
ことができる。
For this reason, the metal film applied to the anode 124 is more preferably a simple metal or alloy having a density of 1.0 × 10 −5 Ωcm or less, and more desirably excellent in ductility and malleability. Then, from the viewpoint of light use efficiency, the organic E
It is preferable that the light having a high reflectance with respect to the light emitted from the L layers (103r, 103g, 103b). In the backlight having such a structure, the width L3 is as short as about 0.06 mm, and the sheet resistance of the hole transport layer which is the hole injection region is 1 mm.
0 8 Ω / □ or less, holes can be transported from almost the entire surface of the hole transport layer to the electron transport layer even if they only partially overlap with the hole injection wiring portion 124b.
Light can be emitted on almost the entire surface of the L layer (103r, 103g, 103b). Therefore, the hole injection wiring section 12
4b emits light sufficiently without contacting the entire surface of the hole transport layer, which is a charge transport region for transporting charge in response to the application of a voltage, so that the conventional light absorption loss by the anode can be suppressed.

【0114】そして、図8、図9及び図10に示される
バックライト100Cの製造方法は、透明基板101上
に、例えば、蒸着等によりアルミニウム、チタン、タン
グステン、ネオジムまたはクロム等の金属単体或いはこ
れらのうちの少なくとも1つを含む合金やITOのよう
な透明金属等の低抵抗の金属膜からなるアノード12
4、アノード端子124a、カソード端子129r、1
29g、129b及びカソード配線128r、128
g、128bをフォトリソグラフィーによりパターン形
成する。この後、0.6〜0.8Torr、250W、1
3.56MHzで酸素プラズマ洗浄を行う。アルミニウ
ム等は表面に極薄い酸化膜が成膜されることがあるが、
初期電圧を印加すると酸化膜が絶縁破壊し、電流を流す
ことができるので十分駆動することができる。また、透
明基板101上に塗れ制御層117を形成する。次に、
隔壁レジスト125をフォトリソグラフィーによりパタ
ーン形成する。次いで、隔壁レジスト125の開口部1
25aに、有機EL層(103r、103g、103
b)のうち、正孔輸送層となるPEDT及びPSSの混
合物溶液をインクジェットやニードルにより注入して1
10℃で10分程度加熱して固化後、それらの上にそれ
ぞれ発光色に応じて置換基が異なるpolyfluoreneの誘導
体を有する電子輸送層を注入し40〜60℃で1.0〜
1.5時間加熱して固化させて有機EL層(103r、
103g、103b)を形成する。成膜された正孔輸送
層はいずれもシート抵抗が108Ω/□以下、望ましく
は107Ω/□以下になっている。次いで、300Å程
度のカルシウム層及び6000Å〜10000Å程度の
アルミニウム層を順次真空蒸着してカソード104を形
成する。なお、第一例においては、隔壁レジスト125
が、アノード124とカソード104との間の有機EL
層(103r、103g、103b)が介在していない
部分において、アノード124とカソード104との絶
縁膜として機能している。また、隔壁レジスト125を
用いた場合には、注入された有機EL層(103r、1
03g、103b)の材料は毛細管現象により開口部1
25a全域に拡散する(開口部125aは、溝状である
が、溝を形成する左右の壁の間には、毛細管現象が作用
する)。このため、有機EL層(103r、103g、
103b)を極めて薄い膜厚にすることができる。
The manufacturing method of the backlight 100C shown in FIGS. 8, 9 and 10 is such that a single metal such as aluminum, titanium, tungsten, neodymium or chromium is deposited on the transparent substrate 101 by vapor deposition or the like. Made of a low-resistance metal film such as an alloy containing at least one of the following or a transparent metal such as ITO.
4, anode terminal 124a, cathode terminal 129r, 1
29g, 129b and cathode wires 128r, 128
g and 128b are patterned by photolithography. Thereafter, 0.6-0.8 Torr, 250 W, 1
Perform oxygen plasma cleaning at 3.56 MHz. Aluminum etc. may have an extremely thin oxide film formed on the surface,
When an initial voltage is applied, the oxide film is broken down and a current can flow, so that sufficient driving can be performed. Further, a wet control layer 117 is formed on the transparent substrate 101. next,
The partition resist 125 is patterned by photolithography. Next, the opening 1 of the partition resist 125 is formed.
An organic EL layer (103r, 103g, 103
In b), a mixture solution of PEDT and PSS to be a hole transport layer is injected by an inkjet or a needle to obtain 1
After heating at 10 ° C. for about 10 minutes to solidify, an electron transporting layer having a polyfluorene derivative having a different substituent depending on the emission color is injected on each of them, and the mixture is heated at 40 to 60 ° C. for 1.0 to 1.0.
The organic EL layer (103r,
103g, 103b) are formed. Each of the formed hole transport layers has a sheet resistance of 10 8 Ω / □ or less, preferably 10 7 Ω / □ or less. Next, a cathode 104 is formed by sequentially vacuum-depositing a calcium layer of about 300 ° and an aluminum layer of about 6000 to 10000 °. In the first example, the barrier rib resist 125
Is the organic EL between the anode 124 and the cathode 104
In portions where the layers (103r, 103g, 103b) are not interposed, they function as an insulating film between the anode 124 and the cathode 104. When the partition resist 125 is used, the injected organic EL layer (103r,
03g, 103b) has an opening 1 due to capillary action.
The opening portion 125a has a groove shape, but a capillary phenomenon acts between the left and right walls forming the groove. Therefore, the organic EL layers (103r, 103g,
103b) can be made extremely thin.

【0115】この第四例のバックライト100Cにおい
ては、アノード124としてITOより抵抗率の低い金
属膜を適用することが望ましい。そして、アノード12
4は、有機EL層(103r、103g、103b)の
両側縁部の部分でほぼ線状に重なるようになっている。
そして、有機EL層(103r、103g、103b)
の両側縁部を除く中央部分は、直接透明基板101と接
触するようになっている。すなわち、透明基板101側
からみれば、有機EL層(103r、103g、103
b)の発光面となる部分の左右両側縁部がアノード12
4に覆われた状態となっているが、有機EL層(103
r、103g、103b)の左右両側縁部を除く大部分
は、アノード124から露出した状態となっている。
In the backlight 100C of the fourth example, it is desirable to use a metal film having a lower resistivity than ITO as the anode 124. And the anode 12
Numeral 4 substantially linearly overlaps on both side edges of the organic EL layers (103r, 103g, 103b).
And an organic EL layer (103r, 103g, 103b)
The central portion excluding both side edges of the transparent substrate 101 is in direct contact with the transparent substrate 101. That is, when viewed from the transparent substrate 101 side, the organic EL layers (103r, 103g,
The left and right side edges of the light emitting surface of b)
4, but the organic EL layer (103
Most parts except for the right and left side edges of (r, 103g, 103b) are exposed from the anode 124.

【0116】以上のような構成の第四例のバックライト
100Cによれば、第一例から第三例の場合と同様の作
用効果を得られると同時に、以下の作用効果を得ること
ができる。そして、アノード124とカソード104と
の間に電圧を印加した場合には、アノード124とカソ
ード104との間の有機EL層(103r、103g、
103b)に電流が流れることになるが、この際に、元
々有機EL層(103r、103g、103b)が細い
帯状であり、正孔輸送層のシート抵抗が108Ω/□以
下となっているので、その両側縁部がアノード124に
接触した状態でアノード124とカソード104との間
に電圧を印加した場合に、有機EL層(103r、10
3g、103b)のほぼ全体に電流が流れた状態とな
り、有機EL層(103r、103g、103b)のほ
ぼ全体が発光することになる。また、本発明は、基本的
に線状(帯状)の多数の光源からの光を混ぜて、高輝度
のR・G・B各々の面状発光を得ることを目的としてお
り、各有機EL層(103r、103g、103b)の
長さ方向に直交する方向においては、明暗が繰り返され
る構成となっているとともに、有機EL層(103r、
103g、103b)の幅は、もともと極めて狭いもの
とされている。従って、有機EL層(103r、103
g、103b)の左右側縁部が不透明なアノード124
に重なっていても特に問題がない。
According to the backlight 100C of the fourth example having the above configuration, the same operation and effect as those of the first to third examples can be obtained, and the following operation and effect can be obtained. When a voltage is applied between the anode 124 and the cathode 104, the organic EL layers (103r, 103g,
A current will flow through 103b). At this time, the organic EL layers (103r, 103g, 103b) are originally thin strips, and the sheet resistance of the hole transport layer is 10 8 Ω / □ or less. Therefore, when a voltage is applied between the anode 124 and the cathode 104 in a state where both side edges are in contact with the anode 124, the organic EL layers (103r, 10r
3g, 103b), a current flows in almost the entirety, and almost the entire organic EL layer (103r, 103g, 103b) emits light. Another object of the present invention is to obtain a high-luminance R, G, B planar light emission by mixing light from a large number of linear (band) light sources. In the direction perpendicular to the length direction of (103r, 103g, 103b), light and dark are repeated, and the organic EL layer (103r,
The widths of 103g and 103b) are originally extremely narrow. Therefore, the organic EL layers (103r, 103
g, 103b) anode 124 having left and right opaque edges
There is no particular problem even if they overlap.

【0117】そして、アノード124から露出する有機
EL層(103r、103g、103b)の大部分から
の発光は、そのまま透明基板101側に放射されること
になる。この際に、有機EL層(103r、103g、
103b)からの発光は、従来のように透明基板101
に比較して、光透過率の高くないITOを透過すること
がないので、出射した光はITOによる減衰分だけ光束
が増大する。
Light emitted from most of the organic EL layers (103r, 103g, 103b) exposed from the anode 124 is radiated to the transparent substrate 101 as it is. At this time, the organic EL layers (103r, 103g,
103b) emits light from the transparent substrate 101 as in the prior art.
As compared with the case of (1), since the light having no light transmittance is not transmitted through the ITO, the emitted light has an increased luminous flux by the amount of attenuation by the ITO.

【0118】有機EL層(103r、103g、103
b)の長さ方向の輝度のばらつきについては、アノード
124として、抵抗率が高いITOを用いた場合より
も、より抵抗率の低い金属膜を用いた方が少なくするこ
とができる。すなわち、抵抗率が高いITOを広い面状
もしくは長い帯状の電極として用いた場合には、位置に
よって流れる電流値が大きく異なって輝度にばらつきが
でる可能性があるが、抵抗率が1×10-5Ωcm以下の
金属膜ならば、同じ膜厚でも位置によって流れる電流量
が大きく異なるようなことがなく、より輝度を均一にす
ることができる。
The organic EL layers (103r, 103g, 103
b) The variation in the luminance in the length direction can be reduced by using a metal film having a lower resistivity as the anode 124 than by using ITO having a high resistivity. In other words, when ITO having a high resistivity is used as a wide planar or long strip-shaped electrode, the value of the current flowing depending on the position may vary greatly and the luminance may vary, but the resistivity is 1 × 10 −. If the metal film has a thickness of 5 Ωcm or less, the amount of current flowing therethrough does not greatly differ depending on the position even with the same film thickness, and the luminance can be made more uniform.

【0119】また、アノード124としてITOを用い
ずに金属膜を用いられるようになれば、金属膜は、一般
にITOに比較して強度が高く、かつ、柔軟性を有する
ので、脆性が高いITOを用いた場合よりも、歩留まり
の向上を図ることができる。また、透明基板101を柔
軟性が高い透明フィルム基板とした場合に、硬くて、脆
性が高いITOとの相性が悪く、柔軟性が高い透明フィ
ルム基板の特性を生かした製造方法や使用方法を用いる
ことが困難なものとなるが、アノード124としてIT
Oを用いずに、金属膜を用いられれば、金属膜は、ある
程度の柔軟性を有し、強度が高いので、透明フィルム基
板の特性を生かした製造方法及び使用方法を用いること
ができる。また、透明基板101を透明フィルム基板と
した際の歩留まりの向上を図ることができる。
Further, if a metal film can be used as the anode 124 without using ITO, the metal film generally has higher strength and flexibility as compared with ITO, so that ITO having high brittleness is used. The yield can be improved as compared with the case of using. In addition, when the transparent substrate 101 is a transparent film substrate having high flexibility, a hard and brittle incompatible with ITO is used, and a manufacturing method and a usage method utilizing characteristics of the transparent film substrate having high flexibility are used. However, it is difficult to use the
If a metal film is used without using O, the metal film has a certain degree of flexibility and high strength, so that a manufacturing method and a usage method utilizing characteristics of the transparent film substrate can be used. Further, the yield can be improved when the transparent substrate 101 is a transparent film substrate.

【0120】また、第二例と同様に、上記例のバックラ
イトの透明基板101の表面に拡散板を配置しても良
い。この際には、第二例と同様な作用効果が得られるの
と同時に、第四例においては、特に正孔注入配線部12
4bをITO以外の光反射性の金属膜で形成すれば、正
孔輸送層全面に亘ってITOが形成されていないので、
有機EL層(103r、103g、103b)から放射
された光は、反射を繰り返す間にITOで吸収されてし
まうことがなく、この変形例のように拡散板を用いた場
合には、従来のバックライトに拡散板を設けた場合より
も、輝度をより高めることができる。なお、例えば、透
明基板101の表面を加工して透明基板101の表面自
体を拡散面としても良い。またさらに、リフレクタとし
て作用する背面電極の表面を拡散面としても良い。ま
た、この際に、金属膜からなるアノード124がリフレ
クタとして機能する場合には、アノード124の表面を
拡散面としても良い。すなわち、本発明のバックライト
において、リフレクタとして機能する部分を拡散面とす
ればよい。この場合には、上述のようにアノード124
としての透過率の低いITOが存在しないことにより、
繰り返し反射した際の光の減衰率を低下させることがで
きるので、繰り返し反射させて光を取り出す際の光の減
衰が減少されてより多くの光を取り出すことができる。
As in the second example, a diffusion plate may be arranged on the surface of the transparent substrate 101 of the backlight of the above example. In this case, the same operation and effect as those of the second example can be obtained, and at the same time, in the fourth example,
If 4b is formed of a light-reflective metal film other than ITO, ITO is not formed over the entire surface of the hole transport layer.
Light emitted from the organic EL layers (103r, 103g, 103b) is not absorbed by ITO during repeated reflection, and when a diffusion plate is used as in this modification, a conventional back light is used. Luminance can be further increased as compared with the case where a diffusion plate is provided in the light. In addition, for example, the surface of the transparent substrate 101 may be processed and the surface itself of the transparent substrate 101 may be used as the diffusion surface. Further, the surface of the back electrode that functions as a reflector may be a diffusion surface. In this case, if the anode 124 made of a metal film functions as a reflector, the surface of the anode 124 may be used as a diffusion surface. That is, in the backlight of the present invention, a portion functioning as a reflector may be a diffusion surface. In this case, as described above, the anode 124
The absence of ITO with low transmittance as
Since the attenuation factor of light when repeatedly reflected can be reduced, the light attenuation when light is repeatedly reflected and extracted is reduced, and more light can be extracted.

【0121】次に、図11及び図12を参照して、本発
明の実施の形態の第五例のLCDを説明する。なお、第
五例のLCDは、第四例のLCDのバックライト100
Cにおいて、アノード124と隔壁レジスト125の開
口部130a…に埋設されたカソード104が部分的に
重なるように形成されていたのを、図11、図12に示
すように、アノード124と、カソード104を重なら
ないように形成したものである。第五例においても、第
一例と同様の液晶表示パネル200が用いられるものと
なっており、液晶表示パネル200の説明を省略する。
そして、図11は、第五例のLCDのバックライト10
0Dを上から俯瞰した平面図であり、図12は、図11
のA−A’線に沿った断面図である。図11、12にお
いて、第四例と同じ材料で同じ機能からなる部材には同
一の符号が付されている。
Next, an LCD according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The LCD of the fifth example is a backlight 100 of the fourth example.
C, the anode 124 and the cathode 104 buried in the openings 130a of the partition wall resist 125 are formed so as to partially overlap with each other, as shown in FIGS. Are formed so as not to overlap. Also in the fifth example, the same liquid crystal display panel 200 as the first example is used, and the description of the liquid crystal display panel 200 will be omitted.
FIG. 11 shows an LCD backlight 10 of the fifth example.
FIG. 12 is a plan view looking down on 0D from above, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 11 and 12, members having the same function and the same material as those of the fourth example are denoted by the same reference numerals.

【0122】図中、バックライト100Dの透明基板1
01の下半分上には、PEDT及びPSSからなり、シ
ート抵抗が108Ω/□以下、望ましくは107Ω/□以
下の正孔輸送層103hが形成されている。正孔輸送層
103h上から透明基板101の上半分側の一部にかけ
て、発光色に応じて置換基が異なるpolyfluoreneまたは
polyfluoreneの誘導体を有する、ストライプ状の電子輸
送層103re、103ge、103beの組がこの順
に複数、それぞれ平行に配置されている。そして、透明
基板101上から正孔輸送層103h上に跨ってアノー
ド124が形成されている。アノード124の正孔注入
配線部124bは正孔輸送層103h上の電子輸送層1
03re、103ge、103be間に、電子輸送層1
03re、103ge、103beと離間して配置さ
れ、アノード端子124aは透明基板101上に配置さ
れている。電子輸送層103re、103ge、103
be上から透明基板101の上半分側にかけて、電子輸
送層103re、103ge、103beと同じ幅或い
はより幅狭のストライプ状のカソード104が形成され
ている。そして図中、左上側に三つのカソード端子12
9r、129g、129bが配置されている。アノード
124、カソード端子129r、129g、129b、
並びにカソード104は、同一金属膜を一括パターニン
グして形成されている。アノード124は、正孔注入性
の良好な正孔輸送層103hのシート抵抗が低いため、
高仕事関数である必要がないが、カソード104は、仕
事関数が低い方が望ましいため、カソード104及びア
ノード124となる金属膜は、少なくともその一部に仕
事関数の低い材料を有する方が望ましい。また電子輸送
層103re、103ge、103beとの密着性(接
触抵抗)の観点から300Å程度のカルシウム層及びシ
ート抵抗を低くするためその上に設けられた6000Å
〜10000Å程度のアルミニウム層の2層構造が望ま
しいが、これに限らず他の低仕事関数の材料でもよい。
カソード104のうち透明基板101の上半分側は、絶
縁材からなる隔壁レジスト125により覆われ、その端
部は隔壁レジスト125の開口部130b…から露出さ
れ、隔壁レジスト125上からカソード端子129r、
129g、129bに跨って形成される導電性層110
r、110g、110bに接続されている。なお、正孔
輸送層103hは、シート抵抗が低いので短絡防止のた
め正孔輸送層103hにカソード104を形成しない方
が望ましい。
In the figure, the transparent substrate 1 of the backlight 100D is shown.
On the lower half of 01, a hole transport layer 103h made of PEDT and PSS and having a sheet resistance of 10 8 Ω / □ or less, preferably 10 7 Ω / □ or less is formed. From the hole transport layer 103h to a part of the upper half side of the transparent substrate 101, polyfluorene or a substituent having a different substituent depending on the emission color is used.
A plurality of stripe-shaped electron transport layers 103re, 103ge, and 103be each having a polyfluorene derivative are arranged in parallel in this order. Then, an anode 124 is formed over the transparent substrate 101 and over the hole transport layer 103h. The hole injection wiring portion 124b of the anode 124 is connected to the electron transport layer 1 on the hole transport layer 103h.
Between 03re, 103ge and 103be, the electron transport layer 1
The anode terminals 124a are arranged on the transparent substrate 101 so as to be separated from the elements 03re, 103ge, and 103be. Electron transport layers 103re, 103ge, 103
A stripe-shaped cathode 104 having the same width as or narrower than the electron transport layers 103re, 103ge, and 103be is formed from above the be to the upper half side of the transparent substrate 101. In the figure, three cathode terminals 12
9r, 129g, and 129b are arranged. Anode 124, cathode terminals 129r, 129g, 129b,
In addition, the cathode 104 is formed by collectively patterning the same metal film. The anode 124 has a low sheet resistance of the hole transport layer 103h having a good hole injecting property.
Although the work function does not need to be high, the cathode 104 preferably has a low work function. Therefore, it is preferable that the metal film to be the cathode 104 and the anode 124 has a material having a low work function in at least a part thereof. Also, from the viewpoint of adhesion (contact resistance) with the electron transport layers 103re, 103ge, and 103be, a calcium layer of about 300 ° and a 6000 ° layer provided thereon to reduce the sheet resistance
A two-layer structure of an aluminum layer having a thickness of about Å10000 ° is desirable, but the material is not limited to this, and another material having a low work function may be used.
The upper half side of the transparent substrate 101 of the cathode 104 is covered with a partition resist 125 made of an insulating material, and its end is exposed from an opening 130b of the partition resist 125, and a cathode terminal 129r is formed on the partition resist 125 from above.
The conductive layer 110 formed over 129g and 129b
r, 110g, and 110b. In addition, since the hole transport layer 103h has a low sheet resistance, it is preferable not to form the cathode 104 on the hole transport layer 103h to prevent a short circuit.

【0123】第五例のLCDのバックライト100Dで
は、厚くなくてもシート抵抗の低い正孔輸送層103h
を適用したため、アノードとカソードを重ねて形成しな
くてよいので、アノード124、カソード端子129
r、129g、129b、並びにカソード104を同一
金属膜のパターニングにより形成することができるた
め、バックライト100Dの生産性が高い。バックライ
ト100Dでは、正孔輸送層103rh、103gh、
103bhの上方にアノード124及びカソード104
を形成したが、透明基板101上に櫛歯状にパターニン
グされたアノード124及びアノード124の櫛歯間に
ストライプ状のカソード104を互いに離間させて形成
し、カソード104上にのみ端子部を除くカソード10
4を覆うようにカソード104より幅広の電子輸送層1
03re、103ge、103beを形成し、アノード
124上から電子輸送層103re、103ge、10
3be上にかけて連続した正孔輸送層103hを形成し
てもよい。
In the LCD backlight 100D of the fifth example, the hole transport layer 103h having a low sheet resistance even if not thick.
Since the anode and the cathode do not need to be formed overlapping each other, the anode 124 and the cathode terminal 129 are used.
Since r, 129g, 129b, and the cathode 104 can be formed by patterning the same metal film, the productivity of the backlight 100D is high. In the backlight 100D, the hole transport layers 103rh, 103gh,
The anode 124 and the cathode 104 are located above 103 bh.
Are formed on the transparent substrate 101 by forming a comb-shaped patterned anode 124 and a striped cathode 104 between the combs of the anode 124 so as to be separated from each other, and excluding the terminal portion only on the cathode 104 except for the terminal portion. 10
4 is wider than the cathode 104 so as to cover the electron transport layer 1.
03re, 103ge, 103be are formed, and the electron transport layers 103re, 103ge,
A continuous hole transport layer 103h may be formed over 3be.

【0124】また、図13に示すように、上記バックラ
イト100Dの変形例としてのバックライト100Eに
おいて、透明基板101上に櫛歯状のアノード124を
形成し、正孔注入配線部2b上にシート抵抗が108Ω
/□以下、望ましくは107Ω/□以下の正孔輸送層1
03hが形成し、正孔注入配線部124b間の正孔輸送
層103h上に、polyfluoreneまたはpolyfluoreneの誘
導体を有する、ストライプ状の電子輸送層103re、
103ge、103beの組をこの順に複数それぞれ平
行に形成し、この上に電子輸送層103re、103g
e、103beと同じ幅或いはより幅狭のストライプ状
のカソード104を形成した構造でもよい。なお、アノ
ード124とカソード104を別々の材料で形成するこ
とができる。上記各実施形態では、図1に示すように、
液晶表示パネル200の各画素電極204が有機EL層
(103r、103g、103b)のいずれか1つに対
応しているが、各有機EL層(103r、103g、1
03b)のピッチL2によっては、各有機EL層(10
3r、103g、103b)のストライプ状に延在する
方向に対し直交する方向に隣接する2以上の各画素電極
204が有機EL層(103r、103g、103b)
のいずれか1つに対応するように形成してもよい。
As shown in FIG. 13, in a backlight 100E as a modified example of the backlight 100D, a comb-shaped anode 124 is formed on the transparent substrate 101, and a sheet is formed on the hole injection wiring portion 2b. Resistance is 10 8 Ω
/ □ or less, preferably 10 7 Ω / □ or less.
03h, on the hole transport layer 103h between the hole injection wiring portions 124b, a stripe-shaped electron transport layer 103re having polyfluorene or a derivative of polyfluorene,
A plurality of pairs of 103ge and 103be are formed in this order in parallel, and the electron transport layers 103re and 103g are formed thereon.
A structure in which the stripe-shaped cathode 104 having the same width as or narrower than e and 103be may be formed. Note that the anode 124 and the cathode 104 can be formed of different materials. In each of the above embodiments, as shown in FIG.
Each pixel electrode 204 of the liquid crystal display panel 200 corresponds to one of the organic EL layers (103r, 103g, 103b).
03b), each organic EL layer (10
3r, 103g, and 103b) each of which has at least two pixel electrodes 204 adjacent to each other in a direction perpendicular to the direction in which the stripes extend in the organic EL layer (103r, 103g, and 103b).
May be formed so as to correspond to any one of the above.

【0125】[0125]

【発明の効果】本発明の液晶表示装置によれば、該バッ
クライトにおいては、異なる色に発光する二種以上の有
機EL領域が、各種類毎に分散するように透明基板上に
配置され、かつ、順次異なる色に発光可能となってい
る。例えば、有機EL領域の種類を三種類とし、これら
の発光色を光の三原色である赤、緑、青にすれば、有機
EL素子は高速応答が可能であるために、赤、緑、青の
有機EL領域をオンオフを高速で切り替えることができ
る。従って、このバックライトは、赤、緑、青の表示を
高速で切り替えることにより、カラーフィルター無し
で、フルカラーの表示が可能なフィールド・シーケンシ
ャル・フルカラーLCDのバックライトとして好適に用
いることができる。
According to the liquid crystal display device of the present invention, in the backlight, two or more types of organic EL regions emitting lights of different colors are arranged on a transparent substrate so as to be dispersed for each type. In addition, light can be sequentially emitted in different colors. For example, if there are three types of organic EL regions and their emission colors are red, green, and blue, which are the three primary colors of light, the organic EL element can respond at high speed. The organic EL region can be switched on and off at high speed. Therefore, this backlight can be suitably used as a backlight of a field sequential full-color LCD capable of full-color display without a color filter by switching red, green, and blue displays at high speed.

【0126】また、液晶表示装置のバックライトは有機
EL素子から構成されており、本発明の液晶表示装置の
動作には、各々R・G・Bに発光する有機EL素子を分
散するように配置すれば十分である。従って、R・G・
B各々単色に面状発光する有機ELを用いればよく、複
数の異なる色に発光する発光材料を混在させたり積層さ
せたりすることにより非発光遷移を増大せて輝度を低下
させることなく、複数のストライプ状の有機EL領域か
らのRGB各々の発光を高輝度に行なうことができる。
従って、このバックライトを用いた場合には、例えば、
従来の蛍光管と導光板とを組み合わせたバックライトよ
り極めて薄く、かつ、高効率のものとすることができ、
LCDのさらなる薄型を図ることができる。
The backlight of the liquid crystal display device is composed of organic EL elements. In the operation of the liquid crystal display device of the present invention, the organic EL elements emitting R, G, B light are arranged so as to be dispersed. That is enough. Therefore, R • G •
B It is sufficient to use an organic EL that emits planar light in a single color. Light emission of each of RGB from the stripe-shaped organic EL region can be performed with high luminance.
Therefore, when this backlight is used, for example,
Extremely thinner and more efficient than conventional backlights combining fluorescent tubes and light guide plates,
The LCD can be made even thinner.

【0127】また、有機EL領域をストライプ状に配置
することにより、モザイク状やその他の状態に有機EL
領域を分散させた場合に比較して、カソードやアノード
や有機EL層を極めて容易に形成することができ、バッ
クライトの製造を容易にすることができる。
By arranging the organic EL regions in stripes, the organic EL regions can be arranged in a mosaic or other state.
Compared to the case where the regions are dispersed, the cathode, the anode, and the organic EL layer can be formed extremely easily, and the manufacture of the backlight can be facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の第一例の液晶表示装置の
構造を説明するための図面である。
FIG. 1 is a drawing for explaining a structure of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第一例の液晶表示装置のバックライトの構造を
説明するための図面である。
FIG. 2 is a drawing for explaining a structure of a backlight of the liquid crystal display device of the first example.

【図3】第一例の液晶表示装置のバックライトの構造を
説明するための図面である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a structure of a backlight of the liquid crystal display device of the first example.

【図4】本発明の実施の形態の第二例の液晶表示装置の
バックライトの構造を説明するための図面である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】第二例の液晶表示装置のバックライトの構造を
説明するための図面である。
FIG. 5 is a view for explaining a structure of a backlight of the liquid crystal display device of the second example.

【図6】本発明の実施の形態の第三例の液晶表示装置の
バックライトの構造を説明するための図面である。
FIG. 6 is a view for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】第三例の液晶表示装置のバックライトの構造を
説明するための図面である。
FIG. 7 is a view for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device of a third example.

【図8】本発明の実施の形態の第四例の液晶表示装置の
バックライトの構造を説明するための図面である。
FIG. 8 is a view for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】第四例の液晶表示装置のバックライトの構造を
説明するための図面である。
FIG. 9 is a drawing for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device of a fourth example.

【図10】第四例の液晶表示装置のバックライトの構造
を説明するための図面である。
FIG. 10 is a diagram for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device of a fourth example.

【図11】本発明の実施の形態の第五例の液晶表示装置
のバックライトの構造を説明するための図面である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a structure of a backlight of a liquid crystal display device according to a fifth example of an embodiment of the present invention.

【図12】第五例の液晶表示装置のバックライトの構造
を説明するための図面である。
FIG. 12 is a drawing for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device of a fifth example.

【図13】第五例の変形例の液晶表示装置のバックライ
トの構造を説明するための図面である。
FIG. 13 is a view for explaining a structure of a backlight of a liquid crystal display device according to a modified example of the fifth example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100、100A、100B、100C、100D、1
00E バックライト 101 透明基板 102 アノード 103r 有機EL層(赤) 103g 有機EL層(緑) 103b 有機EL層(青) 103re 有機EL層(赤)の電子輸送層 103ge 有機EL層(緑)の電子輸送層 103be 有機EL層(青)の電子輸送層 103h 有機EL層の電子輸送層 103rh 有機EL層(赤)の電子輸送層 103gh 有機EL層(緑)の電子輸送層 103bh 有機EL層(青)の電子輸送層 104 カソード 108 隔壁レジスト 108a 開口部 109r 有機EL領域(赤) 109g 有機EL領域(緑) 109b 有機EL領域(青) 113 アノード 119 低抵抗配線 124 カソード 200 液晶表示パネル
100, 100A, 100B, 100C, 100D, 1
00E backlight 101 transparent substrate 102 anode 103r organic EL layer (red) 103g organic EL layer (green) 103b organic EL layer (blue) 103re electron transport layer of organic EL layer (red) 103ge electron transport of organic EL layer (green) Layer 103be Electron transport layer of organic EL layer (blue) 103h Electron transport layer of organic EL layer 103rh Electron transport layer of organic EL layer (red) 103gh Electron transport layer of organic EL layer (green) 103bh Electron transport layer of organic EL layer (blue) Electron transport layer 104 Cathode 108 Partition resist 108a Opening 109r Organic EL region (red) 109g Organic EL region (green) 109b Organic EL region (blue) 113 Anode 119 Low resistance wiring 124 Cathode 200 Liquid crystal display panel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA41Z FA44Z GA11 HA12 HA18 LA11 LA16 3K007 AB02 AB17 BA01 CA01 CB01 DA02 EB00 FA01 5C094 AA07 AA10 AA15 AA22 BA03 BA12 BA29 BA43 BA44 CA19 CA24 EA04 EA05 EB02 ED02 ED14 FB01 5G435 AA03 AA16 AA18 BB05 BB12 BB15 CC12 EE26 FF05 GG12 GG25 GG26 GG27 LL07  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F-term (reference) 2H091 FA41Z FA44Z GA11 HA12 HA18 LA11 LA16 3K007 AB02 AB17 BA01 CA01 CB01 DA02 EB00 FA01 5C094 AA07 AA10 AA15 AA22 BA03 BA12 BA29 BA43 BA44 CA19 CA24 EA04 EA05 A04 ED02 A04 ED02 AA18 BB05 BB12 BB15 CC12 EE26 FF05 GG12 GG25 GG26 GG27 LL07

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィールドシーケンシャル方式で駆動さ
れる液晶表示パネルと、該液晶表示パネルの背面側に設
けられたバックライトとを備えた液晶表示装置であっ
て、 上記バックライトにおいては、異なる色に発光する二種
以上の有機EL領域が、各種類毎に分散するように透明
基板上に配置され、かつ、順次異なる色に発光可能とな
っていることを特徴とする液晶表示装置。
1. A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal display panel driven by a field sequential system; and a backlight provided on the back side of the liquid crystal display panel, wherein the backlight has different colors. A liquid crystal display device, wherein two or more types of organic EL regions that emit light are arranged on a transparent substrate so as to be dispersed for each type, and are capable of sequentially emitting light of different colors.
【請求項2】 請求項1記載の液晶表示装置において、 上記バックライトの上記有機EL領域はストライプ状に
形成され、上記有機EL領域が、有機EL層と該有機E
L層を挟み込むように配置されたアノードとカソードと
を備え、 上記透明基板上の各有機EL領域の上記有機EL層同士
の間に、各有機EL層を分離する隔壁部がストライプ状
の上記有機EL領域に沿って形成され、これら隔壁部同
士の間に有機EL層の材料が注入されることにより、ス
トライプ状に有機EL層が形成されていることを特徴と
する液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the organic EL region of the backlight is formed in a stripe shape, and the organic EL region includes an organic EL layer and the organic EL layer.
The organic EL device includes an anode and a cathode disposed so as to sandwich the L layer, and the partition wall for separating each organic EL layer between the organic EL layers in each organic EL region on the transparent substrate has a stripe shape. A liquid crystal display device formed along an EL region, wherein an organic EL layer is formed in a stripe shape by injecting a material for the organic EL layer between the partition portions.
【請求項3】 請求項1または2記載の液晶表示装置に
おいて、 上記ガラス基板上に、上記アノードが透明な共通電極と
して各有機EL領域に渡って面状に形成され、上記アノ
ード上に、ストライプ状の上記有機EL層が形成される
とともに、有機EL層同士の間に、上記アノードより低
抵抗な低抵抗配線が形成され、かつ、該低抵抗配線上
に、該低抵抗配線を覆うとともに、各有機EL層同士を
分離する隔壁部が形成され、上記有機EL層上に、上記
カソードが各有機EL領域毎もしくは同じ種類の有機E
L領域毎に独立した電極として形成されていることを特
徴とする液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the anode is formed on the glass substrate as a transparent common electrode in a planar shape over each organic EL region, and a stripe is formed on the anode. While the organic EL layer is formed in a shape, a low-resistance wiring having a lower resistance than the anode is formed between the organic EL layers, and the low-resistance wiring is covered on the low-resistance wiring. A partition for separating the organic EL layers is formed, and the cathode is provided on the organic EL layer for each organic EL region or for the same type of organic E layer.
A liquid crystal display device formed as an independent electrode for each L region.
【請求項4】 請求項1記載の液晶表示装置において、 上記有機EL領域が、有機EL層と該有機EL層に電流
を流すための第1電極及び第2電極とを備え、 上記有機EL層は、その電荷輸送領域の一部が、透明基
板上に設けられた上記第1電極に重なって形成されると
ともに、電荷輸送領域の他部が上記第1電極と重ならな
いように形成されていることを特徴とする液晶表示装
置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the organic EL region includes an organic EL layer, and a first electrode and a second electrode for allowing a current to flow through the organic EL layer. Is formed such that a part of the charge transport region overlaps with the first electrode provided on the transparent substrate, and another portion of the charge transport region does not overlap with the first electrode. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 請求項1記載の液晶表示装置において、 上記有機EL領域が、透明基板上に形成され、内部に流
れる電流に応じて発光する光が上記透明基板側に出射す
る有機EL層と、 上記有機EL層上に形成されたアノードと、 上記有機EL層上に上記アノードと離間して形成された
カソードと、 を備えることを特徴とする液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the organic EL region is formed on a transparent substrate, and an organic EL layer that emits light emitted according to a current flowing inside the organic EL region toward the transparent substrate. A liquid crystal display device comprising: an anode formed on the organic EL layer; and a cathode formed on the organic EL layer so as to be separated from the anode.
【請求項6】 請求項1記載の液晶表示装置において、 上記有機EL領域が、透明基板上に形成されたアノード
と、 上記アノード上に形成され、面方向への電荷輸送自在
で、かつ、有機EL層の一部である第1電荷輸送層と、 上記第1電荷輸送層に形成されるとともに有機EL層の
一部である第2電荷輸送層と、 平面的に上記アノードと重ならないように上記第2電荷
輸送層上に形成されたカソードと、 を備えることを特徴とする液晶表示装置。
6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said organic EL region is formed on an anode formed on a transparent substrate; and said organic EL region is formed on said anode, and is capable of transporting charges in a plane direction. A first charge transport layer that is part of the EL layer; a second charge transport layer that is formed on the first charge transport layer and that is part of the organic EL layer; A liquid crystal display device comprising: a cathode formed on the second charge transport layer.
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