JP2001097739A - Production method of crystallized glass - Google Patents

Production method of crystallized glass

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JP2001097739A
JP2001097739A JP27665799A JP27665799A JP2001097739A JP 2001097739 A JP2001097739 A JP 2001097739A JP 27665799 A JP27665799 A JP 27665799A JP 27665799 A JP27665799 A JP 27665799A JP 2001097739 A JP2001097739 A JP 2001097739A
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Japan
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weight
temperature
phase
glass
thermal expansion
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JP27665799A
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Japanese (ja)
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Masahiro Abe
真博 阿部
Takahiro Takahashi
貴博 高橋
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NGK Insulators Ltd
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NGK Insulators Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of crystallized glass capable of reducing the fluctuation of coefficient of thermal expansion corresponding with respect to the fluctuation of crystallizing temperature by retaining material glass at a specific nucleation temperature and then retaining at the crystallizing temperature to crystallize at least an α-quartz phase. SOLUTION: The material glass is retained at a nucleation temperature and then retained at a crystallization temperature to crystallize the material glass for depositing at least its α-quartz phase. In this case, the nucleation temperature is adjusted at 620-680 deg.C, and as a result, the difference Δα between the maximum and the minimum of coefficients of thermal expansion of the crystallized glass obtained by crystallizing in a range, a standard crystallizing temperature ±10 deg.C, is controlled to Δα<=10×10-7/k.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、結晶化ガラスの製
造方法に関するものである。
[0001] The present invention relates to a method for producing crystallized glass.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク用途においては、室温付近
の熱膨張係数が60〜130×10-7/k、好ましくは
60−90×10-7/kの結晶化ガラスが要求されてい
る。記録密度の向上のためには、磁気ヘッドの浮上量の
低減が不可欠であり、このため磁気ディスクには平滑な
面が要求される。いわゆるLAS系の結晶化ガラスにお
いて熱膨張係数を60×10-7/k以上にするために
は、熱膨張係数の大きい結晶を析出させる必要がある。
熱膨張係数の大きい結晶としては、クリストバライト、
トリジマイト、α−石英等があるが、平滑な面を得るに
は、微細結晶として析出しやすいα−石英を用いるのが
有利である。
2. Description of the Related Art For magnetic disk applications, crystallized glass having a coefficient of thermal expansion around room temperature of 60 to 130 × 10 −7 / k, preferably 60 to 90 × 10 −7 / k is required. In order to improve the recording density, it is essential to reduce the flying height of the magnetic head. Therefore, a smooth surface is required for the magnetic disk. In order to increase the coefficient of thermal expansion of the so-called LAS-based crystallized glass to 60 × 10 −7 / k or more, it is necessary to precipitate crystals having a large coefficient of thermal expansion.
Crystals having a large coefficient of thermal expansion include cristobalite,
Although there are tridymite and α-quartz, it is advantageous to use α-quartz which easily precipitates as fine crystals to obtain a smooth surface.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、結晶化ガラス
中に析出するα−石英は、熱処理温度に対して非常に敏
感であり、僅かな温度差により結晶化ガラスの熱膨張係
数がかなりばらつくため、不良品が増加し、量産には適
さない。
However, α-quartz precipitated in crystallized glass is very sensitive to the heat treatment temperature, and the coefficient of thermal expansion of crystallized glass varies considerably due to a slight temperature difference. The number of defective products increases, which is not suitable for mass production.

【0004】特公平6−29152号公報には、P2
5 とMgOとを必須成分とした、主結晶がα−クリスト
バライトとリチウムダイシリケートの結晶化ガラスが開
示されている。この特許では、結晶化温度に対する熱膨
張係数の安定性に優れると書いてあるが、これはα−ク
リストバライトが析出しているためである。特開平11
−16151号公報、特開平11−16143号公報に
は、α−石英とリチウムダイシリケートを主結晶とする
磁気ディスク用結晶化ガラスが開示されている。この特
許には、結晶化温度に対する熱膨張係数の安定性につい
ては述べられていない。また、α−石英が凝集形態で析
出しているため、精密研磨後の中心線平均表面粗さRa
が比較的大きい。特開平10−226532号公報に
は、主結晶がリチウムダイシリケートで、副結晶がα−
石英の磁気ディスク用結晶化ガラスが開示されている。
この特許では、核形成を550〜600℃で行ってい
る。特開平7−101750号公報には、P25 とT
iO2 を必須成分とした、主結晶がα−石英とリチウム
ダイシリケートの結晶化ガラスが開示されている。結晶
化温度に対する熱膨張係数の安定性に優れるとは記載さ
れているが、リチウムメタシリケート相があるため、耐
候性が悪く、磁気ディスク用途には適さない。
Japanese Patent Publication No. 6-29152 discloses P 2 O
Disclosed is a crystallized glass containing α-cristobalite and lithium disilicate as main crystals containing 5 and MgO as essential components. In this patent, it is described that the thermal expansion coefficient is excellent in stability with respect to the crystallization temperature, because α-cristobalite is precipitated. JP 11
JP-A-16151 and JP-A-11-16143 disclose crystallized glass for a magnetic disk having α-quartz and lithium disilicate as main crystals. This patent does not describe the stability of the coefficient of thermal expansion with respect to the crystallization temperature. In addition, since α-quartz is precipitated in an aggregated form, the center line average surface roughness Ra after precision polishing is
Is relatively large. JP-A-10-226532 discloses that the main crystal is lithium disilicate and the sub crystal is α-
A quartz crystallized glass for a magnetic disk is disclosed.
In this patent, nucleation occurs at 550-600 ° C. JP-A-7-101750 discloses that P 2 O 5 and T
The iO 2 was an essential component, the main crystal of α- quartz and lithium disilicate glass-ceramics is disclosed. Although it is described that the thermal expansion coefficient has excellent stability with respect to the crystallization temperature, the lithium metasilicate phase has poor weather resistance and is not suitable for magnetic disk applications.

【0005】本発明の課題は、原ガラスを核形成温度で
保持し、次いで結晶化温度で保持して原ガラスを結晶化
させ、この際少なくともα−石英相を析出させるのに際
して、結晶化温度の変動に対する熱膨張係数の変動を少
なくすることである。
It is an object of the present invention to maintain the raw glass at a nucleation temperature and then at a crystallization temperature to crystallize the raw glass, in which case at least the α-quartz phase is precipitated. Is to reduce the variation of the coefficient of thermal expansion with respect to the variation of

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、原ガラスを
核形成温度で保持し、次いで結晶化温度で保持して原ガ
ラスを結晶化させ、この際少なくともα−石英相を析出
させる結晶化ガラスの製造方法において、核形成温度を
620−680℃とすることによって、基準結晶化温度
に対して±10℃の範囲内の温度で結晶化させた際に得
られた結晶化ガラスの熱膨張係数の最大値と最小値との
差Δαを10×10- 7 /k以下に制御できることを見
出し、本発明に到達した。
SUMMARY OF THE INVENTION The inventor of the present invention has proposed a method of maintaining a raw glass at a nucleation temperature and then at a crystallization temperature to crystallize the raw glass, wherein at least an α-quartz phase is precipitated. In the method for producing glass frit, by setting the nucleation temperature to 620-680 ° C., the heat of the crystallized glass obtained when crystallizing at a temperature within ± 10 ° C. with respect to the reference crystallization temperature is obtained. the difference Δα between the maximum value and the minimum value of the expansion coefficient of 10 × 10 - found that can be controlled to below 7 / k, have reached the present invention.

【0007】ここで、基準結晶化温度とは、結晶化ガラ
スの製造プロセスにおいて目標としている結晶化温度の
ことである。現実の量産プロセスにおいては、各製品の
結晶化温度は、基準結晶化温度に対して、少なくとも±
10℃程度の誤差がある。Δαは、基準結晶化温度に対
して±10℃の範囲内の各結晶化温度で原ガラスを結晶
化させたときに、得られた結晶化ガラスの熱膨張係数α
の最大値と最小値との差であり、ほぼ製造時の熱膨張係
数αのバラツキを表す指標である。熱膨張係数αは、−
50℃−+70℃の温度範囲内における熱膨張係数であ
る。
Here, the reference crystallization temperature is a target crystallization temperature in the production process of crystallized glass. In an actual mass production process, the crystallization temperature of each product is at least ±
There is an error of about 10 ° C. Δα is the coefficient of thermal expansion α of the crystallized glass obtained when the original glass is crystallized at each crystallization temperature within a range of ± 10 ° C. with respect to the reference crystallization temperature.
Is a difference between the maximum value and the minimum value, and is an index indicating the variation of the thermal expansion coefficient α at the time of manufacture. The coefficient of thermal expansion α is −
It is a coefficient of thermal expansion in a temperature range of 50 ° C-+ 70 ° C.

【0008】本発明は、以下の発見に基づくものであ
る。
[0008] The present invention is based on the following findings.

【0009】一般的に、結晶化時の核形成は、ガラス転
移点の30〜40℃ほど高温側の温度域で行うのが通常
であった。本発明者は、α−石英を析出させた結晶化ガ
ラスにおいて、種々の温度で核形成を行うと、α−石英
の析出量が、核形成温度に応じて変化し、約610℃近
辺でピークを示すことを見出した。
Generally, nucleation during crystallization is usually performed in a temperature range as high as about 30 to 40 ° C., which is the glass transition point. The present inventors have found that, when nucleation is performed at various temperatures in crystallized glass on which α-quartz is precipitated, the amount of α-quartz deposited changes according to the nucleation temperature, and peaks at about 610 ° C. Was found.

【0010】この点について、図1のグラフを参照して
説明する。図1のグラフの横軸は核形成温度であり、縦
軸は熱膨張係数αである。核形成温度が高温になるに従
って、熱膨張係数αが増加し、約610℃近辺でピーク
となり、これ以上の温度では熱膨張係数αが徐々に減少
していた。
This point will be described with reference to the graph of FIG. The horizontal axis of the graph in FIG. 1 is the nucleation temperature, and the vertical axis is the thermal expansion coefficient α. As the nucleation temperature increased, the thermal expansion coefficient α increased, peaked at about 610 ° C., and at temperatures higher than this, the thermal expansion coefficient α gradually decreased.

【0011】一方、結晶化温度が上昇すると、結晶化ガ
ラス中のα−石英相の析出量が増加し、熱膨張係数αが
増大する傾向がある。
On the other hand, when the crystallization temperature rises, the precipitation amount of the α-quartz phase in the crystallized glass increases, and the thermal expansion coefficient α tends to increase.

【0012】従来は、通常は610℃以下の核形成温
度、即ち図1においてグラフの傾きが正である領域の核
形成温度で核形成を行い、次いで所定の結晶化温度で所
定時間保持していた。このような方法が、結晶化温度の
変動に対する熱膨張係数αの変動を増幅していたことを
発見した。
Conventionally, nucleation is usually performed at a nucleation temperature of 610 ° C. or less, ie, a nucleation temperature in a region where the slope of the graph is positive in FIG. 1, and then maintained at a predetermined crystallization temperature for a predetermined time. Was. It has been discovered that such a method amplifies the variation of the coefficient of thermal expansion α with the variation of the crystallization temperature.

【0013】なぜなら、電気炉等の熱処理装置において
は、設定された核形成温度および結晶化温度に対して、
それぞれ±10℃程度の誤差が生ずるのが通常である。
この際、核形成温度がその設定値よりも高くなったとき
に、結晶化温度がその設定値よりも低くなることは少な
く、通常は両者ともに各設定値よりも高くなるか、ある
いは低くなる。
In a heat treatment apparatus such as an electric furnace, the set nucleation temperature and crystallization temperature are
Usually, an error of about ± 10 ° C. occurs.
At this time, when the nucleation temperature is higher than the set value, the crystallization temperature is rarely lower than the set value, and usually both are higher or lower than the respective set values.

【0014】従って、従来は、かりに核形成温度が設定
値よりも高くなると、前記したようにα−石英の析出量
が増加する。これと共に結晶化温度が設定値よりも高く
なると、やはりα−石英の析出量が増加する。このた
め、全体として結晶化ガラス中のα−石英の析出量が目
標値よりも大きくなり、ガラスの熱膨張係数αが増大し
た。また、かりに核形成温度が設定値よりも低くなる
と、α−石英の析出量が目標値よりも低下し、これと共
に結晶化温度が設定値よりも低くなると、やはりα−石
英の析出量が低下する。このため、結晶化ガラスの熱膨
張係数αが低下した。
Therefore, conventionally, when the nucleation temperature is higher than the set value, the precipitation amount of α-quartz increases as described above. At the same time, when the crystallization temperature becomes higher than the set value, the precipitation amount of α-quartz also increases. For this reason, the precipitation amount of α-quartz in the crystallized glass as a whole became larger than the target value, and the thermal expansion coefficient α of the glass increased. Also, when the nucleation temperature is lower than the set value, the precipitation amount of α-quartz is lower than the target value, and when the crystallization temperature is lower than the set value, the precipitation amount of α-quartz is also lower. I do. For this reason, the thermal expansion coefficient α of the crystallized glass decreased.

【0015】これに対して、本発明によれば、核形成温
度を620−680℃としている。即ち、α−石英の析
出量が最も増大する610℃よりも高温側の核形成温度
を使用している。この温度領域においては、核形成温度
が上昇すると、α−石英の析出量は低下する。
On the other hand, according to the present invention, the nucleation temperature is 620-680 ° C. That is, a nucleation temperature higher than 610 ° C. at which the amount of precipitated α-quartz increases most is used. In this temperature range, as the nucleation temperature rises, the amount of precipitated α-quartz decreases.

【0016】即ち、かりに核形成温度が設定値よりも高
くなると、α−石英の析出量が目標値に比べて減少す
る。これと共に結晶化温度が設定値よりも高くなると、
α−石英の析出量が目標値に比べて増加する。このた
め、全体としては、結晶化ガラス中のα−石英の析出量
の目標値からの変動は少なくなる。これと同様に、かり
に核形成温度が設定値よりも低くなると、α−石英の析
出量が目標値よりも増加し、これと共に結晶化温度が設
定値よりも低くなると、α−石英の析出量が減少する。
このため、全体としては、結晶化ガラス中のα−石英の
析出量の目標値からの変動は少なくなる。
That is, when the nucleation temperature is higher than the set value, the precipitation amount of α-quartz decreases as compared with the target value. At the same time, when the crystallization temperature becomes higher than the set value,
The precipitation amount of α-quartz increases as compared with the target value. For this reason, as a whole, the variation of the precipitation amount of α-quartz in the crystallized glass from the target value is reduced. Similarly, when the nucleation temperature is lower than the set value, the precipitation amount of α-quartz increases from the target value. Decrease.
For this reason, the variation of the amount of precipitated α-quartz in the crystallized glass from the target value is reduced as a whole.

【0017】従って、本発明によれば、基準結晶化温度
に対して±10℃の範囲内の温度で結晶化させた際に得
られた結晶化ガラスの熱膨張係数の最大値と最小値との
差Δαを小さくでき、具体的には10×10- 7 /k以
下に制御することができた。
Therefore, according to the present invention, the maximum and minimum values of the thermal expansion coefficient of the crystallized glass obtained when crystallizing at a temperature within the range of ± 10 ° C. with respect to the reference crystallization temperature are determined. the difference Δα can be reduced, and in particular 10 × 10 - could be controlled below 7 / k.

【0018】核形成温度が620℃未満であると、前記
の作用効果が得られない。核形成温度が680℃を超え
ると、核形成作用が不十分になり、α−石英相が十分に
析出せず、熱膨張係数αが低下する。核形成温度は、更
に640℃以上とすることが好ましく、670℃以下と
することが好ましい。
If the nucleation temperature is lower than 620 ° C., the above-mentioned effects cannot be obtained. When the nucleation temperature exceeds 680 ° C., the nucleation action becomes insufficient, the α-quartz phase does not sufficiently precipitate, and the thermal expansion coefficient α decreases. The nucleation temperature is preferably 640 ° C. or higher, more preferably 670 ° C. or lower.

【0019】結晶化温度は700−740℃とすること
が好ましい。これによって、α−石英相を適度に析出さ
せることができ、それによって熱膨張係数を所望の値に
することができる。
The crystallization temperature is preferably set at 700-740 ° C. Thereby, the α-quartz phase can be appropriately precipitated, whereby the coefficient of thermal expansion can be set to a desired value.

【0020】結晶化ガラスの結晶相は、特に限定されな
いが、α−石英相以外には、リチウムダイシリケート相
を備えていることが好ましく、ペタライト相を備えてい
ることが更に好ましい。
The crystal phase of the crystallized glass is not particularly limited, but preferably includes a lithium disilicate phase, and more preferably a petalite phase, in addition to the α-quartz phase.

【0021】この際、リートベルト定量法による各結晶
定量値が以下の範囲内にあることが好ましく、これによ
って−50℃〜70℃の範囲での熱膨張係数を、60〜
130×10-7/k程度に調節することができた。 5重量%≦ペタライト相≦45重量% 25重量%≦リチウムダイシリケート相≦45重量% 5重量%≦α−石英相≦40重量%
At this time, it is preferable that each crystal quantitative value by the Rietveld quantitative method is in the following range, whereby the thermal expansion coefficient in the range of -50 ° C to 70 ° C is 60 to
It could be adjusted to about 130 × 10 −7 / k. 5% by weight ≦ Petalite phase ≦ 45% by weight 25% by weight ≦ Lithium disilicate phase ≦ 45% by weight 5% by weight ≦ α-quartz phase ≦ 40% by weight

【0022】特に、α−石英相よりも多くのペタライト
相を析出させることで、−50℃〜70℃の範囲での熱
膨張係数を、60〜90×10-7/k程度に調節するこ
とができた。しかも、主結晶としてペタライト相を析出
させることによって、結晶化ガラスを精密研磨した後の
表面粗さが小さくなることが分かった。更に、ペタライ
ト相の結晶量を多くすることによって、リチウムの溶出
量が著しく少なくなる。
Particularly, by precipitating more petalite phases than the α-quartz phase, the coefficient of thermal expansion in the range of -50 ° C. to 70 ° C. is adjusted to about 60 to 90 × 10 −7 / k. Was completed. In addition, it was found that by precipitating the petalite phase as the main crystal, the surface roughness after precision polishing of the crystallized glass was reduced. Further, by increasing the amount of crystals of the petalite phase, the amount of lithium eluted is significantly reduced.

【0023】こうした結晶化ガラス中の各結晶相の組成
は、以下のようにすることが一層好ましい。 20重量%≦ペタライト相≦40重量% 25重量%≦リチウムダイシリケート相≦45重量% 10重量%≦α−石英相≦25重量%
The composition of each crystal phase in the crystallized glass is more preferably as follows. 20 wt% ≦ Petalite phase ≦ 40 wt% 25 wt% ≦ lithium disilicate phase ≦ 45 wt% 10 wt% ≦ α-quartz phase ≦ 25 wt%

【0024】本発明の結晶化ガラスの結晶化度は、65
重量%以上が好ましく、75重量%以上が更に好まし
い。
The crystallinity of the crystallized glass of the present invention is 65
% By weight or more, more preferably 75% by weight or more.

【0025】本発明の結晶化ガラスの製造方法はむろん
限定されないが、たとえは以下のようにすることができ
る。
The method for producing the crystallized glass of the present invention is, of course, not limited, but may be, for example, as follows.

【0026】原ガラスにおけるSiO2 の量を70重量
%以上とすることによって、結晶粒子を微細化でき、8
0重量%以下とすることによって、原ガラスの溶融を容
易にできる。更に好ましくは、SiO2 の量は、72重
量%以上であり、77重量%以下である。
By setting the amount of SiO 2 in the raw glass to 70% by weight or more, crystal grains can be refined, and
By adjusting the content to 0% by weight or less, the raw glass can be easily melted. More preferably, the amount of SiO 2 is greater than or equal to 72% by weight and less than or equal to 77% by weight.

【0027】原ガラスにおけるAl23 の量が5重量
%未満であると、α−石英相が析出せず、結晶化ガラス
の熱膨張係数が低下する。Al23 の量が10重量%
を超えると、ガラスの溶解性が悪化する。更に好ましく
は、Al23 の量は、6.5重量%以上であり、8.
5重量%以下である。
If the amount of Al 2 O 3 in the raw glass is less than 5% by weight, the α-quartz phase does not precipitate and the coefficient of thermal expansion of the crystallized glass decreases. Al 2 O 3 content of 10% by weight
If it exceeds, the solubility of the glass will deteriorate. More preferably, the amount of Al 2 O 3 is at least 6.5% by weight;
5% by weight or less.

【0028】Li2 Oの量を7重量%以上とし、更に好
ましくは8重量%以上とすることによって、所望の結晶
相の析出が可能となる。Li2 Oの量が10重量%を超
えると、結晶粒子が粗大化する。
By setting the amount of Li 2 O to 7% by weight or more, more preferably 8% by weight or more, a desired crystal phase can be deposited. If the amount of Li 2 O exceeds 10% by weight, the crystal grains become coarse.

【0029】P25 の量が1重量%未満であると、所
望の結晶が析出しない。P25 の量が3重量%を超え
ると、結晶化ガラスが失透し、結晶粒子が粗大化しやす
い。更に好ましくは、P25 の量は、2重量%以下で
ある。
If the amount of P 2 O 5 is less than 1% by weight, desired crystals do not precipitate. When the amount of P 2 O 5 exceeds 3% by weight, the crystallized glass is devitrified, and the crystal grains are likely to be coarse. More preferably, the amount of P 2 O 5 is not more than 2% by weight.

【0030】K2 Oを0〜3重量%含有させることがで
きる。K2 Oは、ガラスの溶融温度を低下させる。この
作用を発揮させるには、この含有量を1重量%以上とす
ることが更に好ましい。また、K2 Oの含有量が3重量
%を越えると、α−石英相が析出せず、熱膨張係数が低
下し、結晶粒子が粗大化する。更に好ましくは、K2
の量は、2重量%以下である。
K 2 O can be contained in an amount of 0 to 3% by weight. K 2 O lowers the melting temperature of the glass. In order to exert this effect, the content is more preferably 1% by weight or more. On the other hand, if the content of K 2 O exceeds 3% by weight, the α-quartz phase does not precipitate, the coefficient of thermal expansion decreases, and the crystal grains become coarse. More preferably, K 2 O
Is not more than 2% by weight.

【0031】CaOを0〜3重量%、BaOを0〜3重
量%含有させることが好ましい。これらは、原ガラスの
溶解温度を低下させる。CaO、BaOの量がそれぞれ
3重量%を超えると、結晶が析出しなくなる。更に好ま
しくは、CaO、BaOの量は、それぞれ、1.5重量
%以下である。
It is preferable to contain 0 to 3% by weight of CaO and 0 to 3% by weight of BaO. These lower the melting temperature of the raw glass. If the amounts of CaO and BaO each exceed 3% by weight, no crystals will precipitate. More preferably, the amounts of CaO and BaO are each 1.5% by weight or less.

【0032】ZnOを0〜3重量%含有させることが好
ましい。ZnOは、原ガラスの溶解温度を低下させる。
ZnOの量が3重量%を超えると、結晶化ガラスが失透
しやすい。更に好ましくは、ZnOの量は、1.5重量
%以下である。
Preferably, ZnO is contained in an amount of 0 to 3% by weight. ZnO lowers the melting temperature of the raw glass.
If the amount of ZnO exceeds 3% by weight, the crystallized glass tends to be devitrified. More preferably, the amount of ZnO is at most 1.5% by weight.

【0033】ZrO2 を0−6重量%含有させることが
好ましい。ZrO2 は、結晶を微細化させる。ZrO2
の量が6重量%を超えると、α−石英相が析出しなくな
る。更に好ましくは、ZrO2 の量は、1重量%以上、
4重量%以下である。
It is preferable that ZrO 2 be contained in an amount of 0 to 6% by weight. ZrO 2 refines the crystal. ZrO 2
When the amount exceeds 6% by weight, no α-quartz phase is precipitated. More preferably, the amount of ZrO 2 is at least 1% by weight,
4% by weight or less.

【0034】Sb23 を0−2重量%含有させること
が好ましい。Sb23は、ガラスを脱泡させる。Sb2
3 の量は2重量%では飽和する。更に好ましくは、
Sb23 の量は、0.1重量%以上、1重量%以下で
ある。
It is preferable that Sb 2 O 3 be contained in an amount of 0 to 2 % by weight. Sb 2 O 3 degass the glass. Sb 2
The amount of O 3 saturates at 2% by weight. More preferably,
The amount of Sb 2 O 3 is 0.1% by weight or more and 1% by weight or less.

【0035】Nb25 を0−6重量%含有させること
が好ましい。Nb25を添加すると、結晶化温度が変
動したときに、熱膨張係数の変動が小さくなる。Nb2
5 の量が6重量%を超えると、結晶粒子が粗大化す
る。更に好ましくは、Nb25 の量は、2重量%以下
である。
It is preferable that Nb 2 O 5 be contained in an amount of 0 to 6% by weight. When Nb 2 O 5 is added, when the crystallization temperature changes, the change in the coefficient of thermal expansion decreases. Nb 2
If the amount of O 5 exceeds 6% by weight, the crystal grains become coarse. More preferably, the amount of Nb 2 O 5 is not more than 2% by weight.

【0036】本発明の結晶化ガラス中には、他の成分を
含有させることができる。まず、TiO2 、SnO2
白金等の貴金属のフッ化物を、単独で、または2種以上
混合して、含有させることができる。
Other components can be contained in the crystallized glass of the present invention. First, TiO 2 , SnO 2 ,
A noble metal fluoride such as platinum can be contained alone or as a mixture of two or more.

【0037】As23 を0〜2重量%含有させること
もできる。これはガラス溶融の際の清澄剤である。B2
3 を0〜3重量%含有させることもできる。
As 2 O 3 may be contained in an amount of 0 to 2% by weight. This is a fining agent for melting glass. B 2
O 3, may contain 0-3 wt%.

【0038】原ガラスを製造する際には、上記の各金属
原子を含有する各原料を、上記の重量比率に該当するよ
うに混合し、この混合物を溶融させる。この原料として
は、各金属原子の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、リン酸塩、
水酸化物を例示することができる。また、原ガラスを熱
処理して結晶化させる際の雰囲気としては、大気雰囲
気、還元雰囲気、水蒸気雰囲気、加圧雰囲気等を選択す
ることができる。
In producing the raw glass, the respective raw materials containing the respective metal atoms are mixed so as to correspond to the above weight ratio, and the mixture is melted. The raw materials include oxides, carbonates, nitrates, phosphates of each metal atom,
A hydroxide can be exemplified. In addition, as an atmosphere for heat treatment and crystallization of the raw glass, an air atmosphere, a reducing atmosphere, a steam atmosphere, a pressurized atmosphere, or the like can be selected.

【0039】また、上記の製造方法において原ガラスを
加熱する際には、少なくとも500℃以上の温度領域で
の温度上昇速度を50〜300℃/時間に制御すること
によって結晶核の生成を進行させることが好ましい。
Further, when the raw glass is heated in the above-mentioned manufacturing method, the generation of crystal nuclei is advanced by controlling the temperature rising rate in a temperature region of at least 500 ° C. to 50 to 300 ° C./hour. Is preferred.

【0040】ペタライト相が多く析出する結晶化温度
は、原ガラスの組成によって変動する。そして、結晶化
温度が高いと、ペタライト相がα−石英相に転換し、多
量のα−石英相が析出する傾向がある。結晶化温度が低
いと、ペタライト相がα−石英相に転換せず、多量のペ
タライト相が析出する傾向がある。
The crystallization temperature at which a large amount of the petalite phase precipitates varies depending on the composition of the raw glass. When the crystallization temperature is high, the petalite phase is converted to the α-quartz phase, and a large amount of the α-quartz phase tends to precipitate. When the crystallization temperature is low, the petalite phase does not convert to the α-quartz phase, and a large amount of the petalite phase tends to precipitate.

【0041】上記の結晶化ガラスからなる素材を、砥粒
によって精密研磨加工する工程では、いわゆるラッピン
グ、ポリッシング等、公知の精密研磨加工方法によって
研磨し、磁気ディスク用基板を作成できる。また、本発
明の磁気ディスク用基板の主面上には、下地処理層、磁
性膜、保護膜等を形成することができ、更に保護膜上に
潤滑剤を塗布することができる。
In the step of precision polishing of the above-mentioned crystallized glass material with abrasive grains, a substrate for a magnetic disk can be prepared by polishing by a known precision polishing method such as so-called lapping or polishing. On the main surface of the magnetic disk substrate of the present invention, a base treatment layer, a magnetic film, a protective film, and the like can be formed, and a lubricant can be applied on the protective film.

【0042】[0042]

【実施例】(親ガラスの製造)表1、表3に示す、各種
金属酸化物の重量比になるように、各金属を含む化合物
を混合した。この混合物250gを容積200ccの白
金ルツボに入れ、1400℃で5.5時間熱処理し、溶
融した。炉の温度を1350℃に落として、1時間保持
した後、カーボン製の型に原ガラスを流しだし、成形し
た。500℃で1時間アニールした後、徐冷して、円盤
状の親ガラスを得た。
EXAMPLES (Manufacture of glass parent) Compounds containing each metal were mixed so that the weight ratio of various metal oxides shown in Tables 1 and 3 was obtained. 250 g of this mixture was put in a 200 cc platinum crucible and heat-treated at 1400 ° C. for 5.5 hours to melt. After the temperature of the furnace was lowered to 1350 ° C. and maintained for one hour, the raw glass was poured into a carbon mold and molded. After annealing at 500 ° C. for 1 hour, the resultant was gradually cooled to obtain a disk-shaped parent glass.

【0043】この親ガラスから、寸法5×30×厚さ
0.85mmの板状試料を切り出した。板状試料の両面
は、#400の砥石で仕上げ加工した。
From this parent glass, a plate-like sample having dimensions of 5 × 30 × 0.85 mm in thickness was cut out. Both surfaces of the plate-like sample were finished with a # 400 grindstone.

【0044】(結晶化工程)各板状試料を、窒素雰囲気
中で、厚さ5mmのカーボン板に挟んだ状態で結晶化さ
せた。結晶化のスケジュールは、表1、3に示す各核形
成温度まで200℃/時間で昇温し、各核形成温度で2
〜5時間保持し、表1、3に示す各結晶化温度まで10
0℃/時間で昇温し、各結晶化温度で2〜5時間保持
し、室温まで200℃/時間で降温した。
(Crystallization Step) Each plate-like sample was crystallized in a nitrogen atmosphere while being sandwiched between carbon plates having a thickness of 5 mm. The crystallization schedule was as follows: the temperature was raised at 200 ° C./hour to each nucleation temperature shown in Tables 1 and 3;
Hold for about 5 hours, and until each crystallization temperature shown in Tables 1 and 3,
The temperature was raised at 0 ° C./hour, kept at each crystallization temperature for 2 to 5 hours, and lowered to room temperature at 200 ° C./hour.

【0045】(結晶相の同定)X線出力50kV・30
0mAのX線回折装置(RINT2500)を使用した
(2θ=10〜60°、ステップ幅0.02°、Fix
ed Time 10秒、スリットDS=SS=0.5
°、RS=0.15°)。このX線回折装置の入射側に
は、Ge(111)湾曲型モノクロメーターを備える光
学系を設けた。アルミナを内部標準試料とするリートベ
ルト解析法(解析ソフト:「RIETAN」)により、
結晶化ガラス中の各結晶相の結晶化率を求めた。「RI
ETAN」による結晶の定量は、F.Izumi.らが、「J.Ap
pl.Crystallogr. 」, 20,411(1987) に述べている。
(Identification of Crystal Phase) X-ray output 50 kV / 30
A 0 mA X-ray diffractometer (RINT 2500) was used (2θ = 10-60 °, step width 0.02 °, Fix)
ed Time 10 seconds, slit DS = SS = 0.5
°, RS = 0.15 °). An optical system including a Ge (111) curved monochromator was provided on the incident side of the X-ray diffraction apparatus. By the Rietveld analysis method using alumina as an internal standard sample (analysis software: "RIETAN"),
The crystallization ratio of each crystal phase in the crystallized glass was determined. "RI
The quantification of crystals by ETAN was performed by F. Izumi.
pl. Crystallogr. ", 20,411 (1987).

【0046】この結果、ペタライト(Li2 O・Al2
3 ・8SiO2 )、リチウムダイシリケート(Li2
O・2SiO2 :「L2S」と表記した)、α−石英
(化学式SiO2 )、スポジューメン(Li2 Al2
820)、クリストバライト(化学式SiO2 )等の
結晶が観察された。
As a result, petalite (Li 2 O.Al 2
O 3 · 8SiO 2 ), lithium disilicate (Li 2
O.2SiO 2 : described as “L2S”, α-quartz (chemical formula SiO 2 ), spodium (Li 2 Al 2 S)
Crystals such as i 8 O 20 ) and cristobalite (chemical formula: SiO 2 ) were observed.

【0047】(熱膨張係数αの測定)結晶化の終わっ
た、寸法5×30×厚さ0.85mmの板状試料を切断
し、長さ20mmの測定試料を作成した。熱膨張率測定
装置(マックサイエンス製「TD5000S」)で、試
験試料の熱膨張率を−75°〜+110°の範囲で測定
した。−50℃を基準にして、+70℃までの熱膨張係
数を計算した。なお、熱膨張係数は、結晶化温度の微細
な変化に対して敏感に反応する。このため、表2、表4
に示すαの数値は、(表1、表3に示した各結晶化温
度)±10℃で結晶化させた3個の測定試料のαの平均
値である。
(Measurement of Thermal Expansion Coefficient α) A plate sample having a size of 5 × 30 × 0.85 mm in thickness after crystallization was cut into a measurement sample having a length of 20 mm. The coefficient of thermal expansion of the test sample was measured in a range of -75 ° to + 110 ° using a thermal expansion coefficient measuring device (“TD5000S” manufactured by Mac Science). The coefficient of thermal expansion up to + 70 ° C was calculated based on -50 ° C. The coefficient of thermal expansion reacts sensitively to minute changes in the crystallization temperature. Therefore, Tables 2 and 4
Is the average value of α of three measurement samples crystallized at (the crystallization temperatures shown in Tables 1 and 3) ± 10 ° C.

【0048】また、表2、表4の「Δα」は、(表1、
表3に示した各結晶化温度)±10℃で結晶化した3個
の試料についての、αの最大値と最小値との差である。
Further, “Δα” in Tables 2 and 4 is (Table 1,
This is the difference between the maximum value and the minimum value of α for three samples crystallized at each crystallization temperature shown in Table 3) ± 10 ° C.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】[0051]

【表3】 [Table 3]

【0052】[0052]

【表4】 [Table 4]

【0053】実施例1−4では、主結晶相はペタライ
ト、リチウムダイシリケートであり、副結晶相はα−石
英であった。熱膨張係数αは68〜85×10- 7/k
であり、Δαは10×10- 7 /k以下であった。
In Example 1-4, the main crystal phase was petalite and lithium disilicate, and the sub-crystal phase was α-quartz. Thermal expansion coefficient α is 68~85 × 10 - 7 / k
In it, [Delta] [alpha] is 10 × 10 - were less than 7 / k.

【0054】実施例5では、主結晶相はリチウムダイシ
リケートおよびα−石英であり、副結晶相はペタライト
であった。熱膨張係数αは101×10- 7 /kであ
り、Δαは3×10- 7 /kであった。
In Example 5, the main crystal phase was lithium disilicate and α-quartz, and the sub crystal phase was petalite. The α coefficient of thermal expansion 101 × 10 - a 7 / k, [Delta] [alpha] is 3 × 10 - was 7 / k.

【0055】実施例1、3、4、比較例1、3より、Δ
αを10×10- 7 /k以下にするためのには、核形成
温度を620〜680℃の範囲にするべきである。
From Examples 1, 3, and 4 and Comparative Examples 1 and 3, Δ
The alpha 10 × 10 - in order to below 7 / k should be nucleation temperature in the range of six hundred twenty to six hundred eighty ° C..

【0056】実施例1と比較例1とは同一組成であり、
結晶相はほとんど変わらない。しかし、核形成温度が6
20〜680℃であるとΔαが小さくなり、核形成温度
が590℃であると、Δαは顕著に増加した。
Example 1 and Comparative Example 1 have the same composition.
The crystal phase hardly changes. However, when the nucleation temperature is 6
When the temperature was 20 to 680 ° C, Δα was small, and when the nucleation temperature was 590 ° C, Δα was significantly increased.

【0057】実施例2と比較例2、あるいは実施例5と
比較例4とは、互いに同一組成である。しかし、核形成
温度が620〜680℃でないとΔαが大きくなった。
Example 2 and Comparative Example 2 or Example 5 and Comparative Example 4 have the same composition. However, if the nucleation temperature was not 620-680 ° C., Δα increased.

【0058】図1は、実施例1の組成を使用した場合
の、核形成温度と熱膨張係数αとの関係を示す(結晶化
温度は710℃)。核形成温度が620℃以上になる
と、熱膨張係数αが温度に対して減少している。実施例
2−5、比較例1−4の各結晶化ガラスにおいても、こ
れとほぼ同様の傾向が見られた。
FIG. 1 shows the relationship between the nucleation temperature and the coefficient of thermal expansion α when the composition of Example 1 was used (the crystallization temperature was 710 ° C.). When the nucleation temperature exceeds 620 ° C., the thermal expansion coefficient α decreases with respect to the temperature. In each of the crystallized glasses of Example 2-5 and Comparative Example 1-4, almost the same tendency was observed.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、原
ガラスを核形成温度で保持し、次いで結晶化温度で保持
して原ガラスを結晶化させ、この際少なくともα−石英
相を析出させるのに際して、結晶化温度の変動に対する
熱膨張係数の変動を少なくできる。
As described above, according to the present invention, the raw glass is held at the nucleation temperature and then at the crystallization temperature to crystallize the raw glass, and at least the α-quartz phase is formed. During the precipitation, the fluctuation of the thermal expansion coefficient with respect to the fluctuation of the crystallization temperature can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1の結晶化ガラスの核形成温度と熱膨張
係数αとの関係を示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the nucleation temperature of the crystallized glass of Example 1 and the coefficient of thermal expansion α.

フロントページの続き Fターム(参考) 4G062 AA11 BB01 CC09 DA07 DB03 DC01 DD03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA03 EB01 EC01 EC02 EC03 EE01 EE02 EE03 EF01 EG01 EG02 EG03 FA01 FA10 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FG02 FG03 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN29 QQ02 QQ06 QQ08 Continued on front page F-term (reference) 4G062 AA11 BB01 CC09 DA07 DB03 DC01 DD03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA03 EB01 EC01 EC02 EC03 EE01 EE02 EE03 EF01 EG01 EG02 EG03 FA01 FA10 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 F01 FG01 F01 FG01 F01 FG01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN29 QQ02 QQ06 QQ08

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】原ガラスを核形成温度で保持し、次いで結
晶化温度で保持して原ガラスを結晶化させ、この際少な
くともα−石英相を析出させる結晶化ガラスの製造方法
であって、 前記核形成温度を620−680℃とすることによっ
て、基準結晶化温度に対して±10℃の範囲内の温度で
結晶化させた際に得られた結晶化ガラスの熱膨張係数の
最大値と最小値との差Δαを10×10- 7 /k以下に
制御することを特徴とする、結晶化ガラスの製造方法。
1. A process for producing crystallized glass, wherein the raw glass is kept at a nucleation temperature and then kept at a crystallization temperature to crystallize the raw glass, and at least an α-quartz phase is precipitated. By setting the nucleation temperature to 620-680 ° C., the maximum value of the coefficient of thermal expansion of the crystallized glass obtained when crystallized at a temperature within the range of ± 10 ° C. with respect to the reference crystallization temperature, the difference Δα between the minimum value 10 × 10 - and controls below 7 / k, method for producing the crystallized glass.
【請求項2】前記結晶化温度を690−750℃とする
ことを特徴とする、請求項1記載の結晶化ガラスの製造
方法。
2. The method according to claim 1, wherein the crystallization temperature is 690-750 ° C.
【請求項3】前記結晶化ガラスが、ペタライト相、リチ
ウムダイシリケート相およびα−石英相を備えているこ
とを特徴とする、請求項1または2記載の結晶化ガラス
の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the crystallized glass has a petalite phase, a lithium disilicate phase and an α-quartz phase.
【請求項4】リートベルト定量法による各結晶の定量値
が以下の範囲内にあることを特徴とする、請求項3記載
の結晶化ガラスの製造方法。 20重量%≦ペタライト相≦40重量% 25重量%≦リチウムダイシリケート相≦45重量% 10重量%≦α−石英相≦25重量%
4. The method for producing crystallized glass according to claim 3, wherein the quantitative value of each crystal by the Rietveld quantitative method is within the following range. 20 wt% ≦ Petalite phase ≦ 40 wt% 25 wt% ≦ lithium disilicate phase ≦ 45 wt% 10 wt% ≦ α-quartz phase ≦ 25 wt%
【請求項5】以下の酸化物組成を有することを特徴とす
る、請求項4記載の結晶化ガラス。 70重量%≦SiO2 ≦ 80重量% 5重量%≦Al23 ≦10重量% 7重量%≦Li2 O≦ 10重量% 1重量%≦P25 ≦ 3重量% 0重量%≦K2 O≦ 3重量% 0重量%≦CaO≦ 3重量% 0重量%≦BaO≦ 3重量% 0重量%≦ZnO≦ 3重量% 0重量%≦ZrO2 ≦ 6重量% 0重量%≦Sb23 ≦ 2重量% 0重量%≦Nb25 ≦ 6重量%
5. The crystallized glass according to claim 4, having the following oxide composition. 70 wt% ≦ SiO 2 ≦ 80 wt% 5 wt% ≦ Al 2 O 3 ≦ 10 wt% 7 wt% ≦ Li 2 O ≦ 10 wt% 1 wt% ≦ P 2 O 5 ≦ 3 wt% 0 wt% ≦ K 2 O ≦ 3% by weight 0% by weight ≦ CaO ≦ 3% by weight 0% by weight ≦ BaO ≦ 3% by weight 0% by weight ≦ ZnO ≦ 3% by weight 0% by weight ≦ ZrO 2 ≦ 6% by weight 0% by weight ≦ Sb 2 O 3 ≦ 2% by weight 0% by weight ≦ Nb 2 O 5 ≦ 6% by weight
【請求項6】−50℃〜+70℃における熱膨張係数が
60〜130×10-7/kであることを特徴とする、請
求項1−5のいずれか一つの請求項に記載の結晶化ガラ
スの製造方法。
6. The crystallization according to claim 1, wherein the thermal expansion coefficient at -50 ° C. to + 70 ° C. is 60 to 130 × 10 −7 / k. Glass manufacturing method.
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