JP2001089192A - 石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法 - Google Patents
石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/38—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal at least one coating being a coating of an organic material
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 石英ガラスを５５％程度の高濃度の弗化水素
酸により数時間に及ぶ長時間に亘って数１００μｍレベ
ルのエッチング加工を施して加速度計のペンジュラムの
ヒンジ部を構成する様な場合に適用される石英ガラスエ
ッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工
方法を提供する。 【解決手段】 石英ガラス１の表面に形成される金属蒸
着層６１およびこの金属蒸着層の表面に形成される耐薬
品性有機物膜６３の複合層より成る石英ガラスエッチン
グ加工用マスク。
酸により数時間に及ぶ長時間に亘って数１００μｍレベ
ルのエッチング加工を施して加速度計のペンジュラムの
ヒンジ部を構成する様な場合に適用される石英ガラスエ
ッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工
方法を提供する。 【解決手段】 石英ガラス１の表面に形成される金属蒸
着層６１およびこの金属蒸着層の表面に形成される耐薬
品性有機物膜６３の複合層より成る石英ガラスエッチン
グ加工用マスク。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、石英ガラスエッ
チング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方
法関し、特に、石英ガラスを５５％程度の高濃度の弗化
水素酸により数時間に及ぶ長時間に亘って数１００μｍ
レベルのエッチング加工を施して加速度計のペンジュラ
ムのヒンジ部を構成する様な場合に適用される石英ガラ
スエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング
加工方法に関する。
チング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方
法関し、特に、石英ガラスを５５％程度の高濃度の弗化
水素酸により数時間に及ぶ長時間に亘って数１００μｍ
レベルのエッチング加工を施して加速度計のペンジュラ
ムのヒンジ部を構成する様な場合に適用される石英ガラ
スエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング
加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来例を図２を参照して説明する。図２
（ａ）は加速度計を下から視たところを示す図であり、
図２（ｂ）は図２（ａ）の加速度計の断面を示す図であ
る。図２において、１は加速度計が構成される基になっ
た長方形の石英ガラス基板を示す。２は石英ガラス基板
１に形成したペンジュラムである。３はペンジュラム２
を取り囲む枠部である。ペンジュラム２と枠部３とはヒ
ンジ部４により接続されている。即ち、これらペンジュ
ラム２および枠部３は、長方形の石英ガラス基板１にコ
字状貫通溝５を形成すると共に、ヒンジ部４を形成する
ことにより構成される。ヒンジ部４は、図２（ｂ）に示
される如く、石英ガラス基板１下面を加工して切除部７
を形成し厚さを薄くして形成される。ヒンジ部４をこの
通りに形成することにより、ペンジュラム２に作用する
慣性力に起因して枠部３を基準として上下に容易に屈曲
することができる。Ｒ1 、Ｒ4 はピエゾ抵抗部である。
ピエゾ抵抗部Ｒ1 およびＲ4 はヒンジ部４1 表面と枠部
３表面に跨って形成されている。
（ａ）は加速度計を下から視たところを示す図であり、
図２（ｂ）は図２（ａ）の加速度計の断面を示す図であ
る。図２において、１は加速度計が構成される基になっ
た長方形の石英ガラス基板を示す。２は石英ガラス基板
１に形成したペンジュラムである。３はペンジュラム２
を取り囲む枠部である。ペンジュラム２と枠部３とはヒ
ンジ部４により接続されている。即ち、これらペンジュ
ラム２および枠部３は、長方形の石英ガラス基板１にコ
字状貫通溝５を形成すると共に、ヒンジ部４を形成する
ことにより構成される。ヒンジ部４は、図２（ｂ）に示
される如く、石英ガラス基板１下面を加工して切除部７
を形成し厚さを薄くして形成される。ヒンジ部４をこの
通りに形成することにより、ペンジュラム２に作用する
慣性力に起因して枠部３を基準として上下に容易に屈曲
することができる。Ｒ1 、Ｒ4 はピエゾ抵抗部である。
ピエゾ抵抗部Ｒ1 およびＲ4 はヒンジ部４1 表面と枠部
３表面に跨って形成されている。
【０００３】加速度計に矢印の向きの加速度が入力され
ると、これに起因してペンジュラム２に矢印の向きの慣
性力が作用する結果、ペンジュラム２は矢印の向きに変
位してヒンジ部４は下向きに屈曲せしめられる。ヒンジ
部４が下向きに屈曲せしめられると、上面に形成されて
いるピエゾ抵抗部Ｒ1 およびＲ4 に引張力が加わる。ピ
エゾ抵抗部Ｒ1 およびＲ4 に引張力が加わったことによ
りこれら抵抗部の抵抗値は変化する。この抵抗値の変化
は入力加速度に比例し、これにより入力加速度を検出す
ることができる。
ると、これに起因してペンジュラム２に矢印の向きの慣
性力が作用する結果、ペンジュラム２は矢印の向きに変
位してヒンジ部４は下向きに屈曲せしめられる。ヒンジ
部４が下向きに屈曲せしめられると、上面に形成されて
いるピエゾ抵抗部Ｒ1 およびＲ4 に引張力が加わる。ピ
エゾ抵抗部Ｒ1 およびＲ4 に引張力が加わったことによ
りこれら抵抗部の抵抗値は変化する。この抵抗値の変化
は入力加速度に比例し、これにより入力加速度を検出す
ることができる。
【０００４】以上のペンジュラムを石英ガラス基板にエ
ッチング加工を施して構成する仕方を図３を参照して説
明する。長方形の石英ガラス基板１にエッチング加工を
施してペンジュラム２を構成するには、先ず、石英ガラ
ス基板１の下面に、コ字状貫通溝５が形成されるべき領
域およびヒンジ部４が形成されるべき領域を除いて、エ
ッチングマスク６を形成する。この場合に使用されるエ
ッチングマスク６の材質としては一般に、ワックスの如
き耐薬品性有機物が使用されている。即ち、ペンジュラ
ム２が形成されるべき領域を２’により示し、枠部３が
形成されるべき領域を３’により示すと、これらの領域
２’および３’の表面にワックスの如き耐薬品性有機物
より成るエッチングマスク６が形成される。ヒンジ部４
が形成されるべき領域を４’により示し、コ字状貫通溝
５が形成されるべき領域を５’により示すと、これらの
領域４’および領域５’の表面にエッチングマスクは形
成しない。
ッチング加工を施して構成する仕方を図３を参照して説
明する。長方形の石英ガラス基板１にエッチング加工を
施してペンジュラム２を構成するには、先ず、石英ガラ
ス基板１の下面に、コ字状貫通溝５が形成されるべき領
域およびヒンジ部４が形成されるべき領域を除いて、エ
ッチングマスク６を形成する。この場合に使用されるエ
ッチングマスク６の材質としては一般に、ワックスの如
き耐薬品性有機物が使用されている。即ち、ペンジュラ
ム２が形成されるべき領域を２’により示し、枠部３が
形成されるべき領域を３’により示すと、これらの領域
２’および３’の表面にワックスの如き耐薬品性有機物
より成るエッチングマスク６が形成される。ヒンジ部４
が形成されるべき領域を４’により示し、コ字状貫通溝
５が形成されるべき領域を５’により示すと、これらの
領域４’および領域５’の表面にエッチングマスクは形
成しない。
【０００５】実際に、ペンジュラム２が形成されるべき
領域を２’および枠部３が形成されるべき領域３’のみ
にワックスよりなるエッチングマスクを形成するには、
長方形の石英ガラス基板１の内のエッチングマスクを形
成しない領域４’および領域５’の表面を、形成しよう
とするエッチングマスク６の厚さに匹敵する厚さの被覆
９により、予め被覆しておく。この状態の石英ガラス基
板１を溶融したワックス中に浸漬することにより、被覆
９の形成された領域以外の領域、即ち、ペンジュラム２
が形成されるべき領域を２’および枠部３が形成される
べき領域３’を含んで、石英ガラス基板１の表面および
端面にもワックスが被着成膜される。
領域を２’および枠部３が形成されるべき領域３’のみ
にワックスよりなるエッチングマスクを形成するには、
長方形の石英ガラス基板１の内のエッチングマスクを形
成しない領域４’および領域５’の表面を、形成しよう
とするエッチングマスク６の厚さに匹敵する厚さの被覆
９により、予め被覆しておく。この状態の石英ガラス基
板１を溶融したワックス中に浸漬することにより、被覆
９の形成された領域以外の領域、即ち、ペンジュラム２
が形成されるべき領域を２’および枠部３が形成される
べき領域３’を含んで、石英ガラス基板１の表面および
端面にもワックスが被着成膜される。
【０００６】図４を参照して表面にエッチングマスク６
が形成された領域と形成されない領域の境界におけるエ
ッチングついて説明する。図４（ａ）は石英ガラス基板
１のエッチングマスク６が形成された領域と形成されな
い領域の境界における断面を示す図である。ここで、ペ
ンジュラム２が形成されるべき領域を２’および枠部３
が形成されるべき領域３’を含んで上面および端面にも
ワックスが被着成膜された石英ガラス基板１を、被覆９
を除去してから、５５％程度の高濃度の弗化水素酸エッ
チング槽に浸漬し、数時間に亘ってエッチング加工を施
し、切除部７を形成してペンジュラム２を枠部３に接続
する薄肉のヒンジ部４が構成される。図４（ｂ）はエッ
チング加工を施した後の断面を示す。
が形成された領域と形成されない領域の境界におけるエ
ッチングついて説明する。図４（ａ）は石英ガラス基板
１のエッチングマスク６が形成された領域と形成されな
い領域の境界における断面を示す図である。ここで、ペ
ンジュラム２が形成されるべき領域を２’および枠部３
が形成されるべき領域３’を含んで上面および端面にも
ワックスが被着成膜された石英ガラス基板１を、被覆９
を除去してから、５５％程度の高濃度の弗化水素酸エッ
チング槽に浸漬し、数時間に亘ってエッチング加工を施
し、切除部７を形成してペンジュラム２を枠部３に接続
する薄肉のヒンジ部４が構成される。図４（ｂ）はエッ
チング加工を施した後の断面を示す。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した通り、ワック
スの如き耐薬品性有機物より成るエッチングマスク６を
使用して石英ガラス基板１を長時間に亘って高濃度の弗
化水素酸によりエッチング加工すると、図４（ｂ）に示
される如く、石英ガラス基板１とこれを覆う耐薬品性有
機物より成るエッチングマスク６の界面において、石英
ガラス基板１が選択的にエッチングされる現象が生起
し、石英ガラス基板１の表面における法線方向のエッチ
ング距離に対してその数倍ないし数１０倍に相当するの
距離までサイドエッチング効果が進行する。１１はこの
サイドエッチング効果によりエッチング除去されたサイ
ドエッチング部を示す。特に、石英ガラス基板１の内の
エッチング除去される領域とこれに連続する残存すべき
領域の境界において、傾斜が形成されることを許容され
ない場合、以上のエッチング加工を適用することはでき
ない。
スの如き耐薬品性有機物より成るエッチングマスク６を
使用して石英ガラス基板１を長時間に亘って高濃度の弗
化水素酸によりエッチング加工すると、図４（ｂ）に示
される如く、石英ガラス基板１とこれを覆う耐薬品性有
機物より成るエッチングマスク６の界面において、石英
ガラス基板１が選択的にエッチングされる現象が生起
し、石英ガラス基板１の表面における法線方向のエッチ
ング距離に対してその数倍ないし数１０倍に相当するの
距離までサイドエッチング効果が進行する。１１はこの
サイドエッチング効果によりエッチング除去されたサイ
ドエッチング部を示す。特に、石英ガラス基板１の内の
エッチング除去される領域とこれに連続する残存すべき
領域の境界において、傾斜が形成されることを許容され
ない場合、以上のエッチング加工を適用することはでき
ない。
【０００８】一方、金を使用した金属蒸着層をエッチン
グマスク６として使用すると、耐薬品性有機物より成る
エッチングマスク６を使用する場合と比較して、サイド
エッチング効果は遥かに小さいことが確認されている。
しかし、石英ガラス基板１を数１００μｍ以上もエッチ
ングするに必要とされる５５％程度の高濃度の弗化水素
酸による数時間にも及ぶ長時間の過酷なエッチング条件
下においては、金属蒸着層がエッチング中に石英ガラス
基板１の表面から剥離するという問題がある。そして、
金属蒸着層にピンホールが形成されることは避け難く、
このピンホールを介して弗化水素酸エッチング液が浸透
し、保護されるべき石英ガラス基板１の表面が侵食され
る問題もある。
グマスク６として使用すると、耐薬品性有機物より成る
エッチングマスク６を使用する場合と比較して、サイド
エッチング効果は遥かに小さいことが確認されている。
しかし、石英ガラス基板１を数１００μｍ以上もエッチ
ングするに必要とされる５５％程度の高濃度の弗化水素
酸による数時間にも及ぶ長時間の過酷なエッチング条件
下においては、金属蒸着層がエッチング中に石英ガラス
基板１の表面から剥離するという問題がある。そして、
金属蒸着層にピンホールが形成されることは避け難く、
このピンホールを介して弗化水素酸エッチング液が浸透
し、保護されるべき石英ガラス基板１の表面が侵食され
る問題もある。
【０００９】この発明は、上述の問題を解消した石英ガ
ラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチン
グ加工方法を提供するものである。
ラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチン
グ加工方法を提供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１：石英ガラスの
表面に形成される金属蒸着層およびこの金属蒸着層の表
面に形成される耐薬品性有機物膜の複合層より成る石英
ガラスエッチング加工用マスクを構成した。そして、請
求項２：請求項１に記載される石英ガラスエッチング加
工用マスクにおいて、複合層は金属蒸着層の表面に第２
の金属蒸着層を形成し、第２の金属蒸着層の表面に耐薬
品性有機物膜を形成したものである石英ガラスエッチン
グ加工用マスクを構成した。
表面に形成される金属蒸着層およびこの金属蒸着層の表
面に形成される耐薬品性有機物膜の複合層より成る石英
ガラスエッチング加工用マスクを構成した。そして、請
求項２：請求項１に記載される石英ガラスエッチング加
工用マスクにおいて、複合層は金属蒸着層の表面に第２
の金属蒸着層を形成し、第２の金属蒸着層の表面に耐薬
品性有機物膜を形成したものである石英ガラスエッチン
グ加工用マスクを構成した。
【００１１】また、請求項３：請求項１および請求項２
に記載される石英ガラスエッチング加工用マスクにおい
て、金属蒸着層はその原材料をクロム或いはチタンと
し、第２の金属蒸着層はその原材料を金或いは銅とした
ものである石英ガラスエッチング加工用マスクを構成し
た。ここで、請求項４：石英ガラス表面の内のエッチン
グを保護されるべき領域に金属蒸着層を形成し、金属蒸
着層の表面に耐薬品性有機物膜を複合形成し、石英ガラ
スを弗化水素酸エッチング液に浸漬する石英ガラスエッ
チング加工方法を構成した。
に記載される石英ガラスエッチング加工用マスクにおい
て、金属蒸着層はその原材料をクロム或いはチタンと
し、第２の金属蒸着層はその原材料を金或いは銅とした
ものである石英ガラスエッチング加工用マスクを構成し
た。ここで、請求項４：石英ガラス表面の内のエッチン
グを保護されるべき領域に金属蒸着層を形成し、金属蒸
着層の表面に耐薬品性有機物膜を複合形成し、石英ガラ
スを弗化水素酸エッチング液に浸漬する石英ガラスエッ
チング加工方法を構成した。
【００１２】そして、請求項５：請求項４に記載される
石英ガラスエッチング加工方法において、金属蒸着層の
表面に第２の金属蒸着層を形成し、第２の金属蒸着層の
表面に耐薬品性有機物膜を形成した石英ガラスエッチン
グ加工方法を構成した。また、請求項６：請求項４およ
び請求項５の内の何れかに記載される石英ガラスエッチ
ング加工方法において、金属蒸着層はその原材料をクロ
ム或いはチタンとし、第２の金属蒸着層はその原材料を
金或いは銅としたものである石英ガラスエッチング加工
方法を構成した。
石英ガラスエッチング加工方法において、金属蒸着層の
表面に第２の金属蒸着層を形成し、第２の金属蒸着層の
表面に耐薬品性有機物膜を形成した石英ガラスエッチン
グ加工方法を構成した。また、請求項６：請求項４およ
び請求項５の内の何れかに記載される石英ガラスエッチ
ング加工方法において、金属蒸着層はその原材料をクロ
ム或いはチタンとし、第２の金属蒸着層はその原材料を
金或いは銅としたものである石英ガラスエッチング加工
方法を構成した。
【００１３】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を説明す
る。この発明は、金属蒸着層の表面に耐薬品性有機物の
薄膜を形成した複合薄膜をエッチングマスクとして使用
して高濃度弗化水素酸をエッチング液とする石英ガラス
のエッチング加工を実施する。以下、図１を参照して具
体的に説明する。図１（ａ）は石英ガラス基板のエッチ
ングマスクが形成された領域と形成されない領域の境界
における断面を示す図、図１（ｂ）はエッチング加工を
施した後の断面を示す図である。図１において、従来例
における部材と共通する部材には共通する参照符号を付
与している。
る。この発明は、金属蒸着層の表面に耐薬品性有機物の
薄膜を形成した複合薄膜をエッチングマスクとして使用
して高濃度弗化水素酸をエッチング液とする石英ガラス
のエッチング加工を実施する。以下、図１を参照して具
体的に説明する。図１（ａ）は石英ガラス基板のエッチ
ングマスクが形成された領域と形成されない領域の境界
における断面を示す図、図１（ｂ）はエッチング加工を
施した後の断面を示す図である。図１において、従来例
における部材と共通する部材には共通する参照符号を付
与している。
【００１４】図１（ａ）を参照するに、６１は石英ガラ
ス基板１の表面に形成される第１の金属蒸着層であり、
原材料であるクロム或はチタンを数１００Ａ°の膜厚に
成膜したものより成る。６２は第２の金属蒸着層であ
り、原材料である金或は銅を第１の金属蒸着層６１の表
面に数１０００Ａ°の膜厚に成膜したものより成る。こ
こで、第１の金属蒸着層６１は、石英ガラス基板１の表
面と第２の金属蒸着層６２の表面の間に介在して両表面
に強固にボンディングする接合層として作用する層であ
る。６３は耐薬品性有機物層であり、第２の金属蒸着層
６２の表面に形成される。耐薬品性有機物層の原材料と
してはワックスが使用される。この発明のエッチングマ
スクは、上述した通り、石英ガラス基板１の表面に形成
される第１の金属蒸着層６１、第１の金属蒸着層６１の
表面に形成される第２の金属蒸着層６２、および第２の
金属蒸着層６２の表面に形成される耐薬品性有機物層６
３より成る。
ス基板１の表面に形成される第１の金属蒸着層であり、
原材料であるクロム或はチタンを数１００Ａ°の膜厚に
成膜したものより成る。６２は第２の金属蒸着層であ
り、原材料である金或は銅を第１の金属蒸着層６１の表
面に数１０００Ａ°の膜厚に成膜したものより成る。こ
こで、第１の金属蒸着層６１は、石英ガラス基板１の表
面と第２の金属蒸着層６２の表面の間に介在して両表面
に強固にボンディングする接合層として作用する層であ
る。６３は耐薬品性有機物層であり、第２の金属蒸着層
６２の表面に形成される。耐薬品性有機物層の原材料と
してはワックスが使用される。この発明のエッチングマ
スクは、上述した通り、石英ガラス基板１の表面に形成
される第１の金属蒸着層６１、第１の金属蒸着層６１の
表面に形成される第２の金属蒸着層６２、および第２の
金属蒸着層６２の表面に形成される耐薬品性有機物層６
３より成る。
【００１５】実際に、以上のエッチングマスク６を形成
するには、長方形の石英ガラス基板１の内のエッチング
マスクを形成しない領域４’の表面を、これから形成し
ようとするエッチングマスク６の厚さに匹敵する厚さの
被覆９により予め被覆しておく。この状態の石英ガラス
基板１のペンジュラム２が形成されるべき領域を２’を
含む表面に一般的な金属蒸着技術を適用して順次に第１
の金属蒸着層６１、第２の金属蒸着層６２を形成する。
次いで、第１の金属蒸着層６１および第２の金属蒸着層
６２を形成した状態の石英ガラス基板１を溶融したワッ
クス中に浸漬することにより、被覆９の形成された領域
以外の領域、即ち、ペンジュラム２が形成されるべき領
域を２’を含む石英ガラス基板１の表面および端面にワ
ックス層６３が被着成膜される。
するには、長方形の石英ガラス基板１の内のエッチング
マスクを形成しない領域４’の表面を、これから形成し
ようとするエッチングマスク６の厚さに匹敵する厚さの
被覆９により予め被覆しておく。この状態の石英ガラス
基板１のペンジュラム２が形成されるべき領域を２’を
含む表面に一般的な金属蒸着技術を適用して順次に第１
の金属蒸着層６１、第２の金属蒸着層６２を形成する。
次いで、第１の金属蒸着層６１および第２の金属蒸着層
６２を形成した状態の石英ガラス基板１を溶融したワッ
クス中に浸漬することにより、被覆９の形成された領域
以外の領域、即ち、ペンジュラム２が形成されるべき領
域を２’を含む石英ガラス基板１の表面および端面にワ
ックス層６３が被着成膜される。
【００１６】ここで、以上のエッチングマスク６が形成
された石英ガラス基板１を、被覆９を除去してから、５
５％程度の高濃度の弗化水素酸エッチング槽に浸漬し、
数時間に亘ってエッチング加工を施し、切除部７を形成
してペンジュラム２を枠部３に接続する薄肉のヒンジ部
４が構成される。図１（ｂ）はエッチング加工を施した
後の断面を示す。石英ガラス基板１を数１００μｍ以上
エッチング除去するには、エッチング液として５５％の
高濃度の弗化水素酸が必要であり、エッチング時間も数
時間を必要とする。
された石英ガラス基板１を、被覆９を除去してから、５
５％程度の高濃度の弗化水素酸エッチング槽に浸漬し、
数時間に亘ってエッチング加工を施し、切除部７を形成
してペンジュラム２を枠部３に接続する薄肉のヒンジ部
４が構成される。図１（ｂ）はエッチング加工を施した
後の断面を示す。石英ガラス基板１を数１００μｍ以上
エッチング除去するには、エッチング液として５５％の
高濃度の弗化水素酸が必要であり、エッチング時間も数
時間を必要とする。
【００１７】
【発明の効果】以上の通りであって、エッチングマスク
６を使用してエッチング加工を実施することにより、図
１（ｂ）に示される如く、サイドエッチング部１１を従
来例と比較して著しく小さくすることができる。そし
て、エッチングマスク６を第１の金属蒸着層６１の表面
に耐薬品性有機物膜を形成した複合層より成るものとす
ることにより、金属蒸着層６１に不可避的に形成される
ピンホールを介して高濃度の弗化水素酸エッチング液が
透過して石英ガラス基板１の表面に到達してこれを侵食
する問題はほぼ解消される。
６を使用してエッチング加工を実施することにより、図
１（ｂ）に示される如く、サイドエッチング部１１を従
来例と比較して著しく小さくすることができる。そし
て、エッチングマスク６を第１の金属蒸着層６１の表面
に耐薬品性有機物膜を形成した複合層より成るものとす
ることにより、金属蒸着層６１に不可避的に形成される
ピンホールを介して高濃度の弗化水素酸エッチング液が
透過して石英ガラス基板１の表面に到達してこれを侵食
する問題はほぼ解消される。
【００１８】また、各別に成膜される第１の金属蒸着層
６１と第２の金属蒸着層６２に連通してピンホールが生
起することは統計的に極く僅かである。従って、金属蒸
着層を第１の金属蒸着層６１と第２の金属蒸着層６２の
２層を積層することにより、ピンホールを介して高濃度
の弗化水素酸エッチング液が透過して石英ガラス基板１
の表面に到達してこれを侵食する問題はより確実に解消
される。更に、第２の金属蒸着層６２の表面をワックス
層の如き耐薬品性有機物層６３が被覆しているので、長
時間のエッチングにおいても、第１の金属蒸着層６１お
よび第２の金属蒸着層６２に形成されるピンホールを介
する高濃度の弗化水素酸エッチング液の透過は一層確実
に阻止される。
６１と第２の金属蒸着層６２に連通してピンホールが生
起することは統計的に極く僅かである。従って、金属蒸
着層を第１の金属蒸着層６１と第２の金属蒸着層６２の
２層を積層することにより、ピンホールを介して高濃度
の弗化水素酸エッチング液が透過して石英ガラス基板１
の表面に到達してこれを侵食する問題はより確実に解消
される。更に、第２の金属蒸着層６２の表面をワックス
層の如き耐薬品性有機物層６３が被覆しているので、長
時間のエッチングにおいても、第１の金属蒸着層６１お
よび第２の金属蒸着層６２に形成されるピンホールを介
する高濃度の弗化水素酸エッチング液の透過は一層確実
に阻止される。
【００１９】更に、第１の金属蒸着層６１および第２の
金属蒸着層６２を形成する金属材料の組み合わせを、ク
ロム：金、チタン：金、クロム：銅、チタン：銅とす
る。この組み合わせによる２重の金属蒸着層を構成する
ことにより、クロム、チタンが石英ガラス基板１の表面
とボンディングすると共に、金、銅ともボンディングす
るので、特に高濃度の弗化水素酸エッチング液中におけ
る長時間エッチング加工によっても、金、銅の薄膜が剥
離することはない。
金属蒸着層６２を形成する金属材料の組み合わせを、ク
ロム：金、チタン：金、クロム：銅、チタン：銅とす
る。この組み合わせによる２重の金属蒸着層を構成する
ことにより、クロム、チタンが石英ガラス基板１の表面
とボンディングすると共に、金、銅ともボンディングす
るので、特に高濃度の弗化水素酸エッチング液中におけ
る長時間エッチング加工によっても、金、銅の薄膜が剥
離することはない。
【００２０】以上の通りにして、従来は困難であった溶
融石英ガラス基板１の高精度の形状出しを必要とするエ
ッチング加工をも実施することができるに到った。
融石英ガラス基板１の高精度の形状出しを必要とするエ
ッチング加工をも実施することができるに到った。
【図１】実施例を説明する図。
【図２】加速度計を説明する図。
【図３】エッチング加工工程を説明する図。
【図４】従来例を説明する図。
１ 石英ガラス基板 ２ ペンジュラム ２’ペンジュラムが形成されるべき領域 ３ 枠部 ３’枠部が形成されるべき領域 ４ ヒンジ部 ４’ヒンジ部が形成されるべき領域 ５ コ字状貫通溝 ５’コ字状貫通溝が形成されるべき領域 ６ エッチングマスク ６１ 第１の金属蒸着層 ６２ 第２の金属蒸着層 ６３ 耐薬品性有機物層 ７ 切除部 ９ 被覆 Ｒ1 、Ｒ4 ピエゾ抵抗部
Claims (6)
- 【請求項１】 石英ガラスの表面に形成される金属蒸着
層およびこの金属蒸着層の表面に形成される耐薬品性有
機物膜の複合層より成ることを特徴とする石英ガラスエ
ッチング加工用マスク。 - 【請求項２】 請求項１に記載される石英ガラスエッチ
ング加工用マスクにおいて、 複合層は金属蒸着層の表面に第２の金属蒸着層を形成
し、第２の金属蒸着層の表面に耐薬品性有機物膜を形成
したものであることを特徴とする石英ガラスエッチング
加工用マスク。 - 【請求項３】 請求項１および請求項２に記載される石
英ガラスエッチング加工用マスクにおいて、 金属蒸着層はその原材料をクロム或いはチタンとし、第
２の金属蒸着層はその原材料を金或いは銅としたもので
あることを特徴とする石英ガラスエッチング加工用マス
ク。 - 【請求項４】 石英ガラス表面の内のエッチングを保護
されるべき領域に金属蒸着層を形成し、金属蒸着層の表
面に耐薬品性有機物膜を複合形成し、石英ガラスを弗化
水素酸エッチング液に浸漬することを特徴とする石英ガ
ラスエッチング加工方法。 - 【請求項５】 請求項４に記載される石英ガラスエッチ
ング加工方法において、 金属蒸着層の表面に第２の金属蒸着層を形成し、第２の
金属蒸着層の表面に耐薬品性有機物膜を形成したことを
特徴とする石英ガラスエッチング加工方法。 - 【請求項６】 請求項４および請求項５の内の何れかに
記載される石英ガラスエッチング加工方法において、 金属蒸着層はその原材料をクロム或いはチタンとし、第
２の金属蒸着層はその原材料を金或いは銅としたもので
あることを特徴とする石英ガラスエッチング加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27256599A JP2001089192A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27256599A JP2001089192A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001089192A true JP2001089192A (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17515686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27256599A Withdrawn JP2001089192A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001089192A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114685057A (zh) * | 2022-03-30 | 2022-07-01 | 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 | 一种玻璃基板的纳米金属诱导蚀刻方法 |
-
1999
- 1999-09-27 JP JP27256599A patent/JP2001089192A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114685057A (zh) * | 2022-03-30 | 2022-07-01 | 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 | 一种玻璃基板的纳米金属诱导蚀刻方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061205 |