JP2001087411A

JP2001087411A - ダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置

Info

Publication number: JP2001087411A
Application number: JP27025199A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Asai; 靖史浅井; Hiroyuki Ishiwatari; 寛之石渡
Original assignee: Nishimatsu Construction Co Ltd
Current assignee: Nishimatsu Construction Co Ltd
Priority date: 1999-09-24
Filing date: 1999-09-24
Publication date: 2001-04-03
Anticipated expiration: 2019-09-24
Also published as: JP4550188B2

Abstract

(57)【要約】【課題】作業上の安全確保及び汚染拡大防止対策とし
て用いることが可能なダイオキシン類除染方法及びダイ
オキシン類処理装置を提供する。【解決手段】ダイオキシン類により汚染された構造物
を周囲環境から遮断し、構造物のダイオキシン類により
汚染された内面に除染剤を噴霧する工程１０１と、除染
剤に溶解したダイオキシン類化合を光触媒を用いて光分
解する工程１０２，１０３と、光分解後の除染剤を内面
に再度噴霧させるために再循環させる工程１０５とを含
むことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイオキシン類に
より汚染された構造体からダイオキシン類を除去するた
めのダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ゴミ焼却場設備におけるダイオキ
シン類の発生が社会的に大きな問題となっている。ダイ
オキシン類は、その毒性の強さや体内への蓄積性等か
ら、汚染を放置した場合人体や自然環境への深刻な影響
が懸念される。このような背景を受けて、ダイオキシン
類の除去・分解技術が数多く提案されてきている。しか
しながら、それら技術の大半は、焼却施設稼動時のダイ
オキシン類排出抑制技術であり、焼却場設備の解体工事
や焼却プラント等の撤去工事時に構造体内に残留、すな
わち焼却場設備に付着して汚染を生じさせているダイオ
キシン類の除去技術や分解・無害化のための対策技術に
ついては、ほとんど提案されていないのが現状である。

【０００３】上述した代表的なダイオキシン類の除去・
分解技術としては、これまで完全燃焼法、熱分解処理
法、溶融処理法、光分解法、触媒分解法、微生物分解
法、超臨界流体分解法等が提案されている。これらの技
術を実際の焼却場設備の解体工事や焼却プラントの撤去
工事時の付着汚染ダイオキシン類対策として適用した場
合、以下の問題点があることが判明している。

【０００４】完全燃焼法、熱分解処理法、溶融処理法、
触媒分解法は、焼却施設稼動時のダイオキシン類の発生
を抑制するための技術であり、解体や撤去工事時の対策
技術として適用することが妥当ではない。

【０００５】また、光分解法は、紫外光や太陽光等の直
接照射、或いは酸化チタン等の光触媒の使用によってダ
イオキシン類を分解する技術である。これらの光分解法
及び触媒分解法は、処分場の浸出水や汚染土壌、紙パル
プ工場において発生したダイオキシン類の分解技術とし
て適用された例があるものの、解体や撤去工事時の対策
技術、つまり、構造物等の内部に付着して汚染している
ダイオキシン類の除去・分解技術として直接適用するの
は、実施手法及び設備コストの点から困難である。

【０００６】また、微生物分解法は、酢酸エチル等の添
加により、ダイオキシン類分解微生物の分解能力を賦活
化させて、ダイオキシン類を分解・無害化させるもので
あり、解体や撤去工事時の対策技術としても、充分に適
用のメリットがある方法である。しかしながら、この微
生物分解法には、ダイオキシン類の塩素置換体が多くな
るにつれ分解効率が低下するといった報告もあるため、
ダイオキシン類の分解効率を意図的に制御することが困
難であるといった問題点がある。

【０００７】超臨界流体分解法は、超臨界流体のもつ特
殊な反応系を利用してダイオキシンを分解する技術で、
現在注目を集めている。しかしながら、超臨界状態は、
高温・高圧という特殊な条件下で形成されるため、常温
・常圧下で実施される現場での除去・分解技術に対して
用いることが設備面及び設備コスト等の面から非常に困
難である。

【０００８】また、従来のダイオキシン類の除去技術
は、主としてその目的が焼却施設稼動時のダイオキシン
類の発生を抑制するものが大半を占め、構造体の内部に
付着したダイオキシン類を除去する観点から検討が加え
られた例はほとんどない。構造体の内部に付着したダイ
オキシン類を除去するためには、溶媒によりダイオキシ
ン類を溶解又は抽出することが効果的である。ダイオキ
シン類の有機溶媒への溶解に関しては、多くの研究報告
がなされているが、そのほとんどは機器分析を行う際の
前処理、すなわち試料からダイオキシン類を選択的に抽
出する方法に関しての基礎研究である。また、ダイオキ
シン類によって汚染された土壌からダイオキシン類を有
機溶媒によって除去することを目的とした検討が行われ
ているものの（E. J. Dougherty et. al., Sorption pr
ocesses of 2,3,7,8-tetrachlorodibenzo-p-dioxine on
soil in the presence of organic liquids, J. Hazar
d Matr., Vol 38, No. 3, pp.405-421, 1994）、これは
あくまでも各種有機溶媒存在下で、土壌−ダイオキシン
類間の吸脱着に関する速度論的研究を主とする物理化学
的性質を解明するための基礎研究であり、ダイオキシン
類の洗浄・除去技術については何ら開示するものではな
い。

【０００９】したがってこれまで、焼却場設備等の解体
工事に先立って焼却場設備等の内面に付着して汚染した
ダイオキシン類を迅速かつ簡便に分解・無害化でき、低
コスト、かつ安全性のより向上したダイオキシン類除染
方法及びダイオキシン類処理装置が必要とされている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、焼却場設備
解体等に先だって、焼却場設備のダイオキシン類によっ
て汚染された部分、具体的には焼却場設備の内面に付着
ないし吸着したダイオキシン類を有機溶媒／水の混合溶
液から得られる除染剤にダイオキシン類を溶解させるこ
とで洗浄・除去を行いつつ、その除染剤中のダイオキシ
ン類を光分解法を用いて分解させ、その後除染剤を再生
することで除染剤を再利用するといったダイオキシン類
の分解・無害化のための一連のシステムを提供するもの
である。すなわち、本発明は、構造物に付着して汚染を
生じさせているダイオキシン類を溶解・除去する除染剤
を用い、ダイオキシン類を除染剤に溶解させた後、除染
剤に溶解したダイオキシン類を分解・無害化すると共
に、除染剤を再生して該除染剤を再循環させることによ
り、焼却施設の解体工事や焼却プラント等の撤去工事に
先立って施工する必要のある、作業上の安全確保及び汚
染拡大防止対策として用いることが可能なダイオキシン
類除染方法及びダイオキシン類処理装置を提供すること
を目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、本
発明のダイオキシン類の除染方法及びダイオキシン類処
理装置を提供することによって達成される。

【００１２】すなわち、本発明の請求項１の発明によれ
ば、ダイオキシン類により汚染された構造物を周囲環境
から遮断し、上記構造物のダイオキシン類により汚染さ
れた部分に除染剤を噴霧して除染剤に上記ダイオキシン
類を溶解させ、上記除染剤中に含まれる上記ダイオキシ
ン類を光分解処理し、光分解処理後の上記除染剤を上記
部分に再度噴霧させるために再循環させることを特徴と
するダイオキシン類除染方法が提供される。

【００１３】本発明の請求項２の発明によれば、上記除
染剤は、水と、溶媒と、酸化剤とを含有することを特徴
とするダイオキシン類除染方法が提供される。

【００１４】本発明の請求項３の発明によれば、上記溶
媒は、アルコール系溶媒とされていることを特徴とする
ダイオキシン類除染方法が提供される。

【００１５】本発明の請求項４の発明によれば、上記光
分解は、上記酸化剤の添加と紫外光線とにより開始され
る光分解反応を用いることを特徴とするダイオキシン類
除染方法が提供される。

【００１６】本発明の請求項５の発明によれば、上記光
分解は、光触媒を用いた光分解反応を用いることを特徴
とするダイオキシン類除染方法が提供される。

【００１７】本発明の請求項６の発明によれば、上記光
分解は、紫外光線により上記酸化剤を分解することによ
り開始される光分解反応及び光触媒を用いた光分解反応
を用いることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提
供される。

【００１８】本発明の請求項７の発明によれば、上記光
触媒は、ＴｉＯ_２、ＳｒＴｉＯ_３、ＫＴａＯ_３、ＳｎＯ
_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｆ
ｅＴｉＯ_３、ＭｎＴｉＯ_３、ＢａＴｉＯ_３、ＺｎＯ、Ｉ
ｎ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、ＮｂＯ _２、ＣａＴｉＯ_３、ＳｒＮ
ｂ_２Ｏ_６、酸化ジルコニウム、及びこれらの化合物の２
種以上の混合物からなる群から任意に選択されることを
特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。

【００１９】本発明の請求項８の発明によれば、上記溶
媒は、オクタノールとされることを特徴とするダイオキ
シン類除染方法が提供される。

【００２０】本発明の請求項９の発明によれば、上記除
染剤の再循環前に上記除染剤を活性炭で吸着処理するこ
とにより再生することを特徴とするダイオキシン類除染
方法が提供される。

【００２１】本発明の請求項１０の発明によれば、上記
構造体は、焼却場設備とされていることを特徴とするダ
イオキシン類除染方法が提供される。

【００２２】本発明の請求項１１の発明によれば、ダイ
オキシン類により汚染された焼却場設備の構造物を周囲
環境から遮断するための部材と、上記構造物のダイオキ
シン類により汚染された部分に、水と、溶媒と、酸化剤
とを含有し上記ダイオキシン類を溶解する除染剤を噴霧
するための噴霧装置と、上記除染剤に溶解した上記ダイ
オキシン類を光分解処理するための光分解手段と、上記
光分解処理後の上記除染剤を上記部分に再度噴霧させる
ため上記噴霧装置へと上記除染剤を再循環させるための
再循環装置とを備えることを特徴とするダイオキシン類
処理装置が提供される。

【００２３】本発明の請求項１２の発明によれば、上記
溶媒は、アルコール系溶媒とされていることを特徴とす
るダイオキシン類処理装置が提供される。

【００２４】本発明の請求項１３の発明によれば、上記
ダイオキシン類を光分解するための光分解手段は、光触
媒を含んで構成され、さらに該光触媒に光線を照射する
ための照射装置と、上記処理装置の内容物を撹拌するた
めの撹拌装置とを有することを特徴とするダイオキシン
類処理装置が提供される。

【００２５】本発明の請求項１４の発明によれば、上記
光分解手段は、太陽光線を集光するための集光装置を備
えることを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供さ
れる。

【００２６】本発明の請求項１５の発明によれば、上記
光触媒は、ＴｉＯ_２、ＳｒＴｉＯ_３、ＫＴａＯ_３、Ｓｎ
Ｏ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、
ＦｅＴｉＯ_３、ＭｎＴｉＯ_３、ＢａＴｉＯ_３、ＺｎＯ、
Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、ＮｂＯ_２、ＣａＴｉＯ_３、Ｓｒ
Ｎｂ_２Ｏ_６、酸化ジルコニウム、及びこれらの化合物の
２種以上の混合物からなる群から任意に選択されること
を特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。

【００２７】本発明の請求項１６の発明によれば、上記
除染剤の再循環前に上記除染剤を活性炭で吸着処理する
ことにより再生するための再生装置を備えることを特徴
とするダイオキシン類処理装置が提供される。

【００２８】本発明の請求項１７の発明によれば、上記
溶媒は、オクタノールとされていることを特徴とするダ
イオキシン類処理装置が提供される。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下本発明を図面を用いて詳細に
説明する。図１には、本発明のダイオキシン類除染方法
のフローチャートを示す。本発明のダイオキシン類除染
方法は、本発明に用いる除染剤をダイオキシン類が付着
した焼却場設備といった構造物の汚染された部分、具体
的には構造物の内面に噴霧する工程１０１と、ダイオキ
シン類を分解するためのダイオキシン分解Ｉ工程１０２
及びダイオキシン分解ＩＩ工程１０３と、除染剤再生工
程１０４と、除染剤循環工程１０５とを含んで構成する
ことが可能である。以下、各工程に沿って本発明のダイ
オキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置につい
て説明する。

【００３０】本発明のダイオキシン類除染方法に用いる
除染剤は、有機溶媒と水とを混合し、この混合溶媒に対
しダイオキシン類の光分解における分解効率を向上させ
るための酸化剤を添加して製造することができる。

【００３１】上記有機溶媒としては、種々の有機溶媒を
用いることができ、このような有機溶媒としては、具体
的には例えば、アミルベンゼン、イソプロピルベンゼ
ン、エチルベンゼン、キシレン、ジエチルベンゼン、シ
クロヘキセン、シクロペンタン、ジペンテン、ジメチル
ナフタレン、シメン類、樟脳油、石油エーテル、石油ベ
ンジン、ソルベントナフサ、デカリン、デカン、テトラ
リン、テレピン油、灯油、ドデカン、ドデシルベンゼ
ン、トルエン、ナフタレン、ノナン、パインオイル、ピ
ネン、メチルシクロヘキサン、ｐ−メンタン、リグロイ
ンといった炭化水素系溶剤を挙げることができる。

【００３２】上記有機溶媒としてはさらに、環境に対し
て悪影響を与えない範囲において、また焼却場設備が再
度ゴミ等の焼却に用いられず、ダイオキシン類を発生さ
せる可能性がない場合には、２−エチルヘキシルクロリ
ド、塩化アミル、塩化イソプロピル、塩化エチル、塩化
ナフタレン、塩化ブチル、塩化ヘキシル、塩化メチル、
塩化メチレン、ｏ−クロロトルエン、ｐ−クロロトルエ
ン、クロロベンゼン、四塩化炭素、ジクロロエタン、ジ
クロロエチレン、ジクロロトルエン、ジクロロブタン、
ジクロロプロパン、ジクロロベンゼン、ジブロモエタ
ン、ジブロモブタン、ジブロモプロパン、ジブロモベン
ゼン、ジブロモペンタン、臭化アリル、臭化イソプロピ
ル、臭化エチル、臭化オクチル、臭化ブチル、臭化プロ
ピル、臭化メチル、臭化ラウリル、テトラクロロエタ
ン、テトラクロロエチレン、テトラブロモエタン、テト
ラメチレンクロロブロミド、トリクロロエタン、トリク
ロロエチレン、トリクロロベンゼン、ブロモクロロエタ
ン、１−ブロモ−３−クロロプロパン、ブロモナフタレ
ン、ブロモベンゼン、ヘキサクロロエタン、ペンタメチ
レンクロロブロミド等のハロゲン化炭化水素系溶剤を用
いることが可能である。

【００３３】また、上記有機溶媒としては、アミルアル
コール、アリルアルコール、イソアミルアルコール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、ウンデ
カノール、エタノール、２−エチルブタノール、２−エ
チルヘキサノール、２−オクタノール、ｎ−オクタノー
ル、グリシドール、シクロヘキサノール、３，５，−ジ
メチル−１−ヘキシン−３−オール、ｎ−デカノール、
テトラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオー
ル、ネオペンチルアルコール、ノナノール、フーゼル
油、ブタノール、フルフリルアルコール、プロパギルア
ルコール、プロパノール、ヘキサノール、ヘプタノー
ル、ベンジルアルコール、ペンタノール、メタノール、
メチルシクロヘキサノール、２−メチル−１−ブタノー
ル、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−１−ブ
チン−３−オール、４−メチル−２−ペンタノール、３
−メチル−１−ペンチン−３−オールといったアルコー
ル類も挙げることができる。

【００３４】上記有機溶媒としては、さらにアニソー
ル、エチルイソアミルエーテル、エチル−ｔ−ブチルエ
ーテル、エチルベンジルエーテル、エポキシブタン、ク
ラウンエーテル類、クレジルメチルエーテル、ジイソア
ミルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルアセ
タール、ジエチルエーテル、ジオキサン、１，８−シネ
オール、ジフェニルエーテル、ジブチルエーテル、ジプ
ロピルエーテル、ジベンジルエーテル、ジメチルエーテ
ル、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、トリオ
キサン、ビス（２−クロロエチル）エーテル、フェネト
ール、ブチルフェニルエーテル、フラン、フルフラー
ル、メチラール、メチル−ｔ−ブチルエーテル、メチル
フラン、モノクロロジエチルエーテルといったエーテル
・アセタール系溶剤も挙げることができる。

【００３５】上述の有機溶媒としては、アセチルアセト
ン、アセトアルデヒド、アセトフェノン、アセトン、イ
ソホロン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジアセトンアル
コール、ジイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、
ジエチルケトン、シクロヘキサノン、ジ−ｎ−プロピル
ケトン、ホロン、メシチルオキシド、メチル−ｎ−アミ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、メチルシクロヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケト
ン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ヘキシ
ルケトン、メチル−ｎ−へプチルケトンといったケトン
・アルデヒド系溶剤も同様に用いることができる。

【００３６】本発明に用いることができる溶媒として
は、さらにアジピン酸ジエチル、アジピン酸ジオクチ
ル、アセチルクエン酸トリエチル、アセチルクエン酸ト
リブチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸アリル、アセ
ト酢酸メチル、アビエチン酸メチル、安息香酸エチル、
安息香酸ブチル、安息香酸プロピル、安息香酸ベンジ
ル、安息香酸メチル、イソ吉草酸イソアミル、イソ吉草
酸エチル、ギ酸イソアミル、ギ酸イソブチル、ギ酸エチ
ル、ギ酸ブチル、ギ酸プロピル、ギ酸ヘキシル、ギ酸ベ
ンジル、ギ酸メチル、クエン酸トリブチル、ケイ皮酸エ
ステル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、酢酸アミ
ル、酢酸アリル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢
酸イソプロピル、酢酸エチル、酢酸−２−エチルヘキシ
ル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、
酢酸ベンジル、酢酸メチル、酢酸メチルシクロヘキシ
ル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリ
チル酸メチル、サリチル酸エチル、蓚酸ジアミル、蓚酸
ジエチル、蓚酸ジブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブ
チル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、セパシン酸ジオクチル、セパシン酸ジ
ブチル、炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル、炭酸ジメチ
ル、乳酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル、フタル酸ジ
エチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、フタ
ル酸ジメチル、γ−ブチロラクトン、プロピオン酸イソ
アミル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プ
ロピオン酸エチル、プロピオン酸ベンジル、プロピオン
酸メチル、ホウ酸エステル類、マレイン酸ジオクチル、
マレイン酸ジブチル、マロン酸ジイソプロピル、マロン
酸ジエチル、マロン酸ジメチル、酪酸イソアミル、酪酸
イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸メチル、
燐酸エステル類といったエステル系溶剤も挙げることが
できる。

【００３７】上述の溶媒としては、エチレングリコー
ル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレング
リコールジアセタート、エチレングリコールジブチルエ
ーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノアセタート、エチレングリコールモノ
イソプロピルエータル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
タート、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルア
セタート、エチレングリコールモノメトキシメチルエー
テル、エチレンクロロヒドリン、１，３−オクチレング
リコール、グリセリン、グリセリン１，３−ジアセター
ト、グリセリンジアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸
エステル、グリセリントリアセタート、グリセリントリ
ラウラート、グリセリンモノアセタート、２−クロロ−
１，３−プロパンジオール、３−クロロ−１，２−プロ
パンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリ
コールエチルメチルエーテル、ポリプロピレングリコー
ルといった多価アルコール及びそれらの誘導体を挙げる
ことができる。

【００３８】さらに上述の溶媒としては、イソ吉草酸、
イソ酪酸、イタコン酸、２−エチルヘキサン酸、２−エ
チル酢酸、オレイン酸、カプリル酸、カプロン酸、ギ
酸、吉草酸、酢酸、乳酸、ピバリン酸、プロピオン酸、
といったカルボン酸誘導体、エチルフェノール、オクチ
ルフェノール、カテコール、グアヤコール、キシレノー
ル、ｐ−クミルフェノール、クレゾール、ドデシルフェ
ノール、ナフトール、ノニルフェノール、フェノール、
ベンジルフェノール、ｐ−メトキシエチルフェノールと
いったフェノール類、アセトニトリル、アセトンシアノ
ヒドリン、アニリン、アリルアミン、アミルアミン、イ
ソキノリン、イソブチルアミン、イソプロパノールアミ
ン類、イソプロピルアミン、イミダゾール、Ｎ−エチル
エタノールアミン、２−エチルヘキシルアミン、Ｎ−エ
チルモルホリン、エチレンジアミン、カプロラクタム、
キノリン、クロロアニリン、シアノ酢酸エチル、ジアミ
ルアミン、イソブチルアミン、ジイソプロピルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ジアエタノールアミン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ジエチルアミン、ジエチル
ベンジルアミン、ジエチレントリアミン、ジオクチルア
ミン、シクロヘキシルアミン、トリエチルアミン、トリ
アミルアミン、トリオクチルアミン、トリエタノールア
ミン、トリエチルアミン、トリオクチルアミン、トリ−
ｎ−ブチルアミン、トリプロピルアミン、トリメチルア
ミン、トルイジン、ニトロアニソール、ピコリン、ピペ
ラジン、ピラジン、ピリジン、ピロリジン、Ｎ−フェニ
ルモルホリン、モルホリン、ブチルアミン、ヘプチルア
ミン、ルチジンといった含窒素化合物、これらの溶媒の
他、含イオウ化合物系溶剤、フッ素系溶剤等も挙げるこ
とができる。

【００３９】上述した溶剤は、水に対して溶解又は適宜
分散させて用いることができるが、水と混和性のある溶
媒を用いることが除染剤を噴霧させる際の取扱の点から
好ましい。具体的には好ましい溶剤としては、エチルア
ルコール、ブチルアルコール、ヘキサノール、ヘプタノ
ール、オクタノールといったアルコール系溶剤を挙げる
ことができる。また、上述した溶剤は適宜混合して用い
ることが可能である。これらのうちでもｎ−オクタノー
ル、２−オクタノールは、良好にダイオキシン類を溶解
させることが可能な点で好ましい。これら以外にも上述
した溶媒のうちダイオキシン類を溶解させることが可能
な溶剤であれば、適宜用いることが可能である。また、
上述した溶媒は、単独で水に溶解又は分散して用いるこ
ともできるし、水に対して複数種の溶媒を溶解・分散さ
せて用いることも可能である。なお、本発明にいうダイ
オキシン類とは、主としてポリ塩素化ジベンゾパラジオ
キシン（ＰＣＤＤｓ）及びポリ塩素化ジベンゾフラン
（ＰＣＤＦｓ）のことをいう。しかしながら、共に人体
に対する毒性がある点では、コプラナーＰＣＢの除染に
ついても本発明が適用できることは言うまでもない。

【００４０】さらに本発明の除染剤には、ダイオキシン
類の光分解を行う際の反応効率を向上させるため、酸化
剤が添加される。このような酸化剤としては、オゾン、
過酸化水素、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロパーオキ
サイド、ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド、過酸化アセ
チル、エチルメチルケトンパーオキサイド、ペルオキソ
二硫酸カリウム、ペルオキソ二流酸アンモニウムといっ
たペルオキソ二硫酸塩、ペルオキソホウ酸塩等、活性酸
素を発生する酸化剤を挙げることができる。これらの酸
化剤は、水に対して溶解性を有していることが好ましい
が、用いる有機溶媒に対して溶解するものも用いること
が可能である。

【００４１】本発明の除染剤に含有される水と、溶剤と
は、水が１０重量部から２０重量部、溶剤が９０重量部
〜８０重量部で添加されていることが好ましい。また、
上述した酸化剤は、除染剤中に溶解するダイオキシン類
に対して重量で１０〜１００倍量添加することが好まし
い。

【００４２】また、本発明の除染剤中には、カチオン系
界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活
性剤といった界面活性剤を適宜単独で、又は混合して添
加することもできる。このような界面活性剤成分を添加
することにより、さらに除染効果を高めることを可能と
すると共に、溶剤を水に対して分散させて使用する場合
に、溶剤の分散安定性をより向上させることができる。

【００４３】本発明の除染剤は、いかなる方法によって
も製造することができ、具体的には、水と溶剤とを混合
させ、その後オゾン水や、過酸化水素水といった酸化剤
を混合することによって製造することが可能である。こ
の際、オゾン水は、オゾン発生器等を用いて発生させた
オゾンを水中に飽和させることにより得ることが可能で
あり、また過酸化水素水や、他の過酸化物については市
販の化合物を用いることが可能である。本発明に用いる
ことができる除染剤の典型的な処方としては、例えば、
水１０重量部、オクタノール９０重量部、オゾン濃度約
８０ｐｐｍからなる組成物を挙げることができる。

【００４４】本発明のダイオキシン類除染方法は、工程
１０１において、上述の除染剤をダイオキシン類によっ
て汚染された焼却場設備といった構造物の内面に噴霧す
る。この工程１０１により、焼却場設備といったダイオ
キシン類が付着した構造物の内面からダイオキシン類を
含有する焼却灰を、高圧気体により噴霧される除染剤に
より除去することが可能となる。

【００４５】図２には、本発明のダイオキシン類除染方
法における除染剤噴霧工程１０１の実施例を示す。本発
明の除染方法が適用される構造体は、ダイオキシン類に
より汚染された部分を有する構造体であればいかなるも
のでも適用することが可能であるが、本発明では、ダイ
オキシン類除染方法の実施例を焼却場設備の内面を除染
することを例にとり詳細に説明する。本発明が適用され
る焼却場設備としては、焼却炉、灰ピット、冷却塔、集
塵機、煙突等を挙げることができ、本発明はこれらの各
設備に対して等しく適用することが可能である。図２で
は、これらの焼却場設備のうち本発明の除染方法を焼却
場設備の焼却炉１に適用する場合を例にとって説明す
る。

【００４６】図２（ａ）に示すように焼却炉１の内壁に
は、ゴミの燃焼により発生したダイオキシン類が付着し
た焼却灰２が堆積しており、この焼却灰２は、焼却炉１
の解体に先だって周囲環境への汚染拡大を防止し、作業
上の安全を確保するために、除去する必要がある。本発
明のダイオキシン類除染方法における除染剤噴霧工程１
０１では、まず図２に示すように焼却炉１の各開口３，
４，５に対して密閉部材６を装着して焼却炉１を周囲環
境から遮断する。このように焼却炉１の各開口３，４，
５を密閉することによって周囲環境へのダイオキシン類
の汚染拡大を防止することが可能となる。次いで、焼却
炉１の中心位置となる上部壁７に図２（ｂ）、図２
（ｃ）、より詳細には図３で説明する噴霧装置８を挿入
するための開口９を形成する。次いで図２（ｂ）に示す
ように、噴霧装置８を上述の開口９から焼却炉１へと挿
入する。さらに図２（ｃ）に示すように噴霧装置８の端
部に設けられたアーム１０を水平方向へと移動させアー
ム１０の先端部に設置された噴霧ノズル１１を焼却炉１
の内面に対向させる。次いで噴霧装置８を矢線Ａで示す
ように回動させることにより噴霧ノズル１１を回動させ
つつ、除染剤を除染剤供給タンク１２から供給ポンプ１
３により供給して焼却炉１の内面に噴霧させる。この噴
霧は、噴霧ノズル１１からの高圧気体による噴霧により
行なわれるようにされている。

【００４７】この際、噴霧装置８は、アーム１０を矢線
Ａで示すように回転させつつ矢線Ｂで示すように鉛直方
向に上下動させて除染剤の噴霧を行う。また、アーム１
０は、矢線Ｃで示すように水平方向へと伸縮可能に構成
されているため、焼却炉１の形状によらず内面全体にわ
たって除染剤を噴霧させることが可能となり、焼却炉１
の内面全体から焼却灰２、すなわちダイオキシン類によ
る汚染を除去することが可能となる。

【００４８】噴霧装置８から噴霧された除染剤は、図２
に示す焼却炉１の下側開口５を密閉するための密閉部材
６に設けられた図示しない開口から、図５においてより
詳細に説明するダイオキシン類の光分解処理を行う部分
へと除染された焼却灰２を含有したまま流されるように
されている。

【００４９】図３は、本発明に用いる噴霧装置８を一部
断面として示した図である。図３では、本発明のダイオ
キシン類除染方法に用いる噴霧装置８が、上部壁７に設
けられた開口９を通して焼却炉１内へと挿入されたとこ
ろが示されている。噴霧装置８は、上部壁７に噴霧装置
８を保持させるための保持部材１４と、軸受け部材１５
ａ，１５ｂと、軸受け部材１５ａに連結されたセンター
ホールジャッキ１６と、各種配管が挿通され噴霧装置８
を回動駆動させるための図示しない駆動部材を連結する
ための連結管１７と、を備えている。軸受け部材１５ｂ
は、その径方向外側面が保持部材１４に取り付けられ、
径方向内側面は、センターホールジャッキ１６を回動可
能に保持していて、軸受け部材１５ａと共にスラスト軸
受けを構成している。保持部材１４の上部壁７と重なり
合う部分には、噴霧装置８を堅固、かつ着脱可能に保持
するためのアンカー部材１８が挿通されていて、アンカ
ー部材１８が上部壁７にまで延ばされているのが示され
ている。

【００５０】図３には、センターホールジャッキ１６の
先端部に、複数のアーム１０がアーム保持部材１９によ
り保持されているのが示されている。また、このセンタ
ーホールジャッキ１６は、アーム１０を鉛直方向に移動
可能に保持している。アーム保持部材１９は、図示しな
いアーム駆動機構により鉛直方向に延びた図２（ｂ）に
示した位置から、図２（ｃ）及び図３に示した水平方向
の位置へと移動可能にアーム１０を保持している。図３
には、アーム１０を一部切り欠いて、その断面が示され
ている。図３に示されるようにこのアーム１０は、ジャ
ッキから構成されているので、アーム１０の焼却炉１の
内面に対向する側の端部に配置された噴霧ノズル１１を
水平方向へと移動可能とさせ、焼却炉１の内面にくまな
くダイオキシン類処理剤を付着させることができるよう
にされている。図３では、アーム１０を２本用いるもの
として示しているがこのアーム１０は、適切に焼却炉１
の内面へと除染剤を付着させることが可能であれば、必
要に応じて何本でも用いることができる。また、センタ
ーホールジャッキ１６、アーム１０を構成するジャッキ
は、いかなるものでも用いることができる。また、図示
しないアーム駆動機構についても、アーム１０を鉛直方
向から水平方向へと移動させることができればいかなる
ものでも用いることができる。

【００５１】噴霧装置８には、図３に示されるように連
結管１７の上部から除染剤供給チューブ２０といった配
管の他、必要に応じて油圧ケーブルが挿通される。除染
剤供給チューブ２０は、さらにセンターホールジャッキ
１６の内部を通され、アーム１０の内部を通されて、噴
霧部材２１に取り付けけられた噴霧ノズル１１へと除染
剤を供給している。

【００５２】図４には、アーム１０に取り付けられた噴
霧ノズル１１が配設される噴霧部材２１の詳細を示す。
図４に示した噴霧部材２１は、保持部２２とノズル取付
部２３とからなり、保持部２２に取り付けられたステー
２４により、アーム１０に保持されている。このステー
２４は、図４に示すようにアーム１０の先端部付近に、
アーム１０に対して噴霧部材２１をステー２４を中心と
して矢線Ｄ方向へとスイング可能とするように配設する
こともできる。このようにスイング可能に取り付けるこ
とにより、さらに除染剤をあらゆる方向に噴霧させるこ
とが可能となる。ノズル取付部２３には、複数の噴霧ノ
ズル１１が取り付けられており、この噴霧ノズル１１
は、除染剤を高圧気体により内壁に向かって噴霧する。
このノズル取付部２３は、回動可能に保持部２２に対し
て保持されていて、噴霧ノズル１１を矢線Ｅの方向へと
回転させながら除染剤を高圧気体を噴出させることによ
り噴霧させている。この噴霧部材２１をアーム１０に対
してスイングさせるための機構及びノズル取付部２３を
回転可能に保持するための機構としては従来知られてい
るいかなる機構でも用いることができる。また、保持部
２２には、ＣＣＤカメラＣＤが取り付けられており、Ｃ
ＣＤカメラＣＤからの映像を確認しつつ焼却灰２の除去
状況を遠隔的に確認することが可能とされている。ＣＣ
ＤカメラＣＤの保持部２２への取付は、噴霧ノズル１１
ごしに焼却灰２の除去状況を確認することができれば、
スイング可能に取り付けられていても良く、また固定し
て取り付けられていても良く、この際の取り付け方法及
び手段としては従来公知のいかなるものでも用いること
ができる。

【００５３】図５には、本発明の除染方法に用いるダイ
オキシン類処理装置を示す。本発明のダイオキシン類処
理装置は、図３及び図４に説明した噴霧装置８と、焼却
炉１といった構造体内部に付着した焼却灰２を含有する
除染剤から、炭化成分といった不溶性物質ＵＳとダイオ
キシン類といった汚染物質を溶解した液体層ＬＦとを分
離するための回収分離装置２５と、光分解手段とを備え
ている。本発明の光分解手段は、図５で説明する本発明
の実施例では、本発明のダイオキシン除染方法のダイオ
キシン類分解Ｉ工程１０２で用いられる集光装置２６
と、光触媒による酸化によりダイオキシン類を分解させ
るためのダイオキシン類分解ＩＩ工程１０３に用いる分
解無害化装置２７とを備えているのが示されている。し
かしながら、本発明に用いる光分解手段を集光装置２６
と分解無害化装置２７とを必ずしも組み合わせて用いる
必要はなく、いずれか単独で用いることも可能である。

【００５４】本発明のダイオキシン類処理装置において
は、焼却炉１の内面に噴霧され、ダイオキシン類を含む
焼却灰２を含有した除染剤は、焼却炉下側の開口５を密
閉するための密閉部材６に設けられた図示しない排出口
から送液ポンプＰにより配管２８を通して回収分離装置
２５へと供給される。この回収分離装置２５では、焼却
灰２に含まれる不溶性物質ＵＳとダイオキシン類といっ
た溶媒可溶成分との分離が行われる。すなわち、焼却灰
２に含まれたダイオキシン類は、焼却炉１の内面に噴霧
された段階でも除染剤中のダイオキシンを溶解するもの
の、この段階では光を透過させない炭化物等を含有して
いるため、光分解手段を構成する集光装置２６における
ダイオキシン分解Ｉ工程１０２や分解無害化装置２７に
おける光触媒を用いたダイオキシン類分解ＩＩ工程１０
３にそのまま供給するには不適切である。また、さらに
焼却灰２に含まれるダイオキシン類化合物と溶剤の接触
時間をさらに長時間としてダイオキシン類の有機溶剤に
よる抽出を確実に行う必要もある。このため、図５に示
した回収分離装置２５では、焼却灰２を含む除染剤を静
置して、焼却灰２の不溶性成分ＵＳを沈降させるととも
にダイオキシン類を溶媒に溶解抽出することにより、不
溶性成分ＵＳを分離すると共に、ダイオキシン類の液体
層ＬＦへの抽出をより確実に行うようにされている。

【００５５】図５では、回収分離装置２５は、除染剤を
静置させて不溶成分ＵＳと、この溶媒に溶解したダイオ
キシン類とを含む液体層ＬＦとを分離した後、送液ポン
プＰにより液体層ＬＦを集光装置２６へと送液するよう
に示されているが、本発明においては、回収分離装置２
５に内容物を撹拌するための撹拌装置を設けて、焼却灰
２を含む除染剤を撹拌させつつ、図示しないフィルター
を介して液体層ＬＦを後述する光分解手段として用いら
れる集光装置２６へと送液ポンプＰにより送るようにさ
れていても良い。

【００５６】本発明において用いる光分解手段を構成す
る集光装置２６は、ダイオキシン分解Ｉ工程１０２に用
いられる。この集光装置２６は、太陽光線を用い、除染
剤中に含有される酸化剤によりダイオキシン類を分解・
無害化を行う。このため、集光装置２６は、紫外光線
（ＵＶ光線）を透過させるように、石英ガラス等で形成
されていても良く、また、集光装置２６に石英ガラスに
より形成された集光窓が設けられていても良い。このよ
うに太陽光線を用いて予めダイオキシン類を光分解する
ことにより、ダイオキシン類分解ＩＩ工程１０３におけ
る光照射を用いた光触媒によるダイオキシン類の分解・
無害化の時間や、処理コストを低減することが可能とな
る。

【００５７】本発明のダイオキシン類処理装置では、次
いで、光分解手段によりさらにダイオキシン類分解ＩＩ
工程１０３を行うために、工程１０２のダイオキシン類
分解Ｉ工程で処理された除染剤を分解無害化装置２７へ
と送液ポンプＰを通して送液する。この分解無害化装置
２７は、分解無害化槽２９と、この分解無害化槽２９内
に配置された螺旋状の照射ランプ３０と、分解無害化槽
２９の内容物を撹拌するための攪拌羽根３１とを備えて
いる。照射ランプ３０は、分解無害化槽２９内へと絶縁
を維持しつつ分解無害化槽２９の外部の図示しない電源
へと接続されていて、分解無害化槽２９内に光線を照射
させている。なお、この照射ランプ３０は図５中では螺
旋形とされているのが示されているが、いかなる形状、
大きさの照射ランプ３０でも用いることが可能である。
また、この照射ランプ３０は、後述する光触媒のバンド
ギャップに対応して電子を励起でき、必要な酸化反応を
生じさせる電子を生じさせることが可能な約２００ｎｍ
から約６００ｎｍの波長の光線を照射させるものであれ
ばいかなるものでも用いることができる。

【００５８】また、特に照射ランプ３０を用いずに、照
射ランプ３０に代えてダイオキシン類分解Ｉ工程１０２
で集光された太陽光線を分解無害化槽２９内部へと導入
する光ファイバーを用いることもできる。この際には集
光部、照射部、及び光ファイバーは、照射光線を充分に
透過させることができるように紫外光を透過可能な材
料、例えば石英製の材料から形成することが必要であ
る。このように光ファイバーによって太陽光線を分解無
害化槽２９へと導入することにより太陽光線といった自
然の光源を用いることを可能とし、ダイオキシン類の分
解無害化の処理コストを低減させると共に、自然エネル
ギーを利用した環境調和型の処理装置を提供できる。

【００５９】分解無害化装置２７の分解無害化槽２９内
には、照射ランプ３０又は太陽光線によるＵＶ光線の照
射により活性化されて酸化反応を引き起こすことができ
る光触媒３２が収容されている。この光触媒３２は、図
５では、粒子状とされているのが示されている。しかし
ながら、本発明においては、上述した光触媒３２は、図
示されているように粒子状として用いることも可能であ
るし、分解無害化槽２９の内面のライニング及び照射ラ
ンプ３０の表面にコーティングした膜として用いること
も可能である。本発明において用いることができる光触
媒としては、種々の材料を挙げることができ、具体的に
は例えば、ＴｉＯ_２、ＳｒＴｉＯ_３、ＫＴａＯ_３、Ｓｎ
Ｏ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、
ＦｅＴｉＯ_３、ＭｎＴｉＯ_３、ＢａＴｉＯ_３、ＺｎＯ、
Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、ＮｂＯ_２、ＣａＴｉＯ_３、Ｓｒ
Ｎｂ_２Ｏ_６、酸化ジルコニウム等、バンドギャップが約
２．０ｅＶから約６．３ｅＶ程度の光触媒を挙げること
ができる。また、これらの光触媒は、適宜混合して用い
ることが可能である。

【００６０】本発明のダイオキシン類処理装置では上述
した光分解手段を用いてほとんどのダイオキシン類を分
解することが可能となり、そのまま除染剤を再度用いる
ことも可能である。しかしながら、危険性の高いダイオ
キシンが処理対象とされているので、除染剤再生工程１
０４により、分解無害化装置２７からの処理液を活性炭
により処理して最終的な再生除染剤とすることが好まし
い。本発明の除染剤再生工程１０４において用いられる
再生装置３３は、分解無害化装置２７からの処理液を受
け取り除染剤に対して活性炭により吸着処理を加えるた
めの活性炭処理装置３４と、再生除染剤を貯蔵しておく
ための再生除染剤タンク３５とから構成されている。こ
のように再生された再生除染剤は、図５に示されるよう
にさらに送液ポンプＰによって除染剤再循環装置３６へ
と送られる。この除染剤再循環装置３６は、再生除染剤
供給タンク３７と再循環送液ポンプＰとを備えており、
この再生除染剤供給タンク３７に貯蔵された再生除染剤
は、再循環送液ポンプＰにより再度噴霧装置８へと供給
され、除染剤循環工程１０５において除染剤を循環して
本発明の除染方法が繰り返されることになる。本発明の
除染方法は、工程１０６で示すように構造体の内面から
焼却灰２が完全に除去されたことを噴霧装置８の噴霧部
材２１に取り付けたＣＣＤカメラＣＤ等により確認した
後、終了する。なお、これらの各設備は、集光装置２６
を除き、図５においては建屋３８内に収容されているの
が示されているが、この建屋３８は必ずしも必要とされ
るものではない。

【００６１】本発明の除染方法を焼却場設備に適用した
後、焼却場設備の解体を行うが、本発明によりすでに焼
却場の各設備の内面が除染されているので、ダイオキシ
ン類による周囲環境への汚染拡大を生じさせず、また、
作業上の安全を確保することが可能となる。

【００６２】これまで本発明を、焼却場設備の構造体を
例にとり説明してきたが、本発明は、焼却場設備ばかり
ではなく、ダイオキシン類に汚染された他の構造物の解
体を行う際にその汚染部分を除染するためにも適用する
ことができることが可能である。

【００６３】

【発明の効果】本発明のダイオキシン類の除染方法及び
ダイオキシン類処理装置によれば、ダイオキシン類によ
り付着汚染された汚染物質を、現場外の処理施設や処分
場等に搬出する必要がなく、現場原位置において除洗処
理を行うことが可能となる。また、基本的に溶液による
洗浄を用いてダイオキシン類を含有する焼却灰等を除染
するため、特殊かつ複雑な管理工程を組む必要がなく、
容易に作業を進めることが可能となる。

【００６４】さらに本発明のダイオキシン類除染方法及
びダイオキシン類処理装置によれば、大がかりな処理プ
ラントを建設する必要がないので、処理コストを大幅に
削減できる。また、除洗剤は、ダイオキシン類の分解・
無害化を行なった後再生させて利用できるため、ランニ
ングコストを最小限に抑えることが可能となる。さらに
は、本発明のダイオキシン類処理装置は、溶解したダイ
オキシン類を分解・無害化するために、ダイオキシン類
が溶解した除洗剤を一時的に溜めておく分解無害化槽を
用意しておき、その中に光触媒と、撹件装置と、照射ラ
ンプとを設け、除洗剤を送出するポンプを設けるだけで
済み、ダイオキシン類処理装置の建設費用は非常が安価
に抑えるられることになる。また、光酸化触媒で分解・
無害化処理を行う際に、必要に応じて太陽光を利用する
ことが可能となるので紫外線（ＵＶ）といった光線の照
射に要するランニングコストを削減することも可能とす
る。

【００６５】また本発明は、ダイオキシン類の分解・無
害化に関して、光酸化触媒を利用した分解法を採用して
いるので、燃焼法等で問題となっているようなダイオキ
シン類が再生成することもなく、除染剤を廃棄する際、
ダイオキシン類は分解・無害化されているので、そのま
ま廃棄が可能であり、廃棄のために改めて分解・無害化
処理を行う必要がないという、安全上極めて優れた効果
を得ることを可能とする。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のダイオキシン類の除染方法を示すフロ
ーチャート。

【図２】本発明のダイオキシン類の除染方法を焼却炉に
適用するところを示した図。

【図３】本発明に用いる除染剤の噴霧装置を示した図。

【図４】本発明に用いる噴霧装置の噴霧部材の詳細部を
示した図。

【図５】本発明のダイオキシン類処理装置を示した図。

【符号の説明】

１…焼却炉２…焼却灰３，４，５…開口６…密閉部材７…上部壁８…噴霧装置９…開口１０…アーム１１…噴霧ノズル１２…除染剤供給タンク１３…供給ポンプ１４…保持部材１５ａ，１５ｂ…軸受け部材１６…センターホールジャッキ１７…連結管１８…アンカー部材１９…アーム保持部材２０…除染剤供給チューブ２１…噴霧部材２２…保持部２３…ノズル取付部２４…ステー２５…回収分離装置２６…集光装置２７…分解無害化装置２８…配管２９…分解無害化槽３０…照射ランプ３１…攪拌羽根３２…光触媒３３…除染剤再生装置３４…活性炭処理装置３５…再生除染剤タンク３６…再循環装置３７…再生除染剤供給タンク３８…建屋ＣＤ…ＣＣＤカメラＬＦ…液体層ＵＳ…不溶成分

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2E176 AA00 BB05 2E191 BA12 BC01 BC05 BD11 BD13 BD17 3K061 QA09 QA16 3K065 BA01 HA01 4D004 AA31 AA50 AB07 CA36 CA40 CC03 CC04 CC09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ダイオキシン類により汚染された構造物
を周囲環境から遮断し、前記構造物のダイオキシン類により汚染された部分に除
染剤を噴霧して除染剤に前記ダイオキシン類を溶解さ
せ、前記除染剤中に含まれる前記ダイオキシン類を光分解処
理し、光分解処理後の前記除染剤を前記部分に再度噴霧させる
ために再循環させることを特徴とするダイオキシン類除
染方法。
【請求項２】前記除染剤は、水と、溶媒と、酸化剤と
を含有することを特徴とする請求項１に記載のダイオキ
シン類除染方法。
【請求項３】前記溶媒は、アルコール系溶媒とされて
いることを特徴とする請求項２に記載のダイオキシン類
除染方法。
【請求項４】前記光分解は、前記酸化剤の添加と紫外
光線とにより開始される光分解反応を用いることを特徴
とする請求項２又は３に記載のダイオキシン類除染方
法。
【請求項５】前記光分解は、光触媒を用いた光分解反
応を用いることを特徴とする請求項２又は３に記載のダ
イオキシン類除染方法。
【請求項６】前記光分解は、紫外光線により前記酸化
剤を分解することにより開始される光分解反応及び光触
媒を用いた光分解反応を用いることを特徴とする請求項
２又は３に記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項７】前記光触媒は、ＴｉＯ_２、ＳｒＴｉ
Ｏ_３、ＫＴａＯ_３、ＳｎＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、Ｆ
ｅ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＦｅＴｉＯ_３、ＭｎＴｉＯ_３、
ＢａＴｉＯ_３、ＺｎＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、ＮｂＯ
_２、ＣａＴｉＯ_３、ＳｒＮｂ_２Ｏ_６、酸化ジルコニウ
ム、及びこれらの化合物の２種以上の混合物からなる群
から任意に選択されることを特徴とする請求項５又は６
に記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項８】前記溶媒は、オクタノールとされること
を特徴とする請求項２〜７のいずれか１つに記載のダイ
オキシン類除染方法。
【請求項９】前記除染剤の再循環前に前記除染剤を活
性炭で吸着処理することにより再生することを特徴とす
る請求項１〜８のいずれか１つに記載のダイオキシン類
除染方法。
【請求項１０】前記構造体は、焼却場設備とされてい
ることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載
のダイオキシン類除染方法。
【請求項１１】ダイオキシン類により汚染された焼却
場設備の構造物を周囲環境から遮断するための部材と、前記構造物のダイオキシン類により汚染された部分に、
水と、溶媒と、酸化剤とを含有し前記ダイオキシン類を
溶解する除染剤を噴霧するための噴霧装置と、前記除染剤に溶解した前記ダイオキシン類を光分解処理
するための光分解手段と、前記光分解処理後の前記除染剤を前記部分に再度噴霧さ
せるため前記噴霧装置へと前記除染剤を再循環させるた
めの再循環装置とを備えることを特徴とするダイオキシ
ン類処理装置。
【請求項１２】前記溶媒は、アルコール系溶媒とされ
ていることを特徴とする請求項１１に記載のダイオキシ
ン類処理装置。
【請求項１３】前記ダイオキシン類を光分解するため
の光分解手段は、光触媒を含んで構成され、さらに該光
触媒に光線を照射するための照射装置と、前記処理装置
の内容物を撹拌するための撹拌装置とを有することを特
徴とする請求項１１又は１２に記載のダイオキシン類処
理装置。
【請求項１４】前記光分解手段は、太陽光線を集光す
るための集光装置を備えることを特徴とする請求項１
１，１２，又は１３に記載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１５】前記光触媒は、ＴｉＯ_２、ＳｒＴｉＯ
_３、ＫＴａＯ_３、ＳｎＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、Ｆｅ
_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＦｅＴｉＯ_３、ＭｎＴｉＯ_３、Ｂ
ａＴｉＯ_３、ＺｎＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、Ｎｂ
Ｏ_２、ＣａＴｉＯ _３、ＳｒＮｂ_２Ｏ_６、酸化ジルコニウ
ム、及びこれらの化合物の２種以上の混合物からなる群
から任意に選択されることを特徴とする請求項１３に記
載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１６】前記除染剤の再循環前に前記除染剤を
活性炭で吸着処理することにより再生するための再生装
置を備えることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれ
か１つに記載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１７】前記溶媒は、オクタノールとされてい
ることを特徴とする請求項１１〜１６のいずれか１つに
記載のダイオキシン類処理装置。