JP2001077238A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001077238A
JP2001077238A JP25380099A JP25380099A JP2001077238A JP 2001077238 A JP2001077238 A JP 2001077238A JP 25380099 A JP25380099 A JP 25380099A JP 25380099 A JP25380099 A JP 25380099A JP 2001077238 A JP2001077238 A JP 2001077238A
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JP
Japan
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substrate
wiring
semiconductor device
chip
sealing material
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JP25380099A
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Japanese (ja)
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Akihiko Iwatani
昭彦 岩谷
Kenji Ujiie
健二 氏家
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device, capable of preventing disconnection of regular wirings by allowing dummy wirings to block the growth of cracks, and preventing crackings and subsequent disconnections of the wirings by eliminating stress concentrations at peeled-off portions. SOLUTION: A BGA(ball grid array) surface-mount package is of a molded structure 2, where a chip is mounted on a substrate and sealed with a sealing material. Dummy metallized wirings 16 are provided, in order to prevent breake of regular metallized wirings 13 (13a to 13d) on a fourth layer on the underside of the substrate 2. The wirings 16 are provided on both sides or on one side along the conductors 13, or so as to fill the clearances between the wirings 13, or the wirings 13 and 16 are formed to be relatively large in width. Furthermore, a resist is provided with openings which are formed in a first layer of the surface of the substrate 2, at locations where the resist and the sealing material are easily peeled off.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置のパッ
ケージ技術に関し、特に基板の表面および裏面に絶縁の
ためのレジストが被着され、この基板上に実装されたチ
ップがプラスチック樹脂により封止されるモールド構造
の半導体装置に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a packaging technology for a semiconductor device, and more particularly, to a method for mounting a resist for insulation on a front surface and a back surface of a substrate, and sealing a chip mounted on the substrate with a plastic resin. The present invention relates to a technique which is effective when applied to a semiconductor device having a mold structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、本発明者が検討した技術とし
て、基板上に実装されたチップがプラスチック樹脂によ
り封止されるモールド構造のパッケージでは、一般に、
基板に設けられた配線などの電気的な露出部分の絶縁を
目的として、基板の表面にレジストによる絶縁膜を付け
る技術が用いられている。なお、このようなパッケージ
に関する技術としては、4個のチップを基板上に実装す
る特開平11−17099号公報の技術などが挙げられ
る。
2. Description of the Related Art For example, as a technique studied by the present inventor, in a package having a mold structure in which a chip mounted on a substrate is sealed with a plastic resin, generally,
2. Description of the Related Art For the purpose of insulating electrically exposed portions such as wirings provided on a substrate, a technique of applying an insulating film of a resist on the surface of the substrate has been used. As a technique related to such a package, there is a technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-17099 in which four chips are mounted on a substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のよう
な基板の表面にレジストによる絶縁膜を付けるパッケー
ジ技術においては、一般に、レジストは基板自体よりも
線膨張率が大きく、また封止する樹脂材料に用いられる
プラスチック樹脂との接着性があまり良くないことが知
られている。これにより、以下のようなことが考えられ
る。
By the way, in the above-mentioned package technology for providing an insulating film of a resist on the surface of a substrate, the resist generally has a larger coefficient of linear expansion than the substrate itself, and a resin material to be sealed. It is known that the adhesiveness with the plastic resin used for the resin is not so good. As a result, the following can be considered.

【0004】(1).レジストと基板自体の膨張率差により
レジストにはクラックが入りやすく、これが製品として
の使用環境の温度サイクルにより進展し、レジストの下
の配線に及び、配線断線に至る可能性がある。
(1) The resist is easily cracked due to the difference in expansion coefficient between the resist and the substrate itself, which can be developed by the temperature cycle of the environment in which the product is used, spread to the wiring under the resist, and lead to the disconnection of the wiring. There is.

【0005】(2).モールド後に、注入口のプラスチック
樹脂を折り曲げて切断する際に、レジストとプラスチッ
ク樹脂の剥がれの先端に応力が集中し、レジストのクラ
ックを引き起こし、これが前記(1) と同様に配線断線に
至る可能性がある。
(2) When bending and cutting the plastic resin at the injection port after molding, stress concentrates on the tip of the peeling of the resist and the plastic resin, causing the resist to crack, which is the same as in the above (1). There is a possibility that the wiring may be disconnected.

【0006】そこで、本発明の目的は、前記のような配
線断線に至るレジストのクラックの発生に着目し、ダミ
ー配線によりクラックの進展を邪魔して正規の配線の断
線を防止することができ、また剥がれ部での応力集中を
なくしてクラック及びその後の配線断線を防止すること
ができる半導体装置を提供するものである。
Accordingly, an object of the present invention is to pay attention to the occurrence of the cracks in the resist leading to the disconnection of the wiring as described above, and to prevent the propagation of the crack by the dummy wiring to prevent the disconnection of the regular wiring. It is another object of the present invention to provide a semiconductor device capable of preventing a crack and subsequent wiring disconnection by eliminating stress concentration at a peeling portion.

【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
[0007] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0009】本発明は、所定の回路に電気的に接続され
た複数のパッドが設けられているチップと、このチップ
上の各パッドに電気的に接続された複数のパッドが表面
に設けられ、この表面の各パッドに電気的に接続された
複数の外部端子が裏面に設けられ、この表面および裏面
には絶縁膜が被着されている基板とを有し、チップは基
板上に実装され、封止材により封止されたモールド構造
からなる半導体装置に適用され、以下のような特徴を有
するものである。
According to the present invention, a chip provided with a plurality of pads electrically connected to a predetermined circuit, and a plurality of pads electrically connected to respective pads on the chip are provided on a surface thereof. A plurality of external terminals electrically connected to each pad on the front surface are provided on the back surface, and a substrate on which an insulating film is attached is provided on the front surface and the back surface, and the chip is mounted on the substrate, The present invention is applied to a semiconductor device having a mold structure sealed with a sealing material and has the following features.

【0010】すなわち、本発明の半導体装置は、基板の
裏面に関し、表面の各パッドと裏面の各外部端子とを電
気的に接続するための正規の配線と、この配線の周囲に
配置され、この配線の断線を防止するためのダミー配線
とを設けるものである。この構成において、ダミー配線
は正規の配線の隙間を埋めるように設け、また正規の配
線およびダミー配線は比較的、太い配線幅で設けるよう
にしたものである。これにより、ダミー配線がクラック
の進展を邪魔することにより、正規の配線の断線を防止
することができる。
In other words, the semiconductor device of the present invention relates to a regular wiring for electrically connecting each pad on the front surface and each external terminal on the rear surface with respect to the back surface of the substrate, and is arranged around the wiring. Dummy wiring for preventing disconnection of wiring is provided. In this configuration, the dummy wiring is provided so as to fill the gap between the regular wirings, and the regular wiring and the dummy wiring are provided with a relatively large wiring width. Thus, the break of the regular wiring can be prevented by the dummy wiring obstructing the progress of the crack.

【0011】また、本発明の他の半導体装置は、基板の
表面に関し、絶縁膜および封止材の剥がれやすい部分
に、この絶縁膜を被着しない開口部を設けるものであ
る。この構成において、開口部は封止材を注入する方向
の基板の角部に設けるようにしたものである。これによ
り、剥がれ部での応力集中をなくし、クラック及びその
後の配線断線を防止することができる。
In another semiconductor device of the present invention, an opening which does not cover the insulating film is provided in a portion of the surface of the substrate where the insulating film and the sealing material are easily peeled off. In this configuration, the opening is provided at a corner of the substrate in a direction in which the sealing material is injected. As a result, stress concentration at the peeled portion can be eliminated, and cracks and subsequent disconnection of the wiring can be prevented.

【0012】さらに、本発明の他の半導体装置は、基板
の配線に関し、配線の断線を防止するために端面を分離
・曲面形状で設けるものである。これにより、クラック
が延びていき難くして、正規の配線の断線を防止するこ
とができる。
Further, another semiconductor device according to the present invention relates to wiring of a substrate, wherein an end face is provided in a separated / curved shape in order to prevent disconnection of the wiring. This makes it difficult for cracks to extend, thereby preventing disconnection of regular wiring.

【0013】以上の半導体装置の構成において、特に、
絶縁膜をレジスト、封止材をプラスチック樹脂とし、チ
ップは各々が記憶回路が形成された複数のチップからな
ることにより、複数のチップを基板上に行列状に配置
し、複数のチップを1パッケージに実装して構成したメ
モリパッケージに適用することができる。
In the configuration of the semiconductor device described above,
The insulating film is made of resist, the sealing material is made of plastic resin, and each chip is composed of a plurality of chips on each of which a memory circuit is formed. The present invention can be applied to a memory package configured by mounting on a memory device.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図1〜図3は本発明の一実
施の形態である半導体装置の概略構成を説明するための
図、図4〜図8は基板の構造を詳細に説明するための
図、図9は半導体装置の組み立てフローを説明するため
の図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. 1 to 3 are diagrams for explaining a schematic configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIGS. 4 to 8 are diagrams for explaining a structure of a substrate in detail, and FIG. 9 is a semiconductor device. FIG. 4 is a diagram for explaining an assembly flow of FIG.

【0015】まず、図1〜図3により、本実施の形態の
半導体装置の一例の概略構成を説明する。図1は平面
図、図2(a) は正面図、図2(b) は側面図、図2(c) は
底面図をそれぞれ示し、図3は図1のA−A’切断線の
断面図である。
First, a schematic configuration of an example of the semiconductor device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 is a plan view, FIG. 2 (a) is a front view, FIG. 2 (b) is a side view, FIG. 2 (c) is a bottom view, and FIG. 3 is a cross section taken along line AA 'in FIG. FIG.

【0016】本実施の形態の半導体装置は、たとえばB
GA(Ball Grid Array )の表面実装型パッケージとさ
れ、記憶回路が形成された4個のチップ1と、この4個
のチップ1が実装される基板2と、この基板2上のパッ
ドとチップ1上のパッドとを接続するワイヤ3と、基板
2の裏面に設けられるはんだボール4と、基板2に実装
されたチップ1およびワイヤ3をモールドする封止材5
などから構成されている。このパッケージは、図1のよ
うに表面の一角部にパッケージの向きを示すためのマー
ク6が付されている。
The semiconductor device according to the present embodiment has, for example, B
Four chips 1 on which a memory circuit is formed, a surface mount package of a GA (Ball Grid Array), a substrate 2 on which the four chips 1 are mounted, and pads and chips 1 on the substrate 2 A wire 3 for connecting the upper pad; a solder ball 4 provided on the back surface of the substrate 2; and a sealing material 5 for molding the chip 1 and the wire 3 mounted on the substrate 2.
It is composed of As shown in FIG. 1, a mark 6 indicating the direction of the package is provided at one corner of the surface of the package.

【0017】4個のチップ1は、それぞれ、たとえば6
4M−SDRAM(Synchronous Dynamic Random Acces
s Memory)の記憶回路が形成され、この記憶回路に電気
的に接続された複数のパッドが表面に設けられている。
この4個の64M−SDRAMのチップ1により、25
6M−SDRAMのMCP(Multi Chip Package)が構
成されている。
Each of the four chips 1 has, for example, 6
4M-SDRAM (Synchronous Dynamic Random Acces)
s Memory) is formed, and a plurality of pads electrically connected to the storage circuit are provided on the surface.
With these four 64M-SDRAM chips 1, 25
A 6M-SDRAM MCP (Multi Chip Package) is configured.

【0018】基板2は、たとえば各層に銅(Cu)など
の金属薄膜が被着されたガラス・エポキシ材による4層
の多層配線構造からなり、その表面上に、たとえばエポ
キシ樹脂などのダイボンディング材7を介してチップ1
が実装され、このチップ1上の各パッドにワイヤ3を介
してそれぞれ電気的に接続される複数のパッドが表面に
設けられている。この表面上の各パッドは、各層の配線
パターンおよび各層を貫通する導電材料充填のスルーホ
ールを介して裏面のはんだボール接続用のランドに電気
的に接続されている。基板2の各層は、後述する図5〜
図8のような機能・構造となっている。
The substrate 2 has, for example, a four-layered multi-layer wiring structure made of a glass epoxy material having a metal thin film such as copper (Cu) applied to each layer, and has a die bonding material such as an epoxy resin on its surface. Chip 1 through 7
Are mounted, and a plurality of pads which are electrically connected to respective pads on the chip 1 via wires 3 are provided on the surface. Each pad on this surface is electrically connected to a solder ball connection land on the back surface via a wiring pattern of each layer and a through hole filled with a conductive material penetrating each layer. Each layer of the substrate 2 is shown in FIGS.
The function and structure are as shown in FIG.

【0019】ワイヤ3は、たとえば金(Au)などの金
属線(ボンディングワイヤ)からなり、このワイヤ3を
用いたワイヤボンディングにより基板2上のパッドと各
チップ1上のパッドとが電気的に接続される。
The wire 3 is made of a metal wire (bonding wire) such as gold (Au), and the pads on the substrate 2 and the pads on each chip 1 are electrically connected by wire bonding using the wire 3. Is done.

【0020】はんだボール4は、たとえば鉛/すず(P
b/Sn)などからなるパッケージの外部端子(バンプ
電極)であり、基板2の裏面上に配置された各ランドに
電気的に接続される複数のはんだボール4が基板2の裏
面に設けられている。
The solder ball 4 is made of, for example, lead / tin (P
b / Sn) and a plurality of solder balls 4 electrically connected to each land disposed on the back surface of the substrate 2 on the back surface of the substrate 2. I have.

【0021】封止材5は、たとえばプラスチック樹脂な
どの樹脂材料からなり、この封止材5により基板2に実
装されたチップ1およびワイヤ3などの電気的な露出部
分が覆われてモールドされ、BGA表面実装型パッケー
ジ構造となる。
The sealing material 5 is made of, for example, a resin material such as a plastic resin. The sealing material 5 covers the electrically exposed portions such as the chip 1 and the wires 3 mounted on the substrate 2 and is molded. A BGA surface mount package structure is obtained.

【0022】次に、図4〜図8により、基板2の一例の
構造を詳細に説明する。図4はチップ1を基板2上に実
装した状態(封止材5は省略)の概略平面図、図5は図
4のB−B’切断線の断面図(断面表示省略)である。
図6〜図8は基板2の各層の配線パターンを示す平面図
であり、図6は1層目、図7は2層目、図8は4層目を
それぞれ示す。
Next, the structure of an example of the substrate 2 will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 4 is a schematic plan view showing a state in which the chip 1 is mounted on the substrate 2 (the sealing material 5 is omitted), and FIG. 5 is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
6 to 8 are plan views showing wiring patterns of each layer of the substrate 2, FIG. 6 shows a first layer, FIG. 7 shows a second layer, and FIG. 8 shows a fourth layer.

【0023】図4のように、平面上略長方形の基板2上
には、平面上略長方形の4個のチップ1(1a,1b,
1c,1d)が実装され、この4個のチップ1は図4に
おいて上下(長辺方向)/左右(短辺方向)に2個ずつ
行列状(格子状)に配置されている。この4個のチップ
1は、上側と下側とで基板2の長辺方向の中心線に対し
て線対称の配置となっている。すなわち、4個のチップ
1は、基板2の向きを示す金めっきなどからなるインデ
ックス8に対して、説明上、それぞれチップ1の向きを
示すために付した、一対の短辺のマークFが付されてい
る一方が互いに隣接するように配置されている。
As shown in FIG. 4, four substantially rectangular chips 1 (1a, 1b,
1c, 1d) are mounted, and the four chips 1 are arranged in a matrix (lattice form) by two vertically (long side direction) / left and right (short side direction) in FIG. The four chips 1 are arranged symmetrically with respect to the center line in the long side direction of the substrate 2 on the upper side and the lower side. That is, the four chips 1 are provided with a pair of short side marks F attached to the index 8 made of gold plating or the like indicating the direction of the substrate 2 for indicating the direction of the chip 1 for explanation. Are arranged adjacent to each other.

【0024】また、各チップ1には、短辺方向のほぼ中
心線上にほぼ1列に複数のパッド9が配置されている。
いわゆるセンターパッド配置構造によりほぼ1列に配置
された複数のパッド9としては、アドレス信号のアドレ
ス用パッド9a、制御信号の制御用パッド9b、入出力
データの入出力用パッド9c、電源電圧、グランド電圧
などの電源用パッド9dがそれぞれ設けられている。
In each chip 1, a plurality of pads 9 are arranged in substantially one line substantially on the center line in the short side direction.
The plurality of pads 9 arranged in substantially one line by a so-called center pad arrangement structure include address signal address pads 9a, control signal control pads 9b, input / output data input / output pads 9c, power supply voltage, and ground. A power supply pad 9d for voltage or the like is provided.

【0025】たとえば、アドレス用パッド9aの部分を
通るB−B’切断線における断面図は図5のようにな
る。図5のように、基板2は4層配線構造からなり、最
上層である1層目が信号層(1)に、2層目が電源のグ
ランド電圧(VSS)層に、3層目が電源の電源電圧
(VDD)層に、最下層である4層目が信号層(2)に
それぞれ割り当てられている。この4層配線構造の基板
2は、各層を貫通する導電材料充填のスルーホール10
を介して所望の各層の配線パターンが接続されている。
また、基板2の表面および裏面には、開口部、パッド、
ランドの各部分を除いて電気的に絶縁するための絶縁膜
であるレジスト11が被着されている。
FIG. 5 is a sectional view taken along the line BB 'passing through the portion of the address pad 9a. As shown in FIG. 5, the substrate 2 has a four-layer wiring structure. The first layer, which is the uppermost layer, is the signal layer (1), the second layer is the ground voltage (VSS) layer of the power supply, and the third layer is the power supply layer. , And the fourth layer, which is the lowest layer, is assigned to the signal layer (2). The substrate 2 having the four-layer wiring structure has through holes 10 filled with a conductive material penetrating through each layer.
The desired wiring pattern of each layer is connected via the.
In addition, openings, pads,
A resist 11, which is an insulating film for electrically insulating except for each part of the land, is applied.

【0026】この基板2の最上層の1層目は、図6のよ
うになる。図6のように、基板2の1層目には、チップ
1上の各パッド9にワイヤ3を介してそれぞれ電気的に
接続される複数のパッド12が基板2の長辺方向に沿っ
て中央部に2列、周辺部の両側に1列ずつ2列で配置さ
れている。すなわち、パッド12はチップ1の実装領域
の両側に分けて内側と外側の2列で設けられている。ま
た、各パッド12に配線パターンにより接続されるスル
ーホール10は、チップ1の実装領域や基板2の周辺部
などに配置されている。
The first uppermost layer of the substrate 2 is as shown in FIG. As shown in FIG. 6, on the first layer of the substrate 2, a plurality of pads 12 electrically connected to the respective pads 9 on the chip 1 via the wires 3 at the center along the long side direction of the substrate 2. And two rows, one row on each side of the peripheral part. That is, the pads 12 are provided in two rows on the inner side and the outer side separately on both sides of the mounting area of the chip 1. Further, through holes 10 connected to the respective pads 12 by a wiring pattern are arranged in a mounting area of the chip 1, a peripheral portion of the substrate 2, and the like.

【0027】この基板2の1層目においては、各アドレ
ス信号のアドレス用パッド12aに接続されるアドレス
用配線13aおよびアドレス用スルーホール10a、各
制御信号の制御用パッド12bに接続される制御用配線
13bおよび制御用スルーホール10b、各入出力デー
タの入出力用パッド12cに接続される入出力用配線1
3cおよび入出力用スルーホール10c、各電源の電源
用パッド12dに接続される電源用配線13dおよび電
源用スルーホール10dがそれぞれ設けられている。
In the first layer of the substrate 2, an address wiring 13a and an address through hole 10a connected to the address pad 12a for each address signal, and a control line 12a connected to the control pad 12b for each control signal. Wiring 13b, control through hole 10b, input / output wiring 1 connected to input / output pad 12c for each input / output data
3c, an input / output through-hole 10c, a power supply wiring 13d connected to the power supply pad 12d of each power supply, and a power supply through-hole 10d.

【0028】また、この基板2の1層目では、特に、レ
ジスト11および封止材5の剥がれやすい部分に、この
レジスト11を塗布しない開口部15が設けられてい
る。この開口部15は、たとえば図6に太線で示すよう
に、封止材5を注入する方向の基板2の角部に設けた
り、四隅の全ての角部に設けたり、さらには短辺方向の
辺縁などに設けることにより、最初からレジスト11を
開口状態としておき、レジスト11と封止材5の剥がれ
部での応力集中をなくし、クラックを防止できるので、
配線13(13a〜13d)の断線に至ることがない。
In the first layer of the substrate 2, an opening 15 not coated with the resist 11 is provided in a portion where the resist 11 and the sealing material 5 are easily peeled off. For example, as shown by a thick line in FIG. 6, the opening 15 is provided at a corner of the substrate 2 in a direction in which the sealing material 5 is injected, at all four corners, or in a short side direction. By providing the resist 11 on the periphery or the like, the resist 11 is left open from the beginning, stress concentration at the peeled portion between the resist 11 and the sealing material 5 can be eliminated, and cracks can be prevented.
There is no disconnection of the wiring 13 (13a to 13d).

【0029】続いて、基板2の2層目は、図7のように
なる。図7のように、2層目は、グランド電圧(VS
S)の電源用配線13dが敷き詰められた、いわゆるベ
タ配線となっている。すなわち、2層目は、グランド電
圧の電源用スルーホール10dを含めて電源用配線13
dが敷き詰められ、それ以外の電源電圧、アドレス信
号、入出力データ、制御信号の各スルーホール10a〜
10cの周辺部分は配線13dがない状態となってい
る。
Subsequently, the second layer of the substrate 2 is as shown in FIG. As shown in FIG. 7, the second layer has a ground voltage (VS
This is a so-called solid wiring in which the power supply wiring 13d of S) is spread. That is, the second layer includes the power supply wiring 13 including the power supply through hole 10d for the ground voltage.
d, and the other through holes 10a to 10c for the power supply voltage, the address signal, the input / output data, and the control signal.
The periphery of 10c has no wiring 13d.

【0030】この基板2の2層目では、特に、配線13
の断線を防止するために、配線13dの端面が分離・曲
面形状で設けられている。たとえば、スルーホール10
が離れている部分は、スルーホール10の周辺部分を囲
んで曲面で完全に分離して配線13dを設け、スルーホ
ール10が近接している部分は、スルーホール10の周
辺部分に沿って曲面で配線13dを設けることにより、
クラックを延びていき難くできるので、配線13の断線
を防止することができる。
In the second layer of the substrate 2, in particular, the wiring 13
In order to prevent disconnection, the end face of the wiring 13d is provided in a separated and curved shape. For example, through hole 10
Are separated by a curved surface completely surrounding the peripheral portion of the through hole 10 to provide the wiring 13d, and the portion where the through hole 10 is close is a curved surface along the peripheral portion of the through hole 10. By providing the wiring 13d,
Since it is difficult to extend the crack, disconnection of the wiring 13 can be prevented.

【0031】また、基板2の3層目は、図示しないが、
前記図7と同様に、電源電圧(VDD)の電源用配線1
3dが敷き詰められた、いわゆるベタ配線となってい
る。すなわち、3層目は、電源電圧の電源用スルーホー
ル10dを含めて電源用配線13dが敷き詰められ、そ
れ以外のグランド電圧、アドレス信号、入出力データ、
制御信号の各スルーホール10a〜10cの周辺部分は
配線13dがない状態となっている。この基板2の3層
目でも、2層目と同様に、配線13の断線を防止するた
めに、配線13dの端面が分離・曲面形状で設けられて
いる。
The third layer of the substrate 2 is not shown,
As in FIG. 7, the power supply wiring 1 of the power supply voltage (VDD) is provided.
3d is a so-called solid wiring. That is, in the third layer, the power supply wiring 13d is laid, including the power supply through hole 10d for the power supply voltage, and the other ground voltage, address signal, input / output data,
The peripheral portions of the control signal through holes 10a to 10c have no wiring 13d. Similarly to the second layer, the end face of the wiring 13d is provided in a separated / curved shape in order to prevent disconnection of the wiring 13 in the third layer of the substrate 2 as well.

【0032】次に、基板2の最下層の4層目は、図8の
ようになる。図8のように、基板2の4層目には、外部
端子となるはんだボール4がそれぞれ電気的に接続され
る複数のランド14が基板2の中央部を外して周辺部に
配置されている。すなわち、ランド14は、基板2の長
辺方向に4(上下)×9(左右)ずつ上側と下側に、8
(上下)×9(左右)の行列で設けられ、また中央部に
9(上下)×2(左右)ずつ左側と右側に、9(上下)
×4(左右)の行列で設けられている。よって、これら
のランド14に接着されるはんだボール4は、108個
の数だけ設けられている。また、各ランド14に配線パ
ターンにより接続されるスルーホール10は、前記した
1層目〜3層目と同じ位置に配置されている。
Next, the fourth lowermost layer of the substrate 2 is as shown in FIG. As shown in FIG. 8, on the fourth layer of the substrate 2, a plurality of lands 14 to which the solder balls 4 serving as external terminals are electrically connected are arranged in the peripheral portion of the substrate 2 except for the central portion. . That is, the lands 14 are 4 (up and down) × 9 (left and right) by 8 (in the long side direction of the substrate 2)
It is provided in a matrix of (up and down) x 9 (left and right), and 9 (up and down) x 2 (left and right) at the center is 9 (up and down) on the left and right sides.
It is provided in a matrix of × 4 (left and right). Therefore, the solder balls 4 bonded to these lands 14 are provided by the number of 108 pieces. The through holes 10 connected to the lands 14 by wiring patterns are arranged at the same positions as the above-described first to third layers.

【0033】この基板2の4層目においては、前記した
1層目と同様に、各アドレス信号のアドレス用ランド1
4aに対応するアドレス用スルーホール10aとを接続
するアドレス用配線13a、各制御信号の制御用ランド
14bに対応する制御用スルーホール10bとを接続す
る制御用配線13b、各入出力データの入出力用ランド
14cに対応する入出力用スルーホール10cとを接続
する入出力用配線13c、各電源の電源用ランド14d
と電源用スルーホール10dとを接続する電源用配線1
3dがそれぞれ設けられている。
In the fourth layer of the substrate 2, similarly to the first layer, the address lands 1 for each address signal are provided.
4a, an address wiring 13a for connecting to the address through hole 10a corresponding to the address, a control wiring 13b for connecting to the control through hole 10b corresponding to the control land 14b for each control signal, and input / output of each input / output data Wiring 13c for connecting the input / output through hole 10c corresponding to the power land 14c, and the power supply land 14d for each power supply
Wiring 1 for connecting the power supply through hole 10d to the power supply
3d are provided respectively.

【0034】また、この基板2の4層目では、特に、正
規の配線13(13a〜13d)の他に、この配線13
の周囲に配置され、この配線13の断線を防止するため
のダミー配線16が設けられている。このダミー配線1
6は、たとえば図8に示すように、正規の配線13に沿
ってその両側あるいは片側に設けることにより、クラッ
クが入っても、ダミー配線16がクラックの進展を邪魔
できるので、正規の配線13が断線に至ることがない。
さらには、ダミー配線16を正規の配線13の空いてい
る方向に延ばして隙間を埋めるように設けたり(なし地
で図示)、正規の配線13およびダミー配線16を比較
的、太い配線幅で設けることで、より一層、正規の配線
13の断線をし難くすることができる。
In the fourth layer of the substrate 2, in addition to the regular wirings 13 (13a to 13d),
, And a dummy wiring 16 for preventing disconnection of the wiring 13 is provided. This dummy wiring 1
For example, as shown in FIG. 8, the dummy wiring 16 is provided on both sides or one side of the regular wiring 13 as shown in FIG. There is no disconnection.
Furthermore, the dummy wiring 16 is provided to extend in the direction in which the regular wiring 13 is vacant so as to fill the gap (shown as a blank), or the regular wiring 13 and the dummy wiring 16 are provided with a relatively large wiring width. This makes it even more difficult to break the regular wiring 13.

【0035】次に、図9により、本実施の形態のBGA
表面実装型パッケージの組み立てフローの一例を簡単に
説明する。
Next, referring to FIG. 9, the BGA of this embodiment will be described.
An example of an assembly flow of the surface mount package will be briefly described.

【0036】始めに、組み立てに先立って、ウェハから
ダイシングされたSDRAMが形成されたチップ1、短
冊状に6個などの複数個単位で形成された4層配線構造
の基板2、エポキシ樹脂などのダイボンディング材7、
金などのワイヤ3、エポキシ樹脂などの封止材5、鉛/
すずなどのはんだボール4などを用意する。
First, prior to assembling, a chip 1 on which an SDRAM diced from a wafer is formed, a substrate 2 having a four-layer wiring structure formed in a plurality of units such as six strips, an epoxy resin or the like. Die bonding material 7,
Wire 3 such as gold, sealing material 5 such as epoxy resin, lead /
A solder ball 4 such as tin is prepared.

【0037】この4層配線構造の基板2については、前
記のように、1層目ではレジスト11および封止材5の
剥がれやすい部分にレジスト11の開口部15が設けら
れ、2層目および3層目では配線13dの端面が分離・
曲面形状で設けられ、4層目では正規の配線13の周囲
にダミー配線16が設けられているものが用いられる。
As described above, in the substrate 2 having the four-layer wiring structure, the opening 11 of the resist 11 is provided in the first layer where the resist 11 and the sealing material 5 are easily peeled off. In the layer, the end face of the wiring 13d is separated and
In the fourth layer, a dummy wiring 16 is provided around a regular wiring 13 in the fourth layer.

【0038】まず、ダイボンディング工程において、短
冊状に形成された基板2上の複数個の各実装領域上にダ
イボンディング材7を介して複数個の各チップ1をそれ
ぞれ実装する(S1)。さらに、ワイヤボンディング工
程において、複数個の各チップ1上の各パッド9と基板
2上の各パッド12とをワイヤ3により接続する(S
2)。
First, in a die bonding step, a plurality of chips 1 are respectively mounted via a die bonding material 7 on a plurality of mounting regions on the substrate 2 formed in a strip shape (S1). Further, in the wire bonding step, each pad 9 on each of the plurality of chips 1 and each pad 12 on the substrate 2 are connected by the wire 3 (S
2).

【0039】続いて、封止工程において、複数個のチッ
プ1が実装された短冊状の基板2を、チップ1およびワ
イヤ3などが露出しないように封止材5によりモールド
する(S3)。この際に、たとえばトランスファーモー
ルドにより、封止材5を加熱して可塑化させ、加熱した
金型内に圧入して成形させる。基板2に設けられたレジ
スト11の開口部15は、この工程において有効とな
る。
Subsequently, in a sealing step, the strip-shaped substrate 2 on which the plurality of chips 1 are mounted is molded with the sealing material 5 so that the chips 1 and the wires 3 are not exposed (S3). At this time, the sealing material 5 is heated and plasticized by, for example, transfer molding, and is pressed into a heated mold to be molded. The opening 15 of the resist 11 provided on the substrate 2 is effective in this step.

【0040】さらに、はんだボール付け工程において、
基板2の裏面に外部端子となるはんだボール4を接着す
る(S4)。最後に、基板切断工程において、短冊状の
基板2のフレームから1個ずつのパッケージに分けるた
めに切り離す(S5)。これにより、BGA表面実装型
パッケージを完成させることができる。
Further, in the solder ball attaching step,
A solder ball 4 serving as an external terminal is bonded to the back surface of the substrate 2 (S4). Finally, in the board cutting step, the strip-shaped board 2 is cut off from the frame to be separated into individual packages (S5). Thereby, a BGA surface mount type package can be completed.

【0041】このBGA表面実装型パッケージは、たと
えばSODIMM(Small OutlineDual Inline Memory
Module )などとして平面上略長方形のモジュール基板
上に実装され、たとえばコンピュータなどの種々の装置
にメモリモジュールとして組み込まれ、大容量のデータ
などを記憶する主記憶装置などとして用いられる。
This BGA surface mount type package is, for example, a SODIMM (Small Outline Dual Inline Memory).
It is mounted on a substantially rectangular module substrate as a module, and is incorporated as a memory module in various devices such as a computer, for example, and is used as a main storage device for storing a large amount of data and the like.

【0042】従って、本実施の形態のBGA表面実装型
パッケージによれば、以下のような効果を得ることがで
きる。
Therefore, according to the BGA surface mount type package of the present embodiment, the following effects can be obtained.

【0043】(1).正規の配線13の周囲にダミー配線1
6を設けることにより、レジスト11と基板2の膨張率
差に対しても、レジスト11にはクラックが入り難くな
り、製品としての使用環境の温度サイクルにおいても、
クラックがレジスト11の下の配線13に及ぶことがな
く、配線13の断線に至る可能性を低くすることができ
る。
(1) Dummy wiring 1 around regular wiring 13
The provision of 6 makes it difficult for the resist 11 to crack even with respect to the difference in the expansion coefficient between the resist 11 and the substrate 2, and also in the temperature cycle of the use environment as a product.
The crack does not extend to the wiring 13 below the resist 11, and the possibility of the wiring 13 being disconnected can be reduced.

【0044】さらに、ダミー配線16を正規の配線13
の空いている方向に延ばして隙間を埋めるように設けた
り、正規の配線13およびダミー配線16を比較的、太
い配線幅で設けることにより、より一層、配線13の断
線に至る可能性を低くできる。
Further, the dummy wiring 16 is replaced with the regular wiring 13.
By extending the wiring in the empty direction to fill the gap or providing the regular wiring 13 and the dummy wiring 16 with a relatively large wiring width, the possibility of the wiring 13 being disconnected can be further reduced. .

【0045】(2).レジスト11および封止材5の剥がれ
やすい部分に、このレジスト11を塗布しない開口部1
5を設けることにより、モールド後に、注入口の封止材
5を折り曲げて切断する際に、レジスト11と封止材5
の剥がれの先端に応力が集中しないので、レジスト11
のクラックを引き起こすことがなく、配線13の断線に
至る可能性を低くすることができる。
(2) An opening 1 where the resist 11 is not applied to a portion where the resist 11 and the sealing material 5 are easily peeled off.
When the sealing material 5 at the injection port is bent and cut after molding, the resist 11 and the sealing material 5 are provided.
Since the stress is not concentrated on the tip of the peeling, the resist 11
Is not caused, and the possibility of disconnection of the wiring 13 can be reduced.

【0046】(3).配線13dの端面を分離・曲面形状で
設けることにより、万一、クラックが入っても、このク
ラックが延びていき難くなるので、一層、配線13の断
線に至る可能性を低くすることができる。
(3) By providing the end face of the wiring 13d in a separated / curved shape, even if a crack is formed, it becomes difficult for the crack to extend, so that the wiring 13 may be further broken. Can be lowered.

【0047】以上、本発明者によってなされた発明をそ
の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前
記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.

【0048】たとえば、前記実施の形態においては、B
GA表面実装型パッケージを例に説明したが、LGA
(Land Grid Array )、CSP(Chip Size Package )
など、パッケージ構造に制限はなく、基板の表面および
裏面に絶縁膜が被着され、この基板上に実装されたチッ
プが封止されるモールド構造の他のパッケージについて
も同様に適用することができる。
For example, in the above embodiment, B
The GA surface mount type package has been described as an example.
(Land Grid Array), CSP (Chip Size Package)
There is no limitation on the package structure, for example, and the same applies to other packages having a mold structure in which an insulating film is applied to the front and back surfaces of a substrate and a chip mounted on the substrate is sealed. .

【0049】さらに、パッケージ構造については、チッ
プがフェイスダウン構造により基板に実装され、チップ
と基板とが金属ボールによりフリップチップボンディン
グされるパッケージ構造に適用したり、チップ上のパッ
ドがチップの周辺部の対向する辺に沿って配置される、
いわゆる周辺パッド配置構造など、チップ上のパッドの
配置、基板上のパッドおよび外部端子の配置などは種々
の変形が可能であることはいうまでもない。
Further, the package structure is applied to a package structure in which a chip is mounted on a substrate by a face-down structure, and the chip and the substrate are flip-chip bonded by a metal ball. Located along opposite sides of the
It goes without saying that the arrangement of pads on a chip, the arrangement of pads and external terminals on a substrate, and the like, such as the so-called peripheral pad arrangement structure, can be variously modified.

【0050】また、チップは4個に限らず、1個あるい
は2個、3個、5個以上の複数個のチップを基板上に実
装する場合にも、同様の効果を得ることができる。
The same effect can be obtained when not only four chips but also one, two, three, five or more chips are mounted on a substrate.

【0051】さらに、チップに形成される回路は、SD
RAMに限らず、DRAM、SRAM(Static Random
Access Memory )などの他の記憶回路や、論理回路など
を形成する場合にも適用可能であることはいうまでもな
い。
Further, the circuit formed on the chip is SD
Not limited to RAM, DRAM, SRAM (Static Random
It is needless to say that the present invention can be applied to a case where another storage circuit such as an access memory) or a logic circuit is formed.

【0052】また、基板は4層配線構造に限らず、1層
あるいは2層、3層、5層以上の多層配線構造にするこ
とも可能であり、さらにポリイミドなどの樹脂材料によ
るテープ状の各層に銅(Cu)などの金属薄膜が被着さ
れた多層配線構造のテープを用いることもできる。
The substrate is not limited to a four-layer wiring structure, but may be a single-layer or two-layer, three-layer, five-layer or more multilayer wiring structure. A tape having a multilayer wiring structure in which a metal thin film of copper (Cu) or the like is adhered can also be used.

【0053】以上のように、本発明は、所定の回路が形
成されたチップを実装するために、表面に絶縁膜を被着
した基板を使用するパッケージ全般に効果的であり、さ
らに線膨張率の大きな絶縁膜を表面に使用する半導体装
置全般に広く応用することができる。
As described above, the present invention is effective for all packages that use a substrate having an insulating film adhered to the surface to mount a chip on which a predetermined circuit is formed. It can be widely applied to all semiconductor devices using a large insulating film on the surface.

【0054】[0054]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0055】(1).基板の裏面に関し、正規の配線の周囲
に配置され、この配線の断線を防止するためのダミー配
線を設けることで、ダミー配線がクラックの進展を邪魔
することができるので、正規の配線の断線を防止するこ
とが可能となる。
(1) With respect to the back surface of the substrate, dummy wirings are arranged around regular wirings to prevent disconnection of the wirings, so that the dummy wirings can hinder the progress of cracks. In addition, it is possible to prevent disconnection of regular wiring.

【0056】(2).前記(1) において、ダミー配線は正規
の配線の隙間を埋めるように設けたり、正規の配線およ
びダミー配線は比較的、太い配線幅で設けることで、一
層、正規の配線の断線を防止することができる。
(2) In the above (1), the dummy wiring is provided so as to fill the gap between the regular wirings, and the regular wiring and the dummy wiring are provided with a relatively large wiring width, so that the regular wiring is further increased. Disconnection of the wiring can be prevented.

【0057】(3).基板の表面に関し、絶縁膜および封止
材の剥がれやすい部分に、この絶縁膜を被着しない開口
部を設けることで、剥がれ部での応力集中をなくすこと
ができるので、クラック及びその後の配線断線を防止す
ることが可能となる。
(3) With respect to the surface of the substrate, by providing an opening in which the insulating film and the sealing material are easily peeled off, where the insulating film is not attached, stress concentration at the peeled portion can be eliminated. , Cracks and subsequent disconnection of the wiring can be prevented.

【0058】(4).前記(3) において、開口部は封止材を
注入する方向の基板の角部に設けることで、一層、クラ
ック及びその後の配線断線を防止することができる。
(4) In the above (3), by providing the opening at the corner of the substrate in the direction in which the sealing material is injected, cracks and subsequent disconnection of the wiring can be further prevented.

【0059】(5).基板の配線に関し、この配線の端面を
分離・曲面形状で設けることで、クラックが延びていき
難くすることができるので、正規の配線の断線を防止す
ることが可能となる。
(5) Regarding the wiring of the substrate, by providing the end face of the wiring in a separated / curved shape, it is possible to make it difficult for cracks to extend, and it is possible to prevent disconnection of regular wiring. Become.

【0060】(6).前記(1) 〜(5) により、絶縁膜をレジ
スト、封止材をプラスチック樹脂とし、各々に記憶回路
などが形成された複数のチップを基板上に行列状に配置
し、複数のチップを1パッケージに実装することで、温
度サイクル性の向上が可能なメモリパッケージなどの半
導体装置を実現することが可能となる。
(6) According to the above (1) to (5), the insulating film is made of resist, the sealing material is made of plastic resin, and a plurality of chips each having a memory circuit or the like are arranged in a matrix on the substrate. By mounting a plurality of chips in one package, it is possible to realize a semiconductor device such as a memory package capable of improving the temperature cycle property.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態である半導体装置を示す
平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】(a) 〜(c) は本発明の一実施の形態において、
半導体装置を示す正面図、側面図および底面図である。
2 (a) to 2 (c) show one embodiment of the present invention.
3A to 3C are a front view, a side view, and a bottom view illustrating the semiconductor device.

【図3】本発明の一実施の形態において、図1のA−
A’切断線の断面図である。
FIG. 3 is a diagram showing an embodiment of the present invention;
It is sectional drawing of the A 'cutting line.

【図4】本発明の一実施の形態において、チップを基板
上に実装した状態(封止材は省略)を示す概略平面図で
ある。
FIG. 4 is a schematic plan view showing a state in which a chip is mounted on a substrate (a sealing material is omitted) in one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施の形態において、図4のB−
B’切断線の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of the embodiment of FIG.
It is sectional drawing of the B 'cutting line.

【図6】本発明の一実施の形態において、基板の1層目
の配線パターンを示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing a first-layer wiring pattern of a substrate according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施の形態において、基板の2層目
の配線パターンを示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a second-layer wiring pattern of the substrate according to the embodiment of the present invention;

【図8】本発明の一実施の形態において、基板の4層目
の配線パターンを示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing a fourth-layer wiring pattern of the substrate according to the embodiment of the present invention.

【図9】本発明の一実施の形態において、パッケージの
組み立てフローを示すフロー図である。
FIG. 9 is a flowchart showing a flow of assembling a package in one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a〜1d チップ 2 基板 3 ワイヤ 4 はんだボール 5 封止材 6 マーク 7 ダイボンディング材 8 インデックス 9 パッド 9a アドレス用パッド 9b 制御用パッド 9c 入出力用パッド 9d 電源用パッド 10 スルーホール 10a アドレス用スルーホール 10b 制御用スルーホール 10c 入出力用スルーホール 10d 電源用スルーホール 11 レジスト 12 パッド 12a アドレス用パッド 12b 制御用パッド 12c 入出力用パッド 12d 電源用パッド 13 配線 13a アドレス用配線 13b 制御用配線 13c 入出力用配線 13d 電源用配線 14 ランド 14a アドレス用ランド 14b 制御用ランド 14c 入出力用ランド 14d 電源用ランド 15 開口部 16 ダミー配線 1, 1a-1d Chip 2 Substrate 3 Wire 4 Solder Ball 5 Sealing Material 6 Mark 7 Die Bonding Material 8 Index 9 Pad 9a Address Pad 9b Control Pad 9c Input / Output Pad 9d Power Supply Pad 10 Through Hole 10a Address Through hole 10b Control through hole 10c Input / output through hole 10d Power supply through hole 11 Resist 12 pad 12a Address pad 12b Control pad 12c Input / output pad 12d Power supply pad 13 Wiring 13a Address wiring 13b Control wiring 13c Input / output wiring 13d Power supply wiring 14 Land 14a Address land 14b Control land 14c Input / output land 14d Power supply land 15 Opening 16 Dummy wiring

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の回路が形成され、この回路に電気
的に接続された複数のパッドが設けられているチップ
と、前記チップ上の各パッドに電気的に接続された複数
のパッドが表面に設けられ、この表面の各パッドに電気
的に接続された複数の外部端子が裏面に設けられ、この
表面および裏面には絶縁膜が被着されている基板とを有
し、前記チップは前記基板上に実装され、封止材により
封止されたモールド構造からなり、 前記基板の裏面には、前記表面の各パッドと前記裏面の
各外部端子とを電気的に接続するための正規の配線と、
前記正規の配線の周囲に配置され、この正規の配線の断
線を防止するためのダミー配線とが設けられていること
を特徴とする半導体装置。
1. A chip on which a predetermined circuit is formed and a plurality of pads electrically connected to the circuit are provided, and a plurality of pads electrically connected to each pad on the chip are provided on a surface. A plurality of external terminals electrically connected to the respective pads on the front surface are provided on the back surface, and a substrate having an insulating film adhered on the front surface and the back surface is provided. It has a mold structure mounted on a substrate and sealed with a sealing material. On a back surface of the substrate, regular wiring for electrically connecting each pad on the front surface and each external terminal on the back surface is provided. When,
A semiconductor device, wherein a dummy wiring is provided around the regular wiring to prevent disconnection of the regular wiring.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置であって、前
記ダミー配線は、前記正規の配線の隙間を埋めるように
設けられていることを特徴とする半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the dummy wiring is provided so as to fill a gap between the regular wirings.
【請求項3】 請求項1記載の半導体装置であって、前
記正規の配線および前記ダミー配線は、比較的、太い配
線幅で設けられていることを特徴とする半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein said regular wiring and said dummy wiring are provided with a relatively large wiring width.
【請求項4】 所定の回路が形成され、この回路に電気
的に接続された複数のパッドが設けられているチップ
と、前記チップ上の各パッドに電気的に接続された複数
のパッドが表面に設けられ、この表面の各パッドに電気
的に接続された複数の外部端子が裏面に設けられ、この
表面および裏面には絶縁膜が被着されている基板とを有
し、前記チップは前記基板上に実装され、封止材により
封止されたモールド構造からなり、 前記基板の表面には、前記絶縁膜および前記封止材の剥
がれやすい部分に、この絶縁膜を被着しない開口部が設
けられていることを特徴とする半導体装置。
4. A chip on which a predetermined circuit is formed and a plurality of pads electrically connected to the circuit are provided, and a plurality of pads electrically connected to each pad on the chip are provided on a surface. A plurality of external terminals electrically connected to the respective pads on the front surface are provided on the back surface, and a substrate having an insulating film adhered on the front surface and the back surface is provided. It has a mold structure mounted on a substrate and sealed with a sealing material. On the surface of the substrate, an opening that does not cover the insulating film is provided on a portion where the insulating film and the sealing material are easily peeled off. A semiconductor device, which is provided.
【請求項5】 請求項4記載の半導体装置であって、前
記開口部は、前記封止材を注入する方向の前記基板の角
部に設けられていることを特徴とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the opening is provided at a corner of the substrate in a direction in which the sealing material is injected.
【請求項6】 所定の回路が形成され、この回路に電気
的に接続された複数のパッドが設けられているチップ
と、前記チップ上の各パッドに電気的に接続された複数
のパッドが表面に設けられ、この表面の各パッドに電気
的に接続された複数の外部端子が裏面に設けられ、この
表面および裏面には絶縁膜が被着されている基板とを有
し、前記チップは前記基板上に実装され、封止材により
封止されたモールド構造からなり、 前記基板の配線は、配線の断線を防止するために端面が
分離・曲面形状で設けられていることを特徴とする半導
体装置。
6. A chip on which a predetermined circuit is formed and a plurality of pads electrically connected to the circuit are provided, and a plurality of pads electrically connected to each pad on the chip are provided on a surface. A plurality of external terminals electrically connected to the respective pads on the front surface are provided on the back surface, and a substrate having an insulating film adhered on the front surface and the back surface is provided. A semiconductor, comprising a mold structure mounted on a substrate and sealed with a sealing material, wherein the wiring of the substrate is provided with an end face separated and curved in order to prevent disconnection of the wiring. apparatus.
【請求項7】 請求項1、2、3、4、5または6記載
の半導体装置であって、前記絶縁膜はレジストであり、
前記封止材はプラスチック樹脂であることを特徴とする
半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein said insulating film is a resist,
The semiconductor device, wherein the sealing material is a plastic resin.
【請求項8】 請求項1、2、3、4、5、6または7
記載の半導体装置であって、前記チップは、各々が記憶
回路が形成された複数のチップからなり、前記複数のチ
ップは前記基板上に行列状に配置され、前記複数のチッ
プを1パッケージに実装して構成したメモリパッケージ
であることを特徴とする半導体装置。
8. The method of claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, or 7.
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the chip includes a plurality of chips each having a storage circuit formed thereon, the plurality of chips are arranged in a matrix on the substrate, and the plurality of chips are mounted in one package. A semiconductor device comprising a memory package configured as described above.
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