JP2001068542A - ウエハ容器及びその管理方法 - Google Patents
ウエハ容器及びその管理方法Info
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- JP2001068542A JP2001068542A JP24268299A JP24268299A JP2001068542A JP 2001068542 A JP2001068542 A JP 2001068542A JP 24268299 A JP24268299 A JP 24268299A JP 24268299 A JP24268299 A JP 24268299A JP 2001068542 A JP2001068542 A JP 2001068542A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウエハ容器の洗浄時に識別装置を取り外した
り、不具合の発生した識別装置を容易に取り替えること
ができるだけでなく、ウエハの工程管理を合理化でき、
特定のウエハで汚染事故等が発生した場合であっても、
識別装置に記録された識別データに基づき、原因究明が
可能であるウエハ容器及びその管理方法を提供する。 【解決手段】 ウエハ容器１に着脱自在の識別装置１０
を取り付け、電波によって非接触で識別装置１０に記録
された識別データへの読み書きを行うことにより、ウエ
ハ容器１の工程管理を行う。
り、不具合の発生した識別装置を容易に取り替えること
ができるだけでなく、ウエハの工程管理を合理化でき、
特定のウエハで汚染事故等が発生した場合であっても、
識別装置に記録された識別データに基づき、原因究明が
可能であるウエハ容器及びその管理方法を提供する。 【解決手段】 ウエハ容器１に着脱自在の識別装置１０
を取り付け、電波によって非接触で識別装置１０に記録
された識別データへの読み書きを行うことにより、ウエ
ハ容器１の工程管理を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、ウエハ容器及び
その管理方法に関する。
その管理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】 半導体デバイスの基板として用いられ
るウエハは、例えば、シリコン単結晶をスライスして得
られたウエハに、面取り、ラッピング、エッチング、ポ
リッシング等を順次施すことにより製造される。
るウエハは、例えば、シリコン単結晶をスライスして得
られたウエハに、面取り、ラッピング、エッチング、ポ
リッシング等を順次施すことにより製造される。
【０００３】 通常、半製品のウエハは、複数枚のウエ
ハが収容可能なウエハ容器（カセット）により、製造工
程内を搬送されている。このとき、ウエハ容器がどの工
程を流れているかを把握するため、ウエハ容器に識別装
置を取り付けることが行われている。これまで、ウエハ
容器への識別装置の取り付け方法は、ウエハ容器に直接
取り付けることが多く、例えば、ウエハ容器に、文字や
バーコードを直接刻み込んだり、ラベル等を取り付ける
方法が主流であった。
ハが収容可能なウエハ容器（カセット）により、製造工
程内を搬送されている。このとき、ウエハ容器がどの工
程を流れているかを把握するため、ウエハ容器に識別装
置を取り付けることが行われている。これまで、ウエハ
容器への識別装置の取り付け方法は、ウエハ容器に直接
取り付けることが多く、例えば、ウエハ容器に、文字や
バーコードを直接刻み込んだり、ラベル等を取り付ける
方法が主流であった。
【０００４】 しかしながら、上記の方法では、ウエハ
容器の加工時に生じるパーティクル汚染や識別装置の不
具合が発生した場合、ウエハ容器が使用できなくなるだ
けでなく、ウエハ容器に取り付けられた識別装置を容易
に変更できない等の問題点があった。
容器の加工時に生じるパーティクル汚染や識別装置の不
具合が発生した場合、ウエハ容器が使用できなくなるだ
けでなく、ウエハ容器に取り付けられた識別装置を容易
に変更できない等の問題点があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】 本発明は上記した従
来の課題に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、ウエハ容器の洗浄時に識別装置を取り外した
り、不具合の発生した識別装置を容易に取り替えること
ができるだけでなく、ウエハの工程管理を合理化でき、
特定のウエハで汚染事故等が発生した場合であっても、
識別装置に記録された識別データに基づき、原因究明が
可能であるウエハ容器及びその管理方法を提供するもの
である。
来の課題に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、ウエハ容器の洗浄時に識別装置を取り外した
り、不具合の発生した識別装置を容易に取り替えること
ができるだけでなく、ウエハの工程管理を合理化でき、
特定のウエハで汚染事故等が発生した場合であっても、
識別装置に記録された識別データに基づき、原因究明が
可能であるウエハ容器及びその管理方法を提供するもの
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】 すなわち、本発明によ
れば、ウエハの製造工程で用いるウエハ容器であって、
ウエハ容器の外側又はウエハ接触位置の外側に、着脱自
在の識別装置を取り付けてなることを特徴とするウエハ
容器が提供される。
れば、ウエハの製造工程で用いるウエハ容器であって、
ウエハ容器の外側又はウエハ接触位置の外側に、着脱自
在の識別装置を取り付けてなることを特徴とするウエハ
容器が提供される。
【０００７】 このとき、本発明では、識別装置が、ウ
エハ容器の外側又はウエハ接触位置の外側に着脱自在に
掛着された固定用治具で固定されていることが好まし
い。また、本発明では、識別装置が、ウエハ容器の外側
又はウエハ接触位置の外側に配設された凹部と、該識別
装置を該凹部に固定する固定用治具に配設された凸部と
の間で受容されていることが好ましい。
エハ容器の外側又はウエハ接触位置の外側に着脱自在に
掛着された固定用治具で固定されていることが好まし
い。また、本発明では、識別装置が、ウエハ容器の外側
又はウエハ接触位置の外側に配設された凹部と、該識別
装置を該凹部に固定する固定用治具に配設された凸部と
の間で受容されていることが好ましい。
【０００８】 更に、本発明では、固定用治具が、ウエ
ハ容器と類似又は同一種類の樹脂からなることが好まし
い。
ハ容器と類似又は同一種類の樹脂からなることが好まし
い。
【０００９】 尚、本発明では、識別装置が、電波によ
って非接触で情報を読み書きできる装置であることが好
ましく、トランスボンダであることがより好ましい。
って非接触で情報を読み書きできる装置であることが好
ましく、トランスボンダであることがより好ましい。
【００１０】 また、本発明によれば、ウエハ容器に識
別装置を取り付け、ウエハ容器の工程管理を行うウエハ
容器の管理方法であって、ウエハ容器に着脱自在の識別
装置を取り付け、電波によって非接触で該識別装置に記
録された識別データへの読み書きを行うことにより、ウ
エハ容器の工程管理を行うことを特徴とするウエハ容器
の管理方法が提供される。このとき、識別装置は、トラ
ンスボンダであることが好ましい。
別装置を取り付け、ウエハ容器の工程管理を行うウエハ
容器の管理方法であって、ウエハ容器に着脱自在の識別
装置を取り付け、電波によって非接触で該識別装置に記
録された識別データへの読み書きを行うことにより、ウ
エハ容器の工程管理を行うことを特徴とするウエハ容器
の管理方法が提供される。このとき、識別装置は、トラ
ンスボンダであることが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】 本発明のウエハ容器は、ウエハ
容器の外側又はウエハ接触位置の外側に、着脱自在の識
別装置を取り付けてなるものである。これにより、本発
明のウエハ容器は、ウエハ容器を加工することなく、識
別装置をウエハ容器に容易に脱着することができるた
め、ウエハ容器の洗浄時に識別装置を取り外したり、不
具合の発生した識別装置を容易に取り替えることができ
る。
容器の外側又はウエハ接触位置の外側に、着脱自在の識
別装置を取り付けてなるものである。これにより、本発
明のウエハ容器は、ウエハ容器を加工することなく、識
別装置をウエハ容器に容易に脱着することができるた
め、ウエハ容器の洗浄時に識別装置を取り外したり、不
具合の発生した識別装置を容易に取り替えることができ
る。
【００１２】 また、本発明のウエハ容器の管理方法
は、ウエハ容器に着脱自在の識別装置を取り付け、電波
によって非接触で識別装置に記録された識別データへの
読み書きを行うことにより、ウエハ容器の工程管理を行
うものである。これにより、本発明のウエハ容器の管理
方法は、各工程におけるウエハ容器の使用履歴を識別装
置に自動的に記録することができるため、ウエハの工程
管理を合理化できるだけでなく、特定のウエハで汚染事
故等が発生した場合であっても、識別装置に記録された
識別データに基づき、原因究明が可能である。
は、ウエハ容器に着脱自在の識別装置を取り付け、電波
によって非接触で識別装置に記録された識別データへの
読み書きを行うことにより、ウエハ容器の工程管理を行
うものである。これにより、本発明のウエハ容器の管理
方法は、各工程におけるウエハ容器の使用履歴を識別装
置に自動的に記録することができるため、ウエハの工程
管理を合理化できるだけでなく、特定のウエハで汚染事
故等が発生した場合であっても、識別装置に記録された
識別データに基づき、原因究明が可能である。
【００１３】 以下、図面に基づき本発明を更に詳細に
説明する。図１は、本発明のウエハ容器の一例を示した
ものであり、（ａ）は概略斜視図、（ｂ）は側面図、
（ｃ）は平面図である。本発明のウエハ容器は、図１に
示すように、ウエハ容器１の外側又はウエハ接触位置の
外側にある補強用リブ２に、着脱自在の識別装置１０を
取り付けてなるものである。
説明する。図１は、本発明のウエハ容器の一例を示した
ものであり、（ａ）は概略斜視図、（ｂ）は側面図、
（ｃ）は平面図である。本発明のウエハ容器は、図１に
示すように、ウエハ容器１の外側又はウエハ接触位置の
外側にある補強用リブ２に、着脱自在の識別装置１０を
取り付けてなるものである。
【００１４】 このとき、本発明のウエハ容器は、図２
に示すように、識別装置１０が、ウエハ容器１の外側又
はウエハ接触位置の外側にある補強用リブ２に着脱自在
に掛着された固定用治具８で固定されていることが、ウ
エハ容器１への固定用治具８の取り付けを簡便にするこ
とができるため、好ましい。尚、上記識別装置１０は、
例えば、図２に示すように、ウエハ容器１の外側又はウ
エハ接触位置の外側である補強用リブ２に配設された凹
部４と、該識別装置１０を凹部４に固定する固定用治具
８に配設された凸部６との間で確実に受容される。
に示すように、識別装置１０が、ウエハ容器１の外側又
はウエハ接触位置の外側にある補強用リブ２に着脱自在
に掛着された固定用治具８で固定されていることが、ウ
エハ容器１への固定用治具８の取り付けを簡便にするこ
とができるため、好ましい。尚、上記識別装置１０は、
例えば、図２に示すように、ウエハ容器１の外側又はウ
エハ接触位置の外側である補強用リブ２に配設された凹
部４と、該識別装置１０を凹部４に固定する固定用治具
８に配設された凸部６との間で確実に受容される。
【００１５】 また、本発明で用いる固定用治具８は、
ウエハ容器１と類似又は同一種類の樹脂、例えば、フッ
素樹脂、ポリカーボネート等からなることが好ましい。
これは、他樹脂からのアウトガスによる汚染やパーティ
クルの汚染を防ぐことができるからである。
ウエハ容器１と類似又は同一種類の樹脂、例えば、フッ
素樹脂、ポリカーボネート等からなることが好ましい。
これは、他樹脂からのアウトガスによる汚染やパーティ
クルの汚染を防ぐことができるからである。
【００１６】 以上のことから、本発明のウエハ容器
は、ウエハ容器を加工することなく、識別装置をウエハ
容器に容易に脱着することができるため、不具合が発生
した識別装置を容易に取り替えることができる。また、
ウエハ容器を洗浄する場合、ウエハ容器から固定用治具
と識別装置を容易に取り外すことができるため、ウエハ
容器の洗浄効率を向上させるとともに、識別装置のダメ
ージを防止することができる。
は、ウエハ容器を加工することなく、識別装置をウエハ
容器に容易に脱着することができるため、不具合が発生
した識別装置を容易に取り替えることができる。また、
ウエハ容器を洗浄する場合、ウエハ容器から固定用治具
と識別装置を容易に取り外すことができるため、ウエハ
容器の洗浄効率を向上させるとともに、識別装置のダメ
ージを防止することができる。
【００１７】 次に、本発明のウエハ容器の管理方法に
ついて説明する。本発明のウエハ容器の管理方法は、識
別装置（ＩＤタグ）の持つ情報を、電波によって非接触
で読み書きできるシステム（ＲＦ−ＩＤ[Radio Frequen
cy IDenfication]Ｓｙｓｔｅｍ）を応用したものであ
る。本発明のウエハ容器の保管方法は、例えば、図３に
示すように、ウエハ容器１に着脱自在の識別装置１０を
取り付け、リーダ１４からアンテナ１２を介して電波を
識別装置１０に送受信させて、非接触で識別装置１０に
記録された識別データへの読み書きを行うことにより、
ウエハ容器１の工程管理を行うことができる。尚、リー
ダ１４は、アンテナ１２を介してホスト１６（パソコン
又はシーケンサ）からのデータを識別装置１０に書いた
り、識別装置１０のデータを読み取ってホスト１６に伝
送するものである。
ついて説明する。本発明のウエハ容器の管理方法は、識
別装置（ＩＤタグ）の持つ情報を、電波によって非接触
で読み書きできるシステム（ＲＦ−ＩＤ[Radio Frequen
cy IDenfication]Ｓｙｓｔｅｍ）を応用したものであ
る。本発明のウエハ容器の保管方法は、例えば、図３に
示すように、ウエハ容器１に着脱自在の識別装置１０を
取り付け、リーダ１４からアンテナ１２を介して電波を
識別装置１０に送受信させて、非接触で識別装置１０に
記録された識別データへの読み書きを行うことにより、
ウエハ容器１の工程管理を行うことができる。尚、リー
ダ１４は、アンテナ１２を介してホスト１６（パソコン
又はシーケンサ）からのデータを識別装置１０に書いた
り、識別装置１０のデータを読み取ってホスト１６に伝
送するものである。
【００１８】 このとき、ウエハ容器１は、図３（ａ）
に示すように横置きであっても、図３（ｂ）に示すよう
に縦置きであってもよいが、アンテナ１２が識別装置１
０の方向に配設されていることが重要である。通常、識
別装置とアンテナとの間隔ａは、８〜１４ｃｍ程度であ
ることが好ましい。
に示すように横置きであっても、図３（ｂ）に示すよう
に縦置きであってもよいが、アンテナ１２が識別装置１
０の方向に配設されていることが重要である。通常、識
別装置とアンテナとの間隔ａは、８〜１４ｃｍ程度であ
ることが好ましい。
【００１９】 以上のことから、本発明のウエハ容器の
管理方法は、各工程におけるウエハ容器の使用履歴を識
別装置に自動的に記録することができるため、ウエハの
工程管理を合理化できるだけでなく、特定のウエハで汚
染事故等が発生した場合であっても、識別装置に記録さ
れた識別データに基づき、原因究明が可能である。更
に、本発明のウエハ容器の管理方法は、従来の識別装置
である文字、バーコード、ラベル等と比較して、識別デ
ータの読み取り能力に優れているだけでなく、識別装置
に記録された識別データを容易に変更することができ
る。
管理方法は、各工程におけるウエハ容器の使用履歴を識
別装置に自動的に記録することができるため、ウエハの
工程管理を合理化できるだけでなく、特定のウエハで汚
染事故等が発生した場合であっても、識別装置に記録さ
れた識別データに基づき、原因究明が可能である。更
に、本発明のウエハ容器の管理方法は、従来の識別装置
である文字、バーコード、ラベル等と比較して、識別デ
ータの読み取り能力に優れているだけでなく、識別装置
に記録された識別データを容易に変更することができ
る。
【００２０】 ここで、本発明で用いる識別装置は、電
波によって非接触で情報を読み書きできる装置であるこ
とが好ましい。例えば、テキサスインスツルメンツ社製
タイリス（ＴＩＲＩＳ）で用いるトランスボンダ（識別
装置）は、低周波を利用しているため、全ての非金属を
透過して読み取りが可能であるとともに、無電池方式で
あるため、超小型且つ半永久使用が可能である。また、
上記トランスボンダは、６４ビット（十進数で２０桁）
のメモリ容量を持ち、データの読み書きができるだけで
なく、トランスボンダがガラス封入されているため、比
較的悪条件下の使用であっても、長期に渡り使用するこ
とが可能である。
波によって非接触で情報を読み書きできる装置であるこ
とが好ましい。例えば、テキサスインスツルメンツ社製
タイリス（ＴＩＲＩＳ）で用いるトランスボンダ（識別
装置）は、低周波を利用しているため、全ての非金属を
透過して読み取りが可能であるとともに、無電池方式で
あるため、超小型且つ半永久使用が可能である。また、
上記トランスボンダは、６４ビット（十進数で２０桁）
のメモリ容量を持ち、データの読み書きができるだけで
なく、トランスボンダがガラス封入されているため、比
較的悪条件下の使用であっても、長期に渡り使用するこ
とが可能である。
【００２１】
【発明の効果】 本発明のウエハ容器及びその管理方法
は、ウエハ容器の洗浄時に識別装置を取り外したり、不
具合の発生した識別装置を容易に取り替えることができ
るだけでなく、ウエハの工程管理を合理化でき、特定の
ウエハで汚染事故等が発生した場合であっても、識別装
置に記録された識別データに基づき、原因究明が可能で
ある。
は、ウエハ容器の洗浄時に識別装置を取り外したり、不
具合の発生した識別装置を容易に取り替えることができ
るだけでなく、ウエハの工程管理を合理化でき、特定の
ウエハで汚染事故等が発生した場合であっても、識別装
置に記録された識別データに基づき、原因究明が可能で
ある。
【図１】 本発明のウエハ容器の一例を示すものであ
り、（ａ）は概略斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は平
面図である。
り、（ａ）は概略斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は平
面図である。
【図２】 本発明のウエハ容器の要部の一例を示す拡大
断面図である。
断面図である。
【図３】 本発明のウエハ容器の管理方法について説明
したものであり、（ａ）はウエハ容器を横置きにした場
合、（ｂ）はウエハ容器を縦置きにした場合、における
概略説明図である。
したものであり、（ａ）はウエハ容器を横置きにした場
合、（ｂ）はウエハ容器を縦置きにした場合、における
概略説明図である。
１…ウエハ容器、２…補強用リブ、４…凹部、６…凸
部、８…固定用治具、１０…識別装置（ＩＤタグ）、１
２…アンテナ、１４…リーダ、１６…ホスト（パソコン
又はシーケンサ）、３０…シリコンウエハ。
部、８…固定用治具、１０…識別装置（ＩＤタグ）、１
２…アンテナ、１４…リーダ、１６…ホスト（パソコン
又はシーケンサ）、３０…シリコンウエハ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3E096 AA03 BA16 DA13 DA23 DA25 DC02 EA02X EA02Y FA40 GA02 3F022 AA08 CC02 EE05 MM03 MM11 MM52 PP04 QQ11 5F031 CA02 DA01 EA02 FA01 FA09 JA01 JA49 MA22 MA23 MA32 PA02
Claims (8)
- 【請求項１】 ウエハの製造工程で用いるウエハ容器で
あって、 ウエハ容器の外側又はウエハ接触位置の外側に、着脱自
在の識別装置を取り付けてなることを特徴とするウエハ
容器。 - 【請求項２】 識別装置が、ウエハ容器の外側又はウエ
ハ接触位置の外側に着脱自在に掛着された固定用治具で
固定されている請求項１に記載のウエハ容器。 - 【請求項３】 識別装置が、ウエハ容器の外側又はウエ
ハ接触位置の外側に配設された凹部と、該識別装置を該
凹部に固定する固定用治具に配設された凸部との間で受
容されている請求項１又は２に記載のウエハ容器。 - 【請求項４】 固定用治具が、ウエハ容器と類似又は同
一種類の樹脂からなる請求項１〜３のいずれか１項に記
載のウエハ容器。 - 【請求項５】 識別装置が、電波によって非接触で情報
を読み書きできる装置である請求項１〜４のいずれか１
項に記載のウエハ容器。 - 【請求項６】 識別装置が、トランスボンダである請求
項１〜５のいずれか１項に記載のウエハ容器。 - 【請求項７】 ウエハ容器に識別装置を取り付け、ウエ
ハ容器の工程管理を行うウエハ容器の管理方法であっ
て、 ウエハ容器に着脱自在の識別装置を取り付け、電波によ
って非接触で該識別装置に記録された識別データへの読
み書きを行うことにより、ウエハ容器の工程管理を行う
ことを特徴とするウエハ容器の管理方法。 - 【請求項８】 識別装置が、トランスボンダである請求
項７に記載のウエハ容器の管理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24268299A JP2001068542A (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | ウエハ容器及びその管理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24268299A JP2001068542A (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | ウエハ容器及びその管理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001068542A true JP2001068542A (ja) | 2001-03-16 |
Family
ID=17092674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24268299A Withdrawn JP2001068542A (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | ウエハ容器及びその管理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001068542A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004079818A1 (ja) * | 2003-03-04 | 2006-06-08 | 信越ポリマー株式会社 | 精密基板収納容器 |
-
1999
- 1999-08-30 JP JP24268299A patent/JP2001068542A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004079818A1 (ja) * | 2003-03-04 | 2006-06-08 | 信越ポリマー株式会社 | 精密基板収納容器 |
| JP4553840B2 (ja) * | 2003-03-04 | 2010-09-29 | 信越ポリマー株式会社 | 精密基板収納容器 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061107 |