JP2001066447A - 半導体光結合装置 - Google Patents

半導体光結合装置

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JP2001066447A JP24479599A JP24479599A JP2001066447A JP 2001066447 A JP2001066447 A JP 2001066447A JP 24479599 A JP24479599 A JP 24479599A JP 24479599 A JP24479599 A JP 24479599A JP 2001066447 A JP2001066447 A JP 2001066447A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】光導波路基板上に形成したフィルタ溝があるこ
とにより基板をケース実装すると、熱応力に対してフィ
ルタ部にストレスがかかり、特性変動する場合がある。
これを回避するケース上の構造と実装方法を得る。 【解決手段】ケース側に溝を形成し、ケースと光導波路
基板との接合をストレスがかからないように、接合位置
を調整して固定する。 【効果】長期の動作に対して、安定した光結合を得る。
また、温度変化が生じても光結合劣化を起こすことはな
い。あるいは、LD素子の温度を上昇させることがな
く、安定した光発振波長を得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光伝送を行う光導
波路を使用した半導体光結合装置に係り、特に、光導波
路、光合分波基板を、ケースに実装、固定するとともに
長期動作に好適な半導体光結合装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、双方向の光送受信機能と波長多重
合分波機能を兼ね備えた装置において、例えば、特開平
10―307221号公報に記載のように、あるいは、
特開平10―160977号公報に記載のように、Si基
板上に石英系PLC(Planar Lightwave Circuit)導波
路が形成され、PLC端面の所定位置に半導体発光素子
(以後LDと略称する)、半導体受光素子(以後PDと
略称する)、ファイバがそれぞれ光学的に結合するよう
に配置し接合されている。PLC導波路を伝送する光を
分離するために、導波路を横切る溝を形成し、この溝に
WDM(Wavelength Division Multiplexing)フィルタを
挿入して波長を選別し、分離している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術は、導
波路基板にはLD、PD、ファイバ、フィルタ、IC
(Integrated Circuit)がそれぞれ光結合及びその動特
性を適正にするように配置された構造となっているが、
これら部品を保護、固定するケースあるいは外部との電
気接続方法が示されていなかった。
【0004】また、フィルタ挿入の溝形成については、
その加工法、溝へのフィルタの樹脂固定等が開示されて
いる。しかし、基板へ溝形成は、主に、円盤上の板の全
周に切削用砥粒をつけ、円盤を回転することにより溝加
工するダイシング加工が行われている。ダイシング加工
を行うと、Si基板溝には多数の加工歪層が生成され
る。そのため、外部からの負荷荷重、あるいは、導波路
基板実装に伴う基板へのストレスが付加されると壊れ易
くなる。従来はこれに対し、何等検討されていなかっ
た。また、LDやIC等を内蔵すると、それらの素子か
ら発生する熱で、素子温度が上昇し、波長変動し、寿命
が低下することに対し、何等検討がなされていなかっ
た。
【0005】本発明は、光導波路、光合分波基板をケー
スに実装、固定し、LD、PD、フィルタなどを保護
し、プリント回路基板への組み込みを容易にすると共
に、長期動作に好適な半導体光結合装置を提供すること
にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、光導波路、光合分波器が形成された光導
波路基板と、光導波路基板の光入力端に光結合するよう
に配設された半導体素子と、光出力端に光結合するよう
に配設された光ファイバと、光導波路を伝播する波長の
選択を行うフィルタと、光導波路基板を実装するケース
とを備え、前記ケースに各種段差を設け、前記光導波路
基板を接合する。
【0007】すなわち、光導波路基板の一部に導波路を
切断する溝を設け、溝にフィルタを挿入し、ケースの一
部に溝を設け、前記光導波路基板の溝とケースの溝とが
概略一致するように、光導波路基板を積層し、溝以外を
接合した。
【0008】また、接合はケースの溝以外の光導波路基
板の底面の約1/2を接合した。なお、接合には2種類ある
いはそれ以上の接合材を用いた。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第一の実施例を図
1、2により説明する。図1(1)は、半導体光結合装置
の平面図、(2)は同装置の断面図である。図2は同図
(1)のA、A'を通る面で切断し、斜めからみた斜視
図である。
【0010】光導波路基板12上に光導波路13を形成
して、半導体発光素子(LD)21、半導体受光素子
(PD)22、23と光ファイバ17を光学的に組立て
る。光導波路基板12の材料としては、Si単結晶が適
している。光導波路13は8×8μm角のコア部分とそ
の周りのクラッド部分で形成され、屈折率差を設けるこ
とで光をコア部分に閉じ込め、光導波する。コアとクラ
ッドの材質としては、ガラスを使ったもの、樹脂を使っ
たもの等がある。また、光導波路基板12上には受発光
素子を制御するIC24も設けられている。
【0011】光導波路13を伝送する光は、例えば、
1.3μmあるいは1.55μm帯のレーザ光である。光
導波路13の材料としては、伝播する時の透過損失がで
きるだけ少ない石英ガラスが適している。また、光導波
路13の形成が短時間で行えるフッ素化ポリイミドを用
いてもよい。この場合、ポリイミド材料をスピンコータ
で光導波路基板に塗布し、350℃の温度で焼成するこ
とで膜を形成できる。ガラス導波路の場合は、1000
℃以上の温度で焼成し、コア部分をドライエッチング等
で、導波路以外の部分を取除く必要がある。このよう
に、樹脂の方が短時間で加工できる効果がある。
【0012】このようにして、Si基板上に形成した光
導波路13を、光ファイバ17と光結合する。
【0013】本実施例では、ファイバを伝送する光は、
1.3μm帯及び1.55μm帯の波長である。一方、
光導波路端に設けたPD21は、1.3μm帯の光を受
光する設定であり、PD21に1.3μm帯と1.55
μm帯の光を分離する機能はできない。従って、光導波
路13の途中で1.55μm帯を除く必要があり、導波
路13を切断する溝14を設け、溝14にフィルタ15
を挿入した。このフィルタ15で1.55μm帯の光を
全反射させ分離する。
【0014】光導波路基板12に溝形成した時の材料強
度上の影響を実験から調べた。光導波路基板12上の導
波路13を切断するための溝14を加工する方法として
は、異方性エッチング、ダイシング、ワイヤソ−があ
る。量産性、加工コストを考慮すると、ダイシングが適
している。ダイシングで40μm幅の溝を中央に形成し
たSi板(寸法:5×30×1t)と溝無しSi板につ
いて、4点曲げ破壊強度試験を行った。その結果、溝を
付けたサンプル20本について破壊試験したところ、平
均強度は、127MPa(13kg/mm2)であるのに対
し、20本の溝なし試験サンプルでの平均強度は、49
0MPa(50kg/mm2)となった。この理由は、脆性
な材料表面に欠陥があると、材料強度が著しく低下する
ことは知られており、溝14を加工することにより、S
i基板の表面に加工歪層ができる。この状態で曲げ応力
を加えると、この歪層が起点となって容易に破壊してし
まうためである。光導波路基板12上へ溝14を形成す
ることで、光導波路基板12が構造的に弱くなる。この
ため、光導波路基板12への外部からの負荷荷重、ある
いはケースへの収納によって生じる変形、応力を極力低
く抑えるように実装することが重要である。
【0015】図1(2)の縦断面図を用いて光導波路基板
12と電極端子板11との接合方法について説明する。
なお、電極端子板11は、ケースを構成する一部分であ
り、光導波路基板12との接合部を構成している。言い
替えるとケースの底の部分に相当する。
【0016】電極端子板11の寸法は、長さ30×奥行
き9×厚さ4(mm)、光導波路基板12は、長さ7×奥
行き1.4×厚さ1(mm)である。電極端子板11の光
導波路基板12を搭載する中央部分は、少なくとも光導
波路基板12が納まり、光導波路基板表面と電極端子板
表面の高さが略一致するように、1mm低くしている。
このように表面を略一致させることにより、LD、P
D、ICの高さが略一致し、各素子と電極端子板中のリ
ードとを電気的に結ぶリードワイヤの接続距離を最短に
することができる(リードワイヤは図示せず)。電極端
子板11の光導波路基板12からはずれた部分は、さら
に0.5mmあるいはそれ以上低くしている。電極端子
板11の奥行き方向は、光導波路基板12の実装性を考
慮して、前後に0.3mm程度余裕ある寸法である約2
mmが適している。
【0017】また、電極端子板11の中央部分は溝18
が設けられている。溝18の寸法は、長さ1×奥行き2
×深さ1としているが、長さが1mm以上3mm以下と
しても良い。また、深さが1mm以上でも効果が得られ
る。溝18の断面形状は長方形でも3角形形状でもよ
い。溝18は、光導波路基板12と接合材料を介して接
合する場合、光導波路基板12に設けたフィルタ15が
溝18の中央近傍に配置できるように設ける。電極端子
板11と光導波路基板12は溝18をまたぐ形になる。
電極端子板11と光導波路基板12の固定は、溝18の
両側に予めディスクあるいはペースト状接合材を供給し
ておき、両者を合わせて接合し、その後温度を上げるこ
とで溶融、硬化固着させる。
【0018】電極端子板11の溝18の端子30を設け
た側(図の右側)には、LD、PDが実装されている。
LDからの熱を速やかに放熱するためには、接合材はA
gペーストあるいはAg入りエポキシが適している。一
方、溝18のファイバ取付側(図の左側)には、発熱する
素子等は設けられていない。従って、Agペースト等の
熱伝導性材料での固定あるいはAgペーストよりも弾性
係数の低い材料による固定が適している。あるいは右側
だけの接合にすると、さらにフィルタ15部に生じる応
力を低減することができる。
【0019】いま、この構造において、有限要素法を使
った熱応力解析を行った。使用したプログラムは、弾性
構造強度解析プログラム(ADINA6.1)で、構造
は、2次元平面モデル構造として行った。計算条件は、
光導波路基板12を電極端子板11にAgペーストで接
合し、150℃から20℃まで冷却した場合にフィルタ
15部に生じる熱応力を求めた。
【0020】光導波路基板12はSi材、電極端子板1
1はアルミナ材である。まず、溝18がある場合と溝が
無い場合での比較では、溝を付けることにより、15%
応力低減できる。次に、溝18がある場合に溝18の両
側を接合した場合と、片側のみ接合した場合とを比較す
ると、片側のみのほうが10%応力低減できる。また、
片側をAgペーストで接合し、残りの側を弾性係数が低
い材料とした場合でも同等の応力値となる。
【0021】以上の解析結果から、溝18無しで接合す
るより、溝18を設けた方がフィルタ部応力を低減でき
ることが明らかである。安定した基板実装には、溝18
両端での固定となる。すなわち、熱伝導性が必要なL
D、PDの取付側には、熱伝導性材料が適しており、溝
18の左側には、弾性係数の低い材料、例えば、シリコ
ーン材が適している。この組み合わせで構成すると、フ
ィルタ部応力を低減でき、LD部の放熱を向上でき、外
部負荷荷重からの耐力が得られる。
【0022】本実施例では、電極端子板11の材料をセ
ラミック材としての効果を示したが、プラスチックでも
同様の効果がある。
【0023】図3は、電極端子板11の材料を、例えば
エポキシ樹脂とし、樹脂の中にリードフレーム41、4
2をモールドして形成している。図3(1)は、平面図で
あり、(2)は中心部で切断した断面図を示す。
【0024】リードフレーム41は、電極端子板11の
表面にフレームが出るように形成し、この部分にIC2
4を実装する。リードフレーム41は、IC24のグラ
ンド電源としてリード端子に接続されている。リードフ
レーム42は光導波路基板12と直接接合できるように
表面に出ており、同時に電極端子板11の裏側にも通じ
た3次元的形状となっている。同時にリード端子に接続
されている。リードフレーム41、42は、それぞれ独
立しており、電気、熱が絶縁した構造である。リードフ
レームの材質としては、スズ入り銅Sn(0.15)−C
uあるいは鉄入り銅Fe(2.4)−Cuが適している。
【0025】また、エポキシ樹脂には、SiO2などの
フィラーを混入させ、膨張係数を調節している。このよ
うに形成したプラスチック電極端子板11を使用するこ
とにより、LD、ICの放熱を、別のパスを通して外部
放熱できると同時に、電極端子板11の溝18を設ける
ことで、光導波路素子との接合応力を低くできる効果が
ある。また、リードフレーム41、42を電極端子板1
1の上面、中面、下面に配置していることにより、電極
端子板11に熱変動が加わっても端子がそり変形、ねじ
り変形を起こすことがない。従って、光導波路とLD、
PDとの光結合変動を起こさない。プラスチック電極端
子板11の材質としては、エポキシ樹脂の他にポリフェ
ニレンサルファイドが適している。
【0026】半導体光結合装置の組立ては次のように行
う。光導波路基板12上にLD21,PD22あるいは
PD23をAu−Sn半田により接合する。まず、PD
23を光導波路端部に接合し、その後にLD21、PD
22を位置決め固定する。次に、フィルタ15を溝の中
に挿入固定する。固定に使用する接着剤は、例えば、U
Vエポキシ樹脂が適している。フィルタ15を溝に挿入
後、樹脂をポッティングし、UV照射して固定する。
【0027】一方、電極端子板11には、予め、IC2
4をボンディングしておき、この上に光導波路基板12
を積層し、両者を固定する。溝18の両側には、Agペー
ストあるいはシリコーンを所定量ポッティングしてお
き、光導波路基板12を所定の位置に移動し、重ねる。
その後、温度を上昇させて、樹脂硬化させる。次に、L
D、PD、ICにワイヤボンディングを行った後、ファ
イバ17に外部から光を入れ、光導波路端部との位置合
わせ固定を行う。最後に、素子まわりにポッティング樹
脂を置くと同時に箱型ふた(図示せず)を接着剤で固定
することで組立てを完了する。
【0028】本実施例によれば、フィルタ15を光導波
路基板12に設けた溝14に接着固定したものを,電極
端子11に設けた溝18と接合固定する。接合の際の位
置決めは、光導波路基板の溝14と電極端子板11の溝
18とが概略重なるようにする。位置決め後、接合する
と、フィルタ部の応力を低減でき、しかも外部からの力
に対しても不安定になることがない。長期間の動作に対
しても安定した動作を得ることが出来る。半導体結合装
置に温度変化が生じても光結合劣化を起こすことがな
い。また、LD、PD、ICの温度上昇を抑えることが
でき、長期の動作を行うことができる。
【0029】
【発明の効果】本発明では、光導波路の途中の溝にフィ
ルタを接合固定し、予め電極端子に設けた溝の上に光導
波路基板を接合部分を選択して固定する。このように構
成すると、導波路基板を安定して収納することができ
る。しかも、長期間の使用に対して、フィルタ部にはく
離を起こすことも無く、安定した光結合を得られる。ま
た、光結合装置に温度変化が生じても、光結合劣化を起
こさない。また、LD、PD、ICの温度上昇を抑えら
れ、長期に安定した動作寿命を得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例の平面及び断面図である。
【図2】本発明の第一実施例の斜視図である。
【図3】本発明の第二実施例の平面及び断面図である。
【符号の説明】 11…電極端子、12…光導波路基板、14…溝、15
…フィルタ、17…光ファイバ、18…溝、21…半導
体発光素子、22…半導体受光素子、23…半導体受光
素子、24…IC、30…電極リード、40…リードフ
レーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高野 光広 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株 式会社日立製作所通信システム事業本部内 (72)発明者 桑原 明 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株 式会社日立製作所通信システム事業本部内 Fターム(参考) 2H037 AA01 BA31 2H047 KA03 LA00 LA12 MA05 MA07 QA04 QA05 QA07 TA00 5F041 DC31 EE25 FF14 5F073 BA01 EA07 FA05 FA30 5F088 GA04 JA03 JA14 LA01

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光導波路と光合分波器とが形成された光導
    波路基板と、前記光導波路基板の光入力端側に光結合す
    るように配設された半導体素子と、光出力端側に光結合
    するように配設された光ファイバと、前記光導波路を伝
    播する波長を選択して出力するフィルタと、前記光導波
    路基板を実装するケースとからなる半導体光結合装置に
    おいて、 前記光導波路基板の一部に前記光導波路を切断する溝を
    設け、前記溝に前記フィルタを挿入し、前記ケースの前
    記光導波路基板の取付面に溝を設け、前記光導波路基板
    の溝と前記ケースの溝とが概略一致するように、前記ケ
    ース上に前記光導波路基板を前記ケースの溝以外の部分
    で接合して積層したことを特徴とする半導体光結合装
    置。
  2. 【請求項2】光導波路と光合分波器とが形成された光導
    波路基板と、前記光導波路基板の光入力端側に光結合す
    るように配設された半導体素子と、光出力端側に光結合
    するように配設された半導体素子と、光出力端側に光結
    合するように配設された光ファイバと、光導波路を伝播
    する波長を選択するフィルタと、前記光導波路基板を実
    装するケースとからなる半導体光結合装置において、 前記光導波路の途中に前記光導波路を切断する溝を設
    け、前記溝に前記フィルタを挿入し、前記ケースの前記
    光導波路基板の取付面に溝を設け、前記光導波路基板の
    溝と前記ケースの溝とが概略一致するように、前記ケー
    スに前記光導波路基板を前記ケースの溝以外で前記光導
    波路基板底面の約1/2を接合して積層することを特徴と
    する半導体光結合装置。
  3. 【請求項3】光導波路と光合分波器が形成された光導波
    路基板と、前記光導波路基板の光入力端側に光結合する
    ように配設された半導体素子と、光出力端側に光結合す
    るように配設された光ファイバと、光導波路を伝播する
    波長を選択するフィルタと、前記光導波路基板を実装す
    るケースからなる半導体光結合装置において、 前記光導波路の途中に前記光導波路を切断する溝を設
    け、前記溝にフィルタを挿入し、前記ケースの前記光導
    波路基板の取付面に溝を設け、前記光導波路基板の溝と
    前記ケースの溝とが概略一致するように、前記ケースの
    溝以外の前記光導波路基板と接触する部分を2種類ある
    いはそれ以上の接合材で接合したことを特徴とする半導
    体光結合装置。
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