JP2001058885A5 - 多孔質セラミックスの製造方法及び同方法を用いた製造装置 - Google Patents
多孔質セラミックスの製造方法及び同方法を用いた製造装置 Download PDFInfo
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも内部が多孔質化した焼結後のセラミックスに超音波振動を与える多孔質セラミックスの製造方法。
【請求項2】
少なくとも内部が多孔質化した焼結後のセラミックスに超音波振動を与える処理手段を備えた多孔質セラミック製造装置。
【請求項3】
内部が多孔質化した焼結後のセラミックスが、微細気泡を含んだ原料スラリーを極低温冷媒に滴下などして接触させることにより凍結させ、これを凍結乾燥、焼結させて得られる請求項1,2に記載の多孔質セラミックスの製造方法。
【請求項4】
前記超音波振動の周波数が2KHz〜100MHz、好ましくは、20KHz〜50KHzで出力強度が0.1〜5W/cm 2 ある請求項1乃至3に記載の多孔質セラミックスの製造方法及び同方法を用いた製造装置。
【請求項5】
原料セラミックスがBioactive 又はBioinert セラミックスである請求項1乃至4に記載の多孔質セラミックスの製造方法及び同方法を用いた製造装置。
【請求項1】
少なくとも内部が多孔質化した焼結後のセラミックスに超音波振動を与える多孔質セラミックスの製造方法。
【請求項2】
少なくとも内部が多孔質化した焼結後のセラミックスに超音波振動を与える処理手段を備えた多孔質セラミック製造装置。
【請求項3】
内部が多孔質化した焼結後のセラミックスが、微細気泡を含んだ原料スラリーを極低温冷媒に滴下などして接触させることにより凍結させ、これを凍結乾燥、焼結させて得られる請求項1,2に記載の多孔質セラミックスの製造方法。
【請求項4】
前記超音波振動の周波数が2KHz〜100MHz、好ましくは、20KHz〜50KHzで出力強度が0.1〜5W/cm 2 ある請求項1乃至3に記載の多孔質セラミックスの製造方法及び同方法を用いた製造装置。
【請求項5】
原料セラミックスがBioactive 又はBioinert セラミックスである請求項1乃至4に記載の多孔質セラミックスの製造方法及び同方法を用いた製造装置。
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JP23233699A JP4365485B2 (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | 多孔質リン酸カルシウムセラミックスの製造方法 |
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JP23233699A Expired - Fee Related JP4365485B2 (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | 多孔質リン酸カルシウムセラミックスの製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4365485B2 (ja) |
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1999
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