JP2001057400A - Metal cap insulating film forming method - Google Patents

Metal cap insulating film forming method

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JP2001057400A
JP2001057400A JP23198999A JP23198999A JP2001057400A JP 2001057400 A JP2001057400 A JP 2001057400A JP 23198999 A JP23198999 A JP 23198999A JP 23198999 A JP23198999 A JP 23198999A JP 2001057400 A JP2001057400 A JP 2001057400A
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metal cap
insulating film
substrate
terminal electrode
cap
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俊行 馬場
Jiro Inoue
二郎 井上
Shoichi Kawabata
章一 川端
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a method through which an insulating film is easily formed on the surface of a metal cap. SOLUTION: This method is carried out through such a manner where an electronic component sealing metal cap 1 is provided to cover and seal up an element 20 mounted on the surface of a board 10 where terminal electrodes 11 and 12 are formed, and an insulating film 2 is formed on the surface of a metal cap 1 through electrodeposition coating. It is preferable that an insulating film is formed through an electrodeposition coating process holding the metal cap 1 with a jig and keeping it electrically conductive.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンデンサ基板な
どの基板表面上に搭載された圧電セラミック素子などの
素子を覆い封止するための電子部品封止用金属キャップ
の表面に絶縁膜を形成する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming an insulating film on a surface of a metal cap for sealing electronic parts for covering and sealing elements such as piezoelectric ceramic elements mounted on the surface of a substrate such as a capacitor substrate. It is about the method.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】圧電共
振素子などの素子を基板上に搭載したチップ型電子部品
においては、圧電振動部が振動するため、振動を妨げな
いように素子をパッケージ内に収納した構造が用いられ
ている。具体的には、基板表面上に素子を搭載した後、
該素子を覆い封止するため基板表面上にキャップが取り
付けられる。
2. Description of the Related Art In a chip-type electronic component in which an element such as a piezoelectric resonance element is mounted on a substrate, a piezoelectric vibrating portion vibrates. Is used. Specifically, after mounting the element on the substrate surface,
A cap is mounted on the substrate surface to cover and seal the device.

【0003】図12は、このようなキャップにより封止
される従来の電子部品の一例を示す断面図である。図1
2に示す従来の電子部品においては、絶縁性キャップ4
0が用いられている。これは、基板10上に形成された
端子電極11及び12の上にキャップ40が取り付けら
れるので、端子電極11及び12の間における短絡を防
止するためには絶縁性が必要とされるからである。基板
10の上面側には、圧電共振素子などの素子20が搭載
されている。素子20は半田21により端子電極11に
接合されており、半田22により端子電極12に接合さ
れている。基板10の下面側の端子電極11及び12の
間には、これらの端子電極11及び12との間でコンデ
ンサを形成するための端子電極13が設けられている。
FIG. 12 is a sectional view showing an example of a conventional electronic component sealed by such a cap. FIG.
In the conventional electronic component shown in FIG.
0 is used. This is because the cap 40 is attached on the terminal electrodes 11 and 12 formed on the substrate 10, so that insulation is required to prevent a short circuit between the terminal electrodes 11 and 12. . An element 20 such as a piezoelectric resonance element is mounted on the upper surface side of the substrate 10. The element 20 is joined to the terminal electrode 11 by solder 21, and is joined to the terminal electrode 12 by solder 22. A terminal electrode 13 for forming a capacitor between the terminal electrodes 11 and 12 is provided between the terminal electrodes 11 and 12 on the lower surface side of the substrate 10.

【0004】絶縁性キャップ40としては、セラミック
製キャップや樹脂製キャップなどが用いられる。しかし
ながら、これらのキャップは成形性を考慮すると、厚み
として0.25mm以上が必要となり、このため低背化
を達成することができず、また基板面積も大きくなると
いう問題がある。
[0004] As the insulating cap 40, a ceramic cap, a resin cap, or the like is used. However, these caps need to have a thickness of 0.25 mm or more in consideration of moldability, so that a reduction in height cannot be achieved, and there is a problem that the substrate area increases.

【0005】低背化を図り回路基板の集積度を上げるた
めには、キャップとして金属製キャップを用いることが
好ましい。しかしながら、金属製キャップをそのまま基
板上に取り付けると、上述のように端子電極間での短絡
が生じる。
In order to reduce the height and increase the degree of integration of the circuit board, it is preferable to use a metal cap as the cap. However, if the metal cap is directly mounted on the substrate, a short circuit occurs between the terminal electrodes as described above.

【0006】このような端子電極間での短絡を防止する
ため、図13に示すように、金属キャップ42が載置さ
れる基板10及び端子電極11,12の上に絶縁層41
を形成し、この絶縁層41の上にキャップ42を載せる
方法が考えられる。なお、図13においては基板10上
に搭載する圧電共振素子などの素子を図示省略してい
る。
In order to prevent such a short circuit between the terminal electrodes, as shown in FIG. 13, an insulating layer 41 is formed on the substrate 10 on which the metal cap 42 is mounted and the terminal electrodes 11 and 12.
Is formed, and a cap 42 is placed on the insulating layer 41. In FIG. 13, elements such as a piezoelectric resonance element mounted on the substrate 10 are not shown.

【0007】このような方法によれば、金属キャップを
用いることができるので、低背化を図ることができる
が、電子部品を小型化していくと、基板上に絶縁層を精
度良く形成することが困難になるという問題を生じる。
According to such a method, a metal cap can be used, so that the height can be reduced. However, as electronic components become smaller, it is necessary to form an insulating layer on a substrate with high precision. The problem arises that it becomes difficult.

【0008】ところで、特開平6−132762号公報
には、内面に絶縁層が設けられた金属キャップが開示さ
れている。このような金属キャップにおいては、基板と
接する端部を外側に折り曲げ、その内面が端子電極と接
するように成形加工され、内面に設けられた絶縁層が端
子電極と接している。このようにして金属キャップと端
子電極の間に絶縁層が介在するため、端子電極間の短絡
を防止することができる。該公報には、絶縁層の具体的
な形成方法について説明はないが、おそらく金属キャッ
プ成形前の板材の状態において絶縁層がプレコートさ
れ、このプレコートされた板材をキャップ形状に成形し
ているものと思われる。このような金属キャップにおい
ては、端子電極と接する箇所に絶縁層を位置させるた
め、その端部を外側に折り曲げておく必要がある。ま
た、このような折り曲げ加工の際に絶縁層が剥離して絶
縁性が不十分になるおそれがある。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-132762 discloses a metal cap having an insulating layer provided on the inner surface. In such a metal cap, an end in contact with the substrate is bent outward, and an inner surface thereof is formed so as to be in contact with the terminal electrode, and an insulating layer provided on the inner surface is in contact with the terminal electrode. Since the insulating layer is interposed between the metal cap and the terminal electrode in this manner, a short circuit between the terminal electrodes can be prevented. The gazette does not describe a specific method of forming the insulating layer, but it is presumed that the insulating layer is pre-coated in a state of the plate material before forming the metal cap, and the pre-coated plate material is formed into a cap shape. Seem. In such a metal cap, it is necessary to bend its end outward in order to locate the insulating layer in a position in contact with the terminal electrode. In addition, during such bending, the insulating layer may be peeled off, resulting in insufficient insulation.

【0009】また、絶縁層を金属キャップの外側にも設
け、回路基板に実装した際に他の部品との電気的絶縁性
を保ちたい場合があるが、該公報には内面に絶縁層を設
けた金属キャップのみが開示されており、金属キャップ
の外側に絶縁層を設ける方法については何ら開示されて
いない。
In some cases, an insulating layer is also provided outside the metal cap to maintain electrical insulation from other components when mounted on a circuit board. Only the disclosed metal cap is disclosed, and there is no disclosure of a method of providing an insulating layer outside the metal cap.

【0010】本発明の目的は、キャップ形状に成形され
た状態で絶縁膜を簡易に形成することができる金属キャ
ップの絶縁膜形成方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for forming an insulating film of a metal cap, which can easily form an insulating film in a state of being formed into a cap shape.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、端子電極が形
成された基板表面上に搭載された素子を覆い封止するた
め基板表面上に取り付けられる電子部品封止用金属キャ
ップの表面に、端子電極と金属キャップとの間を電気的
に絶縁するための絶縁膜を形成する方法であり、金属キ
ャップの表面上に電着塗装により絶縁膜を形成すること
を特徴としている。
According to the present invention, there is provided a metal cap for electronic component sealing which is mounted on a substrate surface for covering and sealing an element mounted on the substrate surface on which a terminal electrode is formed. This is a method of forming an insulating film for electrically insulating between a terminal electrode and a metal cap, and is characterized in that the insulating film is formed on the surface of the metal cap by electrodeposition coating.

【0012】本発明によれば、キャップ形状に成形され
た状態で金属キャップの表面上に絶縁膜を形成すること
ができる。従って、どのようなキャップ形状のものであ
っても、基板表面上に取り付ける際に端子電極と接する
箇所の表面上に絶縁膜を形成することができる。このよ
うな金属キャップを用いれば、そのまま接着剤等を用い
て基板表面上に取り付けて封止することができる。
According to the present invention, an insulating film can be formed on a surface of a metal cap in a state where the insulating film is formed into a cap shape. Therefore, regardless of the cap shape, the insulating film can be formed on the surface of the portion that comes into contact with the terminal electrode when it is mounted on the substrate surface. If such a metal cap is used, it can be mounted and sealed on the substrate surface using an adhesive or the like as it is.

【0013】本発明における電着塗装としては、従来よ
り一般的な電着塗装方法を採用することができ、カチオ
ン型電着塗料またはアニオン型電着塗料を用い、金属キ
ャップを陰極または陽極として、電着塗装することがで
きる。
As the electrodeposition coating in the present invention, a conventional general electrodeposition coating method can be adopted. A cationic electrodeposition coating or an anion type electrodeposition coating is used, and a metal cap is used as a cathode or an anode. Can be electrodeposited.

【0014】本発明に従う好ましい実施形態の1つにお
いては、導電性支持板の上に導電性両面テープを貼り付
け、該導電性両面テープの上に金属キャップを貼り付け
電気的に導通させた状態で支持し、電着塗装を行うこと
を特徴としている。このような方法によれば、配列させ
た多数の金属キャップを同時に導電性両面テープに貼り
付けて支持し固定することができ、多数の金属キャップ
を同時に効率良く電着塗装することができる。
In one preferred embodiment according to the present invention, a state in which a conductive double-sided tape is stuck on a conductive support plate, and a metal cap is stuck on the conductive double-sided tape to make it electrically conductive. It is characterized in that it is supported by an electrodeposition coating. According to such a method, a large number of arranged metal caps can be simultaneously adhered to the conductive double-sided tape, supported and fixed, and the large number of metal caps can be simultaneously electrodeposited efficiently.

【0015】本発明に従う他の好ましい実施形態におい
ては、金属キャップを治具で保持し電気的に導通させた
状態で電着塗装を行うことを特徴としている。このよう
な方法によれば、簡易な治具で金属キャップを保持し固
定することができる。
Another preferred embodiment according to the present invention is characterized in that the electrodeposition coating is performed with the metal cap held by a jig and electrically connected. According to such a method, the metal cap can be held and fixed with a simple jig.

【0016】本発明の金属キャップは、端子電極が形成
された基板表面上に搭載された素子を覆い封止するため
基板上に取り付けられる電子部品封止用金属キャップで
あり、少なくとも端子電極と接する箇所の表面に、電着
塗装による絶縁膜が形成されていることを特徴としてい
る。
The metal cap of the present invention is a metal cap for sealing electronic components mounted on a substrate to cover and seal an element mounted on the surface of the substrate on which the terminal electrode is formed, and is in contact with at least the terminal electrode. An insulating film formed by electrodeposition coating is formed on the surface of the portion.

【0017】本発明の金属キャップは、上記本発明の絶
縁膜形成方法により形成することができるキャップであ
る。本発明の金属キャップは、少なくとも端子電極と接
する箇所の表面に絶縁膜が形成されているので、そのま
ま接着剤等を用いて基板表面上に取り付けても、基板の
端子電極と金属キャップとの間の絶縁性を確保すること
ができる。従って、低背化された電子部品を効率良く製
造することができる。
The metal cap of the present invention is a cap that can be formed by the above-described method of forming an insulating film of the present invention. Since the metal cap of the present invention has an insulating film formed on at least the surface in contact with the terminal electrode, even if the metal cap is mounted on the substrate surface using an adhesive or the like as it is, the gap between the terminal electrode of the substrate and the metal cap is formed Can ensure the insulation properties of the substrate. Therefore, it is possible to efficiently manufacture a low-profile electronic component.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施例の絶縁
膜が形成された金属キャップを用いた電子部品を示す断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an electronic component using a metal cap on which an insulating film is formed according to one embodiment of the present invention.

【0019】誘電体基板などの基板10の両端部の端
面、上面及び下面の上には端子電極11及び端子電極1
2が形成されている。基板10の下面の中央にはさらに
端子電極13が形成されており、端子電極11と端子電
極13及び端子電極12と端子電極13の間でそれぞれ
コンデンサが構成されている。また端子電極11と端子
電極12との間で別個のコンデンサが構成されている。
また、基板10内には、端部が端子電極11または端子
電極12に接するような内部電極が形成されていてもよ
く、このような内部電極間でコンデンサが構成されてい
てもよい。
A terminal electrode 11 and a terminal electrode 1
2 are formed. Terminal electrodes 13 are further formed in the center of the lower surface of the substrate 10, and capacitors are respectively formed between the terminal electrodes 11 and 13 and between the terminal electrodes 12 and 13. Separate capacitors are formed between the terminal electrodes 11 and 12.
In the substrate 10, an internal electrode whose end is in contact with the terminal electrode 11 or the terminal electrode 12 may be formed, and a capacitor may be formed between such internal electrodes.

【0020】基板の上面側には、圧電共振素子などの素
子20が搭載されている。素子20の一方端は半田21
により端子電極11に接合されており、他方端は半田2
2により端子電極12に接合されている。さらに、基板
10の上面側には、素子20を覆い封止するように金属
キャップ1が取り付けられている。金属キャップ1の表
面には絶縁膜2が形成されている。この絶縁膜2は、金
属キャップ1の表面を電着塗装することにより形成され
た絶縁膜である。絶縁膜の厚みとしては、3〜30μm
程度であることが好ましい。
An element 20, such as a piezoelectric resonance element, is mounted on the upper surface of the substrate. One end of the element 20 is solder 21
To the terminal electrode 11 and the other end is solder 2
2 are joined to the terminal electrode 12. Further, a metal cap 1 is attached to the upper surface side of the substrate 10 so as to cover and seal the element 20. An insulating film 2 is formed on the surface of the metal cap 1. This insulating film 2 is an insulating film formed by electrodepositing the surface of the metal cap 1. The thickness of the insulating film is 3 to 30 μm
It is preferred that it is about.

【0021】図1に示すように、端子電極11及び12
と金属キャップ1との間には絶縁膜2が介在しているの
で、金属キャップ1が直接端子電極11または12に接
触することはなく、良好な絶縁性が確保される。金属キ
ャップ1は、適当な接着剤等を用いて基板10上に接着
することができる。
As shown in FIG. 1, the terminal electrodes 11 and 12
Since the insulating film 2 is interposed between the metal cap 1 and the metal cap 1, the metal cap 1 does not come into direct contact with the terminal electrode 11 or 12, and good insulation is secured. The metal cap 1 can be bonded onto the substrate 10 using a suitable adhesive or the like.

【0022】図2〜図6は、金属キャップの表面におい
て絶縁膜が形成される箇所の例を示す図である。各図に
おいて(a)は斜視図を示しており、(b)は(a)に
示すA−A線に沿う断面図を示しており、(c)は金属
キャップの底面すなわち基板と接触する面を示してい
る。各図において絶縁膜が形成されている箇所にはハッ
チッグを付している。
FIGS. 2 to 6 are views showing examples of places where an insulating film is formed on the surface of the metal cap. In each figure, (a) is a perspective view, (b) is a cross-sectional view taken along the line AA shown in (a), and (c) is the bottom surface of the metal cap, that is, the surface in contact with the substrate. Is shown. In each drawing, a portion where an insulating film is formed is hatched.

【0023】図2に示すように、絶縁膜12は金属キャ
ップ1の全面に形成してもよい。図2に示す実施例で
は、金属キャップ1の外側表面及び内側表面並びに基板
に取り付けられる際接する底面の全てに絶縁膜2が形成
されている。このように金属キャップ1の全面に絶縁膜
2を設けることにより、この電子部品を回路基板に実装
した際、他の部品と接しても電気的絶縁性を保つことが
でき、電気的特性の劣化を防ぐことができる。また金属
キャップ1の内面にも絶縁膜2が形成されているので、
内部における素子や半田等との絶縁性も保つことができ
る。
As shown in FIG. 2, the insulating film 12 may be formed on the entire surface of the metal cap 1. In the embodiment shown in FIG. 2, the insulating film 2 is formed on all of the outer and inner surfaces of the metal cap 1 and the bottom surface which is in contact with the metal cap 1 when it is attached to the substrate. By providing the insulating film 2 on the entire surface of the metal cap 1 as described above, when this electronic component is mounted on a circuit board, electrical insulation can be maintained even when the electronic component comes into contact with other components, and the electrical characteristics deteriorate. Can be prevented. Since the insulating film 2 is also formed on the inner surface of the metal cap 1,
Insulation with elements, solder, and the like inside can be maintained.

【0024】図3に示す実施例では、金属キャップ1の
外側上面を除く表面に絶縁膜2が形成されている。この
ように金属キャップ1の外側上面に絶縁膜が形成されな
い場合、この部分を用いて金属キャップと端子電極とが
絶縁されているかどうかをチェックすることができる。
In the embodiment shown in FIG. 3, an insulating film 2 is formed on the surface of the metal cap 1 excluding the outer upper surface. When the insulating film is not formed on the outer upper surface of the metal cap 1 as described above, it is possible to check whether the metal cap and the terminal electrode are insulated by using this portion.

【0025】図4に示す実施例では、金属キャップ1の
側面の中央の下方に絶縁膜2が形成されない箇所が設け
られている。この部分においては、金属キャップ1の底
面においても絶縁膜2が形成されていない。このような
絶縁膜が形成されない領域は、端子電極と接触しない領
域となるように注意しなければならない。絶縁膜2が形
成されない領域にアースを接続することにより、金属キ
ャップ1にシールド機能を付与することができる。
In the embodiment shown in FIG. 4, a portion where the insulating film 2 is not formed is provided below the center of the side surface of the metal cap 1. In this portion, the insulating film 2 is not formed even on the bottom surface of the metal cap 1. Care must be taken that the region where such an insulating film is not formed is a region that does not contact the terminal electrode. By connecting the ground to a region where the insulating film 2 is not formed, the metal cap 1 can be provided with a shielding function.

【0026】図5に示す実施例においては、側面の中央
部に絶縁膜2が形成されていない領域が設けられてい
る。このような金属キャップにおいても、絶縁膜2が形
成されていない領域をアースに接続して、金属キャップ
1にシールド機能を付与することができる。
In the embodiment shown in FIG. 5, a region where the insulating film 2 is not formed is provided at the center of the side surface. In such a metal cap as well, a region where the insulating film 2 is not formed can be connected to the ground to provide the metal cap 1 with a shielding function.

【0027】図6に示す実施例においては、金属キャッ
プ1の下方端部にのみ絶縁膜2が形成されている。絶縁
膜2は、金属キャップ1の下方端部の外側及び内側並び
に底面上に形成されている。これらの金属キャップにお
いても、絶縁膜2が形成されていない部分をアースに接
続してシールド機能を付与することができる。
In the embodiment shown in FIG. 6, the insulating film 2 is formed only on the lower end of the metal cap 1. The insulating film 2 is formed outside and inside the lower end of the metal cap 1 and on the bottom surface. Also in these metal caps, a portion where the insulating film 2 is not formed can be connected to the ground to provide a shielding function.

【0028】以上のように、本発明において絶縁膜が形
成される領域は特に限定されるものではなく、少なくと
も端子電極と接触する箇所の表面に絶縁膜が設けられて
いればよい。
As described above, the region where the insulating film is formed in the present invention is not particularly limited, as long as the insulating film is provided at least on the surface in contact with the terminal electrode.

【0029】図7は、本発明に従う第1の実施形態にお
ける絶縁膜形成方法を説明するための断面図である。金
属板などからなる導電性支持板30の上には、導電性両
面テープ31が貼り付けられている。導電性両面テープ
31は、例えば金属粉末やカーボンブラック等を含有す
ることにより導電性が付与された両面テープである。導
電性両面テープ31の上には、複数の金属キャップ1が
貼り付けられている。導電性支持板30は、金属などか
らなる導電性の保持具32により保持されている。
FIG. 7 is a sectional view for explaining a method of forming an insulating film in the first embodiment according to the present invention. A conductive double-sided tape 31 is attached on a conductive support plate 30 made of a metal plate or the like. The conductive double-sided tape 31 is a double-sided tape provided with conductivity by containing, for example, metal powder or carbon black. A plurality of metal caps 1 are stuck on the conductive double-sided tape 31. The conductive support plate 30 is held by a conductive holder 32 made of metal or the like.

【0030】図8は、図7に示す金属キャップ1の支持
状態を示す断面図である。図8に示すように、金属キャ
ップ1は、その上面において導電性両面テープ31に接
着するように貼り付けられている。金属キャップ1は、
導電性両面テープ31を介して導電性支持板30に電気
的に導通している。従って、保持具32を介して導電性
支持板30を陰極または陽極とすることにより、金属キ
ャップ1を陰極または陽極とすることができる。
FIG. 8 is a sectional view showing a support state of the metal cap 1 shown in FIG. As shown in FIG. 8, the metal cap 1 is stuck on the upper surface so as to adhere to the conductive double-sided tape 31. Metal cap 1
It is electrically connected to the conductive support plate 30 via the conductive double-sided tape 31. Therefore, by using the conductive support plate 30 as a cathode or an anode via the holder 32, the metal cap 1 can be used as a cathode or an anode.

【0031】金属キャップ1を、上記のように支持した
状態で、電着塗料中に浸漬し、金属キャップ1を陰極ま
たは陽極とすることにより、金属キャップ1の露出した
表面上に電着塗装することができ、電着塗装による絶縁
膜を形成することができる。なお、本実施形態の支持方
法では、金属キャップ1の上面を導電性両面テープ31
に貼り付けているので、金属キャップ1の上面には絶縁
膜が形成されない。従って、図3に示すような実施例の
絶縁膜パターンを形成することができる。
While the metal cap 1 is supported as described above, the metal cap 1 is immersed in an electrodeposition paint, and the metal cap 1 is used as a cathode or an anode, so that the metal cap 1 is electrodeposited on the exposed surface. Thus, an insulating film can be formed by electrodeposition coating. In the supporting method of the present embodiment, the upper surface of the metal cap 1 is
No insulating film is formed on the upper surface of the metal cap 1. Therefore, the insulating film pattern of the embodiment as shown in FIG. 3 can be formed.

【0032】図9は、本発明に従う第2の実施形態にお
ける絶縁膜形成方法を説明するための正面図である。ま
た図10は、図9に示す金属キャップの支持状態を示す
断面図である。
FIG. 9 is a front view for explaining an insulating film forming method in the second embodiment according to the present invention. FIG. 10 is a cross-sectional view showing a support state of the metal cap shown in FIG.

【0033】図9及び図10を参照して、金属板などか
らなる導電性支持板33には、図10に示すような横方
向に延びる突出部33aが形成されている。この突出部
33aの上に、導電性両面テープ34が貼り付けられて
いる。導電性両面テープ34は、図7及び図8に示す導
電性両面テープ31と同様に、例えば金属粉末やカーボ
ンブラックを含有することにより導電性が付与されてい
る。導電性両面テープ34の上には、金属キャップ1が
貼り付けられている。図10に示すように、金属キャッ
プ1は、その底面部分において導電性両面テープ34と
接着するように貼り付けられている。導電性支持板33
は、金属などからなる導電性の保持具35により保持さ
れている。
Referring to FIGS. 9 and 10, a conductive support plate 33 made of a metal plate or the like has a laterally extending protrusion 33a as shown in FIG. A conductive double-sided tape 34 is attached on the protruding portion 33a. Similar to the conductive double-sided tape 31 shown in FIGS. 7 and 8, the conductive double-sided tape 34 has conductivity by containing, for example, metal powder or carbon black. The metal cap 1 is attached on the conductive double-sided tape 34. As shown in FIG. 10, the metal cap 1 is attached so as to adhere to the conductive double-sided tape 34 at the bottom surface. Conductive support plate 33
Are held by a conductive holder 35 made of metal or the like.

【0034】金属キャップ1は、導電性両面テープ34
を介して導電性支持板33に電気的に導通している。従
って、保持具35を介して導電性支持板33を陰極また
は陽極とすることにより、金属キャップ1を陰極または
陽極とすることができる。このような支持状態で、電着
塗料中に浸漬し、金属キャップ1を陰極または陽極とす
ることにより、金属キャップ1の表面上に電着塗装する
ことができる。
The metal cap 1 is made of a conductive double-sided tape 34
Are electrically connected to the conductive support plate 33 through the. Therefore, by using the conductive support plate 33 as a cathode or an anode via the holder 35, the metal cap 1 can be used as a cathode or an anode. In such a supported state, the metal cap 1 is immersed in an electrodeposition paint and the metal cap 1 is used as a cathode or an anode, so that the surface of the metal cap 1 can be electrodeposited.

【0035】電着塗装はまわり込みがよいので、金属キ
ャップ1の外側表面だけでなく、内側表面にも塗装する
ことができる。しかしながら、導電性両面テープ34と
の接着箇所には塗装がなされないので、金属キャップ1
の底面の中央部には塗膜が形成されない。従って、金属
キャップ1の底面の絶縁膜のパターンは、図4(c)に
示すような状態となる。このような絶縁膜が形成されな
い領域が、端子領域と接する領域と重ならないように注
意する必要がある。
Since the electrodeposition coating is easy to cover, it can be applied not only to the outer surface of the metal cap 1 but also to the inner surface. However, since the portion to be bonded to the conductive double-sided tape 34 is not coated, the metal cap 1
No coating film is formed at the center of the bottom surface of. Accordingly, the pattern of the insulating film on the bottom surface of the metal cap 1 is in a state as shown in FIG. Care must be taken so that a region where such an insulating film is not formed does not overlap with a region in contact with the terminal region.

【0036】図11は、本発明に従う第3の実施形態に
おける絶縁膜形成方法を示す断面図である。本実施形態
では、金属板などからなる導電性支持板36の上に、金
属などの導電部材からなるバネ状部材37を設け、この
バネ状部材37に挟み込むように金属キャップ1を押し
込み支持する。金属キャップ1は、バネ状部材37を介
して導電性支持板36と電気的に導通している。従っ
て、導電性支持板36を陰極または陽極とすることによ
り、金属キャップ1を陰極または陽極とすることができ
る。
FIG. 11 is a sectional view showing a method of forming an insulating film in a third embodiment according to the present invention. In this embodiment, a spring-like member 37 made of a conductive material such as metal is provided on a conductive support plate 36 made of a metal plate or the like, and the metal cap 1 is pushed and supported so as to be sandwiched between the spring-like members 37. The metal cap 1 is electrically connected to the conductive support plate 36 via the spring member 37. Therefore, by using the conductive support plate 36 as a cathode or an anode, the metal cap 1 can be used as a cathode or an anode.

【0037】このような支持状態で、電着塗料中に浸漬
し、金属キャップ1を陰極または陽極とすることによ
り、金属キャップ1の露出した表面上に電着塗膜からな
る絶縁膜を形成することができる。本実施形態によれ
ば、バネ状部材37と金属キャップ1が接している部分
以外の金属キャップ1の表面上に絶縁膜を形成すること
ができる。
In such a supported state, the metal cap 1 is immersed in an electrodeposition paint, and the metal cap 1 is used as a cathode or an anode, so that an insulating film made of an electrodeposition coating film is formed on the exposed surface of the metal cap 1. be able to. According to the present embodiment, an insulating film can be formed on the surface of the metal cap 1 other than the portion where the spring-like member 37 and the metal cap 1 are in contact.

【0038】以上のように、本発明によれば、キャップ
形状に成形された状態で絶縁膜を形成することができ
る。従って、従来のように絶縁膜を形成した後曲げ加工
等を施す必要がなく、端子電極と接する箇所の表面に良
好な絶縁膜を形成することができる。
As described above, according to the present invention, an insulating film can be formed in a state of being formed into a cap shape. Therefore, it is not necessary to perform bending or the like after forming the insulating film as in the related art, and a good insulating film can be formed on the surface in contact with the terminal electrode.

【0039】以上の実施例においては、素子を搭載する
基板として誘電体基板などの基板を例にして説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば絶
縁性基板などを用いてもよい。
In the above embodiments, a substrate such as a dielectric substrate has been described as an example of a substrate on which elements are mounted. However, the present invention is not limited to this. Is also good.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明の絶縁膜形成方法によれば、キャ
ップ形状に成形された状態で絶縁膜を容易に形成するこ
とができる。従って、端子電極と接する箇所の表面に良
好な絶縁膜を形成することができる。このような金属キ
ャップは、そのまま接着剤等を用いて基板上に取り付け
ることができるので、低背化可能な電子部品を効率良く
製造することができる。
According to the method for forming an insulating film of the present invention, the insulating film can be easily formed in a state of being formed into a cap shape. Therefore, a good insulating film can be formed on the surface of the portion in contact with the terminal electrode. Since such a metal cap can be directly attached to a substrate using an adhesive or the like, an electronic component whose height can be reduced can be efficiently manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に従い形成された絶縁膜を有する金属キ
ャップを用いた電子部品の一例を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an electronic component using a metal cap having an insulating film formed according to the present invention.

【図2】本発明に従う一実施例の金属キャップを示す図
であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示すA−A
線に沿う断面図、(c)は底面図。
FIGS. 2A and 2B are views showing a metal cap according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 2A is a perspective view and FIG.
Sectional drawing along a line, (c) is a bottom view.

【図3】本発明に従う他の実施例の金属キャップを示す
図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示すA−
A線に沿う断面図、(c)は底面図。
3A and 3B are views showing a metal cap of another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 3A is a perspective view, and FIG.
Sectional drawing along line A, (c) is a bottom view.

【図4】本発明に従うさらに他の実施例の金属キャップ
を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示
すA−A線に沿う断面図、(c)は底面図。
4A and 4B are diagrams showing a metal cap of still another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 4A is a perspective view, FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line AA shown in FIG. Bottom view.

【図5】本発明に従うさらに他の実施例の金属キャップ
を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示
すA−A線に沿う断面図、(c)は底面図。
5A and 5B are views showing a metal cap of still another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 5A is a perspective view, FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. Bottom view.

【図6】本発明に従うさらに他の実施例の金属キャップ
を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示
すA−A線に沿う断面図、(c)は底面図。
FIGS. 6A and 6B are views showing a metal cap of still another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 6A is a perspective view, FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. Bottom view.

【図7】本発明に従う好ましい実施形態の1つにおける
金属キャップの支持状態を示す正面図。
FIG. 7 is a front view showing a support state of the metal cap in one of the preferred embodiments according to the present invention.

【図8】図7に示す金属キャップの支持状態を示す断面
図。
FIG. 8 is a sectional view showing a support state of the metal cap shown in FIG. 7;

【図9】本発明に従う他の好ましい実施形態における金
属キャップの支持状態を示す正面図。
FIG. 9 is a front view showing a support state of a metal cap in another preferred embodiment according to the present invention.

【図10】図9に示す金属キャップの支持状態を示す断
面図。
FIG. 10 is a sectional view showing a support state of the metal cap shown in FIG. 9;

【図11】本発明に従うさらに他の好ましい実施形態に
おける金属キャップの支持状態を示す断面図。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a support state of a metal cap in still another preferred embodiment according to the present invention.

【図12】従来の電子部品の一例を示す断面図。FIG. 12 is a sectional view showing an example of a conventional electronic component.

【図13】従来の電子部品の他の例を示す斜視図。FIG. 13 is a perspective view showing another example of a conventional electronic component.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…金属キャップ 2…絶縁膜 10…基板 11〜13…端子電極 20…素子 21,22…半田 30,33…導電性支持板 31,34…導電性両面テープ 32,35…保持具 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal cap 2 ... Insulating film 10 ... Substrate 11-13 ... Terminal electrode 20 ... Element 21, 22 ... Solder 30, 33 ... Conductive support plate 31, 34 ... Conductive double-sided tape 32, 35 ... Holder

フロントページの続き (72)発明者 川端 章一 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5F058 AA10 AB05 AD01 AF10 AH10 BA20 BB05 BF42 BF80 BJ10Continued on the front page (72) Inventor Shoichi Kawabata 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto F-term in Murata Manufacturing Co., Ltd. (reference) 5F058 AA10 AB05 AD01 AF10 AH10 BA20 BB05 BF42 BF80 BJ10

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 端子電極が形成された基板表面上に搭載
された素子を覆い封止するため前記基板表面上に取り付
けられる電子部品封止用金属キャップの表面に、前記端
子電極と前記金属キャップとの間を電気的に絶縁するた
めの絶縁膜を形成する方法であって、 前記金属キャップの表面上に電着塗装により絶縁膜を形
成することを特徴とする金属キャップの絶縁膜形成方
法。
The terminal electrode and the metal cap are provided on a surface of a metal cap for electronic component sealing mounted on the substrate surface to cover and seal an element mounted on the substrate surface on which the terminal electrode is formed. A method for forming an insulating film for electrically insulating between the metal cap and the metal cap, wherein an insulating film is formed on the surface of the metal cap by electrodeposition coating.
【請求項2】 導電性支持板の上に導電性両面テープを
貼り付け、該導電性両面テープの上に金属キャップを貼
り付け電気的に導通させた状態で支持し、電着塗装を行
うことを特徴とする請求項1に記載の金属キャップの絶
縁膜形成方法。
2. A method in which a conductive double-sided tape is stuck on a conductive support plate, a metal cap is stuck on the conductive double-sided tape, and the conductive double-sided tape is supported in an electrically conductive state. The method for forming an insulating film of a metal cap according to claim 1, wherein:
【請求項3】 金属キャップを治具で保持し電気的に導
通させた状態で電着塗装を行うことを特徴とする請求項
1に記載の金属キャップの絶縁膜形成方法。
3. The method for forming an insulating film on a metal cap according to claim 1, wherein the electrodeposition coating is performed while the metal cap is held by a jig and is electrically connected.
【請求項4】 端子電極が形成された基板表面上に搭載
された素子を覆い封止するため前記基板表面上に取り付
けられる電子部品封止用金属キャップであって、 少なくとも前記端子電極と接する箇所の表面に、電着塗
装による絶縁膜が形成されていることを特徴とする電子
部品封止用金属キャップ。
4. A metal cap for sealing an electronic component mounted on a surface of a substrate for covering and sealing an element mounted on the surface of the substrate on which the terminal electrode is formed, at least a portion in contact with the terminal electrode. A metal cap for sealing electronic parts, characterized in that an insulating film is formed on the surface of the substrate by electrodeposition coating.
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