JP2001048549A

JP2001048549A - 製品の製造方法

Info

Publication number: JP2001048549A
Application number: JP2000179741A
Authority: JP
Inventors: Michael J Cauda; ジェー．コーダミッチェル; Ralph E Taylor-Smith; イー．テイラースミスラルフ; Jorge L Valdes; ルイスバルデスジョージ
Original assignee: Lucent Technologies Inc
Current assignee: Nokia of America Corp
Priority date: 1999-06-17
Filing date: 2000-06-15
Publication date: 2001-02-20
Also published as: EP1061050A1

Abstract

(57)【要約】【課題】米国特許第５，２４０，４８８号公報に記載
された方法を更に改良した新規な方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、代表的なゾル・ゲル形
成に必要な過酷な方法よりも遙かに穏やかな焼去方法に
よりゾル・ゲル体内の低炭素濃度を達成できる。オーバ
ークラッドチューブのような有用なシリカ体は、高分子
量バインダに対して低分子量（＜２０００）有機界面活
性剤を含有するゾルから形成される。界面活性剤は前記
バインダと同じ目的に使用されるが、低分子量界面活性
剤は加熱により簡単に除去される。従って、界面活性剤
が高分子量ポリマー添加剤の使用量と同じ重量比で使用
されたとしても、界面活性剤は非常に容易に除去するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はゾル・ゲル加工方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】ガラス光ファイバは、通常、内部クラッ
ドと芯（コア）とを囲むオーバークラッドを含む固体プ
レフォームから引き抜き加工する。オーバークラッドチ
ューブは一般に内部クラッドおよび芯とは別個に形成さ
れ、次に構成要素をまとめてプレフォームを作成する。
オーバークラッドは芯および内部クラッドの厳しい純度
および均一性の仕様に適合する必要がなく、したがっ
て、光ファイバ製造プロセスの費用を下げるための努力
の一部は、オーバークラッドに集中している。このよう
な努力の結果、ゾル・ゲル方法を用いてオーバークラッ
ドチューブを形成している。

【０００３】米国特許第５，２４０，４８８号は、オー
バークラッドチューブを生産するためのゾル・ゲル方法
を開示している。この特許方法では、水性コロイド・シ
リカ分散液を使用する。分散液は、通常、水酸化テトラ
メチルアンモニア（ＴＭＡＨ）などの塩基を添加して安
定させる。ＴＭＡＨは、以下のメカニズムによってシリ
カ粒子を安定化すると考えられている。つまり、ＴＭＡ
Ｈ溶液をシリカ分散液に導入すると、ｐＨ値が上昇す
る。次に、シリカは、下式の反応に従って表面に存在す
るシラノール基のイオン化によりマイナスの表面電荷を
帯びる。−Ｓｉ−ＯＨ＋ＯＨ^-⇒Ｓｉ−Ｏ^-＋Ｈ₂Ｏシリ
カ粒子上のマイナス電荷は相互反発力を生成して、実質
的な凝集を防止し、分散の安定を維持する。約１１〜１
４のｐＨ値が必要と指摘されている。

【０００４】米国特許第５，２４０，４８８号公報の第
１５欄３９〜６５行に記載されているように、この特許
方法では、その後の段階で、蟻酸メチルなどのゲル化剤
を添加してｐＨを下げる。蟻酸メチルは、水および／ま
たは塩基との反応を通して、マイナスに帯電したシリカ
を、ゲル化が誘発される程度まで中和させる。つまりゼ
ータ電位をほぼゼロまで下げる。（ゼータ電位とは、帯
電したコロイド粒子を囲むイオンの拡散層前後の電位差
であり、通常は電気泳動易動度、つまりコロイド粒子が
溶液中に配置した帯電電極間を移動する速度から測定す
る。マイナスまたはプラスのゼータ電位は、粒子間の多
少の反発を示す。ここで使用される“ゲル化”という用
語は、コロイド状シリカ粒子が、少量の間入性液体と共
に３次元網状構造を形成することを意味する。このよう
な３次元網状構造の存在は一般的に、分散液が概ね非流
動性になるとき、例えば、室温で固体様の挙動を示すよ
うになるときに、示される。）

【０００５】米国特許第５，２４０，４８８号によれ
ば、主に、バインダと呼ばれる高分子量添加剤を配合す
ることを伴うような方法により、大型でクラックの無い
シリカ体を製造することができる。前記特許公報に記載
されるように、高分子量バインダは好都合な多数の特性
を有する。特に、代表的なバインダの分子量は１０，０
００〜１００，０００である。クラックの無いシリカ体
の製造に有効な高分子量添加剤の一例として、ポリエチ
ルオキサゾリンが挙げられている。

【０００６】米国特許第５，２４０，４８８号の方法に
よれば、様々な用途に有用なシリカ体を製造することが
できるが、特に光ファイバプリフォーム用のオーバーク
ラッドチューブの製造に有用なシリカ体を製造すること
ができる。しかし、更に優れたゾル・ゲル法の開発が強
く求められている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は米国特許第５，２４０，４８８号公報に記載された方
法を更に改良した新規な方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題は、米国特許第
５，２４０，４８８号公報に記載された高分子量バイン
ダの代わりに、低分子量界面活性剤を使用することから
なるゾル・ゲル法により解決される。

【０００９】光ファイバ製造の進歩に基づき、光ファイ
バプリフォーム内の炭素濃度は極めて低い値に維持する
ことが望ましいことが発見された。米国特許第５，２４
０，４８８号公報の第１６欄、３９〜４５頁に記載され
ているように、ゾル・ゲル法では、熱分解による有機物
除去が現に行われている。標準的な有機物焼去方法は、
主に、高分子量（＞１０，０００）ポリマーの除去の困
難性のために、所望の炭素濃度に常に十分に達している
とは言えない。更に、一層過酷な除去方法（例えば、長
時間及び／又は高温度による除去）は、時間及びエネル
ギーが付随的に増大するために、処理効率が著しく低下
する傾向があり、その結果、製造コストの増大をもたら
す。しかし、前記特許におけるような高分子量添加剤の
使用無しに、オーバークラッドチューブに好適なクラッ
クの無い大型のシリカ体を製造することは実質的に不可
能である。

【００１０】しかし、本発明によればこれらの問題点を
解決することができ、代表的なゾル・ゲル法で必要とさ
れてきた焼去法よりも過酷度の低い焼去法により、低炭
素濃度要件（例えば、質量基準で３００ｐｐｍ未満）を
達成することができる。本発明によれば、少なくとも１
ｋｇの例えば、オーバークラッドチューブの有用なシリ
カ体を、高分子量バインダと異なり、低分子量（＜２０
００）有機界面活性剤を含有するゾルから製造すること
ができる。界面活性剤は前記のようなバインダと同じ目
的で使用されるものと思われるが、低分子量の界面活性
剤は一層低い温度で分解され、その結果、加熱により容
易に除去される。従って、界面活性剤が、高分子量のポ
リマー添加剤について使用される重量比と同等の重量比
で存在しているとしても、界面活性剤は非常に簡単に除
去され、その結果、低コストな製造方法が得られる。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明はシリカ光ファイバのよう
な製品の製造を企図する。本発明の方法は、シリカゾル
を供給するステップと、該ゾルをゲル体にゲル化させる
ステップと、該ゲル体を焼結するステップとからなる。
シリカゾルは分子量が２０００未満、場合により１００
０未満の有機界面活性剤を含有するが、このゾルは分子
量が１０，０００超の有機高分子量物質は殆ど含有しな
い。（「界面活性剤」は両親媒性の界面活性剤を意味す
る。「有機物」は炭素系化合物を意味する。「殆ど含有
しない」とは測定可能量ではないことを意味する。）

【００１２】本発明の基本的ステップは、前記の米国特
許第５，２４０，４８８号公報に記載されたステップと
類似している。従って、本発明の或る実施態様によれ
ば、安定化されたシリカ水性分散液又はゾルが供給され
る。このゾルは一般的に、約３０wt％〜約７５wt％、好
ましくは約４０wt％〜約６５wt％のシリカを含有する。
このシリカの表面積は一般的に、５〜１００ｍ²／ｇの
範囲内である。この分散液は常用の方法により、一般的
に、約１０〜約１３のｐＨ値で安定化されている。安定
化は一般的に、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭ
ＡＨ）を添加することによりもたらされるが、その他の
水酸化テトラアルキルアンモニウム類又はアミン類も好
適である。

【００１３】本発明によれば、シリカゾルは分子量が２
０００未満の有機界面活性剤を含有する。界面活性剤
は、ゲル体の乾燥中にゲル体にクラックが発生しないよ
うにする。一般的に、界面活性剤は、ゾルの重量を基準
にして、約５wt％以下の量でゾル内に存在する。

【００１４】一般的に、有機界面活性剤は非イオン界面
活性剤である。非金属カチオン界面活性剤（すなわち、
カチオンがアルカリ金属又はアルカリ土類金属ではない
界面活性剤）も使用できる。このようなカチオン界面活
性剤は例えば、カチオンが第４アンモニウムである化合
物である。有用な界面活性剤は例えば、 (1)下記の化１で示されるポリオキシエチレンソルビタ
ンエステル類（ICI Surfactants社によりTween（登録商
標）系界面活性剤として市販されている。）

【化１】（式中、Ｒはラウリン酸エステル、パルミチン酸エステ
ル、ステアリン酸エステル又はオレイン酸エステルのよ
うな基である。）具体例としては、モノラウリン酸ポリ
オキシエチレン(20)ソルビタン（Tween20）、モノパル
ミチン酸ポリオキシエチレン(20)ソルビタン（Tween4
0）、モノステアリン酸ポリオキシエチレン(20)ソルビ
タン（Tween60）、モノオレイン酸ポリオキシエチレン
(20)ソルビタン（Tween85）などである。 (2)下記の化２で示されるソルビタン脂肪酸エステル類
（ICI Surfactants社によりSpan（登録商標）系界面活
性剤として市販されている。）

【化２】（式中、Ｒはラウリン酸エステル、パルミチン酸エステ
ル、ステアリン酸エステル又はオレイン酸エステルのよ
うな基である。）具体例としては、モノラウリン酸ソル
ビタン（Span20）、モノパルミチン酸ソルビタン（Span
40）、モノステアリン酸ソルビタン（Span60）、モノオ
レイン酸ソルビタン（Span80）、セスキオレイン酸ソル
ビタン（Span83）などである。 (3)ポリオキシエチレンアルコール類（ICI Surfactants
社によりBrij（登録商標）系界面活性剤として市販され
ている。）例えば、Ｃ₁₂Ｈ₂₅（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₄ＯＨ（ポリオキシエチレン
(4)ラウリルエーテル：Brij30）；Ｃ₁₆Ｈ₃₃（ＯＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂）₁₀ＯＨ（ポリオキシエチレン(10)セチルエーテ
ル：Brij56）；Ｃ₁₈Ｈ₃₇（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₂ＯＨ（ポリ
オキシエチレン(2)ステアリルエーテル：Brij72）；Ｃ
₁₈Ｈ₃₅（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₂ＯＨ（ポリオキシエチレン(2)
オレイルエーテル：Brij92）；Ｃ₁₈Ｈ₃₅（ＯＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂）₂₀ＯＨ（ポリオキシエチレン(20)オレイルエーテ
ル：Brij98）などである。 (4)アルキル置換フェニルエーテル-ポリエチレンオキシ
ドエタノール（ICI Surfactants社によりIgepal（登録
商標）系界面活性剤として市販されている。） (5)ホスフェートエステル類（Rhodia社によりRhodafac
（登録商標）系界面活性剤として市販されている。）例
えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルホス
フェートなどである。

【００１５】前記に列挙した特定の化合物の使用例は下
記の実施例で詳細に説明する。代表的な界面活性剤は炭
素、水素、酸素及び／又は窒素を含有する。しかし、同
様な特性を付与し、また、場合により追加元素を含有す
るその他の界面活性剤も有用である。

【００１６】界面活性剤の他、追加の有機化合物を含有
することもできる。但し、このような化合物は分子量が
１０，０００以下でなければならない。このような化合
物は、前記の米国特許第５，２４０，４８８号公報の第
１５欄に記載されているような表面改質剤である。好適
な表面改質剤の一例はグリセリンである。空気の取り込
みを減少させるための消泡剤も含有できる。このような
消泡剤は例えば、２−オクタノールである。

【００１７】ゾルは一般的に、シリカを十分に溶解させ
るために、約２０時間以下の期間の間、熟成され、そし
て、場合により、遠心分離して夾雑物を除去する。界面
活性剤又はその他の添加剤の投入前及び／又はこのよう
な添加剤を投入後に、ゾルを熟成し又は遠心分離するこ
ともできる。

【００１８】前記のように、ゲル化剤は、ゾルのｐＨを
ゲル化点にまで低下させるために、ゾルに添加される。
ゲル化剤は一般的に、水溶性の液体であり、加水分解さ
れて塩基（例えば、エステル、アミド又はハロゲン化
物）を消費し、それにより、ｐＨを低下させる。従っ
て、ゲル化剤は陰電荷を帯びたシリカを、ゲル化が生じ
る度合いにまで中和する。すなわち、ゼータ電位をほぼ
ゼロにまで低下する。代表的なゲル化剤は蟻酸メチルで
ある。

【００１９】前記の製造ステップの他に、本発明のゾル
を様々なゾル・ゲル製造法（例えば、異なる安定化及び
／又はゲル化方法又は化合物あるいは異なる添加剤を使
用する方法）と共に併用することもできる。

【００２０】ゲル化剤を添加した後、分散液は一般的
に、モールド又はエクストルーダに移され、そこでゲル
化される。一般的に、ゲル化は１時間未満の期間にわた
って起こる。ゲル体がモールド成形される場合、ゲルは
一般的に、モールド内で約２４時間以下にわたって熟成
される。押出成形の場合、ゲルは一般的に、数時間以下
の期間、熟成される。この熟成により、粒子の望ましい
再配置が行われ、その結果、良好なパッキング、粒子の
周囲の若干の液体の放逐及びモールド内におけるゲルの
付随的収縮（シネレシスと呼ばれる現象）が生じる。シ
ネレシスは強度を高め、そして、収縮により、モールド
からの取り出しが容易になる。熟成させたら、ゲル体を
モールドから取り出すか、又は所望の形状に押し出す。
その後、水分が少なくとも約９０wt％除去されるまで、
ゲル体を一般的に、比較的穏やかな条件（例えば、４０
℃未満の温度及び５０％超の相対湿度）下で乾燥させ
る。

【００２１】乾燥後、ゲル体を米国特許第５，２４０，
４８８号公報に記載されるように加熱処理する。加熱処
理の第１段階は一般的に、水を除去し、そして、存在す
る有機物を焼去する。加熱処理の第２段階は一般的に、
脱ヒドロキシル化であり、残留している水を除去する。
その後、通常、このゲル体を焼結し、収縮シリカ体を生
成する。（焼去、脱ヒドロキシル化及び焼結を含む工程
は一般的に、熱処理と呼ばれる。）下記の実施例で行わ
れる熱重量分析で示されるように、本発明の低分子量界
面活性剤は、米国特許第５，２４０，４８８号公報に記
載されるポエチルオキサゾリンポリマー添加剤のような
高分子量物質よりも、焼去されやすい。従って、常用の
方法に比べて、穏やかな加熱処理により、残留有機物を
所望のレベルにまで低下させることができる。

【００２２】本発明の方法は光ファイバの製造に有用で
ある。特に、前記の米国特許第５，２４０，４８８号公
報に記載されるような、光ファイバプリフォーム用のオ
ーバークラッドチューブ又はサブストレートチューブで
あるようなゲル体であることができる。最終プリフォー
ムを得るために、オーバークラッドチューブは一般的
に、コアロッド上に配置され、これらを加熱し、そし
て、米国特許第４，７７５，４０１号公報に記載された
ような、固体の一体化プリフォームにコラプスされる。

【００２３】コアロッドは当業者に公知の様々な気相成
長法により製造される。このような気相成長法は例え
ば、軸付け法(VAD法)、外付け法(OVD法)及び内付け法(M
CVD法)などである。MCVD法は米国特許第４２１７０２７
号明細書、同第４２６２０３５号明細書及び同第４９０
９８１６号明細書に開示されている。MCVD法は、高純度
ガス（例えば、シリコンとゲルマニウムとを含む混合ガ
ス）をシリカチューブ（サブストレートチューブと呼ば
れる）の内側に通すことからなる。この際、このサブス
トレートチューブの外側を左右移動式の酸水素トーチで
加熱し続ける。このチューブの被加熱領域では、気相反
応が生起し、管壁に粒子が堆積する。酸水素トーチの前
方に生成する堆積物は、堆積物上をトーチが通過するに
つれて、焼結される。この処理は、必要な品質のシリカ
及び／又はゲルマニウムがドープされたシリカが堆積さ
れるまで、連続的に繰り返される。堆積が完了したら、
この堆積物体を加熱し、サブストレートチューブをコラ
プス(collapse)させ、合体されたコアロッドを得る。こ
のコアロッドでは、サブストレートチューブは内側クラ
ッド材料の外側部分を構成する。

【００２４】その後、このプリフォームを線引用加熱炉
内に配置し、そして、光ファイバを当業者に公知の方法
により線引きする。

【００２５】この明細書に記載した本発明の方法を応用
することにより、その他の製品（例えば、平面状導波
路）を製造することもできる。

【００２６】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に例証
する。実施例１ Tween20及びBrij30の２種類の界面活性剤を用いて、直
径が約４インチのオーバークラッドチューブを製造し
た。

【００２７】次のようにしてオーバークラッドチューブ
を製造した。ゾルは次の組成に従って製造した。 (1)約９．９のｐＨ値をもたらすために十分な水酸化テ
トラメチルアンモニウム(TMAH)を含有する４６wt％の水
性シリカ分散液１１００ｇ、(2)グリセリン５．５ｇ、
(3)２５wt％のTMAH水溶液５２．８g、及び(4)（ゾル全
体の重量を基準にして）１wt％の界面活性剤。

【００２８】ゾルを高剪断ミキサー内で１０分間金剛
し、そして、４℃で１晩熟成させた。その後、ゾルを遠
心分離し、不純物を除去し、濾過し、そして、その後、
脱気した。このゾルに、(a)ゾル１０ｋｇ当たり１００
ｇの蟻酸メチルと、(b)蟻酸メチル１００ｇ当たり１
１．６ｇの２−オクタノールからなるゲル化剤を添加し
た。ゲル化剤を添加した後、得られた混合物を磁気攪拌
装置で１分間混合した。その後、この混合物を金型（モ
ールド）内に注入した。

【００２９】２４時間経過後、オーバークラッドチュー
ブを水中に放出した。各界面活性剤について、モールド
は若干のシネレシスを示し、モールドからの良好な離型
性を有し、クラックの無い優れた品質を有し、全く問題
無くモールドから取り出された。

【００３０】米国特許第５２４０４８８号公報に記載さ
れるように、常法通りに乾燥し、脱ヒドロキル化し、そ
して焼結した後、オーバークラッドチューブは明澄なガ
ラス状を示し、そして、クラックは全く存在しなかっ
た。

【００３１】実施例２常用の熱重量分析を行い、高分子量ポリエチルオキサゾ
リンポリマーバインダと比較して、低分子量界面活性剤
Tween20（分子量１２２８）及びBrij30（分子量３６
２）の熱誘発性分解性を評価した。分析結果を図１に示
す。図１に示された結果から明らかなように、低分子量
界面活性剤は易分解性である。これらの結果から、常用
の技術よりも低い温度で焼去すると、所望の低炭素濃度
に容易に達することができることが理解できる。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
オーバークラッドチューブに好適なクラックの無い大型
のシリカ体を製造することができる。本発明によれば、
代表的なゾル・ゲル法で必要とされてきた焼去法よりも
過酷度の低い焼去法により、低炭素濃度要件（例えば、
質量基準で３００ｐｐｍ未満）を達成することができ
る。本発明によれば、少なくとも１ｋｇの例えば、オー
バークラッドチューブの有用なシリカ体を、高分子量バ
インダと異なり、低分子量（＜２０００）有機界面活性
剤を含有するゾルから製造することができる。界面活性
剤は前記のようなバインダと同じ目的で使用されるもの
と思われるが、低分子量の界面活性剤は一層低い温度で
分解され、その結果、加熱により容易に除去される。従
って、界面活性剤が、高分子量のポリマー添加剤につい
て使用される重量比と同等の重量比で存在しているとし
ても、界面活性剤は非常に簡単に除去され、その結果、
低コストなオーバークラッドチューブ製造方法が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の低分子量界面活性剤の分解性に対する
高分子量バインダの分解性の熱重量分析の結果を示す特
性図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 596077259 600 ＭｏｕｎｔａｉｎＡｖｅｎｕｅ, ＭｕｒｒａｙＨｉｌｌ，ＮｅｗＪｅｒｓｅｙ 07974−0636Ｕ．Ｓ．Ａ. (72)発明者ミッチェルジェー．コーダアメリカ合衆国、07446 ニュージャージー、ラムゼー、サウスセントラルアベニュー 90 (72)発明者ラルフイー．テイラースミスアメリカ合衆国、08812 ニュージャージー、ドゥネレン、ファーストストリート 819 (72)発明者ジョージルイスバルデスアメリカ合衆国、07921 ニュージャージー、ブランチバーグ、タングルウッドドライブ 162

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】 (a)分子量が２０００未満の有機界面活
性剤を含有するシリカゾルを供給するステップと、ここで、前記ゾルは分子量が１００００以上の有機高分
子物質を殆ど含有しない、 (b)該ゾルのゲル化を誘発し、ゲル体を形成するステッ
プと、 (c)該ゲル体に対して熱処理を行うステップとからな
り、ここで、前記熱処理は前記ゲル体を焼結してガラス化さ
せるステップを包含する、ことを特徴とする製品の製造
方法。
【請求項２】前記有機界面活性剤の分子量は１０００
未満である、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】前記有機界面活性剤は非イオン界面活性
剤である、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】前記有機界面活性剤は非金属カチオン界
面活性剤である、ことを特徴とする請求項１に記載の方
法。
【請求項５】前記界面活性剤は約５wt％以下の配合量
で前記ゾル中に存在している、ことを特徴とする請求項
１に記載の方法。
【請求項６】前記界面活性剤は、ポリオキシエチレン
ソルビタンエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類及
びポリオキシエチレンアルコール類からなる群から選択
される１種類以上の化合物からなる、ことを特徴とする
請求項１に記載の方法。
【請求項７】前記界面活性剤は、炭素、酸素及び水素
原子からなる、ことを特徴とする請求項１に記載の方
法。
【請求項８】前記界面活性剤は、炭素、酸素、水素及
び窒素原子からなる、ことを特徴とする請求項１に記載
の方法。
【請求項９】前記ゾルは、安定化剤、表面改質剤及び
消泡剤からなる群から選択される１種類以上の化合物を
更に含有する、ことを特徴とする請求項１に記載の方
法。
【請求項１０】前記安定化剤は、水酸化テトラメチル
アンモニム及び水酸化テトラエチルアンモニムのうちの
少なくとも一方からなる、ことを特徴とする請求項９に
記載の方法。
【請求項１１】前記表面改質剤はグリセリンからな
る、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】前記消泡剤は２−オクタノールからな
る、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】前記焼結ゲル体はオーバークラッドチ
ューブである、ことを特徴とする請求項１に記載の方
法。
【請求項１４】 (d)オーバークラッドチューブからな
る光ファイバプリフォームを形成するステップと、(e)
前記プリフォームから光ファイバを線引きするステップ
とを更に有する、ことを特徴とする請求項１３に記載の
方法。
【請求項１５】前記焼結ゲル体は平面状導波路からな
る、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】前記焼結ゲル体の重量は少なくとも１
ｋｇである、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。