JP2001044286A5 - インターフェースの設計方法 - Google Patents

Description

【００１０】
【課題を解決するための手段】

【００８４】
【発明の効果】

Claims (13)

1. 複数のアプリケーションの各々に対してその動作モデルとなる複数のライブラリを記憶したデータベースを用いて、半導体集積回路の制御機能部と複数のアプリケーションとを接続するためのインターフェースを設計する方法であって、
   上記複数のアプリケーションの動作モデルとして上記複数のライブラリを順次用い、
   上記各ライブラリについて、上記制御機能部により各アプリケーションを無制限に動作させる動作シミュレーションを行なって、バストランザクションの衝突回数を解析することを特徴とするインターフェースの設計方法。
2. 請求項１記載のインターフェースの設計方法において、
   各アプリケーション同士の間に上記トランザクションの衝突回数に応じた段数のＦＩＦＯを生成し、ＦＩＦＯを仮挿入した状態で上記解析を行なうことを特徴とするインターフェースの設計方法。
3. 複数のアプリケーションの各々に対してその動作モデルとなる複数のライブラリを記憶したデータベースを用いて、半導体集積回路の制御機能部と複数のアプリケーションとを接続するためのインターフェースを設計する方法であって、
   上記複数のアプリケーションの動作モデルとして上記複数のライブラリを順次用い、
   上記各ライブラリについて、上記制御機能部により各アプリケーションを無制限に動作させる動作シミュレーションを行なって、同時命令処理の回数を解析することを特徴とするインターフェースの設計方法。
4. 請求項３記載のインターフェースの設計方法において、
   上記同時命令数に応じてクロスバスの構成を決定することを特徴とするインターフェースの設計方法。
5. 請求項４記載のインターフェースの設計方法において、
   さらに、上記同時命令数が所定値以上であるバスに配置するための転送動作の制御機能部を生成し、転送動作の制御機能部を配置した状態で上記解析を行なうことを特徴とするインターフェースの設計方法。
6. 複数のアプリケーション及び複数のバス構造の各々に対してその動作モデルとなる複数のライブラリを記憶したデータベースを用いて、半導体集積回路の制御機能部と複数のアプリケーションとを接続するためのインターフェースを設計する方法であって、
   上記半導体集積回路の価値を最終的に評価するための複数の主パラメータを設定し、上記主パラメータに対して影響を与える複数の副パラメータを設定するステップ（ａ）と、
   上記各主パラメータごとに、各ライブラリの副パラメータによって主パラメータを評価して、主パラメータの目標値を満たすライブラリ群を選び出すステップ（ｂ）と、
   上記選び出されたライブラリ群ごとに定まる複数の主パラメータを評価して、最適なライブラリ群を選ぶことにより、インターフェースを決定するステップ（ｃ）と
   を含むインターフェースの設計方法。
7. 請求項６記載のインターフェースの設計方法において、
   上記ステップ（ａ）の前に、上記複数のアプリケーションの動作モデルとして上記複数のライブラリを順次用いて、上記各ライブラリについての動作シミュレーションを行なうことにより、上記各ライブラリの副パラメータを解析するステップをさらに含むことを特徴とするインターフェースの設計方法。
8. 請求項６又は７記載のインターフェース設計方法において、
   上記ステップ（ａ）では、３つの主パラメータを設定し、各主パラメータごとに３つの副パラメータを設定して、
   上記ステップ（ｂ）では、３つの副パラメータを座標軸とする３次元座標系を構成して、各副パラメータの値によって定まる３角形の面積が目標値以下のライブラリ群を選び出し、
   上記ステップ（ｃ）では、３つの主パラメータを座標軸とする３次元座標系を構成して、選び出されたライブラリ群から求まる主パラメータの値によって定まる３角形の面積が最小のライブラリ群からインターフェースを決定することを特徴とするインターフェースの設計方法。
9. 請求項６又は７記載のインターフェースの設計方法において、
   上記ステップ（ａ）の後ステップ（ｂ）の前に、上記複数の副パラメータのうち特定の副パラメータに着目して、特定の副パラメータが目標値を満たしているライブラリ群を選び出し、
   上記ステップ（ｂ）では、上記複数の主パラメータのうち特定の主パラメータを除く主パラメータが目標値を満たしているライブラリ群を選び出し、
   上記ステップ（ｃ）では、上記特定の主パラメータが最小となるライブラリ群を最適なライブラリ群として選び出すことを特徴とするインターフェースの設計方法。
10. 請求項６又は７記載のインターフェース設計方法において、
    上記ステップ（ａ）では、主パラメータに対する複数の副パラメータの影響係数を設定し、
    上記ステップ（ｂ）では、影響係数と副パラメータの値とに基づいて各主パラメータの目標値を満たすライブラリ群を選び出し、
    上記ステップ（ｂ）では、選び出されたライブラリ群から求まる複数の主パラメータに重み付けを行なってから、ライブラリ群を決定するための演算を行なうことを特徴とするインターフェースの設計方法。
11. 複数のアプリケーション及び複数のバス構造の各々に対してその動作モデルとなる複数のライブラリを記憶したデータベースを用いて、半導体集積回路の制御機能部と複数のアプリケーションとを接続するためのインターフェースを設計する方法であって、
    上記複数のアプリケーションの動作モデルとして上記複数のライブラリを順次選択するステップ（ａ）と、
    上記制御機能部により上記各アプリケーションを動作させて、各ライブラリを用いたときの制御機能部，インターフェース及びアプリケーションの性能を解析するステップ（ｂ）と、
    上記ステップ（ａ）とステップ（ｂ）とを繰り返し行なって、上記解析結果に基づいて最適なライブラリ群を選ぶことにより、インターフェースを決定するステップ（ｃ）と、
    上記決定されたパラメータに基づいて最適なインターフェースを合成するステップ（ｄ）と
    を含むインターフェースの設計方法。
12. 請求項１１記載のインターフェースの設計方法において、
    上記ステップ（ｂ）では、上記各ライブラリについて、上記制御機能部により各アプリケーションを無制限に動作させたときのバストランザクションの衝突回数を解析し、
    上記ステップ（ｄ）では、各アプリケーション同士の間に上記トランザクションの衝突回数に応じた段数のＦＩＦＯを挿入することを特徴とするインターフェースの設計方法。
13. 請求項１１記載のインターフェースの設計方法において、
    上記ステップ（ｂ）では、上記各ライブラリについて、上記制御機能部により各アプリケーションを無制限に動作させたときの同時命令処理の回数を解析し、
    上記ステップ（ｄ）では、上記同時命令数が所定値以上であるバスにはクロスバスを配置することを特徴とするインターフェースの設計方法。