JP2001044135A5 - 光学レンズ、ビームホモジェナイザー、レーザー照射装置、及びレーザー照射方法 - Google Patents
光学レンズ、ビームホモジェナイザー、レーザー照射装置、及びレーザー照射方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001044135A5 JP2001044135A5 JP1999199653A JP19965399A JP2001044135A5 JP 2001044135 A5 JP2001044135 A5 JP 2001044135A5 JP 1999199653 A JP1999199653 A JP 1999199653A JP 19965399 A JP19965399 A JP 19965399A JP 2001044135 A5 JP2001044135 A5 JP 2001044135A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser irradiation
- cylindrical lens
- lens
- optical lens
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical Effects 0.000 title description 14
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べた構成であって、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズ。
【請求項２】
請求項１において、
前記シリンドリカルレンズは、平凸シリンドリカルレンズ、平凹シリンドリカルレンズ、凸メニスカスシリンドリカルレンズ、両凸シリンドリカルレンズ、両凹シリンドリカルレンズから選ばれた一種であることを特徴とする光学レンズ。
【請求項３】
一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズと、分割された前記レーザービームを重ね合わせる光学系とを有し、
前記光学レンズは、シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べて構成されていることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項４】
請求項３において、前記光学系に組合せレンズ或いは非球面レンズを用いていることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項５】
請求項３または請求項４において、
前記シリンドリカルレンズは、平凸シリンドリカルレンズ、平凹シリンドリカルレンズ、凸メニスカスシリンドリカルレンズ、両凸シリンドリカルレンズ、両凹シリンドリカルレンズから選ばれた一種であることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項６】
レーザービーム発生装置と、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズと、分割された前記レーザービームを重ね合わせる光学系と、移動可能な照射ステージとを有し、
前記光学レンズは、シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べて構成されていることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項７】
請求項６において、前記光学系に組合せレンズ或いは非球面レンズを用いていることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７において、前記レーザービーム発生装置と、前記光学レンズとの間に、レーザービームを前記基本面と平行な方向に調節する反射ミラーを有することを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか一項において、
前記シリンドリカルレンズは、平凸シリンドリカルレンズ、平凹シリンドリカルレンズ、凸メニスカスシリンドリカルレンズ、両凸シリンドリカルレンズ、両凹シリンドリカルレンズから選ばれた一種であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項１０】
シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べた構成であって、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズを用いて、レーザービームを分割し、レーザービームのエネルギー分布のエッジの少なくとも一つを垂直に近い形状にし、
垂直に近い形状のエッジを前にして、前記レーザービームを走査させることを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項１１】
シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べた構成であって、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズを用いて、線状レーザービームを幅方向に分割し、線状レーザービームの幅方向のエネルギー分布のエッジの少なくとも一方を垂直に近い形状にし、
垂直に近い形状のエッジを前にして、前記線状レーザービームを走査させることを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項１】
シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べた構成であって、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズ。
【請求項２】
請求項１において、
前記シリンドリカルレンズは、平凸シリンドリカルレンズ、平凹シリンドリカルレンズ、凸メニスカスシリンドリカルレンズ、両凸シリンドリカルレンズ、両凹シリンドリカルレンズから選ばれた一種であることを特徴とする光学レンズ。
【請求項３】
一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズと、分割された前記レーザービームを重ね合わせる光学系とを有し、
前記光学レンズは、シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べて構成されていることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項４】
請求項３において、前記光学系に組合せレンズ或いは非球面レンズを用いていることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項５】
請求項３または請求項４において、
前記シリンドリカルレンズは、平凸シリンドリカルレンズ、平凹シリンドリカルレンズ、凸メニスカスシリンドリカルレンズ、両凸シリンドリカルレンズ、両凹シリンドリカルレンズから選ばれた一種であることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項６】
レーザービーム発生装置と、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズと、分割された前記レーザービームを重ね合わせる光学系と、移動可能な照射ステージとを有し、
前記光学レンズは、シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べて構成されていることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項７】
請求項６において、前記光学系に組合せレンズ或いは非球面レンズを用いていることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７において、前記レーザービーム発生装置と、前記光学レンズとの間に、レーザービームを前記基本面と平行な方向に調節する反射ミラーを有することを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか一項において、
前記シリンドリカルレンズは、平凸シリンドリカルレンズ、平凹シリンドリカルレンズ、凸メニスカスシリンドリカルレンズ、両凸シリンドリカルレンズ、両凹シリンドリカルレンズから選ばれた一種であることを特徴とするレーザー照射装置。
【請求項１０】
シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べた構成であって、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズを用いて、レーザービームを分割し、レーザービームのエネルギー分布のエッジの少なくとも一つを垂直に近い形状にし、
垂直に近い形状のエッジを前にして、前記レーザービームを走査させることを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項１１】
シリンドリカルレンズを基本面にて切断した２つ以上のレンズを同一の向きに並べた構成であって、一方向にレーザービームを分割する役割を果たす光学レンズを用いて、線状レーザービームを幅方向に分割し、線状レーザービームの幅方向のエネルギー分布のエッジの少なくとも一方を垂直に近い形状にし、
垂直に近い形状のエッジを前にして、前記線状レーザービームを走査させることを特徴とするレーザー照射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19965399A JP4454720B2 (ja) | 1998-07-13 | 1999-07-13 | 光学レンズ、ビームホモジェナイザー、レーザー照射装置、及びレーザー照射方法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19788498 | 1998-07-13 | ||
| JP10-197884 | 1998-07-13 | ||
| JP11-144059 | 1999-05-24 | ||
| JP14405999 | 1999-05-24 | ||
| JP19965399A JP4454720B2 (ja) | 1998-07-13 | 1999-07-13 | 光学レンズ、ビームホモジェナイザー、レーザー照射装置、及びレーザー照射方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001044135A JP2001044135A (ja) | 2001-02-16 |
| JP2001044135A5 true JP2001044135A5 (ja) | 2006-08-24 |
| JP4454720B2 JP4454720B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=27318759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19965399A Expired - Fee Related JP4454720B2 (ja) | 1998-07-13 | 1999-07-13 | 光学レンズ、ビームホモジェナイザー、レーザー照射装置、及びレーザー照射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4454720B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003229359A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-08-15 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置の作製方法 |
| US7078322B2 (en) | 2001-11-29 | 2006-07-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a thin film transistor |
| CN100378919C (zh) * | 2002-10-29 | 2008-04-02 | 住友重机械工业株式会社 | 结晶膜以及利用激光制造结晶膜的方法 |
| US7470602B2 (en) | 2002-10-29 | 2008-12-30 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Crystalline film and its manufacture method using laser |
| US7465648B2 (en) * | 2003-11-20 | 2008-12-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| JP2005175444A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ照射装置並びに半導体装置の作製方法。 |
| JP5078231B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2012-11-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | レーザ照射装置 |
| JP4951214B2 (ja) * | 2004-06-10 | 2012-06-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | レーザ光を照射する方法及び装置、並びに非単結晶半導体膜をアニールする方法及び半導体装置を作製する方法 |
| US20090046757A1 (en) * | 2007-08-16 | 2009-02-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and manufacturing method of semiconductor device |
-
1999
- 1999-07-13 JP JP19965399A patent/JP4454720B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1744349A3 (en) | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, beam homogenizer, semiconductor device, and method of manufacturing the semiconductor device | |
| WO2001009665A8 (en) | Optical beam shaper | |
| HK1092643A1 (en) | Apparatus and method for fabricating, sorting, andintegrating materials with holographic optical tr aps | |
| JP2000091264A5 (ja) | ||
| ATE339318T1 (de) | Anordnung zur direkten bilderzeugung durch laser | |
| EP2636383A3 (en) | Method and apparatus for patterned plasma-mediated laser trephination of the lens capsule and three dimensional phaco-segmentation | |
| WO2002027406A3 (en) | Illumination system particularly for microlithography | |
| EP1145797A3 (en) | Method and apparatus using laser pulses to make an array of microcavity holes | |
| EP1684109A4 (en) | LASER PROCESSING DEVICE | |
| JP2001044135A5 (ja) | 光学レンズ、ビームホモジェナイザー、レーザー照射装置、及びレーザー照射方法 | |
| EP1975722A3 (en) | Optical attenuator device, radiation system and lithographic apparatus therewith and device manufacturing method | |
| EP1693017A3 (en) | Laser treatment apparatus | |
| SG120207A1 (en) | Laser processing apparatus and method using polygon mirror | |
| WO2003101754A3 (en) | System and method for direct laser engraving of images onto a printing substrate | |
| WO2003068051A3 (en) | Flexible scanning beam imaging system | |
| JP2004070339A5 (ja) | ||
| DE60325002D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Steuern der Sendeleistungsdichte in einem optischen Freiraumübertragungssystem | |
| MX9703033A (es) | Sistema y metodo de iluminacion con enmascaramiento central. | |
| CN101885113B (zh) | 紫外激光加工系统 | |
| WO2002030610A8 (de) | Verfahren zur kennzeichnung und insbesondere zur beschriftung von oberflächen optischer elemente mit uv-licht | |
| TW200501136A (en) | Optical scanning device | |
| DE502005002472D1 (de) | Mikroskop mit Farblängsfehler verringernden Kollimator | |
| EP1096290A3 (en) | Optical scanning apparatus, multi-beam optical scanning apparatus, and image-forming apparatus | |
| DE502004008827D1 (de) | Vorrichtung zum ausbilden von schnittflächen in einem transparenten material | |
| CN101776790A (zh) | 激光内雕聚焦光学镜头及其使用方法 |