JP2001043803A - Plasma display panel, forming method therefor and barrier rib material used as blast mask to be used therefor - Google Patents
Plasma display panel, forming method therefor and barrier rib material used as blast mask to be used thereforInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)とその形成方法等に関する。詳し
くはPDP背面板構成層の一部であるバリアーリブの形
成において、着色顔料を分散させたブラストマスクを使
用し、ブラスト後もブラストマスクを残存させることに
より、バリアーリブの頂部が基部と異なる色にされた2
色バリアーリブからなるプラズマディスプレイパネルと
それを形成する方法およびバリアーリブ材料に関する。The present invention relates to a plasma display panel (PDP) and a method for forming the same. Specifically, in forming a barrier rib that is a part of the PDP back plate constituent layer, a blast mask in which a coloring pigment is dispersed is used, and the blast mask is left even after blasting, so that the top of the barrier rib has a different color from the base. 2
The present invention relates to a plasma display panel including a color barrier rib, a method of forming the same, and a barrier rib material.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般にPDPは、2枚の対向するガラス
基板(前面板と背面板)にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にNe,Xe,He等を主体と
するガスを封入した構造になっている。そしてそれらの
電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電
を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行
うようにしている。2. Description of the Related Art In general, a PDP is provided with a pair of electrodes regularly arranged on two opposing glass substrates (a front plate and a back plate), between which a gas mainly composed of Ne, Xe, He or the like is supplied. It has a sealed structure. Then, a voltage is applied between the electrodes to generate a discharge in the minute cells around the electrodes, so that each cell emits light and display is performed.
【0003】図3は、AC型PDPの一構成例を示す分
解斜視図である。この図はガラス基板12からなる前面
板とガラス基板11からなる背面板を前面板から離した
状態で示したもので、図示のように2枚のガラス基板1
1,12が互いに平行かつ対向して配設されており、両
者は背面板となるガラス基板上に設けられたバリアーリ
ブ8により一定の間隔に保持されるようになっている。
前面板となるガラス基板12の背面側には透明電極であ
る維持電極14と金属電極であるバス電極13とで構成
される複合電極X,Yが互いに平行に形成され、これを
覆って誘電体層16が形成されており、さらにその上に
保護膜19(MgO層)が形成されている。また、背面
板の前面側にはバリアーリブ8の間に位置してアドレス
電極15が互いに平行に形成されており、さらにバリア
ーリブ8の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体層1
8が設けられている。FIG. 3 is an exploded perspective view showing an example of the configuration of an AC type PDP. In this figure, a front plate made of a glass substrate 12 and a back plate made of a glass substrate 11 are shown separated from the front plate.
Numerals 1 and 12 are arranged in parallel and opposed to each other, and both are held at a fixed interval by a barrier rib 8 provided on a glass substrate serving as a back plate.
On the rear side of the glass substrate 12 serving as a front plate, composite electrodes X and Y each composed of a sustain electrode 14 which is a transparent electrode and a bus electrode 13 which is a metal electrode are formed in parallel with each other, and a dielectric A layer 16 is formed, and a protective film 19 (MgO layer) is further formed thereon. On the front side of the back plate, address electrodes 15 are formed between the barrier ribs 8 in parallel with each other, and the phosphor layer 1 is formed so as to cover the wall surfaces of the barrier ribs 8 and the cell bottom surface.
8 are provided.
【0004】バリアーリブ8は、PDPのコントラスト
を得るため黒色にすることが多いが、さらに輝度を向上
させるためにバリアーリブの色を白色にして、蛍光面か
らの発光でバリアーリブ方向に向かっている光をバリア
ーリブで反射させるという方法がある。また、コントラ
ストと輝度向上を狙ってバリアーリブの頂部を黒色に
し、その他の部分を白色にする構成や、バリアーリブ頂
部付近に当たる発光のバリアーリブへの吸収を防ぎ輝度
を向上させるため頂部付近を透過率の高いバリアーリブ
にする方法などもある。The barrier ribs 8 are often made black to obtain the contrast of the PDP. However, in order to further improve the brightness, the color of the barrier ribs is made white, and light emitted from the phosphor screen is directed toward the barrier ribs. There is a method of reflecting light with barrier ribs. In addition, the top of the barrier ribs is blackened to improve contrast and brightness, and the other portions are white, and the transmittance near the tops is high in order to improve the brightness by preventing absorption of light emitted near the tops of the barrier ribs into the barrier ribs and improving brightness. There is also a method of forming a barrier rib.
【0005】このバリアーリブ8を形成する方法とし
て、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、ドライフィ
ルムレジストを利用したいわゆる埋め込み法、特定形状
の成形型を押し付けて形状を形成する方法がある。これ
らの中でも特に、サンドブラスト法で形成する方法が主
流となりつつある。この方法は背面板となるガラス基板
上に所定のパターンにてアドレス電極15あるいは誘電
体層17を設けた基板上に、バリアーリブとなるガラス
ペーストを、スクリーン印刷あるいはダイコート等のコ
ーティング法で所定の膜厚で塗布、乾燥し、さらに感光
性のドライフィルムレジストをラミネートし、特定のパ
ターンが形成されているフォトマスクをとおして光をあ
て、現像することでドライフィルムレジストを特定のパ
ターン形状にする。As a method of forming the barrier rib 8, there are a screen printing method, a sand blast method, a so-called embedding method using a dry film resist, and a method of pressing a molding die having a specific shape to form the shape. Among these, the method of forming by the sand blast method is becoming mainstream. In this method, a glass paste serving as a barrier rib is coated on a glass substrate serving as a back plate with a predetermined pattern by a coating method such as screen printing or die coating on a substrate provided with an address electrode 15 or a dielectric layer 17 in a predetermined pattern. It is applied in a thickness, dried, laminated with a photosensitive dry film resist, irradiated with light through a photomask on which a specific pattern is formed, and developed to form the dry film resist into a specific pattern shape.
【0006】一般的にAC駆動のPDPでは、そのパタ
ーン形状はある線幅とピッチを有するライン/スペース
で構成されている。ドライフィルムレジストパターンを
形成した後、サンドブラスト加工を行うと、ドライフィ
ルムレジストが有る部分はブラストマスクの役割をする
のでペーストが残ってバリアーリブとなり、ドライフィ
ルムレジストが現像により除去された部分はペーストが
残らず、蛍光面が形成されるセルとなる。その後、ドラ
イフィルムレジストを剥離し、焼成することでバリアー
リブ構造が形成される。Generally, in an AC-driven PDP, the pattern shape is composed of lines / spaces having a certain line width and a certain pitch. After the dry film resist pattern is formed, if sand blasting is performed, the portion where the dry film resist is present acts as a blast mask, so that the paste remains and becomes a barrier rib, and the portion where the dry film resist is removed by development leaves the paste. Instead, a cell on which a phosphor screen is formed. Thereafter, the dry film resist is peeled off and baked to form a barrier rib structure.
【0007】このバリアーリブ形状を形成する際、バリ
アーリブが黒色1色や白色1色など単色からなるもので
あれば、いずれの工法においても1度の塗布で形成で
き、工程が単純である。しかし、前記のように、コント
ラストを得るために頂部その他の部分を黒色とし、さら
に輝度を向上させるためにバリアーリブ基部を白色とす
るような場合には、従来法では、1度の工程では済まず
工程が複雑となる。In forming this barrier rib shape, if the barrier rib is formed of a single color such as one color of black or one color of white, it can be formed by one application in any of the methods, and the process is simple. However, as described above, in the case where the top and other parts are black in order to obtain contrast and the barrier rib base is white in order to further improve luminance, the conventional method does not require a single step. The process becomes complicated.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】輝度とコントラストの
両方の向上を図って頂部層を黒色、基部層その他の部分
を白色にしたバリアーリブの場合、2度の塗布とパター
ニングが必要となり、その優位性にも関わらず、工程の
複雑性のため、黒または白色のみからなる単色でのリブ
形成が主流となってきている。本発明は、かかる2色構
成のバリアーリブを簡易な工程で形成すべく研究してな
されたものである。In the case of a barrier rib in which the top layer is black and the base layer and other parts are white in order to improve both the brightness and the contrast, two coatings and patterning are required, which is advantageous. Nevertheless, due to the complexity of the process, the formation of ribs in a single color consisting only of black or white has become mainstream. The present invention has been made by researching to form such a two-color barrier rib by a simple process.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の要旨の第1は、バリアーリブの基部層が明色
で頂部層が暗色からなるバリアーリブが配列してなるプ
ラズマディスプレイパネルにおいて、当該バリアーリブ
の頂部層が、ストライプパターン状に印刷して設けたブ
ラストマスク兼バリアーリブ材料のブラスト残層からな
ることを特徴とするプラズマディスプレイパネル、にあ
る。かかるプラズマディスプレイパネルであるため、頂
部層を薄層にすることができ、輝度向上効果を高めるこ
とができる。A first aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems is a plasma display panel in which barrier ribs in which a base layer of a barrier rib is light and a top layer is dark are arranged. The plasma display panel is characterized in that a top layer of the barrier rib is formed of a blast mask and a blast remaining layer of barrier rib material provided by printing in a stripe pattern. With such a plasma display panel, the top layer can be made thin, and the effect of improving brightness can be enhanced.
【0010】上記課題を解決するための本発明の要旨の
第2は、プラズマディスプレイパネル背面板をブラスト
法により形成する方法において、基板上にバリアーリブ
形成層を設ける工程と、当該バリアーリブ形成層上に着
色顔料を分散させたブラストマスク兼バリアーリブ材料
をバリアーリブのパターン状に塗工した後に、ブラスト
加工を行ってバリアーリブ形状を形成することを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの形成方法、にある。
かかるプラズマディスプレイパネルの形成方法であるた
め、コントラストと輝度の向上を図ったプラズマディス
プレイパネルを簡易な工程で製造できる。In a second aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in a method of forming a back plate of a plasma display panel by a blast method, a step of providing a barrier rib forming layer on a substrate; A method for forming a plasma display panel, comprising: applying a blast mask / barrier rib material in which a coloring pigment is dispersed, in a barrier rib pattern, and then performing blast processing to form a barrier rib shape.
With this method of forming a plasma display panel, a plasma display panel with improved contrast and brightness can be manufactured by simple steps.
【0011】上記課題を解決するための本発明の要旨の
第3は、上記プラズマディスプレイパネルの形成方法に
使用する塗工材料であって、ブラスト工程においてはブ
ラストマスクとして機能し、パネル完成後は着色顔料に
より暗色の頂部層として機能することを特徴とするブラ
ストマスク兼バリアーリブ材料、にある。かかるバリア
ーリブ材料であるため、コントラストと輝度の向上を図
ったプラズマディスプレイパネルの製造に有用に利用で
きる。A third aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems is a coating material used in the above-described method for forming a plasma display panel, which functions as a blast mask in a blast step, and after the panel is completed. A blast mask / barrier rib material, which functions as a dark top layer by a coloring pigment. Since the barrier rib material is used, it can be effectively used for manufacturing a plasma display panel with improved contrast and brightness.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明は、上記の目的を達成する
ため、まず、単色のバリアーリブ形成材料を基板の全面
に所定膜厚にて塗布形成した後、着色顔料を分散させて
なるブラストマスク兼バリアーリブ材料をスクリーン印
刷法などによりバリアーリブのパターン状に印刷してブ
ラストマスクを形成する。その後にサンドブラスト加工
を行ってバリアーリブ形状を形成し、マスクを残層とし
て残した状態で焼成して2色のバリアーリブを形成する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention firstly forms a monolayer barrier rib forming material on a whole surface of a substrate in a predetermined thickness, and then disperses a color pigment in the blast mask. A blast mask is formed by printing the barrier rib material in a barrier rib pattern by a screen printing method or the like. Thereafter, sandblasting is performed to form a barrier rib shape, and firing is performed in a state where the mask is left as a remaining layer to form a two-color barrier rib.
【0013】以下、図面を参照して本発明の実施形態に
ついて説明する。なお、各図面は本発明が理解できる程
度に各構成層の大きさや形状、および位置関係を概略的
に示したものである。また、以下の説明において特定の
材料および条件を用いて説明する場合があるが、これら
の材料および条件等は、一例の一つに過ぎず、本発明は
何らこれに限定されるものではない。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Each drawing schematically shows the size, shape, and positional relationship of each constituent layer so that the present invention can be understood. In the following description, specific materials and conditions may be used, but these materials, conditions, and the like are merely examples, and the present invention is not limited thereto.
【0014】図1は、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルを示す斜視図である。PDPの背面板の一部断面を
含む斜視図であり、前面板は図3と同様に現れる。図1
のように、本発明のプラズマディスプレイパネル1は、
バリアーリブ以外については通常のプラズマディスプレ
イパネルと同様の構成からなっている。本発明のプラズ
マディスプレイパネルの特徴は、バリアーリブが白色な
いし明色の基部層8bと黒色ないし暗色の頂部層8tと
から構成されていることにある。頂部層8tを暗色にす
るのは、外部からの入射光の反射を抑えるためであり、
基部層8bを明色にするのは蛍光体層からの発光でバリ
アーリブ方向に向かっている光をバリアーリブで反射さ
せることを目的とするもので、このような効果自体は通
常知られていることである。本発明では、このバリアー
リブの頂部層にブラストマスクとして使用したブラスト
マスク兼バリアーリブ層のブラスト後に残る残層を利用
していることを特徴とする。頂部層8tの厚みは1μm
もあれば十分であるが、通常は10〜20μmの厚みで
形成したブラストマスクが焼成後は数μmの膜厚の残層
として残存することになる。FIG. 1 is a perspective view showing a plasma display panel according to the present invention. FIG. 4 is a perspective view including a partial cross section of a back plate of the PDP, and a front plate appears as in FIG. 3. FIG.
As shown in FIG.
Except for the barrier ribs, the configuration is the same as that of a normal plasma display panel. A feature of the plasma display panel of the present invention is that the barrier ribs are formed of a white or light base layer 8b and a black or dark top layer 8t. The reason why the top layer 8t is darkened is to suppress reflection of incident light from the outside.
The purpose of making the base layer 8b lighter is to reflect light traveling toward the barrier ribs by the light emission from the phosphor layer with the barrier ribs, and such an effect itself is generally known. is there. The present invention is characterized in that a blast mask used as a blast mask is used as a blast mask on the top layer of the barrier rib, and a remaining layer remaining after blasting of the barrier rib layer is used. The thickness of the top layer 8t is 1 μm
Although it is sufficient if there is, a blast mask formed with a thickness of 10 to 20 μm usually remains as a residual layer having a thickness of several μm after firing.
【0015】図2は、バリアーリブの形成工程を示す断
面図である。まず、Ag,Ni,Cu等の金属およびこ
れらの合金を低融点ガラスフリットおよび低温で焼成可
能なバインダー樹脂に分散させた電極形成用ペーストを
用いてスクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法、充
填法、サンドブラスト法、ダイコート法等によりアドレ
ス電極15をPDP用ガラス基板11上に形成する(図
2(A))。次いで、アドレス電極15上に誘電体層1
7を形成するため誘電体層材料をスクリーン印刷法、ダ
イコート法等により均一な厚さに形成する(図2
(B))。誘電体層は、駆動させる時の安定性のためや
電極がむき出しにならないようにして、バリアーリブを
サンドブラスト法で形成する際の損傷防止のために形成
しておくことが好ましい。誘電体層材料は後に詳述する
が、酸化鉛ガラスや酸化ビスマスを主成分とする低融点
ガラスが好適に用いられる。FIG. 2 is a sectional view showing a step of forming a barrier rib. First, a screen printing method, a photolithography method, a filling method, a sand blasting method using an electrode forming paste obtained by dispersing a metal such as Ag, Ni, Cu or the like and an alloy thereof in a low melting glass frit and a binder resin which can be fired at a low temperature. Electrodes 15 are formed on the glass substrate 11 for PDP by a method such as a die coating method or the like (FIG. 2A). Next, the dielectric layer 1 is formed on the address electrode 15.
The dielectric layer material is formed to have a uniform thickness by a screen printing method, a die coating method, or the like to form 7 (FIG. 2).
(B)). The dielectric layer is preferably formed for stability at the time of driving and for preventing damage to the barrier ribs formed by sandblasting so that the electrodes are not exposed. Although the dielectric layer material will be described later in detail, a low-melting glass containing lead oxide glass or bismuth oxide as a main component is preferably used.
【0016】次いで、バリアーリブ形成材料をスクリー
ン印刷法、ブレードコート法、ダイコート法等により一
様の厚さに塗布して乾燥することによりバリアーリブ形
成層8pを設ける(図2(C))。バリアーリブ形成材
料についても後に詳述するが、低融点ガラス粉末と耐火
物フィラーとバインダー樹脂と溶剤とを含む混合物が使
用される。バリアーリブ形成層8p上に、着色顔料を分
散させたブラストマスク兼バリアーリブ材料をスクリー
ン印刷法などによりパターン状に印刷して乾燥し、ブラ
ストマスク8mを形成する(図2(D))。Next, a barrier rib forming layer 8p is provided by applying a barrier rib forming material to a uniform thickness by a screen printing method, a blade coating method, a die coating method or the like, and drying (FIG. 2C). Although a barrier rib forming material will be described in detail later, a mixture containing a low melting point glass powder, a refractory filler, a binder resin, and a solvent is used. On the barrier rib forming layer 8p, a blast mask and a barrier rib material in which a coloring pigment is dispersed are printed in a pattern by a screen printing method or the like, and dried to form a blast mask 8m (FIG. 2D).
【0017】こうして形成されたブラストマスク8mを
切削マスクとして、バリアーリブ形成層8pをサンドブ
ラスト法により切削する。これによりブラストマスク8
mの無い部分は切削されて凹部となり、ブラストマスク
8mの有る部分は切削されずにバリアーリブ8として残
存する。このブラスト工程においてブラストマスク8m
も多少切削されるが、残存して残るブラストマスクの厚
みは1〜数μmもあれば、外光の反射防止には十分な効
果を発揮することができる。ブラストマスク兼バリアー
リブ材料は通常のバリアーリブ材料よりは格段に耐サン
ドブラスト性を持たせてあるので、当初の塗布厚みが1
0〜20μm程度であっても、数μmの膜厚を残すこと
ができる。ブラスト後、水洗し乾燥する。最後に、パネ
ル部材を焼成炉中において焼成し、図2(E)のような
パネル構造体を得る。その後は通常の工程により蛍光体
層18を形成して焼成する。Using the blast mask 8m thus formed as a cutting mask, the barrier rib forming layer 8p is cut by a sand blast method. Thereby, the blast mask 8
The portion without m is cut into a concave portion, and the portion with the blast mask 8m remains as the barrier rib 8 without being cut. In this blast process, the blast mask 8m
However, if the thickness of the remaining blast mask is 1 μm to several μm, a sufficient effect can be exhibited for preventing reflection of external light. Since the blast mask / barrier rib material is much more sand blast resistant than the normal barrier rib material, the initial coating thickness is 1
Even if the thickness is about 0 to 20 μm, a film thickness of several μm can be left. After blasting, wash with water and dry. Finally, the panel member is fired in a firing furnace to obtain a panel structure as shown in FIG. After that, the phosphor layer 18 is formed by a usual process and baked.
【0018】以下、本発明に使用する各材料について詳
述する。 <誘電体層材料、バリアーリブ形成材料>誘電体層材
料、バリアーリブ形成材料は、少なくともガラスフリッ
トを有する無機成分と熱可塑性樹脂とからなる。ガラス
フリットとしては、その軟化点が350°C〜650°
Cで、熱膨張係数α300 が60×10-7/°C〜100
×10-7/°Cのものが挙げられる。ガラスフリットの
軟化点が650°Cを越えると焼成温度を高くする必要
があり、その積層対象によっては熱変形したりするので
好ましくなく、また、350°Cより低いと熱可塑性樹
脂が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中
に空隙等の発生が生じるので好ましくない。また、熱膨
張係数が60×10-7/°C〜100×10-7/°Cの
範囲外であると、ガラス基板の熱膨張係数との差が大き
く、歪み等を生じるので好ましくない。Hereinafter, each material used in the present invention will be described in detail. <Dielectric Layer Material and Barrier Rib Forming Material> The dielectric layer material and barrier rib forming material include at least an inorganic component having a glass frit and a thermoplastic resin. As glass frit, its softening point is 350 ° C ~ 650 °
C, the coefficient of thermal expansion α 300 is 60 × 10 −7 / ° C. to 100
× 10 -7 / ° C. If the softening point of the glass frit exceeds 650 ° C., it is necessary to raise the firing temperature, and it is not preferable because the laminating object is thermally deformed. Before this, the glass frit is fused, and voids and the like are generated in the layer, which is not preferable. If the coefficient of thermal expansion is out of the range of 60 × 10 −7 / ° C. to 100 × 10 −7 / ° C., the difference from the coefficient of thermal expansion of the glass substrate is large, which is not preferable because distortion occurs.
【0019】また、無機成分として、ガラスフリットの
他に無機成分、無機顔料のそれぞれ2種以上を混合して
使用してもよい。無機粉体としては、骨材となるもので
あって、必要に応じて添加される。無機粉体は、焼成に
際しての流延防止、緻密性向上を目的とするものであ
り、ガラスフリットより軟化点が高いものであり、例え
ば酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウ
ム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の各無機粉体が利
用でき、平均粒径0.1μm〜20μmのものが例示さ
れる。無機粉体の使用割合は、ガラスフリット100重
量部に対して無機粉体の0重量部〜30重量部とすると
よい。In addition to the glass frit, two or more kinds of inorganic components and inorganic pigments may be used in combination as the inorganic component. The inorganic powder is used as an aggregate, and is added as needed. The inorganic powder is intended to prevent casting at the time of firing and improve the denseness, and has a softening point higher than that of the glass frit. For example, aluminum oxide, boron oxide, silica, titanium oxide,
Various inorganic powders such as magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, and calcium carbonate can be used, and examples thereof include those having an average particle size of 0.1 μm to 20 μm. The usage ratio of the inorganic powder is preferably 0 to 30 parts by weight of the inorganic powder with respect to 100 parts by weight of the glass frit.
【0020】また、無機顔料としては、蛍光体輝度を向
上させるために必要に応じて添加されるものであり、耐
火性の白色顔料としては、酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、シリカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。Inorganic pigments are added as needed to improve the luminance of the phosphor, and fire-resistant white pigments include titanium oxide, aluminum oxide, silica, calcium carbonate and the like. Can be
【0021】誘電体層材料およびバリアーリブ形成材料
における焼成により除去される樹脂成分は、熱可塑性樹
脂であって、無機成分のバインダーとして、含有させる
ものであり、例えばメチルアクリレート、メチルメタク
リレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブ
チルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブ
チルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブ
チルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、
tert−ブチルメタクリレート、n−ペンチルアクリ
レート、n−ペンチルメタクリレート、n−ヘキシルア
クリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチル
ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレ
ート、n−オクチルアクリレート、n−オクチルメタク
リレート、n−デシルアクリレート、n−デシルメタク
リレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、N−ビニル−2−ピロリドン等の1
種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセル
ロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。The resin component removed by firing in the dielectric layer material and the barrier rib forming material is a thermoplastic resin, which is contained as a binder of an inorganic component. For example, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, Ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate,
tert-butyl methacrylate, n-pentyl acrylate, n-pentyl methacrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, n-decyl acrylate, n-decyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, styrene, α
1 such as methylstyrene, N-vinyl-2-pyrrolidone, etc.
Examples thereof include polymers or copolymers composed of at least two or more species, and cellulose derivatives such as ethyl cellulose.
【0022】特に、メチルアクリレート、メチルメタク
リレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブ
チルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、n−
ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブ
チルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、
tert−ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルア
クリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロ
キシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタク
リレート等の1種以上、α−メチルスチレン、N−ビニ
ル−2−ピロリドン等の1種以上からなるポリマーまた
はコポリマーが好ましい。Particularly, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, n-butyl methacrylate, n-butyl methacrylate
Butyl acrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate,
A polymer or copolymer comprising at least one kind of tert-butyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate and the like, and at least one kind of α-methylstyrene, N-vinyl-2-pyrrolidone and the like is preferable. .
【0023】無機成分と樹脂成分との使用割合は、無機
成分100重量部に対して樹脂成分3重量部〜50重量
部、好ましくは5重量部〜30重量部の割合からなる。
誘電体層材料、バリアーリブ形成材料には、必要に応じ
て可塑剤、分散剤、沈降防止剤、消泡剤、レベリング剤
等が添加される。The ratio of the inorganic component to the resin component is 3 to 50 parts by weight, preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the inorganic component.
A plasticizer, a dispersant, an antisettling agent, an antifoaming agent, a leveling agent, and the like are added to the dielectric layer material and the barrier rib forming material as necessary.
【0024】可塑剤は、インキの流動性を向上させるこ
とを目的として添加され、例えばジメチルフタレート、
ジブチルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート等の
ノルマルアルキルフタレート類、ジ−2−エチルヘキシ
ルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジ
ルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタル
エチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレー
ト等のフタル酸エステル類、トリ−2−エチルヘキシル
トリメリテート、トリ−n−アルキルトリメリテート、
トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメ
リテート等のトリメリット酸エステル、ジメチルアジペ
ート、ジブチルアジペート、ジ−2−エチルヘキシルア
ジペート、ジイソデシルアジペート、ジブチルジグリコ
ールアジペート、ジ−2−エチルヘキシルアゼテート、
ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジ−2−エ
チルヘキシルセバケート、ジ−2−エチルヘキシルマレ
ート、アセチル−トリ−(2−エチルヘキシル)シトレ
ート、アセチル−トリ−n−ブチルシトレート、アセチ
ルトリブチルシトレート等の脂肪族二塩基酸エステル
類、ポリエチレングリコールベンゾエート、トリエチレ
ングリコール−ジ−(2−エチルヘキソエート)、ポリ
グリコールエーテル等のグリコール誘導体、グリセロー
ルトリアセテート、グリセロールジアセチルモノラウレ
ート等のグリセリン誘導体、セバシン酸、アジピン酸、
アゼライン酸、フタル酸などからなるポリエステル系、
分子量300〜3,000の低分子量ポリエーテル、同
低分子量ポリ−α−スチレン、同低分子量ポリスチレ
ン、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェー
ト、トリブチルホスフェート、トリ−2−エチルヘキシ
ルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ト
リフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、
トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホス
フェート、キシレニルジフェニルホスフェート、2−エ
チルヘキシルジフェニルホスフェート等の正リン酸エス
テル類、メチルアセチルリシノレート等のリシノール酸
エステル類、ポリ−1,3−ブタンジオールアジペー
ト、エポキシ化大豆油等のポリエステル・エポキシ化エ
ステル類、グリセリントリアセテート、2−エチルヘキ
シルアセテート等のエステル類が例示される。The plasticizer is added for the purpose of improving the fluidity of the ink. For example, dimethyl phthalate,
Normal alkyl phthalates such as dibutyl phthalate and di-n-octyl phthalate, phthalic acid esters such as di-2-ethylhexyl phthalate, diisodecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethyl phthalethyl glycolate and butyl phthalyl butyl glycolate , Tri-2-ethylhexyl trimellitate, tri-n-alkyl trimellitate,
Triisononyl trimellitate, trimellitate esters such as triisodecyl trimellitate, dimethyl adipate, dibutyl adipate, di-2-ethylhexyl adipate, diisodecyl adipate, dibutyl diglycol adipate, di-2-ethylhexyl acetate,
Dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, di-2-ethylhexyl malate, acetyl-tri- (2-ethylhexyl) citrate, acetyl-tri-n-butyl citrate, acetyl tributyl citrate and the like Aliphatic dibasic acid esters, glycol derivatives such as polyethylene glycol benzoate, triethylene glycol di- (2-ethylhexoate) and polyglycol ether; glycerin derivatives such as glycerol triacetate and glycerol diacetyl monolaurate; sebacine Acid, adipic acid,
Polyester based on azelaic acid, phthalic acid, etc.
Low molecular weight polyether having a molecular weight of 300 to 3,000, low molecular weight poly-α-styrene, low molecular weight polystyrene, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, triphenyl phosphate , Tricresyl phosphate,
Orthophosphoric acid esters such as trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate and 2-ethylhexyl diphenyl phosphate; ricinoleic acid esters such as methyl acetyl ricinolate; poly-1,3-butanediol adipate; Examples include polyester epoxidized esters such as epoxidized soybean oil, and esters such as glycerin triacetate and 2-ethylhexyl acetate.
【0025】分散剤、沈降防止剤としては、無機成分の
分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例
えば燐酸エステル系、シリコーン系、ひまし油エステル
系、各種界面活性剤等が例示され、消泡剤としては、例
えばシリコーン系、アクリル系、各種界面活性剤等が例
示され、レベリング剤としては、例えばフッ素系、シリ
コーン系、各種界面活性剤等が例示され、それぞれ、適
宜量添加される。The dispersant and the anti-settling agent are intended to improve the dispersibility of the inorganic component and the anti-settling property, and examples thereof include a phosphate ester type, a silicone type, a castor oil ester type and various surfactants. Examples of the defoaming agent include, for example, silicone-based, acrylic-based, various surfactants, and the like. Examples of the leveling agent include, for example, fluorine-based, silicone-based, various surfactants, and the like. Is done.
【0026】上記の誘電体層材料、バリアーリブ形成材
料は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、シ
クロヘキサノン等のアノン類、塩化メチレン、3−メト
キシブチルアセテート、エチレングリコールモノアルキ
ルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルア
セテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセ
テート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル
類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテ
ート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセ
テート類、α−もしくはβ−テルピオネール等のテルペ
ン類に溶解、または分散させ、ガラス基板上に、スクリ
ーン印刷、ダイコート、ブレードコート、コンマコー
ト、ロールコート、グラビアリバースコート、グラビア
ダイレクト法、スリットリバースコート法等により塗布
し、乾燥させ、所定の膜厚とされる。The above-mentioned dielectric layer material and barrier rib forming material include anones such as methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, cyclohexanone, methylene chloride, 3-methoxybutyl acetate, and ethylene glycol monoalkyl ethers. , Ethylene glycol alkyl ether acetates, diethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether Acetates, dissolved in terpenes such as α- or β-terpionaire, or It is dispersed and applied on a glass substrate by screen printing, die coating, blade coating, comma coating, roll coating, gravure reverse coating, gravure direct method, slit reverse coating method, or the like, and dried to a predetermined film thickness.
【0027】<電極形成用ペースト>電極形成に適した
電極形成用ペーストは、少なくともガラスフリットから
なる無機成分、熱可塑性樹脂、導電性粉末、必要に応じ
て増粘剤とから構成される。無機成分としては、上述し
た誘電体層材料およびバリアーリブ形成材料における無
機成分で記載したガラスフリット、無機粉体、無機顔料
が使用できるが、ガラスフリットとしてはその平均粒径
が0.3μm〜10μm、好ましくは0.5μm〜5μ
mのものを使用するとよく、また、無機粉体はガラスフ
リット100重量部に対して、0重量部〜100重量部
のものとするとよい。<Electrode-Forming Paste> An electrode-forming paste suitable for forming an electrode comprises at least an inorganic component composed of glass frit, a thermoplastic resin, a conductive powder, and, if necessary, a thickener. As the inorganic component, the glass frit, the inorganic powder, and the inorganic pigment described as the inorganic component in the dielectric layer material and the barrier rib forming material described above can be used, and the glass frit has an average particle diameter of 0.3 μm to 10 μm, Preferably 0.5 μm to 5 μm
m, and the inorganic powder is preferably 0 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the glass frit.
【0028】また、樹脂成分としては、無機成分のバイ
ンダーとして添加するものであり、誘電体層材料または
バリアーリブ形成材料における熱可塑性樹脂と同様に、
焼成に際して揮発・分解して、パターン中に炭化物を残
存させないものであり、上述した誘電体層材料およびバ
リアーリブ形成材料で説明したものが使用できる。特
に、エチルセルロース、メチルセルロース、ニトロセル
ロース、セルロースアセテート、セルロースプロピオネ
ート、セルロースブチレート等のセルロース系樹脂、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチルア
クリレート、イソブチルアクリレート、イソプロピルア
クリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルアクリレートまたはこれらのメタクリレ
ート体の重合体または共重合体であるポリアクリル酸エ
ステルまたはポリメタクリル酸エステル類、ポリ−α−
スチレン、ポリビニルアルコール、ポリブテン系樹脂が
好ましく、特にポリブテン系樹脂が好ましい。樹脂成分
の電極形成用ペースト中の含有量は、3〜50重量%、
好ましくは5〜30重量%である。The resin component is added as a binder of an inorganic component, and like the thermoplastic resin in the dielectric layer material or the barrier rib forming material,
It is a substance which is volatilized and decomposed during firing so that no carbide is left in the pattern, and those described in the above-mentioned dielectric layer material and barrier rib forming material can be used. Particularly, cellulose resins such as ethyl cellulose, methyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, isopropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters which are polymers or copolymers of hydroxyethyl acrylate or methacrylates thereof, poly-α-
Styrene, polyvinyl alcohol and polybutene-based resins are preferred, and polybutene-based resins are particularly preferred. The content of the resin component in the electrode forming paste is 3 to 50% by weight,
Preferably it is 5 to 30% by weight.
【0029】導電性粉末としては、金、銀、銅、ニッケ
ル、アルミニウム等の金属粉末が挙げられ、平均粒径が
0.1μm〜5μmの球型金属粉末が好ましい。導電性
粉末とガラスフリットとの使用割合は、導電性粉末10
0重量部に対して、ガラスフリットは2重量部〜20重
量部である。Examples of the conductive powder include metal powders such as gold, silver, copper, nickel, and aluminum. Spherical metal powders having an average particle diameter of 0.1 μm to 5 μm are preferred. The ratio of the conductive powder and the glass frit used is as follows.
The glass frit is 2 to 20 parts by weight with respect to 0 parts by weight.
【0030】増粘剤は、電極形成用ペーストの粘度を増
大させて、下層へのしみ込みを抑さえることを目的とし
て必要に応じて添加されるものであり、公知のものを使
用できるが、例えばヒドロキシエチルセルロース、メチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン
酸ソーダ、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、キサンタンガ
ム、ポリビニルアルコール、ポリエーテルウレタン変成
物、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステ
ル、モンモタロナイト、ステアリン酸アルミニウム、ス
テアリン酸亜鉛、オクチル酸アルミニウム、水添加ひま
し油、ひまし油エステル、脂肪酸アマイド、酸化ポリエ
チレン、デキストリン脂肪酸エステル、ジベンジリデン
ソルビトール、植物油系重合油、表面処理炭酸カルシウ
ム、有機ベントナイト、シリカ、チタニア、ジルコニ
ア、アルミナ等の微粉末等が挙げられる。増粘剤の含有
量は、導電性粉末100重量部に対して、0.1重量部
〜20重量部、好ましくは、0.1重量部〜10重量部
であり、0.1重量部未満であると増粘効果がなく、2
0重量部より多いと電極としての特性に断線等の悪影響
を引き起こす。The thickener is added as needed for the purpose of increasing the viscosity of the electrode forming paste and suppressing the penetration into the lower layer. Known thickeners can be used. For example, hydroxyethylcellulose, methylcellulose, carboxymethylcellulose, sodium alginate, casein, sodium caseinate, xanthan gum, polyvinyl alcohol, modified polyether urethane, polyacrylate, polymethacrylate, montmotalone, aluminum stearate, zinc stearate , Aluminum octylate, castor oil with water, castor oil ester, fatty acid amide, polyethylene oxide, dextrin fatty acid ester, dibenzylidene sorbitol, vegetable oil-based polymerized oil, surface-treated calcium carbonate, organic bentona DOO, silica, titania, zirconia, fine powder such as alumina and the like. The content of the thickener is 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, and preferably less than 0.1 part by weight, based on 100 parts by weight of the conductive powder. There is no thickening effect
If the amount is more than 0 parts by weight, an adverse effect such as disconnection is caused on the characteristics of the electrode.
【0031】また、電極形成用ペーストには、その塗布
性等を改善するために、可塑剤、分散剤、沈降防止剤、
消泡剤、剥離剤、レベリング剤を添加してもよく、いず
れも、上述した誘電体層材料およびバリアーリブ形成材
料で記載したものを同様に溶剤と混合され、ロールミル
により混練してペースト状の塗液とするか、またはボー
ルミル等により練混してスラリー状の塗液とされる。電
極形成用ペーストとしては、その動的粘性率が500〜
7000ポイズであり、損失正接tanδが5〜12の
範囲とされる。動的粘性率が7000ポイズを越える
と、凹版からの転写が難しくなり好ましくない。また、
損失正接tanδが12を越えると転写により形成され
たパターンにダレを生じるので好ましくない。動的粘性
率及び損失正接tanδは、キャリメッド社製のCSレ
オメーターにより、温度23°C、周波数10Hz、歪
み3%で測定される。In order to improve the applicability of the paste for forming an electrode, a plasticizer, a dispersant, an anti-settling agent,
An antifoaming agent, a release agent, and a leveling agent may be added.All of them are mixed with a solvent in the same manner as described above for the dielectric layer material and the barrier rib forming material, and kneaded by a roll mill to form a paste-like coating. Into a liquid or kneaded by a ball mill or the like to form a slurry-like coating liquid. The electrode forming paste has a dynamic viscosity of 500-500.
7000 poise, and the loss tangent tan δ is in the range of 5 to 12. When the dynamic viscosity exceeds 7000 poise, transfer from an intaglio becomes difficult, which is not preferable. Also,
If the loss tangent tan δ exceeds 12, the pattern formed by transfer is undesirably sagged. The dynamic viscosity and the loss tangent tan δ are measured with a Calimed CS rheometer at a temperature of 23 ° C., a frequency of 10 Hz and a strain of 3%.
【0032】また、硬化性樹脂としては、硬化後、焼成
に対して分解・除去されるものであり、公知の電離放射
線硬化性樹脂や、熱硬化性樹脂を用いることができる。
電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線或いは電子線硬
化性樹脂等が使用でき、分子中に重合性不飽和結合また
はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/
または単量体を適宜混合した組成物を用いることができ
る。前記プレポリマー、オリゴマーとしては、不飽和ジ
カルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエ
ステル類、エポキシ樹脂、ポリエステルメタクリレー
ト、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリ
レート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレー
ト、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレー
ト等のアクリレート類が挙げられる。The curable resin is one which is decomposed / removed upon firing after curing, and may be a known ionizing radiation curable resin or a thermosetting resin.
As the ionizing radiation curable resin, an ultraviolet ray or electron beam curable resin can be used, and a prepolymer, oligomer and / or a polymer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule can be used.
Alternatively, a composition in which monomers are appropriately mixed can be used. As the prepolymer and oligomer, unsaturated polyesters such as a condensate of an unsaturated dicarboxylic acid and a polyhydric alcohol, epoxy resins, polyester methacrylate, polyether methacrylate, methacrylates such as polyol methacrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, Acrylates such as polyol acrylate are exemplified.
【0033】<ブラストマスク兼バリアーリブ材料>本
発明に使用するブラストマスク兼バリアーリブ材料に含
まれる着色顔料は、最終的にガラスフリットの軟化点以
上の温度で焼成するので、ブラストマスクに含まれる着
色顔料は焼成工程で安定である必要がある。この着色顔
料として使用可能な材料としては、複合酸化物系顔料
(Cr、Co、Ni、Fe、Mn、Cu、Sb、As、
Bi、Ti、Cd、Al、Ca、Si、Mg、Baなど
の2種以上の金属酸化物からなる顔料)、酸化チタン、
アルミナ、ジルコニア、シリカ、マグネシア、チタン酸
鉛、チタン酸カリウム、硫化セレン化カドミウム、弁柄
(Fe2 O3 )、亜酸化銅、カドミウム水銀赤(CdS
+HgS)、クロムバーミリオン、銀朱、アンチモン赤
ヨード赤、ジンクアイアンレッド、モリブテン赤、鉛
丹、カドウミウムレッド、クロムグリーン、亜鉛緑、コ
バルトグリーン、酸化クロム、ビリジアン、エメラルド
グリーン、群青、紺青、コバルトブルー、セルリアンブ
ルー、硫化銅、チタンイエロー、チタンブラック、黒色
酸化鉄(Fe3 O4 )、黄色酸化鉄、カドミウムイエロ
ー、黄鉛などが挙げられ、これらは適宜目的に応じて選
択すれば良い。<Blast mask / barrier rib material> The coloring pigment contained in the blast mask / barrier rib material used in the present invention is finally baked at a temperature higher than the softening point of the glass frit. Must be stable in the firing step. Materials that can be used as the coloring pigment include complex oxide pigments (Cr, Co, Ni, Fe, Mn, Cu, Sb, As,
Pigments comprising two or more metal oxides such as Bi, Ti, Cd, Al, Ca, Si, Mg, and Ba), titanium oxide,
Alumina, zirconia, silica, magnesia, lead titanate, potassium titanate, cadmium sulfide selenide, red iron oxide (Fe 2 O 3 ), cuprous oxide, cadmium mercury red (CdS
+ HgS), chrome vermillion, silver vermilion, antimony red iodine red, zinc iron red, molybdenum red, lead red, cadmium red, chrome green, zinc green, cobalt green, chromium oxide, viridian, emerald green, ultramarine, navy blue, cobalt Blue, cerulean blue, copper sulfide, titanium yellow, titanium black, black iron oxide (Fe 3 O 4 ), yellow iron oxide, cadmium yellow, and graphite, and the like may be appropriately selected depending on the purpose.
【0034】本発明に使用するブラストマスク兼バリア
ーリブ材料に含まれる着色顔料は、その材料の選定の仕
方次第では、骨材としての機能をも併用させることがで
きるが、さらに骨材としての機能を要する場合があり、
その場合にはブラストマスク兼バリアーリブ材料に骨材
が含有される。骨材としては、例えば、アルミナ、シリ
カ、ジルコニア(ZrO2 )、酸化チタン、マグネシ
ア、ジルコン(ZrSiO4 )、ムライト(アルミノケ
イ酸塩鉱物)、コージライト(マグネシウム、鉄のアル
ミノケイ酸塩鉱物)、炭化珪素、チタン酸バリウム、ジ
ルコン酸バリウム等のバリアーリブの焼成温度以下の温
度で安定に存在するものを使用することができる。The coloring pigment contained in the blast mask / barrier rib material used in the present invention can also be used as an aggregate, depending on the selection of the material. May take a while,
In that case, an aggregate is contained in the blast mask / barrier rib material. As the aggregate, for example, alumina, silica, zirconia (ZrO 2 ), titanium oxide, magnesia, zircon (ZrSiO 4 ), mullite (aluminosilicate mineral), cordierite (magnesium, iron aluminosilicate mineral), carbonized Barrier ribs such as silicon, barium titanate, and barium zirconate that can be stably present at a temperature equal to or lower than the firing temperature of the barrier ribs can be used.
【0035】本発明に使用するブラストマスク兼バリア
ーリブ材料では着色顔料をバリアーリブ頂部に定着させ
るはたらきが必要である。着色顔料の定着にはガラスフ
リットを使用することができ、このガラスフリットは、
基部層のバリアーリブと同時に焼成されるため軟化点を
同温度程度にしておくことが好ましい。In the blast mask / barrier rib material used in the present invention, it is necessary to fix the coloring pigment on the top of the barrier rib. A glass frit can be used for fixing the coloring pigment, and this glass frit is
Since it is fired simultaneously with the barrier ribs of the base layer, it is preferable to keep the softening point at about the same temperature.
【0036】上述してきたブラストマスク兼バリアーリ
ブ材料中における無機組成物は、ガラスフリットを40
〜95%、好ましくは60〜90%、着色顔料を1〜6
0%、骨材を0〜30%の範囲に構成するのが適切であ
る。これらを含むブラストマスク兼バリアーリブ材料
は、これらを混合した後、有機ビヒクルを加え、3本ロ
ール、ビーズミルなどにより混練、分散してペースト状
の塗布組成物とする。ブラストマスク兼バリアーリブ材
料における無機成分(着色顔料、ガラスフリット等)と
有機ビヒクル(バインダー)の比率は、無機成分100
重量部に対してバインダーは50〜1000重量部で、
好ましくは100〜700重量部である。当該材料にお
ける有機ビヒクルの比率はバリアーリブ形成材料におけ
る樹脂成分に比較して高くなっている特徴がある。ただ
し、これよりバインダーが少ないとブラストマスクとし
て機能しないため、適正なバリアーリブ形状を形成でき
ない。The inorganic composition in the blast mask / barrier rib material described above has a glass frit of 40%.
-95%, preferably 60-90%, and the color pigment is 1-6.
It is appropriate to configure 0% and the aggregate in the range of 0-30%. The blast mask / barrier rib material containing these is mixed with an organic vehicle, kneaded and dispersed by a three-roll mill, a bead mill, or the like to form a paste-like coating composition. The ratio of the inorganic component (color pigment, glass frit, etc.) to the organic vehicle (binder) in the blast mask / barrier rib material is 100 inorganic components.
The binder is 50 to 1000 parts by weight based on parts by weight,
Preferably it is 100 to 700 parts by weight. There is a feature that the ratio of the organic vehicle in the material is higher than the resin component in the barrier rib forming material. However, if the amount of the binder is smaller than this, the blast mask does not function, so that an appropriate barrier rib shape cannot be formed.
【0037】有機ビヒクル用の樹脂としては、エチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセル
ロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、ポリ
アクリルエステル、アルキッド樹脂等のポリエステル系
樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸、フマル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、メチルメタ
クリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、
プロピルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、イ
ソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリ
レート、2−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルメ
タクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルメタ
クリレート、ステアリルアクリレート、ドデシルメタク
リレート、ドデシルアクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリレー
ト、オクチルアクリレート、セチルメタクリレート、セ
チルアクリレート、ノニルメタクリレート、ノニルアク
リレート、デシルメタクリレート、デシルアクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、2−メトキシアクリレート、
2(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、ダイアセトンアクリ
ルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、イソプロピル
アクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、t−ブチルメタクリレート、N,N−ジメチルアク
リルアミド、α−メチルスチレン、スチレン、ビニルト
ルエン、N−ビニル−2−ピロリドン等のモノマーから
なるホモポリマーおよび上記モノマーから選択された2
種以上のモノマーからなる共重合体、エチレン−アクリ
ル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン系樹脂、
ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が挙げ
られる。Examples of the resin for the organic vehicle include cellulose derivatives such as ethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose and nitrocellulose, polyester resins such as polyacrylester and alkyd resin, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid and maleic acid. Fumaric acid, crotonic acid, vinyl acetic acid, methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate,
Propyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, lauryl methacrylate, lauryl acrylate, stearyl methacrylate, stearyl acrylate, dodecyl methacrylate, dodecyl acrylate, hexyl methacrylate, hexyl acrylate, octyl methacrylate, octyl acrylate , Cetyl methacrylate, cetyl acrylate, nonyl methacrylate, nonyl acrylate, decyl methacrylate, decyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, glycidyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, 2-methoxy acrylate,
2 (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, 2-
Hydroxyethyl methacrylate, diacetone acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-diethylacrylamide, isopropylacrylamide, diethylaminoethyl methacrylate, t-butyl methacrylate, N, N-dimethylacrylamide, α-methylstyrene, styrene, Homopolymers composed of monomers such as vinyltoluene and N-vinyl-2-pyrrolidone and 2 selected from the above monomers
Copolymers composed of at least one kind of monomer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, polyolefin resin such as ethylene-vinyl acetate copolymer,
Examples include polyvinyl formal and polyvinyl butyral.
【0038】有機溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノンのようなア
ノン類、塩化メチレン、3−メトキシブチルアセテー
ト、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチ
レングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリ
コールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコール
モノアルキルエーテルアセテート類、α−もしくはβテ
ルピネオールのようなテルペン類等が挙げられ、これら
を単独または、2種以上混合しても良い。さらに、可塑
剤、沈降防止剤、分散剤等を必要に応じて適宜使用する
ことができる。Examples of the organic solvent include anones such as methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene and cyclohexanone, methylene chloride, 3-methoxybutyl acetate, ethylene glycol monoalkyl ethers and ethylene glycol dialkyl ethers. And diethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, and terpenes such as α- or β-terpineol. These may be used alone or in combination of two or more. Further, a plasticizer, an antisettling agent, a dispersant, and the like can be appropriately used as needed.
【0039】[0039]
【実施例】(実施例)バリアーリブの基部層の形成、す
なわちブラストマスク兼バリアーリブ材料塗布前におけ
る基板の処理プロセスは以下のとおりである。なお、以
下の説明において特定の材料および条件等を用いるが、
これらの材料および条件等は本発明の一実施例に過ぎ
ず、本発明は何らこれに限定されるものではない。ま
た、説明中の各符号は、図1、図2、図3に対応するも
のである。 <電極形成>銀および低融点ガラスフリットからなる電
極ペースト材料を使用してガラス基板11上にアドレス
電極15を形成した後、乾燥して焼成を行った。 <誘電体層形成>当該PDP用ガラス基板のアドレス電
極15上に、ガラスフリットを主成分とする誘電体層材
料(日本電気硝子株式会社製「PX−AC1」)をスク
リーン印刷法にて塗布して、膜厚10μmの誘電体層1
7を形成し、170°Cで乾燥し、500°C以上のピ
ーク温度をもった焼成温度で焼成した。 <バリアーリブ形成層の塗布>誘電体層上にバリアーリ
ブ形成材料(日本電気硝子株式会社製「PX−10
8」)に酸化チタン(TiO2 )を混合することで黒色
バリアーリブ材料を白色化したバリアーリブ形成材料を
スクリーン印刷法により均一な、厚み180μmの層に
塗布し、170°C〜180°Cで乾燥した。これによ
りバリアーリブ形成層8pが形成される。(Embodiment) The formation process of the base layer of the barrier rib, that is, the treatment process of the substrate before the application of the blast mask and the barrier rib material is as follows. Although specific materials and conditions are used in the following description,
These materials, conditions, and the like are merely examples of the present invention, and the present invention is not limited thereto. In addition, reference numerals in the description correspond to FIGS. 1, 2, and 3. <Formation of Electrode> An address electrode 15 was formed on a glass substrate 11 using an electrode paste material composed of silver and a low-melting glass frit, and then dried and fired. <Dielectric Layer Formation> A dielectric layer material (“PX-AC1” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) containing glass frit as a main component is applied on the address electrode 15 of the glass substrate for PDP by a screen printing method. And a dielectric layer 1 having a thickness of 10 μm.
Form 7 was dried at 170 ° C. and fired at a firing temperature having a peak temperature of 500 ° C. or higher. <Application of Barrier Rib Forming Layer> A barrier rib forming material ("PX-10" manufactured by NEC Corporation) is formed on the dielectric layer.
8)) and titanium oxide (TiO 2 ) mixed with a barrier rib-forming material obtained by whitening a black barrier rib material by a screen printing method to apply a uniform, 180 μm-thick layer, and drying at 170 ° C. to 180 ° C. did. Thus, a barrier rib forming layer 8p is formed.
【0040】<ブラストマスク兼バリアーリブ材料の準
備>まず、下記の無機組成からなる混合物をフッ素樹脂
製の容器に入れ、ペイントコンディショナーRC−50
00(レッドデビル社製)により15分間混合して均一
なフリット混合物を作製した。 〔混合物組成〕 ガラスフリット(松浪硝子工業株式会社製「MB−10A」) (平均粒子径2.6μm) 50重量部 着色顔料(大日精化工業株式会社製「ダイピロキサイドブラック♯9510」) 10重量部 骨材:α−アルミナ(岩谷化学工業株式会社製「RA−30」) (平均粒子径1.0μm) 10重量部<Preparation of Blast Mask / Barrier Rib Material> First, a mixture having the following inorganic composition was placed in a container made of a fluororesin, and paint conditioner RC-50 was used.
The mixture was mixed for 15 minutes using a 00 (manufactured by Red Devil Co.) to prepare a uniform frit mixture. [Mixture composition] Glass frit (“MB-10A” manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) (average particle diameter 2.6 μm) 50 parts by weight Colored pigment (“Dipiroxide Side Black # 9510” manufactured by Dainichi Seika Industry Co., Ltd.) 10 Parts by weight Aggregate: α-alumina (“RA-30” manufactured by Iwatani Chemical Industry Co., Ltd.) (average particle size: 1.0 μm) 10 parts by weight
【0041】その後、上記で作製したフリット混合物に
バインダー、溶剤を添加して下記組成に均一に混合した
後、3本ロールミル(井上製作所)にて混練してバリア
ーリブ用ペースト材料を準備した。 〔ペースト組成〕 上記フリット混合物 20重量部 エトセルSTD−100FP(ダウ・ケミカル社製) 80重量部 ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 10重量部 (純正化学薬品工業製) スクリーンオイル(奥野製薬工業株式会社製) 8重量部Thereafter, a binder and a solvent were added to the frit mixture prepared above and uniformly mixed to the following composition, and then kneaded with a three-roll mill (Inoue Seisakusho) to prepare a barrier rib paste material. [Paste composition] 20 parts by weight of the above frit mixture 80 parts by weight of Ethocel STD-100FP (manufactured by Dow Chemical Company) 10 parts by weight of diethylene glycol monobutyl ether acetate 10 parts by weight (manufactured by Junsei Chemical Industry Co., Ltd.) 8 parts by weight of screen oil (manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) Department
【0042】<ブラストマスク兼バリアーリブ材料塗工
>白色バリアーリブ形成層8p上に、上記の方法で形成
されたブラストマスク兼バリアーリブ材料をスクリーン
印刷法により、厚さ15μmのストライプパターン状に
塗工して乾燥しブラストマスク8mを形成する(図2
(D))。本実施例の場合は、バリアーリブの頂部の幅
が75μm、ストライプのピッチが300μmとなるよ
うに塗布した。<Coating of Blast Mask and Barrier Rib Material> The blast mask and barrier rib material formed by the above-mentioned method is applied on the white barrier rib forming layer 8p by a screen printing method in a stripe pattern having a thickness of 15 μm. Dry to form a blast mask 8m (FIG. 2)
(D)). In the case of this example, the coating was performed so that the width of the top of the barrier rib was 75 μm and the stripe pitch was 300 μm.
【0043】<ブラスト加工および焼成>次いで、この
ブラストマスク8mをマスクとして、サンドブラスト加
工装置を使用し、研磨剤としてアルミナ、ジルコニア、
シリカの混合粉体(フジミインコーポレーテッド社製、
「FO♯800」)を用いて、ノズル1本あたり、噴射
量100g/min、噴射圧力2kgf、ノズル−基板
間距離30mmの条件の下にて、ブラストマスク兼バリ
アーリブ材料で覆われていない部分の下層バリアーリブ
材料を除去した。水洗乾燥後、580°Cで焼成し、図
2(E)のようなバリアーリブ頂部層8tに黒色のブラ
ストマスクが厚み3μmの残層として残り、基部層8b
が白色であるバリアーリブ8の構造体を得た。なお、基
板面からバリアーリブの頂部までの高さは120μmと
なった。<Blasting and firing> Next, using this blast mask 8m as a mask, a sand blasting apparatus was used, and alumina, zirconia,
Silica mixed powder (Fujimi Incorporated,
Using “FO♯800”), a portion not covered with the blast mask / barrier rib material under the conditions of a jet amount of 100 g / min, a jet pressure of 2 kgf, and a nozzle-substrate distance of 30 mm per nozzle. The lower barrier rib material was removed. After washing, drying and baking at 580 ° C., a black blast mask is left as a residual layer having a thickness of 3 μm on the barrier rib top layer 8t as shown in FIG.
Was obtained, and the structure of the barrier rib 8 was white. The height from the substrate surface to the top of the barrier rib was 120 μm.
【0044】この背面板基板のバリアーリブ間に通常の
工程により緑色、青色、赤色の蛍光体を充填して乾燥、
焼成した後、この蛍光体層18を設けたガラス基板11
と、別に表示電極X,Yや誘電体層16などを設けたガ
ラス基板12とを対向配置し、周囲を封止してPDPを
完成した。このようにして得られた基板の特性を調べた
ところ、外部光の反射が少なく輝度およびコントラスト
の高いPDP特性が認められた。The green, blue, and red phosphors are filled between the barrier ribs of the rear plate substrate by a normal process, and dried.
After firing, the glass substrate 11 provided with the phosphor layer 18
And a glass substrate 12 on which display electrodes X and Y, a dielectric layer 16 and the like were separately provided, and the periphery thereof was sealed to complete a PDP. When the characteristics of the substrate thus obtained were examined, PDP characteristics with little reflection of external light and high luminance and high contrast were observed.
【0045】[0045]
【発明の効果】コントラストと輝度の両方の向上を図る
場合、バリアーリブの頂部層を黒色、その他の部分を白
色にするのが理想的である。このようなプラズマディス
プレイパネルの製造は、ブラストマスク兼バリアーリブ
材料を使用することにより従来の2度塗布の工程に比較
して、単純化された工程で行うことができる。また、従
来法では、バリアーリブ高さの1/3から1/2程度が
黒色バリアーリブ部となり、輝度向上効果が低下してい
たが、本発明では頂部層を薄層にでき蛍光体が塗工され
る部分のほぼ全面を白色とすることができるので、輝度
向上の面でも効率化を図れる。In order to improve both the contrast and the luminance, it is ideal to make the top layer of the barrier rib black and the other parts white. The manufacture of such a plasma display panel can be performed in a simplified process by using a blast mask / barrier rib material as compared with the conventional twice-coating process. Also, in the conventional method, about 1/3 to 1/2 of the height of the barrier rib is a black barrier rib portion, and the luminance improving effect is reduced. However, in the present invention, the top layer can be made thinner and the phosphor is coated. Almost the entire surface can be made white, so that the efficiency can be improved in terms of improving the luminance.
【図1】 本発明のプラズマディスプレイパネルを示す
斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a plasma display panel of the present invention.
【図2】 バリアーリブの形成工程を示す断面図であ
る。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a barrier rib.
【図3】 AC型PDPの一構成例を示す分解斜視図で
ある。FIG. 3 is an exploded perspective view showing a configuration example of an AC type PDP.
1 本発明のプラズマディスプレイパネル 8 バリアーリブ 8p バリアーリブ形成層 8m ブラストマスク 8b ブラストマスク基部層 8t ブラストマスク頂部層 11 ガラス基板(背面板) 12 ガラス基板(前面板) 13 バス電極 14 維持電極 15 アドレス電極 16,17 誘電体層 18 蛍光体層 19 保護膜(MgO層) Reference Signs List 1 Plasma display panel of the present invention 8 Barrier rib 8p Barrier rib forming layer 8m Blast mask 8b Blast mask base layer 8t Blast mask top layer 11 Glass substrate (back plate) 12 Glass substrate (front plate) 13 Bus electrode 14 Sustain electrode 15 Address electrode 16 , 17 Dielectric layer 18 Phosphor layer 19 Protective film (MgO layer)
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成11年8月4日(1999.8.4)[Submission date] August 4, 1999 (1999.8.4)
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】符号の説明[Correction target item name] Explanation of sign
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【符号の説明】 1 本発明のプラズマディスプレイパネル 8 バリアーリブ 8p バリアーリブ形成層 8m ブラストマスク 8b バリアーリブ基部層 8t バリアーリブ頂部層 11 ガラス基板(背面板) 12 ガラス基板(前面板) 13 バス電極 14 維持電極 15 アドレス電極 16,17 誘電体層 18 蛍光体層 19 保護膜(MgO層)DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma display panel of the present invention 8 Barrier rib 8p Barrier rib forming layer 8m Blast mask 8b Barrier rib base layer 8t Barrier rib top layer 11 Glass substrate (back plate) 12 Glass substrate (front plate) 13 Bus electrode 14 Sustain electrode 15 Address electrode 16, 17 Dielectric layer 18 Phosphor layer 19 Protective film (MgO layer)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 段谷 恭史 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GF18 GF19 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yasushi Danya 1-1-1, Ichigaya-Kaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term within Dai Nippon Printing Co., Ltd. 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GF18 GF19
Claims (5)
暗色からなるバリアーリブが配列してなるプラズマディ
スプレイパネルにおいて、当該バリアーリブの頂部層
が、ストライプパターン状に印刷して設けたブラストマ
スク兼バリアーリブ材料のブラスト残層からなることを
特徴とするプラズマディスプレイパネル。1. A plasma display panel in which a base layer of a barrier rib is arranged in a light color and a top layer of a barrier layer is formed in a dark color, wherein the top layer of the barrier rib is provided by printing in a stripe pattern. A plasma display panel comprising a blast remaining layer of a material.
が、1〜5μmの厚さであることを特徴とする請求項1
記載のプラズマディスプレイパネル。2. The method according to claim 1, wherein the thickness of the barrier rib top layer made of dark color is 1 to 5 μm.
The plasma display panel as described in the above.
ラスト法により形成する方法において、基板上にバリア
ーリブ形成層を設ける工程と、当該バリアーリブ形成層
上に着色顔料を分散させたブラストマスク兼バリアーリ
ブ材料をバリアーリブのパターン状に塗工した後に、ブ
ラスト加工を行ってバリアーリブ形状を形成することを
特徴とするプラズマディスプレイパネルの形成方法。3. A method for forming a back plate of a plasma display panel by a blast method, wherein a step of providing a barrier rib forming layer on a substrate and a step of forming a blast mask / barrier rib material in which a coloring pigment is dispersed on the barrier rib forming layer are performed. A method for forming a plasma display panel, comprising forming a barrier rib shape by performing blasting after coating in a pattern.
ラストマスク兼バリアーリブ材料の残層が、1〜5μm
となるように加工することを特徴とする請求項3記載の
プラズマディスプレイパネルの形成方法。4. The residual layer of the blast mask / barrier rib material after completion of the plasma display panel has a thickness of 1 to 5 μm.
4. The method for forming a plasma display panel according to claim 3, wherein the processing is performed so as to be as follows.
ネルの形成方法に使用する塗工材料であって、ブラスト
工程においてはブラストマスクとして機能し、パネル完
成後は着色顔料により暗色の頂部層として機能すること
を特徴とするブラストマスク兼バリアーリブ材料。5. A coating material used in the method for forming a plasma display panel according to claim 3, wherein the coating material functions as a blast mask in a blast step, and functions as a dark top layer by a color pigment after the panel is completed. A blast mask / barrier rib material, characterized in that:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21448499A JP2001043803A (en) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | Plasma display panel, forming method therefor and barrier rib material used as blast mask to be used therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21448499A JP2001043803A (en) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | Plasma display panel, forming method therefor and barrier rib material used as blast mask to be used therefor |
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JP21448499A Withdrawn JP2001043803A (en) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | Plasma display panel, forming method therefor and barrier rib material used as blast mask to be used therefor |
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