JP2001039767A - 高強度セラミックス焼結体およびその製造方法 - Google Patents

高強度セラミックス焼結体およびその製造方法

Info

Publication number
JP2001039767A
JP2001039767A JP11211882A JP21188299A JP2001039767A JP 2001039767 A JP2001039767 A JP 2001039767A JP 11211882 A JP11211882 A JP 11211882A JP 21188299 A JP21188299 A JP 21188299A JP 2001039767 A JP2001039767 A JP 2001039767A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sintered body
stabilizer
ceramic sintered
strength ceramic
mgo
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11211882A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsuneji Kameda
常治 亀田
Hiroyasu Ota
博康 大田
Kazuyuki Kondo
和行 近藤
Kazuo Kimura
和生 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11211882A priority Critical patent/JP2001039767A/ja
Publication of JP2001039767A publication Critical patent/JP2001039767A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 MgOあるいはCaOを安定化剤として用い
るジルコニアをベースとした材料に粒成長を抑制する第
2粒子を添加することにより高温における靭性および強
度を高めること。 【解決手段】 本発明に係るセラミックス焼結体は平均
粒径0.1〜5μmのSiC粒子を0.05〜10wt
%と、安定化剤を含有した実質的な酸化ジルコニウムを
90〜99.95wt%と、不可避不純物3wt%以下
とからなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はセラミックス焼結
体、特に室温および高温における靭性および強度に優れ
たセラミックス焼結体に係るもので、従来の酸化物ある
いは非酸化物系セラミックスの適用分野である工具部
品、耐食性部品、自動車、航空機、船舶などのエンジン
部品、ガスタービン部品など、各種産業分野で広範囲に
適用できる高強度セラミックス焼結体およびその製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】強度に優れるシルコニア質焼結体として
は酸化アルミニウムとジルコニアとを混合して等方加圧
焼結(以下、HIP焼結と称する)してなる酸化アルミ
ニウム添加ジルコニア質焼結体(K、Tsukuma、
Am.Ceram.Soc.Bull.,64[2],
310−313(1985))およびSiCウィスカー
とジルコニアとを混合して加圧・成形・焼結してなるS
iCウィスカー/ジルコニア質焼結体(N.Claus
sen,J.Am.Ceram.Soc.,69
[4],(1986))などが報告されている。また、
特開平1−188467号公報には単結晶のβ−SiC
粒子を複合化したジルコニア質焼結体が開示され、特開
昭63−129066号公報には酸化ジルコニウム、酸
化アルミニウムおよび酸化チタン等からなる高硬度高強
度セラミックスが開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前出の2件の論文およ
び特開平1−188467号公報に示されたジルコニア
質焼結体はいずれもベースのジルコニアに添加されてい
る安定化剤はイットリアに代表される季土類元素酸化物
で、ジルコニア相中に占める正方晶の割合が約90vo
l%と高く、MgOおよびCaO等で安定化した正方晶
割合の低いジルコニアをベースとする材料については言
及していない。特開昭63−129066号公報にはM
gOで安定化したジルコニアをベースとする材料も示さ
れているが、すべてアルミナ等の第2成分と組み合わせ
て酸化チタン等の第3成分を存在させたもので、2成分
系での効果は明らかにされていない。
【0004】本発明の目的はMgOあるいはCaOを安
定化剤として用いるジルコニアをベースとした材料に粒
成長を抑制する第2粒子を添加することにより高温にお
ける靭性および強度を高めるようにした高強度セラミッ
クス焼結体およびその製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る高強度セラ
ミックス焼結体は平均粒径0.1〜5μmのSiC粒子
を0.05〜10wt%と、安定化剤を含有した実質的
な酸化ジルコニウムを90〜99.95wt%と、不可
避不純物3wt%以下とからなる。
【0006】SiCはその粒子径が小さすぎると、高強
度化に必要なマトリックス粒子の粒成長抑制効果がなく
なり、反対に大きすぎると、マトリックスの焼結性を極
度に悪化させるのみならず、破壊起点となり、強度が低
下する原因となるため、上記サイズが望ましい。一方、
添加量はあまり少量とした場合には上記効果が認められ
ず、逆に多量であると、やはり焼結性を低下させること
から、上記添加量範囲が好ましい。上記SiCの粒子径
および添加量において、マトリックス粒子の粒成長を抑
制することが可能になり、微細で、緻密な微構造が得ら
れることで、セラミックス焼結体の強度を高めることが
できる。
【0007】さらに、実質的な酸化ジルコニウムに対す
る安定化剤はMg、Ca、Tiおよご希土類元素の酸化
物のうちの少なくとも1種からなり、これを1〜15m
ol%含有する。安定化剤はこのような添加量としたと
き、高強度化に有効な応力誘起相変態を生じる正方晶を
適正量含む焼結体を得ることが可能になる。これ以外の
範囲では相応と認められる高強度な焼結体を得ることが
できない。
【0008】また、不可避不純物の成分はSi、Tiの
酸化物であり、一般のジルコニア原料中に多く含まれる
もので、これは含有量が3wt%までであれば、上述の
高強度な焼結体を得るうえで大きな影響を及ぼさない。
【0009】さらに、望ましくは、添加するSiC粒子
は結晶構造が焼結温度において安定相である高温型のα
相であり、平均粒径は、より好ましくは、0.01〜2
μmである。
【0010】また、望ましくは、焼結体のマトリックス
組織は焼結体粒径が30μm以下であり、マトリックス
部分の粒界にはMgおよびSiの複合酸化物ガラス相が
存在する。
【0011】さらに、MgOを安定化剤として5〜15
mol%含有した酸化ジルコニウム90〜99.95w
t%をベースとする材料については平均粒径0.01〜
2μmのα−SiC粒子を0.05〜10wt%分散さ
せる。
【0012】このように構成したものにおいてはセラミ
ックス焼結体の強度を確実に高めることができる。
【0013】また、この場合、安定化剤としてMgOを
必須とし、Ca、Tiおよび希土類元素の酸化物のうち
の少なくとも1種を加えて合計5〜15mol%含有し
た酸化ジルコニウムをベース材としても同様の効果を得
ることが可能である。
【0014】さらに、MgOあるいはMgOを必須と
し、Ca、Tiおよび希土類元素の酸化物のうちの少な
くとも1種を安定化剤とした材料において、分散粒子は
IIIa、IVa、Va、VIa、VIIa、VIII、IIb、IIIb、
IVb族から運ばれた元素の単体、酸化物、窒化物、ホウ
化物、炭化物の少なくとも1種を0.05〜10wt%
含有させることが有効である。
【0015】また、望ましくは、分散粒子はNi、M
o、Co、W、HfO2、Yb23、Y22、Er
23、BaO、NiO、CoO、Sm23、Gd23
Dy23、ZnO、Cr23−MgO複合酸化物、Al
23−MgO複合酸化物、V23−MgO複合酸化物、
MnO−MgO複合酸化物、B4C、Al43、Si
C、CrC、MoC、WC、TiC、ZrC、HfC、
BN、AlN、Si34、TiN、TiB2、ZrB2
HfB2から選ばれた1種以上である。
【0016】さらに、MgOを安定化剤として含有し
た、またはMgOを必須とし、Ca、Tiおよび希土類
元素の酸化物のうちの少なくとも1種を含有したマトリ
ックス50〜80vol%と、不可避不純物3vol%
以下とからなるマトリックスに平均粒径0.1〜5μm
のTi、Ni、Mo、Wおよびこれらの炭化物、窒化
物、ホウ化物のうちの少なくとも1種の粒子を20〜5
0vol%分散させることが有効である。
【0017】このように構成したセラミックス焼結体に
おいては望ましい強度を備え、しかも導電性を有するセ
ラミックスを得ることが可能になる。
【0018】また、本発明に係る高強度セラミックス焼
結体の製造方法は第2添加粒子をジルコニア粉末に添加
すると共に、これらの粒子および粉末を混合する工程、
得られた混合粉末を乾燥する工程、乾燥した混合粉末の
粒径を揃えるように通篩する工程、得られた粉末を所定
の圧力のもとで成形する工程、この成形物を決められた
温度のもとで焼結する工程からなるものである。
【0019】さらに、上記焼結工程は、望ましくは、大
気雰囲気中の常圧焼結法、または不活性ガス雰囲気中の
常圧焼結法、もしくはホットプレス焼結法、あるいは等
方加圧焼結法で実施する。
【0020】また、上記混合工程は、望ましくは、第2
添加粒子を粉末中に湿式法で混合する。
【0021】さらに、上記焼結工程において、添加分散
粒子が雰囲気ガスおよび/またはマトリックス成分と反
応し、所定の分散粒子形態を形成する。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る高強度セラミ
ックス焼結体の実施例を詳細に説明する。表1に各実施
例のマトリックスおよび第2添加粒子組成ならびに特性
をまとめて示している。これらの焼結体との比較のため
に用意した試験材のマトリックス組成および特性は表2
にまとめて示されている。
【0023】
【表1】
【0024】
【表2】
【0025】(実施例1〜8)実施例1ないし8に示す
焼結体は平均粒径1.0μmおよび0.03μmのSi
C粒子を1および5wt%添加し、残部をMgO含有量
10mol%のジルコニア粉末とした原料粉末を用い、
Arガス雰囲気中において温度1700°C、保持時間
4時間の条件で常圧焼結(以下、NS焼結と称する)お
よびホットプレス焼結(以下、HP焼結と称する)し
た。図1を参照して工程を詳細に説明すると、初めに、
第2添加粒子をジルコニア粉末に添加すると共に、これ
らの粉末をジルコニアボールを用いたボールミル中で4
8時間にわたり混合した。本工程はエタノールを溶媒と
して湿式で行った。
【0026】次に、得られた混合粉末を80°Cの温度
を保って乾燥した。次に、混合粉末をナイロン篩(60
メッシュ)を用いて通篩した。この後、工程は焼結法に
応じて別の工程を実施した。NS焼結では500kg/
cm2の圧力条件で金型を用いて予備成形した後、2t
on/cm2の圧力条件でCIP成形した。一方、HP
焼結ではカーボン製のHPモールド中で400kg/c
2の圧力条件でHP焼結した。焼結工程はそれぞれ上
記の条件で実施した
【0027】得られた焼結体の密度をアルキメデス法で
評価し、さらに3×4×40mmの試験片を切り出し加
工した後、室温での3点曲げ強度を評価した。この評価
結果は表1にまとめて示されている。
【0028】(実施例9〜16)実施例9ないし16に
おける焼結体はベースのジルコニアについてCaO含有
量12mol%のジルコニア粉末による原料粉末を用い
ることを除いて、実施例1ないし8と同一の条件で作製
した。実施例9ないし16の評価結果は表1にまとめて
示されている。
【0029】(実施例17〜24)実施例17ないし2
4における焼結体はベースのジルコニアについてMgO
およびCeOをそれぞれ8mol%および2mol%含
有したジルコニア粉末による原料粉末を用いることを除
いて、実施例1ないし8と同一の条件で作製した。実施
例17ないし24の評価結果は表1にまとめて示されて
いる。
【0030】(比較試験材1および2)これらの焼結体
はSiCを添加しないことを除いて、実施例1ないし8
と同一の条件をもって作製した。焼結体の評価結果は表
2に示されている。
【0031】(比較試験材3および4)これらの焼結体
はSiCを添加しないことを除いて、実施例9ないし1
6と同一の製造条件をもって作製した。焼結体の評価結
果は表2に示されている。
【0032】(比較試験材5および6)これらの焼結体
はSiCを添加しないことを除いて、実施例17ないし
24と同一の条件をもって作製した。焼結体の評価結果
は表2に示されている。
【0033】(比較試験材7および8)これらの焼結体
は添加するSiC粒子の平均粒径を7μmとしたことを
除いて、実施例1および2と同一の製造条件をもって作
製した。焼結体の評価結果は表2に示されている。
【0034】(比較試験材9および10)これらの焼結
体は添加するSiC粒子の添加量を12wt%としたこ
とを除いて、実施例1および2と同一の条件をもって作
製した。焼結体の評価結果は表2に示されている。
【0035】図2(a)(b)に本発明の高強度セラミ
ックス焼結体および比較試験材の比較例を示している。
図2(a)は実施例7の室温3点曲げ試験後の破面の拡
大図、図2(b)は比較試験材1の同様な拡大図であ
る。図2(a)および図2(b)の拡大図は、電子顕微
鏡(SEM)で拡大して得た写真である。双方の比較か
ら比較試験材1と比べて実施例7の焼結体粒径が著しく
小さいことが判る。
【0036】また、表3に本発明に係る高強度セラミッ
クス焼結体のさらに異なる実施例を示している。
【0037】
【表3】
【0038】(実施例25〜33)それぞれ焼結体は添
加粒子の種類をMo、W、MgAl24、MoC、W
C、TiC、Si34、TiN、TiB2としたことを
除いて、実施例1と同一の製造条件をもって作製した。
それぞれ添加粒子はMo;平均粒径1.0μm、W;;
平均粒径1.2μm、MgAl24;平均粒径1.0μ
m、MoC;平均粒径1.5μm、WC;平均粒径1.
1μm、TiC;平均粒径1.0μm、SiN 4;平均
粒径0.6μm、TiN;平均粒径1.2μm、TiB
2;平均粒径1.5μm。焼結体の評価結果は表3にま
とめて示されている。
【0039】(実施例34および35)これらの焼結体
は第2粒子の添加量をそれぞれ約30vol%に当たる
43.2wt%および26.8wt%とし、HP焼結し
たことを除いて、実施例25および30と同一の条件を
もって作製した。焼結体の評価結果は表3にまとめて示
されている。また、体積電気抵抗率を評価したところ、
いずれも20×10−3Ωcm以下であり、放電加工が
可能なレベルの導電性を示した。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、従来、高強度化が困難
であったMgOあるいはCaOに代表される、安定化剤
を用いた比較的粒子径の大きいタイプのジルコニア質焼
結体に対して第2粒子を添加することで、粒成長を抑制
することが可能になり、靭性および強度に優れたジルコ
ニア質セラミックスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るセラミックス焼結体の製造工程を
示す工程図。
【図2】(a)は比較試験材の破面を示す拡大図、
(b)は本発明に係る実施例の破面を示す拡大図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 和行 神奈川県横浜市鶴見区末広町2丁目4番地 株式会社東芝京浜事業所内 (72)発明者 木村 和生 神奈川県横浜市鶴見区末広町2丁目4番地 株式会社東芝京浜事業所内 Fターム(参考) 4G031 AA03 AA04 AA06 AA07 AA08 AA11 AA12 AA13 AA16 AA19 AA22 AA23 AA26 AA29 AA30 AA36 AA37 AA38 AA39 BA18 BA19 BA20 CA01 CA04 GA01 GA03 GA05 GA08

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平均粒径0.01〜5μmのSiC粒子
    を0.05〜10wt%と、安定化剤を含有した実質的
    な酸化ジルコニウムを90〜99.95wt%と、不可
    避不純物3wt%以下とからなることを特徴とする高強
    度セラミックス焼結体。
  2. 【請求項2】 実質的な酸化ジルコニウムに対する前記
    安定化剤がMg、Ca、Tiおよび希土類元素の酸化物
    のうちの少なくとも1種を1〜15mol%含有するこ
    とを特徴とする請求項1記載の高強度セラミックス焼結
    体。
  3. 【請求項3】 前記不可避不純物として含有する成分が
    Si、Tiの酸化物を含むことを特徴とする請求項1記
    載の高強度セラミックス焼結体。
  4. 【請求項4】 前記SiC粒子の結晶構造がα型である
    ことを特徴とする請求項1記載の高強度セラミックス焼
    結体。
  5. 【請求項5】 前記安定化剤を含有した実質的な酸化ジ
    ルコニウムマトリックス部分の焼結体粒径が30μm以
    下であることを特徴とする請求項1記載の高強度セラミ
    ックス焼結体。
  6. 【請求項6】 前記安定化剤を含有した実質的な酸化ジ
    ルコニウムマトリックス部分の焼結体粒界層にMgおよ
    びSiの複合酸化物ガラス相が存在することを特徴とす
    る請求項1記載の高強度セラミックス焼結体。
  7. 【請求項7】 MgOを安定化剤として5〜15mol
    %含有した酸化ジルコニウム90〜99.95wt%
    と、不可避不純物3wt%以下とからなるマトリックス
    に平均粒径0.01〜2μmのα−SiC粒子を0.0
    5〜10wt%分散させたことを特徴とする請求項1記
    載の高強度セラミックス焼結体。
  8. 【請求項8】 安定化剤としてMgOを必須とし、C
    a、Tiおよび希土類元素の酸化物のうちの少なくとも
    1種を加えて合計5〜15mol%含有した酸化ジルコ
    ニウム90〜99.95wt%と、不可避不純物3wt
    %以下とからなるマトリックスに平均粒径0.1〜2μ
    mのα−SiC粒子を0.05〜10wt%分散させた
    ことを特徴とする請求項1記載の高強度セラミックス焼
    結体。
  9. 【請求項9】 MgOを安定化剤として5〜15mol
    %含有した酸化ジルコニウム90〜99.95wt%
    と、不可避不純物3wt%以下とからなるマトリック
    ス、または安定化剤としてMgOを必須とし、Ca、T
    iおよび希土類元素の酸化物のうちの少なくとも1種を
    加えて合計5〜15mol%含有した酸化ジルコニウム
    90〜99.95wt%と、不可避不純物3wt%以下
    とからなるマトリックスに分散粒子としてIIIa、IV
    a、Va、VIa、VIIa、VIII、IIb、IIIb、IVb族か
    ら選ばれた元素の単体、酸化物、窒化物、ホウ化物、炭
    化物の少なくとも1種を0.05〜10wt%含有させ
    たことを特徴とする請求項1記載の高強度セラミックス
    焼結体。
  10. 【請求項10】 前記分散粒子がNi、Mo、Co、
    W、HfO2、Yb2 3、Y22、Er23、BaO、
    NiO、CoO、Sm23、Gd23、Dy2 3、Zn
    O、Cr23−MgO複合酸化物、Al23−MgO複
    合酸化物、V2 3−MgO複合酸化物、MnO−MgO
    複合酸化物、B4C、Al43、SiC、CrC、Mo
    C、WC、TiC、ZrC、HfC、BN、AlN、S
    34、TiN、TiB2、ZrB2、HfB2から選ば
    れた1種以上であることを特徴とする請求項9記載の高
    強度セラミックス焼結体。
  11. 【請求項11】 MgOを安定化剤として含有した、ま
    たは安定化剤としてMgOを必須とし、Ca、Tiおよ
    び希土類元素の酸化物のうちの少なくとも1種を含有し
    たマトリックス50〜80vol%と、不可避不純物3
    vol%以下とからなるマトリックスに平均粒径0.1
    〜5μmのTi、Ni、Mo、Co、Wおよびこれらの
    炭化物、窒化物、ホウ化物のうちの少なくとも1種の粒
    子を20〜50vol%分散させたことを特徴とする高
    強度セラミックス焼結体。
  12. 【請求項12】 第2添加粒子をジルコニア粉末に添加
    すると共に、これらの粒子および粉末を混合する工程、
    得られた混合粉末を乾燥する工程、乾燥した混合粉末の
    粒径を揃えるように通篩する工程、得られた粉末を所定
    の圧力のもとで成形する工程、この成形物を決められた
    温度のもとで焼結する工程からなる高強度セラミックス
    焼結体の製造方法。
  13. 【請求項13】 前記混合工程が第2添加粒子を粉末中
    に湿式法で混合することを特徴とする請求項12記載の
    高強度セラミックス焼結体の製造方法。
  14. 【請求項14】 前記焼結工程において添加分散粒子が
    雰囲気ガスおよび/またはマトリックス成分と反応し、
    所定の分散粒子の形態を形成することを特徴とする請求
    項12記載の高強度セラミックス焼結体の製造方法。
JP11211882A 1999-07-27 1999-07-27 高強度セラミックス焼結体およびその製造方法 Pending JP2001039767A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11211882A JP2001039767A (ja) 1999-07-27 1999-07-27 高強度セラミックス焼結体およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11211882A JP2001039767A (ja) 1999-07-27 1999-07-27 高強度セラミックス焼結体およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001039767A true JP2001039767A (ja) 2001-02-13

Family

ID=16613198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11211882A Pending JP2001039767A (ja) 1999-07-27 1999-07-27 高強度セラミックス焼結体およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001039767A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110563461A (zh) * 2019-10-11 2019-12-13 东莞市陶陶新材料科技有限公司 高抗冲击性能的陶瓷复合体制备方法
JP2021014390A (ja) * 2019-07-16 2021-02-12 日本特殊陶業株式会社 セラミックス焼結体の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021014390A (ja) * 2019-07-16 2021-02-12 日本特殊陶業株式会社 セラミックス焼結体の製造方法
CN110563461A (zh) * 2019-10-11 2019-12-13 东莞市陶陶新材料科技有限公司 高抗冲击性能的陶瓷复合体制备方法
CN110563461B (zh) * 2019-10-11 2022-05-31 东莞市陶陶新材料科技有限公司 高抗冲击性能的陶瓷复合体制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100417967B1 (ko) 내마모성 부재와 그 제조방법
KR910005053B1 (ko) 고-인성 ZrO₂소결체 및 이의 제조방법
WO2006038489A1 (ja) 導電性窒化ケイ素材料とその製造方法
JP2659082B2 (ja) ジルコニア系複合セラミック焼結体の製法
JP2829229B2 (ja) 窒化ケイ素系セラミックス焼結体
JP5362758B2 (ja) 耐摩耗性部材
JP2001039767A (ja) 高強度セラミックス焼結体およびその製造方法
JP2001080961A (ja) 高強度ジルコニア基セラミックス焼結体およびその製造方法
JP3121996B2 (ja) アルミナ質焼結体
JP3315483B2 (ja) セラミックス複合焼結体
JP3837516B2 (ja) ジルコニア系超塑性セラミックス
JP2925089B2 (ja) セラミックス複合焼結体およびその製造方法
JP2985519B2 (ja) 粒子分散型ZrO2系セラミックス材料及びその製造方法
JPS6246959A (ja) 耐熱安定性に優れた高靭性セラミツク焼結体及びその製造方法
JP3152853B2 (ja) アルミナ質焼結体およびその製法
JP2854340B2 (ja) セラミックス複合焼結体およびその製造方法
JP2858965B2 (ja) 酸化アルミニウム質焼結体
JPH0811707B2 (ja) アルミナ−ジルコニア質焼結体およびその製造法
JP2002029840A (ja) ジルコニア基セラミックス
JPH06219837A (ja) 窒化珪素セラミックス焼結体およびその製造方法
JP2985512B2 (ja) 粒子分散型ZrO2系セラミックス材料及びその製造方法
JP2581128B2 (ja) アルミナ−サイアロン複合焼結体
JPS63134551A (ja) アルミナ質焼結体およびその製造法
JP3078462B2 (ja) アルミナ質焼結体およびその製法
JPH0539535A (ja) 複合セラミツク焼結体及びその製法

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050317

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20050324